JP5982836B2 - Integrated circuit device and test method - Google Patents
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Description
本発明は、集積回路装置及び試験方法に関する。 The present invention relates to an integrated circuit device and a test method.
半導体素子(チップ)の実装方法には、フリップチップボンディングやワイヤボンディング等による実装方法がある。また、回路基板上に複数のチップを実装し、回路基板の配線を利用して所定の回路を実現するマルチチップモジュール(Muiti-Chip Module;MCM)のような実装形態も知られている。 As a method for mounting a semiconductor element (chip), there are mounting methods such as flip chip bonding and wire bonding. There is also known a mounting form such as a multi-chip module (MCM) in which a plurality of chips are mounted on a circuit board and a predetermined circuit is realized by using wiring of the circuit board.
ところで、チップ内部には、ある回路部から1つ又は複数の別の回路部へとクロック信号を伝送する配線(クロック信号線)が設けられる。従来、所定の回路部に伝送されるクロック信号のスキューを小さくするように、クロック信号線に複数のクロックバッファを挿入する技術が知られている。 Incidentally, a wiring (clock signal line) for transmitting a clock signal from a certain circuit unit to one or a plurality of other circuit units is provided inside the chip. Conventionally, a technique for inserting a plurality of clock buffers into a clock signal line so as to reduce the skew of a clock signal transmitted to a predetermined circuit unit is known.
チップ内部のクロック信号線に複数のクロックバッファを設ける場合、それらのクロックバッファは、例えば、チップ内部の回路部と共に電源(コア電源)線及びグランド(GND)線に接続される。チップ内部には、このようなクロック信号線が、例えば、ある回路部から別の回路部まで、様々な回路部の近傍を通って配置される。 When a plurality of clock buffers are provided on the clock signal line inside the chip, these clock buffers are connected to a power source (core power source) line and a ground (GND) line together with a circuit unit inside the chip, for example. In the chip, such a clock signal line is arranged, for example, from one circuit unit to another circuit unit through the vicinity of various circuit units.
しかし、このように配置されるクロック信号線は、近傍の回路部の動作に伴うコア電源及びGNDの変動の影響を受ける場合があり、伝送されるクロック信号に遅延や波形の劣化が生じ、スキュー、ジッタのずれが生じる場合がある。チップ内部の各回路部の動作とそれらの組み合わせ(動作モード)は様々で、各動作モードでコア電源及びGNDの変動も異なってくる。そのため、スキュー、ジッタが小さく抑えられるようなクロック信号線を、全ての動作モードを考慮してチップ内部に配置することが困難な場合や、いずれの動作モードを考慮してチップ内部に配置するかを決定することが困難な場合がある。 However, the clock signal lines arranged in this way may be affected by fluctuations in the core power supply and GND due to the operation of the nearby circuit unit, and the transmitted clock signal may be delayed or deteriorated in waveform, causing skew. Jitter shift may occur. The operation of each circuit unit in the chip and their combination (operation mode) are various, and the fluctuations in the core power supply and GND are different in each operation mode. For this reason, it is difficult to arrange clock signal lines that can suppress skew and jitter in the chip considering all operation modes, and which operation mode should be considered in the chip. It may be difficult to determine.
本発明の一観点によれば、半導体素子と、前記半導体素子に電気的に接続された回路基板とを含み、前記半導体素子は、クロック信号を出力する第1回路部と、前記第1回路部から出力された前記クロック信号を入力する第2回路部とを有し、前記回路基板は、前記第1回路部から出力された前記クロック信号を前記第2回路部に伝送するクロック信号線と、前記第1回路部及び前記第2回路部に給電する電源線及びグランド線とを有し、前記第1回路部及び前記第2回路部が、前記電源線及び前記グランド線によって直接的に給電され、前記第1回路部から前記第2回路部への前記クロック信号の伝送は、前記回路基板の前記クロック信号線を介してのみ、行われる集積回路装置が提供される。 According to an aspect of the present invention, the semiconductor device includes a semiconductor element and a circuit board electrically connected to the semiconductor element, the semiconductor element including a first circuit unit that outputs a clock signal, and the first circuit unit. A second circuit unit that inputs the clock signal output from the first circuit unit, and the circuit board transmits the clock signal output from the first circuit unit to the second circuit unit; The power supply line and the ground line for supplying power to the first circuit part and the second circuit part are provided, and the first circuit part and the second circuit part are directly supplied with power by the power supply line and the ground line. An integrated circuit device is provided in which the clock signal is transmitted from the first circuit unit to the second circuit unit only through the clock signal line of the circuit board .
開示の技術によれば、伝送されるクロック信号が半導体素子内のコア電源及びGNDの変動の影響を受けるのを回避して、クロック信号のスキュー、ジッタが抑えられた集積回路装置を実現することが可能になる。 According to the disclosed technology, it is possible to achieve an integrated circuit device in which a clock signal to be transmitted is prevented from being affected by fluctuations of a core power supply and a GND in a semiconductor element, and skew and jitter of the clock signal are suppressed. Is possible.
はじめに、集積回路装置の一例について説明する。
チップを含む集積回路装置の内部に搭載される様々なIP(Intellectual Property)や機能モジュール、マクロのうち、外部とのインタフェースを司る回路は、そこから送出されるクロック信号やデータ信号の波形測定を行うことで、波形品質が確認できる。測定される信号波形には、クロック信号やデータ信号自体が変化することで発生する自己ノイズ、チップ内部のコア電源及びGNDの変動に伴うコアノイズ等が含まれ得る。このようなノイズが、集積回路装置やそこに含まれるチップの外部出力信号のスキュー、ジッタとして現れてくる。
First, an example of an integrated circuit device will be described.
Among various IP (Intellectual Property), function modules, and macros mounted inside the integrated circuit device including the chip, the circuit that controls the interface with the outside measures the waveform of the clock signal and data signal sent from there. By doing so, the waveform quality can be confirmed. The signal waveform to be measured may include self-noise generated when the clock signal or the data signal itself changes, core noise associated with fluctuations in the core power supply and GND in the chip, and the like. Such noise appears as skew and jitter of the external output signal of the integrated circuit device and the chip included therein.
例えば、LP−DDR(Double Data Rate)2−SDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory)(LP−DDR2メモリ)を搭載した集積回路装置のメモリインタフェース回路について述べる。このようなメモリインタフェース回路では、近年、800Mbps、1Gbpsと高速化が進み、クロック信号とデータ信号の間、或いはデータストローブ信号とデータ信号の間の低スキュー設計が要求されている。2つの信号間のスキューには、例えば、物理層(PHY)の回路によるもの、IOセルの立ち上がり/立ち下がりの遅延差によるものがある。このほか、メモリインタフェース回路を備えるチップが実装される基板(パッケージ基板等)、或いは基板にチップが実装されたデバイスが更に実装される基板(プリント基板等)における配線長の差によるもの、クロストークによるもの等が挙げられる。 For example, a memory interface circuit of an integrated circuit device on which LP-DDR (Double Data Rate) 2 -SDRAM (Synchronous Dynamic Random Access Memory) (LP-DDR2 memory) is mounted will be described. In recent years, such memory interface circuits have been increased in speed to 800 Mbps and 1 Gbps, and a low skew design between a clock signal and a data signal or between a data strobe signal and a data signal is required. The skew between two signals includes, for example, a physical layer (PHY) circuit and a delay difference between rising / falling of an IO cell. In addition, crosstalk due to a difference in wiring length on a substrate (package substrate or the like) on which a chip having a memory interface circuit is mounted, or a substrate (printed substrate or the like) on which a device on which the chip is mounted is further mounted. And the like.
これらの中で、原因の特定が困難なものに、チップ内部のコア電源及びGNDの変動に伴うコアノイズによるものがある。コアノイズは、チップ内部のコア電源線及びGND線に接続されている回路部(回路モジュール)の規模と動作率、コア電源線とGND線の配置、チップ内部のデカップリングコンデンサの搭載量と位置等によって、空間的、時間的に様々に変化している。 Among these, it is difficult to identify the cause due to core noise accompanying fluctuations in the core power supply and GND inside the chip. Core noise refers to the scale and operation rate of the circuit unit (circuit module) connected to the core power supply line and the GND line inside the chip, the arrangement of the core power supply line and the GND line, the mounting amount and position of the decoupling capacitor inside the chip, etc. Due to this, it varies in space and time.
例えば、LP−DDR2メモリを搭載した集積回路装置の場合、SoC(System on Chip)(チップ)を含むパッケージの上に、LP−DDR2メモリ(チップ)を含むパッケージを搭載したPoP(Package on Package)構造が採用され得る。LP−DDR2メモリには、二百数十ピンといった多数の端子がそのチップ外周部に集中的に配置される。そのため、集積回路装置には、例えば、SoCのチップ外周部からクロック信号やデータ信号が送出され、LP−DDR2メモリのチップ外周部の端子に入力されるような信号伝送路が設けられる。 For example, in the case of an integrated circuit device equipped with an LP-DDR2 memory, a PoP (Package on Package) in which a package containing an LP-DDR2 memory (chip) is mounted on a package containing an SoC (System on Chip). A structure can be employed. In the LP-DDR2 memory, a large number of terminals such as two hundred and tens of pins are concentrated on the outer periphery of the chip. For this reason, the integrated circuit device is provided with a signal transmission path through which, for example, a clock signal or a data signal is transmitted from the outer periphery of the SoC chip and input to a terminal at the outer periphery of the LP-DDR2 memory.
このとき、SoCには、例えば、そのチップ外周部にクロック信号やデータ信号を送出するために、メモリインタフェース回路の物理層がチップ外周部に離散的に配置される。このようにチップ外周部に離散的に配置された物理層には、SoCのチップ内部の様々な回路モジュールの傍を通りながら空間的に広がって配置されたクロック信号線(クロックツリー)によってクロック信号が供給され、それに同期して各物理層が動作する。 At this time, in the SoC, for example, the physical layer of the memory interface circuit is discretely arranged on the outer periphery of the chip in order to send a clock signal or a data signal to the outer periphery of the chip. In this way, the physical layer discretely arranged on the outer periphery of the chip has clock signals by clock signal lines (clock trees) arranged spatially while passing by various circuit modules inside the SoC chip. Are supplied, and each physical layer operates in synchronization therewith.
