JP6003896B2 - Method for producing chloroalkylsulfonyl chloride - Google Patents
Method for producing chloroalkylsulfonyl chloride Download PDFInfo
- Publication number
- JP6003896B2 JP6003896B2 JP2013536135A JP2013536135A JP6003896B2 JP 6003896 B2 JP6003896 B2 JP 6003896B2 JP 2013536135 A JP2013536135 A JP 2013536135A JP 2013536135 A JP2013536135 A JP 2013536135A JP 6003896 B2 JP6003896 B2 JP 6003896B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- chloride
- formula
- chloroalkylsulfonyl
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 65
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 39
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 claims description 28
- -1 hydroxyalkyl sulfonate Chemical compound 0.000 claims description 27
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 14
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 11
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 5
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 3
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 23
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- VHCSBTPOPKFYIU-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanesulfonyl chloride Chemical compound ClCCS(Cl)(=O)=O VHCSBTPOPKFYIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 20
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 13
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 12
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 10
- LADXKQRVAFSPTR-UHFFFAOYSA-M sodium;2-hydroxyethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCCS([O-])(=O)=O LADXKQRVAFSPTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 229940045998 sodium isethionate Drugs 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1 ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1Br WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- QQVDYSUDFZZPSU-UHFFFAOYSA-M chloromethylidene(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)=CCl QQVDYSUDFZZPSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GRTGGSXWHGKRSB-UHFFFAOYSA-N dichloromethyl methyl ether Chemical compound COC(Cl)Cl GRTGGSXWHGKRSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006772 olefination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- CSKVLUWCGPWCQR-UHFFFAOYSA-M sodium;3-hydroxypropane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].OCCCS([O-])(=O)=O CSKVLUWCGPWCQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は、医薬、農薬、電子材料等として用いられる様々な有機化合物の合成中間体として有用なクロロアルキルスルホニルクロリドの製造技術の改良に関するものである。 The present invention relates to an improvement in production technology of chloroalkylsulfonyl chlorides useful as synthetic intermediates for various organic compounds used as pharmaceuticals, agricultural chemicals, electronic materials and the like.
クロロアルキルスルホニルクロリドは、例えば、医薬、農薬、電子材料等として用いられる様々な有機化合物の合成中間体として汎用されている。
クロロアルキルスルホニルクロリドの製法としては、例えば、３１５ｍＬのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）および６００ｍＬのジクロロメタンを収容した容器の中にイセチオン酸ナトリウム５００ｇを入れ、さらに１２１６ｇの塩化チオニルを滴下して４０〜６０℃で反応させることにより、クロロエチルスルホニルクロリドを合成する方法が知られている（特許文献１）。ここで、生成したクロロエチルスルホニルクロリドは、反応液を分液、洗浄、乾燥した後に、溶媒を留去させることにより単離されている。Chloroalkylsulfonyl chloride is widely used as a synthetic intermediate for various organic compounds used as pharmaceuticals, agricultural chemicals, electronic materials, and the like.
As a method for producing chloroalkylsulfonyl chloride, for example, 500 g of sodium isethionate is placed in a container containing 315 mL of N, N-dimethylformamide (DMF) and 600 mL of dichloromethane, and 1216 g of thionyl chloride is added dropwise. A method of synthesizing chloroethylsulfonyl chloride by reacting at ˜60 ° C. is known (Patent Document 1). Here, the produced chloroethylsulfonyl chloride is isolated by distilling off the solvent after separating, washing and drying the reaction solution.
しかしながら、上記特許文献１記載の方法で得られたクロロエチルスルホニルクロリドは、純度が低く、収率も十分に満足しうるレベルに達するものではなかった。 However, the chloroethylsulfonyl chloride obtained by the method described in Patent Document 1 has a low purity, and the yield has not reached a sufficiently satisfactory level.
そこで、本発明は、純度が高いクロロアルキルスルホニルクロリドを収率良く良好な生産性で得ることができるクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法を提供することを目的とする。 Then, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the chloroalkyl sulfonyl chloride which can obtain a chloroalkyl sulfonyl chloride with high purity with sufficient yield and favorable productivity.
本発明者は、前記課題を解決するため、特許文献１に記載の方法において得られる目的物の純度および収率が低い原因を突き止めるべく鋭意研究を行った。その結果、溶媒留去時や蒸留時など、反応後に生成物を含む反応液を加熱する際に、ＤＭＦが残存していると、生成したクロロアルキルスルホニルクロリドが分解してしまうことを見出した。そしてこの知見に基づき、目的物分解の原因と考えられるＤＭＦを使用しないか若しくはその使用量を低減するべく試みたところ、ＤＭＦの使用量の削減に伴い、反応途中で反応液がホイップ状になり攪拌性が非常に悪くなってしまうこと、さらに反応後の分液性（特に２回目以降の分液性）も悪化することが分かった。ＤＭＦは塩化チオニルと付加体（ビルスマイヤー試薬）を形成して触媒的に塩素化反応を促進する作用をなすものであり、一般的には触媒量の使用でその役割を果たすと考えられるが、特許文献１では非常に多量のＤＭＦを使用している。その理由は、上記知見から、攪拌性や分液性を保つためであると推察される。 In order to solve the above-mentioned problems, the present inventor has intensively studied to find out the cause of the low purity and yield of the target product obtained in the method described in Patent Document 1. As a result, when heating the reaction liquid containing the product after the reaction, for example, at the time of distilling off the solvent or at the time of distillation, it was found that the produced chloroalkylsulfonyl chloride would be decomposed if DMF remained. And based on this knowledge, when we tried not to use DMF, which is considered to be the cause of target product decomposition, or to reduce the amount used, the reaction solution became whip-like during the reaction as the amount of DMF used was reduced. It was found that the stirrability was extremely deteriorated and that the liquid separation after the reaction (particularly the liquid separation after the second time) was also deteriorated. DMF forms an adduct (Vilsmeier reagent) with thionyl chloride to promote the chlorination reaction catalytically, and is generally considered to play its role in the use of a catalytic amount. In Patent Document 1, a very large amount of DMF is used. The reason for this is presumed to be to maintain stirring properties and liquid separation properties from the above findings.
本発明者は、以上の知見に鑑み、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩の塩素化反応の溶媒として、ＤＭＦを使用しないか若しくはその使用量を触媒量程度に低減した場合であっても反応液の良好な攪拌性および分液性を確保しうるような溶媒を選択すれば、目的とするクロロアルキルスルホニルクロリドの純度および収率を向上させることができるのではないかと考えた。そして種々の溶媒を検討した結果、所定の構造を持つ溶媒が上述した条件を満たすことを見出し、塩素化反応において該特定構造を持つ溶媒を用いれば、良好な攪拌性と分液性とを確保しつつ、クロロアルキルスルホニルクロリドを高い純度で収率良く得ることができることを確認し、本発明を完成した。 In view of the above knowledge, the present inventor has obtained a good reaction solution even when DMF is not used as a solvent for the chlorination reaction of hydroxyalkyl sulfonate or the amount used is reduced to a catalytic amount. It was thought that the purity and yield of the target chloroalkylsulfonyl chloride could be improved by selecting a solvent capable of ensuring stirring and liquid separation. As a result of examining various solvents, it was found that a solvent having a predetermined structure satisfies the above-mentioned conditions, and if a solvent having the specific structure is used in the chlorination reaction, good stirring properties and liquid separation properties are ensured. While confirming that chloroalkylsulfonyl chloride can be obtained with high purity and good yield, the present invention was completed.
