JP5913050B2 - Laminating equipment - Google Patents
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Description
本発明は、プリント配線板のベース基材の主面にドライフィルムを貼り合わせるドライフィルムのラミネート装置に関する。 The present invention relates to a dry film laminating apparatus for attaching a dry film to a main surface of a base substrate of a printed wiring board.
基質板に光感受性層を積層する方法において、積層の直前に基質板の両面に蒸気をあてて、蒸気の一部を凝結させて光感受性層上に薄い水の層を形成し、積層の際に光感受性層に水の層を吸収させて、基質板に光感受性層を接着させる方法が知られている(特許文献1)。 In the method of laminating a light-sensitive layer on a substrate plate, steam is applied to both sides of the substrate plate immediately before lamination, and a part of the vapor is condensed to form a thin water layer on the light-sensitive layer. A method is known in which a light-sensitive layer is allowed to absorb a water layer and the light-sensitive layer is adhered to a substrate plate (Patent Document 1).
しかしながら、プリント配線板のベース基材の主面に蒸気をあてて蒸気の一部を凝結するだけでは、配線パターンなどによる凹凸が形成されたベース基材の表面をムラなく且つ十分に濡らすことができないため、ドライフィルムがベース基材の主面の凹凸に追従することができず、結果として両者を密着させることができないという問題がある。 However, by simply applying a vapor to the main surface of the base substrate of the printed wiring board and condensing a part of the vapor, the surface of the base substrate on which the unevenness due to the wiring pattern etc. is formed can be wetted evenly and sufficiently. Therefore, there is a problem that the dry film cannot follow the unevenness of the main surface of the base substrate, and as a result, the two cannot be brought into close contact with each other.
他方、ベース基材の表面に余分な液体が付着した状態でドライフィルムを貼り合わせると、却って、ベース基材とドライフィルムの密着が阻害されるという問題が生じる。 On the other hand, when a dry film is bonded in a state where excess liquid adheres to the surface of the base substrate, there arises a problem that the adhesion between the base substrate and the dry film is inhibited.
本発明が解決しようとする課題は、ベース基材の表面をムラなく十分に濡らしつつも、ドライフィルムが貼り合わされる際にベース基材に余分な液体が残らないようにするラミネート装置を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a laminating apparatus that keeps the surface of the base substrate sufficiently wet without unevenness, and prevents excess liquid from remaining on the base substrate when the dry film is bonded. That is.
本発明は、所定の搬送方向に沿って搬送されるプリント配線板のベース基材の主面に回路形成用のドライフィルムをラミネートするラミネート装置であって、所定の位置で前記ベース基材の主面に当接可能なように、前記ドライフィルムを搬送する搬送手段と、前記ベース基材の搬送の経路において前記所定の位置よりも上流側に設けられ、前記ベース基材の主面に液体物を塗布する液体物塗布手段と、前記所定の位置において、前記液体物が塗布された前記ベース基材の前記主面に、前記ドライフィルムを加熱しながら押し当てる圧着手段と、を備え、前記液体物塗布手段により前記ベース基材の主面に液体物が塗布される位置は、前記圧着手段により前記ドライフィルムが前記ベース基材に押し当てられる位置よりも低い位置であることを特徴とするラミネート装置を提供することにより、上記課題を解決する。 The present invention relates to a laminating apparatus for laminating a dry film for forming a circuit on a main surface of a base substrate of a printed wiring board that is conveyed along a predetermined conveying direction. A transport unit configured to transport the dry film so as to be in contact with a surface; and a upstream side of the predetermined position in a transport path of the base substrate, and a liquid material on the main surface of the base substrate A liquid material applying means for applying the liquid material, and a pressure bonding means for pressing the dry film against the main surface of the base substrate on which the liquid material is applied at the predetermined position, while heating the dry film. The position where the liquid material is applied to the main surface of the base substrate by the object applying means is lower than the position where the dry film is pressed against the base substrate by the pressure-bonding means. By providing a laminate and wherein, to solve the above problems.
上記発明において、前記ベース基材の主面に前記液体物が塗布される位置と前記ベース基材の主面に前記ドライフィルムが押し当てられる位置との間において、前記ベース基材を水平面に対して1°以上、10°以下の傾斜角で搬送するように構成することができる。 In the above invention, between the position where the liquid material is applied to the main surface of the base substrate and the position where the dry film is pressed against the main surface of the base substrate, the base substrate is set against the horizontal plane. It can be configured to convey at an inclination angle of 1 ° or more and 10 ° or less.
上記発明において、前記ベース基材を搬送するガイドローラをさらに備え、前記ガイドローラを、前記ベース基材の搬送の経路において前記液体塗布手段よりも上流側であって、かつ前記液体物が塗布される位置よりも高い位置で前記ベース基材と接するように設置することができる。 In the above invention, the apparatus further comprises a guide roller for transporting the base substrate, and the guide roller is upstream of the liquid application means in the transport path of the base substrate, and the liquid material is applied thereto. It can install so that it may contact | connect the said base material in a position higher than a position.
上記発明において、前記ベース基材を加熱する加熱ローラをさらに備え、前記加熱ローラを、前記ベース基材の搬送の経路において前記液体塗布手段よりも上流側であって、かつ前記液体物が塗布される位置よりも高い位置で前記ベース基材と接するように設置することができる。 In the above invention, a heating roller for heating the base substrate is further provided, and the heating roller is upstream of the liquid application unit in the transport path of the base substrate, and the liquid material is applied thereto. It can install so that it may contact | connect the said base material in a position higher than a position.
上記発明において、前記液体物は、水と界面活性剤とを含むようにすることができる。 In the above invention, the liquid material may contain water and a surfactant.
本発明によれば、順次に搬送されるベース基材にドライフィルムが押し当てられる位置よりも上流側の低い位置でベース基材の主面に液体物を塗布するため、ドライフィルムが圧着される前にベース基材の主面をムラなく且つ十分に濡らす一方で、余分な液体物をベース基材から除去し、ドライフィルムの圧着時に余分な液体物がベース基材に残らないようにすることができる。 According to the present invention, since the liquid material is applied to the main surface of the base substrate at a position upstream of the position where the dry film is pressed against the base substrate that is sequentially conveyed, the dry film is pressure-bonded. Before wetting the main surface of the base substrate evenly and thoroughly, remove excess liquid from the base substrate so that no excess liquid remains on the base substrate when dry film is pressed. Can do.
