JP5953044B2 - 殺菌装置及び殺菌方法 - Google Patents
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Description
本発明は、過酸化水素ガスを用いて密閉空間を殺菌する殺菌装置及び殺菌方法に関する。
従来、密閉空間や密閉空間に配置された製品や装置等の対象物を殺菌する方法として、ホルムアルデヒドを用いた薫蒸殺菌する技術が知られていた。しかし、ホルムアルデヒドを用いた殺菌方法では、人体への影響等の問題がある。そこで、安全性や生産性の高い過酸化水素ガス（Vapor Hydrogen Peroxide）を用いた殺菌方法が知られている。
このような過酸化水素ガスを用いた殺菌装置として、過酸化水素ガスを密閉空間内に充満させることで、過酸化水素ガスのラジカルにより微生物のＤＮＡ、細胞壁又は酵素等を破壊して殺菌を行う技術が知られている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
また、多孔性包材からなる包装容器に封入されたプレフィルドシリンジの表面を殺菌するために、プレフィルドシリンジの表面温度を管理するとともに、その後、別の温度及び湿度を管理して殺菌を行う殺菌方法も知られている（例えば、特許文献３参照）。他にも、密閉空間内の過酸化水素蒸気の濃度を急速に上昇させ、その後、当該濃度が所定濃度以下となった場合に、密閉空間の過酸化水素蒸気を除去する殺菌方法も知られている（例えば、特許文献４参照）。また、より高い殺菌性を得るために、直接対象物に過酸化水素水を噴霧する方法も知られている。
上述した殺菌装置及び殺菌方法では、以下の問題があった。即ち、上述した殺菌方法においては、高い殺菌性能を得るために、過酸化水素ガスの濃度を高めることで管理が成されている。しかし、過酸化水素は、強酸化力を有することから、高い腐食性を有する。このため、高い殺菌性能を得るために過酸化水素ガスの濃度を高めると、密閉空間内に配置された装置等が腐食する虞があるとともに、殺菌効率が悪い。また、高湿度の条件化で殺菌を行う方法や直接過酸化水素水を直接噴霧する方法を用いることで、高い殺菌性能を得ることが可能であるが、腐食性も高くなることから、使用可能な条件が制限される問題や、管理が難しいという問題もある。
そこで本発明は、管理が容易な殺菌装置及び殺菌方法を提供することを目的とする。
前記課題を解決し目的を達成するために、本発明の殺菌装置及び殺菌方法は、次のように構成されている。
本発明の一態様として、殺菌装置は、密閉空間に過酸化水素ガスを供給するガス供給装置と、前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度、及び、前記密閉空間内の湿度を検出可能な検出器と、前記密閉空間内の所定の殺菌効果が得られる閾値を記憶する記憶手段と、前記密閉空間内に供給された前記過酸化水素ガスの濃度の変化の経過時間による第１積分値、並びに、前記密閉空間内の湿度の変化の経過時間による第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積を前記閾値と比較し、前記第１積分値及び前記第２積分値の積が前記閾値以上の場合に、前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有すると判断し、その後、前記ガス供給装置による前記過酸化水素ガスの供給を停止する制御手段と、を備え、前記密閉空間内の、前記過酸化水素ガスの供給の開始時の湿度は、相対湿度で３０％以上７０％以下であり、前記閾値は、前記密閉空間の所定の殺菌効果が得られる、前記第１積分値及び前記第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積であり、前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度は、２０ｐｐｍから１５０ｐｐｍの範囲である。
本発明の一態様として、殺菌方法は、過酸化水素ガスを密閉空間に供給し、前記密閉空間に供給された前記過酸化水素ガスの濃度、及び、前記密閉空間内の湿度を検出し、前記密閉空間内に供給された前記過酸化水素ガスの濃度の変化の経過時間による第１積分値、並びに、前記密閉空間内の湿度の変化の経過時間による第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積を、記憶部に記憶された前記密閉空間内の所定の殺菌効果が得られる閾値と比較し、前記第１積分値及び前記第２積分値の積が閾値以上の場合に、前記密閉空間内が所定の殺菌効果を有すると判断し、前記密閉空間内が所定の殺菌効果を有すると判断した後、前記過酸化水素ガスの供給を停止する、ことを有し、前記密閉空間内の、前記過酸化水素ガスの供給の開始時の湿度は、相対湿度で３０％以上７０％以下であり、前記閾値は、前記密閉空間の所定の殺菌効果が得られる、前記第１積分値及び前記第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積であり、前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度は、２０ｐｐｍから１５０ｐｐｍの範囲である。
本発明によれば、管理が容易な殺菌装置及び殺菌方法を提供することが可能となる。
以下、本発明の一実施形態に関わる殺菌装置１及び殺菌方法の構成を、図１乃至図５を用いて説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る殺菌装置１の構成を模式的に示す説明図、図２は同殺菌装置１を用いた殺菌方法に用いるＤＨｖ値を算出するための濃度及び湿度並びに時間の関係の一例を示す説明図、図３は殺菌方法に用いるＤＨｖ値と殺菌効果Ｄとの関係、及び、所定の殺菌効果Ｄを得られる閾値の一例を示す説明図、図４は、殺菌装置１を用いた殺菌方法の一例を示す流れ図、図５は、殺菌方法を用いた密閉空間の殺菌の効果の一例を示す説明図である。
図１に示すように、殺菌装置１は、密閉された室内等の密閉空間１００に接続される。殺菌装置１は、密閉空間１００又は密閉空間１００に配置された装置や容器等の殺菌対象を過酸化水素ガス（ＶＨＰ：Vapor Hydrogen Peroxide）により殺菌可能に形成されている。
なお、密閉空間１００とは、室内が密閉された空間が好ましいが、密閉空間１００内の過酸化水素ガスが外部に漏洩しても、当該過酸化水素ガスの濃度等の低下が少ない気密性の室内も含まれる。また、殺菌装置１は、密閉空間１００の過酸化水素ガスの濃度が低濃度帯での殺菌に用いられる。ここで、低濃度帯とは、例えば、密閉空間１００の過酸化水素ガスの濃度が２０ｐｐｍから１５０ｐｐｍの範囲である。