すなわち、本発明のクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法は、下記式（１）
［ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3］− （１）
（式（１）中、ｎは１以上の整数である)
で示されるアニオンとアルカリ金属またはアルカリ土類金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩を塩素化剤と反応させて、下記式（２）
Ｃｌ−（ＣＨ2）n−ＳＯ２−Ｃｌ （２）
（式（２）中、ｎは１以上の整数である)
で示されるクロロアルキルスルホニルクロリドを得る方法であって、前記反応を、下記式（３）That is, the method for producing the chloroalkylsulfonyl chloride of the present invention comprises the following formula (1):
[HO— (CH 2 ) n —SO 3 ] — (1)
(In formula (1), n is an integer of 1 or more)
A hydroxyalkyl sulfonate formed from an anion represented by the formula (1) and an alkali metal or alkaline earth metal is reacted with a chlorinating agent to give the following formula (2):
Cl- (CH 2) n -SO 2 -Cl (2)
(In formula (2), n is an integer of 1 or more)
Wherein the reaction is represented by the following formula (3):
（式（３）中、ｍは１〜３の整数であり、ｍが２以上の場合、複数のＲは各々同じであってもよいし異なってもよく、Ｒは、ハロゲン原子、−ＮＯ2基、−ＣＮ基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ1基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1基（ここでＲ1は炭素数１〜８のアルキル基である）から選ばれる１種以上の極性基である）
で示される置換ベンゼン系溶媒中で行うことを特徴とする。
(In Formula (3), m is an integer of 1 to 3, and when m is 2 or more, the plurality of R may be the same or different, and R is a halogen atom, —NO 2. One or more polar groups selected from a group, —CN group, —C (═O) R 1 group, —C (═O) OR 1 group (where R 1 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms). Base)
It is carried out in a substituted benzene solvent represented by
本発明においては、前記式（３）中、ｍが１又は２であり、Ｒがハロゲン原子から選ばれる１種であることが好ましい。また本発明の好ましい態様は、前記塩素化剤として、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リンおよび塩化スルフリルからなる群より選ばれる１種以上を用いるとともに、前記反応を前記置換ベンゼン系溶媒とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドとの混合溶媒中で行うことである。このとき、前記Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの使用量は、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１モルに対して０．８モル以下とすることが好ましい。本発明において、前記反応は、前記置換ベンゼン系溶媒の沸点未満であり且つ４０℃以上の温度で行うことが好ましい。さらに本発明の好ましい態様においては、前記反応は、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して１個目の塩素原子を導入する第１ステップと、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して２個目の塩素原子を導入する第２ステップに分けられ、前記第１ステップの際に前記塩素化剤の一部を添加し、前記第２ステップの際に前記塩素化剤の残部を添加する。 In the present invention, in the formula (3), m is preferably 1 or 2, and R is preferably one selected from halogen atoms. In a preferred embodiment of the present invention, at least one selected from the group consisting of thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride and sulfuryl chloride is used as the chlorinating agent, and the reaction is performed with the substituted benzene. This is performed in a mixed solvent of a system solvent and N, N-dimethylformamide. At this time, it is preferable that the usage-amount of the said N, N- dimethylformamide shall be 0.8 mol or less with respect to 1 mol of said hydroxyalkyl sulfonates. In the present invention, the reaction is preferably performed at a temperature lower than the boiling point of the substituted benzene solvent and 40 ° C. or higher. Furthermore, in a preferred embodiment of the present invention, the reaction includes a first step of introducing a first chlorine atom for one molecule of the hydroxyalkyl sulfonate, and two steps for one molecule of the hydroxyalkyl sulfonate. It is divided into a second step for introducing a chlorine atom, and a part of the chlorinating agent is added during the first step, and the remainder of the chlorinating agent is added during the second step.
本発明によれば、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩の塩素化反応において特定の構造を有する溶媒を用いるので、ＤＭＦを使用しないか若しくはその使用量を触媒量程度に低減した場合であっても反応液の良好な攪拌性および分液性を確保することができ、その結果、純度が高いクロロアルキルスルホニルクロリドを収率良く良好な生産性で得ることができる。 According to the present invention, since a solvent having a specific structure is used in the chlorination reaction of a hydroxyalkyl sulfonate, even if DMF is not used or the amount used is reduced to about a catalyst amount, Good stirring properties and liquid separation properties can be ensured. As a result, chloroalkylsulfonyl chloride having high purity can be obtained with good yield and good productivity.
本発明のクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法は、下記式（１）
［ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3］− （１）
（式（１）中、ｎは１以上の整数である)
で示されるアニオンとアルカリ金属またはアルカリ土類金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩を塩素化剤と反応させて下記式（２）
Ｃｌ−（ＣＨ2）n−ＳＯ２−Ｃｌ （２）
（式（２）中、ｎは１以上の整数である)
で示されるクロロアルキルスルホニルクロリドを得るものである。本発明における当該反応は、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して２個の塩素原子を導入する塩素化反応である。The method for producing chloroalkylsulfonyl chloride of the present invention is represented by the following formula (1).
[HO— (CH 2 ) n —SO 3 ] — (1)
(In formula (1), n is an integer of 1 or more)
A hydroxyalkyl sulfonate formed from an anion represented by formula (1) and an alkali metal or alkaline earth metal is reacted with a chlorinating agent to form the following formula (2):
Cl- (CH 2) n -SO 2 -Cl (2)
(In formula (2), n is an integer of 1 or more)
A chloroalkylsulfonyl chloride represented by the formula (1) is obtained. The said reaction in this invention is a chlorination reaction which introduce | transduces two chlorine atoms with respect to 1 molecule of hydroxyalkyl sulfonates.
前記式（１）および前記式（２）において、ｎは、８以下であることが好ましく、より好ましくは２以上４以下であり、さらに好ましくは２又は３であり、特に好ましくは２である。
前記アルカリ金属またはアルカリ土類金属の具体例としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム等が挙げられ、これらの中でも入手容易性やコスト面から特にナトリウムが好ましい。In the formula (1) and the formula (2), n is preferably 8 or less, more preferably 2 or more and 4 or less, still more preferably 2 or 3, and particularly preferably 2.
Specific examples of the alkali metal or alkaline earth metal include lithium, sodium, potassium, calcium, magnesium, and the like. Among these, sodium is particularly preferable from the viewpoint of availability and cost.
