JP5980661B2 - Semiconductor integrated circuit identification method and identification apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、半導体集積回路の識別方法に関する。   The present invention relates to a method for identifying a semiconductor integrated circuit.

半導体集積回路の製造工程において不良品の発生率を下げること、すなわち、歩留まりを向上させることは、半導体の製造業者にとって重要な課題の一つである。歩留まりを向上させるためには、個々の半導体集積回路の製造時期、製造ライン、製造ロットなどの製造履歴や、検査種別、検査結果などの検査履歴等の履歴情報に基づいて不良原因の解明を行うことが望ましい。   Reducing the incidence of defective products in the manufacturing process of semiconductor integrated circuits, that is, improving the yield is one of the important issues for semiconductor manufacturers. In order to improve the yield, the cause of the defect is clarified based on the history information such as the manufacturing history of each semiconductor integrated circuit, the manufacturing history such as the manufacturing line and the manufacturing lot, and the inspection history such as the inspection type and the inspection result. It is desirable.

これらの履歴情報の特定を行うための手段の一つとして、半導体集積回路の各々に、当該半導体集回路を他の半導体集積回路と識別するため識別子を付与し、当該半導体集積回路の履歴情報を当該識別子と関連付けてデータベース上で管理することが挙げられる。   As one of means for specifying such history information, each semiconductor integrated circuit is given an identifier for distinguishing the semiconductor integrated circuit from other semiconductor integrated circuits, and the history information of the semiconductor integrated circuit is obtained. It is possible to manage on the database in association with the identifier.

個々の半導体集積回路に識別子を付与することは、歩留まりの向上に役立つのみならず、製造後に不良が発見された場合等においても、不良箇所の迅速な特定および解析に役立つというメリットがある。   Assigning an identifier to each semiconductor integrated circuit has the advantage of not only improving the yield, but also helping to quickly identify and analyze a defective part even when a defect is discovered after manufacturing.

従来、半導体集積回路への識別子の付与方法として、半導体集積回路内に、不揮発性メモリを設け、当該不揮発性メモリに識別子を書き込む方法が知られていた。しかしながら、一般に半導体集積回路内部へ不揮発性メモリを作りこむ工程は複雑であるため、工程数や製造コストが増加してしまうという問題が生じる。   Conventionally, as a method for assigning an identifier to a semiconductor integrated circuit, a method of providing a nonvolatile memory in the semiconductor integrated circuit and writing the identifier in the nonvolatile memory has been known. However, since the process of creating a nonvolatile memory inside a semiconductor integrated circuit is generally complicated, there arises a problem that the number of processes and manufacturing cost increase.

また、別の方法として、レーザーで半導体集積回路へ直接マーキングする方法、レーザーを用いたヒューズカットによる方法などが知られていたが、それぞれ、マーキングやヒューズカットを行うための工程が別途必要になるため、上記の方法と同様に工程数や製造コストが増加するという問題を生じる。   As another method, a method of directly marking a semiconductor integrated circuit with a laser, a method of cutting a fuse using a laser, and the like have been known. However, a separate process for marking and cutting the fuse is required. Therefore, there arises a problem that the number of steps and the manufacturing cost increase as in the above method.

特許文献1には、上記の問題を改善するために、複数の半導体集積回路の各々に付与する識別子を、同一条件下で該半導体集積回路から出力されるアナログ信号に基づいて生成する構成が開示されている。   Patent Document 1 discloses a configuration for generating an identifier to be assigned to each of a plurality of semiconductor integrated circuits based on an analog signal output from the semiconductor integrated circuit under the same conditions in order to improve the above problem. Has been.

特開2011−9691号公報(2011年1月13日公開)JP 2011-9691 A (published January 13, 2011)

半導体集積回路の製造工程に関する近年の進展に伴い、半導体集積回路の製造工程における不良品の発生原因をより効率的に特定したいという要望が生じている。   With recent progress in the manufacturing process of semiconductor integrated circuits, there is a demand for more efficiently specifying the cause of defective products in the manufacturing process of semiconductor integrated circuits.

本発明は、上記の問題に鑑みて、発明者の知見に基づいてなされたものであり、その主たる目的は、半導体集積回路の製造工程における不良品の発生原因のより効率的な特定に資する識別方法および識別装置を実現することにある。   The present invention has been made on the basis of the inventor's knowledge in view of the above problems, and its main purpose is identification that contributes to more efficient identification of the cause of defective products in the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit. Implementing a method and identification device.

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る識別方法は、半導体集積回路の識
別方法であって、ウエハ状態における同一の構成を有する複数の半導体集積回路を互いに識別するための第1の識別子を、各半導体集積回路の予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第1の生成工程と、ウエハ状態における各半導体集積回路に対して生成された第1の識別子を、該半導体集積回路のウエハ上での位置を示す位置情報に関連付けて管理する管理工程と、上記複数の半導体集積回路が上記ウエハから切り出された状態である個片状態におけるある半導体集積回路を、個片状態における他の半導体集積回路から識別するための第2の識別子を、当該ある半導体集積回路の上記予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第2の生成工程と、上記ある半導体集積回路に対して生成された上記第2の識別子を、上記第1の識別子の何れかと同定し、同定した第1の識別子に関連付けられた上記位置情報を特定する特定工程と、を含んでいることを特徴としている。
In order to solve the above-described problem, an identification method according to an aspect of the present invention is a semiconductor integrated circuit identification method for identifying a plurality of semiconductor integrated circuits having the same configuration in a wafer state from each other. 1 is generated for each semiconductor integrated circuit in a wafer state, and a first generation step of generating one identifier based on each value of input / output signals for a plurality of predetermined internal states of each semiconductor integrated circuit A management step of managing the first identifier in association with position information indicating the position of the semiconductor integrated circuit on the wafer; and a single piece state in which the plurality of semiconductor integrated circuits are cut out from the wafer. A second identifier for identifying the semiconductor integrated circuit from other semiconductor integrated circuits in the individual piece state is the plurality of predetermined internal states of the certain semiconductor integrated circuit. A second generation step that is generated based on each value of the input / output signal and the second identifier generated for the semiconductor integrated circuit is identified and identified as one of the first identifiers And a specifying step of specifying the position information associated with the first identifier.

また、本発明の一態様に係る識別装置は、半導体集積回路を識別する識別装置であって、ウエハ状態における同一の構成を有する複数の半導体集積回路を互いに識別するための第1の識別子を、各半導体集積回路の予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第1の生成手段と、ウエハ状態における各半導体集積回路に対して生成された第1の識別子を、該半導体集積回路のウエハ上での位置を示す位置情報に関連付けて管理する管理手段と、上記複数の半導体集積回路が上記ウエハから切り出された状態である個片状態におけるある半導体集積回路を、個片状態における他の半導体集積回路から識別するための第2の識別子を、当該ある半導体集積回路の上記予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第2の生成手段と、上記ある半導体集積回路に対して生成された上記第2の識別子を、上記第1の識別子の何れかと同定し、同定した第1の識別子に関連付けられた上記位置情報を特定する特定手段と、を備えていることを特徴としている。 An identification apparatus according to an aspect of the present invention is an identification apparatus for identifying a semiconductor integrated circuit, and includes a first identifier for identifying a plurality of semiconductor integrated circuits having the same configuration in a wafer state, First generation means for generating based on each value of input / output signals for a plurality of predetermined internal states of each semiconductor integrated circuit, and a first identifier generated for each semiconductor integrated circuit in the wafer state Management means for managing the semiconductor integrated circuit in association with position information indicating the position of the semiconductor integrated circuit on the wafer ; and a semiconductor integrated circuit in a single piece state in which the plurality of semiconductor integrated circuits are cut out from the wafer . Input / output with respect to the plurality of predetermined internal states of the certain semiconductor integrated circuit as a second identifier for identifying from another semiconductor integrated circuit in the individual state Second generation means for generating based on each value of the signal, and the second identifier generated for the semiconductor integrated circuit identified as one of the first identifiers, And a specifying unit that specifies the position information associated with the identifier.

上記の識別方法および識別装置によれば、半導体集積回路の製造工程における不良品の発生原因のより効率的な特定に資する。   The above identification method and identification apparatus contribute to more efficient identification of the cause of defective products in the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit.

本発明の実施形態を示すものであって、識別装置の構成を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating a configuration of an identification device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態を示すものであって、電源電流のバラツキを用いた識別子生成方法に関する説明図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 illustrates an embodiment of the present invention and is an explanatory diagram relating to an identifier generation method using variations in power supply current. 本発明の実施形態において識別子を付与すべき半導体集積回路を示すものであって、液晶ドライバの構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a configuration of a liquid crystal driver, showing a semiconductor integrated circuit to which an identifier is to be assigned in an embodiment of the present invention. FIG. 本発明の実施形態において識別子を付与すべき半導体集積回路を示すものであって、液晶ドライバにおけるガンマ抵抗を有する基準電源回路の回路図である。1 is a circuit diagram of a reference power supply circuit having a gamma resistance in a liquid crystal driver, showing a semiconductor integrated circuit to which an identifier is to be assigned in an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態を説明するものであって、液晶ドライバからの出力電圧の値を示すグラフである。4 is a graph for explaining an embodiment of the present invention and showing a value of an output voltage from a liquid crystal driver. 本発明の実施形態を説明するものであって、液晶ドライバから出力される階調出力電圧の値を示すグラフである。4 is a graph for explaining an embodiment of the present invention and showing a value of a gradation output voltage output from a liquid crystal driver. 本発明の実施形態を説明するものであって、同一の液晶ドライバの状態毎の電源電流値をグラフである。FIG. 4 is a graph for explaining the embodiment of the present invention and shows a power supply current value for each state of the same liquid crystal driver. 本発明の実施形態において識別子を付与すべき半導体集積回路を示すものであって、ドット反転方式の液晶ドライバにおけるガンマ抵抗を有する基準電源回路の回路図である。1 is a circuit diagram of a reference power supply circuit having a gamma resistance in a dot inversion type liquid crystal driver, showing a semiconductor integrated circuit to which an identifier is to be assigned in an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態を説明するものであって、電源電流のバラツキを用いた識別子を生成するための電源電流値を測定する際の液晶ドライバの状態を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an embodiment of the present invention, and is a diagram illustrating a state of a liquid crystal driver when measuring a power supply current value for generating an identifier using a variation in power supply current. 本発明の実施形態を示すものであって、識別装置とデータベースとを含む識別システムの構成を、データベースに格納される各情報と共に示すブロック図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1, showing an embodiment of the present invention, is a block diagram showing a configuration of an identification system including an identification device and a database, together with information stored in the database. 本発明の実施形態を示すものであって、図10に示した識別システムによるトレース結果を用いて、ウエハマップを作成する処理を示す概念図である。FIG. 11 illustrates an embodiment of the present invention, and is a conceptual diagram illustrating processing for creating a wafer map using a trace result by the identification system illustrated in FIG. 10.

(識別子生成方法)
本発明の実施形態に係る半導体集積回路の識別方法について、図面を参照して説明すれば以下のとおりである。
(Identifier generation method)
A method for identifying a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

まず、本実施形態に係る識別子を生成する際に、識別子を付与する対象となる半導体集積回路の例として、アナログ出力機能を有する液晶ドライバのブロック図を図3に示す。図3に示した液晶ドライバは、液晶ディスプレイの液晶パネル(不図示)を駆動するための駆動信号(アナログ信号)を出力するための半導体集積回路である。   First, FIG. 3 shows a block diagram of a liquid crystal driver having an analog output function as an example of a semiconductor integrated circuit to which an identifier is given when generating an identifier according to the present embodiment. The liquid crystal driver shown in FIG. 3 is a semiconductor integrated circuit for outputting a drive signal (analog signal) for driving a liquid crystal panel (not shown) of the liquid crystal display.

図3に示した液晶ドライバにおいて、ロジック部に入力されたデジタル映像入力信号は、DAC部でアナログ信号に変換され、レベルシフタ部において電圧レベル変換が施され、出力アンプ部を経て、液晶駆動信号として複数のアナログ出力端子からそれぞれ出力される。なお、図3に示した液晶ドライバはアナログ出力端子ごとに256階調のアナログ信号を出力することが可能であるものとする。   In the liquid crystal driver shown in FIG. 3, the digital video input signal input to the logic unit is converted to an analog signal by the DAC unit, voltage level conversion is performed by the level shifter unit, and the output amplifier unit passes through the output level as a liquid crystal drive signal. Output from a plurality of analog output terminals. Note that the liquid crystal driver shown in FIG. 3 can output an analog signal of 256 gradations for each analog output terminal.

図4は、上記レベルシフタ部におけるアナログ信号のガンマ補正に用いられる基準電圧発生回路を模式的に示したものである。V0H、V1H、・・・、V5H、VnHから電圧が入力され、抵抗分割されてガンマ特性が生成される。   FIG. 4 schematically shows a reference voltage generation circuit used for gamma correction of an analog signal in the level shifter section. A voltage is input from V0H, V1H,..., V5H, VnH, and resistance division is performed to generate a gamma characteristic.

図5は、ある入力信号に対して、ある液晶ドライバのある特定のアナログ出力端子、すなわち、ある特定の端子番号のアナログ出力端子から出力される出力電圧を、階調ごとにプロットしたものである。液晶ドライバは、アナログ出力端子ごとに256階調の各々に対応する出力電圧を出力する。なお、図5の縦軸の単位はボルト(V)である。   FIG. 5 is a graph in which output voltages output from a specific analog output terminal of a liquid crystal driver, that is, an analog output terminal having a specific terminal number, are plotted for each gradation for a certain input signal. . The liquid crystal driver outputs an output voltage corresponding to each of 256 gradations for each analog output terminal. In addition, the unit of the vertical axis | shaft of FIG. 5 is a volt | bolt (V).

以下、図3に示した液晶ドライバの電源電流を識別子として生成する方法について説明する。   Hereinafter, a method for generating the power supply current of the liquid crystal driver shown in FIG. 3 as an identifier will be described.