なお、本実施形態における殺菌は、滅菌であって、無菌性保障レベル（Sterility assurance level：ＳＡＬ）を採用する。また、本実施形態における殺菌は、無菌性保障レベルＳＡＬ≦１０−６となるレベルを示す。なお、当該レベルを、殺菌効果Ｄとして、その表示を＞６Ｄとして以下説明する。ここで、６Ｄの「６」とは、冪数（対数）を示しており、殺菌効果Ｄとして、例えば、ＳＡＬ≦１０−５は５Ｄを、ＳＡＬ≦１０−４は４Ｄとして以下説明するとともに、同様に、ＳＡＬの値の冪数を殺菌効果Ｄと用いて以下説明する。
殺菌装置１は、過酸化水素ガスを発生させる発生装置１１と、過酸化水素ガスを密閉空間１００に供給するガス供給装置１２と、密閉空間１００内に配置された検出器１３と、発生装置１１、ガス供給装置１２及び検出器１３に信号線Ｓ等を介して接続される制御手段１４と、を備えている。
発生装置１１は、外郭部材２１と、タンク２２と、供給手段２３と、プレートヒータ２４と、を備えている。外郭部材２１は、密閉空間１００と、ガス供給装置１２の後述する配管３１を介して連通する。発生装置１１は、密閉空間１００の過酸化水素ガスの濃度が低濃度帯となるように、過酸化水素ガスを発生可能に形成されている。
タンク２２は、過酸化水素水を貯留可能に形成されている。なお、本実施形態において、過酸化水素水は、その濃度が３５ｗ／ｗ％の過酸化水素水が用いられる。
供給手段２３は、タンク２２内の過酸化水素水を所定の量だけプレートヒータ２４上に供給可能に形成されている。例えば、供給手段２３は、過酸化水素水を霧状に噴霧可能なスプレーや、過酸化水素水を滴下するノズルである。プレートヒータ２４は、１５０℃以上に加熱され、供給された過酸化水素水を蒸発させて、過酸化水素ガスを発生可能に形成されている。
ガス供給装置１２は、発生した過酸化水素ガスを供給可能に外郭部材２１及び密閉空間１００間を接続する配管３１と、配管３１を介して外郭部材２１内で発生した過酸化水素ガスを密閉空間１００に供給するブロア等の圧送手段３２と、を備えている。また、ガス供給装置１２は、配管３１を開閉する開閉弁等を有していても良い。圧送手段３２は、制御手段１４に、信号線Ｓを介して接続される。圧送手段３２は、例えば、外郭部材２１内に配置される。
検出器１３は、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度、及び、密閉空間１００内の湿度を検出可能に形成されている。また、検出器１３は、検出した濃度及び湿度の情報を制御手段１４に送信可能に形成されている。検出器１３は、複数設けられていても良い。なお、本実施形態においては、湿度は相対湿度を示す。
制御手段１４は、発生装置１１及びガス供給装置１２を制御可能に形成されている。制御手段１４は、供給手段２３の過酸化水素水の供給及び停止を制御可能に形成されている。制御手段１４は、圧送手段３２の運転及び停止を制御可能に形成されている。
また、制御手段１４は、記憶手段４１を有している。記憶手段４１には、密閉空間１００内の所定の殺菌効果Ｄ（＞６Ｄ）を満たす閾値であるＤＨｖ０値が記憶されている。
また、制御手段１４は、以下の機能（１）〜（４）を有している。
（１）過酸化水素ガスを発生させて、密閉空間１００に供給する機能。
（２）検出された濃度及び湿度から密閉空間１００の殺菌効果Ｄの状態を示すＤＨｖ値を算出する機能。
（３）算出したＤＨｖ値と、記憶手段４１に記憶されたＤＨｖ０値との比較を行う機能。
（４）ＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも大きい場合に、過酸化水素ガスの供給を停止させる機能。
次に、これら機能（１）〜（４）について説明する。
機能（１）は、制御手段１４が供給手段２３を制御し、発生装置１１により過酸化水素ガスを発生させ、圧送手段３２を駆動して発生させた過酸化水素ガスを、配管３１を介して発生装置１１から密閉空間１００に供給する機能である。
機能（１）は、制御手段１４が供給手段２３を制御し、発生装置１１により過酸化水素ガスを発生させ、圧送手段３２を駆動して発生させた過酸化水素ガスを、配管３１を介して発生装置１１から密閉空間１００に供給する機能である。
機能（２）は、制御手段１４が、検出器１３により検出された濃度及び湿度の情報を受信し、当該濃度及び湿度の情報に基づいてＤＨｖ値を算出する。ＤＨｖ値は、以下の数式（１）により求められる。
具体的には、ＤＨｖ値は、図２に示す密閉空間１００内の濃度の変化から求められる関数ｆ（ｘ）を時間ｘで積分することで求められる第１積分値、及び、密閉空間１００内の湿度の変化から求められる関数ｆ′（Ｘ）を時間ｘで積分することで求められる第２積分値を積算して求められる。このＤＨｖ値は、殺菌効果Ｄの基準となる閾値であるＤＨｖ０値と比較することで、殺菌効果Ｄを推測する値である。
機能（３）は、制御手段１４が、機能（２）で算出されたＤＨｖ値と、記憶手段４１に記憶された殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たすＤＨｖ０値とを比較する機能である。
機能（４）は、機能（３）で比較した結果、ＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも大きい（ＤＨｖ＞ＤＨｖ０）場合には、密閉空間１００の所定の殺菌が終了したものと判断し、発生装置１１を停止させる機能である。
次に、記憶手段４１に記憶された、殺菌の終了の基準となるＤＨｖ０値について、図３を用いて説明する。
ＤＨｖ０値は、所定の条件下において複数回の条件で複数回、密閉空間１００を殺菌して上述の数式（１）からＤＨｖ値を求め、これら求めたＤＨｖ値のうち、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを得られるＤＨｖ値を閾値として設定したものである。
ＤＨｖ０値は、所定の条件下において複数回の条件で複数回、密閉空間１００を殺菌して上述の数式（１）からＤＨｖ値を求め、これら求めたＤＨｖ値のうち、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを得られるＤＨｖ値を閾値として設定したものである。
具体的には、先ず、密閉空間１００に、バイオロジカルインジケータ（以下、「ＢＩ」として説明）を複数配置させる。なお、本実施形態においては、過酸化水素ガスの耐性指標の一でとして、Apex Laboratory,Inc.製Geobacillus stearothermophilus ATCC1298（菌数１０６cfu/disc）のＢＩを用いた。
なお、密閉空間１００は、容積や形状等が異なる空間を行う。なお、図３に示すように、本実施形態においては密閉空間１００として、異なる空間Ａ及び空間Ｂを用いた。