前記式（１）で示されるアニオンとアルカリ金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩は、例えば、
ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3−Ｍ （１−１）
（式（１−１）中、Ｍはアルカリ金属であり、ｎは式（１）と同様である)
で示され、
前記式（１）で示されるアニオンとアルカリ土類金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩は、例えば、
［ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3］２Ｍ （１−２）
（式（１−２）中、Ｍはアルカリ土類金属であり、ｎは式（１）と同様である)
で示される。The hydroxyalkyl sulfonate formed from the anion represented by the formula (1) and an alkali metal is, for example,
HO— (CH 2 ) n —SO 3 —M (1-1)
(In formula (1-1), M is an alkali metal, and n is the same as in formula (1)).
Indicated by
The hydroxyalkyl sulfonate formed from the anion represented by the formula (1) and an alkaline earth metal is, for example,
[HO- (CH 2) n -SO 3] 2 M (1-2)
(In formula (1-2), M is an alkaline earth metal, and n is the same as in formula (1)).
Indicated by
前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩の具体例としては、例えば、ヒドロキシメタンスルホン酸ナトリウム、２−ヒドロキシエタン−１−スルホン酸ナトリウム（イセチオン酸ナトリウム）、３−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸ナトリウム等が挙げられ、これらはいずれも市販されている。なお、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 Specific examples of the hydroxyalkyl sulfonate include sodium hydroxymethanesulfonate, sodium 2-hydroxyethane-1-sulfonate (sodium isethionate), sodium 3-hydroxy-1-propanesulfonate, and the like. These are all commercially available. In addition, only 1 type may be used for a hydroxyalkyl sulfonate, and 2 or more types may be used together.
本発明においては、塩素化剤との反応を、下記式（３） In the present invention, the reaction with the chlorinating agent is represented by the following formula (3):
（式（３）中、ｍは１〜３の整数であり、ｍが２以上の場合、複数のＲは各々同じであってもよいし異なってもよく、Ｒは、ハロゲン原子、−ＮＯ2基、−ＣＮ基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ1基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1基（ここでＲ1は炭素数１〜８のアルキル基である）から選ばれる１種以上の極性基である）
で示される置換ベンゼン系溶媒中で行う。これにより、ＤＭＦを使用しないか若しくはその使用量を触媒量程度に低減した場合であっても反応液の良好な攪拌性および分液性を確保することができ、その結果、純度が高いクロロアルキルスルホニルクロリドを収率良く良好な生産性で得ることができる。
(In Formula (3), m is an integer of 1 to 3, and when m is 2 or more, the plurality of R may be the same or different, and R is a halogen atom, —NO 2. One or more polar groups selected from a group, —CN group, —C (═O) R 1 group, —C (═O) OR 1 group (where R 1 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms). Base)
In a substituted benzene solvent represented by As a result, even when DMF is not used or when the amount used is reduced to the amount of catalyst, it is possible to ensure good agitation and liquid separation of the reaction solution, and as a result, high purity chloroalkyl Sulfonyl chloride can be obtained with good yield and good productivity.
前記式（３）において、ｍは、１又は２であることが好ましく、特に好ましくは１である。
前記式（３）において、Ｒで示すハロゲン原子の具体例としては、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ、Ｉ等が挙げられる。またＲ1で示すアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましく挙げられる。Ｒとしては、特にハロゲン原子から選ばれる１種であることが好ましく、中でもＣｌがより好ましい。In the formula (3), m is preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
In the above formula (3), specific examples of the halogen atom represented by R include Cl, Br, F, I and the like. Specific examples of the alkyl group represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. R is preferably one selected from halogen atoms, and Cl is more preferable.
前記置換ベンゼン系溶媒は、分子全体として双極子モーメントを持っていることが望ましい。ベンゼンに結合する極性基（Ｒ）が１個の場合には分子全体として双極子モーメントを有することになる。一方、ベンゼンに結合する極性基（Ｒ）が２個以上の場合、各極性基は、少なくとも１個の極性基が双極子モーメントを残す関係にあることが好ましく、より好ましくは互いの双極子モーメントを強め合う関係にあるのがよい。例えばベンゼンに結合する極性基（Ｒ）が２個（ｍ＝２）である場合、２個の極性基Ｒはオルト位（１，２位；１，６位）またはメタ位（１，３位または１，５位）の関係にあることが好ましく、パラ位（１，４位）にあるときには極性基Ｒは互いに異なっていることが望ましい。 The substituted benzene solvent preferably has a dipole moment as a whole molecule. When one polar group (R) is bonded to benzene, the molecule as a whole has a dipole moment. On the other hand, when there are two or more polar groups (R) bonded to benzene, it is preferable that each polar group has a relationship in which at least one polar group leaves a dipole moment, and more preferably a mutual dipole moment. It is good to have a relationship of strengthening each other. For example, when there are two polar groups (R) bonded to benzene (m = 2), the two polar groups R are ortho-position (1,2-position; 1,6-position) or meta-position (1,3-position). Or the 1,5-position) relationship, and when in the para-position (1,4-position), the polar groups R are preferably different from each other.
前記置換ベンゼン系溶媒は、高沸点であることが望ましく、その沸点は好ましくは９０℃以上、より好ましくは１００℃以上、さらに好ましくは１１０℃以上である。置換ベンゼン系溶媒が高沸点であると、反応温度を高く設定することができるので、反応時間の短縮が可能になり生産性の向上が図れる。置換ベンゼン系溶媒はベンゼン環構造を有するものであることから、一般に上記のような比較的高い沸点を有する。また置換ベンゼン系溶媒の沸点があまりに高すぎると、反応後、反応液から目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドを単離する際に溶媒を留去させにくくなるので、置換ベンゼン系溶媒の沸点は、２５０℃以下が好ましく、より好ましくは２００℃以下である。
なお前記置換ベンゼン系溶媒は、溶媒として使用しうるよう常温で液体であることが好ましく、例えば融点が３０℃以下であることが好ましい。The substituted benzene solvent desirably has a high boiling point, and the boiling point is preferably 90 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and further preferably 110 ° C. or higher. When the substituted benzene solvent has a high boiling point, the reaction temperature can be set high, so that the reaction time can be shortened and productivity can be improved. Since the substituted benzene solvent has a benzene ring structure, it generally has a relatively high boiling point as described above. If the boiling point of the substituted benzene solvent is too high, it is difficult to distill off the solvent when isolating the target chloroalkylsulfonyl chloride from the reaction solution after the reaction. It is preferably 250 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower.
The substituted benzene-based solvent is preferably liquid at room temperature so that it can be used as a solvent. For example, the melting point is preferably 30 ° C. or lower.