この結果、ベース基材の主面に形成されたプリント配線板の凹凸にドライフィルムを追従させるとともに、ドライフィルムをベース基材の主面に形成されたプリント配線板の凹凸に隙間なく密着させることができるので、ドライフィルムの貼り合せの不具合によるプリント配線板の不良の発生を抑制し、生産歩留まりを向上させることができる。 As a result, the dry film is made to follow the unevenness of the printed wiring board formed on the main surface of the base substrate, and the dry film is closely adhered to the unevenness of the printed wiring board formed on the main surface of the base substrate. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of defects in the printed wiring board due to the problem of bonding of the dry film and improve the production yield.
以下、図面に基づいて、本発明に係る実施形態のラミネート装置について説明する。 Hereinafter, a laminating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
本発明に係る本実施形態のラミネート装置100は、プリント配線板の製造工程において用いられる装置である。具体的に、本実施形態のラミネート装置100は、銅張積層材料(CCL)にスルーホールやビアホールが形成されたベース基材に、回路パターンをエッチング加工により形成するために、エッチングレジスト層(感光レジスト層)として機能するドライフィルムをベース基材の主面に張り付ける工程において用いられる。
The
図1は、本発明に係る本実施形態のラミネート装置100の側面図である。図1に示すラミネート装置100は、矢印Fに沿う上流側から下流側に沿って(正確には搬送方向Tに沿って)順次に送り出される長尺のプリント配線板のベース基材Bの主面に、長尺のドライフィルムDのラミネート処理(貼り付け処理)を行う。
FIG. 1 is a side view of a laminating
図1に示すように、本実施形態のラミネート装置100は、プリント配線板用のベース基材Bを搬送する基材搬送装置10と、ドライフィルムDを搬送するフィルム搬送装置20と、液体物を塗布する液体物塗布装置30と、ドライフィルムDをベース基材Bにラミネートする圧着装置40とを備える。また、本実施形態のラミネート装置100は、ベース基材Bの主面に付着したゴミなどの異物を除去する異物除去装置50と、ベース基材Bを加熱する加熱装置60とをさらに備える。
As shown in FIG. 1, a
以下、各構成について説明する。図1に示すように、本実施形態の基材搬送装置10は、所定の搬送方向Tに沿ってプリント配線板のベース基材Bを搬送する。具体的に、基材搬送装置10は、巻回されたベース基材Bを保持し、このベース基材Bを順次送り出す基材送り出しローラ11と、送り出されたベース基材Bをロール状に巻き取る基材巻き取りローラ12と、基材送り出しローラ11と基材巻き取りローラ12との間に設けられ、搬送方向Tに沿ってベース基材Bを支持するガイドローラ13,14とを備える。搬送方向Tは、ベース基材Bの移動方向であり、一方向に限定されるものではなく、ベース基材Bの搬送経路に応じて複数の異なる方向を含む。
Each configuration will be described below. As shown in FIG. 1, the
基材送り出しローラ11から送り出されるベース基材B1(B)は、銅張積層材料(CCL)に、スルーホールやビアホールが形成された材料である。本実施形態における銅張積層材料(CCL)は、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどの絶縁性基材の両主面に銅箔が貼られた材料である。後に詳説するが、本実施形態におけるベース基材B1(B)は、所定の位置(K2、h0)において、その主面にドライフィルムDが貼り付けられる。ちなみに、ドライフィルムDが貼り付けられたベース基材B2(B)は、基材巻き取りローラ12に巻き取られ、後段において行われる回路パターン形成工程に送られる。
The base substrate B1 (B) delivered from the substrate delivery roller 11 is a material in which through holes and via holes are formed in a copper clad laminate material (CCL). The copper clad laminate material (CCL) in the present embodiment is a material in which a copper foil is pasted on both main surfaces of an insulating base material such as polyimide, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. As will be described in detail later, the base film B1 (B) in the present embodiment has a dry film D attached to its main surface at a predetermined position (K2, h0). Incidentally, the base substrate B2 (B) to which the dry film D is attached is wound around the substrate take-
次に、フィルム搬送装置21,22(以下、これらを総称して20の符号を付することもある)について説明する。本実施形態のフィルム搬送装置20は、所定の位置(K2、h0)でドライフィルムDがベース基材Bの主面に当接可能なように、ドライフィルムDを搬送する。ちなみに、本実施形態における「主面」の語は、ベース基材B及びドライフィルムDのいずれにおいても、図中上側(+y側)を向く一方主面、若しくは図中下側(−y側)を向く他方主面の何れか一方の面、又は一方主面及び他方主面の両方の面を含む。
Next, the
図1に示すように、本実施形態のフィルム搬送装置20は、ベース基材Bの一方主面(図中上側を向く主面)にドライフィルムD1の主面が当接可能なように、ドライフィルムD1を搬送する第1フィルム搬送装置21と、ベース基材Bの他方主面(図中下側を向く主面)にドライフィルムD2の主面が当接可能なように、ドライフィルムD2を搬送する第2フィルム搬送装置22とを備える。
As shown in FIG. 1, the
本実施形態の第1フィルム搬送装置21は、巻回されたドライフィルムD1を保持し、このドライフィルムD1を順次送り出すフィルム送り出しローラ21Aを備える。送り出されたドライフィルムD1の剥離紙D1Bは剥離紙巻き取りローラ21Bにより巻き取られ、感光レジスト層を形成するドライフィルムD1Aのみがベース基材Bの一方主面側に当接可能なように搬送される。
The first
本実施形態の第2フィルム搬送装置22も、第1フィルム搬送装置21と同様に構成され、フィルム送り出しローラ22AからドライフィルムD2が送り出され、剥離紙巻き取りローラ22Bにより剥離紙が取り除かれたドライフィルムD2Aが、ベース基材Bの他方主面側に当接可能なように搬送される。
The second
上述の第1フィルム搬送装置21及び第2フィルム搬送装置22はドライフィルムDがベース基材Bと所定の位置(K2、h0)において接するように配設されている。
The first
続いて、液体物塗布装置30について説明する。本実施形態の液体物塗布装置30は、先述したドライフィルムDがベース基材Bの主面に当接可能である所定の位置(K2、h0)よりも上流側(矢印Fと反対の方向,−x側)かつ下方(−y側)に設けられ、ベース基材Bの主面に液体物を塗布する。
Next, the
本実施形態の液体物は特に限定されないが、水(液体状態の水)、水を含む液体又は水と添加剤を含む液体である。添加剤としては、ベース基材Bに塗布する液体物の濡れ性を向上させる物質を選択することができる。添加剤としては、界面活性剤、メタノール、エタノールその他のアルコール類、ポリエチレングリコール、乳酸を用いることができる。 Although the liquid thing of this embodiment is not specifically limited, It is water (liquid state water), the liquid containing water, or the liquid containing water and an additive. As the additive, a substance that improves the wettability of the liquid applied to the base substrate B can be selected. As additives, surfactants, methanol, ethanol and other alcohols, polyethylene glycol, and lactic acid can be used.