次に、過酸化水素ガスの濃度、密閉空間１００内の湿度及び殺菌時間を複数の異なる条件として、それぞれで密閉空間１００の殺菌を行う。殺菌開始から所定の経過時間で、密閉空間１００内のＢＩの生残菌数測定により評価を行い、殺菌効果Ｄが＞６Ｄであるか否かを評価する。
次に、図３に示すように、殺菌の複数の条件下における殺菌効果ＤとＤＨｖ値との関係を求める。図３に示すように、殺菌効果ＤとＤＨｖ値の関係から、略確実に密閉空間１００内を殺菌効果Ｄが＞６Ｄで殺菌できる、ＤＨｖ値の下限値を求める。このＤＨｖ値の下限値を、殺菌効果Ｄが＞６Ｄとなる閾値であるＤＨｖ０値とする。
なお、図３は、上述した殺菌を複数回行って求められた殺菌効果ＤとＤＨｖ値との関係を示しており、図３中実線は殺菌効果Ｄの平均値（ａｖｅ．）を、破線は標準偏差（＋σ、−σ）をそれぞれ示している。
本実施形態においては、図３に示すように、密閉空間１００内を殺菌効果Ｄが６Ｄで確実に除菌できる閾値として、平均値及び標準偏差がともに殺菌効果Ｄが６Ｄを満たすＤＨｖ値を閾値（ＤＨｖ０値）とし、このＤＨｖ０値は図３に示すように、５５，０００以上であることが求められた。
次に、このように構成された殺菌装置１を用いた殺菌方法について、以下、図４に示す流れ図を用いて説明する。
先ず、密閉空間１００に配管３１を介して発生装置１１を接続する。次に、制御手段１４により発生装置１１を駆動して過酸化水素ガスを発生させ、ガス供給装置１２により密閉空間１００内に過酸化水素ガスを供給する（ステップＳＴ１）。これにより、密閉空間１００内の殺菌が開始される。次に、検出器１３により、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度及び密閉空間１００内の湿度を、殺菌の開始時から連続して検出し（ステップＳＴ２）、制御手段１４に送信する。なお、検出器１３による濃度及び湿度の検出は、所定の時間毎に検出してもよい。
先ず、密閉空間１００に配管３１を介して発生装置１１を接続する。次に、制御手段１４により発生装置１１を駆動して過酸化水素ガスを発生させ、ガス供給装置１２により密閉空間１００内に過酸化水素ガスを供給する（ステップＳＴ１）。これにより、密閉空間１００内の殺菌が開始される。次に、検出器１３により、密閉空間１００内の過酸化水素ガスの濃度及び密閉空間１００内の湿度を、殺菌の開始時から連続して検出し（ステップＳＴ２）、制御手段１４に送信する。なお、検出器１３による濃度及び湿度の検出は、所定の時間毎に検出してもよい。
制御手段１４は、検出器１３により検出された濃度及び湿度の情報を受信すると、当該情報及び殺菌を実施している時間から、数式（１）を用いてＤＨｖ値を算出する（ステップＳＴ３）。
次に、制御手段１４は、算出したＤＨｖ値とＤＨｖ０値を比較する（ステップＳＴ４）。ＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも小さい（ＤＨｖ＜ＤＨｖ０）場合（ステップＳＴ４のＮＯ）には、密閉空間１００内に過酸化水素ガスの供給を継続する（ステップＳＴ１）。
ＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも大きい（ＤＨｖ＞ＤＨｖ０）場合（ステップＳＴ４のＹＥＳ）には、制御手段１４は、密閉空間１００内の殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たしており、殺菌が終了したと判断する。これにより、制御手段１４は、供給手段２３及びガス供給装置１２を停止し、過酸化水素ガスの供給を停止させる（ステップＳＴ５）。これらの工程により、殺菌装置１を用いて、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たす密閉空間１００の殺菌が行われる。
次に、このような殺菌装置１及び殺菌方法を用いた殺菌の実施例を、以下に示す。なお、本実施例は、下記実施例１乃至実施例１２の条件において、上述の殺菌方法を用いて密閉空間１００の殺菌を行い、実施例１乃至実施例１２の条件における、殺菌効果Ｄ及びＤＨｖ値を求める。
本実施例は、ＤＨｖ値及びＤＨｖ０値との比較により、ＤＨｖ値及び殺菌効果Ｄの評価を行う。なお、殺菌効果Ｄが＞６Ｄである場合のＤＨｖ値と、上述したＤＨｖ０値の関係を評価するために、ＤＨｖ０値は、その下限値であるＤＨｖ０＝５５，０００とする。また、実施例１乃至実施例１２における腐食性についても併せて評価する。
（実施例１）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は２０％とする。なお、本実施形態において、湿度とは、相対湿度を示す。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は２０％とする。なお、本実施形態において、湿度とは、相対湿度を示す。
（実施例２）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は３０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は３０％とする。
（実施例３）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は４０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は４０％とする。
（実施例４）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は５０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は５０％とする。
（実施例５）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は６０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は６０％とする。
（実施例６）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は７０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分６ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は７０％とする。
（実施例７）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は２０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は２０％とする。
（実施例８）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は３０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は３０％とする。
（実施例９）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は４０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は４０％とする。
（実施例１０）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は５０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は５０％とする。
（実施例１１）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は６０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は６０％とする。
（実施例１２）
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は７０％とする。
供給手段２３によりプレートヒータ２４に毎分１２ｇで過酸化水素水（３５ｗｔ％）を供給し、過酸化水素ガスを発生させる。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は７０％とする。
これら実施例１乃至実施例１２を用いた殺菌方法の詳細な条件及び評価方法について、以下説明する。
密閉空間１００を４５０ｍ３の空間とし、密閉空間１００の過酸化水素ガスの濃度を低濃度帯とするとともに、密閉空間１００内に複数のＢＩ、及び、腐食を確認する金属片を配置する。
培養容器は、殺菌開始から２時間、４時間、６時間の経過時に密閉空間から回収し、生算菌数測定を行い、殺菌効果Ｄの評価を行う。
金属片は、鉄材料、例えば普通鋼を用いる。金属片は、殺菌開始から２時間、４時間、６時間の経過時に密閉空間から回収し、ガス曝露環境外、本実施例では室内環境下に２４時間放置後、目視により腐食の有無を評価する。
また、制御手段１４により、実施例１乃至実施例１２のＤＨｖ値をそれぞれ算出する。
次に、これら条件下における実施例１乃至実施例１２の結果を示す。なお、図５に実施例１乃至実施例１２の結果を示す。
（実施例１）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは０．６Ｄであり、ＤＨｖ値は４，３１２であり、金属片に腐食は見られなかった。
（実施例１）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは０．６Ｄであり、ＤＨｖ値は４，３１２であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは１．８Ｄであり、ＤＨｖ値は２３，４９６であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄ＝３．５Ｄであり、ＤＨｖ＝６４，３０４であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしていないが、ＤＨｖ＞５５，０００であった。
（実施例２）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは１．０Ｄであり、ＤＨｖ値は７，４３７であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは１．０Ｄであり、ＤＨｖ値は７，４３７であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは４．１Ｄであり、ＤＨｖ値は４９，０１１であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は７７，８５８であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例３）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは２．７Ｄであり、ＤＨｖ値は４９，２４３であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは２．７Ｄであり、ＤＨｖ値は４９，２４３であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは５．５Ｄであり、ＤＨｖ値は４９，２４３であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は９１，２２２であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例４）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは４．４Ｄであり、ＤＨｖ値は１０，２９１であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは４．４Ｄであり、ＤＨｖ値は１０，２９１であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は５６，５６９であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は８１，７９１であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例５）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは５．２Ｄであり、ＤＨｖ値は９，５９９であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは５．２Ｄであり、ＤＨｖ値は９，５９９であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は６９，７９６であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は９７，６５２であった。なお、金属片に若干のくすみが見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例６）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１２，１８２であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１２，１８２であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしているものの、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は５７，１０５であった。