前記置換ベンゼン系溶媒の具体例としては、例えば、Ｒ＝ハロゲン原子であるクロロベンゼン、ブロモベンゼン、フルオロベンゼン、ヨードベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、Ｒ＝−ＮＯ2基であるニトロベンゼン、Ｒ＝−ＣＮ基であるベンゾニトリル、Ｒ＝−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ1基（Ｒ1＝メチル）であるアセトフェノン、Ｒ＝−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1基（Ｒ1＝メチル、エチル）である安息香酸メチルや安息香酸エチル等が好ましく挙げられる。これらの中でも、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼンがより好ましく、特にクロロベンゼンが好ましい。なお、置換ベンゼン系溶媒は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。Specific examples of the substituted benzene solvent include, for example, R = halogen atom chlorobenzene, bromobenzene, fluorobenzene, iodobenzene, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, o-dibromobenzene, 1, 2, 4 -Trichlorobenzene, R = -NO 2 group nitrobenzene, R = -CN group benzonitrile, R = -C (= O) R 1 group (R 1 = methyl) acetophenone, R = -C ( Preferred examples include methyl benzoate and ethyl benzoate which are = O) OR 1 group (R 1 = methyl, ethyl). Among these, chlorobenzene, bromobenzene, o-dichlorobenzene, and m-dichlorobenzene are more preferable, and chlorobenzene is particularly preferable. The substituted benzene solvent may be used alone or in combination of two or more.
前記置換ベンゼン系溶媒の使用量は、特に制限されるものではないが、例えば、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩に対して質量比で０．８倍以上、２０倍以下が好ましく、１．５倍以上、１０倍以下がより好ましく、２倍以上、５倍以下がさらに好ましい。溶媒量が多すぎると、反応容量が大きくなり生産性が低下する傾向があり、一方、溶媒量が少なすぎると、反応時の攪拌性が悪化し、反応性が低下する虞がある。 The amount of the substituted benzene solvent used is not particularly limited. For example, the weight ratio is preferably 0.8 times or more and 20 times or less, preferably 1.5 times or more, based on the hydroxyalkyl sulfonate. 10 times or less are more preferable, and 2 times or more and 5 times or less are more preferable. If the amount of the solvent is too large, the reaction capacity tends to increase and the productivity tends to decrease. On the other hand, if the amount of the solvent is too small, the stirrability during the reaction may deteriorate and the reactivity may decrease.
前記塩素化剤としては、特に制限はないが、例えば、ＰＣｌ5、ＰＣｌ3、ＰＯＣｌ3等のリン系塩素化剤；ＣｌＳＯ3Ｈ、ＳＯ2Ｃｌ2、ＳＯＣｌ2等の硫黄系塩素化剤；のほか、ＣＯＣｌ2、（ＣＯＣｌ）2、α，α−ジクロロメチルメチルエーテル、ジルコニウムテトラクロリド等が挙げられる。これらの中でも、ＳＯＣｌ2（塩化チオニル）、ＰＯＣｌ3（オキシ塩化リン）、ＰＣｌ5（五塩化リン）、ＰＣｌ3（三塩化リン）、ＳＯ2Ｃｌ2（塩化スルフリル）が好ましく、ＳＯＣｌ2（塩化チオニル）がより好ましい。これら塩素化剤は一般に市販されている。なお、塩素化剤は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。The chlorinating agent is not particularly limited. For example, phosphorus chlorinating agents such as PCl 5 , PCl 3 and POCl 3 ; sulfur chlorinating agents such as ClSO 3 H, SO 2 Cl 2 and SOCl 2 ; In addition, COCl 2 , (COCl) 2 , α, α-dichloromethyl methyl ether, zirconium tetrachloride and the like can be mentioned. Among these, SOCl 2 (thionyl chloride), POCl 3 (phosphorus oxychloride), PCl 5 (phosphorus pentachloride), PCl 3 (phosphorus trichloride), and SO 2 Cl 2 (sulfuryl chloride) are preferable, and SOCl 2 (chloride) Thionyl) is more preferred. These chlorinating agents are generally commercially available. In addition, only 1 type may be used for a chlorinating agent and it may use 2 or more types together.
前記塩素化剤の使用量は、理論上、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１モルに対して２モルであり、好ましくは２．０５モル以上、３．０モル以下、より好ましくは２．１モル以上、２．５モル以下である。塩素化剤の使用量が理論量より少ないと、オレフィン化したような副生物が生じやすくなり、逆に塩素化剤の使用量が多すぎると、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子内に３個以上の塩素原子が導入された副生物が生じやすくなるため、いずれにしても目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドの純度および収率が低下する虞がある。 The amount of the chlorinating agent used is theoretically 2 mol with respect to 1 mol of the hydroxyalkyl sulfonate, preferably 2.05 mol or more, 3.0 mol or less, more preferably 2.1 mol or more, 2.5 moles or less. When the amount of chlorinating agent used is less than the theoretical amount, by-products such as olefination are likely to occur, and conversely, when the amount of chlorinating agent used is excessive, three or more hydroxyalkyl sulfonates per molecule. In any case, the by-product into which the chlorine atom is introduced is likely to be generated, and in any case, the purity and yield of the target chloroalkylsulfonyl chloride may be reduced.
前記塩素化剤、特に、塩化チオニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リンおよび塩化スルフリルからなる群より選ばれる１種以上である塩素化剤を用いる場合には、反応を促進させる触媒的作用を得る目的で、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を併用することが好ましい。この場合、前記反応を前記置換ベンゼン系溶媒とＤＭＦとの混合溶媒中で行えばよい。このとき、ＤＭＦの使用量は、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１モルに対して０．８モル以下とすることが好ましく、より好ましくは０．５モル以下、さらに好ましくは０．２モル以下、特に好ましくは０．１モル以下である。ＤＭＦの使用量が前記範囲内であると、後述する分液操作等により反応液から確実にＤＭＦを分離することができ、またたとえ反応液中にＤＭＦが残存したとしてもその量は微量であるので、蒸留等の加熱の際に残存ＤＭＦが目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドの分解を招くようなことはなく、高い純度で収率良く目的物を得ることが可能になる。なお、本発明では上述した置換ベンゼン系溶媒を使用することにより、ＤＭＦを使用しなくても若しくはその使用量が前記範囲の如く微量であっても、十分な攪拌性および分液性を確保することができる。 In the case of using the chlorinating agent, in particular, one or more chlorinating agents selected from the group consisting of thionyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride and sulfuryl chloride, a catalytic agent that promotes the reaction. In order to obtain the action, it is preferable to use N, N-dimethylformamide (DMF) in combination. In this case, the reaction may be performed in a mixed solvent of the substituted benzene solvent and DMF. At this time, the amount of DMF used is preferably 0.8 mol or less, more preferably 0.5 mol or less, still more preferably 0.2 mol or less, particularly preferably 1 mol of hydroxyalkyl sulfonate. Is 0.1 mol or less. If the amount of DMF used is within the above range, DMF can be reliably separated from the reaction solution by a liquid separation operation described later, and even if DMF remains in the reaction solution, the amount is very small. Therefore, the residual DMF does not cause decomposition of the target chloroalkylsulfonyl chloride during heating such as distillation, and the target product can be obtained with high purity and high yield. In the present invention, by using the substituted benzene solvent described above, sufficient stirring and liquid separation properties are ensured even if DMF is not used or the amount used is as small as the above range. be able to.