本実施形態では、液体物を水と界面活性剤とを含む液体とする。本実施形態における界面活性剤としては、脂肪酸ナトリウム、アルファスルホン化脂肪酸エステルナトリウム、アルキル硫酸エステルナトリウム、アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム、アルファオレフィンスルホン酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウムなどの陰イオン系(アニオン系)界面活性剤、塩化ベンザルコニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウムなどの陽イオン系(カチオン系)界面活性剤、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、コカミドプロピルベタイン、2-アルキル-N-カルボキシメチル-N-ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ラウロイルグルタミン酸ナトリウム、ラウリルジメチルアミンN‐オキシドなどの両性界面活性剤、又はラウリン酸グリセリン、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルなどの非イオン系(ノニオン系)界面活性剤を用いることができる。 In this embodiment, the liquid material is a liquid containing water and a surfactant. Examples of the surfactant in this embodiment include fatty acid sodium, sodium alpha sulfonated fatty acid ester, sodium alkyl sulfate ester, sodium alkyl ether sulfate, sodium alpha olefin sulfonate, sodium alkyl sulfonate, and the like (anionic). Surfactants, cationic surfactants such as benzalkonium chloride and distearyldimethylammonium chloride, lauryl dimethylaminoacetic acid betaine, cocamidopropyl betaine, 2-alkyl-N-carboxymethyl-N-hydroxy Amphoteric surfactants such as ethyl imidazolinium betaine, sodium lauroyl glutamate, lauryl dimethylamine N-oxide, or glyceryl laurate, polyoxyethylene alkyl ether, Polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyoxyalkylene alkyl ethers, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, non-ionic, such as polyoxyethylene fatty acid esters (nonionic) can be used a surfactant.
特に限定されないが、本実施形態では、水に添加する界面活性剤として、非イオン系の界面活性剤を用いる。特に限定されないが、本実施形態では、上記非イオン系の界面活性剤であるA:ポリオキシアルキレンアルキルエーテルと水とを含む液体を液体物として用いる。本実施形態の液体物において、界面活性剤A:ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの濃度は0.01〜1.0vol%とすることが好ましく、0.05〜0.1vol%とすることができる。 Although not particularly limited, in this embodiment, a nonionic surfactant is used as a surfactant to be added to water. Although not particularly limited, in the present embodiment, a liquid containing A: polyoxyalkylene alkyl ether, which is the nonionic surfactant, and water is used as the liquid. In the liquid material of the present embodiment, the concentration of the surfactant A: polyoxyalkylene alkyl ether is preferably 0.01 to 1.0 vol%, and can be 0.05 to 0.1 vol%.
液体物塗布装置30は、搬送されるベース基材Bの一方主面側と他方主面側の両方に設けることができる。図1に示すように、本実施形態の液体物塗布装置30は、ベース基材Bの一方主面(図中上側を向く主面)に液体物を塗布する第1液体物塗布装置31と、ベース基材Bの他方主面(図中下側を向く主面)に液体物を塗布する第2液体物塗布装置32とを含む。
The liquid
液体物塗布装置30の態様は特に限定されず、本実施形態では、液体物Mが収容されるタンク31Aと、このタンク31Aから供給される液体物Mが蓄えられる液体物供給用の槽32Aと、槽32A内の液体物Mをベース基材Bの主面に塗布する液体物塗布ローラ32Rと、を備える槽タイプの液体物塗布装置30を設けることができる。
The aspect of the
槽タイプの液体物塗布装置30(32)は、図1に示すように、槽32A内に蓄えられた液体物Mと接しつつ、回転可能な液体物塗布ローラ32Rをベース基材Bの他方主面(図中下側を向く主面)に当接させて、液体物塗布ローラ32Rの表面に付着した液体物Mをベース基材Bの他方主面に塗布する装置である。ベース基材Bに余分に塗布された液体物Mは、ベース基材Bから槽32Aへ滴り落ち、槽32Aに収容されるので、必要以上の液体物Mは回収し再利用することができる。
As shown in FIG. 1, the tank-type liquid material applicator 30 (32) is configured such that a rotatable liquid material application roller 32 </ b> R is in contact with the liquid material M stored in the tank 32 </ b> A and the other main base material B is connected. This is a device for applying the liquid material M adhering to the surface of the liquid
また、本実施形態では、液体物Mを蓄える外部のタンク31Aから液体物Mを供給する供給経路(管)31Hと、ベース基材Bの主面に当接し、供給経路31Hを介して供給された液体物Mをベース基材Bの主面に塗布する液体物塗布ローラ31Rと、を備えるローラタイプの液体物塗布装置30を設けることができる。
In the present embodiment, the supply path (pipe) 31H for supplying the liquid material M from the
ローラタイプの液体物塗布装置30(31)は、図1に示すように、タンク31Aから供給される液体物Mの供給経路31Hが回転軸内に配置され、その周囲をウレタンやポリビニルアルコールなどの保水性のある材質で覆って構成された液体物塗布ローラ31Rをベース基材Bの一方主面(図中上側を向く主面)に当接させて、液体物塗布ローラ31Rの表面から染み出してくる液体物Mをベース基材Bの一方主面に塗布する装置である。液体物塗布ローラ31Rは、保水性のある材料で覆われているので、余分な液体物が存在する場合には、それを吸収(吸水)することもできる。液体物塗布ローラ31Rが液体を吸収し、その吸水性が飽和した場合には、液体物塗布ローラ31Rから先述した槽32Aへ流れ、槽32Aに収容されるので、必要以上の液体物Mは回収し再利用することができる。
As shown in FIG. 1, in the roller-type liquid material applicator 30 (31), a
本実施形態では、図1に示すように、ベース基材Bの一方主面に液体物Mを塗布するために、ローラタイプの液体物塗布装置31を配置し、ベース基材Bの他方主面(図中下側を向く主面)に液体物Mを塗布するために、槽タイプの液体物塗布装置32を配置することができる。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, in order to apply the liquid material M to one main surface of the base substrate B, a roller-type liquid
本実施形態では、ローラタイプの液体物塗布装置31とタイプの液体物塗布装置32とを、後述する圧着装置40の上流側(搬送経路における上流側)に配置することにより、圧着装置40へ送り込まれるベース基材Bの主面に、予め、液体物Mをまんべんなく且つ十分に塗布することができる。
In the present embodiment, the roller-type liquid
ところで、ドライフィルムDに水などの液体物Mを塗布すると、液体物MがドライフィルムDの構成成分と親和して表面粘度が低下するため、ドライフィルムDの表面が変形可能となり、貼り付ける対象であるベース基材Bの表面(主面)の凹凸形状に追従しやすくなる。また、ベース基材Bに塗布された液体物Mは、当初プリント配線板の凹凸の隙間に存在していた空気に代わってプリント配線板の凹凸の隙間に取り込まれる。この液体物MがドライフィルムDと親和するので、プリント配線板の凹凸の隙間の空気を除去した状態のベース基材BにドライフィルムDが密着する。 By the way, when a liquid material M such as water is applied to the dry film D, the surface of the dry film D can be deformed because the liquid material M has affinity with the components of the dry film D and the surface viscosity is reduced. It becomes easy to follow the uneven | corrugated shape of the surface (main surface) of the base material B which is. In addition, the liquid M applied to the base substrate B is taken into the uneven gap of the printed wiring board in place of the air that originally existed in the uneven gap of the printed wiring board. Since the liquid M is compatible with the dry film D, the dry film D adheres to the base substrate B in a state in which the air in the concavo-convex gap of the printed wiring board is removed.