図1は物理層及びクロック信号供給経路の一例を示す図である。
図1には一例として、上記のようなLP−DDR2メモリ及び、LP−DDR2メモリを駆動するSoCが搭載される集積回路装置における、そのSoCのメモリインタフェース回路の物理層と、物理層へのクロック信号の供給経路を模式的に示している。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a physical layer and a clock signal supply path.
As an example, FIG. 1 shows a physical layer of a memory interface circuit of the SoC and a clock to the physical layer in an integrated circuit device in which the LP-DDR2 memory and the SoC that drives the LP-DDR2 memory are mounted. A signal supply path is schematically shown.
チップ100の内部には、PLL(Phase Locked Loop)110、クロックユニット120、及び複数の物理層(PHY)130が設けられている。クロックユニット120はチップ100の中央部に配置され、PLL110及び物理層130はチップ100の四辺近傍に配置されている。ここでは物理層130として、DQDQS−PHY131a、CACK−PHY132a、DQDQS−PHY131b、CACK−PHY132bを例示している。
Inside the
チップ100では、まずPLL110からのクロック信号がクロックユニット120に供給される。そして、クロックユニット120からDQDQS−PHY131a及びCACK−PHY132aにクロック信号PHY_CLK1及びクロック信号PHY_CLK2が供給される(A−ch)。また、クロックユニット120からDQDQS−PHY131b及びCACK−PHY132bにクロック信号PHY_CLK3及びクロック信号PHY_CLK4が供給される(B−ch)。
In the
尚、DQDQS−PHY131aは、クロックユニット120からのクロック信号PHY_CLK1を基に、LP−DDR2メモリとの間でデータストローブ信号(DQS信号)及びデータ信号(DQ信号)をやり取りする。CACK−PHY132aは、クロックユニット120からのクロック信号PHY_CLK2を基に、LP−DDR2メモリとの間でコントロールアドレス信号(CA信号)及びクロック信号(CK信号)をやり取りする。DQDQS−PHY131bは、クロックユニット120からのクロック信号PHY_CLK3を基に、LP−DDR2メモリとの間でDQS信号及びDQ信号をやり取りする。CACK−PHY132bは、クロックユニット120からのクロック信号PHY_CLK4を基に、LP−DDR2メモリとの間でCA信号及びCK信号をやり取りする。
The DQDQS-
PLL110からクロックユニット120まで、クロックユニット120から各物理層130までのクロック信号伝送は、クロックバッファ140と呼ばれるユニットセルを用いて行われる。
Clock signal transmission from the
図2はクロックバッファの一例を示す図である。
図2に示すクロックバッファ140は、pチャネル型MOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタ(pMOS)とnチャネル型MOSトランジスタ(nMOS)を直列に接続した一対のインバータ(NOTゲート)141及びインバータ142を有している。インバータ141及びインバータ142は、チップ100内部に設けられるコア電源線(網)201とGND線(網)202に接続されている。一方のインバータ141の共通ゲート端子(IN)への入力に応じたその出力端子からの出力が、もう一方のインバータ142の共通ゲート端子に入力され、その入力に応じた出力がインバータ142の出力端子(OUT)から出力される。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of the clock buffer.
The
上記図1のPLL110からクロックユニット120までの配線(クロック信号線)、及びクロックユニット120から各物理層130までの配線(クロック信号線)には、この図2のようなクロックバッファ140が複数、数珠つなぎになったものが用いられる。
A plurality of clock buffers 140 as shown in FIG. 2 are provided in the wiring (clock signal line) from the
図3〜図5はクロックバッファ配置の説明図である。
チップ100内部の配線は、微細化と共に、配線の厚み、幅が共に縮小される傾向にある。単位長さ当たりの配線の抵抗をR0、単位長さ当たりの配線の容量をC0とすれば、配線遅延(RC遅延)は、配線長Lenに対して、(R0×Len)×(C0×Len)=R0×C0×Len2に比例した増加を示す(図3(A))。
3 to 5 are explanatory diagrams of the clock buffer arrangement.
As the wiring inside the
チップ100内部のクロックツリーの設計において、クロック信号線にクロックバッファ140を挿入する場合には、まず、配線長Lenに対して配線遅延が直線的に増加するような比較的長距離の配線部分を分割する。例えば、図3(B)に示すような配線遅延τRC0の配線部分を2つに分割する。そして、分割した2つの配線間にクロックバッファ140を挿入する。このとき、分割された2つの配線の遅延τRC1,τRC2と、それらの配線間に挿入するクロックバッファ140のセル遅延τBUFの総和が、分割前の配線遅延τRC0よりも小さくなるかを判定する。即ち、τRC0>τRC1+τBUF+τRC2の関係が満たされるようであれば、分割した方が高速にクロック信号を伝送することができるということになる。
In the design of the clock tree inside the
チップ100では、図4に示すような長距離配線Wに対してのクロックバッファ140の挿入(レピータバッファ分割)や、Hツリー等の配線分岐点Dにおけるインピーダンス整合のためのクロックバッファ140の挿入が行われる。チップ100内部に配置されるクロックバッファ140の段数は多くなる傾向にある。
In the
図5にクロックツリーの遅延とそのクロック信号線末端における遅延の広がりの関係を模式的に示す。一般的にクロックツリーは、長距離配線を分割し、クロック信号の波形なまりを救う方向でスルーレート(Slew Rate)を立たせれば、信号線末端のクロック信号到達遅延差(スキュー)は縮小されるという論理に基づいて設計される。そのため、クロックツリーの遅延はある程度犠牲にしても、チップ100に過剰にクロックバッファ140が挿入される傾向にある。
FIG. 5 schematically shows the relationship between the delay of the clock tree and the delay spread at the end of the clock signal line. Generally, in a clock tree, if a long distance wiring is divided and a slew rate is set in a direction that saves a rounded waveform of the clock signal, the clock signal arrival delay difference (skew) at the end of the signal line is reduced. It is designed based on the logic. Therefore, the
図6は動作モードごとの電源網解析結果の一例を示す図である。
図6には、チップ100の動作モード(ケース1〜4)ごとの、コア電源網の電圧分布の解析結果を模式的に図示している。チップ100では、ケース1〜4の動作モードによって、コア電源網の電圧分布が異なる。上記のようなクロックツリーでは、スキュー縮小化のために複数のクロックバッファ140が配置され、PLL110からクロックユニット120を通ってメモリインタフェース回路の各物理層130にクロック信号が分配供給される。チップ100の動作モードによってコア電源網の電圧分布が異なると、クロックツリーの各クロック信号線が受けるIRD(電源電圧降下)の影響も異なってくる。このような電圧分布の違いがスキュー、ジッタの違いとして現れてくる。
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a power network analysis result for each operation mode.
FIG. 6 schematically illustrates the analysis result of the voltage distribution of the core power supply network for each operation mode (
図7は動作モードの組み合わせの違いによる影響の一例を示す図である。
図7には、チップ100について、ケース1〜4の動作モードの割合を特定期間内で変化させた場合のIRDの影響を例示している。図7(A)には、ケース1〜4の割合をいずれも0.25と均等した場合のIRDの影響を示し、図7(B)にはケース1の割合を0.75、ケース2及びケース3の割合を0.05、ケース4の割合を0.15とした場合のIRDの影響を示している。図7のように、ケース1〜4の割合が変化すると、チップ100の各クロック信号線が受けるIRDの影響も変化することがわかる。
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of the influence due to the difference in the combination of operation modes.
FIG. 7 exemplifies the influence of the IRD when the ratio of the operation modes in
このようにチップ100内部のIRDは、空間的、時間的に様々に変化し得る。そのため、ケース1〜4ごとにIRDを考慮してクロックバッファ140をスキューが縮小されるように配置したとしても、ケース1〜4の組み合わせによって各クロックバッファ140が受けるIRDの影響は異なってくる。その結果、各クロックバッファ140のセル遅延は、個々のクロックバッファ140のコア電源端子とGND端子の電圧差に応じた遅延値を持ち、各クロック信号線のスキューにばらつきが生じ得る。更に、図8のような静的なIRD(Static-IRD)のほか、動的なIRD(Dynamic-IRD)の影響を考慮すると、設計上、チップ100内部のクロックツリーを、各クロック信号線にクロックバッファ140を挿入することで最適化することは、技術的に困難を伴う。
As described above, the IRD in the
また、図9は物理層へのクロック信号伝送の一例を示す図、図10はチップ内部のクロック信号波形の例を示す図である。
チップ100の各物理層130に通じるクロック信号線(クロックツリー)は、そのチップ100内部の様々な回路モジュールの傍を通って配置され得る。クロック信号線は、チップ100内部のコア電源及びGNDに接続された複数のクロックバッファ140をつないだ構成であり、いわば複数のクロックバッファ140がRC伝送路143でつながった構成である。尚、図9のRVDD,RVSSは、それぞれコア電源線201、GND線202の抵抗を示している。
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of clock signal transmission to the physical layer, and FIG. 10 is a diagram illustrating an example of a clock signal waveform inside the chip.
A clock signal line (clock tree) leading to each
一例として、周波数400MHzのクロック信号CLKをDQDQS−PHY131aとCACK−PHY132aの各物理層130に分配して伝送するクロック信号線について述べる。このようなクロック信号線の傍に、異なる周波数で動作する3つの回路モジュール310、回路モジュール320、回路モジュール330が配置されているものとする。例えば、回路モジュール310、回路モジュール320、回路モジュール330の動作周波数はそれぞれ、266MHz、1066MHz、533MHzとする。尚、図9の各回路モジュール310、回路モジュール320、回路モジュール330から延びる実線及び点線の矢印は、それらが接続されるコア電源線VDD及びGND線VSSの、クロック信号線への電気的な影響を表している。
As an example, a clock signal line for distributing and transmitting a clock signal CLK having a frequency of 400 MHz to the
クロック信号CLKの入力(分岐点)付近の回路モジュール320だけが動作する場合は、図10(A)のように、DQDQS−PHY131aとCACK−PHY132aに到達するクロック信号波形の各ジッタ量は同程度になる。ジッタをゼロにすることはできなくとも、同一チャンネルのDQDQS−PHY131aとCACK−PHY132aの各ジッタ量が同程度であれば、メモリインタフェース回路の設計を行うことはできる。
When only the
しかしながら、クロック信号線付近に配置された、動作周波数の異なる他の回路モジュール310及び回路モジュール320が動作すると、クロック信号波形は変わってくる。ここでは、回路モジュール310だけ動作した場合の信号波形を図10(B)に、回路モジュール330だけ動作した場合の信号波形を図10(C)に、全ての回路モジュール310,320,330が動作した場合の信号波形を図10(D)に、それぞれ示している。図10(B)〜(D)に示したように、クロック信号線付近の回路モジュール310、回路モジュール320、回路モジュール330の動作状況によって、ジッタにばらつきが生じることがわかる。
However, when
尚、図10(A)〜(D)には、CACK−PHY132aに入るクロック信号をトリガーとしてDQDQS−PHY131aに入るクロック信号を重ね書きしている。
図11はクロック信号並びにコア電源及びGNDの変動の一例を示す図である。
In FIGS. 10A to 10D, the clock signal entering DQDQS-
FIG. 11 is a diagram showing an example of fluctuations in the clock signal, the core power supply, and the GND.
図11には、上記図9のクロック信号線において、回路モジュール310が10ns付近から動作を開始した場合の、DQDQS−PHY131aとCACK−PHY132aに入るクロック信号S(細い実線及び点線)、コア電源及びGND(太線)のシミュレーション結果を示している。図11より、回路モジュール310が動作を開始すると、コア電源電圧が低下し、GND電圧が持ち上がり、それらに引きずられるようにクロック信号Sの波形も変化していっていることがわかる。
FIG. 11 shows the clock signal S (thin solid line and dotted line) entering the DQDQS-
この図11には、回路モジュール310が動作した場合を例示したが、チップ100内部では、他の回路モジュール320及び回路モジュール330も含めた動作状況によって、クロック信号、コア電源及びGNDが様々に変化し得る。
FIG. 11 illustrates the case where the
クロック設計では、複数のクロックバッファ140とそれらのクロックバッファ140をつなぐ伝送路を配置配線して位置を確定するが、その際、回路モジュールの動作の組み合わせをどのようなケースに設定して設計するのかを決定することは難しい。例えば、特定の回路モジュールが1つずつ動作した場合の重ね合わせで設計を行うのか、全ての回路モジュールが動作するとして設計を行うのかによって、得られるクロック信号線の構成(回路トポロジー)は変化し得る。 In the clock design, a plurality of clock buffers 140 and transmission paths connecting the clock buffers 140 are arranged and wired to determine the position. At that time, the combination of operation of the circuit modules is set in any case and designed. It ’s difficult to decide. For example, the configuration (circuit topology) of the obtained clock signal line changes depending on whether the design is performed by superimposing when a specific circuit module is operated one by one or by designing that all circuit modules are operated. obtain.
以上述べたように、クロックバッファ140を挿入したクロック信号線がチップ100内部の回路モジュール付近、電力消費する回路モジュール付近を通ることが、クロック信号波形の品質劣化、スキュー、ジッタの増加につながる。チップ100内部でスキューを小さくするために、数多くのクロックバッファ140を挿入したとしても、近傍の回路モジュールが動作した場合のコア電源及びGNDの変動の影響は避けることができない。クロック信号線をコア電源線、GND線でシールドしたとしても、消費電力に応じてIRD(Static及びDynamic)が発生し、IRDに呼応するようにクロック信号波形が歪む(コア電源線、GND線とクロック信号線間の相互インダクタンスと相互容量の結びつき)。
As described above, when the clock signal line into which the
そこで、以上のような点に鑑み、次の図12に示すような構造を採用する。
図12は集積回路装置の構成例を示す図である。図12(A)には、集積回路装置内部の要素の平面的な配置関係を模式的に図示している。図12(B)には、集積回路装置の要部断面を模式的に図示している。
In view of the above, a structure as shown in FIG. 12 is adopted.
FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration example of an integrated circuit device. FIG. 12A schematically shows a planar arrangement relationship of elements inside the integrated circuit device. FIG. 12B schematically illustrates a cross section of a main part of the integrated circuit device.
図12に示す集積回路装置400Aは、チップ100Aと、そのチップ100Aが実装される回路基板(パッケージ基板)410Aとを有している。チップ100A内部には、上記図1のチップ100と同様に、PLL110、クロックユニット120、及び複数の物理層130(DQDQS−PHY131a、CACK−PHY132a、DQDQS−PHY131b、CACK−PHY132b)が配置されている。そして、このチップ100Aにおいても、PLL110からクロックユニット120へ、更にクロックユニット120から各物理層130へと、クロック信号が伝送される。
An
集積回路装置400Aでは、PLL110とクロックユニット120の間、クロックユニット120と各物理層130の間でクロック信号を伝送するクロック信号線420が、いずれもパッケージ基板410Aに設けられている(図12(B))。チップ100Aには、パッケージ基板410Aに設けたクロック信号線420にクロック信号を送信するクロックドライバ150、及びクロック信号線420を伝送されてくるクロック信号を受信するクロックレシーバ160が設けられている。
In the
パッケージ基板410Aには、クロック信号線420のほか、電源線430及びGND線440が設けられている(図12(B))。チップ100Aのクロックドライバ150及びクロックレシーバ160はいずれも、このパッケージ基板410Aの電源線430及びGND線440に電気的に接続される。クロックドライバ150及びクロックレシーバ160は、パッケージ基板410Aの電源線430及びGND線440によって直接的に給電されるようになっている。クロックドライバ150及びクロックレシーバ160は、例えば、チップ100Aに設けられて物理層130や回路モジュールに給電するコア電源線及びGND線を介さずに、パッケージ基板410Aの電源線430及びGND線440によって直接的に給電される。また、クロックドライバ150の各端子153,154,155及びクロックレシーバ160の各端子163,164,165と、電源線430及びGND線440並びにクロック信号線420との接続は、例えば、バンプを用いて行うことができる。
In addition to the
上記のように、集積回路装置400Aでは、クロック信号線420を、チップ100Aではなく、パッケージ基板410Aに設ける。パッケージ基板410Aにクロック信号線420を設ける場合、クロック信号線420は、チップ100A内部に形成するクロック信号線に比べ、より太幅で、より厚く、形成することができ、低抵抗な伝送路として形成することができる。例えば、パッケージ基板410Aには、銅(Cu)等の配線材料を用い、ミリメートルオーダのクロック信号線420を形成することができる。そのため、クロック信号線420には、上記のチップ100内部に設けたクロック信号線のように、多数のクロックバッファ140を挿入することを要しない。集積回路装置400Aでは、クロック信号の伝送路を、上記のチップ100内部に設けたクロック信号線の場合のようなRC伝送路から、いわばLC伝送路に切り替えた構造になっている。
As described above, in the
更に、クロック信号線420をパッケージ基板410Aに設けるため、クロック信号線420を伝送されるクロック信号が、チップ100Aの動作、その内部の回路モジュールの動作によるコア電源及びGNDの変動に影響されるのを回避することができる。
Further, since the
更にまた、チップ100Aのクロックドライバ150及びクロックレシーバ160への給電は、パッケージ基板410Aの電源線430及びGND線440によって直接的に行われる。そのため、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160、送信及び受信されるクロック信号が、チップ100A内部のコア電源及びGNDの変動に影響されるのを回避することができる。
Furthermore, power supply to the
集積回路装置400Aによれば、チップ100A内部のコア電源及びGNDの変動の影響を抑えたクロック信号の伝送が可能になる。それにより、チップ100Aのメモリインタフェース回路(物理層130)へ伝送するクロック信号のスキュー、ジッタを抑えた集積回路装置400Aを実現することが可能になる。
According to the
以下、集積回路装置の実施例について説明する。
まず、第1実施例について説明する。
図13は第1実施例に係る集積回路装置の説明図である。図13には、上記図12に示した集積回路装置400Aのクロック信号伝送路の一例を図示している。
Hereinafter, embodiments of the integrated circuit device will be described.
First, the first embodiment will be described.
FIG. 13 is an explanatory diagram of the integrated circuit device according to the first embodiment. FIG. 13 shows an example of the clock signal transmission path of the
図13には、クロックドライバ150から出力されるクロック信号を、2つのクロックレシーバ160に分配して伝送する、パッケージ基板410Aのクロック信号線420、及びその付近の構成例を模式的に図示している。図13に示すクロック信号伝送路は、例えば、上記図12(A)のクロックユニット120からDQDQS−PHY131a及びCACK−PHY132aにクロック信号を分配して伝送する部分に適用される。また、上記図12(A)のクロックユニット120からDQDQS−PHY131b及びCACK−PHY132bにクロック信号を分配して伝送する部分に適用される。
FIG. 13 schematically illustrates a configuration example of the
図13には、チップ100A内部に設けられるクロックドライバ150及びクロックレシーバ160を、コモンモードノイズに強い差動タイプとした場合の例を示している。この場合、クロック信号線420には、互いに位相が反転したポジティブクロック信号(ポジ信号)とネガティブクロック信号(ネガ信号)をそれぞれ伝送するポジティブクロック信号線(ポジ信号線)421とネガティブクロック信号線(ネガ信号線)422が含まれる。チップ100A内部のクロックドライバ150及びクロックレシーバ160と、パッケージ基板410Aとは、バンプ及びビア等の導電部450を介して電気的に接続される。
FIG. 13 shows an example in which the
ポジ信号線421とネガ信号線422を含むクロック信号線420を、図13のように分岐点を設けて配置する場合には、パッケージ基板410Aの2層を使ってクロック信号線420を設ける。例えば、クロック信号線420の、クロックドライバ150側の端部から分岐点までの信号線部分と、分岐点から一対のクロックレシーバ160側の端部までの信号線部分とを、別々の層に設ける。クロック信号線420のこれら両信号線部分の分岐点での電気的な接続は、ビア等の導電部460によって行う。クロック信号線420の、分岐点から一対のクロックレシーバ160側の端部までの信号線部分と、各クロックレシーバ160との電気的な接続も同様に、ビア等の導電部460によって行う。
When the
パッケージ基板410Aには、このようなクロック信号線420と共に、電源線VBUF(電源線430)及びGND線VSS(GND線440)が設けられる。ここでは、プレーン状のGND線VSSをクロック信号線420の下側に配置し、クロック信号線420の左右(パッケージ基板410Aの平面方向の左右)に電源線VBUFを配置した場合を例示している。電源線VBUF及びGND線VSSは、パッケージ基板410A内に設けられる電源線及びGND線と電気的に接続され、それらと同電位とされる。クロック信号線420の周辺に配置する電源線VBUF及びGND線VSSは、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160に直接的に給電する給電線としての役割のほか、クロック信号線420を電磁的にシールドする役割を果たす。
In addition to the
尚、分岐点の無いクロック信号線の場合、例えば、上記図12(A)のPLL110からクロックユニット120にクロック信号を伝送する部分のクロック信号線420のような場合には、パッケージ基板410Aの1層にポジ信号線及びネガ信号線を設ければよい。この場合、電源線VBUF及びGND線VSSは、例えば、そのような分岐点の無いクロック信号線を左右(パッケージ基板410Aの平面方向の左右)から或いは上下(パッケージ基板410Aの厚さ方向の上下)から挟むようにして設けることができる。
In the case of a clock signal line without a branch point, for example, in the case of the
次に、第2実施例について説明する。
図14は第2実施例に係る集積回路装置の説明図である。図14(A)は第2実施例に係る集積回路装置の構成例を示す図、図14(B)は第2実施例に係る集積回路装置における処理のタイミングチャートの一例を示す図である。
Next, a second embodiment will be described.
FIG. 14 is an explanatory diagram of an integrated circuit device according to the second embodiment. FIG. 14A is a diagram illustrating a configuration example of an integrated circuit device according to the second embodiment, and FIG. 14B is a diagram illustrating an example of a processing timing chart in the integrated circuit device according to the second embodiment.
図14(A)には、多電源設計技術を用いて得られる集積回路装置400Bを例示している。集積回路装置400Bは、パワードメインPD1、クロックドライバ150、パワードメインPD2、クロックレシーバ160、及びパッケージ基板410Bを有している。パワードメインPD1、クロックドライバ150、パワードメインPD2及びクロックレシーバ160は、パッケージ基板410Bに実装されるチップ100Bの内部に設けられる。
FIG. 14A illustrates an
パッケージ基板410Bは、ポジ信号線421とネガ信号線422を含むクロック信号線420、電源線430及びGND線440を含む。クロック信号線420は、電源線430の一部(電源線VBUF)とGND線440(GND線VSS)の間に配置される。
The
パワードメインPD1は、複数のクロックバッファ171を含むクロック信号線を含み、それらのクロックバッファ171には、パッケージ基板410Bの電源線430及びGND線440によって給電が行われる。電源線430とクロックバッファ171とをつなぐ電源供給線180には、パワースイッチPSW1が設けられており、パワースイッチPSW1のオンオフによってクロックバッファ171(パワードメインPD1)に対する電源の供給と遮断が切り換えられる。パワースイッチPSW1のオンオフは、パワーオン信号PON1によって制御される。パワードメインPD1の最終段のクロックバッファ171から出力されるクロック信号が、クロックドライバ150に入力される。
The power domain PD1 includes clock signal lines including a plurality of clock buffers 171, and power is supplied to the clock buffers 171 by the
クロックドライバ150には、パッケージ基板410Bの電源線VBUF(電源線430)及びGND線VSS(GND線440)によって給電が行われる。クロックドライバ150から出力されるクロック信号(ポジ信号CLKP及びネガ信号CLKN)は、パッケージ基板410Bのクロック信号線420(ポジ信号線421及びネガ信号線422)を伝送され、クロックレシーバ160に入力される。
Power is supplied to the
クロックレシーバ160には、パッケージ基板410Bの電源線VBUF(電源線430)及びGND線VSS(GND線440)によって給電が行われる。クロックレシーバ160から出力されるクロック信号は、パワードメインPD2に入力される。
Power is supplied to the
パワードメインPD2は、複数のクロックバッファ172を含むクロック信号線を含み、それらのクロックバッファ172には、パッケージ基板410Bの電源線430及びGND線440によって給電が行われる。電源線430とクロックバッファ172とをつなぐ電源供給線190には、パワースイッチPSW2が設けられており、パワースイッチPSW2のオンオフによってクロックバッファ172(パワードメインPD2)に対する電源の供給と遮断が切り換えられる。パワースイッチPSW2のオンオフは、パワーオン信号PON2によって制御される。パワードメインPD2の初段のクロックバッファ172に、クロックレシーバ160から出力されるクロック信号が入力される。
The power domain PD2 includes a clock signal line including a plurality of clock buffers 172, and power is supplied to the clock buffers 172 by the
集積回路装置400Bでは、システム側からの要求に基づき、パワードメインPD1の電源の供給と遮断がパワースイッチPSW1で切り換えられ、パワードメインPD2の電源の供給と遮断がパワースイッチPSW2で切り換えられる。パワースイッチPSW1及びパワースイッチPSW2のオンオフを適切に制御することで、電力消費の削減を図ることが可能になる。
In the
更に、この集積回路装置400Bは、次のような利点を有している。
例えば、図14(B)のように、パワードメインPD2側のパワースイッチPSW2がオフ、即ちパワーオン信号PON2がLowになり、続いてパワードメインPD1側のパワースイッチPSW1がオフ、即ちパワーオン信号PON1がLowになる場合を想定する。そして、その後、パワードメインPD2側のパワースイッチPSW2がオン、即ちパワーオン信号PON2がHighになり、続いてパワードメインPD1側のパワースイッチPSW1がオン、即ちパワーオン信号PON1がHighになる場合を想定する。
Further, the
For example, as shown in FIG. 14B, the power switch PSW2 on the power domain PD2 side is off, that is, the power on signal PON2 is Low, and then the power switch PSW1 on the power domain PD1 side is off, that is, the power on signal PON1. Is assumed to be Low. After that, it is assumed that the power switch PSW2 on the power domain PD2 side is on, that is, the power on signal PON2 is High, and then the power switch PSW1 on the power domain PD1 side is on, that is, the power on signal PON1 is High. To do.
パワースイッチPSW2がオフになり、パワースイッチPSW1がオフになると、パワースイッチPSW1からパワードメインPD1の最終段のクロックバッファ171までの電源供給線180(二次側電源供給線182)は0Vになる。そのため、差動のクロックドライバ150の入力は、Lowの固定信号となる。クロックドライバ150には、パワースイッチPSW1がオフになった後も電源線VBUFから電源が供給され続けるため、クロックドライバ150の出力は、ポジ信号CLKPとネガ信号CLKNの状態が固定される。よって、図14(B)のように、パワードメインPD2がパワードメインPD1よりも先に立ち上がった際に、パワースイッチPSW1がオフになった時のポジ信号CLKPとネガ信号CLKNの状態を保持することが可能になる。
When the power switch PSW2 is turned off and the power switch PSW1 is turned off, the power supply line 180 (secondary power supply line 182) from the power switch PSW1 to the
このように、第2実施例に係る集積回路装置400Bでは、クロック信号線420を、チップ100B内部ではなく、パッケージ基板410Bに設ける。更に、チップ100B内部に設けるクロックドライバ150及びクロックレシーバ160には、パッケージ基板410Bの電源線VBUF(電源線430)及びGND線VSS(GND線440)によって直接的に給電を行う。これにより、チップ100B内部のコア電源及びGNDの変動の影響を抑えたクロック信号の伝送が可能になる。
Thus, in the
また、この第2実施例に係る集積回路装置400Bでは、パワードメインPD1の電源遮断後もクロックドライバ150に給電が行われるようにすることで、電源遮断時のクロック信号の状態が保持される。これにより、パワードメインPD2の電源がパワードメインPD1よりも先に復帰した時には、パワードメインPD1の電源遮断時の状態でクロック信号がパワードメインPD2に入力され、パワードメインPD2側の論理的な誤動作を抑えることが可能になる。
Further, in the
尚、集積回路装置400Bでは、パッケージ基板410Bの電源線430を、電源供給線180及び電源供給線190と接続される配線部431と、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160に接続される配線部432(電源線VBUF)とに分けている。そして、これらの配線部431と配線部432の間を、それらよりも細い配線部433によって接続している。
In the
電源線430をこのような構造とすることで、電気的には配線部431と配線部432を同電位とし、高周波的には配線部431と配線部432の間のインピーダンス(jωL(j:虚数単位、ω:角周波数、L:インダクタンス))を高める。これにより、パワードメインPD1及びパワードメインPD2を含むチップ100B内部のコア電源及びGNDの変動が、電源供給線180及び電源供給線190を経由して電源線VBUF(配線部432)に伝わるのを抑えることが可能になる。その結果、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160を、チップ100B内部のコア電源及びGNDの変動の影響を抑えて動作させることが可能になる。
With the
次に、上記第2実施例のような構成を有する集積回路装置400Bを製造する際に適用可能な試験方法を、第3実施例として説明する。
図15は第3実施例に係る試験方法の説明図である。
Next, a test method applicable when manufacturing the
FIG. 15 is an explanatory diagram of a test method according to the third embodiment.
上記の集積回路装置400Bでは、パワードメインPD1、クロックドライバ150、パワードメインPD2及びクロックレシーバ160をチップ100Bに設け、クロック信号線420、電源線430及びGND線440をパッケージ基板410Bに設ける。このような集積回路装置400Bでは、パッケージ基板410Bでクロック信号の伝送、給電を行う。そのため、チップ100Bとパッケージ基板410Bを電気的に接続する前の段階では、チップ100B単体の試験(PT(Primary Test)試験)を行うために、例えば、図15に示すような試験装置600を用いた試験方法を用いる。
In the
即ち、チップ100B側のクロックドライバ150の端子151及び端子152と、クロックレシーバ160の端子161及び端子162の間を、プローブ611及び2芯同軸ケーブル610で接続する。このプローブ611及び2芯同軸ケーブル610によってクロック信号のポジ信号CLKP及びネガ信号CLKNを伝送させる。更に、クロックドライバ150の電源側の端子153、及びパワードメインPD1の電源側の端子101には、VDD電位のプローブ620を接続する。クロックドライバ150のGND側とパワードメインPD1のGND側の共通の端子154には、VSS電位のプローブ630を接続する。同様に、クロックレシーバ160の電源側の端子163、及びパワードメインPD2の電源側の端子102には、VDD電位のプローブ640を接続する。クロックレシーバ160のGND側とパワードメインPD2のGND側の共通の端子164には、VSS電位のプローブ650を接続する。
That is, the terminal 151 and the
このような試験装置600を用い、チップ100Bの出力信号を測定することで、上記図14に示したようなパッケージ基板410Bと電気的に接続する前のチップ100B単体の試験を行うことが可能になる。
By using such a
次に、シングルエンドによるクロック信号伝送を行う集積回路装置を、第4実施例として説明する。
図16は第4実施例に係る集積回路装置の説明図である。
Next, an integrated circuit device that performs single-ended clock signal transmission will be described as a fourth embodiment.
FIG. 16 is an explanatory diagram of an integrated circuit device according to the fourth embodiment.
図16には、シングルエンドによるクロック信号伝送を行う集積回路装置400Cの一例を図示している。集積回路装置400Cのチップ100C側には、シングルエンドのクロック信号を出力するクロックドライバ150、及びシングルエンドのクロック信号を入力するクロックレシーバ160が設けられる。パッケージ基板410Cには、クロックドライバ150から出力され、クロックレシーバ160に入力されるシングルエンドのクロック信号を伝送するクロック信号線420が設けられる。クロック信号線420は、パッケージ基板410Cに設けられる電源線430の一部(電源線VBUF)とGND線440(GND線VSS)の間に配置配線される。第4実施例に係る集積回路装置400Cは、このような点で、上記第2実施例に係る集積回路装置400Bと相違する。
FIG. 16 illustrates an example of an
続いて、第4実施例に係る集積回路装置のシミュレーションについて述べる。
図17は第4実施例に係るシミュレーションに用いた回路の模式図である。
シミュレーションに用いる伝送路は、周波数400MHzのクロック信号CLKを分岐点DからDQDQS−PHY131aとCACK−PHY132aの各物理層130に分配する伝送路である。分岐点DからDQDQS−PHY131aの間、分岐点DからCACK−PHY132aの間の伝送路にそれぞれ、クロック信号線420で接続されたクロックドライバ150及びクロックレシーバ160を設ける。
Subsequently, a simulation of the integrated circuit device according to the fourth embodiment will be described.
FIG. 17 is a schematic diagram of a circuit used in the simulation according to the fourth example.
The transmission path used for the simulation is a transmission path that distributes the clock signal CLK having a frequency of 400 MHz from the branch point D to the
クロックドライバ150及びクロックレシーバ160には、パッケージ基板410C側の電源線VDD(電源線430)及びGND線VSS(GND線440)によって直接的に給電を行う。尚、図17のLVDD#PKG及びLVSS#PKGは、パッケージ基板410Cの電源線VDD及びGND線VSSのインダクタンスを示している。電源線VDD(VBUF)及びGND線VSSは、クロック信号線420の傍に、それを挟むようにして配置される。
Power is directly supplied to the
パッケージ基板410Cの電源線VDD及びGND線VSSは、チップ100C側に設ける電源網M(コア電源線201及びGND線202)に対しても給電を行う。尚、図17のRVDD,RVSSは、それぞれコア電源線201、GND線202の抵抗を示している。チップ100C内部には、その電源網Mに接続された、異なる周波数で動作する3つの回路モジュール310、回路モジュール320、回路モジュール330を設ける。回路モジュール310、回路モジュール320、回路モジュール330の動作周波数はそれぞれ、266MHz、1066MHz、533MHzとする。尚、図17の各回路モジュール310、回路モジュール320、回路モジュール330から延びる実線及び点線の矢印は、それらの、コア電源線201及びGND線202への電気的な影響を表している。
The power supply line VDD and the GND line VSS of the
図18は第4実施例に係るシミュレーション結果の一例である。
図18には、上記図17の回路で、回路モジュール310が10ns付近から動作を開始した場合の、DQDQS−PHY131aとCACK−PHY132aに入るクロック信号A(実線)、コア電源及びGNDのシミュレーション結果の一例を示している。
FIG. 18 is an example of a simulation result according to the fourth embodiment.
FIG. 18 shows the simulation results of the clock signal A (solid line), the core power supply, and the GND that enter the DQQS-
また、図18には、上記図17の回路におけるクロック信号線420をチップ100C側に設け、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160にチップ100Cの電源網Mで給電する回路(比較回路)でシミュレーションを行った結果も併せて示している。図18には、このような比較回路で、回路モジュール310が10ns付近から動作を開始した場合の、DQDQS−PHY131aとCACK−PHY132aに入るクロック信号B(点線)、コア電源及びGNDのシミュレーション結果の一例を示している。
In FIG. 18, the
図18のように、チップ100C内部のコア電源及びGNDは、回路モジュール310の動作に伴ってIRD(静的及び動的なIRD)が発生する。即ち、コア電源は低下していき、GNDは持ち上がっていく。このとき、比較回路のクロック信号Bは、チップ100C内部のコア電源及びGNDの変動の影響を受けて、その信号波形が変化してしまう。一方、クロック信号Aは、チップ100C内部のコア電源及びGNDの変動の影響を回避して、ほぼ0V〜0.1Vのフルスイング動作をしている。クロック信号線420をパッケージ基板410C側に設け、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160にパッケージ基板410C経由で直接的に給電を行うことで、チップ100C内部のコア電源及びGNDの変動の影響を抑えることができるようになる。
As shown in FIG. 18, the core power supply and GND inside the
続いて、DQDQS−PHYとCACK−PHYに入力されるクロック信号の比較について述べる。
図19は集積回路装置の説明図であって、(A)は第1比較例に係る集積回路装置の模式図、(B)は第2比較例に係る集積回路装置の模式図、(C)は第4実施例に係る集積回路装置の模式図である。
Next, comparison of clock signals input to DQDQS-PHY and CACK-PHY will be described.
19A and 19B are explanatory diagrams of the integrated circuit device, where FIG. 19A is a schematic diagram of the integrated circuit device according to the first comparative example, FIG. 19B is a schematic diagram of the integrated circuit device according to the second comparative example, and FIG. These are the schematic diagrams of the integrated circuit device based on 4th Example.
図19(A)の集積回路装置400Dでは、チップ100D内部にコア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHに接続されたクロックドライバ(TX)150及びクロックレシーバ(RX)160が設けられている。クロック信号線420は、パッケージ基板410Dに設けられている。コア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHは、パッケージ基板410Dの電源線PKG_VDD及びGND線PKG_VSSにそれぞれ接続され、電源線PKG_VDD及びGND線PKG_VSSによって給電が行われる。コア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHには、回路モジュール340及びデカップリングコンデンサ350が接続されている。回路モジュール340は、ここではコア電源のノイズ源となるものとする。
In the
図19(B)の集積回路装置400Eでは、クロックドライバ150とクロックレシーバ160の間のクロック信号線420が、チップ100E内部に設けられている。集積回路装置400Eのクロック信号線420は、複数のクロックバッファ423をつないだ構成を有しており、複数のクロックバッファ423は、コア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHに接続されている。パッケージ基板410Eにクロック信号線は設けられない。その他の構成は、上記図19(A)の集積回路装置400Dと同様である。
In the
図19(C)の集積回路装置400Fでは、チップ100F内部のクロックドライバ150及びクロックレシーバ160に、パッケージ基板410Fの電源線PKG_VDD(VBUF)及びGND線PKG_VSSによって直接的に給電が行われる。その他の構成は、上記図19(A)の集積回路装置400Dと同様である。
In the
このような集積回路装置400D、集積回路装置400E及び集積回路装置400Fを、上記図17と同様にクロック信号を分岐点からDQDQS−PHYとCACK−PHYに分配する伝送路に適用した場合の、DQDQS−PHYとCACK−PHYに入力されるクロック信号を比較する。クロック信号の比較は、シミュレーションにより行う。
When the
図20はDQDQS−PHYとCACK−PHYに入力されるクロック信号を比較した図であって、(A)は第1比較例に係る集積回路装置のクロック信号を比較した図、(B)は第2比較例に係る集積回路装置のクロック信号を比較した、(C)は第4実施例に係る集積回路装置のクロック信号を比較した図である。 20A and 20B are diagrams comparing clock signals input to DQDQS-PHY and CACK-PHY. FIG. 20A is a diagram comparing clock signals of the integrated circuit device according to the first comparative example, and FIG. (C) is a diagram comparing clock signals of the integrated circuit device according to the fourth embodiment.
集積回路装置400Dを用いた場合には、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160に、チップ100D内部のコア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHによって給電が行われる。そのため、回路モジュール340によって電源変動(ノイズ)が生じると、その電源変動の影響がコア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHを通じてクロックドライバ150及びクロックレシーバ160にも伝わる。その結果、図20(A)に示すように、DQDQS−PHYとCACK−PHYに入力されるクロック信号には、電源変動に伴うジッタが発生する。図20(A)には、106psのジッタJ1が発生している信号波形の例を示している。
When the
集積回路装置400Eを用いた場合には、クロック信号線420が、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160と共に、チップ100E内部に設けられる。そして、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160、並びにクロック信号線420の複数のクロックバッファ423に、チップ100E内部のコア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHによって給電が行われる。そのため、回路モジュール340によって電源変動(ノイズ)が生じると、その電源変動の影響がコア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHを通じてクロックドライバ150及びクロックレシーバ160、クロック信号線420にも伝わる。その結果、図20(B)に示すように、DQDQS−PHYとCACK−PHYに入力されるクロック信号には、電源変動に伴う、図20(A)の場合よりも大きなジッタが発生する。図20(B)には、225psのジッタJ2が発生している信号波形の例を示している。
When the
これに対し、集積回路装置400Fを用いた場合には、クロック信号線420がパッケージ基板410F側に設けられる。そして、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160には、パッケージ基板410Fの電源線PKG_VDD(VBUF)及びGND線PKG_VSSによって直接的に給電が行われる。そのため、回路モジュール340によって電源変動(ノイズ)が生じても、その電源変動の影響がクロックドライバ150及びクロックレシーバ160に伝わるのが抑えられる。その結果、図20(C)に示すように、DQDQS−PHYとCACK−PHYに入力されるクロック信号に発生するジッタを、図20(A),(B)の場合に比べて、小さく抑えることができる。図20(C)には、ジッタJ3が37psに抑えられている信号波形の例を示している。
On the other hand, when the
集積回路装置400Eを用いた図20(B)の例では、クロック信号が比較的大きなばらつきを示す。これは前述のように、集積回路装置400Eでは、複数のクロックバッファ423がチップ100E内部に配置されている。そのため、各クロックバッファ423の、コア電源を揺らしている回路モジュール340からの位置によって、受けるノイズ量が異なってくる。更に、各クロックバッファ423の、チップ100Eのコア電源端子及びGND端子(パッケージ基板410Eとの接続点)の位置からの距離によって静的なIRDが異なってくる。このようなことから、各クロックバッファ423のノイズ量、IRD量の累積が、ジッタ量の違いとして見えているものである。
In the example of FIG. 20B using the integrated
集積回路装置400Dや集積回路装置400Fのように、パッケージ基板410Dやパッケージ基板410Fにクロック信号線420を設けると、クロックバッファを減らせ、原理的にコア電源のノイズや静的なIRDの累積効果を少なくできる。集積回路装置400Dよりも集積回路装置400Fを用いた場合の方がジッタを小さくできるのは、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160に、パッケージ基板410Fの電源線PKG_VDD(VBUF)及びGND線PKG_VSSによって直接的に給電を行うためである。
When the
次に、差動クロック信号伝送を行う集積回路装置を、第5実施例として説明する。
図21は第5実施例に係る集積回路装置の説明図である。図21には、第5実施例に係る集積回路装置の回路図の一例を示している。
Next, an integrated circuit device that performs differential clock signal transmission will be described as a fifth embodiment.
FIG. 21 is an explanatory diagram of an integrated circuit device according to the fifth embodiment. FIG. 21 shows an example of a circuit diagram of an integrated circuit device according to the fifth embodiment.
集積回路装置400Gは、図21に示すように、クロックドライバ(TX)150とクロックレシーバ(RX)160に、パッケージ基板410Gの電源線PKG_VDD(VBUF)及びGND線PKG_VSSによって直接的に給電が行われる。クロックドライバ150から出力され、クロックレシーバ160に入力されるクロック信号(ポジ信号CLKP及びネガ信号CLKN)を伝送するクロック信号線420(差動ペア配線)は、パッケージ基板410Gに設けられる。クロック信号線420は、パッケージ基板410Gにおいて、電源線VBUFとGND線PKG_VSSに挟まれて設けられる。
As shown in FIG. 21, the
パッケージ基板410Gの電源線PKG_VDD及びGND線PKG_VSSは、チップ100G内部のIOセルVDD_IO及びIOセルVSS_IOを介して、コア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHに接続されている。そして、コア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHに接続されたクロックバッファ173から出力されるクロック信号が、クロックドライバ150に入力される(IN)。クロックドライバ150から出力されるクロック信号(OUTP,OUTN)は、パッケージ基板410Gのクロック信号線420を伝送され、クロックレシーバ160に入力される(INP,INN)。クロックレシーバ160から出力されるクロック信号は、DQDQS−PHYやCACK−PHY等に入力される(OUT)。
The power supply line PKG_VDD and the GND line PKG_VSS of the
図22は第5実施例に係る集積回路装置の構成例を示す図である。図22には、第5実施例に係る集積回路装置の要部断面の一例を模式的に示しており、図21のような回路を適用した集積回路装置の構成例をより具体的に示している。 FIG. 22 is a diagram showing a configuration example of an integrated circuit device according to the fifth embodiment. FIG. 22 schematically illustrates an example of a cross-section of an essential part of the integrated circuit device according to the fifth embodiment, and more specifically illustrates a configuration example of the integrated circuit device to which the circuit illustrated in FIG. 21 is applied. Yes.
集積回路装置400Gは、チップ100Gと、チップ100Gが実装されたパッケージ基板410Gを有する。チップ100Gは、エリアバンプ等のバンプ470を用いてパッケージ基板410Gに電気的に接続される。パッケージ基板410Gには、クロック信号線420(CLKP/CLKN)のほか、電源線PKG_VDD及びGND線PKG_VSSが設けられ、それらから引き出した端子に、集積回路装置400Gの外部接続に用いるバンプ480が接続される。
The
チップ100G内部には、パッケージ基板410Gの電源線PKG_VDD及びGND線PKG_VSSによって直接的に給電される、クロックドライバ150(TX1,TX2)及びクロックレシーバ160(RX1,RX2)が設けられる。クロック信号CLKは、入力後、TX1側とTX2側のクロックドライバ150に分岐され、それぞれクロック信号線420を経由してRX1側とRX2側のクロックレシーバ160に伝送される。例えば、RX1側のクロックレシーバ160から出力されるクロック信号は、DQDQS−PHY131aに入力され、RX2側のクロックレシーバ160から出力されるクロック信号は、CACK−PHY132aに入力される。
Inside the
また、チップ100G内部には、それぞれ所定の周波数で動作する、例えば3つの回路モジュール310、回路モジュール320、回路モジュール330が設けられる。これらの回路モジュール310、回路モジュール320、回路モジュール330、及び上記のDQDQS−PHY131a及びCACK−PHY132aは、チップ100G内部のコア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHによって給電される。コア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHには、デカップリングコンデンサ350が接続される。尚、図22において断続的に図示したコア電源網VDD_MESHは、電気的につながった構成を有しており、断続的に図示したGND網VSS_MESHは、電気的につながった構成を有している。
Further, for example, three
集積回路装置400Gでは、チップ100G内部のコア電源網VDD_MESH及びGND網VSS_MESHの変動は、デカップリングコンデンサ350によって高周波ノイズがカットされる。そのため、パッケージ基板410Gの電源線PKG_VDD及びGND線PKG_VSSが、チップ100G内部のコア電源及びGNDの変動の影響を受け難くなる。その結果、クロックドライバ150(TX1,TX2)及びクロックレシーバ160(RX1,RX2)を、チップ100G内部のコア電源及びGNDの変動の影響を回避して安定的に動作させることができる。
In the
図23は第5実施例に係るシミュレーション結果の一例であって、(A)は差動クロック信号とコア電源及びGNDの関係を示す図、(B)はDQDQS−PHYとCACK−PHYに入力されるクロック信号を比較した図である。 FIG. 23 is an example of a simulation result according to the fifth embodiment, where (A) shows the relationship between the differential clock signal, the core power supply, and GND, and (B) is input to DQDQS-PHY and CACK-PHY. It is the figure which compared the clock signal which is.
図23(A)には、クロックドライバ150から出力されるクロック信号C(ポジ信号及びネガ信号)、クロックレシーバ160から出力されるクロック信号D、チップ100G内部のコア電源及びGNDのシミュレーション結果の一例を示している。図23(A)のように、チップ100G内部のコア電源及びGNDは、例えば回路モジュール310の動作により、10ns付近から変動し始める。このように、チップ100G内部のコア電源の低下、GNDの上昇が発生した場合でも、クロックドライバ150から出力されるクロック信号C、クロックレシーバ160から出力されるクロック信号Dの変動は抑えられる。
FIG. 23A shows an example of the simulation result of the clock signal C (positive signal and negative signal) output from the
図23(B)には、DQDQS−PHY131aとCACK−PHY132aに入力されるクロック信号E(クロックレシーバ160の出力)のシミュレーション結果の一例を示している。図23(B)より、DQDQS−PHY131aとCACK−PHY132aに入力されるクロック信号に発生するジッタは、小さく抑えられている。図23(B)の例では、ジッタの変動が、上記第4実施例の図20(C)で述べた例のジッタの変動に比べ、わずかに大きくなっている。一方、この第5実施例に係る集積回路装置400Gは、差動クロック信号伝送であり、コモンモードノイズに比較的強く、小信号振幅であるため反射の影響を受け難いことが、図23(B)の信号波形から読み取れる。
FIG. 23B illustrates an example of a simulation result of the clock signal E (output of the clock receiver 160) input to the DQDQS-
この第5実施例のような差動のクロック信号伝送を用いるか、上記第4実施例のようなシングルエンドのクロック信号伝送を用いるかは、例えば、データレートの観点から決めることができる。つまり、第4実施例のようなシングルエンドのクロック信号伝送の場合、フルスイング動作の信号波形において、反射の影響によるオーバーシュート、アンダーシュートが発生する。このようなオーバーシュート、アンダーシュートが、サイクルタイムに対して変動が無視できないほど高周波(1.3Gbps以上)になった場合に、差動のクロック信号伝送を採用するとよい。1.3Gbpsより低いデータレートにおいては、シングルエンドのクロック信号伝送を採用することで十分である。 Whether to use differential clock signal transmission as in the fifth embodiment or single-ended clock signal transmission as in the fourth embodiment can be determined from the viewpoint of the data rate, for example. That is, in the case of single-ended clock signal transmission as in the fourth embodiment, overshoot and undershoot due to the influence of reflection occur in the signal waveform of the full swing operation. When such overshoots and undershoots are so high that fluctuations cannot be ignored with respect to the cycle time (1.3 Gbps or more), differential clock signal transmission may be employed. For data rates below 1.3 Gbps, it is sufficient to employ single-ended clock signal transmission.
次に、第6実施例について説明する。
図24は第6実施例に係る集積回路装置の説明図である。
図24に示す集積回路装置400Hは、上記第1〜第5実施例と同様に、チップ100H内部に設けられたクロックドライバ150、クロックレシーバ160を有している。このほか、チップ100Hは、パワードメインPD1及びパワードメインPD2、これらの電源側にパワースイッチPSW1及びパワースイッチPSW2を介して接続されたIOセルVDD_IO並びに、GND側に接続されたIOセルVSS_IOを含む。チップ100Hには、再配線技術を利用して、クロック信号線420並びに、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160に直接的に給電を行う電源線VBUF及びGND線VSSを設けた層(インタポーザ)490が形成されている。
Next, a sixth embodiment will be described.
FIG. 24 is an explanatory diagram of an integrated circuit device according to the sixth embodiment.
An
このようなインタポーザ490が形成されたチップ100Hが、その内部のコア電源網及びGND網に給電を行う電源線PKG_VDD及びGND線PKG_VSSを設けたパッケージ基板410Hに、ワイヤ500で電気的に接続され、実装されている。ワイヤ500を接続するためのチップ100Hのパッドは、インタポーザ490に、クロック信号線420、電源線VBUF及びGND線VSSと共に形成することができる。インタポーザ490の電源線VBUF及びGND線VSSは、パッケージ基板410Hの電源線PKG_VDD及びGND線PKG_VSSに、ワイヤ510で電気的に接続されている。
The
インタポーザ490のクロック信号線420、電源線VBUF及びGND線VSSは、チップ100H上に比較的厚いCu等の配線材料を形成し、それをパターニングすることで形成することができる。図24には、シングルエンドのクロック信号伝送を行うクロック信号線420を例示している。電源線VBUF及びGND線VSSは、クロック信号線420を挟むパターン部521a及びパターン部522aと、これらに接続されてパッケージ基板とワイヤ510で接続されるパターン部521b及びパターン部522bを有する形状とされている。チップ100H上のクロック信号線420、電源線VBUF及びGND線VSSは、クロックドライバ150及びクロックレシーバ160の各端子に接続されるように形成される。
The
この集積回路装置400Hのように、クロック信号線、電源線VBUF及びGND線VSSは、パッケージ基板のほか、チップ上に再配線技術を利用して形成するインタポーザ内に設けることもできる。これにより、ワイヤボンディング方式でパッケージ基板に実装するチップに対しても、その内部のコア電源及びGNDの変動の影響を抑えたクロック信号伝送が実現可能になる。
Like the
以上説明したように、集積回路装置において、パッケージ基板に実装されるチップの内部にクロックドライバ及びクロックレシーバを設け、それらの間でクロック信号を伝送するクロック信号線を、チップを実装するパッケージ基板やチップ上に形成するインタポーザに設ける。そして、チップ内部のクロックドライバ及びクロックレシーバには、パッケージ基板の電源線及びGND線によって直接的に給電を行う。このような構成を有する集積回路装置によれば、チップ内部のコア電源及びGNDの変動の影響を回避して、インタフェース回路へ伝送するクロック信号のスキュー、ジッタを抑えることが可能になる。 As described above, in an integrated circuit device, a clock driver and a clock receiver are provided inside a chip mounted on a package substrate, and a clock signal line for transmitting a clock signal between them is connected to the package substrate on which the chip is mounted. Provided in the interposer formed on the chip. Then, power is directly supplied to the clock driver and the clock receiver inside the chip through the power supply line and the GND line of the package substrate. According to the integrated circuit device having such a configuration, it is possible to avoid the influence of fluctuations in the core power supply and GND in the chip, and to suppress the skew and jitter of the clock signal transmitted to the interface circuit.
例えば、LP−DDR2メモリのデータレートは、近年、800Mbps、1066MBpsと高まる傾向にある。スマートフォンやタブレットPC(Personal Computer)に代表される端末は、メモリの転送レートが高速であること、低電力であることが要望されている。PoPタイプで実装されるメモリデバイスの場合、そのボールアサインの仕様から、SoCのようなチップの外周部にメモリインタフェース回路が配置される。これまでは、このようなインタフェース回路の配置のために、クロックツリーをチップ内部の高速な回路モジュールやCPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)の傍を引き回して配置するという設計手法が採用されてきた。その結果、チップ外周部のインタフェース回路へ伝送するクロック信号のスキュー、ジッタを抑えることが難しかった。 For example, the data rate of LP-DDR2 memory tends to increase to 800 Mbps and 1066 MBps in recent years. A terminal represented by a smartphone or a tablet PC (Personal Computer) is required to have a high memory transfer rate and low power. In the case of a memory device mounted in the PoP type, a memory interface circuit is arranged on the outer periphery of a chip such as a SoC because of its ball assignment specification. Until now, in order to arrange such interface circuits, there has been a design method in which a clock tree is arranged around a high-speed circuit module, a CPU (Central Processing Unit), or a GPU (Graphics Processing Unit) inside the chip. Has been adopted. As a result, it has been difficult to suppress the skew and jitter of the clock signal transmitted to the interface circuit on the outer periphery of the chip.
図25はLP−DDR2メモリのデータレートと要求されるジッタの関係の一例を示す図である。また、図26はジッタの広がりについての説明図である。
図25に示すように、LP−DDR2メモリとデータをやり取りするためのメモリインタフェース回路を有するチップの、そのメモリインタフェース回路に伝送されるクロック信号のジッタの要求値は、データレートの増加に伴って小さくなる傾向がある。特に、データレートが800Mbpsを超える辺りからは、非常に厳しいジッタが要求されている。
FIG. 25 is a diagram showing an example of the relationship between the data rate of the LP-DDR2 memory and the required jitter. FIG. 26 is an explanatory diagram of the spread of jitter.
As shown in FIG. 25, the required value of the jitter of the clock signal transmitted to the memory interface circuit of the chip having the memory interface circuit for exchanging data with the LP-DDR2 memory increases with an increase in the data rate. There is a tendency to become smaller. In particular, very severe jitter is required from around the data rate of 800 Mbps.
これに対し、上記の例のように、チップ内部にクロックバッファ及びクロックレシーバを設け、そのチップが実装されるパッケージ基板にクロック信号線を設け、更に、クロックドライバ及びクロックレシーバへの給電をパッケージ基板から直接的に行う。このような回路(Y)を採用することにより、チップ内部でクロック信号線を引き回す回路(X)に比べて、チップ内部のコア電源及びGNDの変動の影響を回避し、ジッタを抑えたクロック信号伝送を安定的に実現することが可能になる。例えば、図26に示すように、チップ内部でクロック信号線を引き回す回路Xの場合に120ps程度のジッタの広がりが認められるところ、上記回路Yを採用することにより、ジッタの広がりを20ps程度に抑えることが可能になる。上記構成によれば、チップ内部のコア電源及びGNDの変動に強い集積回路装置の設計が可能になる。 On the other hand, as in the above example, a clock buffer and a clock receiver are provided inside the chip, a clock signal line is provided on a package substrate on which the chip is mounted, and further, power is supplied to the clock driver and the clock receiver. Directly from. By adopting such a circuit (Y), it is possible to avoid the influence of fluctuations in the core power supply and GND inside the chip and to suppress the jitter, compared to the circuit (X) that routes the clock signal line inside the chip. Transmission can be realized stably. For example, as shown in FIG. 26, in the case of the circuit X for routing the clock signal line inside the chip, a spread of jitter of about 120 ps is recognized. By adopting the circuit Y, the spread of jitter is suppressed to about 20 ps. It becomes possible. According to the above configuration, it is possible to design an integrated circuit device that is resistant to fluctuations in the core power supply and GND inside the chip.
以上説明した実施の形態に関し、更に以下の付記を開示する。
(付記1) 半導体素子と、
前記半導体素子に電気的に接続された回路基板と
を含み、
前記半導体素子は、
第1クロック信号を出力する第1回路部と、
前記第1回路部から出力された前記第1クロック信号を入力する第2回路部と
を有し、
前記回路基板は、
前記第1回路部から出力された前記第1クロック信号を前記第2回路部に伝送するクロック信号線と、
前記第1回路部及び前記第2回路部に給電する第1電源線及び第1グランド線と
を有し、
前記第1回路部及び前記第2回路部が、前記第1電源線及び前記第1グランド線によって直接的に給電される
ことを特徴とする集積回路装置。
Regarding the embodiment described above, the following additional notes are further disclosed.
(Supplementary note 1) a semiconductor element;
A circuit board electrically connected to the semiconductor element,
The semiconductor element is
A first circuit unit for outputting a first clock signal;
A second circuit unit for inputting the first clock signal output from the first circuit unit;
The circuit board is
A clock signal line for transmitting the first clock signal output from the first circuit unit to the second circuit unit;
A first power supply line and a first ground line for supplying power to the first circuit unit and the second circuit unit;
The integrated circuit device, wherein the first circuit unit and the second circuit unit are directly supplied with power by the first power supply line and the first ground line.
(付記2) 前記第1回路部は、第1電源端子、第1グランド端子、及び前記第1クロック信号の出力端子を有し、
前記第2回路部は、第2電源端子、第2グランド端子、及び前記第1クロック信号の入力端子を有し、
前記第1電源端子及び前記第2電源端子に前記第1電源線が直接的に接続され、
前記第1グランド端子及び前記第2グランド端子に前記第1グランド線が直接的に接続され、
前記出力端子及び前記入力端子に前記クロック信号線が直接的に接続される
ことを特徴とする付記1に記載の集積回路装置。
(Supplementary Note 2) The first circuit unit includes a first power supply terminal, a first ground terminal, and an output terminal for the first clock signal.
The second circuit unit includes a second power supply terminal, a second ground terminal, and an input terminal for the first clock signal.
The first power supply line is directly connected to the first power supply terminal and the second power supply terminal,
The first ground line is directly connected to the first ground terminal and the second ground terminal;
The integrated circuit device according to
(付記3) 前記半導体素子は、第2電源線及び第2グランド線を有し、
前記第1回路部及び前記第2回路部が、前記第2電源線及び前記第2グランド線を介さずに、前記第1電源線及び前記第1グランド線によって給電される
ことを特徴とする付記1又は2に記載の集積回路装置。
(Supplementary Note 3) The semiconductor element includes a second power supply line and a second ground line.
The first circuit unit and the second circuit unit are fed by the first power line and the first ground line without passing through the second power line and the second ground line. The integrated circuit device according to 1 or 2.
(付記4) 前記第1電源線と前記第2電源線とは、電気的に接続され、同電位とされることを特徴とする付記3に記載の集積回路装置。
(付記5) 前記第1電源線は、
第1配線部と、
前記第1配線部に並設される第2配線部と、
前記第1配線部及び前記第2配線部に接続され、前記第1配線部及び前記第2配線部よりも細い第3配線部と
を含むことを特徴とする付記4に記載の集積回路装置。
(Supplementary note 4) The integrated circuit device according to
(Supplementary Note 5) The first power line is
A first wiring portion;
A second wiring portion arranged in parallel with the first wiring portion;
The integrated circuit device according to
(付記6) 前記半導体素子は、前記第2電源線及び前記第2グランド線によって給電される第3回路部を有し、
前記第3回路部は、前記第2回路部から出力される第2クロック信号を入力することを特徴とする付記3乃至5のいずれかに記載の集積回路装置。
(Additional remark 6) The said semiconductor element has a 3rd circuit part electrically fed by the said 2nd power supply line and the said 2nd ground line,
6. The integrated circuit device according to any one of
(付記7) 前記半導体素子は、前記第2電源線及び前記第2グランド線によって給電される第3回路部を有し、
前記第3回路部は、前記第2回路部から出力される第2クロック信号とは異なる第3クロック信号を入力することを特徴とする付記3乃至5のいずれかに記載の集積回路装置。
(Additional remark 7) The said semiconductor element has a 3rd circuit part electrically fed by the said 2nd power supply line and the said 2nd ground line,
6. The integrated circuit device according to any one of
(付記8) 前記半導体素子は、前記第2電源線と前記第2グランド線に接続された容量素子を有することを特徴とする付記3乃至7のいずれかに記載の集積回路装置。
(付記9) 前記クロック信号線は、前記第1電源線と前記第1グランド線の間に挟まれて配置されることを特徴とする付記1乃至8のいずれかに記載の集積回路装置。
(Supplementary note 8) The integrated circuit device according to any one of
(Supplementary note 9) The integrated circuit device according to any one of
(付記10) 前記第1クロック信号は、互いに位相が反転したポジティブクロック信号とネガティブクロック信号とを含み、
前記クロック信号線は、前記ポジティブクロック信号を伝送するポジティブクロック信号線と、前記ネガティブクロック信号を伝送するネガティブクロック信号線とを含む
ことを特徴とする付記9に記載の集積回路装置。
(Supplementary Note 10) The first clock signal includes a positive clock signal and a negative clock signal whose phases are inverted from each other,
The integrated circuit device according to appendix 9, wherein the clock signal line includes a positive clock signal line for transmitting the positive clock signal and a negative clock signal line for transmitting the negative clock signal.
(付記11) 前記第1電源線及び前記第1グランド線にそれぞれ電気的に接続された第3電源線及び第3グランド線を有する基板を含むことを特徴とする付記1に記載の集積回路装置。
(Supplementary note 11) The integrated circuit device according to
(付記12) 前記第1電源線と前記第3電源線、及び前記第1グランド線と前記第3グランド線は、それぞれワイヤボンディングによって電気的に接続されていることを特徴とする付記11に記載の集積回路装置。 (Supplementary note 12) The supplementary note 11, wherein the first power supply line and the third power supply line, and the first ground line and the third ground line are electrically connected by wire bonding, respectively. Integrated circuit device.
(付記13) クロック信号を出力する第1回路部と、前記第1回路部から出力された前記クロック信号を入力する第2回路部とを含み、前記第1回路部が、第1電源端子、第1グランド端子、及び前記クロック信号の出力端子を有し、前記第2回路部が、第2電源端子、第2グランド端子、及び前記クロック信号の入力端子を有する半導体素子の試験方法であって、
前記第1電源端子及び前記第2電源端子に電源電位の第1プローブを接続し、
前記第1グランド端子及び前記第2グランド端子にグランド電位の第2プローブを接続し、
前記出力端子と前記入力端子を導線で接続し、
前記半導体素子の出力信号を測定する
ことを特徴とする試験方法。
(Additional remark 13) The 1st circuit part which outputs a clock signal, The 2nd circuit part which inputs the said clock signal output from the said 1st circuit part, The said 1st circuit part is a 1st power supply terminal, A test method for a semiconductor device, comprising: a first ground terminal; and an output terminal for the clock signal, wherein the second circuit unit includes a second power supply terminal, a second ground terminal, and an input terminal for the clock signal. ,
Connecting a first probe of a power supply potential to the first power supply terminal and the second power supply terminal;
A second probe having a ground potential is connected to the first ground terminal and the second ground terminal;
Connecting the output terminal and the input terminal with a conductor;
A test method, comprising: measuring an output signal of the semiconductor element.
(付記14) 前記導線に同軸ケーブルを用いることを特徴とする付記13に記載の試験方法。 (Additional remark 14) The test method of Additional remark 13 characterized by using a coaxial cable for the said conducting wire.
100,100A,100B,100C,100D,100E,100F,100G,100H チップ
101,102,151,152,153,154,155,161,162,163,164,165 端子
110 PLL
120 クロックユニット
130 物理層
131a,131b DQDQS−PHY
132a,132b CACK−PHY
140,171,172,173,423 クロックバッファ
141,142 インバータ
143 RC伝送路
150 クロックドライバ
160 クロックレシーバ
180,190 電源供給線
182 二次側電源供給線
201 コア電源線
202 GND線
310,320,330,340 回路モジュール
350 デカップリングコンデンサ
400A,400B,400C,400D,400E,400F,400G,400H 集積回路装置
410A,410B,410C,410D,410E,410F,410G,410H パッケージ基板
420 クロック信号線
421 ポジ信号線
422 ネガ信号線
430 電源線
431,432,433 配線部
440 GND線
450,460 導電部
470,480 バンプ
490 インタポーザ
500,510 ワイヤ
521a,522a,521b,522b パターン部
600 試験装置
610 2芯同軸ケーブル
611,620,630,640,650 プローブ
100, 100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F, 100G,
120
132a, 132b CACK-PHY
140, 171, 172, 173, 423
Claims (8)
前記半導体素子に電気的に接続された回路基板と
を含み、
前記半導体素子は、
クロック信号を出力する第1回路部と、
前記第1回路部から出力された前記クロック信号を入力する第2回路部と
を有し、
前記回路基板は、
前記第1回路部から出力された前記クロック信号を前記第2回路部に伝送するクロック信号線と、
前記第1回路部及び前記第2回路部に給電する第1電源線及び第1グランド線と
を有し、
前記第1回路部及び前記第2回路部が、前記第1電源線及び前記第1グランド線によって直接的に給電され、
前記第1回路部から前記第2回路部への前記クロック信号の伝送は、前記回路基板の前記クロック信号線を介してのみ、行われる
ことを特徴とする集積回路装置。 A semiconductor element;
A circuit board electrically connected to the semiconductor element,
The semiconductor element is
A first circuit unit for outputting a clock signal;
A second circuit unit for inputting the clock signal output from the first circuit unit;
The circuit board is
A clock signal line for transmitting the clock signal output from the first circuit unit to the second circuit unit;
A first power supply line and a first ground line for supplying power to the first circuit unit and the second circuit unit;
The first circuit unit and the second circuit unit are directly fed by the first power line and the first ground line ,
The integrated circuit device , wherein transmission of the clock signal from the first circuit unit to the second circuit unit is performed only through the clock signal line of the circuit board .
前記第2回路部は、第2電源端子、第2グランド端子、及び前記クロック信号の入力端子を有し、
前記第1電源端子及び前記第2電源端子に前記第1電源線が直接的に接続され、
前記第1グランド端子及び前記第2グランド端子に前記第1グランド線が直接的に接続され、
前記出力端子及び前記入力端子に前記クロック信号線が直接的に接続される
ことを特徴とする請求項1に記載の集積回路装置。 The first circuit unit includes a first power supply terminal, a first ground terminal, and an output terminal for the clock signal,
The second circuit unit includes a second power supply terminal, a second ground terminal, and an input terminal for the clock signal,
The first power supply line is directly connected to the first power supply terminal and the second power supply terminal,
The first ground line is directly connected to the first ground terminal and the second ground terminal;
The integrated circuit device according to claim 1, wherein the clock signal line is directly connected to the output terminal and the input terminal.
前記第1回路部及び前記第2回路部が、前記第2電源線及び前記第2グランド線を介さずに、前記第1電源線及び前記第1グランド線によって給電される
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の集積回路装置。 The semiconductor element has a second power supply line and a second ground line,
The first circuit unit and the second circuit unit are supplied with power by the first power line and the first ground line without passing through the second power line and the second ground line. Item 3. The integrated circuit device according to Item 1 or 2.
第1配線部と、
前記第1配線部に並設される第2配線部と、
前記第1配線部及び前記第2配線部に接続され、前記第1配線部及び前記第2配線部よりも細い第3配線部と
を含むことを特徴とする請求項4に記載の集積回路装置。 The first power line is
A first wiring portion;
A second wiring portion arranged in parallel with the first wiring portion;
5. The integrated circuit device according to claim 4, further comprising: a third wiring portion that is connected to the first wiring portion and the second wiring portion and is narrower than the first wiring portion and the second wiring portion. .
前記クロック信号線は、前記ポジティブクロック信号を伝送するポジティブクロック信号線と、前記ネガティブクロック信号を伝送するネガティブクロック信号線とを含む
ことを特徴とする請求項6に記載の集積回路装置。 The clock signal includes a positive clock signal and a negative clock signal whose phases are inverted from each other,
The integrated circuit device according to claim 6, wherein the clock signal line includes a positive clock signal line that transmits the positive clock signal and a negative clock signal line that transmits the negative clock signal.
前記第1電源端子及び前記第2電源端子に電源電位の第1プローブを接続し、
前記第1グランド端子及び前記第2グランド端子にグランド電位の第2プローブを接続し、
前記出力端子と前記入力端子を前記導線で接続し、
前記半導体素子の出力信号を測定する
ことを特徴とする試験方法。
A first circuit unit that outputs a clock signal; and a second circuit unit that receives the clock signal output from the first circuit unit. The first circuit unit includes a first power supply terminal and a first ground terminal. , and an output terminal of the clock signal, the second circuit unit, the second power supply terminal, a second ground terminal, and have a input terminal of said clock signal, said from said output terminal to said input terminal Transmission of a clock signal is a test method for a semiconductor device , which is performed only through a conductor connected so as to connect between the output terminal and the input terminal only during a test,
Connecting a first probe of a power supply potential to the first power supply terminal and the second power supply terminal;
A second probe having a ground potential is connected to the first ground terminal and the second ground terminal;
It said input terminal and said output terminal are connected by the conductive wire,
A test method, comprising: measuring an output signal of the semiconductor element.
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