本発明において、前記反応は、置換ベンゼン系溶媒の沸点未満であり且つ４０℃以上の温度で行うことが好ましい。塩素化反応の際に置換ベンゼン系溶媒が還流すると多種類の副生物が生じやすくなり、ひいては目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドの純度および収率が低下する虞がある。したがって、塩素化の反応温度の上限は、置換ベンゼン系溶媒の沸点未満とすることが好ましく、具体的には置換ベンゼン系溶媒の沸点に応じて設定すればよい。例えば、置換ベンゼン系溶媒の沸点をＴｂｐ（℃）とすると、（Ｔｂｐ−５）℃とすることが好ましく、より好ましくは（Ｔｂｐ−１０）℃、さらに好ましくは（Ｔｂｐ−１５）℃である。一方、塩素化反応の際の反応温度が低すぎると、反応の進行が遅くなるので反応の終了までに長時間を要し生産性を損なう虞が生じるので、前記反応は４０℃以上で行うことが好ましく、より好ましくは４５℃以上、さらに好ましくは５０℃以上である。 In the present invention, the reaction is preferably performed at a temperature lower than the boiling point of the substituted benzene solvent and 40 ° C. or higher. When the substituted benzene solvent is refluxed during the chlorination reaction, many kinds of by-products are likely to be generated, and as a result, the purity and yield of the target chloroalkylsulfonyl chloride may be lowered. Therefore, the upper limit of the chlorination reaction temperature is preferably less than the boiling point of the substituted benzene solvent, and specifically, may be set according to the boiling point of the substituted benzene solvent. For example, when the boiling point of the substituted benzene solvent is Tbp (° C.), it is preferably (Tbp-5) ° C., more preferably (Tbp-10) ° C., and still more preferably (Tbp-15) ° C. On the other hand, if the reaction temperature during the chlorination reaction is too low, the progress of the reaction slows down, so that it takes a long time to complete the reaction, which may impair the productivity. Therefore, the reaction should be performed at 40 ° C. or higher. Is preferable, more preferably 45 ° C. or higher, and still more preferably 50 ° C. or higher.
本発明における塩素化反応は、便宜上、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して１個目の塩素原子を導入する第１ステップと、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩１分子に対して２個目の塩素原子を導入する第２ステップに分けられるが、この第１ステップと第２ステップは実質的には連続して行われる。ここで第１ステップにおける反応温度と第２ステップにおける反応温度は同じであってもよいし異なっていてもよいが、反応速度をコントロールするうえでは、第２ステップの反応温度が第１ステップの反応温度よりも高くなるように設定することが好ましい。このとき、第１ステップの反応温度と第２ステップの反応温度との温度差は、好ましくは１５℃以上１００℃以下、より好ましくは２０℃以上７０℃以下、さらに好ましくは３０℃以上５０℃以下である。第２ステップの反応温度を第１ステップの反応温度よりも高くするには、反応の進行（反応時間の経過）に伴い連続的に反応温度を上げるようにしてもよいし、段階的に昇温するようにしてもよい。煩雑さを回避するうえでは後者が好ましく、より好ましくは２段階に分けて昇温するのがよい。
なお、前記塩素化反応の反応時間は、反応温度等に応じて適宜設定すればよいが、生産性を考慮すると、５分以上４８時間以下が好ましく、１０分以上２４時間以下がより好ましく、３０分以上１０時間以下がさらに好ましい。The chlorination reaction in the present invention includes, for convenience, a first step of introducing the first chlorine atom for one molecule of hydroxyalkyl sulfonate and a second chlorine atom for one molecule of hydroxyalkyl sulfonate. The first step and the second step are performed substantially continuously. Here, the reaction temperature in the first step and the reaction temperature in the second step may be the same or different. However, in order to control the reaction rate, the reaction temperature in the second step is the reaction in the first step. It is preferable to set the temperature higher than the temperature. At this time, the temperature difference between the reaction temperature of the first step and the reaction temperature of the second step is preferably 15 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. or higher and 70 ° C. or lower, and further preferably 30 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. It is. In order to make the reaction temperature in the second step higher than the reaction temperature in the first step, the reaction temperature may be continuously increased as the reaction proceeds (elapse of reaction time), or the temperature is raised stepwise. You may make it do. In order to avoid complications, the latter is preferable, and it is preferable to raise the temperature in two stages.
The reaction time of the chlorination reaction may be appropriately set according to the reaction temperature and the like, but considering productivity, it is preferably 5 minutes to 48 hours, more preferably 10 minutes to 24 hours, More preferably, it is 10 minutes or more.
前記塩素化反応を行うにあたり、前記ヒドロキシアルキルスルホン酸塩と、前記置換ベンゼン系溶媒と、前記塩素化剤と、必要に応じて用いられるＤＭＦ等との仕込み順序やその方法は特に限定されないが、通常、塩素化剤以外の原料（すなわち、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩、置換ベンゼン系溶媒、および必要に応じてＤＭＦ等）を混合しておき、この混合物に塩素化剤を添加する方法が安全性などの点から好ましく採用される。ここで塩素化剤を添加するに際しては、上述した第１ステップの際に塩素化剤の一部を添加し、上述した第２ステップの際に塩素化剤の残部を添加することが好ましい。このとき、第１ステップで添加する塩素化剤の量Ｘと、第２ステップで添加する塩素化剤の量Ｙとの比率はＸ：Ｙ（モル比）＝１：０．５〜１．５が好ましく、Ｘ：Ｙ（モル比）＝１：０．９〜１．３がより好ましく、Ｘ：Ｙ（モル比）＝１：１〜１．１がさらに好ましい。 In performing the chlorination reaction, the order of charging and the method of the hydroxyalkyl sulfonate, the substituted benzene solvent, the chlorinating agent, and DMF used as necessary are not particularly limited. Usually, the raw material other than the chlorinating agent (that is, hydroxyalkyl sulfonate, substituted benzene solvent, and DMF if necessary) is mixed, and the method of adding the chlorinating agent to this mixture is safe. From this point, it is preferably adopted. Here, when adding the chlorinating agent, it is preferable to add a part of the chlorinating agent during the first step described above and to add the remainder of the chlorinating agent during the second step described above. At this time, the ratio between the amount X of the chlorinating agent added in the first step and the amount Y of the chlorinating agent added in the second step is X: Y (molar ratio) = 1: 0.5 to 1.5. X: Y (molar ratio) = 1: 0.9 to 1.3 is more preferable, and X: Y (molar ratio) = 1: 1 to 1.1 is more preferable.