このように、液体物Mの存在は、ドライフィルムDとベース基材Bとを密着させる点で有効であるが、液体物Mの付着量が多すぎる場合には、却って、以下のような不都合が生じる場合がある。 Thus, the presence of the liquid material M is effective in terms of bringing the dry film D and the base substrate B into close contact with each other. However, when the amount of the liquid material M is too large, the following disadvantages are present. May occur.
すなわち、ベース基材Bに過剰量の液体物Mが塗布されると、ベース基材B上の液体物Mの膜が厚くなり、ベース基材Bのプリント配線板とドライフィルムDとの接触面積を低下させ、ベース基材BとドライフィルムDとの密着性を弱めてしまうという不都合が生じる。ベース基材BとドライフィルムDとの密着性が弱くなると、後段の圧着処理においてベース基材BとドライフィルムDとの位置がずれたり、ドライフィルムDが歪んだりして、正確な回路形成が阻害される場合がある。また、ベース基材Bに過剰量の液体物Mを塗布すると、圧着処理時に多量の蒸気が発生し、この蒸気がドライフィルムDにシワを生じさせる場合がある。ドライフィルムDにシワが生じると、ドライフィルムDの厚さに偏りが生じたり、ドライフィルムDの欠損の原因となり、同様に正確な回路形成が阻害される場合がある。 That is, when an excessive amount of the liquid material M is applied to the base substrate B, the film of the liquid material M on the base substrate B becomes thick, and the contact area between the printed wiring board of the base substrate B and the dry film D And the inconvenience of weakening the adhesion between the base substrate B and the dry film D occurs. When the adhesion between the base substrate B and the dry film D becomes weak, the position of the base substrate B and the dry film D is shifted in the subsequent pressure bonding process, or the dry film D is distorted, so that accurate circuit formation is achieved. May be hindered. Further, when an excessive amount of the liquid material M is applied to the base substrate B, a large amount of vapor is generated during the pressure-bonding process, and this vapor may cause wrinkles on the dry film D. If wrinkles are generated in the dry film D, the thickness of the dry film D may be biased, or the dry film D may be lost, and similarly, accurate circuit formation may be hindered.
これらを鑑み、本実施形態では、液体物塗布装置31,32によりベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置(K1、h1)が、圧着装置40によりドライフィルムDがベース基材Bに押し当てられる位置(K2、h0)よりも低くなるように各部材を配置する。
In view of these, in the present embodiment, the position (K1, h1) where the liquid material M is applied to the main surface of the base substrate B by the liquid
本実施形態のように、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置(K1、h1)が、ドライフィルムDがベース基材Bに押し当てられる位置(K2、h0)よりも低いので、液体物塗布装置30(31,32)においてベース基材Bの主面に過剰な液体物Mが塗布された場合であっても、余分な液体物Mは長尺のベース基材Bの主面をつたって高さの低い位置に設けられた液体物塗布装置30(31,32)側へ徐々に移動し、最終的に槽32Aに回収される。つまり、余分な液体物Mは除去されるので、圧着装置40へ送り込まれる際のベース基材Bの主面には液体物Mの薄い膜が形成される(液体物Mの膜厚が厚くなりすぎない)。また、余分な液体物Mは上流側へ戻されるので、下流側の圧力装置40に持ち込まれない。
As in this embodiment, the position (K1, h1) where the liquid M is applied to the main surface of the base substrate B is more than the position (K2, h0) where the dry film D is pressed against the base substrate B. Since it is low, even if the excessive liquid material M is applied to the main surface of the base substrate B in the liquid material application apparatus 30 (31, 32), the excess liquid material M is long base material B. Are gradually moved toward the liquid material applicator 30 (31, 32) provided at a low position through the main surface, and finally collected in the
これにより、ベース基材Bの主面に液体物Mを十分に塗布しつつも、ドライフィルムDが圧着される前に余分な液体物Mをベース基材Bから除去するので、余分な液体物Mが介在することによりベース基材Bとドライフィルムの密着が妨げられるという不都合を防止することができる。 As a result, while the liquid M is sufficiently applied to the main surface of the base substrate B, the excess liquid M is removed from the base substrate B before the dry film D is pressure-bonded. By intervening M, it is possible to prevent the disadvantage that the adhesion between the base substrate B and the dry film is hindered.
