JP5937604B2 - 整形疾患リスク評価システム及び情報処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、被検者の整形疾患のリスクを評価する整形疾患リスク評価システム及び該システムを構成する情報処理装置に関するものである。

一般に、高齢になるに従い、膝関節痛や股関節痛、腰痛などの整形疾患を患う人が増える傾向にある。このような整形疾患は、慢性的な痛みを伴い、ひどくなると寝たきりの状態になることから、早期に処置を施すことが重要である。

整形疾患を引き起こすリスク因子としては、例えば、扁平足、外反母趾、内反小趾、Ｏ脚等が挙げられる。これらのリスク因子が進行すると、関節部分に係る力学的関係が崩れ、関節部分に余分な力がかかるためである。その中でも、足のアーチ崩れである扁平足は、外反母趾やＯ脚を引き起こす主要因と考えられることから、扁平足の進行を早期に発見し、整形疾患を引き起こすリスクについて的確に評価することが重要となってくる。

一方で、従来より、足部の状態を計測するためのシステムとして、足圧分布検出センサや重心動揺計等から構成されるシステムが提案されており（例えば、下記特許文献１、２参照）、これらのシステムを利用すれば、被検者の扁平足の程度や、重心位置の揺れ等を計測することができる。

特開平０８−１４５８２６号公報 特開平１０−２２８５４０号公報

しかしながら、上記従来のシステムはいずれも、整形疾患という観点からデータを解析するものではなく、したがって、整形疾患を引き起こすリスクについて評価する構成とはなっていない。一方で、このような評価を行うためには、足部の状態についての計測結果を、リスク因子の進行を表す指標（特に主要因である扁平足を表す指標）を用いて的確に解析することが必要である。加えて、扁平足を主要因として引き起こされる外反母趾や内反小趾の状態も含めて総合的に解析することで、更に精度が向上することが期待される。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、足部の状態を計測することで、整形疾患を引き起こすリスクを精度よく評価可能なシステムを提供することを目的とする。

本発明の第１の側面は、情報処理装置に係り、前記情報処理装置は、複数の圧力センサが２次元に配列された足圧分布検出センサにより計測された、被検者の足圧分布を表す指標を用いて規定される領域であって、予め算出された、整形疾患を引き起こすリスクの異なる複数のリスク領域からなる領域を取得する第１の取得手段と、被検者の足部の内側境界位置に対する親指の角度を示す外反母趾角度と、該被検者の足部の外側境界位置に対する子指の角度を示す内反小趾角度とに関するデータを取得する第２の取得手段と、前記指標に基づいて算出された被検者の評価値を、前記第２の取得手段により取得された該被検者の前記外反母趾角度及び内反小趾角度に関するデータに基づいて補正することで補正評価値を算出し、該算出した補正評価値が、前記複数のリスク領域のいずれに属するかによって、該被検者の整形疾患を引き起こすリスクを判定する判定手段とを備え、前記指標は、前記足圧分布検出センサにより計測された足圧分布に基づいて、前記足圧分布検出センサに接地している前記被検者の足部の足裏部分の面積を算出するとともに、該被検者の足部の足裏部分の外接長方形の面積を算出することで得られる、該足裏部分の面積と該足裏部分の外接長方形の面積との比である面積比を含む。
本発明の第２の側面は、情報処理装置に係り、前記情報処理装置は、複数の圧力センサが２次元に配列された足圧分布検出センサにより計測された、被検者の足圧分布を表す指標を用いて規定される領域であって、予め算出された、整形疾患を引き起こすリスクの異なる複数のリスク領域からなる領域を取得する第１の取得手段と、被検者の足部の内側境界位置に対する親指の角度を示す外反母趾角度と、該被検者の足部の外側境界位置に対する子指の角度を示す内反小趾角度とに関するデータを取得する第２の取得手段と、前記指標に基づいて算出された被検者の評価値を、前記第２の取得手段により取得された該被検者の前記外反母趾角度及び内反小趾角度に関するデータに基づいて補正することで補正評価値を算出し、該算出した補正評価値が、前記複数のリスク領域のいずれに属するかによって、該被検者の整形疾患を引き起こすリスクを判定する判定手段とを備え、前記指標は、前記足圧分布検出センサにより計測された足圧分布に基づいて、前記被検者の足部の重心位置を算出するとともに、該被検者の足部の内側境界位置を抽出することで得られる、該内側境界位置から該重心位置までの距離を表す重心距離を含む。

本発明によれば、足部の状態を計測することで、整形疾患を引き起こすリスクを精度よく評価可能なシステムを提供することが可能となる。

本発明のその他の特徴及び利点は、添付図面を参照とした以下の説明により明らかになるであろう。なお、添付図面においては、同じ若しくは同様の構成には、同じ参照番号を付す。

添付図面は明細書に含まれ、その一部を構成し、本発明の実施の形態を示し、その記述と共に本発明の原理を説明するために用いられる。
本発明の一実施形態にかかる整形疾患リスク評価システムの外観構成を示す図である。 整形疾患リスク評価システムを構成する情報処理装置の機能構成を示す図である。 足圧分布検出センサにおいて計測された足圧分布データの一例を示す図である。 整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標を説明するための図である。 整形疾患を引き起こすリスク因子の進行に関連するパラメータを説明するための図である。 接地領域解析処理の流れを示すフローチャートである。 重心位置解析処理の流れを示すフローチャートである。 指先角度入力処理の流れを示すフローチャートである。 整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標及び関連するパラメータを算出する方法を説明するための図である。 整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標に基づいて算出された、複数の被検者の評価値をプロットした図である。 整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標に基づいて算出された、複数の被検者の評価値をプロットした図である。 評価値解析処理の流れを示すフローチャートである。 リスク判定処理に用いられる各リスク領域を説明するための図である。 リスク判定処理に用いられる各リスク領域を説明するための図である。 リスク判定処理の流れを示すフローチャートである。

以下、必要に応じて添付図面を参照しながら本発明の各実施形態の詳細を説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、適宜変更可能であるものとする。

［第１の実施形態］
＜１．整形疾患リスク評価システムの外観構成＞
図１は、本実施形態に係る整形疾患リスク評価システム１００の外観構成の一例を示す図である。

図１において、１１０はセンサ部であり、複数の圧力センサが２次元に配列され、直立した被検者の両足が載置された場合に、被検者の両足の足圧分布を検出する足圧分布検出センサ部１１１が配されている。

１２０は情報処理装置であり、足圧分布検出センサ部１１１において計測された足圧分布データ（計測結果）をケーブル１３０を介して取得する。また、取得した足圧分布データを解析し、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標に基づいて評価値を算出する。

更に、算出した評価値を解析し、整形疾患を引き起こすリスクの判定に用いられるリスク領域を求めるとともに、当該リスク領域を用いてリスク判定処理を行う。なお、当該リスク判定処理においては、別途取得された外反母趾角度及び内反小趾角度を加味して行う（詳細は後述）。

＜２．整形疾患リスク評価システムの情報処理装置の機能構成＞
図２は、整形疾患リスク評価システム１００を構成する情報処理装置１２０の機能構成を示す図である。図２に示すように、情報処理装置１２０は制御部２００と、表示部２１０と、入力部２２０と、記憶部２３０とを備える。

制御部２００は、足圧分布検出センサ部１１１において計測された足圧分布データを、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標に基づいて解析することで、評価値を算出する第１の取得手段である接地領域解析部２０１と重心位置解析部２０２とを備える。

また、入力部２２０を介して入力された外反母趾角度及び内反小趾角度を取得する、第２の取得手段である外反母趾角度取得部２０５及び内反小趾角度取得部２０６を備える。なお、外反母趾角度及び内反小趾角度の取得は、入力部２２０を介して取得する場合に限定されず、例えば、外反母趾角度及び内反小趾角度を計測する装置（外反母趾角度計測部２４１、内反小趾角度計測部２４２）を別途設け、当該計測部より出力された計測角度を直接取得するように構成してもよい。

また、接地領域解析部２０１において算出された評価値と重心位置解析部２０２において算出された評価値と、外反母趾角度取得部２０５において取得された外反母趾角度と、内反小趾角度取得部２０６において取得された内反小趾角度とを用いて、リスク判定処理を行うリスク判定部２０３を備える。

更に、リスク判定部２０３におけるリスク判定処理に用いられるリスク領域（指標により規定される領域）を求めるために、予め接地領域解析部２０１において算出された評価値と重心位置解析部２０２において算出された評価値とを教師データとして解析する、評価値解析部２０４を備える。

なお、制御部２００に含まれる各部の機能は、専用のハードウェアを用いて実現されてもよいし、これらの機能を実現するためのプログラムをＣＰＵ（コンピュータ）が実行することにより実現されてもよい。

表示部２１０は、足圧分布検出センサ部１１１において計測された足圧分布データを表示したり、制御部２００のリスク判定部２０３における判定結果や評価値解析部２０４における解析内容を表示したりする。入力部２２０は、制御部２００の各部が処理を実行するにあたり、必要なデータ（例えば、上記外反母趾角度や内反小趾角度）を入力したり、各種指示を入力したりする。

記憶部２３０は、センサ部１１０より送信された各種データを記憶したり、評価値解析部２０４において算出されたリスク領域に関する情報を記憶したりする。なお、制御部２００に含まれる各部の機能を、ＣＰＵ（コンピュータ）がプログラムを実行することによって実現する場合にあっては、当該プログラムは記憶部２３０に読み出し可能に記憶されるものとする。

＜３．足圧分布データ＞
図３は、足圧分布検出センサ部１１１において計測された足圧分布データの一例を示す図である。

図３において、３ａは健常者の足圧分布データと該足圧分布データに基づいて算出される重心位置データとを表示した図であり、３ｂは扁平足者の足圧分布データと該足圧分布データに基づいて算出される重心位置データとを表示した図である。なお、重心位置データのうち、右側の星印は右足の重心位置を、左側の星印は左足の重心位置をそれぞれ示している。また、中央の十字印は、両足の重心位置を示している。

図３から明らかなように、健常者と扁平足者とでは、足裏の接地領域が大きく異なる。つまり、健常者の場合には、足裏全体のうち、つま先側の一部とかかと側の一部のみが接地しており、中央部は接地していないのに対して、扁平足者の場合には、足裏全体のうち、つま先側の一部とかかと側の一部のみならず、中央部外側も接地している。したがって、整形疾患を引き起こすリスク因子である扁平足の進行を表すためには、足裏の接地領域（接地面積）に着目することが有効であるといえる。

更に、健常者と扁平足者とでは、左右それぞれの重心位置も異なる。図４Ａは、図３に示す健常者と扁平足者の左右の重心位置の違いを模式的に示した図である。図４Ａに示すように、扁平足者の方が、左足の重心位置も右足の重心位置も外側にずれている。このようなことから、整形疾患を引き起こすリスク因子である扁平足の進行を表すためには、各足の重心位置の外側方向へのずれに着目することも有効であるといえる。

一方で、図３に示すような足圧分布データには現れてこないが、一般に、健常者と扁平足者とでは、外反母趾角度や内反小趾角度においても差異が生じている（扁平足を主要因として外反母趾や内反小趾が引き起こされるからである）。これについて、図４Ｂを用いて説明する。

図４Ｂは、外反母趾角度及び内反小趾角度を説明するために足裏部分を模式的に示した図である。図４Ｂにおいて、４１３は足裏部分４１１の内側境界位置４１２を通る内側直線であり、４１５は足裏部分４１１の外側境界位置４１４を通る外側直線である。外反母趾角度は内側直線４１３に対する親指の角度αであり、内反小趾角度は外側直線４１５に対する小指の角度は内反小趾角度βである。そして、外反母趾角度α及び内反小趾角度βは、扁平足が進行することにより角度が大きくなる（矢印４１６、４１７方向に進む）。

つまり、整形疾患を引き起こすリスクは、扁平足の進行が、外反母趾角度α及び内反小趾角度βの拡大となってあらわれることで、更に高まるといえる。したがって、整形疾患を引き起こすリスクを評価するにあたっては、外反母趾角度α及び内反小趾角度βを加味することが有効である。

＜４．接地領域解析部及び重心位置解析部における処理の説明＞
次に、図３に示す足圧分布データを用いて接地領域解析部２０１により実行される接地領域解析処理の流れ、重心位置解析部２０２により実行される重心位置解析処理の流れ、及び、外反母趾角度取得部２０５及び内反小趾角度取得部２０６により実行される指先角度入力処理の流れを図５Ａ〜図５Ｃ及び図６を用いて説明する。

図５Ａは、接地領域解析部２０１により実行される接地領域解析処理の流れを示すフローチャートである。ステップＳ５０１では、足圧分布データに含まれる各画素の圧力値のうち、所定の閾値以上の圧力値を有する画素（接地領域に対応する画素。図６の６ａの足裏部分６０１参照）を抽出する。

ステップＳ５０２では、ステップＳ５０１において抽出した画素の位置情報に基づいて、外接長方形（図６の６ａの６０２参照）を算出する。

また、ステップＳ５０３では、外接長方形６０２の面積Ｂを算出し、ステップＳ５０４では、足裏部分６０１の面積Ａを算出する。

ステップＳ５０５では、ステップＳ５０３及びＳ５０４において算出された外接長方形の面積Ｂと足裏部分の面積Ａとの比（面積比＝（Ａ／Ｂ）×１００）を算出することで、足裏部分の接地面積を正規化する。

このように、本実施形態では、整形疾患を引き起こすリスク因子である扁平足の進行を表すのに有効な接地面積に着目したうえで、被検者ごとの特性（足の大きさや形等）に依存することがないよう、接地面積を外接長方形面積で割ることで正規化し、これを整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標の１つとしている。

図５Ｂは、重心位置解析部２０２により実行される重心位置解析処理の流れを示すフローチャートであり、処理が開始されると、ステップＳ５１１では、足圧分布データに含まれる各画素の圧力値のうち、所定の閾値以上の圧力値を有する画素（接地領域に対応する画素。図６の６ｂの足裏部分６１１参照）を抽出する。

ステップＳ５１２では、ステップＳ５１１において抽出した画素の位置情報と圧力値とに基づいて、重心位置（図６の６ｂの６１２参照）を算出する。

ステップＳ５１３では、ステップＳ５１１において抽出した画素の位置情報に基づいて、足裏部分６１１の内側境界位置６１３と外側境界位置６１４とを抽出し、足幅Ｘmaxを算出する。

ステップＳ５１４では、ステップＳ５１３において抽出した足裏部分６１１の内側境界位置６１３から、ステップＳ５１２において算出された重心位置６１２までの距離（重心距離）Ｘを算出する。

ステップＳ５１５では、ステップＳ５１３及びＳ５１４において算出された足幅Ｘmaxと重心距離Ｘとの比（距離比＝（Ｘ／Ｘmax）×１００）を算出することで、重心距離を正規化する。

このように、本実施形態では、整形疾患を引き起こすリスク因子である扁平足の進行を表すのに有効な重心位置に着目したうえで、被検者ごとの特性（足の大きさや形等）に依存することがないよう、重心距離を足幅で割ることで正規化し、これを整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標の１つとしている。

図５Ｃは、外反母趾角度取得部２０５及び内反小趾角度取得部２０６により実行される指先角度入力処理の流れを示すフローチャートである。ステップＳ５３１では、外反母趾角度取得部２０５が、予め計測され、入力部２２０を介して入力された被検者の外反母趾角度（図６の６ｃの角度α参照）を取得する。なお、外反母趾角度計測部２４１が接続されている場合にあっては、外反母趾角度計測部２４１より、直接、外反母趾角度を取得する。

ステップＳ５３２では、内反小趾角度取得部２０６が、予め計測され、入力部２２０を介して入力された被検者の内反母趾角度（図６の６ｃの角度β参照）を取得する。なお、内反小趾角度計測部２４２が接続されている場合にあっては、内反小趾角度計測部２４２より、直接、内反小趾角度を取得する。

指先角度入力処理において取得された、外反母趾角度α及び内反小趾角度βは、上記指標に基づいて算出された評価値を補正する際のパラメータとして用いられる（詳細は後述）。

＜５．評価値解析処理の説明＞
次に評価値解析部２０４において実行される評価値解析処理について説明する。はじめに、評価値解析処理に用いられる、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標の妥当性について検討する。

（１）指標の妥当性
（ａ）指標として、面積比と重心距離とを用いることの妥当性
図７は、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標として、面積比を横軸にとり、重心距離を縦軸にとった領域（指標により規定されるリスク領域）に、複数の被検者の評価値をプロットした結果を示している。

整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標が適切である場合、プロットした評価値は直線に近づくことになる。このため、指標の妥当性は、プロットした評価値について線形回帰分析を行い、決定係数を比較することにより判断することができる。

図７の例では、７０１に示す回帰直線が得られ、決定係数は０．３６１９と算出された。なお、参考までに、同じ被検者について、横軸に足裏部分の面積をとり、縦軸に重心距離をとって、同様の線形回帰分析を行ったところ、決定係数は０．１３４６と算出された。

したがって、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標として、面積比と重心距離とを用いることは、少なくとも足裏部分の面積と重心距離とを用いた場合よりも妥当な指標であるということができる。

（ｂ）指標として、面積比と距離比とを用いることの妥当性
図８は、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標として、面積比を横軸にとり、距離比を縦軸にとった領域（指標により規定されるリスク領域）に、複数の被検者の評価値をプロットした結果の一例を示している。

図８の例では、８０１に示す回帰直線が得られ、決定係数は０．３８４７と算出された。つまり、横軸に足裏部分の面積をとり、縦軸に重心距離をとった場合の決定係数（０．１３４６）、及び、横軸に面積比をとり、縦軸に重心距離をとった場合の決定係数（０．３６１９）のいずれよりも高い決定係数を得ることができた。

したがって、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標として、面積比と距離比とを用いることは、少なくとも足裏部分の面積と重心距離とを用いる場合、及び、面積比と重心距離とを用いる場合よりも更に妥当な指標であるということができる。

以上のことから、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標として、以下では、面積比と重心距離、及び、面積比と距離比、を用いることとする。

（２）評価値解析処理の流れ
次に、妥当性が評価された上記２組の指標を用いて、評価値解析処理を行う場合の処理（具体的には、リスク判定境界面決定のための処理）の流れについて説明する。図９は、評価値解析部２０４により実行される評価値解析処理（リスク判定境界面決定のための処理）の流れを示す図である。

縦方向リスク判定境界面（１００１、１１０１）決定処理において、ステップＳ９０１では、健常者群と扁平足と診断された群の評価値をそれぞれ読み出し、ステップＳ９０２では、各群の群間分散値、群内分散値を算出する。

ステップＳ９０３では、群間分散値／群内分散値が最大になる位置を決定することにより、縦方向リスク判定境界面を決定する。

続いて、横方向リスク判定境界面（１００２、１１０２）決定処理において、ステップＳ９０４では、健常者群とＯ脚など関節アライメントが悪い群の評価値をそれぞれ読み出し、ステップＳ９０５では、各群の群間分散値、群内分散値を算出する。

ステップＳ９０６では、群間分散値／群内分散値が最大になる位置を決定することにより、横方向リスク判定境界面を決定する。

上記処理の結果、縦方向リスク判定境界面（１００１、１１０１）および横方向リスク判定境界面（１００２、１１０２）により、領域が４分割（１０１１〜１０１４、１１１１〜１１１４）される（各境界面により分割されることで、各領域に含まれる評価値の領域内における分散値と、領域間における分散値との比は最大となっている）。なお、決定されたリスク領域に関する情報は、記憶部２３０に記憶される。

＜６．リスク判定処理の流れ＞
次に、リスク判定部２０３におけるリスク判定処理の流れについて説明する。図１２の１２ａは、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標として、面積比と重心距離とを用いた場合のリスク判定処理の流れを示す図であり、図１２の１２ｂは、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標として、面積比と距離比とを用いた場合のリスク判定処理の流れを示す図である。

図１２の１２ａに示すように、ステップＳ１２０１では、足圧分布検出センサ部１１１において計測された足圧分布データについて、接地領域解析部２０１と重心位置解析部２０２にて解析することで算出された、面積比と重心距離とを読み出し、図１０に示す評価値空間内にプロットする。

ステップＳ１２０２では、外反母趾角度取得部２０５において取得された外反母趾角度と、内反小趾角度取得部２０６において取得された内反小趾角度とに対応する予め定められた補正量を取得する。更に、取得した補正量に応じて、ステップＳ１２０１にてプロットされた評価値を、回帰直線７０１に平行な方向に移動させる。

なお、外反母趾角度と内反小趾角度に対応する補正量は予め定められており、記憶部２３０に格納されているものとする。

ステップＳ１２０３では、ステップＳ１２０２において移動された移動後の評価値（補正評価値）がプロットされた領域を識別し、ステップＳ１２０４では、識別した領域に従って、リスクを判定する。具体的には、補正評価値がプロットされた領域がリスク領域１０１１であると識別された場合には、当該被検者が整形疾患を引き起こすリスクは低いと判定する。一方、補正評価値がプロットされた領域がリスク領域１０１２または１０１３であると識別された場合には、当該被検者が整形疾患を引き起こすリスクは中程度であると判定する。更に、補正評価値がプロットされた領域が、リスク領域１０１４であると識別された場合には、当該被検者が整形疾患を引き起こすリスクは高いと判定する。

また、図１２の１２ｂに示すように、ステップＳ１２１１では、足圧分布検出センサ部１１１において計測された足圧分布データについて、接地領域解析部２０１と重心位置解析部２０２にて解析することで算出された、面積比と距離比とを読み出し、図１１に示す評価値空間内にプロットする。

ステップＳ１２１２では、外反母趾角度取得部２０５において取得された外反母趾角度と、内反小趾角度取得部２０６において取得された内反小趾角度とに対応する予め定められた補正量を取得する。更に、取得した補正量に応じて、ステップＳ１２１１にてプロットされた評価値を、回帰直線８０１に平行な方向に移動させる。

なお、図１２の１２ａと同様に、外反母趾角度と内反小趾角度に対応する補正量は予め定められており、記憶部２３０に格納されているものとする。

ステップＳ１２１３では、ステップＳ１２１２において移動された移動後の評価値（補正評価値）がプロットされた領域を識別し、ステップＳ１２１３では、識別した領域に従って、リスクを判定する。具体的には、補正評価値がプロットされた領域がリスク領域１１１１であると識別された場合には、当該被検者が整形疾患を引き起こすリスクは低いと判定する。一方、補正評価値がプロットされた領域がリスク領域１１１２または１１１３であると識別された場合には、当該被検者が整形疾患を引き起こすリスクは中程度であると判定する。更に、補正評価値がプロットされた領域が、リスク領域１１１４であると識別された場合には、当該被検者が整形疾患を引き起こすリスクは高いと判定する。

以上の説明から明らかなように、本実施形態に係る整形疾患リスク評価システムでは、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標として、足圧分布データに基づいて、面積比と重心距離（または距離比）とを算出する構成とした。更に、面積比及び重心距離（または距離比）をそれぞれ縦軸及び横軸とした場合に形成される評価値空間を、複数の被検者についての評価値の分散値に基づいて、リスクの異なる複数の領域に分割する構成とした。更に、被検者の評価値が、分割された複数の領域のいずれに属するかにより整形疾患を引き起こすリスクを評価する構成とした。そして、リスクの評価にあたっては、外反母趾角度及び内反小趾角度を考慮し、これらの角度に応じて、評価値空間において評価値を補正したうえで、評価を行う構成とした。

この結果、整形疾患を引き起こすリスクをより精度よく評価することが可能となった。

［第２の実施形態］
上記第１の実施形態では、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標として、距離比を求めるにあたり、足裏部分の内側境界位置から重心位置までの距離とを用いることとしたが（すなわち、横方向の距離比）、本発明はこれに限定されない。例えば、足裏部分のかかと側境界位置から重心位置までの距離を用いるように構成してもよい（すなわち、縦方向の距離比を用いるように構成してもよい）。あるいは、横方向の距離比と縦方向の距離比とのベクトル和を用いるように構成してもよい。

更に、整形疾患を引き起こすリスク因子の進行を示す指標はこれらに限定されず、扁平足を示す他の指標を用いるようにしてもよい。ただし、いずれの指標を用いた場合であっても、外反母趾角度及び内反小趾角度に応じて、評価値空間において評価値を補正したうえで、リスクの評価を行うものとする。

［第３の実施形態］
上記第１の実施形態では、足圧分布検出センサ部１１１において計測された足圧分布データのうち、一方の足について評価値を算出し、リスク判定処理を行うこととしたが、本発明はこれに限定されず、例えば、両方の足について評価値を算出し、リスク判定処理を行うようにしてもよいし、それぞれの足について算出された評価値に重み付けをして和算した評価値を用いて、リスク判定処理を行うようにしてもよい。

［第４の実施形態］
上記第１の実施形態では、外反母趾角度計測部２４１及び内反小趾角度計測部２４２による外反母趾角度及び内反小趾角度の計測方法について特に言及しなかったが、計測方法としては任意の方法が採用されうるものとする。

一例として、接触部材を用いて機械的に計測する方法が挙げられる。具体的には、被検者の足が載置される載置部（足圧分布検出センサ部１１１）に、接触部材の端部を回動可能に軸支させ、被検者が当該載置部に足を載置することで自動的に回動し、該接触部材の中央部が該被検者の足の親指の側面に接触するように構成してもよい。これにより、内側境界位置に対する該接触部材の回動角度を計測することで外反母趾角度を計測することができる。なお、被検者の足が載置される載置部は、足圧分布検出センサ部１１１と一体的に設けてもよいし、足圧分布検出センサ部１１１とは別個に設けてもよい。また、接触部材の回動は、載置部上に設けたスイッチを被検者が足で押圧することにより開始するように構成してもよい。なお、内反小趾角度についても同様の構成とする。

また、他の一例として、光学レーザを用いて電気的に計測する方法が挙げられる。あるいは、被検者がつま先に体重をかけるように導くことで、指の位置が足圧分布データ上で識別できるようにしておき、当該足圧分布データを用いて算出するように構成してもよい。あるいは、別途被検者の足部にＸ線を照射し、Ｘ線照射により撮影された撮影画像より親指及び子指の骨の角度を計測することで、外反母趾角度及び内反小趾角度を算出するように構成してもよい。

［第５の実施形態］
上記第１の実施形態では、各指標について算出された評価値を、外反母趾角度及び内反小趾角度に応じた補正量を用いて、回帰直線に平行な方向に補正する構成としたが、本発明はこれに限定されず、補正量及び補正方向については他の方法を用いてもよい。

［第６の実施形態］
上記第１乃至第５の実施形態では、整形疾患を引き起こすリスクについての補正評価値を出力する構成としたが、本発明はこれに限定されず、例えば、特定の被検者について、当該補正評価値の経時変化をトレンドグラフとして表示するように構成してもよい。

本発明は上記実施の形態に制限されるものではなく、本発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、本発明の範囲を公にするために、以下の請求項を添付する。

本願は、２０１１年９月２７日提出の日本国特許出願特願２０１１−２１１５７０を基礎として優先権を主張するものであり、その記載内容の全てを、ここに援用する。

Claims (7)

1. 複数の圧力センサが２次元に配列された足圧分布検出センサにより計測された、被検者の足圧分布を表す指標を用いて規定される領域であって、予め算出された、整形疾患を引き起こすリスクの異なる複数のリスク領域からなる領域を取得する第１の取得手段と、
   被検者の足部の内側境界位置に対する親指の角度を示す外反母趾角度と、該被検者の足部の外側境界位置に対する子指の角度を示す内反小趾角度とに関するデータを取得する第２の取得手段と、
   前記指標に基づいて算出された被検者の評価値を、前記第２の取得手段により取得された該被検者の前記外反母趾角度及び内反小趾角度に関するデータに基づいて補正することで補正評価値を算出し、該算出した補正評価値が、前記複数のリスク領域のいずれに属するかによって、該被検者の整形疾患を引き起こすリスクを判定する判定手段とを備え、
   前記指標は、前記足圧分布検出センサにより計測された足圧分布に基づいて、前記足圧分布検出センサに接地している前記被検者の足部の足裏部分の面積を算出するとともに、該被検者の足部の足裏部分の外接長方形の面積を算出することで得られる、該足裏部分の面積と該足裏部分の外接長方形の面積との比である面積比を含む
   ことを特徴とする情報処理装置。
2. 複数の圧力センサが２次元に配列された足圧分布検出センサにより計測された、被検者の足圧分布を表す指標を用いて規定される領域であって、予め算出された、整形疾患を引き起こすリスクの異なる複数のリスク領域からなる領域を取得する第１の取得手段と、
   被検者の足部の内側境界位置に対する親指の角度を示す外反母趾角度と、該被検者の足部の外側境界位置に対する子指の角度を示す内反小趾角度とに関するデータを取得する第２の取得手段と、
   前記指標に基づいて算出された被検者の評価値を、前記第２の取得手段により取得された該被検者の前記外反母趾角度及び内反小趾角度に関するデータに基づいて補正することで補正評価値を算出し、該算出した補正評価値が、前記複数のリスク領域のいずれに属するかによって、該被検者の整形疾患を引き起こすリスクを判定する判定手段とを備え、
   前記指標は、前記足圧分布検出センサにより計測された足圧分布に基づいて、前記被検者の足部の重心位置を算出するとともに、該被検者の足部の内側境界位置を抽出することで得られる、該内側境界位置から該重心位置までの距離を表す重心距離を含む
   ことを特徴とする情報処理装置。
3. 前記算出した補正評価値の経時変化をトレンドグラフとして表示する表示手段を更に備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
4. 前記第２の取得手段は、
   被検者の足部が載置される載置部に、端部が回動可能に軸支されており、回動した場合に中央部が該被検者の足部の親指の側面と接触するように構成された接触部材と、
   前記接触部材の前記内側境界位置に対する回動角度を計測する計測手段と、を備える外反母趾角度計測部より、前記外反母趾角度に関するデータを取得することを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
5. 前記第２の取得手段は、
   Ｘ線照射により撮影された被検者の足部の撮影画像より、該被検者の足部の内側境界位置に対する親指の骨の角度を計測する外反母趾角度計測部より、前記外反母趾角度に関するデータを取得することを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
6. 請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置と、
   複数の圧力センサが２次元に配列され、直立した被検者の足圧分布を検出するよう構成された足圧分布検出センサと
   を備えることを特徴とする整形疾患リスク評価システム。
7. コンピュータを、請求項１又は２に記載の情報処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。