金属片に若干のくすみが見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１１０，５８６であった。金属片に若干のくすみが見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例７）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは３．４Ｄであり、ＤＨｖ値は９，８８１であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは３．４Ｄであり、ＤＨｖ値は９，８８１であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは５．６Ｄであり、ＤＨｖ値は４３，５０４であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は８３，２９７であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例８）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは４．８Ｄであり、ＤＨｖ値は１４，２７３であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは４．８Ｄであり、ＤＨｖ値は１４，２７３であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしておらず、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は５７，５４５であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１０１，２１８であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例９）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１９，６５６であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１９，６５６であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしているものの、ＤＨｖ＜５５，０００であった。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は７７，５４７であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１５６，４６３であった。金属片に若干のくすみが見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例１０）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は２３，０５６であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は２３，０５６であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は９７，０００であった。金属片に若干のくすみが見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１８８，０００であった。金属片に若干のくすみが見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例１１）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は４２，０８３であり、金属片に腐食は見られなかった。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は４２，０８３であり、金属片に腐食は見られなかった。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１３５，９０２であった。金属片に若干のくすみが見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は２５４，２８８であった。金属片に明らかな錆が見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
（実施例１２）
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は５９，２０４であった。金属片に若干のくすみが見られた。
殺菌開始から２時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は５９，２０４であった。金属片に若干のくすみが見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から４時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は１６４，４４２であった。金属片に若干のくすみが見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
殺菌開始から６時間においては、殺菌効果Ｄは＞６Ｄであり、ＤＨｖ値は２６６，２６６であった。金属片に明らかな錆が見られた。
要求される殺菌効果（Ｄ＞６Ｄ）を満たしており、且つ、ＤＨｖ＞５５，０００を満たしていた。
なお、実施例１において、６時間殺菌してＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも大きい値（ＤＨｖ＝６４，３０４）と得られたものの、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たしていなかった。実施例７において、６時間殺菌してＤＨｖ値がＤＨｖ０値よりも大きい値（ＤＨｖ＝８３，２９７）と得られたものは、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たしていた。
これらの実施例によれば、実施例１及び実施例７のように、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度が２０％の環境下においては、実施例７のように、過酸化水素ガスの濃度を上げて殺菌時間を長く確保することで、所定の殺菌効果Ｄを得られる。しかし、過酸化水素ガスの濃度が低い条件下においては、所定の殺菌効果Ｄを得られることができない場合がある。
例えば、実施例１及び実施例７において、過酸化水素水の供給量又は殺菌時間を増加することで、所定の殺菌効果Ｄを得ることが可能であるが、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は、２０％よりも高いことが望まれる。
実施例２及び実施例８のように、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度が３０％の環境下においては、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０の条件下で、殺菌効果Ｄは＞６Ｄを確保することができた。
実施例３及び実施例９のように、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度が４０％の環境下においては、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０の条件下で、殺菌効果Ｄは＞６Ｄを確保することができた。なお、実施例９で６時間殺菌を行った場合には、金属片に若干のくすみが確認できたものの、４ｈ時間殺菌を行った場合にも、殺菌効果Ｄは６Ｄを確保するとともに、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０を満たしている。このため、本実施形態の殺菌方法により、ＤＨｖ０値を５５，０００とし、制御手段１４により、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０を判断後に発生装置１１を停止させることで、腐食を防止可能となる。
実施例４及び実施例１０のように、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度が５０％の環境下においては、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０の条件下で、殺菌効果Ｄは＞６Ｄを確保することができた。なお、実施例１０で４時間及び６時間殺菌を行った場合には、金属片に若干のくすみが確認できたものの、４ｈ時間殺菌を行った場合には、ＤＨｖ＝９７，０００である。このため、本実施形態の殺菌方法により、ＤＨｖ０値を５５，０００とし、制御手段１４により、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０を判断後に発生装置１１を停止させることで、腐食を防止可能となる。
実施例５及び実施例１１のように、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度が６０％の環境下においては、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０の条件下で、殺菌効果Ｄは＞６Ｄを確保することができた。なお、実施例５で６時間、並びに、実施例１１で４時間及び６時間殺菌を行った場合には、金属片に若干のくすみが確認できた。しかし、実施例５で４時間殺菌を行った場合には、腐食が見られなかった。また、実施例１１で２時間殺菌を行った場合には、ＤＨｖ＝４２，０８３であって、４時間殺菌を行った場合には、ＤＨｖ＝１３５，９０２である。このため、本実施形態の殺菌方法により、ＤＨｖ０値を５５，０００とし、制御手段１４により、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０が判断後に発生装置１１を停止させることで、腐食を防止可能となる。
実施例６及び実施例１２のように、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度が７０％の環境下においては、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０の条件下で、殺菌効果Ｄは＞６Ｄを確保することができた。なお、実施例６で４時間、並びに、実施例１２で２時間及び４時間殺菌を行った場合には、金属片に若干のくすみが確認できた。また、実施例１２で６時間殺菌を行った場合には、金属片に明らかな腐食が見られた。殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度が７０％の環境下においては、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０であれば、殺菌効果Ｄは＞６Ｄを得られるものの、金属片の腐食が発生する虞が高い。このため、金属等の腐食の防止が必要な環境下においては、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は７０％よりも低いことが望ましい。また、湿度が７０％以上では、より腐食が発生するものと思料できる。
これらのように本実施の形態に係る殺菌装置１を用いた殺菌方法においては、実施例１乃至実施例１２の結果にも記載したように、ＤＨｖ＞ＤＨｖ０の範囲であって、且つ、殺菌開始時の密閉空間１００の湿度は２０％より高く、７０％以下であることが好ましい。さらに言えば、湿度は、金属の腐食を防止するためには、ＤＨｖ０値を、例えば上述のように、５５，０００とした場合には、３０％から６０％の範囲内が好ましい。また、さらに言えば、腐食を確実に防止するためには、殺菌開始時の密閉空間１００内の湿度は、３０％から５０％の範囲内がよく、当該湿度を３０％から５０％とする場合には、例えば、ＤＨｖ０値を、５５，０００よりも高く設定しても、殺菌効果Ｄを確実に＞６Ｄを満足でき、且つ、腐食を防止できる。
このように構成された殺菌装置１によれば、殺菌効果Ｄは、密閉空間１００の相対湿度が３０％以上であって、且つ、ＤＨｖ０値が５５，０００以上であれば、過酸化水素ガスの濃度を必要以上に上げることなく＞６Ｄを満たすことが可能となる。
また、殺菌装置１を用いた殺菌方法として、密閉空間１００の殺菌条件である、室内空間１００内の過酸化水素ガスの濃度、密閉空間１００内の湿度及び殺菌時間に基づいて数式（１）から求められるＤＨｖ値が、閾値であるＤＨｖ０値よりも大きい場合に、発生装置１１を停止させる。このように、殺菌方法は、殺菌を行う条件に基づいて、ＤＨｖ値及びＤＨｖ０値に基づいて管理することで、容易に殺菌効果Ｄを得ることが可能となる。
上述したように本発明の一実施の形態に係る殺菌装置１及び殺菌方法によれば、予め設定されたＤＨｖ０値及び殺菌の条件から求められるＤＨｖ値の関係に基づいて発生装置１１を停止させることで、殺菌効果を容易に管理することが可能となる。
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではない。上述した例では、殺菌装置１を用いた殺菌方法では、記憶手段４１に記憶されたＤＨｖ０値は、５５，０００であって、このＤＨｖ０値を、殺菌条件で求められるＤＨｖ値と比較して、殺菌の継続及び停止を判断する構成を説明したがこれに限定されない。例えば、ＤＨｖ０値は、５５，０００よりも大きい値であってもよい。例えば、５５，０００を超えれば、適宜設定可能である。しかし、腐食性を考慮すると、殺菌開始時の湿度を３０％以上５０％以下とした閾値は、ＤＨｖ０＝５５，０００とすることが望ましい。
また、上述した例では、殺菌効果Ｄが＞６Ｄを満たすＤＨｖ０値として、５５，０００以上である旨を説明したが、これに限定されない。例えば、殺菌効果Ｄが、５Ｄであれば良い場合には、当該５Ｄを満足できるＤＨｖ０値を求め、当該求めたＤＨｖ０値をＤＨｖ値が超えた場合に、殺菌が完了したと判断すればよい。同様に、殺菌効果の基準も、無菌性保障レベル（Sterility assurance level：ＳＡＬ）を採用するのではなく、他の規格を採用してもよい。即ち、過酸化水素ガスを用いて密閉空間１００を殺菌する構成であれば、本実施形態のように、過酸化水素ガスの濃度及び密閉空間の湿度を管理し、閾値を求め、当該閾値と実際の殺菌時のＤＨｖ値とを比較して、ＤＨｖ値が閾値を超えた場合には、殺菌が完了したと推測すればよい。
また、上述した例では、発生装置１１は、供給手段２３で供給した過酸化水素水をプレートヒータ２４で蒸発させて過酸化水素ガスを発生させる構成を説明したが、過酸化水素ガスを発生可能であれば、これら構成に限定されない。
また、上述した例では、ガス供給装置１２は、圧送手段３２を発生装置１１の外郭部材２１内に配置する構成を説明したがこれに限定されない。例えば、配管３１内に配置する構成であってもよく、また、複数設ける構成でもよい。また、ガス供給装置１２は、密閉空間１００内に、過酸化水素ガスを効率よく循環させる装置や、均一に分布させる装置を有する構成であってもよい。この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能である。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］ 密閉空間に過酸化水素ガスを供給するガス供給装置と、
前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度、及び、前記密閉空間内の湿度を検出可能な検出器と、
前記密閉空間内の所定の殺菌効果が得られる閾値を記憶する記憶手段と、
前記密閉空間内に供給された前記過酸化水素ガスの濃度の変化の経過時間による第１積分値、並びに、前記密閉空間内の湿度の変化の経過時間による第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積を前記閾値と比較し、前記第１積分値及び前記第２積分値の積が前記閾値以上の場合に、前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有すると判断する制御手段と、
を備えることを特徴とする殺菌装置。
［２］ 前記密閉空間内の、前記過酸化水素ガスの供給の開始時の湿度は、相対湿度で３０％以上７０％以下であることを特徴とする［１］に記載の殺菌装置。
［３］ 前記閾値は、前記密閉空間の所定の殺菌効果が得られる、前記第１積分値及び前記第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積であることを特徴とする［１］に記載の殺菌装置。
［４］ 前記制御手段は、前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有していると判断後、前記供給装置を停止させることを特徴とする［１］に記載の殺菌装置。
［５］ 前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度は、低濃度帯であることを特徴とする［１］乃至［４］のいずれかに記載の殺菌装置。
［６］ 過酸化水素ガスを密閉空間に供給し、
前記密閉空間に供給された前記過酸化水素ガスの濃度、及び、前記密閉空間内の湿度を検出し、
前記密閉空間内に供給された前記過酸化水素ガスの濃度の変化の経過時間による第１積分値、並びに、前記密閉空間内の湿度の変化の経過時間による第２積分値の積を算出し、
前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積を前記閾値と比較し、
前記第１積分値及び前記第２積分値の積が閾値以上の場合に、前記密閉空間内が所定の殺菌効果を有すると判断する
ことを特徴とする殺菌方法。
［７］ 前記密閉空間内の、前記過酸化水素ガスの供給の開始時の湿度は、相対湿度で３０％以上７０％以下であることを特徴とする［６］に記載の殺菌方法。
［８］ 前記閾値は、前記密閉空間の所定の殺菌効果が得られる、前記第１積分値及び前記第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積であることを特徴とする［６］に記載の殺菌方法。
［９］ 前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有していると判断後、前記供給装置を停止させることを特徴とする［６］に記載の殺菌方法。
［１０］ 前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度は、低濃度帯であることを特徴とする［６］乃至［９］のいずれかに記載の殺菌方法。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］ 密閉空間に過酸化水素ガスを供給するガス供給装置と、
前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度、及び、前記密閉空間内の湿度を検出可能な検出器と、
前記密閉空間内の所定の殺菌効果が得られる閾値を記憶する記憶手段と、
前記密閉空間内に供給された前記過酸化水素ガスの濃度の変化の経過時間による第１積分値、並びに、前記密閉空間内の湿度の変化の経過時間による第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積を前記閾値と比較し、前記第１積分値及び前記第２積分値の積が前記閾値以上の場合に、前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有すると判断する制御手段と、
を備えることを特徴とする殺菌装置。
［２］ 前記密閉空間内の、前記過酸化水素ガスの供給の開始時の湿度は、相対湿度で３０％以上７０％以下であることを特徴とする［１］に記載の殺菌装置。
［３］ 前記閾値は、前記密閉空間の所定の殺菌効果が得られる、前記第１積分値及び前記第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積であることを特徴とする［１］に記載の殺菌装置。
［４］ 前記制御手段は、前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有していると判断後、前記供給装置を停止させることを特徴とする［１］に記載の殺菌装置。
［５］ 前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度は、低濃度帯であることを特徴とする［１］乃至［４］のいずれかに記載の殺菌装置。
［６］ 過酸化水素ガスを密閉空間に供給し、
前記密閉空間に供給された前記過酸化水素ガスの濃度、及び、前記密閉空間内の湿度を検出し、
前記密閉空間内に供給された前記過酸化水素ガスの濃度の変化の経過時間による第１積分値、並びに、前記密閉空間内の湿度の変化の経過時間による第２積分値の積を算出し、
前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積を前記閾値と比較し、
前記第１積分値及び前記第２積分値の積が閾値以上の場合に、前記密閉空間内が所定の殺菌効果を有すると判断する
ことを特徴とする殺菌方法。
［７］ 前記密閉空間内の、前記過酸化水素ガスの供給の開始時の湿度は、相対湿度で３０％以上７０％以下であることを特徴とする［６］に記載の殺菌方法。
［８］ 前記閾値は、前記密閉空間の所定の殺菌効果が得られる、前記第１積分値及び前記第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積であることを特徴とする［６］に記載の殺菌方法。
［９］ 前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有していると判断後、前記供給装置を停止させることを特徴とする［６］に記載の殺菌方法。
［１０］ 前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度は、低濃度帯であることを特徴とする［６］乃至［９］のいずれかに記載の殺菌方法。
１…殺菌装置、１１…発生装置、１２…ガス供給装置、１３…検出器、１４…制御手段、２１…外郭部材、２２…タンク、２３…供給手段、２４…プレートヒータ、３１…配管、３２…圧送手段、４１…記憶手段、１００…密閉空間、Ｓ…信号線。
Claims (2)
- 密閉空間に過酸化水素ガスを供給するガス供給装置と、
前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度、及び、前記密閉空間内の湿度を検出可能な検出器と、
前記密閉空間内の所定の殺菌効果が得られる閾値を記憶する記憶手段と、
前記密閉空間内に供給された前記過酸化水素ガスの濃度の変化の経過時間による第１積分値、並びに、前記密閉空間内の湿度の変化の経過時間による第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積を前記閾値と比較し、前記第１積分値及び前記第２積分値の積が前記閾値以上の場合に、前記密閉空間内が前記所定の殺菌効果を有すると判断し、その後、前記ガス供給装置による前記過酸化水素ガスの供給を停止する制御手段と、
を備え、
前記密閉空間内の、前記過酸化水素ガスの供給の開始時の湿度は、相対湿度で３０％以上７０％以下であり、
前記閾値は、前記密閉空間の所定の殺菌効果が得られる、前記第１積分値及び前記第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積であり、
前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度は、２０ｐｐｍから１５０ｐｐｍの範囲であることを特徴とする殺菌装置。 - 過酸化水素ガスを密閉空間に供給し、
前記密閉空間に供給された前記過酸化水素ガスの濃度、及び、前記密閉空間内の湿度を検出し、
前記密閉空間内に供給された前記過酸化水素ガスの濃度の変化の経過時間による第１積分値、並びに、前記密閉空間内の湿度の変化の経過時間による第２積分値の積を算出し、
前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積を、記憶部に記憶された前記密閉空間内の所定の殺菌効果が得られる閾値と比較し、
前記第１積分値及び前記第２積分値の積が閾値以上の場合に、前記密閉空間内が所定の殺菌効果を有すると判断し、
前記密閉空間内が所定の殺菌効果を有すると判断した後、前記過酸化水素ガスの供給を停止する、
ことを有し、
前記密閉空間内の、前記過酸化水素ガスの供給の開始時の湿度は、相対湿度で３０％以上７０％以下であり、
前記閾値は、前記密閉空間の所定の殺菌効果が得られる、前記第１積分値及び前記第２積分値の積を算出し、前記算出した前記第１積分値及び前記第２積分値の積であり、
前記密閉空間内の前記過酸化水素ガスの濃度は、２０ｐｐｍから１５０ｐｐｍの範囲であることを特徴とする殺菌方法。
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| WO2003006963A1 (en) * | 2001-07-10 | 2003-01-23 | Steris Inc. | Monitor and control using mid-infrared spectroscopy for vapor hydrogen peroxide processing technics |
| JP2007202677A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Daikin Ind Ltd | 滅菌装置 |
| US8357331B2 (en) * | 2009-09-30 | 2013-01-22 | American Sterilizer Company | Feed back and dose control of distributed decontamination systems |
-
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| Shintani | Benefit of Gas Plasma Sterilization. Chem Sci J 6: e108. doi: 10.4172/2150-3494.1000 e108 Volume 6• Issue 1• 1000e108 Chem Sci J ISSN: 2150-3494 CSJ, an open access journal Figure 2: Straight survivor curve to attain SAL of 10-6 |
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