図6は、図3に示した液晶ドライバから出力される液晶駆動信号としての出力電圧(単位:ボルト)、すなわち階調電圧を示す図である。各端子からのX1階調(最小階調)における出力電圧値、各端子からのX2階調における出力電圧値、各端子からのX3階調における出力電圧値、・・・、各端子からのXn階調、本説明では256階調に相当(最大階調)における出力電圧値を階調順に並べてプロットした図である。   FIG. 6 is a diagram showing an output voltage (unit: volts) as a liquid crystal drive signal output from the liquid crystal driver shown in FIG. 3, that is, a gradation voltage. Output voltage value at X1 gradation (minimum gradation) from each terminal, output voltage value at X2 gradation from each terminal, output voltage value at X3 gradation from each terminal,..., Xn from each terminal It is the figure which arranged and plotted the output voltage value in a gradation, equivalent to 256 gradations in this description (maximum gradation) in order of gradation.

図7は、特定の電源供給端子に対して合計1024状態における半導体集積回路に供給される電源電流値をプロットしたものであり、縦軸の単位はμAである。なお、この1024状態の詳細については後述する。   FIG. 7 is a plot of power supply current values supplied to a semiconductor integrated circuit in a total of 1024 states with respect to a specific power supply terminal, and the unit of the vertical axis is μA. Details of the 1024 state will be described later.

一般に、半導体集積回路に供給される電源電流は一定ではなく、デバイス状態により変動を伴う。従って、特定の電源供給端子に対して様々なデバイスの内部状態ごとの電源電流値をプロットすることにより、上記電源電流を利用した識別子の生成を行うことができる。   In general, the power supply current supplied to the semiconductor integrated circuit is not constant and varies depending on the device state. Accordingly, by plotting the power supply current value for each internal state of various devices against a specific power supply terminal, it is possible to generate an identifier using the power supply current.

以下では、図3の液晶ドライバを例にして、具体的なデバイス状態の例を説明する。   Hereinafter, an example of a specific device state will be described using the liquid crystal driver of FIG. 3 as an example.

液晶ドライバは、各液晶系出力に対応する入力データを順次サンプリングして、出力数分のデータを取り込み、データラッチ(不図示)にラッチし、レベルシフタを介してDACへ入力する。   The liquid crystal driver sequentially samples input data corresponding to each liquid crystal system output, fetches data corresponding to the number of outputs, latches it in a data latch (not shown), and inputs it to the DAC via a level shifter.

DACでは各出力毎に階調レベルを選択して、それぞれの出力毎に有しているオペアンプを介して、基準電圧発生回路(ガンマ抵抗)にて生成した各階調レベルを出力する。   The DAC selects a gradation level for each output, and outputs each gradation level generated by a reference voltage generation circuit (gamma resistor) via an operational amplifier provided for each output.

この際の液晶ドライバの駆動方式は、隣接する液晶系出力がVH側レベルとVL側レベルに反転するドット反転駆動方式と、同一階調レベルを選択した時には同じレベルを出力するライン反転駆動方式との2つに大別される。ドット反転駆動とライン反転駆動についての詳述は省略するが、以降の説明はドット反転駆動ドライバを想定したものとする。図8はドット反転駆動ドライバのガンマ抵抗回路を示したものである。   The driving method of the liquid crystal driver at this time is a dot inversion driving method in which adjacent liquid crystal system outputs are inverted to a VH side level and a VL side level, and a line inversion driving method in which the same level is output when the same gradation level is selected. It is roughly divided into two. Although detailed description of dot inversion drive and line inversion drive is omitted, the following description assumes a dot inversion drive driver. FIG. 8 shows a gamma resistance circuit of a dot inversion drive driver.

前述の入力データに関して、6ビットDACの場合では64階調表示、8ビットDACの場合は256階調、10ビットDACの場合では1024階調の表示が可能となる。256階調の液晶ドライバの場合、256種類の階調電圧を出力するための状態がある。   With respect to the above-described input data, it is possible to display 64 gradations in the case of 6-bit DAC, 256 gradations in the case of 8-bit DAC, and 1024 gradations in the case of 10-bit DAC. In the case of a liquid crystal driver with 256 gradations, there are states for outputting 256 kinds of gradation voltages.

ここで、液晶ドライバの状態として、
状態1)液晶ドライバがデータを取り込む前の状態
状態2)液晶ドライバがデータを取り込んでいる時の状態
状態3)液晶ドライバがラッチ動作を行っている状態
状態4)液晶ドライバが取り込んだデータに応じた出力電圧を出力した状態
の4つのスタティック状態と、入力データ(階調)の256通りを組み合わせた1024状態を設定する。ここでスタティックとは入力信号であるCK、RGB入力、LSをVDDレベルもしくはGNDレベルにして信号を停止し、さらにアナログ回路で常時流れる電流を切断して、液晶ドライバが動作しないようにした状態である。以下では、4つのスタティック状態について図9を参照しながら説明する。
Here, as the state of the LCD driver,
State 1) State before the liquid crystal driver captures data 2) State when the liquid crystal driver captures data 3) State when the liquid crystal driver is latching 4) According to the data captured by the liquid crystal driver The 1024 states are set by combining the four static states in which the output voltage is output and 256 ways of input data (gradation). Here, static means that the signal is stopped by setting the input signals CK, RGB input, LS to VDD level or GND level, and the current that always flows in the analog circuit is cut off so that the liquid crystal driver does not operate. is there. Hereinafter, the four static states will be described with reference to FIG.

図9は電源電流のバラツキを用いた識別子を生成するための電源電流値を測定する際の、液晶ドライバの4状態を示す図である。図9に示すように、液晶ドライバは、一定の周期でON/OFFを繰り返す動作クロックを備えている。図9に示すように、液晶ドライバは動作クロックのタイミングで電源電流値の測定を開始することを示すスタート信号をテスターから受信する。この時点における状態は、液晶ドライバが入力データを取り込む前の状態であり、上述した状態1である。テスターからスタート信号を受信した後に、液晶ドライバは、何れかの階調を有する入力データの取り込みを開始する。この時点における状態は、液晶ドライバが入力データを取り込んでいる状態であり、上述した状態2である。続いて、液晶ドライバは入力データの取り込みを終了すると、ラッチ信号に基づいて、データラッチにデータをラッチすることを示すラッチ動作を行う。この時点における状態は、液晶ドライバがラッチ動作を行っている状態であり、上述した状態3である。続いて、液晶ドライバは、取り込んだデータに応じた出力電圧を出力する。この時点における状態は、液晶ドライバが出力電圧を出力した状態であり、上述した状態4である。本実施形態においては、これらの4状態に対する電源電流値を測定する。   FIG. 9 is a diagram showing four states of the liquid crystal driver when measuring a power supply current value for generating an identifier using a variation in power supply current. As shown in FIG. 9, the liquid crystal driver has an operation clock that repeats ON / OFF at a constant cycle. As shown in FIG. 9, the liquid crystal driver receives from the tester a start signal indicating that the measurement of the power supply current value is started at the timing of the operation clock. The state at this point is a state before the liquid crystal driver takes in the input data, and is the state 1 described above. After receiving the start signal from the tester, the liquid crystal driver starts to take in input data having any gradation. The state at this point is a state in which the liquid crystal driver is taking in input data, which is state 2 described above. Subsequently, when the input of the input data is completed, the liquid crystal driver performs a latch operation indicating that data is latched in the data latch based on the latch signal. The state at this point is a state in which the liquid crystal driver is performing a latch operation, and is state 3 described above. Subsequently, the liquid crystal driver outputs an output voltage corresponding to the fetched data. The state at this point is a state in which the liquid crystal driver outputs an output voltage, which is state 4 described above. In the present embodiment, power supply current values for these four states are measured.

以下では、上記の4つのスタティック状態と、入力データ(階調)の256通りとによって決定される1024状態を液晶ドライバの内部状態と呼称する。   Hereinafter, the 1024 states determined by the above four static states and 256 patterns of input data (gradation) are referred to as internal states of the liquid crystal driver.

この液晶ドライバの内部状態は、半導体デバイスを測定する装置(テスター)で状態設定を行う。テスターは入力信号のタイミングや電流の測定タイミング等を正確に制御できるので、測定毎に、測定対象となる液晶ドライバの内部トランジスタを同一の内部状態に設定することができる。   The internal state of the liquid crystal driver is set by an apparatus (tester) that measures a semiconductor device. Since the tester can accurately control the timing of the input signal, the current measurement timing, etc., the internal transistor of the liquid crystal driver to be measured can be set to the same internal state for each measurement.

各々の内部状態において、電源電流値を測定し、それぞれの電源電流値に対して内部状態を示す内部状態識別番号(ナンバーとも呼ぶ)として0011、0012、0013、0014、・・・、をそれぞれ関連付ける。ここで関連付ける数字は、入力データの何れかの階調を示す3桁の数字と、スタティック状態の何れかを示す1桁の数字とからなる数字である。例えば、0011とは1階調の第1の状態、0012は1階調の第2の状態、0013は1階調の第3の状態、0014は第1階調の第4の状態を表している。また、図9に示す例においては、134階調を示す入力データを用いており、状態1〜4において測定した電源電流値に対して、1341、1342、1343、1344をそれぞれ関連付ける。   In each internal state, the power supply current value is measured, and each power supply current value is associated with 0011, 0012, 0013, 0014,... As internal state identification numbers (also called numbers) indicating the internal state. . The number associated here is a number composed of a three-digit number indicating any gradation of the input data and a one-digit number indicating one of the static states. For example, 0011 represents the first state of one gradation, 0012 represents the second state of one gradation, 0013 represents the third state of one gradation, and 0014 represents the fourth state of the first gradation. Yes. In the example shown in FIG. 9, input data indicating 134 gradations is used, and 1341, 1342, 1343, and 1344 are associated with the power supply current values measured in states 1 to 4, respectively.

以下では、図2を参照して、もう少し具体的に説明する。   Hereinafter, a more specific description will be given with reference to FIG.

図2は本発明の実施形態を示すものであって、識別子生成方法に関する説明図である。図2の(a)の上段は、ウエハ状態における、液晶ドライバの1024状態における電源電流値をそれぞれ測定したグラフの一例を示したものであり、縦軸の単位はμAである。図2の(a)の下段に示すように、測定した1024状態の電源電流値の各々に対し、測定時の液晶ドライバの内部状態を識別する番号である内部状態識別番号として、0011、0012、0013、0014、・・・、をそれぞれ関連付ける。   FIG. 2 shows an embodiment of the present invention and is an explanatory diagram related to an identifier generation method. The upper part of FIG. 2A shows an example of a graph in which the power supply current value in the 1024 state of the liquid crystal driver in the wafer state is measured, and the unit of the vertical axis is μA. As shown in the lower part of FIG. 2A, for each of the measured power supply current values of 1024 states, as internal state identification numbers that are numbers for identifying the internal state of the liquid crystal driver at the time of measurement, 0011, 0012, Are associated with each other.

ここで関連付ける数字は、入力データの何れかの階調を示す3桁の数字と、スタティック状態の何れかを示す1桁の数字とからなる数字である。例えば、0011とは1階調の第1の状態、0012は1階調の第2の状態、0013は1階調の第3の状態、0014は第1階調の第4の状態を表しており、第2階調以降も同様に、0021、0022、0023、0024、・・・、として関連付ける。例えば、図2の(a)の下段に示す例においては、0011=0.822μA、0012=0.821μA、0013=0.799μA、0014=0.824μAである。   The number associated here is a number composed of a three-digit number indicating any gradation of the input data and a one-digit number indicating one of the static states. For example, 0011 represents the first state of one gradation, 0012 represents the second state of one gradation, 0013 represents the third state of one gradation, and 0014 represents the fourth state of the first gradation. Similarly, the second and subsequent gradations are associated as 0021, 0022, 0023, 0024,. For example, in the example shown in the lower part of FIG. 2A, 0011 = 0.822 μA, 0012 = 0.721 μA, 0013 = 0.799 μA, and 0014 = 0.824 μA.

全ての階調における4つのスタティック状態の電源電流値を測定することにより、256階調×4状態の1024状態分の電源電流値を示す電源電流データを収集することができる。収集した電源電流データを識別子として用いてもよいが、本実施形態においては、測定した電源電流値に対応する内部識別番号を示す識別番号リスト(0011、0012、0013、0014、0021、0022、・・・、2561、2562、2563、2564)を識別子として用いる。   By measuring the power supply current values in the four static states at all the gradations, power supply current data indicating the power supply current values for 1024 states of 256 gradations × 4 states can be collected. The collected power supply current data may be used as an identifier, but in the present embodiment, an identification number list (0011, 0012, 0013, 0014, 0021, 0022,...) Indicating an internal identification number corresponding to the measured power supply current value. .., 2561, 2562, 2563, 2564) are used as identifiers.

測定した1024状態のそれぞれの電源電流値を比較し、電源電流値の多い順番(図2の(a)に示す例においては、1463→2273→2263→0862…)もしくは、少ない順番に識別番号リストを並べ替え、この並べ替えた識別番号リストを半導体集積回路の識別子とする。   The respective power supply current values in the measured 1024 states are compared, and in the order of increasing power supply current values (in the example shown in FIG. 2A, 1463 → 2273 → 2263 → 0862...) And the rearranged identification number list as the identifier of the semiconductor integrated circuit.

この識別子はウエハ状態、個片状態で温度条件や測定条件が変わってもほぼ変動はない。例えば、ウエハ状態のデバイスの電源電流値を室温の測定条件で測定した値が1.2μAである場合、個片状態のデバイスの電源電流値を高温条件で測定すると、半導体集積回路の特性上、温度シフト分、電流値もシフトした2.4μAとなる。本実施形態においては、測定値そのものを識別子とせず、電流値の多い状態、および少ない状態に並べ替えた識別番号リストを識別子とするため、測定環境の影響を低減することができる。   This identifier hardly changes even if the temperature condition or measurement condition changes in the wafer state or the individual state. For example, when the power source current value of the wafer state device measured at room temperature is 1.2 μA and the power source current value of the individual device is measured at high temperature, the characteristics of the semiconductor integrated circuit The current value is shifted to 2.4 μA corresponding to the temperature shift. In this embodiment, the measurement value itself is not used as an identifier, and the identification number list rearranged in a state with a large current value and a state with a small current value is used as an identifier, so that the influence of the measurement environment can be reduced.