また、余分な液体物Mが圧着装置40へ持ち込まれないため、圧着時に滴り落ちた液体物MがドライフィルムDや、フィルム搬送装置20のシャフト、基材巻き取りローラ12のシャフトなどのラミネート装置100の部材に付着し、これらを汚すといった不都合を防止することができる。
Further, since the excess liquid M is not brought into the
特に限定されないが、本実施形態において、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置(K1,h1)とベース基材Bの主面にドライフィルムDが押し当てられる位置(K2,h0)との間のベース基材Bが、水平面に対して所定の傾斜角αを保つように構成する。図1に示すように、傾斜角αは、相対的に低い(図中−y方向)の位置(K1,h1)から相対的に高い(図中+y方向)の位置(K2,h0)へ至る搬送経路の方向と、水平方向(図中x方向)とがなす角度である。 Although not particularly limited, in the present embodiment, the position (K1, h1) where the liquid M is applied to the main surface of the base substrate B and the position (K2) where the dry film D is pressed against the main surface of the base substrate B. , H0) is configured to maintain a predetermined inclination angle α with respect to the horizontal plane. As shown in FIG. 1, the inclination angle α reaches from a relatively low position (K1, h1) to a relatively high position (K2, h0) (K2, h0). This is the angle formed by the direction of the transport path and the horizontal direction (x direction in the figure).
本実施形態では、傾斜角αが1°以上となるようにベース基材Bを傾斜させることにより、余分に付着した液体物Mはベース基材Bをつたって、相対的に低い位置に設置された液体塗布装置30側へ移動する。この移動時にも、液体物Mはベース基材B(プリント配線の凹凸)の全体に広がり、再びベース基材Bを万遍なく濡らしながら液体塗布装置30に戻る。液体物Mが水と界面活性剤を含む場合には、ベース基材B(プリント配線の凹凸)との濡れ性が向上するので、液体物Mがベース基材B(プリント配線の凹凸)の全体に広がりやすくなる。
In this embodiment, the base material B is inclined so that the inclination angle α is 1 ° or more, so that the extraneous liquid M is connected to the base substrate B at a relatively low position. It moves to the
特に限定されないが、傾斜角αは1°以上、10°以下とすることが好ましい。さらに好ましくは、1°以上4°以下とすることが好ましい。ベース基材Bの傾斜角αを10°より大きくすると、液体物Mの流れが早くなりすぎて、ベース基材Bの主面にむら無く馴染んで液体物Mの膜が形成される前に、液体物Mが液体物塗布装置30へ戻ってしまう可能性があるからである。また、ベース基材Bの傾斜角αを10°より大きくすると、槽タイプの液体物塗布装置31の液体物供給用の槽32Aを大型化する必要があり、ラミネート装置100の小型化を阻害するおそれがある。さらにまた、液体物供給用の槽32Aを大型化する場合には槽32Aに蓄える液体物の量も多くなり、運転コストが上昇するという不都合もある。加えて、ベース基材Bの傾斜角αを10°より大きくすると、ベース基材Bに不均一な力が作用してベース基材Bが歪んだり捻れたりする場合がある。ベース基剤Bが歪んだり捻れたりすると、ベース基材Bの主面に形成されたプリント配線板に応力が作用するという不都合や、貼り付けるドライフィルムDとの位置ずれが生じるという不都合が生じる場合がある。上記を考慮して、本実施形態では傾斜角αを上記範囲とし、実施例に係るラミネート装置100における傾斜角αは2°とした。
Although not particularly limited, the inclination angle α is preferably 1 ° or more and 10 ° or less. More preferably, the angle is 1 ° or more and 4 ° or less. When the inclination angle α of the base substrate B is larger than 10 °, the flow of the liquid material M becomes too fast, and before the film of the liquid material M is formed by evenly conforming to the main surface of the base substrate B, This is because the liquid material M may return to the liquid
このように、ベース基材Bの液体物Mの塗布位置からドライフィルムDの圧着位置までのパスライン(搬送経路)に傾斜角αを持たせることにより、ベース基材Bの主面に塗布された液体物Mを、ベース基材Bの主面を伝って徐々に高さの低い液体塗布装置30の方向へ移動させることができるので、余分な液体物Mを圧着装置40側へ送り込まないようにすることができる。
In this way, by applying an inclination angle α to the pass line (conveyance path) from the application position of the liquid M on the base substrate B to the pressure bonding position of the dry film D, the base substrate B is applied to the main surface. Since the liquid material M can be moved gradually along the main surface of the base substrate B toward the
言い換えると、本実施形態では、余分な液体物Mを除去できるようにしたので、上流側の液体塗布装置30においては、過剰な液体物Mを塗布することにより生じる弊害を心配することなく、液体浸漬型(槽タイプ)、液体塗布型(ローラタイプ)などの液体物塗布装置30によりベース基材Bを十分に濡らすことができる。この結果、液体物Mが過剰に塗布されることを避けるがゆえに生じる濡れむらなどの発生を防止することができる。
In other words, in the present embodiment, since the excess liquid object M can be removed, the
しかも、余分な液体物Mは、ベース基材Bの主面に広がりながら液体塗布装置30へ戻るので、ベース基材Bの表面にまんべんなく均一な液体物Mの膜を形成することができる。
In addition, since the excess liquid M is returned to the
なお、本実施形態におけるベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置(K1、h1)の高さ方向(y方向)の位置h1は、厳密にベース基材Bの厚さtを考慮すれば、(K1、h1+t)(K1、h1−t)(K1、h1+t/2)(K1、h1−t/2)とも記載することができる。本実施形態では、簡潔な説明のためにベース基材Bの厚さを便宜上無視し、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置を(K1、h1)と表現する。同じく、本実施形態における圧着装置40によりドライフィルムDがベース基材Bに押し当てられる位置(K2、h0)の高さ方向(y方向)の位置h0は、厳密にベース基材Bの厚さtを考慮すれば、(K2、h0+t)(K2、h0−t)(K2、h0+t/2)(K2、h0−t/2)とも記載することができる。本実施形態では、簡潔な説明のためにベース基材Bの厚さを便宜上無視し、圧着装置40によりドライフィルムDがベース基材Bに押し当てられる位置を(K2、h0)と表現する。同様に、後述するガイドローラ13がベース基材Bと接する位置(K3、h3)、異物除去ローラがベース基材Bと接する位置(K5、h5)、加熱ローラがベース基材Bと接する位置(K6、h6)についても、ベース基材Bの厚さを便宜上無視して、簡潔に説明をする。
In the present embodiment, the position h1 in the height direction (y direction) of the position (K1, h1) where the liquid M is applied to the main surface of the base substrate B is strictly the thickness t of the base substrate B. Can be described as (K1, h1 + t) (K1, h1-t) (K1, h1 + t / 2) (K1, h1-t / 2). In the present embodiment, for the sake of brevity, the thickness of the base substrate B is ignored for convenience, and the position where the liquid material M is applied to the main surface of the base substrate B is expressed as (K1, h1). Similarly, the position h0 in the height direction (y direction) of the position (K2, h0) where the dry film D is pressed against the base substrate B by the crimping
次に、本実施形態のラミネート装置100の圧着装置40について説明する。本実施形態のラミネート装置100における圧着装置40は、液体物塗布装置30よりも下流側に設けられている。圧着装置40は、液体物Mが塗布されたベース基材Bの主面にドライフィルムDを加熱しながら押し当てる。
Next, the crimping
図1に示すように、本実施形態の圧着装置40は、ベース基材Bの一方主面(図中上側を向く主面)にドライフィルムDを加熱しながら押し当てる第1圧着装置41と、ベース基材Bの他方主面(図中下側を向く主面)にドライフィルムDを加熱しながら押し当てる第2圧着装置42とを備える。
As shown in FIG. 1, the crimping
特に限定されないが、本実施形態の第1圧着ローラ41,第2圧着ローラ42は、ベース基材B及びドライフィルムDの幅方向(搬送方向Tに沿う尺方向に対して垂直の方向)に沿う回転軸41S,42Sを備えるとともに、回転軸41S,42Sに沿って内部にヒータ(発熱要素)を備え、外周面の加熱が可能である第1圧着ローラ41,第2圧着ローラ42として構成することができる。第1圧着ローラ41と第2圧着ローラ42は、ドライフィルムDで挟まれたベース基材Bをその両主面側から押圧し、その回転軸41S,42Sの回転に伴って周回する外周面が接触するドライフィルムDを加温し、ドライフィルムDをベース基材Bにラミネートする。
Although not particularly limited, the
また、特に限定されないが、第1圧着ローラ41及び第2圧着ローラ42は、第1圧着ローラ41の回転軸41Sと第2圧着ローラの回転軸42Sとを結ぶ仮想線Iがベース基材Bの両主面(表裏面)の延在面に対して略垂直となるように配置されている。このように、第1圧着ローラ41及び第2圧着ローラ42を配置することにより、ラミネート時において、第1圧着ローラ41からベース基材Bの一方主面側にかかる圧力と、第2圧着ローラ42から他方主面側にかかる圧力とを均等にすることができるので、ベース基材Bに偏った力がかからないようにすることができる。
Further, although not particularly limited, the
本実施形態の基材搬送装置10は、ベース基材Bを案内する一又は複数のガイドローラを備える。このガイドローラのうち、少なくとも一のガイドローラ13は、ベース基材Bの搬送の経路における液体塗布装置30の設置位置よりも上流側の位置であって、かつ液体物Mが塗布される位置(K1、h1)よりも高い位置でベース基材Bと接するように設置される。具体的に、ガイドローラ13は、ベース基材Bに液体物Mが塗布される位置(K1、h1)よりも上流側(矢印Fと反対の方向,−x側)かつ上方(+y側)の位置(K3、h3)をベース基材Bが通るように、設置される。つまり、本実施形態のガイドローラ13の外周面には、位置(K3、h3)が含まれる。
The
このように、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置よりも搬送経路の上流側の位置でベース基材Bを送り出すガイドローラ13が、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置よりも高い位置でベース基材Bと接するので、搬送経路の下流側でベース基材Bに塗布される液体物Mがベース基材Bを伝って上流側のガイドローラ13までへ流れてくることを防止することができる。つまり、液体物塗布装置30(31,32)において十分な液体物Mをベース基材Bに塗布しつつも、その上流側ではベース基材Bに液体物Mが付着しにくい(汚染されにくい)ようにすることができる。この結果、これから送り込まれる未処理のベース基材Bに液体物Mが付着することを防止することができる。
In this way, the
特に限定されないが、本実施形態において、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置(K1,h1)とベース基材Bのガイド位置(K3、h3)との間のベース基材Bが、水平面に対して所定の傾斜角βを保つように構成する。傾斜角βは、相対的に低い(図中−y方向)の位置(K1,h1)から相対的に高い(図中+y方向)の位置(K3、h3)へ至る搬送経路の方向と、水平方向(図中x方向)とがなす角度である。特に限定されないが、傾斜角βは、傾斜角αと同様に、1°以上、10°以下とすることが好ましい。さらに好ましくは、1°以上4°以下とすることが好ましい。 Although not particularly limited, in the present embodiment, the base group between the position (K1, h1) where the liquid M is applied to the main surface of the base substrate B and the guide position (K3, h3) of the base substrate B. The material B is configured to maintain a predetermined inclination angle β with respect to the horizontal plane. The inclination angle β is horizontal with respect to the direction of the conveyance path from the relatively low (−y direction in the figure) position (K1, h1) to the relatively high (+ y direction in the figure) position (K3, h3). The angle formed by the direction (x direction in the figure). Although not particularly limited, the inclination angle β is preferably 1 ° or more and 10 ° or less, similarly to the inclination angle α. More preferably, the angle is 1 ° or more and 4 ° or less.
後述するクリーンローラ51、52とベース基材Bが接する位置(K5、h5)と液体物Mが塗布される位置(K1,h1)との間のベース基材B、および加熱ローラ61,62とベース基材Bが接する位置(K6、h6)と液体物Mが塗布される位置(K1,h1)との間のベース基材Bも、水平面に対して所定の傾斜角γを有するが、傾斜角γは傾斜角βと同じ角度であってもよいし、異なる角度であってもよい。
Base substrate B and
さらに、本実施形態のラミネート装置100は、異物除去装置50を備える。異物除去装置50は、外周に粘着性の層が形成された第1クリーンローラ51と第2クリーンローラ52(これらをクリーンローラ51,52とも総称する)とを有する。
Furthermore, the
第1クリーンローラ51と第2クリーンローラ52とは粘着性の層をベース基材Bの主面(プリント配線板が形成されている面)に当接させてベース基材Bを挟み込み、ベース基材Bの主面に付着したゴミなどを異物をクリーンローラ51,52の表面の粘着性の層に転写して、これ(異物)を除去する。このように、ベース基材BにドライフィルムDを貼り合わせる前に、ベース基材Bを清浄化することができるので、ベース基材BとドライフィルムDとの間に異物が挟み込まれたままラミネートされる不都合を防止することができる。
The first
このクリーンローラ51,52は、ベース基材Bに液体物Mが塗布される位置(K1、h1)よりも上流側(矢印Fと反対の方向,−x側)かつ上方(+y側)の位置(K5、h5)をベース基材Bが通るように、設置される。つまり、本実施形態のクリーンローラ51,52の外周面(ベース基材Bとの接面)には、位置(K5、h5)が含まれる。
The
このように、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置よりも搬送経路の上流側の位置でベース基材Bを清浄化するクリーンローラ51,52が、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置よりも高い位置でベース基材Bと接するので、搬送経路の下流側でベース基材Bに塗布される液体物Mがベース基材Bを伝って上流側のクリーンローラ51,52まで流れてくることを防止することができる。つまり、液体物塗布装置30(31,32)において十分な液体物Mをベース基材Bに塗布しつつも、その上流側ではベース基材Bに液体物Mが付着しにくい(汚染されにくい)ようにすることができる。この結果、クリーンローラ51,52に液体物Mが付着してクリーンローラ51、52の異物除去性能が低下することや、粘着性の層に接した液体物Mに粘着成分が溶け出し、これがベース基材Bに付着(ベース基材Bを汚染)することを防止することができる。
As described above, the
さらにまた、本実施形態のラミネート装置100は、加熱装置60を備える。加熱装置60は、その内部にヒータ(発熱要素)を備える第1加熱ローラ61と第2加熱ローラ62(これらを加熱ローラ61,62とも総称する)とを有する。
Furthermore, the
第1加熱ローラ61と第2加熱ローラ62の外周には、ヒータで発生した熱を伝える伝導層が形成されている。第1加熱ローラ61と第2加熱ローラ62は、ベース基材Bの主面(プリント配線板が形成されていない部分を含む)の少なくとも一部に伝導層を当接させてベース基材Bを挟み込み、ベース基材Bを加熱する。なお、第1加熱ローラ61と第2加熱ローラ62の構成は特に限定されず、温度や押圧力の調整を行うことを前提に、上述した第1圧着ローラ装置41,第2圧着ローラ装置42と同様の構成とすることができる。このように、ベース基材BにドライフィルムDを貼り合わせる前に、ベース基材Bを余熱しておくことができるのでドライフィルムDを熱プレス(圧着)するときのベース基材Bの温度変化が急峻になりすぎないようにすることができる。また、ベース基材Bを余熱しておくことにより、温度分布のばらつきを抑制し、共通の条件でベース基材Bの全体をラミネート処理(貼り付け)を行うことができる。
On the outer circumferences of the
この加熱ローラ61,62は、ベース基材Bに液体物Mが塗布される位置(K1、h1)よりも上流側(矢印Fと反対の方向,−x側)かつ上方(+y側)の位置(K6、h6)をベース基材Bが通るように、設置される。つまり、本実施形態の加熱ローラ61,62の外周面(ベース基材Bとの当接面)には、位置(K6、h6)が含まれる。
The
このように、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置よりも搬送経路の上流側の位置でベース基材Bを加熱する加熱ローラ61,62が、ベース基材Bの主面に液体物Mが塗布される位置よりも高い位置でベース基材Bと接するので、搬送経路の下流側でベース基材Bに塗布される液体物Mがベース基材Bを伝って上流側の加熱ローラ61,62まで流れてくることを防止することができる。つまり、液体物塗布装置30(31,32)において十分な液体物Mをベース基材Bに塗布しつつも、その上流側ではベース基材Bに液体物Mが付着しにくい(汚染されにくい)ようにすることができる。これにより、加熱ローラ61,62の電気的機構に液体物Mが付着してショートなどの電気的障害が発生することを防止することができる。
As described above, the
本実施形態のラミネート装置100は、図1に示すように、液体物Mが塗布される位置(K1、h1)を下方の頂点とするV字状にベース基材Bを搬送する。下流側のドライフィルムDが圧着される位置(K2、h0)は、液体物Mが塗布される位置(K1、h1)よりも高い位置であり、上流側の搬送通過点(K3、h3)、異物除去位置(K5、h5)、加熱位置(K6、h6)も、液体物Mが塗布される位置(K1、h1)よりも高い位置である。
As shown in FIG. 1, the
本実施形態におけるラミネート装置100によれば、搬送方向Tに沿って移動するベース基材Bの搬送経路は、搬送通過点(K3、h3)、異物除去位置(K5、h5)、加熱位置(K6、h6)から下降方向(−y側)に傾斜し、液体物塗布装置30にて液体物Mが塗布された後は転じて上昇方向(+y側)に傾斜する。液体物Mが塗布される位置(K1、h1)を頂点とする上流側(−x側)・下流側(+x側)の傾きは、同じ傾きであってもよいし、異なる傾きであってもよい。
According to the
ベース基材BにドライフィルムDが押し当てられる位置(K2、h0)よりも上流側の低い位置でベース基材Bの主面に液体物を塗布し、余分な液体物Mをベース基材Bを伝わせて液体物塗布装置30へ戻すため、ドライフィルムDの圧着時に余分な液体物Mがベース基材Bに残留しないようにすることができる。この結果、ベース基材BとドライフィルムDとの密着性を向上させることができる。 The liquid material is applied to the main surface of the base substrate B at a position lower than the position (K2, h0) where the dry film D is pressed against the base substrate B, and the excess liquid material M is applied to the base substrate B. Therefore, it is possible to prevent the excess liquid material M from remaining on the base substrate B when the dry film D is pressed. As a result, the adhesion between the base substrate B and the dry film D can be improved.