前記塩素化反応で生じたクロロアルキルスルホニルクロリドは、公知の方法を適宜採用して単離できる。例えば、得られた反応液に無機酸（塩酸等）の水溶液を加えて洗浄した後に分液することによりＤＭＦ等を溶解させた水層を取り除き、得られた有機層から溶媒（置換ベンゼン系溶媒）を減圧下で留去した後、蒸留により目的物であるクロロアルキルスルホニルクロリドを分離すればよい。洗浄、分液は、必要に応じて複数回行うことができる。従来は２回目以降の分液性が悪化することがあったが、本発明によれば良好な分液性を確保することができる。 The chloroalkylsulfonyl chloride produced by the chlorination reaction can be isolated by appropriately adopting known methods. For example, an aqueous solution of an inorganic acid (hydrochloric acid, etc.) is added to the obtained reaction solution, washed and then separated to remove the aqueous layer in which DMF and the like are dissolved, and a solvent (substituted benzene solvent) is obtained from the obtained organic layer. ) Is distilled off under reduced pressure, and then the chloroalkylsulfonyl chloride, which is the target product, is separated by distillation. Washing and liquid separation can be performed a plurality of times as necessary. Conventionally, the liquid separation after the second time may deteriorate, but according to the present invention, good liquid separation can be ensured.
本発明の製造方法で得られるクロロアルキルスルホニルクロリドの純度は、通常９８．５％以上、好ましくは純度９９．０％以上、より好ましくは純度９９．５％以上である。なお、この純度は、例えばガスクロマトグラフィー分析等で求めることができる。
また本発明の製造方法においては、上述した高純度のクロロアルキルスルホニルクロリドを好ましくは７５％以上の収率で得ることができる。クロロアルキルスルホニルクロリドの収率は、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは８２％以上である。The purity of the chloroalkylsulfonyl chloride obtained by the production method of the present invention is usually 98.5% or higher, preferably 99.0% or higher, more preferably 99.5% or higher. This purity can be determined by, for example, gas chromatography analysis.
In the production method of the present invention, the above-described high-purity chloroalkylsulfonyl chloride can be obtained in a yield of preferably 75% or more. The yield of chloroalkylsulfonyl chloride is more preferably 80% or more, and still more preferably 82% or more.
本願は、２０１１年９月２６日に出願された日本国特許出願第２０１１−２０９７８９号に基づく優先権の利益を主張するものである。２０１１年９月２６日に出願された日本国特許出願第２０１１−２０９７８９号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。 This application claims the benefit of priority based on Japanese Patent Application No. 2011-209789 filed on September 26, 2011. The entire contents of the specification of Japanese Patent Application No. 2011-209789 filed on September 26, 2011 are incorporated herein by reference.
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例等によって制限を受けるものではなく、上記・下記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited by the following examples and the like, and is appropriately within a range that can meet the above and the following purposes. Of course, it is possible to carry out with modifications, and these are all included in the technical scope of the present invention.
実施例で得られた生成物のガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析は、下記条件で行った。
＜ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析条件＞
検出器 ：水素炎イオン化型検出器（ＦＩＤ）
カラム ：アジレント・テクノロジー社製「ＤＢ−１７カラム」
カラム温度：５０℃で５分間保持し、次いで１０℃／分で２５０℃まで昇温し、２５０℃で５分間保持
注入口温度：２５０℃
検出器温度：２５０℃
キャリアーガス：ヘリウム
流量（圧力）：１００ｋＰａGas chromatographic (GC) analysis of the products obtained in the examples was performed under the following conditions.
<Gas chromatography (GC) analysis conditions>
Detector: Hydrogen flame ionization detector (FID)
Column: “DB-17 column” manufactured by Agilent Technologies
Column temperature: held at 50 ° C. for 5 minutes, then heated to 250 ° C. at 10 ° C./min, and held at 250 ° C. for 5 minutes Inlet temperature: 250 ° C.
Detector temperature: 250 ° C
Carrier gas: helium flow rate (pressure): 100 kPa
なお、実施例１および実施例２における反応は下記スキームで示される。 In addition, the reaction in Example 1 and Example 2 is shown by the following scheme.
（実施例１）
内容量３００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム６０．０ｇ、ＤＭＦ３．０ｇ、クロロベンゼン（沸点１３２℃）１２０．０ｇを仕込み、これに塩化チオニル４８．２ｇを加え、副生ガス（ＳＯ2およびＨＣｌ）を発生させながら昇温した。８０℃に昇温後、塩化チオニル５３．０ｇを８時間かけて滴下し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。反応中、フラスコ内の反応液の攪拌性は良好であった。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液し、再度、有機層を３５％塩酸で洗浄した後、分液した。このとき２回とも分液性は良好であった。次いで有機層を減圧下でクロロベンゼンを留去させて濃縮した後、蒸留により生成物である２−クロロエタンスルホニルクロリドを分離した。その結果、２−クロロエタンスルホニルクロリド５４．１ｇを得た（収率８２％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．６％であった。Example 1
Into a four-necked flask with an internal volume of 300 mL, 60.0 g of sodium isethionate, 3.0 g of DMF, and 120.0 g of chlorobenzene (boiling point 132 ° C.) were added, 48.2 g of thionyl chloride was added thereto, and by-product gases (SO 2 and HCl were added). ) Was generated. After raising the temperature to 80 ° C., 53.0 g of thionyl chloride was added dropwise over 8 hours, and the reaction was continued until generation of by-product gas was completed. During the reaction, the stirring property of the reaction solution in the flask was good. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, washed with 8% hydrochloric acid and then separated, and the organic layer was washed again with 35% hydrochloric acid and separated. At this time, the liquid separation property was good twice. Next, the organic layer was concentrated by distilling off chlorobenzene under reduced pressure, and then the product, 2-chloroethanesulfonyl chloride, was separated by distillation. As a result, 54.1 g of 2-chloroethanesulfonyl chloride was obtained (yield 82%). The purity of this 2-chloroethanesulfonyl chloride by gas chromatography (GC) analysis was 99.6%.