図2の(b)の上段は、個片状態における、液晶ドライバの1024状態における電源電流値をそれぞれ測定したグラフの一例を示したものであり、縦軸の単位はμAである。図2の(b)の下段に示すように、ウエハ状態における識別子生成と同様に、測定した1024状態の電源電流値の各々に対し、内部状態識別番号0011、0012、0013、0014、・・・、をそれぞれ関連付ける。   The upper part of FIG. 2B shows an example of a graph obtained by measuring the power supply current value in the 1024 state of the liquid crystal driver in the individual state, and the unit of the vertical axis is μA. As shown in the lower part of FIG. 2B, as with the identifier generation in the wafer state, the internal state identification numbers 0011, 0012, 0013, 0014,. , Respectively.

例えば、図2(a)に示したウエハ状態でのナンバー0011の電源電流値は0.822μAであり、一方で、図2(b)の下段に示すように、個片状態でのナンバー0011の電源電流値は0.832μAである。ナンバー0012、0013、0014などについても、いずれも電源電流値がシフトしている。このように、液晶デバイスの電源電流値は、温度条件や測定条件の変化により変動するため、電源電流値そのものを識別子とした場合には、個片状態のデバイスとウエハ状態のデバイスとの紐付けが正しく行われない場合が起こり得る。   For example, the power supply current value of the number 0011 in the wafer state shown in FIG. 2A is 0.822 μA, while the number 0011 in the individual state is shown in the lower part of FIG. The power supply current value is 0.832 μA. In all of the numbers 0012, 0013, and 0014, the power supply current value is shifted. As described above, the power supply current value of the liquid crystal device fluctuates due to changes in temperature conditions and measurement conditions. Therefore, when the power supply current value itself is used as an identifier, the individual state device and the wafer state device are linked. It may happen that is not done correctly.

したがって、以下に説明するような電流値の大小関係に基づいて作成する本識別子を使用することにより、個片状態のデバイスとウエハ状態のデバイスとの紐付けが可能になる。   Therefore, by using this identifier created based on the magnitude relationship of current values as described below, it becomes possible to link a device in the individual state and a device in the wafer state.

具体的には、図2の(b)の下段には、個片状態における、1024状態の電源電流値を比較し、電源電流値の多い順番に並べ替えた識別番号リストの一例を示している。図2の(a)の下段に示したウエハ状態の識別番号リストは、上位から順に、1463、2273、2263、0862、・・・、であるのに対し、図2(b)に示した個片状態の識別番号リストは、1463、2273、2263、1011、・・・、の順である。同様に図2(a)に示したウエハ状態の識別番号リストは、下位から順に2422、2412、1984、1763、・・・、であるのに対し、図2(b)に示した個片状態の識別番号リストは、2422、2103、1984、1763、・・・、の順である。   Specifically, the lower part of FIG. 2B shows an example of an identification number list in which the power supply current values in the 1024 states in the individual state are compared and rearranged in order of the power supply current values. . The wafer number identification number list shown in the lower part of FIG. 2A is 1463, 2273, 2263, 0862,... In order from the top, whereas the list shown in FIG. The one-state identification number list is in the order of 1463, 2273, 2263, 1011,. Similarly, the wafer state identification number list shown in FIG. 2 (a) is 2422, 2412, 1984, 1763,... In order from the bottom, whereas the individual state shown in FIG. The identification number list is in the order of 2422, 2103, 1984, 1763,.

各々の内部状態識別番号に対応する電源電流値の大小関係すべてが一致することが望ましいが、図2の(a)、および(b)に示した例では、各々の状態における電源電流値の測定値差が0.001μA程度の極小値であるため、電流の測定精度によっては大小関係が入れ替わることも考えられる。この点を考慮して、ウエハ状態の識別子と個片状態での識別子とを比較して、一致率が予め定められた閾値以上(例えば85%以上)であれば、個片状態のデバイスとウエハ状態のデバイスとの識別を可能にすることが好ましい。なお、この一致率の閾値は、識別されたウエハ状態のデバイスの識別子と、個片状態のデバイスの識別子とを収集し、積み重ね統計的に定めることができる。   Although it is desirable that all the magnitude relations of the power supply current values corresponding to the respective internal state identification numbers match, in the example shown in FIGS. 2A and 2B, the measurement of the power supply current value in each state is performed. Since the value difference is a minimum value of about 0.001 μA, the magnitude relationship may be switched depending on the current measurement accuracy. In consideration of this point, the identifier of the wafer state and the identifier in the individual piece state are compared, and if the matching rate is equal to or higher than a predetermined threshold (for example, 85% or more), the individual state device and the wafer It is preferably possible to distinguish the device from the state. Note that the threshold value of the coincidence rate can be determined statistically by collecting the identifiers of the identified wafer state devices and the individual state device identifiers.

さらに、測定した1024状態のそれぞれの電源電流値を比較し、電源電流値の多い順番に識別番号リストを並べ替える。さらに、並べ替えた識別番号リストのうち、1からN番目(Nは1024以下の自然数)までの電源電流値の多い状態、同様に1からN番目までの電源電流値の少ない状態に並べ替えた識別番号リストを作成する。作成した識別番号リストに基づいて個々の半導体集積回路の識別子を生成する。   Furthermore, the power supply current values of the measured 1024 states are compared, and the identification number list is rearranged in order of the power supply current values. Further, in the rearranged identification number list, the power supply current values from 1 to Nth (N is a natural number of 1024 or less) are increased, and the power supply current values from 1 to Nth are also reduced. Create a list of identification numbers. An identifier of each semiconductor integrated circuit is generated based on the created identification number list.

この識別子を用いることにより、ウエハ状態での識別子と個片状態での識別子とを比較して、半導体集積回路を識別することが可能となる。   By using this identifier, it is possible to identify the semiconductor integrated circuit by comparing the identifier in the wafer state with the identifier in the individual piece state.

識別子として使用する個数Nは、一致率に基づいて決定される。一致率、および必要なNの値は、例えば、データを積み重ね統計的に算出する。一致率が高ければNを小さく設定することができる。   The number N used as an identifier is determined based on the match rate. For example, the coincidence rate and the necessary value of N are calculated statistically by stacking data. If the match rate is high, N can be set small.

なお、Nの具体的な値は、本実施形態を限定するものではないが、例えば、N=30や、N=50などを典型的な値としてとることができる。   The specific value of N is not limited to the present embodiment, but for example, N = 30, N = 50, and the like can be taken as typical values.

特許文献1では、液晶ドライバを例に数百から1000ピン以上ある出力端子毎の出力電圧値や各々の内部状態毎の電流値バラツキを特徴とし、それを各々の識別子として用いている。特許文献1の手法では、各々の識別子として用いている数百から1000ピン以上ある出力端子毎の出力電圧値を分析して、識別するためデータ量が膨大となり、その膨大なデータを分析する必要があるために、識別に要する時間が増大し得る。   In Patent Document 1, for example, a liquid crystal driver is characterized by an output voltage value for each output terminal having several hundred to 1000 pins or more and a current value variation for each internal state, which are used as identifiers. In the method of Patent Document 1, the amount of data is enormous for analyzing and identifying the output voltage value for each output terminal having several hundred to more than 1000 pins used as each identifier, and it is necessary to analyze the enormous data. This can increase the time required for identification.

本発明に係る識別子生成方法によれば、チップ面積を増加させることなく、該半導体集積回路の電源電流値を識別子とするため、データ量と共に、データ収集時間を抑制し、高効率で識別することができる。   According to the identifier generation method of the present invention, since the power supply current value of the semiconductor integrated circuit is used as an identifier without increasing the chip area, the data collection time is suppressed along with the data amount, and the identification is performed with high efficiency. Can do.

また、本実施形態においては、液晶ドライバの1024状態(256階調×4状態)の内部状態における電源電流値のバラツキを利用しているが、内部回路の様々な状態の電源電流値を利用することも可能である。   In the present embodiment, the variation of the power supply current value in the internal state of the 1024 states (256 gradations × 4 states) of the liquid crystal driver is used, but the power supply current values in various states of the internal circuit are used. It is also possible.

例えば、液晶ドライバの状態1(液晶ドライバがデータを取り込む前の状態)における256階調の入力データを入力した256状態を内部状態と定義し、各状態における電源電流値を測定してもよい。例えば、4つのスタティック状態のうち、いずれか1状態を選択し、256階調×1状態の256状態分の電源電流データを収集する。測定した256状態のそれぞれの電源電流値を比較し、電源電流値の多い順番もしくは、少ない順番に識別番号リストを並べ替え、この並べ替えた識別番号リストを半導体集積回路の識別子とする。この場合には、テスターを用いて4状態をそれぞれ設定する手間を省くことができるため、電源電流値の測定に要する時間を短縮することができる。   For example, a 256 state in which 256 grayscale input data is input in the state 1 of the liquid crystal driver (the state before the liquid crystal driver takes in data) may be defined as an internal state, and the power supply current value in each state may be measured. For example, any one of four static states is selected, and power supply current data for 256 states of 256 gradations × 1 state is collected. The measured power supply current values in the 256 states are compared, the identification number list is rearranged in order of increasing or decreasing power supply current value, and the rearranged identification number list is used as the identifier of the semiconductor integrated circuit. In this case, since it is possible to save the trouble of setting each of the four states using a tester, the time required for measuring the power supply current value can be shortened.

さらに、上記256状態のうち、電源電流値の多い順番にM個(Mは256以下の自然数)、少ない順番にM個並べ替えた識別番号リストに基づいて識別子を生成してもよい。   Further, identifiers may be generated based on an identification number list in which M (M is a natural number of 256 or less) in order of increasing power supply current value and M in order of decreasing power among the 256 states.

この場合の識別子として使用する個数Mも、一致率によってM個を決定することができる。一致率、および必要なMの値は、データを積み重ね統計的に算出する。一致率が高ければMを小さく設定することができる。   The number M used as an identifier in this case can also be determined by the matching rate. The match rate and the required value of M are calculated statistically by stacking the data. If the match rate is high, M can be set small.

この場合には、上記の手順にて生成された識別子を用いて識別を行う際に要する時間をさらに短縮することができる。   In this case, the time required for performing identification using the identifier generated by the above procedure can be further shortened.

また、測定した1024状態の電源電流値の各々に対して内部状態識別番号を関連付けるのではなく、非動作状態における予め定められた2つの条件下に置かれた液晶ドライバからの電源電流値の差分に対して識別番号の関連付けを行ってもよい。例えば、状態1における階調001の入力データを入力した場合の電源電流値と、状態2における階調001の入力データを入力した場合の電源電流値との差分を求め、識別番号0011を関連付ける。同様に、各階調の入力データを入力した際における状態1の電源電流値と状態2の電源電流値との差分をそれぞれ求め、順に識別番号0021、0031、・・・、2541、2551、2561を関連付ける。求めた256個の差分値を比較し、差分値の多い順番もしくは、少ない順番に識別番号を並べ替えた識別番号リストを作成し、この識別番号リストを識別子として用いてもよい。さらに、並べ替えた識別番号リストのうち、差分値の多い順番にL個(Lは256以下の自然数)、少ない順番にL個並べ替えた識別番号リストを識別子として用いてもよい。   Also, instead of associating an internal state identification number with each of the measured power supply current values of 1024 states, the difference between the power supply current values from the liquid crystal driver placed under two predetermined conditions in the non-operating state An identification number may be associated with. For example, the difference between the power supply current value when the input data of gradation 001 in state 1 is input and the power supply current value when the input data of gradation 001 in state 2 is input is obtained, and the identification number 0011 is associated. Similarly, the difference between the power supply current value in state 1 and the power supply current value in state 2 when the input data of each gradation is input is obtained, respectively, and identification numbers 0021, 0031,..., 2541, 2551, 2561 are sequentially assigned. Associate. The obtained 256 difference values may be compared to create an identification number list in which the identification numbers are rearranged in order of increasing or decreasing difference values, and this identification number list may be used as an identifier. Furthermore, among the rearranged identification number lists, L (L is a natural number of 256 or less) in the descending order of difference values and L identification number lists rearranged in the smaller order may be used as identifiers.

この場合の識別子として使用する個数Lも、一致率によってL個を決定することができる。一致率、および必要なLの値は、データを積み重ね統計的に算出する。一致率が高ければLを小さく設定することができる。   The number L used as an identifier in this case can also be determined by the matching rate. The coincidence rate and the required L value are calculated statistically by stacking data. If the matching rate is high, L can be set small.

この場合には、2つの状態における各電源電流値の差分に基づいて、識別子を生成するため、より信頼性の高い識別子を生成することができる。   In this case, since the identifier is generated based on the difference between the power supply current values in the two states, it is possible to generate a more reliable identifier.

なお、本実施形態においては、内部状態識別番号として4桁の数字を用いているが、これは本発明を限定するものではない。すなわち、半導体集積回路の非動作状態における内部状態の識別が可能であればよく、文字列、および数字と文字列との組み合わせを用いてもよい。例えば、256階調の入力データを示す3桁の数字を16進数で表現し、2桁にすることにより、内部状態識別番号の桁数を減らすことができ、識別子のデータ量を減らすことができる。   In the present embodiment, a four-digit number is used as the internal state identification number, but this does not limit the present invention. That is, it is only necessary to identify the internal state of the semiconductor integrated circuit in the non-operating state, and a character string and a combination of a number and a character string may be used. For example, by expressing a 3-digit number indicating input data of 256 gradations in hexadecimal and using 2 digits, the number of digits of the internal state identification number can be reduced, and the data amount of the identifier can be reduced. .

また、本実施形態においては、半導体集積回路の非動作状態における予め定められた複数の内部状態に対する電源電流値を識別子として用いた場合について説明しているが、これは本発明を限定するものではなく、各階調毎のアナログ電圧の出力端子間のバラツキを識別子として用いてもよい。   In the present embodiment, the case where the power supply current values for a plurality of predetermined internal states in the non-operating state of the semiconductor integrated circuit are used as identifiers is described. However, this does not limit the present invention. Alternatively, the variation between the output terminals of the analog voltage for each gradation may be used as the identifier.

また、上記の例では、半導体集積回路として液晶ドライバを例に挙げ説明を行ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、液晶ドライバ以外の半導体集積回路に対して適用することが可能である。   In the above example, a liquid crystal driver has been described as an example of a semiconductor integrated circuit. However, the present invention is not limited to this and can be applied to a semiconductor integrated circuit other than a liquid crystal driver. It is.