ちなみに、ベース基材BとドライフィルムDとの密着性が悪いと、後に行われるエッチング工程においてベース基材BとドライフィルムDとの間にエッチング液(エッチャント)が侵入する場合がある。ベース基材BとドライフィルムDとの間に侵入したエッチング液は残したい銅箔までをも除去してしまうため、配線パターンに欠落部分が発生し断線してしまう場合がある。また、ベース基材BとドライフィルムDとの間に気泡があると、露光の際に当てられた光が気泡(空気)により分散され、光が当たった部分と当たらなかった部分の境目が不明瞭となる。露光が正確に行われないと、マスクパターンに応じた回路パターンが形成できずに、配線パターンが細くなったり、太くなったりして、配線パターンに欠落部分が発生して断線したり、ショートしてしまう場合がある。このような問題に対し、本発明の本実施形態に係るラミネート装置100は、ベース基材BとドライフィルムDとの密着性を向上させるので、上述のような不都合の発生を防止して、精度の高い配線パターンが形成されたプリント配線板を歩留まり良く製造することができる。
Incidentally, if the adhesion between the base substrate B and the dry film D is poor, an etching solution (etchant) may enter between the base substrate B and the dry film D in an etching process performed later. Since the etching solution that has entered between the base substrate B and the dry film D also removes even the copper foil that is desired to remain, there may be a case where a missing portion is generated in the wiring pattern and is disconnected. In addition, if there is a bubble between the base substrate B and the dry film D, the light applied during exposure is dispersed by the bubble (air), and the boundary between the portion that has been exposed and the portion that has not been exposed is unclear. It becomes clear. If the exposure is not performed accurately, the circuit pattern corresponding to the mask pattern cannot be formed, and the wiring pattern becomes thinner or thicker. May end up. For such a problem, the
また、液体物塗布装置30に送り込むベース基材Bの搬送方向が下降方向(−y側方向)に傾くようにしたので、液体物Mが上流側へ逆流することを防止することができる。この結果、ベース基材Bを清浄な状態に保つことができる。
In addition, since the transport direction of the base material B fed into the liquid
なお、ドライフィルムDをベース基材Bに貼り合せて感光レジスト層を形成した後においては、露光処理、現像処理を行い、さらに、エッチング処理によって所定領域の導体層を除去することによる配線パターンを形成する。その後、洗浄処理、レジストの剥離処理、レジスト剥離後の洗浄処理、及び乾燥処理を行い、端子めっきの形成、ソルダーレジストの形成やカッティング処理などの仕上げ処理を行い、所望のプリント配線板を得る。プリント配線板を作製するにあたり、本実施形態に係るラミネート装置100が用いられるラミネート工程以外の工程については、特に限定されず、出願時に知られた手法を適宜に適用することができる。
After forming the photosensitive resist layer by bonding the dry film D to the base substrate B, an exposure process and a development process are performed, and a wiring pattern is formed by removing a conductor layer in a predetermined region by an etching process. Form. Thereafter, a cleaning process, a resist stripping process, a cleaning process after the resist stripping, and a drying process are performed, and finishing processes such as terminal plating, solder resist formation and cutting are performed to obtain a desired printed wiring board. In producing a printed wiring board, processes other than the laminating process in which the
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.
100…ラミネート装置
10…基材搬送装置
11…基材送り出しローラ
12…基材巻き取りローラ
13,14…ガイドローラ
B,B1,B2…ベース基材
20…フィルム搬送装置(搬送手段)
21…第1フィルム搬送装置(第1搬送手段)
22…第2フィルム搬送装置(第2搬送手段)
21A,22A…フィルム送り出しローラ
21B,22B…剥離紙巻き取りローラ
D,D1,D1A,D2,D2A…ドライフィルム
30…液体物塗布装置(液体物塗布手段)
31…第1液体物塗布装置(第1液体物塗布手段)
31A…タンク
31H…液体物の供給経路(管)
31R…第1液体物塗布ローラ
32…第2液体物塗布装置(第2液体物塗布手段),
32A…槽
32R…第2液体物塗布ローラ
M…液体物
40…圧着装置(圧着手段)
41…第1圧着ローラ(第1圧着手段)
42…第2圧着ローラ(第2圧着手段)
50…異物除去装置
51…第1クリーンローラ
52…第2クリーンローラ
60…加熱装置
61…第1加熱ローラ
62…第2加熱ローラ
DESCRIPTION OF
21 ... 1st film conveyance apparatus (1st conveyance means)
22 ... 2nd film conveyance apparatus (2nd conveyance means)
21A, 22A ...
31 ... 1st liquid thing application device (1st liquid thing application means)
31A ...
31R ... first liquid material application roller 32 ... second liquid material application device (second liquid material application means),
32A ...
41... First pressure roller (first pressure means)
42. Second press roller (second press means)
DESCRIPTION OF
Claims (5)
所定の位置で前記ベース基材の主面に当接可能なように、前記ドライフィルムを搬送する搬送手段と、
前記ベース基材の搬送の経路において前記所定の位置よりも上流側に設けられ、前記ベース基材の主面に液体物を塗布する液体物塗布手段と、
前記所定の位置において、前記液体物が塗布されたベース基材の主面に、前記ドライフィルムを加熱しながら押し当てる圧着手段と、を備え、
前記液体物塗布手段により前記ベース基材の主面に液体物が塗布される位置は、前記圧着手段により前記ドライフィルムが前記ベース基材に押し当てられる位置よりも低い位置であることを特徴とするラミネート装置。 A laminating apparatus for laminating a dry film for circuit formation on a main surface of a base substrate of a printed wiring board that is conveyed along a predetermined conveying direction,
Conveying means for conveying the dry film so as to be able to contact the main surface of the base substrate at a predetermined position;
A liquid material applying means provided on the upstream side of the predetermined position in the path of transporting the base substrate, and applying a liquid material to the main surface of the base substrate;
A crimping means for pressing the dry film while heating the main surface of the base substrate to which the liquid material is applied at the predetermined position;
The position where the liquid material is applied to the main surface of the base substrate by the liquid material application means is a position lower than the position where the dry film is pressed against the base substrate by the pressure bonding means. Laminating equipment.
前記ガイドローラは、前記ベース基材の搬送の経路において前記液体塗布手段よりも上流側であって、かつ前記液体物が塗布される位置よりも高い位置で前記ベース基材と接するように設置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のラミネート装置。 A guide roller for conveying the base substrate;
The guide roller is installed to be in contact with the base substrate at a position that is upstream of the liquid application unit and higher than a position where the liquid material is applied in a path for transporting the base substrate. The laminating apparatus according to claim 1 or 2, wherein the laminating apparatus is provided.
前記加熱ローラは、前記ベース基材の搬送の経路において前記液体塗布手段よりも上流側であって、かつ前記液体物が塗布される位置よりも高い位置で前記ベース基材と接するように設置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のラミネート装置。 A heating roller for heating the base substrate;
The heating roller is installed on the upstream side of the liquid application unit in the path of transporting the base material and in contact with the base material at a position higher than the position where the liquid material is applied. The laminating apparatus according to claim 1 or 2, wherein the laminating apparatus is provided.
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