（実施例２）
内容量５００Ｌの反応缶にイセチオン酸ナトリウム９２．０ｋｇ、ＤＭＦ４．７ｋｇ、クロロベンゼン（沸点１３２℃）１８４．１ｋｇを仕込み、これに塩化チオニル７４．３ｋｇを加え、副生ガス（ＳＯ2およびＨＣｌ）を発生させながら昇温した。８０℃に昇温後、塩化チオニル８１．２ｋｇを８時間かけて滴下し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。反応中、反応釜内の反応液の攪拌性は良好であった。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液し、有機層を得た。このときの分液性も良好であった。次いで有機層を減圧下でクロロベンゼンを留去させて濃縮した後、蒸留により生成物である２−クロロエタンスルホニルクロリドを分離した。その結果、２−クロロエタンスルホニルクロリド８３．５ｋｇを得た（収率８２．５％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．１％であった。(Example 2)
A reaction vessel having an internal volume of 500 L was charged with 92.0 kg of sodium isethionate, 4.7 kg of DMF, and 184.1 kg of chlorobenzene (boiling point 132 ° C.), 74.3 kg of thionyl chloride was added thereto, and by-product gases (SO 2 and HCl) were added. The temperature was raised while generating. After raising the temperature to 80 ° C., 81.2 kg of thionyl chloride was added dropwise over 8 hours, and the reaction was continued until generation of by-product gas was completed. During the reaction, the stirring of the reaction solution in the reaction kettle was good. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, washed with 8% hydrochloric acid, and then separated to obtain an organic layer. The liquid separation at this time was also good. Next, the organic layer was concentrated by distilling off chlorobenzene under reduced pressure, and then the product, 2-chloroethanesulfonyl chloride, was separated by distillation. As a result, 83.5 kg of 2-chloroethanesulfonyl chloride was obtained (yield 82.5%). The purity of this 2-chloroethanesulfonyl chloride by gas chromatography (GC) analysis was 99.1%.
（実施例３）
内容量２００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム２０．０ｇ、ＤＭＦ１．０ｇ、クロロベンゼン４１．９ｇを仕込み、これにオキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）２２．８ｇを加え、副生ガスを発生させながら１２０℃まで昇温し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液し、再度、有機層を１５％塩酸で洗浄した後、分液した。このとき２回とも分液性は良好であった。次いで、有機層を蒸留し、２−クロロエタンスルホニルクロリド１５．６ｇを得た（収率７１％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．５％であった。(Example 3)
A 200 mL four-necked flask was charged with 20.0 g of sodium isethionate, 1.0 g of DMF, and 41.9 g of chlorobenzene. To this, 22.8 g of phosphorus oxychloride (POCl 3 ) was added to generate 120 by-product gas. The temperature was raised to 0 ° C., and the reaction was continued until generation of by-product gas was completed. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, washed with 8% hydrochloric acid and then separated, and the organic layer was washed again with 15% hydrochloric acid and separated. At this time, the liquid separation property was good twice. Next, the organic layer was distilled to obtain 15.6 g of 2-chloroethanesulfonyl chloride (yield 71%). The purity of this 2-chloroethanesulfonyl chloride by gas chromatography (GC) analysis was 99.5%.
（実施例４）
内容量２００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム２０．０ｇ、ＤＭＦ１．０ｇ、クロロベンゼン４０．３ｇを仕込み、これに五塩化リン（ＰＣｌ5）３０．９ｇを加え、副生ガスを発生させながら９５℃まで昇温し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液した。このとき分液性は良好であった。次いで、有機層を蒸留し、２−クロロエタンスルホニルクロリド７．９ｇを得た（収率３６％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．４％であった。Example 4
A 200 mL four-necked flask was charged with 20.0 g of sodium isethionate, 1.0 g of DMF, and 40.3 g of chlorobenzene, and 30.9 g of phosphorus pentachloride (PCl 5 ) was added thereto, generating 95 by-product gas. The temperature was raised to 0 ° C., and the reaction was continued until generation of by-product gas was completed. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, washed with 8% hydrochloric acid, and then separated. At this time, the liquid separation was good. Next, the organic layer was distilled to obtain 7.9 g of 2-chloroethanesulfonyl chloride (yield 36%). The purity of this 2-chloroethanesulfonyl chloride by gas chromatography (GC) analysis was 99.4%.
（実施例５）
内容量１００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム１０．０ｇ、ＤＭＦ１．０ｇ、クロロベンゼン２０．３ｇを仕込み、これに三塩化リン（ＰＣｌ3）１８．６ｇを加え、副生ガスを発生させながら９９℃まで昇温し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液した。このとき分液性は良好であった。次いで、有機層を蒸留し、２−クロロエタンスルホニルクロリド３．２ｇを得た（収率２９％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．２％であった。(Example 5)
A 100 mL four-necked flask was charged with 10.0 g of sodium isethionate, 1.0 g of DMF, and 20.3 g of chlorobenzene, and 18.6 g of phosphorus trichloride (PCl 3 ) was added thereto to generate 99 by-product gas. The temperature was raised to 0 ° C., and the reaction was continued until generation of by-product gas was completed. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, washed with 8% hydrochloric acid, and then separated. At this time, the liquid separation was good. Subsequently, the organic layer was distilled to obtain 3.2 g of 2-chloroethanesulfonyl chloride (yield 29%). The purity of this 2-chloroethanesulfonyl chloride by gas chromatography (GC) analysis was 99.2%.
（実施例６）
内容量１００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム１０．０ｇ、ＤＭＦ０．５ｇ、クロロベンゼン２０．０ｇを仕込み、これに塩化スルフリル（ＳＯ2Ｃｌ2）１８．２ｇを加え、副生ガスを発生させながら７２℃まで昇温し、副生ガスの発生が終わるまで反応させた。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液した。このとき分液性は良好であった。次いで、有機層を蒸留し、２−クロロエタンスルホニルクロリド１．０ｇを得た（収率９％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は９９．２％であった。(Example 6)
Into a four-necked flask with an internal volume of 100 mL, 10.0 g of sodium isethionate, 0.5 g of DMF, and 20.0 g of chlorobenzene were added, and 18.2 g of sulfuryl chloride (SO 2 Cl 2 ) was added thereto to generate a by-product gas. The temperature was raised to 72 ° C., and the reaction was continued until generation of by-product gas was completed. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, washed with 8% hydrochloric acid, and then separated. At this time, the liquid separation was good. Next, the organic layer was distilled to obtain 1.0 g of 2-chloroethanesulfonyl chloride (yield 9%). The purity of this 2-chloroethanesulfonyl chloride by gas chromatography (GC) analysis was 99.2%.
（比較例１）
内容量３００ｍＬの四つ口フラスコにイセチオン酸ナトリウム６０．０ｇ、ＤＭＦ３．０ｇ、ジクロロメタン（沸点４０℃）１２０．０ｇを仕込み、これに塩化チオニル４８．２ｇを加え、副生ガス（ＳＯ2およびＨＣｌ）を発生させながら昇温した。４５℃に昇温後、塩化チオニル５３．０ｇを８時間かけて滴下したところ、反応液がホイップ状になり、攪拌が困難となった。その後、反応液を室温まで冷却し、８％塩酸で反応液を洗浄した後、分液し、再度、有機層を３５％塩酸で洗浄した。次いで、水層と有機層を分液しようと試みたが、分液性が悪く、十分に水層を除くことはできなかった。次いで水層が混じった有機層を減圧下でジクロロメタンを留去させて濃縮した後、蒸留により生成物である２−クロロエタンスルホニルクロリドを分離した。その結果、２−クロロエタンスルホニルクロリド４２．９ｇを得た（収率６５．０％）。この２−クロロエタンスルホニルクロリドのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）分析による純度は６３．０％であった。(Comparative Example 1)
In a four-necked flask with an internal volume of 300 mL, 60.0 g of sodium isethionate, 3.0 g of DMF, and 120.0 g of dichloromethane (boiling point: 40 ° C.) were added, and 48.2 g of thionyl chloride was added thereto, and by-product gases (SO 2 and HCl were added). ) Was generated. After the temperature was raised to 45 ° C., 53.0 g of thionyl chloride was added dropwise over 8 hours. As a result, the reaction solution became whipped, making stirring difficult. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, washed with 8% hydrochloric acid, separated, and the organic layer was washed again with 35% hydrochloric acid. Next, an attempt was made to separate the aqueous layer and the organic layer, but the liquid separation property was poor and the aqueous layer could not be removed sufficiently. Next, the organic layer mixed with the aqueous layer was concentrated by distilling off dichloromethane under reduced pressure, and then the product 2-chloroethanesulfonyl chloride was separated by distillation. As a result, 42.9 g of 2-chloroethanesulfonyl chloride was obtained (yield 65.0%). The purity of this 2-chloroethanesulfonyl chloride by gas chromatography (GC) analysis was 63.0%.