(トレース方法について)
以下では、図10を参照しながら、上述した方法にて生成された半導体集積回路の識別子を用いて、半導体集積回路を識別し、識別された半導体集積回路のウエハ状態におけるウエハ上での位置を示すチップ位置情報を特定する方法について説明する。なお、本実施形態においては、主に、識別された半導体集積回路のウエハ状態におけるウエハ上での位置を示すチップ位置情報を特定することを、「トレース」と表現するが、以下に説明するように、チップ位置情報と関連付けられて管理されている他のデータ(例えば、テストデータおよびウエハナンバーなど)をさらに特定することを「トレース」と表現することもある。なお、「チップ位置情報」の詳細については後述する。
(About the trace method)
Hereinafter, the semiconductor integrated circuit is identified using the identifier of the semiconductor integrated circuit generated by the method described above with reference to FIG. 10, and the position of the identified semiconductor integrated circuit on the wafer is determined. A method for specifying the indicated chip position information will be described. In this embodiment, specifying the chip position information indicating the position of the identified semiconductor integrated circuit on the wafer in the wafer state is expressed as “trace”, but will be described below. In addition, further specifying other data (for example, test data and wafer number) managed in association with the chip position information may be expressed as “trace”. Details of the “chip position information” will be described later.

図10は、識別装置1とデータベース50とを含む識別システムの構成を、データベースに格納される各情報と共に示すブロック図である。図10に示すように、上記のトレース方法は、例えば識別装置1およびデータベース50を用いることにより実現される。なお、識別装置1の詳細については後述する。   FIG. 10 is a block diagram showing the configuration of the identification system including the identification device 1 and the database 50 together with information stored in the database. As shown in FIG. 10, the above tracing method is realized by using, for example, the identification device 1 and the database 50. Details of the identification device 1 will be described later.

一般的に、ウエハ状態、および個片状態における半導体集積回路が製品として予め定められたスペックを満たしているかを判定するために、テスターによる電気的テスト(ウエハテスト、ファイナルテスト)が行われる。なお、上記識別子を生成するために用いられる電源電流値群やアナログ電圧値群などの各種測定データは、この電気的テストにより取得されるデータであるテストデータに含まれている。   In general, an electrical test (wafer test, final test) is performed by a tester in order to determine whether a semiconductor integrated circuit in a wafer state or an individual state satisfies a predetermined specification as a product. Note that various measurement data such as a power supply current value group and an analog voltage value group used for generating the identifier are included in the test data which is data acquired by this electrical test.

まず、テスターを用いてウエハ状態における半導体集積回路の電気的テストを行い、当該半導体集積回路のウエハ状態のテストデータ(図10のテストデータW11)を取得する。識別装置1は、取得したテストデータに含まれる電源電流値群を用いて当該半導体集積回路の識別子(図10の識別子W12)を生成する(第1の生成工程に対応)。また、識別装置1は、上記の電気的テストを行う際に、テスト対象となる半導体集積回路に対応するチップ情報(図10のチップ情報W13)を生成する。ここで、チップ情報とは、チップ位置情報(ウエハロットの入手経路等を示す履歴、当該半導体集積回路が切り出されたウエハに付与されたウエハナンバー、および当該半導体集積回路のウエハ上での座標位置を示すチップ座標)と、当該半導体集積回路の測定データ(電気的特性データ等)とが含まれた情報である。また、ウエハナンバーとは、上記ウエハが属するウエハロットにおいて、当該ウエハと他のウエハとを識別するために付与される固有番号である。識別装置1は、上記の電気的テストにより取得した当該半導体集積回路の上記テストデータと、生成した当該半導体集積回路の識別子と、生成した当該半導体集積回路に対応するチップ情報とを互いに関連付け、データベースに記憶させる。   First, an electrical test of the semiconductor integrated circuit in the wafer state is performed using a tester, and test data (test data W11 in FIG. 10) of the wafer state of the semiconductor integrated circuit is obtained. The identification device 1 generates an identifier (identifier W12 in FIG. 10) of the semiconductor integrated circuit using the power supply current value group included in the acquired test data (corresponding to the first generation step). Further, when performing the electrical test, the identification device 1 generates chip information (chip information W13 in FIG. 10) corresponding to the semiconductor integrated circuit to be tested. Here, the chip information refers to chip position information (history indicating a wafer lot acquisition route, etc., a wafer number assigned to the wafer from which the semiconductor integrated circuit is cut out, and a coordinate position of the semiconductor integrated circuit on the wafer. (Chip coordinates shown) and measurement data (electrical characteristic data, etc.) of the semiconductor integrated circuit. The wafer number is a unique number assigned to identify the wafer and other wafers in the wafer lot to which the wafer belongs. The identification device 1 associates the test data of the semiconductor integrated circuit acquired by the electrical test, the generated identifier of the semiconductor integrated circuit, and the generated chip information corresponding to the semiconductor integrated circuit with each other. Remember me.

データベースには、複数のウエハロットの情報(ロットナンバー、ウエハ生産メーカー、および購入日時等)、および複数のウエハの各々に対する処理履歴(生産工場、使用装置、および各処理工程を行った日時等)が予め記憶されている。識別装置1は、上記テストデータと、上記当該半導体集積回路の識別子と、上記当該半導体集積回路に対応するチップ情報と、当該半導体集積回路に対応するウエハロットの情報(図10のウエハロットの情報W14)と、当該ウエハの処理履歴(図10のウエハの処理履歴W15)とを互いに関連付けてデータベースに記憶させる。識別装置1は、関連付けた情報をウエハ状態における当該半導体集積回路のウエハ情報(図10のウエハ情報1)として管理する。   The database includes information on a plurality of wafer lots (lot number, wafer production manufacturer, date of purchase, etc.), and processing history for each of the plurality of wafers (production factory, equipment used, date of execution of each processing step, etc.). Stored in advance. The identification device 1 includes the test data, the identifier of the semiconductor integrated circuit, chip information corresponding to the semiconductor integrated circuit, and wafer lot information corresponding to the semiconductor integrated circuit (wafer lot information W14 in FIG. 10). And the wafer processing history (wafer processing history W15 in FIG. 10) are stored in the database in association with each other. The identification device 1 manages the associated information as wafer information (wafer information 1 in FIG. 10) of the semiconductor integrated circuit in the wafer state.

図10に示すように、識別装置1は、上記の手順を繰り返すことにより、ウエハ状態の複数の半導体集積回路の各々に対応する複数のウエハ情報(図10のウエハ情報1、ウエハ情報2、ウエハ情報3、・・・・)をデータベースに蓄積する(管理工程に対応)。   As shown in FIG. 10, the identification apparatus 1 repeats the above procedure to thereby obtain a plurality of pieces of wafer information corresponding to each of a plurality of semiconductor integrated circuits in a wafer state (wafer information 1, wafer information 2, wafers in FIG. 10). The information 3,... Is accumulated in the database (corresponding to the management process).

なお、データベースにウエハ情報が記憶されたウエハ状態の半導体集積回路は、ウエハから切り出され個片状態の半導体集積回路になる。   The wafer-state semiconductor integrated circuit in which the wafer information is stored in the database is cut out from the wafer and becomes a single-piece semiconductor integrated circuit.

次に、識別装置1は、個片状態のある半導体集積回路の電気的テストを行い、当該半導体集積回路の個片状態のテストデータ(図10のテストデータP11)を取得する。識別装置1は、取得したテストデータに含まれる電源電流値群を用いて当該半導体集積回路の識別子(図10の識別子P12)を生成する(第2の生成工程に対応)。また、識別装置1は、上記の電気的テストにより取得した当該半導体集積回路の上記テストデータと、生成した当該半導体集積回路の識別子とを互いに関連付ける。さらに識別装置1は、関連付けた情報を個片状態における当該半導体集積回路の個片情報(図10の個片情報1)としてデータベースに記憶させる。   Next, the identification device 1 performs an electrical test on the semiconductor integrated circuit in the individual piece state, and acquires test data on the individual piece state of the semiconductor integrated circuit (test data P11 in FIG. 10). The identification device 1 generates an identifier (identifier P12 in FIG. 10) of the semiconductor integrated circuit using the power supply current value group included in the acquired test data (corresponding to the second generation step). Further, the identification device 1 associates the test data of the semiconductor integrated circuit acquired by the electrical test with the generated identifier of the semiconductor integrated circuit. Furthermore, the identification device 1 stores the associated information in the database as individual piece information (individual piece information 1 in FIG. 10) of the semiconductor integrated circuit in the individual piece state.

識別装置1は、上述した識別方法を用いて、データベースに記憶されている複数のウエハ情報に含まれる各々の識別子のうち何れか1つと、対象となる個片状態の半導体集積回路の個片情報に含まれる識別子とを同定することにより、当該半導体集積回路を識別することができる。また、識別装置1は、ウエハ状態の当該半導体集積回路の識別子に関連付けてデータベースに記憶されているチップ情報に基づいて、対象となる個片状態の半導体集積回路のチップ位置情報を特定(特定工程に対応)することができる。   Using the above-described identification method, the identification device 1 uses any one of the identifiers included in the plurality of wafer information stored in the database, and the individual piece information of the target semiconductor integrated circuit. By identifying the identifier included in the semiconductor integrated circuit, the semiconductor integrated circuit can be identified. Further, the identification device 1 identifies chip position information of the target semiconductor integrated circuit based on the chip information stored in the database in association with the identifier of the semiconductor integrated circuit in the wafer state (specifying step). ).

以上のように、識別装置1は、半導体集積回路毎のウエハロットの情報、ウエハナンバー、およびチップ座標などを互いに関連付けてウエハ情報としてデータベース上にて管理しているため、対象となる半導体集積回路を識別し、識別された当該半導体集積回路のウエハ状態におけるウエハ上での位置を示すチップ位置情報を特定することができる。   As described above, the identification device 1 manages wafer lot information, wafer numbers, chip coordinates, and the like for each semiconductor integrated circuit in the database as wafer information, so that the target semiconductor integrated circuit can be selected. The chip position information indicating the position of the identified semiconductor integrated circuit on the wafer in the wafer state can be identified.

本発明の一態様に係る識別方法によれば、半導体集積回路に新たな識別子用回路や工程を用いることなく、従来から備わっている機能を利用して識別子を生成することができる。また、上述したように個片情報に含まれる識別子の生成の際に用いられる電源電流値群は、テスターによる電気的テストを行う際に取得されるテストデータに含まれている。したがって、個片状態の半導体集積回路の電気的テストを行いながら上記識別子を生成することができる。よって、半導体集積回路を識別し、識別された半導体集積回路のウエハ状態におけるウエハ上での位置を示すチップ位置情報を、より迅速に特定することができ、ウエハ製造コストの増加を抑えることができる。   According to the identification method of one embodiment of the present invention, an identifier can be generated using a function that has been provided in the past without using a new identifier circuit or process for a semiconductor integrated circuit. Further, as described above, the power supply current value group used when generating the identifier included in the piece information is included in the test data acquired when the electrical test is performed by the tester. Therefore, the identifier can be generated while performing an electrical test of the semiconductor integrated circuit in the individual state. Accordingly, the semiconductor integrated circuit can be identified, and the chip position information indicating the position of the identified semiconductor integrated circuit on the wafer in the wafer state can be specified more quickly, and the increase in wafer manufacturing cost can be suppressed. .

また、ウエハ状態にて取得した半導体集積回路のテストデータと、個片状態にて取得した当該半導体集積回路のテストデータとを比較することにより、識別装置1は、ウエハ状態と、個片状態とにおける電気的テストの測定結果の変動量などを検出することできる。したがって、トラブルなど各種問題が発生した際の原因究明、および対策をスムーズに行うことができ、歩留まりを改善することができる。   Further, by comparing the test data of the semiconductor integrated circuit acquired in the wafer state with the test data of the semiconductor integrated circuit acquired in the individual piece state, the identification device 1 can determine whether the wafer state and the individual piece state are It is possible to detect the fluctuation amount of the measurement result of the electrical test. Therefore, the cause investigation and countermeasure when various problems such as troubles occur can be smoothly performed, and the yield can be improved.

(ウエハマップ作成方法について)
続いて、上述したトレース方法によるトレース結果に基づいて、対象となる1又は複数の半導体集積回路に関するチップ位置情報(またはチップ座標)の集合であるウエハマップを作成する方法について図11を参照しながら説明する。ウエハマップは、個片状態における半導体集積回路の、ウエハ上での位置を示すものである。図11は、図10に示した識別システムによるトレース結果を用いて、ウエハマップを作成する処理を示す概念図である。
(Wafer map creation method)
Next, referring to FIG. 11, a method for creating a wafer map that is a set of chip position information (or chip coordinates) related to one or more target semiconductor integrated circuits based on the trace result obtained by the trace method described above. explain. The wafer map indicates the position of the semiconductor integrated circuit in the individual piece state on the wafer. FIG. 11 is a conceptual diagram showing a process of creating a wafer map using the trace result by the identification system shown in FIG.

識別装置1による具体的なウエハマップの作成方法としては、図11に示すように、上記トレース方法を用いてトレースしたチップ位置情報に基づいて、対象となる個片状態の複数の半導体集積回路と、ウエハ状態の複数の半導体集積回路のチップ位置情報のうちいずれかのチップ位置情報とを1対1に紐づけすることにより、ウエハマップを作成する(ウエハマップ作成工程に対応)。   As a specific method for creating a wafer map by the identification device 1, as shown in FIG. 11, based on chip position information traced by using the above-described tracing method, a plurality of semiconductor integrated circuits in an individual state, Then, a wafer map is created by associating one-to-one chip position information among the chip position information of a plurality of semiconductor integrated circuits in a wafer state (corresponding to a wafer map creating process).

ウエハマップを用いることにより、個片状態の半導体集積回路の電気的テストで様々な問題が発生した場合において、当該半導体集積回路が属するウエハのウエハロット、ウエハ依存(どのインゴットから作製されたウエハにおいて問題が発生しやすいか)、およびウエハ面内傾向の有無(各ウエハ上のどの位置において問題が発生しやすいか)などを確認することができる。   When various problems occur in the electrical test of the semiconductor integrated circuit in the individual state by using the wafer map, the wafer lot of the wafer to which the semiconductor integrated circuit belongs, and the wafer dependency (the problem in which wafer is manufactured from which ingot) And the presence / absence of the in-wafer tendency (where the problem is likely to occur on each wafer).

なお、識別装置1により作成されるウエハマップのデータ形式は本発明を限定するものではなく、個片状態の半導体集積回路が、どのウエハ上のどの位置において作製されたものであるかを示すデータ形式であればよい。例えば、個片状態の当該半導体集積回路の電気的テストに基づいてトレースしたウエハ情報に含まれるチップ位置情報と、当該半導体集積回路に付与され、他の個片状態の半導体集積回路と区別するための個体識別番号とをそれぞれ紐づけしたリストを示すデータテーブルのようなデータ形式であってもよい。また、ウエハマップに含まれるチップ位置情報の集合は、対象となる1つの半導体集積回路に関するチップ位置情報のみであってもよい。   Note that the data format of the wafer map created by the identification device 1 does not limit the present invention, and data indicating at which position on which wafer the individual semiconductor integrated circuit is produced. Any format is acceptable. For example, in order to distinguish the chip position information included in the wafer information traced based on the electrical test of the semiconductor integrated circuit in the individual piece state from other semiconductor integrated circuits given to the semiconductor integrated circuit A data format such as a data table indicating a list in which the individual identification numbers are associated with each other may be used. Further, the set of chip position information included in the wafer map may be only the chip position information related to one target semiconductor integrated circuit.

また、上記トレース方法を用いてトレースしたチップ位置情報に基づいて、識別装置1は、同一のウエハから作製された個片状態の複数の半導体集積回路のテストデータを集計し、当該個片状態の複数の半導体集積回路のテストデータとチップ位置情報とをそれぞれ関連付けることにより、個片情報をさらに付加したウエハマップを作成することができる。これにより、全ての半導体集積回路に対して1対1の紐づけを行うウエハマップだけではなく、例えば、個片状態でFail(電気的テストにおいて予め定められたスペックを満足できなかった)したチップのみを集計してウエハマップを作成することもできる。   Further, based on the chip position information traced by using the tracing method, the identification device 1 aggregates test data of a plurality of individual semiconductor integrated circuits manufactured from the same wafer, By associating test data of a plurality of semiconductor integrated circuits with chip position information, it is possible to create a wafer map to which individual piece information is further added. As a result, not only a wafer map for one-to-one association with all semiconductor integrated circuits but also, for example, a chip that fails in an individual state (a predetermined specification could not be satisfied in an electrical test) It is also possible to create a wafer map by summing up only those.

また、識別装置1は、上記トレース方法を用いてトレースしたチップ位置情報に基づいて、同一のウエハから作製された個片状態の複数の半導体集積回路のテストデータを集計し、当該個片状態の複数の半導体集積回路に対応するウエハ状態の半導体集積回路のテストデータと、個片状態の半導体集積回路のテストデータとをそれぞれ比較する構成としてもよい。比較して得られたテストデータの差分を示す差分テストデータと、チップ位置情報とをさらに関連付けることにより、半導体多集積回路がウエハ状態から個片状態へ遷移する際のテストデータの変動量をさらに付加したウエハマップを作成することができる。例えば、複数の半導体集積回路の各々の個片状態における電流値と、ウエハ状態における電流値との差を示すウエハマップを作成することもできる。   Further, the identification device 1 aggregates test data of a plurality of individual semiconductor integrated circuits manufactured from the same wafer based on the chip position information traced using the tracing method, and The test data of the semiconductor integrated circuit in the wafer state corresponding to the plurality of semiconductor integrated circuits may be compared with the test data of the semiconductor integrated circuit in the individual piece state. By further associating the difference test data indicating the difference between the test data obtained by comparison and the chip position information, the amount of variation in the test data when the semiconductor multi-integrated circuit transitions from the wafer state to the individual state is further increased. An added wafer map can be created. For example, it is possible to create a wafer map indicating the difference between the current value in each individual state of a plurality of semiconductor integrated circuits and the current value in the wafer state.

各半導体集積回路のウエハ状態と、個片状態との1対1の紐付けにおいては、個片状態であるパッケージの影響による特性変動量を確認することができる。また、ウエハ状態と個片状態とにおいて、それぞれ温度条件が異なる場合にはその依存有無を確認することもできる。さらに、ウエハマップを生成することによって、上記のウエハロットやウエハ、ウエハ面内傾向の有無を並行して確認することができる。したがって、様々なトラブルが発生した場合における対応をより迅速に行うことができ、歩留まりを改善することができる。   In the one-to-one association between the wafer state and the individual piece state of each semiconductor integrated circuit, the characteristic fluctuation amount due to the influence of the package in the individual piece state can be confirmed. In addition, if the temperature condition is different between the wafer state and the individual piece state, whether or not there is a dependency can be confirmed. Furthermore, by generating a wafer map, the presence or absence of the above-mentioned wafer lot, wafer, and wafer in-plane tendency can be confirmed in parallel. Therefore, it is possible to respond more quickly when various troubles occur, and to improve the yield.

(ウエハマップの活用実施例について)
以下では、作成したウエハマップを実際に活用した幾つかの実施例について説明する。
(Examples of utilizing the wafer map)
In the following, some examples in which the created wafer map is actually used will be described.

上述したトレース方法は、ウエハ状態、および個片状態の半導体集積回路に対して実施する電気的テスト(ウエハテスト、ファイナルテスト)によって取得されるテストデータを用いて識別子を生成している。したがって個片状態の半導体集積回路に対する電気的テスト(ファイナルテスト)を行いながらトレースすることができるため、ほぼリアルタイムで以下のように活用することもできる。   In the above-described tracing method, an identifier is generated using test data acquired by an electrical test (wafer test, final test) performed on a semiconductor integrated circuit in a wafer state and a piece state. Therefore, tracing can be performed while an electrical test (final test) is performed on a semiconductor integrated circuit in a single piece state, so that it can be used as follows in almost real time.

また、データベースに記憶させているウエハ情報には、上記テストデータと、上記当該半導体集積回路の識別子と、上記当該半導体集積回路に対応するチップ情報と、当該半導体集積回路に対応するウエハロットの情報と、当該ウエハの処理履歴とが互いに関連付けられているため、作成したウエハマップと、データベースとを参照することにより各種の分析を行うことができる。   The wafer information stored in the database includes the test data, the identifier of the semiconductor integrated circuit, the chip information corresponding to the semiconductor integrated circuit, and the wafer lot information corresponding to the semiconductor integrated circuit. Since the processing history of the wafer is associated with each other, various analyzes can be performed by referring to the created wafer map and the database.

なお、以下に示す実施例においては、半導体集積回路として液晶ドライバを用いた場合の例について説明する。液晶ドライバのパッケージの大半は個片状態をテープ上に並べた形態で提供され、テープの状態(1リール数百〜数千個搭載)における個片状態の液晶ドライバの識別子と、ウエハ状態の液晶ドライバの識別子を識別する。識別した液晶ドライバのチップ位置情報をトレースすることにより、ウエハマップを生成することができる。したがって、個片状態の液晶ドライバに対する電気的テストにおいて様々なトラブルが発生した場合に、ウエハロットやウエハ依存、ウエハ面内傾向の有無などを確認することができ、歩留まり改善の対策を迅速に行うことができる。   In the following embodiment, an example in which a liquid crystal driver is used as a semiconductor integrated circuit will be described. Most of the liquid crystal driver packages are provided in a form in which individual states are arranged on a tape. The identifier of the individual state liquid crystal driver in the state of tape (equal to several hundred to several thousand reels) and the liquid crystal in the wafer state Identifies the driver identifier. By tracing the chip position information of the identified liquid crystal driver, a wafer map can be generated. Therefore, when various troubles occur in the electrical test for the liquid crystal driver in the individual state, it is possible to check the wafer lot, wafer dependence, presence / absence of in-wafer tendency, etc., and quickly take measures to improve the yield. Can do.

(活用例1)
個片状態の液晶ドライバにおいて電流のFailが多発していたため、ウエハマップを作成すると、電流不良が多発するウエハが発生していることが分かった。ウエハ状態の電気的テストと、個片状態の電気的テストとにおいて、電流の測定温度条件が異なっており、不良が多発するウエハは、温度に対する電流のシフト量が大きいことが発見された。生産履歴情報に基づいて、生産時のプロセス条件のばらつきにより、不良が発生することが分かったため、プロセス条件の管理を厳しくし、不良が発生しないように対策を行う事が出来た。
(Utilization example 1)
In the individual state liquid crystal driver, there were many current failures, so when creating a wafer map, it was found that wafers with frequent current failures occurred. It was discovered that the current measurement temperature conditions are different between the electrical test in the wafer state and the electrical test in the individual state, and a wafer with frequent defects has a large current shift amount with respect to temperature. Based on the production history information, it was found that defects occurred due to variations in process conditions during production. Therefore, the management of process conditions was tightened and measures were taken to prevent defects.

(活用例2)
個片状態の液晶ドライバにおいて電流のFailが多発していたため、ウエハマップを作成すると、電流不良が多発するウエハが発生していることが分かった。ウエハ状態の電気的テストと、個片状態の電気的テストにおいて、電流の測定温度条件が異なるため、互いに異なるテストスペックを設定していたが、ウエハ状態において電流値が高いウエハロットから電流不良の大きいウエハが発生していることが確認された。ウエハ状態においてテストスペック限界品のものが個片状態の電気的テストにおいてスペックを超えることが分かったため、個片状態の電気的テストにおけるテストスペックを見直すことにより対策を行う事が出来た。
(Utilization example 2)
In the individual state liquid crystal driver, there were many current failures, so when creating a wafer map, it was found that wafers with frequent current failures occurred. Since the current measurement temperature conditions are different between the electrical test in the wafer state and the electrical test in the individual state, different test specs were set. However, current defects are large from wafer lots with high current values in the wafer state. It was confirmed that a wafer was generated. Since it was found that the test spec limit product in the wafer state exceeded the spec in the electrical test in the individual state, it was possible to take measures by reviewing the test spec in the electrical test in the individual state.

(活用例3)
個片状態の液晶ドライバに対する電気的テストにおいて、出力遅延時間の不良が多発したため、ウエハマップを作成するとウエハ面内ばらつきが発生しており、ウエハ面内の半分に偏って発生していることが分かった。不良が発生しているウエハは、露光不良が発生しトランジスタの線幅が太くなる不良が発生していた。ウエハ状態では出力負荷が小さいため、出力負荷の大きい個片状態においてのみFailすることが判明した。露光不良が発生する生産装置を使用停止にすることにより対策を行う事が出来た。
(Utilization example 3)
In an electrical test for a liquid crystal driver in a single state, output delay time frequently occurs, so when a wafer map is created, variation in the wafer surface occurs, and it is biased to half of the wafer surface. I understood. A wafer in which a defect has occurred has a defect in which an exposure defect occurs and the line width of the transistor increases. Since the output load is small in the wafer state, it has been found that the failure occurs only in the individual state where the output load is large. It was possible to take measures by stopping the production equipment that caused the exposure failure.

以上が、本実施形態に係る識別方法、トレース方法、およびウエハマップ作成方法についての説明である。次に、上記識別方法を実際に使用するために使用される、本発明に係る識別装置1について説明する。   The above is the description of the identification method, the tracing method, and the wafer map creation method according to the present embodiment. Next, the identification device 1 according to the present invention used for actually using the identification method will be described.

〔識別装置1について〕
図1は、本実施形態に係る識別装置1のブロック図を示している。識別装置1は、DC測定部11と、メモリ部12と、演算部13と、比較部14と、電源供給部15と、を備えている。識別装置1は、例えば、データベース50に接続される。図1における2重線は電源電流の経路を、実線は信号の経路を示している。まず、識別すべき液晶ドライバ(半導体集積回路)に識別子を付与する識別子付与工程を具体的な信号の流れに沿って説明する。
[About identification device 1]
FIG. 1 shows a block diagram of an identification apparatus 1 according to this embodiment. The identification device 1 includes a DC measurement unit 11, a memory unit 12, a calculation unit 13, a comparison unit 14, and a power supply unit 15. The identification device 1 is connected to the database 50, for example. In FIG. 1, the double line indicates the path of the power supply current, and the solid line indicates the path of the signal. First, an identifier assigning process for assigning an identifier to a liquid crystal driver (semiconductor integrated circuit) to be identified will be described along a specific signal flow.

電源供給部15は識別すべき半導体集積回路に対して、電源を供給するための手段である。   The power supply unit 15 is means for supplying power to the semiconductor integrated circuit to be identified.

識別すべき液晶ドライバには半導体デバイスを測定するテスターが接続されている。テスターは液晶ドライバの状態設定を行う手段であり、具体的には、上述した4つのスタティック状態の設定を行う。   A tester for measuring a semiconductor device is connected to the liquid crystal driver to be identified. The tester is a means for setting the state of the liquid crystal driver. Specifically, the four static states described above are set.

また、識別装置1は、図示しない入力信号供給部を備えている。入力信号供給部は、256階調の入力データを識別すべき液晶ドライバに供給する手段である。入力信号供給部は、テスターが設定する上記の4つのスタティック状態において、256階調の入力データを液晶ドライバにそれぞれ入力するように、テスターによって信号入力のタイミングを制御されている。本実施形態においては、テスターおよび入力信号供給部によって、1024の内部状態を設定する。   The identification device 1 includes an input signal supply unit (not shown). The input signal supply unit is means for supplying 256-gradation input data to a liquid crystal driver to be identified. In the four static states set by the tester, the input signal supply unit is controlled by the tester so that the input signal of 256 gradations is input to the liquid crystal driver. In this embodiment, 1024 internal states are set by the tester and the input signal supply unit.

なお、本実施形態においては、識別装置1が入力信号供給部を備えており、入力信号供給部から半導体集積回路に入力データが供給される構成について説明するが、これは本発明を限定するものではない。上記入力データを供給する入力信号供給部は、識別装置1が備えていてもよいし、別の装置が備えている構成としてもよい。   In the present embodiment, the configuration in which the identification device 1 includes an input signal supply unit and input data is supplied from the input signal supply unit to the semiconductor integrated circuit will be described. However, this restricts the present invention. is not. The input signal supply unit that supplies the input data may be included in the identification device 1 or may be configured as included in another device.

DC測定部11は、電源供給部15から半導体集積回路に供給される電源電流を測定するための手段である。特に、本実施形態においては、DC測定部11は、複数の内部状態ごとの電源電流値を測定し、測定した電源電流値を順次メモリ部12へ送信する。また、DC測定部11は、テスターによって電源電流値の測定タイミングを制御されている。   The DC measurement unit 11 is a means for measuring the power supply current supplied from the power supply unit 15 to the semiconductor integrated circuit. In particular, in the present embodiment, the DC measurement unit 11 measures a power supply current value for each of a plurality of internal states, and sequentially transmits the measured power supply current value to the memory unit 12. Further, the DC measurement unit 11 is controlled by the tester for the measurement timing of the power supply current value.

メモリ部12はDC測定部11から送られてきた複数の内部状態ごとの電源電流値を、半導体集積回路ごとに蓄積する手段である。   The memory unit 12 is a means for accumulating the power supply current value for each of a plurality of internal states sent from the DC measurement unit 11 for each semiconductor integrated circuit.

演算部13は、メモリ部12に蓄積された半導体集積回路ごとの複数の内部状態における電源電流値に基づいて識別子を生成するための手段である。演算部13は、具体的には、DC測定部11が測定した1024状態の電源電流値の各々に対し、液晶ドライバの内部状態を識別する番号である内部状態識別番号0011、0012、0013、0014、・・・、をそれぞれ関連付ける。続いて、演算部13は、内部状態識別番号と関連づけられたそれぞれの電源電流値を比較し、電源電流値の多い順番もしくは、少ない順番に内部状態識別番号を並べ替え、識別番号リストを作成する。さらに、演算部13は並べ替えた識別番号リストのうち、1からN番目までの電源電流値の多い状態、同様に1からN番目までの電源電流値の少ない状態に並べ替えた識別番号リストを作成する。演算部13は、作成した識別番号リストを半導体集積回路の識別子として生成する。演算部13は、このようにして半導体集積回路ごとに生成された識別子を、データベース50に出力する。   The arithmetic unit 13 is a means for generating an identifier based on power supply current values in a plurality of internal states for each semiconductor integrated circuit stored in the memory unit 12. Specifically, the arithmetic unit 13 has an internal state identification number 0011, 0012, 0013, 0014 which is a number for identifying the internal state of the liquid crystal driver for each of the 1024 state power supply current values measured by the DC measuring unit 11. , ... are associated with each other. Subsequently, the calculation unit 13 compares the power supply current values associated with the internal state identification numbers, rearranges the internal state identification numbers in order of increasing or decreasing power supply current values, and creates an identification number list. . Further, the calculation unit 13 selects the identification number list rearranged in a state where the power supply current values from 1 to Nth are large, similarly in a state where the power supply current value is small from 1 to Nth. create. The calculation unit 13 generates the created identification number list as an identifier of the semiconductor integrated circuit. The calculation unit 13 outputs the identifier generated for each semiconductor integrated circuit in this manner to the database 50.

データベース50は、各半導体集積回路に対して入力される識別子を、当該半導体集積回路に関する製造履歴や検査履歴等との関連付けを行い、関連付けされた情報を蓄積および管理するための手段である。   The database 50 is a means for associating identifiers input to each semiconductor integrated circuit with manufacturing histories, inspection histories and the like related to the semiconductor integrated circuits, and accumulating and managing the associated information.

データベース50は、具体的には、入力された識別子と、当該液晶ドライバの製造履歴や検査履歴等との関連付けを行い、関連づけされたデータを液晶ドライバごとに蓄積し管理する。   Specifically, the database 50 associates the input identifier with the manufacturing history and inspection history of the liquid crystal driver, and stores and manages the associated data for each liquid crystal driver.

なお、本実施形態においては、識別装置1がデータベース50に接続されている構成について説明するが、本発明はこれに限定されない。例えば、識別装置1がデータベース50を備える構成としてもよい。   In the present embodiment, a configuration in which the identification device 1 is connected to the database 50 will be described, but the present invention is not limited to this. For example, the identification device 1 may be configured to include the database 50.

以上のように、本実施形態に係る識別装置1を用いることで、液晶ドライバごとに固有の識別子を生成することができ、データベース50と併用することで、個々の半導体集積回路に関する製造情報や検査情報等を蓄積および管理することができる。   As described above, by using the identification device 1 according to the present embodiment, a unique identifier can be generated for each liquid crystal driver, and by using it together with the database 50, manufacturing information and inspection regarding individual semiconductor integrated circuits can be generated. Information and the like can be stored and managed.

以下では、識別装置1を用いた識別方法および識別方法について説明する。   Hereinafter, an identification method and an identification method using the identification device 1 will be described.

(識別装置1による識別方法について)
まず、当該液晶ドライバのウエハ状態における識別子は識別装置1によって生成され、データベース50に予め格納されているものとする。個片状態の当該液晶ドライバは、テスターおよび入力信号供給部によって1024の内部状態にそれぞれ設定され、各状態における電源電流値をDC測定部11に送信する。DC測定部11は、上記信号の電源電流値を測定し、測定した値をメモリ部12に順次出力する。
(About the identification method by the identification device 1)
First, it is assumed that the identifier of the liquid crystal driver in the wafer state is generated by the identification device 1 and stored in the database 50 in advance. The liquid crystal driver in the individual state is set to the internal state of 1024 by the tester and the input signal supply unit, and transmits the power supply current value in each state to the DC measurement unit 11. The DC measurement unit 11 measures the power supply current value of the signal and sequentially outputs the measured value to the memory unit 12.

メモリ部12はDC測定部11から入力された電源電流測定値を、液晶ドライバごとに蓄積する。演算部13は、メモリ部12に蓄積された電源電流測定値に基づいて、ウエハ状態での識別子生成と同様の処理を行い、液晶ドライバごとに識別子を生成する。生成された識別子は、比較部14に入力される。   The memory unit 12 stores the power supply current measurement value input from the DC measurement unit 11 for each liquid crystal driver. Based on the power supply current measurement value stored in the memory unit 12, the calculation unit 13 performs the same processing as that for generating an identifier in the wafer state, and generates an identifier for each liquid crystal driver. The generated identifier is input to the comparison unit 14.

比較部14は、入力された識別子を、データベース50に蓄積された同種の半導体集積回路についての識別子と比較し、入力された識別子を、データベース50に蓄積された同種の半導体集積回路についての識別子のうち、いずれか1つに同定する手段である。   The comparison unit 14 compares the input identifier with the identifier for the same type of semiconductor integrated circuit stored in the database 50, and compares the input identifier with the identifier for the same type of semiconductor integrated circuit stored in the database 50. Among them, it is a means for identifying one of them.

具体的には、比較部14は入力された識別子と、データベース50に蓄積された同種の液晶ドライバについての全ての識別子とを比較し、入力された識別子を、データベース50に蓄積された同種の液晶ドライバの識別子のいずれか1つに同定する。   Specifically, the comparison unit 14 compares the input identifier with all identifiers for the same type of liquid crystal driver stored in the database 50, and compares the input identifier with the same type of liquid crystal stored in the database 50. Identify one of the driver identifiers.

上記同定作業は、データベース50に蓄積された識別子のうちいずれか1つと、上記入力された識別子とを、例えば、並べ替えた識別番号リストのうち、1からN番目までの電源電流値の多い状態を順次比較していくことにより、簡便に行うことができる。   In the identification operation, any one of the identifiers stored in the database 50 and the input identifier are sorted, for example, in a state where the power supply current values from 1 to Nth in the sorted identification number list are large. Can be easily performed by sequentially comparing.

理想的な状況においては、比較部14、データベース50に蓄積された識別子と、入力された識別子とを比較し、識別番号リストの内部状態識別番号の順序がすべて一致する場合に両識別子を同一の識別子と判定する。   In an ideal situation, the identifiers stored in the comparison unit 14 and the database 50 are compared with the input identifiers, and if the order of the internal state identification numbers in the identification number list all match, both identifiers are the same. Judged as an identifier.

実際上、DC測定部11における電源電流値の測定には、測定誤差が伴うため、データベース50に蓄積された識別子と、入力された識別子とが、完全には一致しない場合もあり得るが、実際上十分な精度で同定が可能である。具体的には、比較部14は、データベース50に蓄積された識別子と、入力された識別子とが、測定誤差に起因して順序が異なる内部状態識別番号が数箇所存在していたとしても、残りの内部状態識別番号の順序が一致していれば、両識別子を同一の識別子であると同定してもよく、当該同定作業は実用上全く問題のない程度に、非常に高い精度を有する。   Actually, since the measurement of the power supply current value in the DC measurement unit 11 involves a measurement error, the identifier stored in the database 50 and the input identifier may not completely match. Identification with sufficient accuracy is possible. Specifically, the comparison unit 14 does not change the identifiers stored in the database 50 and the input identifiers even if there are several internal state identification numbers whose orders are different due to measurement errors. If the order of the internal state identification numbers matches, both identifiers may be identified as the same identifier, and the identification operation has a very high accuracy to the extent that there is no practical problem.

以上が、本実施形態に係る識別装置1を用いて、個片状態の半導体集積回路と、ウエハ状態の半導体集積回路とを識別する方法についての説明である。以下では、識別装置1によるトレース手順について説明する。   This completes the description of the method for discriminating between the semiconductor integrated circuit in the individual state and the semiconductor integrated circuit in the wafer state using the identification device 1 according to the present embodiment. Below, the trace procedure by the identification device 1 will be described.

(識別装置1によるトレース手順およびウエハマップ作成手順)
まず、識別装置1のDC測定部11は、ウエハ状態における半導体集積回路の電気的テストにより生成された当該半導体集積回路のウエハ状態のテストデータを取得する。DC測定部11は、取得したウエハ状態のテストデータをメモリ部12に格納する。また、DC測定部11は、上記の電気的テストを行う際に生成されたテスト対象となる半導体集積回路に対応するチップ情報を取得し、同様にメモリ部12に格納する。
(Trace procedure and wafer map creation procedure by the identification device 1)
First, the DC measurement unit 11 of the identification device 1 acquires test data on the wafer state of the semiconductor integrated circuit generated by an electrical test of the semiconductor integrated circuit in the wafer state. The DC measurement unit 11 stores the acquired wafer state test data in the memory unit 12. Further, the DC measurement unit 11 acquires chip information corresponding to the test target semiconductor integrated circuit generated when the electrical test is performed, and similarly stores the chip information in the memory unit 12.

続いて演算部13は、メモリ部12に格納された上記ウエハ状態のテストデータに基づいて、上述した識別子生成方法によって当該半導体集積回路の識別子を生成し(第1の生成手段に対応)、メモリ部12に格納する。   Subsequently, based on the wafer state test data stored in the memory unit 12, the arithmetic unit 13 generates an identifier of the semiconductor integrated circuit by the identifier generation method described above (corresponding to the first generation unit), and the memory Stored in the unit 12.

演算部13は、メモリ部12に格納されている当該半導体集積回路のテストデータと、当該半導体集積回路の識別子と、当該半導体集積回路に対応するチップ情報とを互いに関連付け、データベース50に格納する。   The arithmetic unit 13 associates the test data of the semiconductor integrated circuit stored in the memory unit 12, the identifier of the semiconductor integrated circuit, and the chip information corresponding to the semiconductor integrated circuit, and stores them in the database 50.

データベース50には、複数のウエハロットの情報、および複数のウエハの各々に対する処理履歴が予め記憶されている。演算部13は、データベース50に格納されている上記当該半導体集積回路のテストデータと、上記当該半導体集積回路の識別子と、上記当該半導体集積回路に対応するチップ情報と、当該半導体集積回路に対応するウエハロットの情報と、当該ウエハの処理履歴とを互いに関連付ける。演算部13は、関連付けた情報をウエハ状態における当該半導体集積回路のウエハ情報として管理する。   The database 50 stores in advance information on a plurality of wafer lots and processing histories for each of the plurality of wafers. The arithmetic unit 13 corresponds to the test data of the semiconductor integrated circuit stored in the database 50, the identifier of the semiconductor integrated circuit, chip information corresponding to the semiconductor integrated circuit, and the semiconductor integrated circuit. The wafer lot information and the processing history of the wafer are associated with each other. The calculation unit 13 manages the associated information as wafer information of the semiconductor integrated circuit in the wafer state.

識別装置1は、ウエハ状態の複数の半導体集積回路毎に上記の手順を繰り返し、データベース50に複数のウエハ情報を蓄積させる(管理手段に対応)。   The identification apparatus 1 repeats the above procedure for each of a plurality of semiconductor integrated circuits in a wafer state, and accumulates a plurality of pieces of wafer information in the database 50 (corresponding to management means).

次に、DC測定部11は、個片状態のある半導体集積回路の電気的テストを行い、当該半導体集積回路の個片状態のテストデータを取得し、メモリ部12に格納する。演算部13は、メモリ部12に格納された上記個片状態のテストデータに基づいて、上述した識別子生成方法によって当該半導体集積回路の識別子を生成し(第2の生成手段に対応)、メモリ部12に格納する。   Next, the DC measurement unit 11 performs an electrical test on the semiconductor integrated circuit in the individual piece state, acquires test data on the individual piece state of the semiconductor integrated circuit, and stores it in the memory unit 12. The calculation unit 13 generates an identifier of the semiconductor integrated circuit based on the individual piece state test data stored in the memory unit 12 by the above-described identifier generation method (corresponding to the second generation unit), and the memory unit 12.

演算部13は、メモリ部12に格納されている当該半導体集積回路の個片状態のテストデータと、当該半導体集積回路の識別子とを関連付け、データベース50に格納する。演算部13は、関連付けた情報を個片状態における当該半導体集積回路の個片情報として管理する。   The arithmetic unit 13 associates the test data of the individual state of the semiconductor integrated circuit stored in the memory unit 12 and the identifier of the semiconductor integrated circuit, and stores them in the database 50. The calculation unit 13 manages the associated information as individual piece information of the semiconductor integrated circuit in the individual piece state.

比較部14は、データベース50を参照しながら、上述した識別方法を用いて、当該半導体集積回路を識別する。比較部14は、識別した当該半導体集積回路のウエハ状態の識別子に関連付けてデータベースに記憶されているチップ情報に基づいて、対象となる個片状態の半導体集積回路のチップ位置情報を特定する(特定手段に対応)。比較部14は上記手順により特定されたチップ位置情報をメモリ部12に格納する。   The comparison unit 14 identifies the semiconductor integrated circuit using the identification method described above with reference to the database 50. The comparison unit 14 specifies the chip position information of the target semiconductor integrated circuit based on the chip information stored in the database in association with the identified wafer state identifier of the semiconductor integrated circuit (specification). Corresponding to the means). The comparison unit 14 stores the chip position information specified by the above procedure in the memory unit 12.

以上の手順により、識別装置1を用いてトレースをすることができる。   With the above procedure, tracing can be performed using the identification device 1.

なお、本実施形態においては、半導体集積回路の識別子の生成、半導体集積回路の識別、およびトレースは、何れも同一の識別装置1を用いて行っているが、これは本発明を限定するものではない。   In the present embodiment, the generation of the identifier of the semiconductor integrated circuit, the identification of the semiconductor integrated circuit, and the trace are all performed using the same identification device 1, but this does not limit the present invention. Absent.

例えば、ある装置によって、半導体集積回路のウエハ状態での識別子(第1の識別子)を生成し、他の装置によって該半導体集積回路の個片状態での識別子(第2の識別子)を生成し、生成した識別子(第2の識別子)を用いて、該半導体識別子を識別し、トレースする構成としてもよい。このような構成の場合、上記ある装置および上記他の装置は、何れもデータベース50に接続されている構成とすればよい。   For example, an identifier in the wafer state of the semiconductor integrated circuit (first identifier) is generated by a certain apparatus, and an identifier (second identifier) in the individual state of the semiconductor integrated circuit is generated by another apparatus, The generated identifier (second identifier) may be used to identify and trace the semiconductor identifier. In such a configuration, the certain device and the other device may be connected to the database 50.

なお、本実施形態においては、半導体集積回路の非動作状態における予め定められた複数の内部状態に対する電源電流値を識別子として用いた場合について説明しているが、これは本発明を限定するものではなく、各階調毎のアナログ電圧の出力端子間のバラツキを識別子として用いてもよい。   In the present embodiment, the case where the power supply current values for a plurality of predetermined internal states in the non-operating state of the semiconductor integrated circuit are used as identifiers is described. However, this does not limit the present invention. Alternatively, the variation between the output terminals of the analog voltage for each gradation may be used as the identifier.

以上が、上記方法で生成した識別子を用いて、個片状態の半導体集積回路に関する情報をトレースする方法についての説明である。続いて、識別装置1を用いて、上述したトレース方法によるトレース結果に基づいたウエハマップを作成する方法について説明する。   The above is the description of the method of tracing information related to the semiconductor integrated circuit in the individual piece state using the identifier generated by the above method. Next, a method for creating a wafer map based on the trace result by the above-described trace method using the identification apparatus 1 will be described.

識別装置1を用いた上記トレース方法によりトレースされたチップ位置情報は、メモリ部12に格納される。演算部13は、メモリ部12に格納されたチップ位置情報に基づいて、対象となる個片状態の複数の半導体集積回路と、ウエハ状態の複数の半導体集積回路のチップ位置情報のうちいずれかのチップ位置情報とを1対1に紐づけし、ウエハマップを作成する。演算部13は作成したウエハマップをメモリ部12に格納する。この際作成したウエハマップをデータベース50にも格納する構成としてもよい。   The chip position information traced by the tracing method using the identification device 1 is stored in the memory unit 12. Based on the chip position information stored in the memory unit 12, the arithmetic unit 13 selects any one of the chip position information of a plurality of individual semiconductor integrated circuits in a target state and a plurality of semiconductor integrated circuits in a wafer state. A wafer map is created by associating the chip position information with one-to-one. The arithmetic unit 13 stores the created wafer map in the memory unit 12. The wafer map created at this time may be stored in the database 50 as well.

以下では、本実施形態に係る識別装置1を用いたウエハマップ作成の幾つかの変形例について説明する。本実施形態に係る識別装置1の第1の変形例として、演算部13は、メモリ部12に格納されたチップ位置情報に基づいて、同一のウエハから作製された個片状態の複数の半導体集積回路のテストデータを集計する。さらに演算部13は、当該個片状態の複数の半導体集積回路のテストデータとチップ位置情報とをそれぞれ関連付ける。これにより識別装置1は、個片情報をさらに付加したウエハマップを作成する。例えば、識別装置1を用いることにより、個片状態でFail(電気的テストにおいて予め定められたスペックを満足できなかった)したチップのみを集計してウエハマップを作成することもできる。   Hereinafter, several modified examples of wafer map creation using the identification device 1 according to the present embodiment will be described. As a first modification of the identification device 1 according to the present embodiment, the calculation unit 13 includes a plurality of pieces of semiconductor integrated devices that are manufactured from the same wafer based on chip position information stored in the memory unit 12. Aggregate circuit test data. Further, the calculation unit 13 associates the test data and the chip position information of the plurality of semiconductor integrated circuits in the individual state. Thereby, the identification device 1 creates a wafer map to which the piece information is further added. For example, by using the identification device 1, it is possible to create a wafer map by counting only chips that have failed (in which an electrical test could not satisfy a predetermined specification) in an individual state.

また、本実施形態に係る識別装置1の第2の変形例として、演算部13は、メモリ部12に格納されたチップ位置情報に基づいて、同一のウエハから作製された個片状態の複数の半導体集積回路のテストデータを集計する。さらに演算部13は、当該個片状態の複数の半導体集積回路に対応するウエハ状態の半導体集積回路のテストデータと、個片状態の半導体集積回路のテストデータとをそれぞれ比較する。演算部13は、比較して得られたテストデータの差分を示す差分テストデータと、チップ位置情報とをさらに関連付ける。これにより識別装置1は、半導体多集積回路がウエハ状態から個片状態へ遷移する際のテストデータの変動量をさらに付加したウエハマップを作成する。例えば、識別装置1を用いることにより、複数の半導体集積回路の各々の個片状態における電流値と、ウエハ状態における電流値との差を示すウエハマップを作成することもできる。   Further, as a second modification of the identification device 1 according to the present embodiment, the calculation unit 13 includes a plurality of pieces in a single state produced from the same wafer based on chip position information stored in the memory unit 12. Summarize test data for semiconductor integrated circuits. Further, the arithmetic unit 13 compares the test data of the semiconductor integrated circuit in the wafer state corresponding to the plurality of individual semiconductor integrated circuits with the test data of the semiconductor integrated circuit in the individual state. The calculation unit 13 further associates the difference test data indicating the difference of the test data obtained by comparison with the chip position information. As a result, the identification device 1 creates a wafer map to which a variation amount of test data when the semiconductor multi-integrated circuit transitions from the wafer state to the individual state is further added. For example, by using the identification device 1, it is possible to create a wafer map indicating the difference between the current value in the individual state of each of the plurality of semiconductor integrated circuits and the current value in the wafer state.

なお、上記の例では、半導体集積回路として液晶ドライバを例に挙げ説明を行ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、液晶ドライバ以外の半導体集積回路に対して適用することが可能である。   In the above example, the liquid crystal driver is described as an example of the semiconductor integrated circuit. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to semiconductor integrated circuits other than the liquid crystal driver. It is.

〔まとめ〕
本発明の一態様に係る識別方法は、半導体集積回路の識別方法であって、ウエハ状態における同一の構成を有する複数の半導体集積回路を互いに識別するための第1の識別子を、各半導体集積回路の予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第1の生成工程と、ウエハ状態における各半導体集積回路に対して生成された第1の識別子を、該半導体集積回路のウエハ上での位置を示す位置情報に関連付けて管理する管理工程と、個片状態におけるある半導体集積回路を、個片状態における他の半導体集積回路から識別するための第2の識別子を、当該ある半導体集積回路の上記予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第2の生成工程と、上記ある半導体集積回路に対して生成された上記第2の識別子を、上記第1の識別子の何れかと同定し、同定した第1の識別子に関連付けられた上記位置情報を特定する特定工程と、を含んでいることを特徴としている。
[Summary]
An identification method according to an aspect of the present invention is an identification method of a semiconductor integrated circuit, wherein a first identifier for identifying a plurality of semiconductor integrated circuits having the same configuration in a wafer state is used as each semiconductor integrated circuit. A first generation step that is generated based on respective values of input / output signals for a plurality of predetermined internal states, and a first identifier generated for each semiconductor integrated circuit in the wafer state A management step of managing in association with position information indicating the position of the circuit on the wafer, and a second identifier for identifying a semiconductor integrated circuit in the individual piece state from other semiconductor integrated circuits in the individual piece state, A second generation step of generating based on each value of input / output signals for the plurality of predetermined internal states of the certain semiconductor integrated circuit, and for the certain semiconductor integrated circuit A step of identifying the formed second identifier as one of the first identifiers, and identifying the position information associated with the identified first identifier. .

上記の方法によれば、上記ある半導体集積回路に対して生成された上記第2の識別子を、上記第1の識別子の何れかと同定し、同定した第1の識別子に関連付けられた上記位置情報を特定するので、個片状態における半導体集積回路が、ウエハ上の何れの位置から切り出されたものであるのかを、効率的に特定することができる。   According to the method, the second identifier generated for the certain semiconductor integrated circuit is identified as one of the first identifiers, and the position information associated with the identified first identifier is obtained. Therefore, it is possible to efficiently specify from which position on the wafer the semiconductor integrated circuit in the individual piece state is cut out.

したがって、上記の方法は、半導体集積回路の製造工程における不良品の発生原因のより効率的な特定に資するものである。   Therefore, the above method contributes to more efficient identification of the cause of occurrence of defective products in the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit.

なお、上記識別子を生成するために参照する上記入出力信号の各値は、上記半導体集積回路の電気的テストを行う際に取得したものを用いることもできる。この場合には、例えば、半導体集積回路の電気的テストを行いながら、当該半導体集積回路に付与する第2の識別子を実質的にリアルタイムで生成し、生成した当該第2の識別子を用いて、上記位置情報をトレースすることができる。   It should be noted that the values of the input / output signals referred to for generating the identifier may be those obtained when an electrical test of the semiconductor integrated circuit is performed. In this case, for example, while performing an electrical test of the semiconductor integrated circuit, the second identifier to be given to the semiconductor integrated circuit is generated substantially in real time, and the generated second identifier is used to generate the second identifier. Location information can be traced.

さらに、本発明の一態様に係る識別方法において、上記位置情報に基づいて、個片状態における半導体集積回路の、ウエハ上での位置を示すウエハマップを作成するウエハマップ作成工程を含んでいることが好ましい。   Furthermore, the identification method according to an aspect of the present invention includes a wafer map creation step of creating a wafer map indicating the position of the semiconductor integrated circuit in the individual piece state on the wafer based on the position information. Is preferred.

上記の方法によれば、対象となる1又は複数の半導体集積回路に関するチップ位置情報(またはチップ座標)の集合であるウエハマップ作成する。上記の方法によれば、作成したウエハマップを分析することにより、例えば、半導体集積回路の不良品の発生頻度が、ウエハロットやウエハ上の位置にどのように依存しているのかを効率的に特定することができる。   According to the above method, a wafer map that is a set of chip position information (or chip coordinates) related to one or a plurality of target semiconductor integrated circuits is created. According to the above method, by analyzing the created wafer map, for example, it is possible to efficiently identify how the occurrence frequency of defective products of a semiconductor integrated circuit depends on the wafer lot and the position on the wafer. can do.

さらに、本発明の一態様に係る識別方法において、上記第1の識別子は、当該半導体集積回路の非動作状態における予め定められた複数の内部状態に対する電源電流値に基づいて生成されたものであり、上記第2の識別子は、当該半導体集積回路の非動作状態における上記予め定められた複数の内部状態のうち、一部の内部状態に対する電源電流値に基づいて生成されたものである、ことが好ましい。   Furthermore, in the identification method according to one aspect of the present invention, the first identifier is generated based on power supply current values for a plurality of predetermined internal states in a non-operating state of the semiconductor integrated circuit. The second identifier is generated based on a power supply current value for a part of the plurality of predetermined internal states in the non-operating state of the semiconductor integrated circuit. preferable.

一般に、半導体集積回路を構成する各半導体素子は、加工寸法の僅かな不均一性や、ドープされる不純物の僅かな不均一性などの微視的要因に起因して、同種の半導体素子であってもそれらの特性は互いに異なる。従って、同種の半導体素子により構成された同一の構成を有する半導体集積回路であっても、同一条件下の電源電流値は半導体集積回路毎に異なる。   In general, each semiconductor element constituting a semiconductor integrated circuit is the same type of semiconductor element due to microscopic factors such as slight non-uniformity in processing dimensions and slight non-uniformity of doped impurities. But their characteristics are different from each other. Therefore, even in a semiconductor integrated circuit having the same configuration constituted by the same kind of semiconductor elements, the power supply current value under the same condition differs for each semiconductor integrated circuit.

また、半導体集積回路を構成する各半導体素子の特性は、時間が経過したり、ウエハ状態から個片状態へ切り出したりしたとしてもほとんど変化することはない。従って、同一条件下で或る半導体集積回路の電源電流値は、ほとんど変化することがない。それゆえ、同一条件で半導体集積回路の電源電流値を各半導体集積回路に固有の識別子として利用することが可能である。   Further, the characteristics of the semiconductor elements constituting the semiconductor integrated circuit hardly change even if time elapses or the wafer state is cut out from the wafer state. Therefore, the power supply current value of a certain semiconductor integrated circuit hardly changes under the same conditions. Therefore, the power supply current value of the semiconductor integrated circuit can be used as an identifier unique to each semiconductor integrated circuit under the same conditions.

したがって、上記識別方法によれば、複数の半導体集積回路の各々に付与する識別子を、同一条件下で該半導体集積回路の電源電流値に基づいて生成することができるので、チップ面積を増加させることなく、データ量と共に、データ収集時間を抑制して高効率でトレースできるという効果を奏する。   Therefore, according to the above identification method, the identifier to be assigned to each of the plurality of semiconductor integrated circuits can be generated based on the power supply current value of the semiconductor integrated circuit under the same conditions, thereby increasing the chip area. In addition, there is an effect that the data collection time can be suppressed and the trace can be performed with high efficiency together with the data amount.

さらに、本発明の一態様に係る識別方法において、上記第1の識別子は、当該半導体集積回路の非動作状態における予め定められた複数の内部状態に対するアナログ信号に基づいて生成されたものであり、上記第2の識別子は、当該半導体集積回路の非動作状態における上記予め定められた複数の内部状態のうち、一部の内部状態に対するアナログ信号に基づいて生成されたものである、ことが好ましい。   Furthermore, in the identification method according to one aspect of the present invention, the first identifier is generated based on analog signals for a plurality of predetermined internal states in a non-operating state of the semiconductor integrated circuit, The second identifier is preferably generated based on an analog signal for a part of the plurality of predetermined internal states in the non-operating state of the semiconductor integrated circuit.

さらに、本発明の一態様に係る識別方法において、上記半導体集積回路は、液晶ドライバである、ことが好ましい。   Furthermore, in the identification method according to one embodiment of the present invention, the semiconductor integrated circuit is preferably a liquid crystal driver.

また、本発明の一態様に係る識別装置(識別装置1)は、半導体集積回路を識別する識別装置であって、ウエハ状態における同一の構成を有する複数の半導体集積回路を互いに識別するための第1の識別子を、各半導体集積回路の予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第1の生成手段(演算部13)と、ウエハ状態における各半導体集積回路に対して生成された第1の識別子を、該半導体集積回路のウエハ上での位置を示す位置情報に関連付けて管理する管理手段(演算部13、データベース50)と、個片状態におけるある半導体集積回路を、個片状態における他の半導体集積回路から識別するための第2の識別子を、当該ある半導体集積回路の上記予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第2の生成手段(演算部13)と、上記ある半導体集積回路に対して生成された上記第2の識別子を、上記第1の識別子の何れかと同定し、同定した第1の識別子に関連付けられた上記位置情報を特定する特定手段(比較部14)と、を備えていることを特徴としている。   An identification apparatus (identification apparatus 1) according to one embodiment of the present invention is an identification apparatus for identifying a semiconductor integrated circuit, and is a first apparatus for identifying a plurality of semiconductor integrated circuits having the same configuration in a wafer state from each other. 1 is generated on the basis of each value of input / output signals for a plurality of predetermined internal states of each semiconductor integrated circuit, and each semiconductor integrated circuit in the wafer state Management means (arithmetic unit 13, database 50) for managing the first identifier generated for the semiconductor integrated circuit in association with position information indicating the position of the semiconductor integrated circuit on the wafer, and a semiconductor integrated circuit in a single piece state Is a second identifier for identifying a plurality of predetermined internal states of the certain semiconductor integrated circuit. A second generation unit (arithmetic unit 13) that generates based on each value of the first and second identifiers generated for the semiconductor integrated circuit are identified as one of the first identifiers And specifying means (comparison unit 14) for specifying the position information associated with the first identifier.

上記の識別装置によれば、上記の識別方法と同様の効果を奏する。   According to said identification apparatus, there exists an effect similar to said identification method.

また、本発明の一態様に係る識別装置を動作させるためのプログラムであって、コンピュータを上記識別装置が備えている各手段として機能させるためのプログラム、および、それらのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体についても本発明の範疇に含まれる。   In addition, a program for operating the identification device according to one aspect of the present invention, the program for causing a computer to function as each unit included in the identification device, and a computer readable recording of the program Such recording media are also included in the scope of the present invention.

(付記事項)
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
(Additional notes)
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope shown in the claims, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. Is also included in the technical scope of the present invention. Furthermore, a new technical feature can be formed by combining the technical means disclosed in each embodiment.

〔ソフトウェアによる実現例〕
最後に、識別装置1の各ブロックは、集積回路(ICチップ)上に形成された論理回路によってハードウェア的に実現してもよいし、CPU(Central Processing Unit)を用いてソフトウェア的に実現してもよい。
[Example of software implementation]
Finally, each block of the identification device 1 may be realized by hardware by a logic circuit formed on an integrated circuit (IC chip), or by software using a CPU (Central Processing Unit). May be.

後者の場合、識別装置1は、各機能を実現するプログラムの命令を実行するCPU、上記プログラムを格納したROM(Read Only Memory)、上記プログラムを展開するRAM(Random Access Memory)、上記プログラムおよび各種データを格納するメモリ等の記憶装置(記録媒体)などを備えている。そして、本発明の目的は、上述した機能を実現するソフトウェアである識別装置1の制御プログラムのプログラムコード(実行形式プログラム、中間コードプログラム、ソースプログラム)をコンピュータで読み取り可能に記録した記録媒体を、上記識別装置1に供給し、そのコンピュータ(またはCPUやMPU)が記録媒体に記録されているプログラムコードを読み出し実行することによっても、達成可能である。   In the latter case, the identification device 1 includes a CPU that executes instructions of a program that realizes each function, a ROM (Read Only Memory) that stores the program, a RAM (Random Access Memory) that expands the program, the program, and various types A storage device (recording medium) such as a memory for storing data is provided. An object of the present invention is to provide a recording medium in which a program code (execution format program, intermediate code program, source program) of a control program of the identification device 1 which is software that realizes the above-described functions is recorded so as to be readable by a computer. This can also be achieved by supplying the identification device 1 and reading and executing the program code recorded on the recording medium by the computer (or CPU or MPU).

上記記録媒体としては、一時的でない有形の媒体(non-transitory tangible medium)、例えば、磁気テープやカセットテープ等のテープ類、フロッピー(登録商標)ディスク/ハードディスク等の磁気ディスクやCD−ROM/MO/MD/DVD/CD−R等の光ディスクを含むディスク類、ICカード(メモリカードを含む)/光カード等のカード類、マスクROM/EPROM/EEPROM(登録商標)/フラッシュROM等の半導体メモリ類、あるいはPLD(Programmable logic device)やFPGA(Field Programmable Gate Array)等の論理回路類などを用いることができる。   Examples of the recording medium include non-transitory tangible medium, such as magnetic tape and cassette tape, magnetic disk such as floppy (registered trademark) disk / hard disk, and CD-ROM / MO. Discs including optical discs such as / MD / DVD / CD-R, cards such as IC cards (including memory cards) / optical cards, semiconductor memories such as mask ROM / EPROM / EEPROM (registered trademark) / flash ROM Alternatively, logic circuits such as PLD (Programmable Logic Device) and FPGA (Field Programmable Gate Array) can be used.

また、識別装置1を通信ネットワークと接続可能に構成し、上記プログラムコードを通信ネットワークを介して供給してもよい。この通信ネットワークは、プログラムコードを伝送可能であればよく、特に限定されない。例えば、インターネット、イントラネット、エキストラネット、LAN、ISDN、VAN、CATV通信網、仮想専用網(Virtual Private Network)、電話回線網、移動体通信網、衛星通信網等が利用可能である。また、この通信ネットワークを構成する伝送媒体も、プログラムコードを伝送可能な媒体であればよく、特定の構成または種類のものに限定されない。例えば、IEEE1394、USB、電力線搬送、ケーブルTV回線、電話線、ADSL(Asymmetric Digital Subscriber Line)回線等の有線でも、IrDAやリモコンのような赤外線、Bluetooth(登録商標)、IEEE802.11無線、HDR(High Data Rate)、NFC(Near Field Communication)、DLNA(Digital Living Network Alliance)、携帯電話網、衛星回線、地上波デジタル網等の無線でも利用可能である。なお、本発明は、上記プログラムコードが電子的な伝送で具現化された、搬送波に埋め込まれたコンピュータデータ信号の形態でも実現され得る。   The identification device 1 may be configured to be connectable to a communication network, and the program code may be supplied via the communication network. The communication network is not particularly limited as long as it can transmit the program code. For example, the Internet, intranet, extranet, LAN, ISDN, VAN, CATV communication network, virtual private network, telephone line network, mobile communication network, satellite communication network, and the like can be used. The transmission medium constituting the communication network may be any medium that can transmit the program code, and is not limited to a specific configuration or type. For example, even with wired lines such as IEEE 1394, USB, power line carrier, cable TV line, telephone line, and ADSL (Asymmetric Digital Subscriber Line) line, infrared rays such as IrDA and remote control, Bluetooth (registered trademark), IEEE 802.11 wireless, HDR ( It can also be used by radio such as High Data Rate (NFC), Near Field Communication (NFC), Digital Living Network Alliance (DLNA), mobile phone network, satellite line, and digital terrestrial network. The present invention can also be realized in the form of a computer data signal embedded in a carrier wave in which the program code is embodied by electronic transmission.

本発明に係る識別方法は、半導体集積回路の識別に好適に用いることができる。   The identification method according to the present invention can be suitably used for identification of a semiconductor integrated circuit.

1 識別装置
11 DC測定部
12 メモリ部
13 演算部(第1の生成手段、第2の生成手段、管理手段)
14 比較部(特定手段)
15 電源供給部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Identification apparatus 11 DC measurement part 12 Memory part 13 Calculation part (1st production | generation means, 2nd production | generation means, management means)
14 Comparison part (specifying means)
15 Power supply unit

Claims (5)

半導体集積回路の識別方法であって、
ウエハ状態における同一の構成を有する複数の半導体集積回路を互いに識別するための第1の識別子を、各半導体集積回路の予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第1の生成工程と、
ウエハ状態における各半導体集積回路に対して生成された第1の識別子を、該半導体集積回路のウエハ上での位置を示す位置情報に関連付けて管理する管理工程と、
上記複数の半導体集積回路が上記ウエハから切り出された状態である個片状態におけるある半導体集積回路を個片状態における他の半導体集積回路から識別するための第2の識別子を、当該ある半導体集積回路の上記予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第2の生成工程と、
上記ある半導体集積回路に対して生成された上記第2の識別子を、上記第1の識別子の何れかと同定し、同定した第1の識別子に関連付けられた上記位置情報を特定する特定工程と、
を含んでいることを特徴とする識別方法。
A method for identifying a semiconductor integrated circuit, comprising:
A first identifier for identifying a plurality of semiconductor integrated circuits having the same configuration in a wafer state is generated based on each value of input / output signals for a plurality of predetermined internal states of each semiconductor integrated circuit. A first generation step;
A management step of managing the first identifier generated for each semiconductor integrated circuit in a wafer state in association with position information indicating the position of the semiconductor integrated circuit on the wafer;
A second identifier for identifying a semiconductor integrated circuit in a single piece state in which the plurality of semiconductor integrated circuits are cut from the wafer from other semiconductor integrated circuits in the single piece state; A second generation step of generating based on each value of the input / output signal for the plurality of predetermined internal states of
A specifying step of identifying the second identifier generated for the certain semiconductor integrated circuit as one of the first identifiers and specifying the position information associated with the identified first identifier;
The identification method characterized by including.
上記位置情報を蓄積し、個片状態における1または複数の半導体集積回路の各々に関する、ウエハ上での位置を示すウエハマップを作成するウエハマップ作成工程を含んでいることを特徴とする請求項1に記載の識別方法。   2. A wafer map creating step for accumulating the position information and creating a wafer map indicating a position on the wafer for each of one or a plurality of semiconductor integrated circuits in an individual state. Identification method described in 1. 請求項1に記載の識別方法であって、
上記第1の識別子は、当該半導体集積回路の非動作状態における予め定められた複数の内部状態に対する電源電流値に基づいて生成されたものであり、
上記第2の識別子は、当該半導体集積回路の非動作状態における上記予め定められた複数の内部状態のうち、一部の内部状態に対する電源電流値に基づいて生成されたものである、
ことを特徴とする識別方法。
The identification method according to claim 1,
The first identifier is generated based on power supply current values for a plurality of predetermined internal states in a non-operating state of the semiconductor integrated circuit,
The second identifier is generated based on a power supply current value for a part of the plurality of predetermined internal states in the non-operating state of the semiconductor integrated circuit.
An identification method characterized by the above.
請求項1に記載の識別方法であって、
上記第1の識別子は、当該半導体集積回路の非動作状態における予め定められた複数の内部状態に対するアナログ信号に基づいて生成されたものであり、
上記第2の識別子は、当該半導体集積回路の非動作状態における上記予め定められた複数の内部状態のうち、一部の内部状態に対するアナログ信号に基づいて生成されたものである、
ことを特徴とする識別方法。
The identification method according to claim 1,
The first identifier is generated based on analog signals for a plurality of predetermined internal states in a non-operating state of the semiconductor integrated circuit,
The second identifier is generated based on an analog signal for a part of the plurality of predetermined internal states in the non-operating state of the semiconductor integrated circuit.
An identification method characterized by the above.
半導体集積回路を識別するための識別装置であって、
ウエハ状態における同一の構成を有する複数の半導体集積回路を互いに識別するための第1の識別子を、各半導体集積回路の予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第1の生成手段と、
ウエハ状態における各半導体集積回路に対して生成された第1の識別子を、該半導体集積回路のウエハ上での位置を示す位置情報に関連付けて管理する管理手段と、
上記複数の半導体集積回路が上記ウエハから切り出された状態である個片状態におけるある半導体集積回路を、個片状態における他の半導体集積回路から識別するための第2の識別子を、当該ある半導体集積回路の上記予め定められた複数の内部状態に対する入出力信号の各値に基づいて生成する第2の生成手段と、
上記ある半導体集積回路に対して生成された上記第2の識別子を、上記第1の識別子の何れかと同定し、同定した第1の識別子に関連付けられた上記位置情報を特定する特定手段と、
を備えていることを特徴とする識別装置。
An identification device for identifying a semiconductor integrated circuit,
A first identifier for identifying a plurality of semiconductor integrated circuits having the same configuration in a wafer state is generated based on each value of input / output signals for a plurality of predetermined internal states of each semiconductor integrated circuit. First generation means;
Management means for managing the first identifier generated for each semiconductor integrated circuit in a wafer state in association with position information indicating the position of the semiconductor integrated circuit on the wafer;
A second identifier for identifying a semiconductor integrated circuit in a single piece state in which the plurality of semiconductor integrated circuits are cut out from the wafer from other semiconductor integrated circuits in the single piece state, Second generation means for generating based on each value of the input / output signal for the plurality of predetermined internal states of the circuit;
Identifying means for identifying the second identifier generated for the certain semiconductor integrated circuit as one of the first identifiers and identifying the position information associated with the identified first identifier;
An identification device comprising:
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