JP5974144B2 - 導電性微粉末および導電性微粉末分散液の製造方法 - Google Patents
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Description
基板上にセルロースアセテートブチレート(CAB)からなる剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に、金、銀、銅、白金、ニッケル、クロム、錫、インジウム、チタン、シリコンからなる群から選ばれる1種以上の金属、その合金、またはその導電性を有する酸化物、炭化物もしくは窒化物からなる、導電性の金属層を形成する工程と、
前記剥離層を溶解可能な溶剤を用いて、前記基板から、前記剥離層が片面に形成された前記金属層を剥離するとともに、前記剥離層が片面に形成された前記金属層を鱗片状に粉砕する工程と、
前記粉砕された前記剥離層が片面に形成された鱗片状微粒子を含む溶剤から固形分を回収し、乾燥する工程と、を備えることを特徴とする。
これらの金属とCABとの組み合わせによって、分散性に優れ、良好な印刷性を有し、かつ低温での熱処理によっても低抵抗率の導電性膜が得られる導電性微粉末とすることができる。
また、好ましくは、前記保護層が前記導電性微粉末全体に占める割合が0.01〜30質量%であることを特徴とする。
また、好ましくは、前記鱗片状微粒子は平均厚さが1〜100nmであり、平均長径が1〜10μmであることを特徴とする。
また、好ましくは、前記鱗片状微粒子は、アスペクト比が10以上、20000以下であることを特徴とする。
基板上にセルロースアセテートブチレートからなる剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に、金、銀、銅、白金、ニッケル、クロム、錫、インジウム、チタン、シリコンからなる群から選ばれる1種以上の金属、その合金、またはその導電性を有する酸化物、炭化物もしくは窒化物からなる、導電性の金属層を形成する工程と、
前記剥離層を溶解可能な溶剤を用いて、前記基板から、前記剥離層が片面に形成された前記金属層を剥離するとともに、前記剥離層が片面に形成された前記金属層を鱗片状に粉砕する工程と、を備えることを特徴とする。
さらに好ましくは、前記導電性微粉末分散液は、前記セルロースアセテートブチレート以外には実質的に分散剤を含まないことを特徴とする。
厚さが12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に、5質量%のCABを含む溶液をグラビアコートで塗工し、100℃以下で乾燥して、剥離層を形成した。CABの塗工量は0.06±0.01g/m2であった。剥離層上に、高周波誘導加熱・真空蒸着法によって、平均厚さが30nmの銀の薄膜を形成した。銀の厚さは、成膜中に膜の干渉を利用して測定した平均厚さである。次に、剥離層および銀層を形成したPETフィルム面に酢酸ブチルをスプレーして剥離層を溶解し、銀層をドクターブレードで掻き落とした。さらに、得られた銀粉と溶剤の混合物を、超音波ホモジナイザーを用いて、平均長径が約3μmとなるように粉砕した。これにより得られた導電性微粉末分散液を、遠心分離を用いて濃縮し、固形分濃度を15質量%として、実施例1の導電性微粒子分散液を得た。
実施例1と同じ方法を用いて、それぞれ、銅(実施例2)、ニッケル(実施例3)、クロム(実施例4)、錫(実施例5)、チタン(実施例6)、シリコン(実施例7)、インジウム錫酸化物(ITO)(実施例8)の鱗片状微粒子を含む導電性微粉末分散液および導電性微粉末を作製した。
フッ素樹脂基板上に、高周波誘導加熱・真空蒸着法によって平均厚さが30nmの銀の薄膜を形成した後、その表面に酢酸ブチルをスプレーして、銀層をドクターブレードで掻き落とした。さらに、得られた銀粉と溶剤の混合物を、超音波ホモジナイザーを用いて、平均長径が約3μmとなるように粉砕した。これにより得られた導電性微粉末分散液を、遠心分離を用いて濃縮し、固形分濃度を20質量%として、比較例1の導電性微粒子分散液を得た。
比較例1と同じ方法を用いて、ニッケルの鱗片状微粒子を含む導電性微粉末分散液および導電性微粉末を作製した。
Claims (10)
- 基板上にセルロースアセテートブチレートからなる剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に、金、銀、銅、白金、ニッケル、クロム、錫、インジウム、チタン、シリコンからなる群から選ばれる1種以上の金属、その合金、またはその導電性を有する酸化物、炭化物もしくは窒化物からなる、導電性の金属層を形成する工程と、
前記剥離層を溶解可能な溶剤を前記基板側に塗布することで前記剥離層を溶解し前記基板から、前記剥離層が片面に形成された前記金属層を剥離する工程と、
前記剥離層が片面に形成された前記金属層を鱗片状に粉砕する工程と、を備える、
鱗片状微粒子の片面に鱗片形状を維持するための保護層が形成された導電性膜形成用の導電性微粉末分散液の製造方法。 - 前記導電性微粉末分散液は、前記セルロースアセテートブチレート以外には実質的に分散剤を含まないことを特徴とする請求項1に記載の導電性微粉末分散液の製造方法。
- 基板上にセルロースアセテートブチレートからなる剥離層を形成する工程と、
前記剥離層上に、金、銀、銅、白金、ニッケル、クロム、錫、インジウム、チタン、シリコンからなる群から選ばれる1種以上の金属、その合金、またはその導電性を有する酸化物、炭化物もしくは窒化物からなる、導電性の金属層を形成する工程と、
前記剥離層を溶解可能な溶剤を前記基板側に塗布することで前記剥離層を溶解し前記基板から、前記剥離層が片面に形成された前記金属層を剥離する工程と、
前記剥離層が片面に形成された前記金属層を鱗片状に粉砕する工程と、
前記粉砕された前記剥離層が片面に形成された鱗片状微粒子を含む溶剤から固形分を回収し、乾燥する工程と、を備える、
鱗片状微粒子の片面に鱗片形状を維持するための保護層が形成された導電性膜形成用の導電性微粉末の製造方法。 - 前記鱗片状微粒子が銀からなることを特徴とする請求項3に記載の導電性微粉末の製造方法。
- 前記保護層が前記導電性微粉末全体に占める割合が0.01〜30質量%であることを特徴とする請求項3または4に記載の導電性微粉末の製造方法。
- 前記鱗片状微粒子は、平均厚さが1〜100nmであり、平均長径が1〜20μmであることを特徴とする請求項3〜5のいずれか一項に記載の導電性微粉末の製造方法。
- 前記鱗片状微粒子は、アスペクト比が10以上、20000以下であることを特徴とする請求項3〜6のいずれか一項に記載の導電性微粉末の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の導電性微粉末分散液の製造方法により製造された導電性微粉末分散液を対象物に塗工する工程と、
前記導電性微粉末分散液が塗工された対象物を熱処理をする工程と、を備える導電性膜の製造方法。 - 請求項3〜7のいずれか1項に記載の導電性微粉末の製造方法により製造された導電性微粉末を含む溶媒を対象物に塗工する工程と、
前記導電性微粉末を含む溶媒が塗工された対象物を熱処理をする工程と、を備える導電性膜の製造方法。 - 前記熱処理温度は150℃であることを特徴とする請求項8又は9に記載の導電性膜の製造方法。
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