Claims (5)
［ＨＯ−（ＣＨ2）n−ＳＯ3］- （１）
（式（１）中、ｎは１以上の整数である）
で示されるアニオンとアルカリ金属またはアルカリ土類金属とから形成されるヒドロキシアルキルスルホン酸塩を塩素化剤と反応させて、
下記式（２）
Ｃｌ−（ＣＨ2）n−ＳＯ2−Ｃｌ （２）
（式（２）中、ｎは１以上の整数である）
で示されるクロロアルキルスルホニルクロリドを得る方法であって、
前記反応を、下記式（３）
で示される置換ベンゼン系溶媒中で行うことを特徴とするクロロアルキルスルホニルクロリドの製造方法。 Following formula (1)
[HO— (CH 2 ) n —SO 3 ] − (1)
(In formula (1), n is an integer of 1 or more)
A hydroxyalkyl sulfonate formed from an anion represented by and an alkali metal or alkaline earth metal is reacted with a chlorinating agent,
Following formula (2)
Cl— (CH 2 ) n —SO 2 —Cl (2)
(In formula (2), n is an integer of 1 or more)
A method for obtaining a chloroalkylsulfonyl chloride represented by the formula:
The reaction is represented by the following formula (3)
A process for producing chloroalkylsulfonyl chloride, which is carried out in a substituted benzene solvent represented by the formula:
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011209789 | 2011-09-26 | ||
| JP2011209789 | 2011-09-26 | ||
| PCT/JP2012/072960 WO2013047162A1 (en) | 2011-09-26 | 2012-09-07 | Method for producing chloroalkylsulfonyl chloride |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2013047162A1 JPWO2013047162A1 (en) | 2015-03-26 |
| JP6003896B2 true JP6003896B2 (en) | 2016-10-05 |
Family
ID=47995201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013536135A Active JP6003896B2 (en) | 2011-09-26 | 2012-09-07 | Method for producing chloroalkylsulfonyl chloride |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6003896B2 (en) |
| WO (1) | WO2013047162A1 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5826964B1 (en) * | 2015-06-18 | 2015-12-02 | タマ化学工業株式会社 | Method for producing pyridine-3-sulfonyl chloride |
| CN116769493B (en) * | 2023-05-11 | 2024-06-21 | 大庆轩隆化工有限公司 | Petroleum alkylbenzene sulfonate surfactant for oil displacement and preparation method thereof |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3618815B2 (en) * | 1994-02-23 | 2005-02-09 | 塩野義製薬株式会社 | Method for producing chloroalkylsulfonyl chloride |
| JP2002053497A (en) * | 2000-08-07 | 2002-02-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | Method for producing acid chloride |
| JP2005179325A (en) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Manufacturing method of sulfonic acid chloride |
| WO2009118753A2 (en) * | 2008-03-07 | 2009-10-01 | Usv Limited | Process for preparation of naratriptan hydrochloride |
-
2012
- 2012-09-07 WO PCT/JP2012/072960 patent/WO2013047162A1/en active Application Filing
- 2012-09-07 JP JP2013536135A patent/JP6003896B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPWO2013047162A1 (en) | 2015-03-26 |
| WO2013047162A1 (en) | 2013-04-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6426795B2 (en) | Method for producing chlorinated propene | |
| JP6449791B2 (en) | Method for producing chloroalkane | |
| KR101392589B1 (en) | Process for preparing 2-chloro-3,3,3-trifluoropropene | |
| US9567274B2 (en) | Process for the manufacture of 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoropropane by liquid phase fluorination of 2-chloro-3,3,3-trifluoropropene | |
| CN107848917A (en) | The manufacture method of the trifluoro propene of 1 chlorine 2,3,3 | |
| JP6337102B2 (en) | Method for producing 2,3-dichloro-5- (trichloromethyl) pyridine | |
| TWI510473B (en) | Preparing 5-fluoro-1-alkyl-3-fluoroalkyl-1h-pyrazole-4-carbonyl chlorides | |
| JP2021183619A (en) | Method for making 1,1,3,3-tetrachloropropene | |
| JP2006022105A (en) | Improved method for producing fluorine-containing aromatic ring | |
| CN106220470B (en) | Process for producing fluoroolefin compound | |
| JP6003896B2 (en) | Method for producing chloroalkylsulfonyl chloride | |
| CN107406374A (en) | Process for preparing 3-chloro-2-vinylphenyl sulfonate | |
| US7595426B2 (en) | Method for the production of 1,3,5-trifluoro-2,4,6-trichlorobenzene from fluorobenzene derivatives | |
| JP5197386B2 (en) | Method for producing 3,5-bis (trifluoromethyl) -N-methylbenzylamine | |
| JP2017530200A (en) | Method for improving the halogenation reaction | |
| JP2013018723A (en) | Method for producing 1-chloro-3,3,3-trifluoropropyne | |
| JP5858830B2 (en) | Process for producing polychloropropane | |
| KR101478140B1 (en) | Precursor of １８f-labeled pet radiopharmaceuticlas and preparation method thereof | |
| JP2010120926A (en) | Polycyclic pentafluorosulfanylbenzene compound and method for producing the same | |
| TWI705055B (en) | Method for preparing 5-fluoro-1h-pyrazole-4-carbonyl fluorides | |
| JP4283174B2 (en) | Fluorine-containing benzal chloride and method for producing the same | |
| JP4239603B2 (en) | Method for producing biaryls | |
| JP6360084B2 (en) | Process for producing 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoropropene by liquid phase fluorination of 2-chloro-3,3,3-trifluoropropene | |
| JP2013018722A (en) | Method for producing 1-chloro-3,3,3-trifluoropropyne | |
| Lara-Ochoa et al. | Development of a manufacturing process for the drug fenleuton |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150625 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160517 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160616 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160809 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160822 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6003896 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |