JP5907951B2 - ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルム - Google Patents

Description

発明の詳細な説明
本発明は、ラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムの又はラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムで被覆された基材の製造方法に関し、この方法によって得られる、ラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルム又はラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムで被覆された基材に関し、かかるフィルムの微粉砕によって得られる顔料に関し、かかるフィルム、基材又は顔料の、光学フィルタ、偏光子、装飾媒体、偽造防止マーカ、反射性媒体としての又はそれらにおける使用又は光を集束させるための（太陽電池における）使用に関し、かかるフィルムの抗細菌コーティングとしての使用に関し、かかるフィルムを含む偽造防止マーカに関し、そして偽造防止マーキングの検出方法に関する。

銀行券、証明書、奢侈品及びブランド品などの価値のある物品を模倣及び偽造することは、多大な経済的損失を引き起こす。模倣者及び偽造者に対して阻止するために又は少なくとも困難にするために、価値のある物品には一様に偽造防止マーカが付されている。しかしながら、殆どのマーカの場合、これは、それらを回避するための方法が見出されるまでの単なる時間の問題に過ぎない。従って、新規な偽造防止マーカが、絶え間なく要求されている。

ＷＯ００／４７６９４号は、特定のキラルネマチック重合性モノマーを、偽造防止マーカの製造に用いる使用を記載している。これらのマーカは、キラルネマチック重合性モノマーを適した基材に適用し、重合し、この層にＩＲ又はＵＶ領域において吸収又は蛍光する染料又は顔料を含む更なる層を適用し、そして最終的な吸収層を適用することによって製造される。

ＷＯ２００８／０１２２９２号は、ＵＶ及び／又は可視波長領域において反射する少なくとも１種の硬化性液晶成分Ａ、及び成分Ｂとして少なくとも１種の放射吸収化合物及び任意に蛍光性共役多環化合物を含む液晶混合物を、電気光学要素に及び／又はかかる混合物から製造される物品、ポリマー及び重合フィルムの偽造防止マーキングに用いる使用、並びにそれらを光学フィルタに又は偽造防止マーカとして用いる使用を記載している。

形状異方性を有する物質を加熱する時に、中間相として知られる液晶相が生じ得る。個々の相は、第１に分子の重心の空間的配置によって異なり、第２に縦軸に関する分子の配置によって異なる（G. W. Gray, P. A. Winsor, Liquid Crystals and Plastic Crystals, Ellis Horwood Limited, Chichester, 1974）。

ネマチックの液晶相は、分子の縦軸の平行整列（一次元の配向状態）を特徴とする。ネマチック相を形成する分子がキラルである場合、いわゆるキラルネマチック（コレステリック）相が形成し、その際、分子の縦軸が、それらに対して直角でらせん状の超格子構造を形成する（H. Baessler, Festkoeperprobleme XI, 1971）。ピッチとは、分子の縦軸の理想的な配向を有する２つの理論層の間の距離を意味する。

キラル分子部分は、液晶分子自体に存在するか又はドーパントとしてネマチック相に追加されてよく、これはキラルネマチック相を誘導する。この現象は、最初にコレステロール誘導体（例えば、H. Baessler, M. M. Labes, J. Chem. Phys. 52, 631（1970)）で調査された。キラルドーパントの濃度を変化させることで、ピッチ、そしてキラルネマチック層の選択的に反射された照射の波長域を変化させることができる。

キラルネマチック相は、以下の特定の光学特性を有する：キラルネマチック層内の円偏光の選択的な反射の結果として生じる、高い旋光度及び顕著な円偏光二色性。かかるキラルネマチック系は、特定の使用に興味深い可能性をもたらす。

それにもかかわらず、キラルネマチック化合物をベースとした先行技術の偽造防止マーカは、未だ不十分である。

従って、本発明の課題は、光学フィルタ及び特に偽造防止マーカの製造に適した、新規な光学特性を有するポリマーを提供することであった。ポリマーは更に容易に製造され、且つ偽造防止マーカは容易に検出されるべきである。

驚いたことに、アキラルネマチック重合性モノマーを含む組成物の重合の間又は重合後のポリマーフィルムの熱処理は、それによって形成されたフィルムの上にラインテクスチャの形成をもたらす。組成物がキラルドーパントも含む場合、フィンガープリントテクスチャがポリマーフィルムの表面上に生じる。

従って、この課題は、ラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルム又はラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムで被覆された基材の製造方法であって、
（ｉ）任意に被覆されたキャリアフィルム又は任意に被覆された基材を提供し且つ任意にキャリアフィルム又は基材を洗浄する及び／又はフィルム又は基材表面上又はフィルム又は基材表面上の一部に優先方向（preferential direction）を生じさせる工程；
（ｉｉ）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び任意に少なくとも１種の分散媒を含む組成物をフィルム又は基材表面に適用する工程であって、組成物は、紫外線で重合可能な少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを含み、該組成物は、紫外線で重合可能な少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを、組成物中に存在するアキラルネマチック重合性モノマーの総質量を基準として、少なくとも２５質量％の量で含み；且つ組成物は、フィンガープリントテクスチャを有するフィルムが得られる場合、少なくとも１種のキラル重合性モノマーも含む工程；
（ｉｉｉ）任意に工程（ｉｉ）で適用される組成物又は工程（ｉｉ）で適用される組成物の一部を配向させる工程；
（ｉｖ）任意に存在する分散媒を少なくとも部分的に除去する工程；
（ｖ）紫外線の作用下で組成物中に存在する少なくとも１種のモノマーを重合する工程；
（ｖｉ）任意に工程（ｖ）で得られた生成物を熱後処理する工程；及び
（ｖｉｉ）任意に工程（ｖ）又は（ｖｉ）で得られた生成物を紫外線の作用下で後硬化する工程；
を含むが、但し、工程（ｖｉ）が、工程（ｖ）が６０℃を下回る温度で実施される場合に実施されることを条件とする、前記製造方法によって達成される。

有利な実施態様では、工程（ｖ）は高められた温度で実施される。

従って、好ましい実施態様では、本発明は、ラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルム又はラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムで被覆された基材の製造方法Ａであって、
（ｉ）任意に被覆されたキャリアフィルム又は任意に被覆された基材を提供し且つ任意にキャリアフィルム又は基材を洗浄する及び／又はフィルム又は基材表面上又はフィルム又は基材表面上の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉｉ）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び任意に少なくとも１種の分散媒を含む組成物をフィルム又は基材表面に適用する工程であって、組成物は、紫外線で重合可能な少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを含み、該組成物は、紫外線で重合可能な少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを、組成物中に存在するアキラルネマチック重合性モノマーの総質量を基準として、少なくとも２５質量％の量で含み；且つ組成物は、フィンガープリントテクスチャを有するフィルムが得られる場合、少なくとも１種のキラル重合性モノマーも含む工程；
（ｉｉｉ）任意に工程（ｉｉ）で適用される組成物又は工程（ｉｉ）で適用される組成物の一部を配向させる工程；
（ｉｖ）任意に存在する分散媒を少なくとも部分的に除去する工程；
（ｖ）紫外線の作用下で組成物中に存在する少なくとも１種のモノマーを６０〜１４０℃の温度で重合する工程；
（ｖｉ）任意に工程（ｖ）で得られた生成物を熱後処理する工程；及び
（ｖｉｉ）任意に工程（ｖ）又は（ｖｉ）で得られた生成物を紫外線の作用下で後硬化する工程；
を含む、前記製造方法Ａに関する。

代替的な好ましい実施態様では、熱後処理は工程（ｖｉ）で実施される。

従って、代替的な好ましい実施態様では、本発明は、ラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルム又はラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムで被覆された基材の製造方法Ｂであって、
（ｉ）任意に被覆されたキャリアフィルム又は任意に被覆された基材を提供し且つ任意にキャリアフィルム又は基材を洗浄する及び／又はフィルム又は基材表面上又はフィルム又は基材表面上の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉｉ）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び任意に少なくとも１種の分散媒を含む組成物をフィルム又は基材表面に適用する工程であって、組成物は、紫外線で重合可能な少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを含み、該組成物は、紫外線で重合可能な少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを、組成物中に存在するアキラルネマチック重合性モノマーの総質量を基準として、少なくとも２５質量％の量で含み；且つ組成物は、フィンガープリントテクスチャを有するフィルムが得られる場合、少なくとも１種のキラル重合性モノマーも含む工程；
（ｉｉｉ）任意に工程（ｉｉ）で適用される組成物又は工程（ｉｉ）で適用される組成物の一部を配向させる工程；
（ｉｖ）任意に存在する分散媒を少なくとも部分的に除去する工程；
（ｖ）紫外線の作用下で組成物中に存在する少なくとも１種のモノマーを重合する工程；及び
（ｖｉ）工程（ｖ）で得られた生成物を熱後処理する工程
を含む、前記製造方法Ｂに関する。

工程（ｖｉ）の後に任意の工程（ｖｉｉ）を実施してよく、その際、工程（ｖｉ）で得られた生成物は紫外線の作用下で後硬化される。

方法Ａと方法Ｂとは、熱処理の時点が異なっており、これは重合の間（方法Ａ）又は重合の直後（方法Ｂ）のいずれかに行ってよい。

本発明は更に、本発明による方法によって得られる、ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムに関し且つラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムで被覆された基材にも関する。

従って、本発明の重合フィルム及び基材を特徴付ける特徴は、それらがラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する層を有し（又は重合フィルムの場合、これは１つのかかる層のみで構成されてもよい）、これは重合した形の少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーから形成され、これらのネマチックモノマーの少なくとも１種が紫外線で重合可能であることである。層がフィンガープリントテクスチャを有する場合、層は、少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー又は重合した形の少なくとも１種のキラル重合性モノマーのいずれかから形成される。

「〜から形成される」とは、重合した層が、アキラルネマチックモノマー及び（フィンガープリントテクスチャを生成するために）任意に重合した形のキラルモノマーのみで構成されていることを意味していない。工程（ｉｉ）で使用される組成物は、更なる成分（例えば、下記の成分Ｂ〜Ｅを参照のこと）を含む可能性が極めて高く、これも工程（ｖ）、（ｖｉ）又は（ｖｉｉ）の後に形成される層に部分的に又は完全に残り得る。

本発明の文脈において、「ラインテクスチャ」とは、顕微鏡を上から見る時に、実質的に平行な線又は無限大の縦範囲のストリップ（縦の範囲は当然ながらフィルムの末端によって制限される）の系として現れる、表面特性を意味するものと理解されている。「実質的に」とは、テクスチャが、ポリマーフィルムの範囲内のライン又はストリップの範囲の平行性又は無限大を壊す欠陥をわずかに含み得ることを表す。側面から見た場合、その表面は、顕微鏡下では山や谷の連なり（殆ど正弦曲線）として見える。これは表面測定、例えば、原子間力の測定又は走査測定、又は光学画像処理を用いて検出してもよい。

「フィンガープリントテクスチャ」は、本発明の文脈において、顕微鏡を上から見た時に、指紋又は蛇皮を想起させるライン又はストリップの系として現れる、表面特性を意味するものと理解されている。

「液晶」との用語は、本発明の文脈において、特定の文脈から特に明白でない限り、ネマチック相及びコレステリック相の両方に対して使用される。

本発明のフィルムは、箔、即ち、自己支持平坦構造、即ち、５ｍｍ以下、好ましくは３ｍｍ以下、更に好ましくは１．５ｍｍ以下、特に１ｍｍ以下の厚さを有する構造（この厚さは、長さと幅に比較して無視できるほど小さく、例えば、次に大きな寸法よりも少なくとも２０倍又は少なくとも５０倍又は少なくとも１００倍又は少なくとも５００倍小さく、該構造は同時に可撓性でもある）であるか、又は例えば、任意の性質のキャリアフィルム又は基材を引裂かないためにキャリアを必要とする非自己支持平坦構造である。

本発明の文脈において、架橋とは、ポリマーの共有結合の形成を意味し、重合とは、モノマーのポリマーへの共有結合の形成を意味するものと理解される。硬化とは、コレステリック相の架橋、重合又は凝固を意味するものと理解される。硬化によって、液晶層内のコレステリック分子のホモジニアス配向が固定される。「後硬化」とは、ポリマーの実際の架橋工程が既に完了した後に実施され、更にコレステリック相の架橋、重合又は凝固を完了させる働きをする、硬化工程に関するものである。

本発明による方法の好ましい特徴に関する見解、特に本発明のフィルム、基材及びマーカの、強制的に且つ任意に使用される要素及び強制的に且つ任意に実施されるプロセス工程は、単独で及び更に特に互いに組み合わせて適用される。明白に別のものであると記載されない限り、このプロセスに関しては、一般的なプロセス並びに変形Ａ及び変形Ｂにとって有効であることが述べられている。次の記述は、本発明による方法及び本発明の生成物の両方に関するものである。本発明の生成物は、以下に説明するように、常にそれらを厳密に分離することが可能ではないが、本発明の重合フィルム又は本発明の基材を含んでよい。

本発明のプロセスでは、工程（ｖｉ）が、例えば、明白に６０℃未満で実施される場合、工程（ｖ）の温度は原則的に重要ではない。最大温度は、重合されるべきモノマー及び形成するフィルムの熱安定性又はフィルムが形成される基材によって決定され、この温度は１５０℃、好ましくは１４０℃を超えるべきではない。工程（ｖｉ）が実施される場合、工程（ｖ）は好ましくは周囲温度、即ち、紫外線源によって決定される温度で及び重合が実施される環境で実施される。原則として、これは７５℃以下、好ましくは６０℃以下、特に５０℃以下である。しかしながら、工程（ｖｉ）が実施されるかどうかとは無関係に、６０〜１４０℃、更に好ましくは８０〜１２０℃、更に一層好ましくは８０〜１１０℃、特に好ましくは９０〜１１０℃、特に９５〜１０５℃、とりわけ約１００℃の温度で工程（ｖ）を実施することが更に好ましい。工程（ｖｉ）を実施しない場合、工程（ｖｉ）の重合は、好ましくは６０℃〜１４０℃、更に好ましくは８０℃〜１２０℃、更に一層好ましくは８０℃〜１１０℃、特に好ましくは９０℃〜１１０℃、特に９５℃〜１０５℃、とりわけ約１００℃の温度で実施される。

熱エネルギーは、外部熱源並びに紫外線源、例えば、ＵＶランプの両方に由来してよい。好ましくは、熱エネルギーは、紫外線源、例えば、オーブン又は熱プレートとは異なる熱源から少なくとも部分的に由来するものである。

変形プロセスＡでは、工程（ｖ）は好ましくは６０℃〜１４０℃、更に好ましくは８０℃〜１２０℃、更に一層好ましくは８０℃〜１１０℃、特に好ましくは９０℃〜１１０℃、特に９５℃〜１０５℃、とりわけ約１００℃の温度で実施される。熱エネルギーは、外部熱源並びに紫外線源、例えば、ＵＶランプの両方に由来してよい。好ましくは、熱エネルギーは、紫外線源、例えば、オーブン又は熱プレートとは異なる熱源から少なくとも部分的に由来するものである。

変形プロセスＢでは、工程（ｖ）の温度は、工程（ｖｉ）が実施される場合、殆ど重要ではなく、例えば、６０℃よりも明らかに低くてよい。最大温度は、重合されるべきモノマー及び形成するフィルムの熱安定性又はフィルムが形成される基材によって決定され、該温度は１５０℃、好ましくは１４０℃を超えるべきではない。工程（ｖｉ）が実施される場合、工程（ｖ）は好ましくは周囲温度、即ち、紫外線源によって決定される温度で及び重合が実施される環境で実施される。原則として、これは７５℃以下、好ましくは６０℃以下、特に５０℃以下である。しかしながら、プロセスＢにとっても、工程（ｖ）を、６０〜１４０℃、更に好ましくは８０〜１２０℃、更に一層好ましくは８０〜１１０℃、特に好ましくは９０〜１１０℃、特に９５〜１０５℃、とりわけ約１００℃の温度で実施することが更に好ましい。

上記の温度は、重合するフィルムのすぐ近似の温度に関するものである。

工程（ｖｉ）における熱後処理では、特定量のエネルギーを、工程（ｖ）で得られる生成物中に導入することが好ましい。エネルギーは好ましくは、例えば、生成物を高められた温度で特定時間にわたり曝露することによって、例えば、オーブン中に導入する又はそれに通すことによって導入される。この時間は、生成物が曝露される温度に依存しているため（温度が低いほど、所望量のエネルギーの生成物への導入に要求される時間が長くなる）、長い作用時間ではなく高い温度を選択することが有用であることが判明した。どれほどの温度と時間が、特定量のエネルギーを生成物中に導入するために要求されるかは、同様に生成物の熱容量と熱伝導性に依存する。

工程（ｖｉ）の熱後処理では、工程（ｖ）で得られる生成物を、６０℃〜２２０℃の温度に１秒〜５分、更に好ましくは７０℃〜１８０℃の温度に５秒〜３分、更に一層好ましくは７０℃〜１５０℃の温度に５秒〜１分、特に１００℃〜１３５℃の温度に５秒〜４０秒、曝露することが好ましい。あるいは、同等量のエネルギーを工程（ｖ）で得られる生成物中に導入する所望のプロセスを使用することが可能である。しかしながら、生成物を高められた温度に曝露することが好ましい。

変形プロセスＡでは、任意の工程（ｖｉ）はラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを得るために必須ではないので、特定の実施態様において、特に工程（ｖ）が少なくとも８０℃の温度で、例えば、８０℃〜１１０℃の温度、特に少なくとも９０℃で、例えば、９０℃〜１１０℃、特に少なくとも９５℃、例えば、９５℃〜１１０℃又は約１００℃の温度で実施される場合に、この工程は省略してよい。

任意の工程（ｖｉｉ）では、工程（ｖ）又は（ｖｉ）で得られる生成物は後架橋される、即ち、これは更なる硬化又は架橋にかけられる。このために、生成物は、好ましくは２０℃〜５０℃、好ましくは２０℃〜４０℃の温度まで冷却した後に、紫外線で照射される。照射時間は、好ましくは５分、更に好ましくは３分を超えるべきではない。

この工程（ｖｉｉ）によって、ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有するフィルムの貯蔵安定性は、明らかに向上し且つその温度劣化への感受性は顕著に低下する。

工程（ｉｉ）で使用される組成物が、キラルドーパント、特にキラル重合性モノマーを含まず、さらに当然ながらコレステリック化合物、特にコレステリック重合性モノマーを含まないが、単独の液晶化合物として、少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを含む場合、工程（ｖ）での熱処理又は工程（ｖｉ）での熱後処理によってラインテクスチャを有する重合フィルムが得られる。しかしながら、必要条件は、組成物中に存在する少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーが紫外線によって重合可能であり、且つ紫外線によって重合可能な少なくとも１種のモノマーが、組成物中に存在するアキラルネマチック重合性モノマーの総質量を基準として、少なくとも２５質量％、好ましくは少なくとも５０質量％、特に少なくとも６０質量％の総量で組成物中に存在することである。

工程（ｉｉ）で使用される組成物も、少なくとも１種のキラルドーパント、特に少なくとも１種のキラル重合性材料を含む場合、工程（ｖ）での熱処理又は工程（ｖｉ）での熱後処理によってフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムが得られる。

好ましい実施態様では、本発明による方法は、ラインテクスチャを有する重合フィルムを製造するのに役立つ、即ち、工程（ｉｉ）で使用される組成物は、好ましくは、キラルドーパント、更に特にキラル重合性モノマー、さらに当然ながらコレステリック重合性モノマーを含まず、単独の液晶化合物として少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを含む。従って、本発明の製品は、ラインテクスチャを有する層を有する、重合フィルム又は基材である。

好ましくは、工程（ｉｉ）で使用される組成物の少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーは、多官能の、特に二官能重合性である。

好ましいアキラルネマチック二官能重合性モノマーは、一般式Ｉ
Ｚ^１−（Ｙ^１−Ａ^１）_ｖ−Ｙ^２−Ｍ−Ｙ^３−（Ａ^２−Ｙ^４）_ｗ−Ｚ^２ （Ｉ）
に相当するものであり、
式中、
Ｚ^１、Ｚ^２は重合が実施され得る同一又は異なる反応性基であるか、又はかかる反応性基を含む基であり、その際、反応性基はＣ＝Ｃ二重結合、Ｃ≡Ｃ三重結合、オキシラン、チイラン、アジラン、シアナート、チオシアナート、イソシアナート、カルボン酸、ヒドロキシル又はアミノ基、好ましくはＣ＝Ｃ二重結合から選択され；
Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４はそれぞれ独立して化学結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、好ましくは−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−であり、
その際、Ｒ^ａは水素又はＣ_１−Ｃ_４−アルキルであり；
Ａ^１、Ａ^２はＣ_２−Ｃ_３０−アルキレン基、好ましくはＣ_２−Ｃ_１２−アルキレン基から選択される同一又は異なるスペーサであり、これは酸素、硫黄及び／又は任意に一置換窒素で中断されてよく、その際、これらの中断基は隣接してはならず；その際、好適なアミン置換基はＣ_１−Ｃ_４−アルキル基を含み、その際、アルキレン鎖はフッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル又はエチルによって置換されてよく、その際、更に好ましくはＡ^１及びＡ^２はそれぞれ−（ＣＨ_２）_ｎ−（式中、ｎ＝２〜８）であり；
ｖ及びｗはそれぞれ独立して０、１又は２であり；
Ｍは一般式ＩＩ：
（Ｔ^１−Ｙ^５）_ｙ−Ｔ^２ （ＩＩ）
（式中、
Ｔ^１はそれぞれ独立して任意に置換された二価の脂環式の、飽和又は部分的に不飽和のヘテロ環式基、芳香族基又はヘテロ芳香族基であり；
Ｔ^２は独立してＴ^１について定義された通りであるか又は−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基であり；
Ｙ^５は同一又は異なる橋部分−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＨ_２−Ｓ−、−Ｓ−ＣＨ_２、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、−ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ_３）−又は直接結合であり、且つ
ｙは０、１、２又は３、好ましくは０、１又は２、特に１又は２、特に２である）
のメソゲン基である。

Ｔ^２は好ましくは任意に置換された二価の芳香族基であり、更に好ましくは任意に置換されたフェニル基であるか、又はＴ^２は、環員としてＮ、Ｏ及びＳから選択された１個、２個又は３個のヘテロ原子を有する任意に置換された二価の５員又は６員のヘテロ芳香族基、又は−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基である。

Ｔ^２は更に好ましくは以下の式

（式中、
Ｒ_１はフッ素、塩素、臭素、Ｃ_１−６−アルキル、Ｃ_１−６−アルコキシ、Ｃ_１−６−アルキルカルボニル、Ｃ_１−６−アルキルカルボニルオキシ、Ｃ_１−６−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ニトロ、ＣＨＯ又はＣＮ、好ましくは塩素、臭素、Ｃ_１−Ｃ_４−アルキル又はＣ_１−Ｃ_４−アルコキシカルボニル、特にメチル又はメトキシカルボニルであり；且つ
ｘは０、１、２、３又は４、好ましくは０、１又は２、更に好ましくは０又は１、特に１である）
の基であるか、
又はＴ^２は、Ｃ_１−６−アルキル及びＣ_１−６−アルコキシから選択された１つ又は２つの置換基を有してよい、環員としてＮ、Ｏ及びＳから選択された１個、２個又は３個のヘテロ原子を有する二価の５員又は６員のヘテロ芳香族基であるか、又はＴ_２は−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基である。

好適な二価の５員又は６員のヘテロ芳香族基は、例えば、２，５−ピロールジイル、３，４−ピロールジイル、３，４−ピラゾールジイル、２，５−イミダゾールジイル、２，５−トリアゾールジイル、３，４−トリアゾールジイル、２，５−オキサジアゾールジイル、２，５−チアジアゾールジイル、２，５−ピリジンジイル、２，５−ピリミジンジイル等である。

それぞれのＴ^１は好ましくは独立して芳香族基、更に好ましくはフェニル又はナフチル、特に１，４−結合したフェニル又は２，６−結合したナフチルであり、その際、芳香族基はＣ_１−６−アルキル又はＣ_１−６−アルコキシから選択される１つ又は２つの置換基を有してよい。

Ｙ^５は好ましくは、Ｔ^２が−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基ではない時に−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−である。Ｔ^２が−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基である時、Ｙ^５は好ましくは化学的単結合である。

ｙは好ましくは２である。

更に好ましくは、工程（ｉｉ）で使用される少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーは、以下の式Ｉ．１

（式中、
Ｚ^１１及びＺ^２１は互いに独立して

であり；
Ａ^１１及びＡ^２１は互いに独立して炭素数２〜８のアルキレン基であり、
Ｙ^１１及びＹ^４１は互いに独立して化学的単結合、酸素、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であり；且つ
Ｒ^１は水素、Ｃ_１−Ｃ_６−アルキル、Ｃ_１−Ｃ_６−アルコキシ又はＣＯ−Ｏ−Ｃ_１−Ｃ_６−アルキルである）
の少なくとも１種の二官能重合性アキラルネマチックモノマーを含み、
更に任意に以下の式Ｉ．２

（式中、
Ｔ^２２は以下の式

の二価の基であり、
環員としてＮ、Ｏ及びＳから選択される１個、２個又は３個のヘテロ原子を有する二価の５員又は６員のヘテロ芳香族基であるか、又は−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基であり；
Ｚ^１２及びＺ^２２は互いに独立して

であり；
Ａ^１２及びＡ^２２は互いに独立して炭素数２〜８のアルキレン基であり、
Ｙ^１２及びＹ^４２は互いに独立して化学的単結合、酸素、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であり；
Ｙ^５２は化学的単結合、酸素、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であるが、但し、Ｙ^５２は、Ｔ^２２が−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基である時に化学的単結合であることを条件とし；
Ｒ^２は水素、Ｃ_１−Ｃ_６−アルキル、Ｃ_１−Ｃ_６−アルコキシ又はＣＯ−Ｏ−Ｃ_１−Ｃ_６−アルキルであり；且つ
Ｒ^３は水素、Ｃ_１−Ｃ_６−アルキル、Ｃ_１−Ｃ_６−アルコキシ又はＣＯ−Ｏ−Ｃ_１−Ｃ_６−アルキルである）
の少なくとも１種の二官能重合性アキラルネマチックモノマーを含む。

工程（ｉｉ）で使用される少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーが、式Ｉ．２の少なくとも１種の二官能重合性アキラルネマチックモノマーをも含む場合、式Ｉ．１の少なくとも１種のモノマー対式Ｉ．２の少なくとも１種のモノマーの総質量比は、好ましくは少なくとも１：１、更に好ましくは少なくとも６：５、更に一層好ましくは少なくとも３：２、特に少なくとも４：３である。

特に、使用されるモノマーＩ．１は式Ｉ．１．１

の化合物である。

更に特に、少なくとも１種のモノマーＩ．２は、式Ｉ．２．１、Ｉ．２．２、Ｉ．２．３及びＩ．２．４

の化合物、及びそれらの混合物から選択される。

更に一層好ましくは、少なくとも１種のモノマーＩ．２は、式Ｉ．２．１及びＩ．２．２の化合物、並びにそれらの混合物から選択される。

工程（ｉｉ）で使用される組成物は、少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを、該組成物の総質量を基準として、好ましくは５０質量％以下、例えば、５〜５０質量％、好ましくは１０〜５０質量％、更に好ましくは１５〜５０質量％、特に２０〜５０質量％、更に好ましくは３０質量％以下、例えば、５〜３０質量％、好ましくは１０〜３０質量％、更に好ましくは１５〜３０質量％、特に２０〜３０質量％、そして特に２５質量％以下、例えば、５〜２５質量％、好ましくは１０〜２５質量％、更に好ましくは１５〜２５質量％、特に２０〜２５質量％の量で含む。

工程（ｉｉ）で使用される組成物がキラル重合性モノマーも含む場合、これは好ましくは以下の式ＩＶ
［（Ｚ^１−Ｙ^１）_ｏ−Ａ^４−Ｙ^２−Ｍ−Ｙ^３］_ｎＸ［Ｙ^３−Ｍ−Ｙ^２−Ａ^５−（Ｙ^１−Ｚ^１）_ｐ］_ｍ （ＩＶ）
（式中、
Ｚ^１、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３及びＭはそれぞれ式（Ｉ）（但し、Ｍ基内のＴ^２は−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基ではない）について上で規定された一般的な又は好ましい定義のうちの１つを有し、
ｏ、ｐはそれぞれ０又は１であり、その際、ｏ及びｐは両方とも０ではあってはならず、
Ａ^４及びＡ^５は同一又は異なり；且つ
Ａ^４は、ｏ＝１である時、Ａ^１について定義された通りであるか；又は、
ｏ＝０である時、直鎖状Ｃ_１−Ｃ_３０−アルキル基、好ましくはＣ_１−Ｃ_１２−アルキル基であり、該基は酸素、硫黄及び／又は任意に一置換窒素で中断されてよく、その際、これらの中断基は隣接してはならず；その際、好適なアミン置換基はＣ_１−Ｃ_４−アルキル基を含み、該アルキル基はフッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル又はエチルによって置換されてよく、その際、Ａ^４は更に好ましくはＣＨ_３（ＣＨ_２）_Ｉ−基（式中、Ｉ＝１〜７である）であり；
Ａ^５は、ｐ＝１である時、Ａ^１について定義された通りであるか、又は
ｐ＝０である時、直鎖状Ｃ_１−Ｃ_３０−アルキル基、好ましくはＣ_１−Ｃ_１２−アルキル基であり、該基は酸素、硫黄及び／又は任意に一置換窒素で中断されてよく、その際、これらの中断基は隣接してはならず；その際、好適なアミン置換基はＣ_１−Ｃ_４−アルキル基を含み、該アルキル基はフッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル又はエチルによって置換されてよく、その際、Ａ^５は更に好ましくはＣＨ_３（ＣＨ_２）_Ｉ−基（式中、Ｉ＝１〜７である）であり；
ｎ、ｍはそれぞれ０、１又は２であり、その際、ｎ＋ｍの合計が１又は２、好ましくは２であり；且つ
Ｘはキラル基である）
に対応する。

メソゲンＭ基は好ましくは以下の式ＩＩＩ
（Ｔ^１−Ｙ^５）_ｙ−Ｔ^２ （ＩＩＩ）
を有し、
その式中、Ｔ^１、Ｔ^２及びＹ^５はそれぞれ上で規定された一般的な又は好ましい定義（但し、Ｔ^２は−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基ではない）のうちの１つを有し、ｙは上で規定された一般的な定義のうちの１つを有するが、好ましくは０又は１である。

Ｔ^２は好ましくは芳香族基、更に好ましくはフェニル基である。更に特に、Ｔ^２は以下の式

（式中、
Ｒ^ｂはフッ素、塩素、臭素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキル、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルコキシ、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルキルカルボニル、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルキルカルボニルオキシ、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、ニトロ、ＣＨＯ又はＣＮ、好ましくは塩素、臭素、Ｃ_１−Ｃ_４−アルキル又はＣ_１−Ｃ_４−アルコキシカルボニル、特にメチル又はメトキシカルボニルであり；且つ
ｘは０、１、２、３又は４、好ましくは０、１又は２、更に好ましくは０又は１、特に０である）
の基である。

それぞれのＴ^１は好ましくは独立して芳香族基、更に好ましくはフェニル又はナフチル、更に一層好ましくは１，４−結合したフェニル又は２，６−結合したナフチル、特に非置換の１，４−結合したフェニル又は非置換の２，６−結合したナフチルである。

Ｙ^５は好ましくは−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−である。

ｙは好ましくは０又は１である。

一般式ＩＶの化合物のキラルＸ基の中では、他の理由の中でも利用し易さのために、糖、ジナフチル又はジフェニル誘導体及び任意に活性グリコール、アルコール又はアミノ酸から誘導されるものが特に好ましい。糖の場合、特にペントース及びヘキソース、並びにそれから誘導される誘導体が挙げられるべきである。

Ｘ基の例は以下の構造であり、その際、末端のダッシュ記号はそれぞれ自由原子価を表す。

（式中、
Ｌ^１はＣ_１−Ｃ_４−アルキル、Ｃ_１−Ｃ_４−アルコキシ、ハロゲン、ＣＯＯＲ^ｃ、ＯＣＯＲ^ｃ又はＮＨＣＯＲ^ｃであり、且つＲ^ｃはＣ_１−Ｃ_４−アルキル又は水素である）。

特に以下の式

が好ましい。

更に、以下の構造を有するキラル基も適している：

特に好ましい実施態様では、キラル重合性モノマーは、以下の構造式

から選択される。

工程（ｉｉ）で使用される組成物が少なくとも１種のキラル重合性モノマーを含む場合、組成物中の少なくとも１種のアキラルネマチックモノマー対少なくとも１種のキラルモノマーの総量の比は、これらのモノマーカら形成されるポリマーが、配向後に、反射されるべき所望の波長、例えば、ＵＶスペクトル領域内の波長又は可視スペクトル領域内の波長又はＩＲスペクトル領域内の波長に対応するらせん高次構造のピッチを有するように選択される。この比は、ネマチックモノマー及びキラルモノマーの種類に依存し且つ個々の場合ごとに決定されなければならない。これは単純な予備実験で行ってよい。

しかしながら、一般的には、特定のネマチックモノマーと特定のキラルモノマーの場合、ネマチック成分と比較してキラル成分の濃度が増加するに従って、反射帯域の最大値がより短い波長に移動する。

しかしながら、工程（ｉｉ）で使用される組成物は、好ましくはキラル重合性モノマーを含まない。

必要に応じて、工程（ｉｉ）で使用される組成物は、既に記載された成分だけでなく、好ましくは以下のものから選択される更なる混合成分も含んでよい：
・以下のものから順に選択される少なくとも１種の成分Ｂ：
（Ｂ．１）光開始剤；
（Ｂ．２）光重合性基を含む反応性希釈剤；
（Ｂ．３）脱泡剤及び脱気剤；
（Ｂ．４）滑剤及び均展剤；
（Ｂ．５）熱硬化及び／又は放射線硬化助剤；
（Ｂ．６）基材湿潤助剤；
（Ｂ．７）湿潤及び分散助剤；
（Ｂ．８）疎水化剤；
（Ｂ．９）接着促進剤；及び
（Ｂ．１０）耐引掻性を改善するための助剤；
・以下のものから順に選択される少なくとも１種の成分Ｃ：
（Ｃ．１）染料；及び
（Ｃ．２）顔料
・光安定剤、熱安定剤及び酸化安定剤から順に選択される少なくとも１種の成分Ｄ；及び
・ＩＲ吸収化合物から順に選択される少なくとも１種の成分Ｅ。

原則的に、慣用の光開始剤、例えば、イソブチルベンゾインエーテル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）フラン−１−オン、ベンゾフェノンと１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの混合物、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−アセトフェノン、過フッ化ジフェニルチタノセン、２−メチル−１−（４−［メチルチオ］フェニル）−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル２−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、エチル４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−イソプロピルチオキサントンと４−イソプロピルチオキサントンとの混合物、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾアート、ｄ，ｌ−カンファーキノン、エチル−ｄ，ｌ−カンファーキノン、ベンゾフェノンと４−メチルベンゾフェノンとの混合物、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、（η^５−シクロペンタジエニル）（η^６−イソプロピルフェニル）鉄（ｌｌ）ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスファート又はトリフェニルスルホニウム塩の混合物、及びブタンジオールジアクリラート、ジプロピレングリコールジアクリラート、ヘキサンジオールジアクリラート、４−（１，１−ジメチルエチル）シクロヘキシルアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリラート及びトリプロピレングリコールジアクリラートを使用することが可能である。

原則的に適した市販の光開始剤（Ｂ．１）は、例えば、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）及びＤａｒｏｃｕｒｅ（登録商標）の商標名で市販されているものである。例はＬｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ−Ｌ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）Ｏｘｅ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）Ｏｘｅ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１３００、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７及びＤａｒｏｃｕｒｅ（登録商標）１１７３である。

使用される反応性希釈剤は、文字通りの意味で反応性希釈剤と呼ばれるそれらの物質（基Ｂ．２．１）であるだけでなく、１つ以上の相補的な反応単位、例えば、ヒドロキシル基又はアミノ基を含み、液晶化合物の重合性単位との反応が行われ得る補助化合物でもある。

通常、光重合可能な群（Ｂ．２．１）の物質としては、例えば、少なくとも１つのオレフィン二重結合を有する単官能、二官能又は多官能化合物が挙げられる。それらの例は、カルボン酸、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸又はステアリン酸のビニルエステル、又はジカルボン酸、例えば、コハク酸及びアジピン酸のビニルエステル、単官能アルコール、例えば、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコールもしくはステアリルアルコールのアリルもしくはビニルエーテル又はメタクリル酸もしくはアクリル酸エステル、又は二官能アルコール、例えば、エチレングリコール及びブタン−１，４−ジオールのジアリルもしくはジビニルエーテルである。

更に有用な例は、多官能アルコールのメタクリル酸又はアクリル酸エステルであり、特に、ヒドロキシル基の他に、更なる官能基を含まないもの、又はよくてもエーテル基を含むものである。かかるアルコールの例は、例えば、二官能アルコール、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、それらの更に高度に縮合された代表物、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、アルコキシル化フェノール化合物、例えば、エトキシル化又はプロポキシル化ビスフェノール、シクロヘキサンジメタノール、三官能アルコール及び高官能性アルコール、例えば、グリセリン、トリメチロールプロパン、ブタントリオール、トリメチロールエタン、ペンタエリトリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリトリトール、ソルビトール、マンニトール及び対応するアルコキシル化、特にエトキシル化及びプロポキシル化アルコールである。

群（Ｂ．２．１）の更に有用な反応性希釈剤は、ポリエステロール（polyesterol）の（メタ）アクリル酸エステルであるポリエステル（メタ）アクリレートである。

有用なポリエステロールとしては、例えば、ポリカルボン酸、好ましくはジカルボン酸を、ポリオール、好ましくはジオールを用いてエステル化することによって製造できるものが挙げられる。かかるヒドロキシル含有ポリエステルの出発材料は、当業者に公知である。使用されるジカルボン酸は、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、ｏ−フタル酸、及びそれらの異性体並びに水素化生成物であってよく、更には上記の酸のエステル化可能な又はエステル交換可能な誘導体、例えば、無水物又はジアルキルエステルであってよい。有用なポリオールとしては、上記のアルコール、好ましくはエチレングリコール、１，２−及び１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール及びエチレングリコール及びプロピレングリコール型のポリグリコールが挙げられる。

また、群（Ｂ．２．１）の反応性希釈剤として、１，４−ジビニルベンゼン、トリアリルシアヌレート、以下の式

のトリシクロデセニルアルコールのアクリル酸エステルも有用であり、これはジヒドロジシクロペンタジエニルアクリレート、及びアクリル酸の、メタクリル酸の及びシアノアクリル酸のアリルエステルの名でも知られている。

例として記載された群（Ｂ．２．１）の反応性希釈剤の中で、使用されるものは、特に、上記の好ましい本発明の混合物に関して、光重合性基を含むものである。

群（Ｂ．２．２）として、例えば、二価又は多価アルコール、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、それらの更に高度に縮合された代表物、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ブタントリオール、トリメチロールエタン、ペンタエリトリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリトリトール、ソルビトール、マンニトール及び対応するアルコキシル化、特にエトキシル化及びプロポキシル化アルコールが挙げられる。

また、群（Ｂ．２．２）として、例えば、アルコキシル化フェノール化合物、例えば、エトキシル化又はプロポキシル化ビスフェノールも挙げられる。

これらの反応性希釈剤は、例えば、エポキシド（メタ）アクリレート又はウレタン（メタ）アクリレートであってもよい。

エポキシド（メタ）アクリレートは、例えば、エポキシ化オレフィン又はポリ又はジグリシジルエーテル、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと、（メタ）アクリル酸との、当業者に知られた反応によって得られるものである。

ウレタン（メタ）アクリレートは、特に、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとポリ−又はジイソシアネートとの、同様に当業者に知られた反応生成物である。

かかるエポキシド（メタ）アクリレート又はウレタン（メタ）アクリレートは、群（Ｂ．２．１）及び（Ｂ．２．２）に挙げられた化合物の「混合形態」として見なされるべきである。

反応性希釈剤は、通常、工程（ｉｉ）で使用される組成物の総質量を基準として、０．５質量％〜５質量％の割合で使用される。

成分Ｂで挙げられた、脱泡剤及び脱気剤（Ｂ．３）、滑剤及び均展助剤（Ｂ．４）、熱硬化又は照射硬化助剤（Ｂ．５）、基材湿潤剤（Ｂ．６）、湿潤及び分散剤（Ｂ．７）、疎水化剤（Ｂ．８）、接着促進剤（Ｂ．９）及び耐引掻性を改善するための助剤（Ｂ．１０）の効果を、通常、互いに厳密に区切ることはできない。例えば、滑剤及び均展助剤は、追加的に脱泡剤及び／又は脱気剤として及び／又は耐引掻性を改善するための助剤として作用することが多い。照射硬化助剤は、同様に滑剤及び均展助剤及び／又は脱気剤として及び／又は基材湿潤剤としても作用し得る。個々の場合に、これらの助剤の幾つかは、接着促進剤（Ｂ．１０）の機能をも満たし得る。従って、上記の記述によれば、ある添加剤は、下記の群（Ｂ．３）〜（Ｂ．１０）の中の２つ以上によるものであってよい。

群（Ｂ．３）の脱泡剤としては、シリコンフリーポリマー及びシリコン含有ポリマーが挙げられる。シリコン含有ポリマーは、例えば、未変性又は変性ポリジアルキルシロキサン又はポリジアルキルシロキサン及びポリエーテル単位で構成された分枝鎖状コポリマー、櫛状コポリマー又はブロックコポリマーであり、該コポリマーはエチレンオキシド又はプロピレンオキシドから得られるものである。

群（Ｂ．３）の脱気剤としては、例えば、有機ポリマー、例えば、ポリエーテル及びポリアクリレート、ジアルキルポリシロキサン、特にジメチルポリシロキサン、有機変性ポリシロキサン、例えば、アリールアルキル変性ポリシロキサン、又はフルオロシリコーンが挙げられる。脱泡剤の作用は、事実上、泡の形成の防止又は既に形成された泡の破壊に基づいている。脱気剤は事実上、それらが微小ガス又は気泡の凝集を促進させて、脱気されるべき媒体、例えば、本発明の混合物中の気泡を大きくし、それによってガス（又は空気）の放出を促進するように作用する。脱泡剤は、脱気剤として使用され、またその逆も多いので、これらの添加剤は群（Ｂ．４）の下で一緒に組み合わされてきた。かかる助剤は、例えば、Ｔｅｇｏ社から市販されている、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ８００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ８０５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ８１０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ８１５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ８２５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ８３５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ８４０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ８４２、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ １４３５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ １４８８、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ １４９５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ３０６２、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ７４４７、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ ８０２０、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ Ｎ、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｏａｍｅｘ Ｋ ３、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２−１８、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２−５７、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２−８０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２−８２、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２−８９、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２−９２、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ １４、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２８、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ８１、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ Ｄ ９０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ９３、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２０１、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２０２、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ７９３、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ １４８８、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ３０６２、ＴＥＧＯＰＲＥＮ（登録商標）５８０３、ＴＥＧＯＰＲＥＮ（登録商標）５８５２、ＴＥＧＯＰＲＥＮ（登録商標）５８６３、ＴＥＧＯＰＲＥＮ（登録商標）７００８、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ １−６０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ １−６２、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ １−８５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ２−６７、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＷＭ ２０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ５０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ １０５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ７３０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＭＲ １０１５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＭＲ １０１６、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ １４３５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ Ｎ、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＫＳ ６、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＫＳ １０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＫＳ ５３、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＫＳ ９５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＫＳ １００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＫＥ ６００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＫＳ ９１１、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＭＲ １０００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ａｎｔｉｆｏａｍ ＫＳ １１００、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ａｉｒｅｘ ９００、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ａｉｒｅｘ ９１０、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ａｉｒｅｘ ９３１ 、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ａｉｒｅｘ ９３５、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ａｉｒｅｘ ９６０、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ａｉｒｅｘ ９７０、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ａｉｒｅｘ ９８０及びＴｅｇｏ（登録商標）Ａｉｒｅｘ ９８５、並びにＢＹＫ社から市販されているＢＹＫ（登録商標）−０１１、ＢＹＫ（登録商標）−０１９、ＢＹＫ（登録商標）−０２０、ＢＹＫ（登録商標）−０２１、ＢＹＫ（登録商標）−０２２、ＢＹＫ（登録商標）−０２３、ＢＹＫ（登録商標）−０２４、ＢＹＫ（登録商標）−０２５、ＢＹＫ（登録商標）−０２７、ＢＹＫ（登録商標）−０３１、ＢＹＫ（登録商標）−０３２、ＢＹＫ（登録商標）−０３３、ＢＹＫ（登録商標）−０３４、ＢＹＫ（登録商標）−０３５、ＢＹＫ（登録商標）−０３６、ＢＹＫ（登録商標）−０３７、ＢＹＫ（登録商標）−０４５、ＢＹＫ（登録商標）−０５１、ＢＹＫ（登録商標）−０５２、ＢＹＫ（登録商標）−０５３、ＢＹＫ（登録商標）−０５５、ＢＹＫ（登録商標）−０５７、ＢＹＫ（登録商標）−０６５、ＢＹＫ（登録商標）−０６７、ＢＹＫ（登録商標）−０７０、ＢＹＫ（登録商標）−０８０、ＢＹＫ（登録商標）−０８８、ＢＹＫ（登録商標）−１４１及びＢＹＫ（登録商標）−Ａ ５３０である。

群（Ｂ．３）の助剤は、通常、工程（ｉｉ）で使用される組成物の総質量を基準として、約０．０５質量％〜３．０質量％、好ましくは約０．５質量％〜２．０質量％の割合で使用されている。

滑剤及び均展剤の群（Ｂ．４）には、通常、シリコンフリーポリマーだけでなくシリコン含有ポリマー、例えば、ポリアクリレート又は変性低分子量ポリジアルキルシロキサンも含まれる。変性は、幾つかのアルキル基と広範囲の有機基との置換で構成されている。これらの有機基は、例えば、ポリエーテル、ポリエステル又は長鎖アルキル基であり、前者は最も頻繁に使用されることが分かっている。

対応する変性ポリシロキサンのポリエーテル基は、通常、エチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド単位によって形成される。変性ポリシロキサン中に存在するこれらのアルキレンオキシド単位の割合が高いほど、一般的に得られる生成物は更に親水性となる。

かかる助剤は、例えば、Ｔｅｇｏ社から市販されている、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ １００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ ＺＧ ４００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ ４０６、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ ４１０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ ４１１、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ ４１５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ ４２０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ ４３５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ ４４０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ ４５０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ Ａ １１５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｇｌｉｄｅ Ｂ １４８４（脱泡剤及び脱気剤としても有用である）、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｌｏｗ ＡＴＦ、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｌｏｗ ＡＴＦ２、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｌｏｗ ３００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｌｏｗ ４６０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｌｏｗ ４２５及びＴＥＧＯ（登録商標）Ｆｌｏｗ ＺＦＳ ４６０である。使用される照射硬化性の滑剤及び均展剤は、更に耐引掻性をも改善する働きをし、同様にＴｅｇｏ社から得られる製品ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２１００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２２００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２３００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２５００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２６００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２７００及びＴＥＧＯ（登録商標）Ｔｗｉｎ ４０００であってよい。かかる助剤は、例えば、ＢＹＫ（登録商標）−３００、ＢＹＫ（登録商標）−３０６、ＢＹＫ（登録商標）−３０７、ＢＹＫ（登録商標）−３１０、ＢＹＫ（登録商標）−３２０、ＢＹＫ（登録商標）−３２２、ＢＹＫ（登録商標）−３３１、ＢＹＫ（登録商標）−３３３、ＢＹＫ（登録商標）−３３７、ＢＹＫ（登録商標）−３４１、Ｂｙｋ（登録商標）３５４、Ｂｙｋ（登録商標）３６１Ｎ、ＢＹＫ（登録商標）−３７８及びＢＹＫ（登録商標）−３８８としてＢＹＫ社から得られる。

群（Ｂ．４）の助剤は、通常、工程（ｉｉ）で使用される組成物の総質量を基準として、約０．０５質量％〜３．０質量％、好ましくは約０．５質量％〜２．０質量％の割合で使用されている。

群（Ｂ．５）には、照射硬化性の助剤として、特に、例えば、アクリレート基の一部である末端二重結合を有するポリシロキサンが含まれる。かかる助剤は、化学線、又は例えば、電子ビーム照射によって架橋することができる。これらの助剤は、一般的に１つのものに複数の特性を兼備している。未架橋状態では、それらは脱泡剤、脱気剤、滑剤及び均展剤及び／又は基材湿潤剤として働くことができ；架橋状態では、それらは特に、例えば、本発明の混合物を用いて製造できるコーティング又はフィルムの耐引掻性を向上させる。例えば、同じコーティング又はフィルムにおける光沢性の改善は、事実上、これらの助剤の（未架橋状態の）脱泡剤、脱気剤及び／又は滑剤及び均展剤としての作用の効果として見なしてよい。使用され得る照射硬化性の助剤は、例えば、Ｔｅｇｏ社から得られるＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２１００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２２００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２５００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２６００及びＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ ２７００である。群（Ｂ．５）の熱硬化助剤は、例えば、バインダーのイソシアネート基と反応し得る第１級ＯＨ基を含む。

使用される熱硬化助剤は、例えば、ＢＹＫ社から得られる製品ＢＹＫ（登録商標）−３７０、ＢＹＫ（登録商標）−３７３及びＢＹＫ（登録商標）−３７５であってよい。群（Ｂ．６）の助剤は、通常、工程（ｉｉ）で使用される組成物の総質量を基準として、約０．１質量％〜５．０質量％、好ましくは約０．１質量％〜３．０質量％の割合で使用されている。

基材湿潤剤の群（Ｂ．６）の助剤は、特に、被覆されるべき基材の湿潤性を、例えば、組成物、例えば、工程（ｉｉ）で使用される組成物のコーティングによって向上させる働きをする。一般的に付随する、かかる印刷インク又はコーティング組成物の潤滑性及び均展性の向上は、完成した（例えば、架橋した）印刷物又は完成した（例えば、架橋した）層の外観に影響を及ぼす。多種多様なかかる助剤は、例えば、Ｔｅｇｏ社から市販されたＴＥＧＯ（登録商標）Ｗｅｔ ＫＬ ２４５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｗｅｔ ２５０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｗｅｔ ２６０及びＴＥＧＯ（登録商標）Ｗｅｔ ＺＦＳ ４５３、並びにＢＹＫ社から市販されたＢＹＫ（登録商標）−３０６、ＢＹＫ（登録商標）−３０７、ＢＹＫ（登録商標）−３１０、ＢＹＫ（登録商標）−３３３、ＢＹＫ（登録商標）−３４４、ＢＹＫ（登録商標）−３４５、ＢＹＫ（登録商標）−３４６及びＢｙｋ（登録商標）−３４８である。

良好な適性を有する他の製品は、Ｄｕｐｏｎｔ社製のＺｏｎｙｌ（登録商標）ブランドの製品、例えば、Ｚｏｎｙｌ（登録商標）ＦＳＡ及びＺｏｎｙｌ（登録商標）ＦＳＧである。これらはフッ素化界面活性剤／湿潤剤である。

群（Ｂ．６）の助剤は、通常、工程（ｉｉ）で使用される組成物の総質量を基準として、約０．０１質量％〜３．０質量％、好ましくは約０．０１質量％〜１．５質量％、特に０．０３質量％〜１．５質量％の割合で使用されている。

湿潤剤及び分散剤の群（Ｂ.７）の助剤は、特に浸出及び浮動、更には顔料の沈降を防ぐ働きをするので、必要な場合、特に着色された組成物において有用である。

これらの助剤は、顔料分散剤を、添加された顔料粒子の静電的反発及び／又は立体障害によって事実上安定化し、この場合に助剤と周囲媒体（例えば、バインダー）との相互作用が大きな役割を果たす。かかる湿潤及び分散助剤の使用が慣例であるため、例えば、印刷インク及び塗料の技術分野において、このような適した助剤の選択は、一般的にいずれの場合にも当業者には困難ではない。

かかる湿潤及び分散助剤は、例えば、Ｔｅｇｏ社によってＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ６１０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ６１０ Ｓ、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ６３０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ７００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ７０５、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ７１０、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ７２０ Ｗ、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ７２５ Ｗ、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ７３０ Ｗ、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ７３５ Ｗ及びＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ ７４０ Ｗとして市販され、ＢＹＫ社によってＤｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１０７、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１０８、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１１０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１１１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１１５、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１３０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１６０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１６１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１６２、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１６３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１６４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１６５、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１６６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１６７、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１７０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１７４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１８０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１８１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１８２、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１８３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１８４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１８５、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１９０、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ（登録商標）−Ｕ、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ（登録商標）−Ｕ８０、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ（登録商標）−Ｐ、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ（登録商標）−２０３、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ（登録商標）−２０４、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ（登録商標）５２０６、ＢＹＫ（登録商標）−１５１、ＢＹＫ（登録商標）−１５４、ＢＹＫ（登録商標）−１５５、ＢＹＫ（登録商標）−Ｐ１０４Ｓ、ＢＹＫ（登録商標）−Ｐ１０５、Ｌａｃｔｉｍｏｎ（登録商標）、Ｌａｃｔｉｍｏｎ（登録商標）−ＷＳ及びＢｙｋｕｍｅｎ（登録商標）として市販されている。上述のＤｕｐｏｎｔ社製のＺｏｎｙｌ（登録商標）ブランド、例えば、Ｚｏｎｙｌ（登録商標）ＦＳＡ及びＺｏｎｙｌ（登録商標）ＦＳＧも、ここでの選択肢である。

群（Ｂ．７）の助剤の投与量は、主に被覆されるべき顔料の表面積と助剤の平均モル質量に依存している。

無機顔料と低分子量の助剤の場合、通常、助剤の含有率は、顔料と助剤の総質量を基準として約０．５質量％〜２．０質量％であると想定される。高分子量の助剤の場合、含有率は約１．０質量％から３０質量％まで上昇する。

有機顔料と低分子量の助剤の場合、助剤の含有率は、顔料と助剤の総質量を基準として約１．０質量％〜５．０質量％である。高分子量の助剤の場合、この含有率は、約１０．０質量％から９０質量％までの範囲であってよい。従って、いずれの場合にも、当業者によって単純な方法で達成され得るが、予備実験が推奨されている。

群（Ｂ．８）の疎水化剤は、例えば、撥水性を有する本発明の混合物を用いて得られた印刷物又はコーティングを提供する目的で使用してよい。これは、水吸収による膨張、それによる、例えば、かかる印刷物又はコーティングの光学特性の変化を不可能にするか、又は少なくとも大きく抑制する。更に、例えば、オフセット印刷において印刷インクとして混合物が使用される時、それらの水の吸収は妨げられるか又は少なくとも大きく抑制され得る。かかる疎水化剤は、例えば、Ｔｅｇｏ社からＴｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ ＷＦ、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １０００、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １０００ Ｓ、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １０１０、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １０３０、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １０４０、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １０５０、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １２００、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １３００、Ｔｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １３１０及びＴｅｇｏ（登録商標）Ｐｈｏｂｅ １４００として市販されている。

群（Ｂ．８）の助剤は、通常、工程（ｉｉ）で使用される組成物の総質量を基準として、約０．０５質量％〜５．０質量％、好ましくは約０．１質量％〜３．０質量％の割合で使用されている。

群（Ｂ．９）の接着促進剤は、２つの接触界面間の接着を向上させる働きをする。このことから一方の界面、もう一方の界面又はその両方の界面に存在する接着促進剤の割合のみが事実上、有効であることが直ちに明らかになる。例えば、液体又はペースト状の印刷インク、コーティング又は塗料を固体基材に適用することが意図される場合、これは一般的に、接着促進剤が固体基材に直接添加されなければならないか又は基材が接着促進剤によって前処理されなければならないこと（下塗としても公知である）、即ち、変化した化学的及び／又は物理的表面特性がこの基材に付与されることを意味する。

基材が背景色で予め下塗りされた場合、これは、接触界面が、一方で、ここで背景色のものであり、他方で、印刷インク又はコーティング又は塗料のものであることを意味する。従って、この場合、基材と背景色との間の接着性だけでなく、背景色と印刷インク又はコーティング又はペイントとの間の接着性も、基材の全組み合わせの接着の役割を果たす。群（Ｂ．７）の下に既に詳述されている基材湿潤剤が、広い意味で接着促進剤として扱われることも可能であるが、これらは一般的に接着促進剤の場合と同じ容量を有していない。

基材並びに意図される印刷インク、コーティング及び塗料の多様な物理的特性及び化学的特性に関しては、例えば、その印刷又はコーティングのために、接着促進剤系の数の多さは当然である。シランをベースとした接着促進剤は、例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−メチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン又はビニルトリメトキシシランである。これらのシラン及び更なるシランは、例えば、Ｈｕｅｌｓ社より商品名ＤＹＮＡＳＩＬＡＮ（登録商標）で得られる。

チタン酸塩／ジルコン酸塩及びチタン／ジルコニウムビスアセチルアセトナトをベースとした接着促進剤は、例えば、以下の式

（式中、Ｍはチタン又はジルコニウムであり、Ｒ、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれＣ_１−Ｃ_４−アルキル、例えば、イソプロピル又はｎ−ブチルである）に対応するものである。かかる化合物の例は、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、チタンビス（アセチルアセトネート）ジイソプロポキシド、チタンビス（アセチルアセトナト）ジブトキシド、チタンビス（アセチルアセトナト）モノブトキシドモノイソプロポキシド又はチタンビス（アセチルアセトナト）モノエトキシドモノイソプロポキシドである。

接着促進剤として有用な更なるチタン及びジルコニウム化合物は、ｎ−ブチルポリチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス（Ｎ−エチルアミノエチルアミノ）−チタネート及びジルコニウムビス（ジエチルシトレート）ジイソプロポキシドである。これらの及び更なるチタン及びジルコニウム化合物は、例えば、商品名ＴＹＺＯＲ（登録商標）（DuPont社製）、Ｋｅｎ−Ｒｅａｃｔ（登録商標）（Kenrich Petrochemicals Inc.製）及びＴｉｌｃｏｍ（登録商標）（Tioxide Chemicals社製）の下で得られる。使用される接着促進剤は、商品名Ｍａｎｃｈｅｍ（登録商標）（Rhone Poulenc社製）の下で得られる、アルミン酸ジルコニウムであってもよい。印刷インク又は塗料において有用な接着促進添加剤の更なる例は、塩素化ポリオレフィン（例えば、Eastman Chemical社及びToyo Kasei社から得られる）、ポリエステル（例えば、Huels AG社、BASF SE社、Gebr. Borchers AG社、Pluess-Staufer AG社、Hoechst AG社及びWorlee社から得られる）、スクロースをベースとした化合物、例えば、スクロースベンゾエート又はスクロースアセトイソブチレート（例えば、Eastman Chemical社から得られるもの）、リン酸エステル（例えば、The Lubrizol Company及びHoechst AG社から得られる）及びポリエチレンイミン（例えば、BASF SE社から得られる）であり、フレキソ印刷、フィルム印刷及び包装印刷のための印刷インクにおいて有用な接着促進添加剤の例は、ロジンエステル（例えば、Robert Kraemer GmbH社から得られる）である。

通常、印刷又は被覆されるべき基材は、例えば、適切に前処理される、即ち、かかる添加剤が下塗り剤として使用される。この目的のための適切な技術情報は、一般的にかかる添加剤の製造業者から習得できるか、又は当業者が、適切な予備実験によって単純な方法でこの情報を得ることができる。

しかしながら、これらの添加剤は群（Ｂ．９）の助剤として本発明の混合物に添加されるべきであり、その含有率は、通常、液晶混合物の総質量を基準として、約０．０５〜５．０質量％である。これらの濃度データは、単なる指標としての役割にすぎず、添加剤の量及び性質は、個々の場合に基材及び印刷／コーティング組成物の性質によって決定される。通常、この場合のための適切な技術情報は、かかる添加剤の製造業者から入手可能であるか、又は当業者によって単純な方法で適切な予備実験によって決定することができる。

耐引掻性を改善するための助剤の群（Ｂ．１０）としては、例えば、Ｔｅｇｏ社から得られ且つ既に上述した、製品ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２１００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２２００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２５００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２６００及びＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２７００が挙げられる。

これらの助剤の場合、有用な量は、同様に群（Ｂ.５）に記載されたものであり、即ち、これらの添加剤は、通常、工程（ｉｉ）で使用される組成物の総質量を基準として、約０．１質量％〜５．０質量％、好ましくは約０．１質量％〜３．０質量％の割合で使用されている。

染料の群（Ｃ．１）としては、例えば、アゾ染料、金属錯体染料、塩基性染料の類の染料、例えば、ジ−及びトリアリールメタン染料及びその塩、シッフ塩基誘導体、ポリメチン、アントラキノン染料等が挙げられる。本発明の混合物に使用できる適した染料の概要は、H. Zollingerによる書籍、"Color Chemistry", Wiley-VCH, Weinheim, 第3版2003年に示されている。

特に、本発明の混合物に、フォトクロミック染料、サーモクロミック染料又は発光染料、及びこれらの特性を兼備する染料を添加することも可能である。通常の蛍光染料に加えて、蛍光染料は、蛍光増白剤をも意味することが理解されるべきである。

これらの例としては、ビスチリルベンゼン類、特にシアノスチリル化合物が挙げられ、これは以下の式

に対応する。

スチルベン類からの更に適した蛍光増白剤は、例えば、以下の式

（式中、Ｑ^１はそれぞれの場合にＣ_１−Ｃ_４−アルコキシカルボニル又はシアノであり、Ｑ^２はベンゾオキサゾール−２−イルであり、これはＣ_１−Ｃ_４−アルキル、特にメチルによって一置換又は二置換されてよく、Ｑ^３はＣ_１−Ｃ_４アルコキシカルボニル又は３−（Ｃ_１−Ｃ_４−アルキル）−１，２，４−オキサジアゾール−３−イルである）
を有する。

ベンゾオキサゾール類からの更に適した蛍光増白剤は、例えば、以下の式

（式中、Ｑ^４はそれぞれの場合にＣ_１−Ｃ_４−アルキル、特にメチルであり、Ｌは以下の式

の基であり
且つｎは０〜２の整数である）
のものである。

クマリン類由来の適した蛍光増白剤は、例えば、以下の式

（式中、
Ｑ^５はＣ_１−Ｃ_４−アルキルであり且つ
Ｑ^６はフェニル又は３−ハロピラゾール−１−イル、特に３−クロロピラゾール−１−イルである）
を有する。

ピレン類由来の更に適した蛍光増白剤は、例えば、以下の式

（式中、
Ｑ^７はそれぞれの場合にＣ_１−Ｃ_４−アルコキシ、特にメトキシである）
に対応する。

上記の増白剤は、単独で又は互いの混合物のいずれかで使用してよい。

上記の蛍光増白剤は一般的にそれ自体公知の市販の製品である。それらは、例えば、Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 第5版、第A18巻、第156頁〜161頁に記載されているか、又はそこに記載された方法によって得られる。

特に、必要な場合、ビスチリルベンゼン類由来の１種以上の蛍光増白剤、特にシアノスチリルベンゼンが使用される。これは個々の化合物として使用されてよいが、異性体化合物の混合物としても使用されてよい。

この場合、これらの異性体は以下の式

に対応する。

蛍光増白剤は、例えば、ＢＡＳＦ ＳＥ社によってＵｌｔｒａｐｈｏｒ（登録商標）ＳＦ ００４、Ｕｌｔｒａｐｈｏｒ（登録商標）ＳＦ ＭＯ、Ｕｌｔｒａｐｈｏｒ（登録商標）ＳＦ ＭＰ及びＵｌｔｒａｐｈｏｒ（登録商標）ＳＦ ＰＯとして市販されている。

顔料の群（Ｃ．２）には無機顔料及び有機顔料の両方が含まれる。本発明の混合物で使用され得る無機着色顔料の概要は、H. Endrissによる書籍"Aktuelle anorganische Bunt-Pigmente" ["Current Inorganic Color Pigments"] （U. Zorll編、Curt-R.-Vincentz-Verlag Hanover 1997年）、及びG. Buxbaumによる書籍"Industrial Inorganic Pigments", Wiley-VCH, Weinheim, 第3版、2005年に示されている。更に、前述の書籍に挙げられていない更なる有用な顔料は、ピグメントブラック６及びピグメントブラック７（カーボンブラック）、ピグメントブラック１１（酸化鉄ブラック、Ｆｅ_３Ｏ_４）、ピグメントホワイト４（酸化亜鉛、ＺｎＯ）、ピグメントホワイト５（リトポン、ＺｎＳ／ＢａＳＯ_４）、ピグメントホワイト６（酸化チタン、ＴｉＯ_２）及びピグメントホワイト７（硫化亜鉛、ＺｎＳ）である。

工程（ｉｉ）で使用される組成物に添加され得る有機顔料の概要は、W. Herbst及びK. Hungerによる書籍"Industrielle organische Pigmente" ["Industrial Organic Pigments"], Wiley-VCH, Weinheim, 第3版、2004年に示されている。

工程（ｉｉ）で使用される組成物に、磁気顔料、導電性顔料、フォトクロミック顔料、サーモクロミック顔料又は発光顔料、さらにはこれらの特性を兼備する顔料を添加することも可能である。

幾つかの有機顔料に加えて、例えば、ピグメントイエロー１０１、発光性を有する有用な顔料も、事実上、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ土類金属／遷移金属酸化物、アルカリ土類金属／アルミニウム酸化物、アルカリ土類金属／ケイ素酸化物又はアルカリ土類金属／リン酸化物、アルカリ土類金属ハロゲン化物、Ｚｎ／ケイ素酸化物、Ｚｎ／アルカリ土類金属ハロゲン化物、希土類金属酸化物、希土類金属／遷移金属酸化物、希土類金属／アルミニウム酸化物、希土類金属／ケイ素酸化物又は希土類金属／リン酸酸化物、希土類金属酸化物硫化物又は酸化ハロゲン化物、亜鉛酸化物、硫化物又はセレン化物、カドミウム酸化物、硫化物又はセレン化物又は亜鉛／カドミウム酸化物、硫化物又はセレン化物をベースとした無機のドープ又は非ドープ化合物である。

これらの化合物で使用されるドーパントは、通常、アルミニウム、錫、アンチモン、希土類金属、例えば、セリウム、ユーロピウム又はテルビウム、遷移金属、例えば、マンガン、銅、銀又は亜鉛、又はこれらの元素の組み合わせである。

発光顔料は、例えば、以下に記載されたものであり、「化合物：元素」との表記は、関連分野の当業者に、前記化合物が対応する元素でドープされたことを意味すると受け取られる。更に、例えば、「（Ｐ，Ｖ）」との表記は、顔料の固体構造中の対応する格子位置が、リン及びバナジウムによってランダムに占められていることを示す。

発光可能なかかる化合物の例は、ＭｇＷＯ_４、ＣａＷＯ_４、Ｓｒ_４Ａｌ_１４Ｏ_２５：Ｅｕ、ＢａＭｇ_２Ａｌ_１０Ｏ_２７：Ｅｕ、ＭｇＡｌ_１１Ｏ_１９：Ｃｅ、Ｔｂ、ＭｇＳｉＯ_３：Ｍｎ、Ｃａ_１０（ＰＯ_４）_６（Ｆ，Ｃｌ）：Ｓｂ、Ｍｎ、（ＳｒＭｇ）_２Ｐ_２Ｏ_７：Ｅｕ、ＳｒＭｇ_２Ｐ_２Ｏ_７：Ｓｎ、ＢａＦＣｌ：Ｅｕ、Ｚｎ_２ＳｉＯ_４：Ｍｎ、（Ｚｎ，Ｍｇ）Ｆ_２：Ｍｎ、Ｙ_２Ｏ_３：Ｅｕ、ＹＶＯ_４：Ｅｕ、Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ_４：Ｅｕ、Ｙ_２ＳｉＯ_５：Ｃｅ、Ｔｂ、Ｙ_２Ｏ_２Ｓ：Ｅｕ、Ｙ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ、Ｌａ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ、Ｇｄ_２Ｏ_２Ｓ：Ｔｂ、ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、ＺｎＳ：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ／ＣｄＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ａｌ、ＺｎＳｅ：Ｍｎ、ＺｎＳｅ：Ａｇ及びＺｎＳｅ：Ｃｕである。

本発明のフィルムが本質的に透明であるべき場合、群Ｃの成分は、フィルムが３５０〜７５０ｎｍの波長を有する少なくとも８０％の入射放射線を透過させるように最大量で使用されている。成分Ｃは、必要な場合、色味をフィルムに付与する。確実に最大透明度にするために、使用される成分Ｃの化合物は、好ましくは、１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の粒径を有するものである。

成分Ｄとしての光、熱及び／又は酸化安定剤の例として以下のものが挙げられる：
アルキル化モノフェノール、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直鎖状又は分枝鎖状の側鎖を有するノニルフェノール、例えば、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデカ−１’−イル）フェノール、及びこれらの化合物の混合物、
アルキルチオメチルフェノール、例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチル−チオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール及び２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール、
ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート及びビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート、
トコフェロール、例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びこれらの化合物の混合物、及びトコフェロール誘導体、例えば、トコフェリルアセテート、スクシネート、ニコチネート及びポリオキシエチレンスクシネート（「トコフェルソラート（tocofersolate）」）、
ヒドロキシル化ジフェニルチオエーテル、例えば、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、及び４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド、
アルキリデンビスフェノール、例えば、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン及び１，１，５，５−テトラキス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン、
Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド及びイソオクチル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプト−アセテート、
芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ−メチルベンゼン及び２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール、
トリアジン化合物、例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−アニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート及び１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート及びジオクタデシル５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウロイルアニリド、４−ヒドロキシステアロイルアニリド及びオクチルＮ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート、
プロピオン酸エステル及び酢酸エステル、例えば、一価アルコール又は多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス−（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン及び４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンの前記エステル、
アミン誘導体をベースとしたプロピオンアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン及びＮ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニル）ヒドラジン、
アスコルビン酸（ビタミンＣ）及びアスコルビン酸誘導体、例えば、アスコルビン酸パルミテート、ラウレート及びステアレート、及びアスコルビン酸硫酸塩及びリン酸塩、
アミン化合物をベースとした酸化防止剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル置換ジフェニルアミン、例えば、ｐ，ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス［４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル置換Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブト−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバシン酸、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン及び２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール、
ホスフィット及びホスホニット、例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチルジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット及びビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、
２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール；２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシ−カルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ−カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール及び２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニル−エチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］の混合物；２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと、ポリエチレングリコール３００との完全エステル化生成物；［Ｒ−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_３］_２（式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル］、
硫黄含有過酸化物捕捉剤及び硫黄含有酸化防止剤、例えば、３，３’−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル及びトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール及び２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド及びペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシル−メルカプト）プロピオネート、
２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体、
非置換及び置換の安息香酸のエステル、例えば、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレソルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レソルシノール、ベンゾイルレソルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート及び２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
アクリレート、例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−メトキシカルボニルシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート及びメチルα−メトキシ−カルボニル−ｐ−メトキシシンナメート、
立体障害アミン、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ブチル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，５−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エチレン）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，５−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート；Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物；２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物；２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ−［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ピロリジン−２，５−ジオン；４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの混合物；Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物；４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシル−スクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン；７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ−［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの縮合物；４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとテトラメチロールアセチレンジウレアとの縮合物及びポリ（メトキシプロピル−３−オキシ）−［４（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジニル］シロキサン、
オキサミド、例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチル−オキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサラミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エトキサニリド、及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、及びオルト−、パラ−メトキシ−二置換オキサニリドとの混合物、及びオルト−及びパラ−エトキシ−二置換オキサニリドとの混合物、及び
２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリス−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチル−５−フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）−フェニル］−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン及び２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。

成分Ｅとして、ＩＲ吸収体、使用される化合物は、赤外スペクトル領域、即ち、７５０ｎｍより高い、例えば、７５１ｎｍ〜１ｍｍにおいて１つ以上の吸収帯域を示すものである。近赤外（ＮＩＲ）スペクトル領域、即ち、７５０ｎｍより高い（例えば、７５１ｎｍ）〜２０００ｎｍ、更に任意に可視スペクトル領域、特に５５０〜７５０ｎｍにおいて１つの吸収帯域を示す化合物を使用することが好ましい。化合物がＩＲ及び可視スペクトル領域の両方で吸収する場合、それらは好ましくはＩＲ領域において最も大きな吸収極大を示し且つ可視領域において（しばしば、いわゆる吸収肩の形で）より小さな吸収極大を示す。特定の実施態様では、成分Ｅの化合物は更に蛍光も示す。蛍光は、電磁放射（通常、可視光、紫外線、Ｘ線又は電子ビーム）の吸収によって励起された系の、同じ波長（共鳴蛍光）又はより長い波長の自然放射光による低エネルギー状態への遷移である。好ましい成分Ｅの化合物は、それらが蛍光を発する時に、ＩＲスペクトル領域に、好ましくはＮＩＲに蛍光を示す。

かかる化合物は、例えば、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、テトラセン、ペリレン、テリレン、クアテリレン、ペンタリレン、ヘキサリレン、アントラキノン、インダントロン、アクリジン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジナフトフラン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、フェナジン、ジオキサジン、キナクリドン、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、金属ポルフィリン、クマリン、ジベンゾフラノン、ジナフトフラノン、ベンゾイミダゾロン、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、キノフタロン、ナフトキノフタロン、ジケトピロロピロール及びニッケルジチオラートから選択される。特に好ましい赤外線及び任意に蛍光を吸収する成分Ｅの化合物は、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、テトラセン、ペリレン、テリレン、クアテリレン、ペンタリレン及びヘキサリレンから選択され、更に好ましくはペリレン、テリレン及びクアテリレンから選択され、特にテリレン及びクアテリレンから選択される。化合物は特にクアテリレンである。適した化合物は、ＷＯ２００８／０１２２９２号に記載されており、これによって完全に参照により援用されている。

工程（ｉｉ）で使用される組成物は、好ましくは少なくとも１種の光開始剤を含む。この場合、光開始剤は、組成物の総質量を基準として、好ましくは５質量％以下、例えば、０．０５質量％〜５質量％又は好ましくは０．１質量％〜５質量％又は特に０．２質量％〜５質量％、更に好ましくは４質量％以下、例えば、０．０５質量％〜４質量％又は好ましくは０．１質量％〜４質量％又は特に０．２質量％〜４質量％、特に３質量％以下、例えば、０．０５質量％〜３質量％又は好ましくは０．１質量％〜３質量％又は特に０．２質量％〜３質量％の量で存在する。特に、硬化が不活性ガス雰囲気下で行われる時、有意に少量の光開始剤を使用することが可能である。この場合、光開始剤は、組成物の総質量を基準として、好ましくは０．０１質量％〜１．０質量％、更に好ましくは０．０５質量％〜０．６質量％、更に一層好ましくは０．１質量％〜０．６質量％、特に０．２質量％〜０．６質量％の割合で使用される。

しかしながら、光開始剤を用いずに本発明による方法を実施することも可能である。

原則的に適した光開始剤に関しては、上の記述を参照されたい。しかしながら、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７又はＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１２７（Ｃｉｂａ）又はそれらの混合物を光開始剤として使用することが好ましく；これらは以下の式：

のＡ（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７）及びＢ（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１２７）の化合物である。

工程（ｉｉ）で使用される組成物は、好ましくは少なくとも１種の分散剤を含む。分散剤は好ましくは有機溶媒である。好適な溶媒は、例えば、脂肪族炭化水素、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン又は石油エーテル、脂環式炭化水素、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン及びシクロオクタン、芳香族炭化水素、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン又はニトロベンゼン、複素環化合物、例えば、ピリジン又はＮ−メチル−ピロリジン、ハロアルカン、例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン又はテトラクロロエタン、開環及び環状エーテル、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、メチルイソブチルエーテル、テトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサン、開環及び環状ケトン、例えば、アセトン、エチルメチルケトン、シクロペンタノン又はシクロヘキサノン、Ｃ_１−Ｃ_４−アルカノール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール又はｔｅｒｔ−ブタノール、グリコール、例えば、エチレングリコール、グリコールエーテル、例えば、ジエチレングリコールエーテル又はトリエチレングリコールエーテル、Ｃ_１−Ｃ_４−カルボン酸とＣ_１−Ｃ_４−アルカノールとのエステル、例えば、エチルアセテート、プロピルアセテート、エチルプロピオネート又はプロピルプロピオネート、Ｃ_１−Ｃ_４−カルボン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド又はＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、脂肪族及び芳香族ニトリル、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル又はベンゾニトリル、及びスルホキシド、例えば、ジメチルスルホキシド、及び前述の溶媒の混合物である。これらの中で、上記の芳香族炭化水素（特にトルエン）及び上記のケトン（特にシクロペンタノン）及びそれらの混合物が好ましい。

分散剤は、工程（ｉｉ）で使用される組成物において、該組成物の総質量を基準として、好ましくは１０質量％〜９０質量％、更に好ましくは５０質量％〜８５質量％、特に６５質量％〜８０質量％の量で存在する。

工程（ｉｉ）で使用される組成物は、好ましくは少なくとも１種の均展剤を含む。好適な均展剤及びその組成物中の濃度に関しては、上の記述を参照されたい。

工程（ｉｉ）で使用される組成物は、特定の実施態様では、少なくとも１種の染料又は少なくとも１種のＩＲ吸収体を含む。好ましい染料又はＩＲ吸収体は、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、テトラセン、ペリレン、テリレン、クアテリレン、ペンタリレン、ヘキサリレン、アントラキノン、インダントロン、アクリジン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジナフトフラン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、フェナジン、ジオキサジン、キナクリドン、金属フタロシアニン、金属ナフタロシアニン、金属ポルフィリン、クマリン、ジベンゾフラノン、ジナフトフラノン、ベンゾイミダゾロン、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、キノフタロン、ナフトキノフタロン、ジケトピロロピロール及びニッケルジチオラートから選択される。かかる化合物は、例えば、ＷＯ２００８／０１２２９２号に記載されている。

組成物は、工程（ｉｉ）で適用される組成物から形成されるポリマーフィルムの層厚さが、工程（ｖ）の実施後（即ち、分散剤の除去及び組成物中に存在する化合物の重合の後であるが、熱後処理の前）に、好ましくは０．１μｍ〜１０μｍ、更に好ましくは０．５μｍ〜５μｍ、更に一層好ましくは０．７μｍ〜３．５μｍ、更に一層特に好ましくは０．９μｍ〜３．５μｍ、特に１μｍ〜２μｍであるように、工程（ｉｉ）で適用される。

これは工程（ｉｉ）で使用される組成物中の固体含有率に応じて組成物の適用に適した方法の選択によってもたらされる。

組成物は、慣用プロセスによって、例えば、エアブレード（airblade）コーティング、ナイフコーティング、エアナイフコーティング、スキージコーティング、含浸コーティング、リバースロールコーティング、トランスファーロールコーティング、グラビアコーティング、キスコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、スピンコーティング、又は印刷プロセス、例えば、凸版印刷、グラビア印刷、凹版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷、活版印刷、パッド印刷、ヒートシール印刷又はスクリーン印刷プロセスから選択されるプロセスによってキャリアフィルム又は基材に適用することができる。

ナイフコーティングによって、特にスパイラルドクターブレード（例えば、Erichsen社製）を用いて組成物に適用することが好ましい。工程（ｉｉ）で使用される組成物の固体含有率が高いほど、より小さいサイズのドクターブレードが選択される。例えば、約１．５μｍ（＋／−０．３μｍ）の乾燥層厚さを達成するために、２４質量％の固体含有率の場合、１５μｍのドクターブレードを選択することが好ましいのに対して、３０〜３３質量％の固体含有率の場合、１０μｍのドクターブレードを使用することが好ましい。

これがまだ工程（ｉｉ）で適用されるプロセスによって達成されていない場合、工程（ｉｉ）で適用される組成物は重合工程の前に配向されなければならない。液晶層の配向は、一般に操作を適用する間に自発的に進行するが、これは下流工程でも行うことができる。この場合、配向は、公知の方法、例えば、液晶相と配向層との相互作用、電界又は磁界の適用及び液晶層の機械的ナイフコーティングによって行われる。しかしながら、配向は、好ましくは、適用中に作用する剪断力の作用下で自発的に進行する。

配向がまだ適用プロセスで達成されていない場合、液晶層の一部のみを配向させることが可能である。これにより、この配向された部分のみが顕微鏡又は他の画像処理の下でラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャとして認識される、フィルム又は基材が得られ；表面の残りの部分は拡散しているように見える。この方法では、個別にラミネート加工されたマーキングを得ることが可能である。

工程（ｉｖ）において任意に存在する分散媒の少なくとも部分的な除去は、好ましくは高められた温度で、即ち、加熱によって、任意に減圧下で行われる。利用される温度は、好ましくは工程（ｖｉ）で使用される温度の約（＋／−２０℃）に相当する。

工程（ｉ）で提供される基材は、望ましい形態を想定し且つ所望の材料から構成されてよい。しかしながら、それらは好ましくは平坦構造、例えば、ポリマーフィルム、ガラス、紙又は厚紙、更に好ましくはポリマーフィルム又はガラス、特にポリマーフィルムである。

ポリマーフィルムが形成される材料は、事実上、制限されない。ポリマーフィルムが形成される好適な材料は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルクロリド、可撓性ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリレート、ポリ（エチレン−コ−酢酸ビニル）、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン及びアクリル樹脂を含む。これらの中で、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルクロリド、セルローストリアセテート、フレキシブルポリビニルクロリド及びポリメチルメタクリラートが好ましい。

フィルムは好ましくは二軸延伸されている。

フィルム材料又は基材が、一般に工程（ｉｉ）で適用される組成物の配向に対して優先方向を規定しない時、例えば、それ自体が等方性であるため、例えば、配向層の摩擦又は適用によって、配向を規定するように、工程（ｉｉ）の前に前処理されなければならない（更なる詳細については以下を参照のこと）。これは特に、ガラスの使用及びセルローストリアセテートの使用に当てはまる。

また、基材又はキャリアフィルムの一部を、それに応じて前処理することも可能である。これにより、配向された部分のみが顕微鏡又は別の画像処理の下でラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有していると認識される、フィルム又は基材が得られ；表面の残りの部分は拡散しているように見える。この方法では、個別にラミネート加工されたマーキングを得ることが可能である。

工程（ｉ）で提供されるキャリアフィルムは、好ましくはポリマーフィルム、好ましくは上記のポリマーフィルムである。

基材としてのフィルムとキャリアフィルムとの間に差ができるのは、自己支持フィルムが本発明によるプロセスの結果である時、キャリアフィルムを除去できるので、キャリアフィルムはプロセス製品の必須成分ではないが、場合により単なる助剤として働くからである。基材としてのフィルムは、対照的に、得られる本発明の生成物の一部に残る。用語「キャリアフィルム」中の「キャリア」成分とは、キャリアフィルムが自己支持であるだけでなく、引き裂けることなく他の層をも支持できることを意味する。

工程（ｉ）で使用されるキャリアフィルム又は使用される基材は被覆されてよい。コーティングは、工程（ｉｉ）で適用された組成物の接着又は配向を改善する層を含むか又は最終生成物に特定の特性、例えば、色、カラーフロップ（color flop）、特定の波長範囲での吸収又は反射等を付与し得る。例えば、コーティングは、ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャ、又はλ／２フィルムを有していない配向層、ネマチック層又はコレステリック層を含んでよい。更なる詳細は、更なる層の適用が、工程（ｉ）で被覆されたフィルム又は基材の使用の場合、工程（ｉｉ）の前に実施されるという記述から明らかである。

本発明によるプロセスによって得られた生成物は、工程（ｉｉ）〜（ｖｉ）から得られる層の他に、更なる層、例えば、ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有していない少なくとも１種のネマチック層又はコレステリック層を含む、少なくとも１種の配向層、少なくとも１種のλ／２フィルム、少なくとも１種の保護層又は少なくとも１種の放出層も含む。

本発明の生成物（即ち、本発明の重合フィルム又は本発明の基材）が、工程（ｉｉ）〜（ｉｖ）によって得られる層の他に、更なる層も含む時、工程（ｉｉ）〜（ｖｉ）によって得られる層は、工程（ｉ）で提供されるキャリアフィルム又は工程（ｉ）で提供される基材のすぐ隣にあり、２つ以上の追加の層によって囲まれるか、又は最外層を形成し得る。工程（ｉｉ）〜（ｖｉ）によって得られる層は、好ましくは最外層、即ち、存在する全ての層のうち、キャリアフィルム又は基材から最も離れて除去される層を形成するが、これは、その最良の利点に対してラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを示すからである。しかしながら、任意に、この最外層は、例えば、引掻きの結果としての、この層へ機械的、熱的、化学的損傷又は他の損傷を極めて相当に防ぐために、保護層をも備えてよい。

ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有していないネマチック層又はコレステリック層は、重合性アキラルネマチック化合物を重合することによって、任意に少なくとも１種の重合性キラル化合物と組み合わせて、又はコレステリック化合物を重合することによって得られる慣例のポリマーフィルムを含む。少なくとも１種のネマチック化合物が、紫外線の作用下で重合性でなければならないという制限がここでは適用されないが、適したネマチック化合物は、工程（ｉｉ）の説明に上記されたものに対応する。好適な重合性キラル化合物は、工程（ｉｉ）の説明に上記されたものに対応する。ネマチック化合物とキラル化合物との間の質量比の選択に応じて、重合後に、可視光及び／又はＩＲのＵＶのスペクトル領域の波長を反射する層が得られる。形成された層が可視光のスペクトル領域（即ち、２５０〜７５０ｎｍの間）において最大の少なくとも１つの反射を有するように質量比を選択することが好ましい。

かかる層は、慣用の方法によって、即ち、少なくとも１種のアキラルネマチック重合性化合物及び任意に少なくとも１種のキラル重合性化合物又は少なくとも１種のコレステリック化合物を含む組成物を適用し、任意に、これがまだ達成されていない場合に、操作を適用することによって配向させ、且つ適用された組成物を重合することによって製造される。重合は、紫外線又は電子ビームによって熱的に誘導することができる。ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する層の製造とは対照的に、熱後処理の工程は、ここでは実施されない。

本発明の生成物も、少なくとも１つの配向層を含んでよい。この場合、少なくとも１つの配向層は、好ましくはキャリアフィルム又は基材と液相層との間に及び／又は少なくとも２つの液晶層の間に配置される。

配向層は、液晶層ができる限りモノドメインとして存在するように、液晶層の均質で平坦な配向を改善する働きをする。これは、マルチドメインが全ての空間方向に光散乱をもたらして、曇った外観を層に付与するからである。

配向層は通常、コレステリック層の適用前に、液晶分子の方向が研磨方向に整列されるように一方向に機械的研磨される、ポリマーフィルムから形成される。

好適なポリマーは、例えば、ポリイミド及びポリビニルアルコールである。また、光配向材料（ＬＰＰ＝直線的光重合性ポリマー）、例えば、Ｒｏｌｉｃ又はＣｈｉｓｓｏ製の材料も適している。さらに、カソード噴霧又は偏った蒸着によって適用される、二酸化ケイ素などの無機配向層も適している。

しかしながら、配向層は好ましくはポリイミド、例えば、Ｎｉｓｓａｎ又はＪＳＲ社製の商品名Ｓｕｎｅｖｅｒ（登録商標）、又はポリビニルアルコールから選択され、更に好ましいのはポリイミドである。ポリイミドは通常、対応するポリアミド酸の形で適用され、次いで熱硬化されて、例えば、ポリイミドを与える。

液晶層に適用される好適な保護層（トップコート）は、例えば、ポリウレタン、ポリエステルウレタン、ポリエステルアクリレート又はニトロセルロースコーティング材料をベースとしたものである。保護層は、好ましくは、コレステリック層が光化学的に硬化される時に光化学架橋性である。この場合、コレステリック層が更に好ましくは完全に重合されていない場合、その後の保護層の架橋によってコレステリック層の一部が保護層へと架橋する。トップコートは好ましくは少なくとも５μｍ、更に好ましくは少なくとも１０μｍの層厚さを有する。トップコートは好ましくは光安定活性成分を含む（上記の成分Ｅを参照のこと）。好適な保護層は、例えば、ＢＡＳＦ ＳＥ社製の商品名Laromer（登録商標）で得られる。好ましい保護層は引掻を防止するものである。またＵＶ保護層も好ましい。

好適な接着層は、例えば、上記の接着促進剤の使用によって製造される。接着層は好ましくは本発明の生成物の最外層の１つを構成する。本発明のフィルムが接着層を含む場合、望ましくないフィルムの接着を防いで、本発明の生成物の第２層〜最外層のうちの１つを構成するために、これは好ましくは剥離層も備わっている。

工程（ｉｉ）〜（ｖｉｉ）で得られる層の他に更なる層をも含む本発明の生成物は、以下の工程：
（ｉ．１）キャリアフィルム又は基材を提供し、任意にキャリアフィルム又は基材を洗浄する及び／又はフィルムもしくは基材表面上に又はフィルムもしくは基材表面の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉ．２）任意に、配向層をキャリアフィルムもしくは基材に又はキャリアフィルムもしくは基材の一部に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層に又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉ．３）任意に、液晶組成物（ａ）を、工程（ｉ．１）又は（ｉ．２）からの生成物に適用し、前記組成物は、以下の
（ａ．１）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び任意に少なくとも１種のキラル重合性モノマーを含む組成物；
（ａ．２）少なくとも１種のコレステリック重合性モノマーを含む組成物；
（ａ．３）少なくとも１種のコレステリック架橋性ポリマーを含む組成物；
（ａ．４）少なくとも１種のコレステリックポリマーを重合性希釈剤中に含む組成物；及び
（ａ．５）少なくとも２種のこれらの組成物の混合物；
から選択され；
任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｉ．４）任意に、配向層を、工程（ｉ．３）で得られる層に又は工程（ｉ．３）で得られる層の一部に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉ．５．１）任意に、組成物（ａ．１）、（ａ．２）、（ａ．３）、（ａ．４）又は（ａ．５）を、工程（ｉ．３）又は（ｉ．４）で得られる生成物に適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程、その際、工程（ｉ．５．１）で得られる層は、工程（ｉ．３）で得られる層とはキラリティ及び／又は反射される波長範囲に関して異なる；又は
（ｉ．５．２）任意に、λ／２フィルムを工程（ｉ．３）で得られる層に適用し、次いで工程（ｉ．３）と同じ組成物をλ／２フィルムに適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｉ．６）任意に、前記工程（ｉ．３）及び（ｉ．５）の組成物とは異なる組成物を繰り返し用いて、工程（ｉ．２）〜（ｉ．５）を１回又は２回以上繰り返す工程；
（ｉ．７）任意に、配向層を工程（ｉ．５）又は（ｉ．６）で得られる生成物に又は工程（ｉ．５）又は（ｉ．６）で得られる生成物の一部に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉｉ）請求項１及び請求項７〜２１のいずれか１項に規定される組成物を適用する工程；
（ｉｉｉ）任意に工程（ｉｉ）で適用された組成物又は工程（ｉｉ）で適用された組成物の一部を配向させる工程；
（ｉｖ）任意に存在する分散媒を少なくとも部分的に除去する工程；
（ｖ）紫外線の作用下で組成物中に存在する少なくとも１種のモノマーを重合する工程；
（ｖｉ）任意に工程（ｖ）で得られる生成物を熱後処理する工程；
（ｖｉｉ）任意に工程（ｖ）又は（ｖｉ）で得られる生成物を紫外線の作用下で後硬化する工程；
（ｖｉｉｉ．１）任意に、配向層を、工程（ｖ）、（ｖｉ）又は（ｖｉｉ）で得られる生成物に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層に優先方向を生じさせる工程；
（ｖｉｉｉ．２）任意に、以下の
（ｂ．１）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び任意に少なくとも１種のキラル重合性モノマーを含む組成物；
（ｂ．２）少なくとも１種のコレステリック重合性モノマーを含む組成物；
（ｂ．３）少なくとも１種のコレステリック架橋性ポリマーを含む組成物；
（ｂ．４）少なくとも１種のコレステリックポリマーを重合性希釈剤中に含む組成物；及び
（ｂ．５）少なくとも２種のこれらの組成物の混合物；
から選択される液晶組成物（ｂ）を適用し；
任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｖｉｉｉ．３）任意に、配向層を、工程（ｖｉｉｉ．２）で得られる層に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層に優先方向を生じさせる工程；
（ｖｉｉｉ．４．１）任意に、組成物（ｂ．１）、（ｂ．２）、（ｂ．３）、（ｂ．４）又は（ｂ．５）を、工程（ｖｉｉｉ．２）又は（ｖｉｉｉ．３）で得られる生成物に適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程、その際、工程（ｖｉｉｉ．４．１）で得られる層は、工程（ｖｉｉｉ．２）で得られる層とはキラリティ及び／又は反射される波長範囲に関して異なる；又は
（ｖｉｉｉ．４．２）任意に、λ／２フィルムを工程（ｖｉｉｉ．２）で得られる層に適用し、次いで工程（ｖｉｉｉ．２）と同じ組成物をλ／２フィルムに適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｖｉｉｉ．５）任意に、前記工程（ｖｉｉｉ．２）及び（ｖｉｉｉ．４）の組成物とは異なる組成物を繰り返し用いて、工程（ｖｉｉｉ．１．２）〜（ｖｉｉｉ．４）を１回又は２回以上繰り返す工程；
（ｉｘ）任意に、キャリアフィルムを剥離する工程；
（ｘ）任意に、保護層、接着層及び／又は剥離層を、得られる最終層に適用する工程；
を含むプロセスによって得られるが、但し、工程（ｖｉ）は、工程（ｖ）が６０℃未満の温度で実施される場合に実施されることを条件とする。

好ましい実施態様では、工程（ｖ）の重合は、高められた温度で実施される。

従って、好ましい実施態様では、工程（ｉｉ）〜（ｖｉｉ）で得られる層の他に、更なる層をも含む本発明の生成物は、以下の工程：
（ｉ．１）キャリアフィルム又は基材を提供し、任意にキャリアフィルム又は基材を洗浄する及び／又はフィルムもしくは基材表面上に又はフィルムもしくは基材表面の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉ．２）任意に、配向層をキャリアフィルムもしくは基材に又はキャリアフィルムもしくは基材の一部に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層に又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉ．３）任意に、液晶組成物（ａ）を、工程（ｉ．１）又は（ｉ．２）からの生成物に適用し、前記組成物は、以下の
（ａ．１）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び任意に少なくとも１種のキラル重合性モノマーを含む組成物；
（ａ．２）少なくとも１種のコレステリック重合性モノマーを含む組成物；
（ａ．３）少なくとも１種のコレステリック架橋性ポリマーを含む組成物；
（ａ．４）少なくとも１種のコレステリックポリマーを重合性希釈剤中に含む組成物；及び
（ａ．５）少なくとも２種のこれらの組成物の混合物；
から選択され；
任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｉ．４）任意に、配向層を、工程（ｉ．３）で得られる層に又は工程（ｉ．３）で得られる層の一部に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉ．５．１）任意に、組成物（ａ．１）、（ａ．２）、（ａ．３）、（ａ．４）又は（ａ．５）を、工程（ｉ．３）又は（ｉ．４）で得られる生成物に適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程、その際、工程（ｉ．５．１）で得られる層は、工程（ｉ．３）で得られる層とはキラリティ及び／又は反射される波長範囲に関して異なる；又は
（ｉ．５．２）任意に、λ／２フィルムを工程（ｉ．３）で得られる層に適用し、次いで工程（ｉ．３）と同じ組成物をλ／２フィルムに適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｉ．６）任意に、前記工程（ｉ．３）及び（ｉ．５）の組成物とは異なる組成物を繰り返し用いて、工程（ｉ．２）〜（ｉ．５）を１回又は２回以上繰り返す工程；
（ｉ．７）任意に、配向層を工程（ｉ．５）又は（ｉ．６）で得られる生成物に又は工程（ｉ．５）又は（ｉ．６）で得られる生成物の一部に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉｉ）請求項１及び請求項７〜２１のいずれか１項に規定される組成物を適用する工程；
（ｉｉｉ）任意に工程（ｉｉ）で適用された組成物又は工程（ｉｉ）で適用された組成物の一部を配向させる工程；
（ｉｖ）任意に存在する分散媒を少なくとも部分的に除去する工程；
（ｖ）６０〜１４０℃の温度で紫外線の作用下で組成物中に存在する少なくとも１種のモノマーを重合する工程；
（ｖｉ）任意に工程（ｖ）で得られる生成物を熱後処理する工程；
（ｖｉｉ）任意に工程（ｖ）又は（ｖｉ）で得られる生成物を紫外線の作用下で後硬化する工程；
（ｖｉｉｉ．１）任意に、配向層を、工程（ｖ）、（ｖｉ）又は（ｖｉｉ）で得られる生成物に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層に優先方向を生じさせる工程；
（ｖｉｉｉ．２）任意に、以下の
（ｂ．１）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び任意に少なくとも１種のキラル重合性モノマーを含む組成物；
（ｂ．２）少なくとも１種のコレステリック重合性モノマーを含む組成物；
（ｂ．３）少なくとも１種のコレステリック架橋性ポリマーを含む組成物；
（ｂ．４）少なくとも１種のコレステリックポリマーを重合性希釈剤中に含む組成物；及び
（ｂ．５）少なくとも２種のこれらの組成物の混合物；
から選択される液晶組成物（ｂ）を適用し；
任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｖｉｉｉ．３）任意に、配向層を、工程（ｖｉｉｉ．２）で得られる層に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層に優先方向を生じさせる工程；
（ｖｉｉｉ．４．１）任意に、組成物（ｂ．１）、（ｂ．２）、（ｂ．３）、（ｂ．４）又は（ｂ．５）を、工程（ｖｉｉｉ．２）又は（ｖｉｉｉ．３）で得られる生成物に適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程、その際、工程（ｖｉｉｉ．４．１）で得られる層は、工程（ｖｉｉｉ．２）で得られる層とはキラリティ及び／又は反射される波長範囲に関して異なる；又は
（ｖｉｉｉ．４．２）任意に、λ／２フィルムを工程（ｖｉｉｉ．２）で得られる層に適用し、次いで工程（ｖｉｉｉ．２）と同じ組成物をλ／２フィルムに適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｖｉｉｉ．５）任意に、前記工程（ｖｉｉｉ．２）及び（ｖｉｉｉ．４）の組成物とは異なる組成物を繰り返し用いて、工程（ｖｉｉｉ．１．２）〜（ｖｉｉｉ．４）を１回又は２回以上繰り返す工程；
（ｉｘ）任意に、キャリアフィルムを剥離する工程；
（ｘ）任意に、保護層、接着層及び／又は剥離層を、得られる最終層に適用する工程
を含むプロセスＡ．１によって得られる。

代替的な好ましい実施態様では、工程（ｖｉ）において熱後処理が実施される。

従って、代替的な好ましい実施態様では、工程（ｉｉ）〜（ｖｉｉ）で得られる層の他に更なる層をも含む本発明の生成物は、以下の工程：
（ｉ．１）キャリアフィルム又は基材を提供し、任意にキャリアフィルム又は基材を洗浄する及び／又はフィルムもしくは基材表面上に又はフィルムもしくは基材表面の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉ．２）任意に、配向層をキャリアフィルムもしくは基材に又はキャリアフィルムもしくは基材の一部に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層に又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉ．３）任意に、液晶組成物（ａ）を、工程（ｉ．１）又は（ｉ．２）からの生成物に適用し、前記組成物は、以下の
（ａ．１）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び任意に少なくとも１種のキラル重合性モノマーを含む組成物；
（ａ．２）少なくとも１種のコレステリック重合性モノマーを含む組成物；
（ａ．３）少なくとも１種のコレステリック架橋性ポリマーを含む組成物；
（ａ．４）少なくとも１種のコレステリックポリマーを重合性希釈剤中に含む組成物；及び
（ａ．５）少なくとも２種のこれらの組成物の混合物；
から選択され；
任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｉ．４）任意に、配向層を、工程（ｉ．３）で得られる層に又は工程（ｉ．３）で得られる層の一部に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉ．５．１）任意に、組成物（ａ．１）、（ａ．２）、（ａ．３）、（ａ．４）又は（ａ．５）を、工程（ｉ．３）又は（ｉ．４）で得られる生成物に適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程、その際、工程（ｉ．５．１）で得られる層は、工程（ｉ．３）で得られる層とはキラリティ及び／又は反射される波長範囲に関して異なる；又は
（ｉ．５．２）任意に、λ／２フィルムを工程（ｉ．３）で得られる層に適用し、次いで工程（ｉ．３）と同じ組成物をλ／２フィルムに適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｉ．６）任意に、前記工程（ｉ．３）及び（ｉ．５）の組成物とは異なる組成物を繰り返し用いて、工程（ｉ．２）〜（ｉ．５）を１回又は２回以上繰り返す工程；
（ｉ．７）任意に、配向層を工程（ｉ．５）又は（ｉ．６）で得られる生成物に又は工程（ｉ．５）又は（ｉ．６）で得られる生成物の一部に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
（ｉｉ）上で定義された組成物を適用する工程；
（ｉｉｉ）任意に工程（ｉｉ）で適用された組成物又は工程（ｉｉ）で適用された組成物の一部を配向させる工程；
（ｉｖ）任意に存在する分散媒を少なくとも部分的に除去する工程；
（ｖ）紫外線の作用下で組成物中に存在する少なくとも１種のモノマーを重合する工程；及び
（ｖｉ）工程（ｖ）で得られる生成物を熱後処理する工程；
（ｖｉｉ）任意に工程（ｖ）又は（ｖｉ）で得られる生成物を紫外線の作用下で後硬化する工程；
（ｖｉｉｉ．１）任意に、配向層を、工程（ｖｉ）又は（ｖｉｉ）で得られる生成物に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層に優先方向を生じさせる工程；
（ｖｉｉｉ．２）任意に、以下の
（ｂ．１）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び任意に少なくとも１種のキラル重合性モノマーを含む組成物；
（ｂ．２）少なくとも１種のコレステリック重合性モノマーを含む組成物；
（ｂ．３）少なくとも１種のコレステリック架橋性ポリマーを含む組成物；
（ｂ．４）少なくとも１種のコレステリックポリマーを重合性希釈剤中に含む組成物；及び
（ｂ．５）少なくとも２種のこれらの組成物の混合物；
から選択される液晶組成物（ｂ）を適用し；
任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｖｉｉｉ．３）任意に、配向層を、工程（ｖｉｉｉ．２）で得られる層に適用し、任意に洗浄する及び／又は配向層に優先方向を生じさせる工程；
（ｖｉｉｉ．４．１）任意に、組成物（ｂ．１）、（ｂ．２）、（ｂ．３）、（ｂ．４）又は（ｂ．５）を、工程（ｖｉｉｉ．２）又は（ｖｉｉｉ．３）で得られる生成物に適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程、その際、工程（ｖｉｉｉ．４．１）で得られる層は、工程（ｖｉｉｉ．２）で得られる層とはキラリティ及び／又は反射される波長範囲に関して異なる；又は
（ｖｉｉｉ．４．２）任意に、λ／２フィルムを工程（ｖｉｉｉ．２）で得られる層に適用し、次いで工程（ｖｉｉｉ．２）と同じ組成物をλ／２フィルムに適用し、任意に該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
（ｖｉｉｉ．５）任意に、前記工程（ｖｉｉｉ．２）及び（ｖｉｉｉ．４）の組成物とは異なる組成物を繰り返し用いて、工程（ｖｉｉｉ．１．２）〜（ｖｉｉｉ．４）を１回又は２回以上繰り返す工程；
（ｉｘ）任意に、キャリアフィルムを剥離する工程；
（ｘ）任意に、保護層、接着層及び／又は剥離層を、得られる最終層に適用する工程
を含むプロセスＢ．１によって得られる。

工程（ｉ．２）〜（ｉ．７）のうち１つ以上を実施する場合、被覆されたキャリアフィルム又は被覆された基材が全工程（ｉ）の最後に得られる。

優先方向は、フィルム又は基材表面の一部のみに（工程（ｉ．１））又は配向層の一部のみに生じ得る。同様に、配向層を該表面の下部の一部にだけ適用することも可能である。これにより、配向させた部分のみが顕微鏡又は別の画像処理の下でラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有していると認識される、フィルム又は基材が得られ；表面の残りの部分は拡散しているように見える。この方法では、個別にラミネート加工されたマーキングを得ることが可能である。

本発明の生成物が、工程（ｉｉ）〜（ｖｉｉ）によって形成された層の他に、１つ以上の更なる層をも含むべき場合、工程（ｖｉｉｉ．１）〜（ｖｉｉｉ．５）を実施しないが、代わりに工程（ｉ．２）〜（ｉ．７）のうち１つ以上を実施することが好ましい。

キャリアフィルム又は基材を、工程（ｉ．１）で、更には上記の一般工程（ｉ）で洗浄するか、又は配向層を、一般的な方法、例えば、超音波、ローリング、例えば、Ｔｅｋｎｅｋローラーを用いるローリング、摩擦、例えば、ビロードを用いる摩擦、乾燥した濾過空気の吹き込み、イオン化空気又は窒素の吹き込み、減圧下でのアルゴン又は反応性ガスの噴霧によるエッチング又はスパッタリングによるエッチング（プラズマ処理）、大気圧でのプラズマ処理、コロナ処理、ＵＶ処理及び／又はオゾン処理によって洗浄することができる。

優先方向は、例えば、キャリアフィルムを引き伸ばすことによって及び／又はベルベット又はマイクロファイバー布を用いる単一又は複数の一方向摩擦によって、フィルム又は基材表面に生成される。代替的に又は追加的に、優先方向は、配向層を適用する（工程ＩＩ）ことによってフィルム表面上に化学的に生成され、次にこれがキャリアフィルムのように洗浄される及び／又は優先方向が提供される。

配向層が工程（ｉ．２）においてキャリアフィルムにもしくは基材に又は（例えば、工程（ｉ．４）、（ｉ．７）、（ｖｉｉｉ．１）又は（ｖｉｉｉ．３）において）少なくとも部分的に硬化した液晶層に好適に適用される方法は、配向層を形成するための基材に大きく依存する。例えば、ポリイミド配向層を得るために、既に記載された通り、対応するポリアミド酸を適用し、次いで硬化し、これは例えば、熱によって熱的に達成することができる。配向層の製造にも適したポリアミド酸又はポリビニルアルコールは、例えば、溶液又は懸濁液として適用され且つ溶媒を含んでいない。無機層、例えば、二酸化ケイ素は、特定の方法、例えば、カソード噴霧又は偏った蒸着によって得られる。

組成物（ａ．１）、（ａ．２）、（ａ．３）、（ａ．４）又は（ａ．５）、又は（ｂ．１）、（ｂ．２）、（ｂ．３）、（ｂ．４）又は（ｂ．５）は、一般的に溶液の形で又は水性懸濁液又はエマルションの形で使用される。それらは一般的に慣用プロセスによって、例えば、エアブレード（airblade）コーティング、ナイフコーティング、エアナイフコーティング、スキージコーティング、含浸コーティング、リバースロールコーティング、トランスファーロールコーティング、グラビアコーティング、キスコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、スピンコーティング、又は印刷プロセス、例えば、凸版印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷、活版印刷、パッド印刷、ヒートシール印刷又はスクリーン印刷プロセスから選択されるプロセスによって適用される。

コレステリック層の配向は、一般に操作を適用する間に自発的に進行するが、これは下流工程でも行うことができる。この場合、配向は、公知の方法、例えば、液晶相と配向層との相互作用、電界又は磁界の適用、又は液晶層の機械的ナイフコーティングによって行われる。しかしながら、配向は、好ましくは、適用中に作用する剪断力の作用下で自発的に進行する。

その後、適用されるコレステリック層を、慣用のプロセスによって、例えば、熱い空気を用いて乾燥させることができる。

コレステリック層は、電子ビームによって又は好ましくは光化学的に、熱的に重合することができる。組成物（ａ．１）、（ａ．２）、（ａ．３）、（ａ．４）又は（ａ．５）、又は（ｂ．１）、（ｂ．２）、（ｂ．３）、（ｂ．４）又は（ｂ．５）が光化学的に重合されるべき場合、それらは市販の光開始剤を含んでよい。電子ビームによって硬化する場合、それらは不必要である。適した光開始剤はＢ．１に上記されたものである。

組成物（ａ．１）又は（ｂ．１）の適したアキラルネマチック重合性化合物は、工程（ｉｉ）の説明に上記されたものに対応するが、既に述べた通り、少なくとも１種のネマチック化合物は紫外線の作用下で重合されなければならないという制限はここでは適用されない。組成物（ａ．１）の好ましいアキラルネマチック重合性モノマーは、多官能性、特に二官能重合性であり、好ましくは一般式Ｉに対応する。上の記述を参照されたい。

組成物（ａ．１）又は（ｂ．１）の好適な重合性キラル化合物は、工程（ｉｉ）の説明に上記されたものに対応する。ネマチック化合物とキラル化合物との間の質量比の選択に応じて、重合後に、可視光及び／又はＩＲのＵＶのスペクトル領域の波長を反射する層が得られる。述べられた通り、形成された層が可視光のスペクトル領域（即ち、２５０〜７５０ｎｍの間）において最大の少なくとも１つの反射を有するように質量比を選択することが好ましい。

あるいは、組成物（ａ）又は（ｂ）は、組成物（ａ．２）又は（ｂ．２）の少なくとも１種のコレステリック重合性モノマーを硬化した形で含んでよい。

群（ａ．２）又は（ｂ．２）の好ましいモノマーは、ＤＥ−Ａ１９６０２８４８号に記載されており、その全てが本願明細書によって参照されている。更に詳細には、モノマーは、式ＸＩＩＩ
（Ｚ^１−Ｙ^１−Ａ^１−Ｙ^２−Ｍ−Ｙ^３）_ｎＸ （ＸＩＩＩ）
の少なくとも１種のコレステリック重合性モノマーを含む。

変数はそれぞれ上で定義された通りである。それに応じて好ましい構成が適用される。

あるいは、組成物（ａ）又は（ｂ）は、組成物（ａ．３）又は（ｂ．３）の少なくとも１種のコレステリック架橋性ポリマーを含んでよい。

群（ａ．３）又は（ｂ．３）の好ましいポリマーは、ＷＯ２００８／０１２２９２号及び本願明細書で引用された文献に記載されており、その全てが本願明細書によって参照されている。

あるいは、組成物（ａ）又は（ｂ）は、重合性希釈剤中にコレステリックポリマー（組成物（ａ．４）又は（ｂ．４））を含んでよい。

好ましいポリマー及び群（ａ．４）又は（ｂ．４）の希釈剤は、ＷＯ２００８／０１２２９２号及び本願明細書で引用された文献に記載されており、その全てが本願明細書によって参照されている。群（ａ．４）又は（ｂ．４）の好ましいポリマーは、例えば、ＵＳ−Ａ−０８８３４７４５号に記載された架橋性コレステリックコポリイソシアネートであり、その全てが本願明細書によって参照されている。

必要な場合、組成物（ａ．１）、（ａ．２）、（ａ．３）、（ａ．４）及び（ａ．５）、又は（ｂ．１）、（ｂ．２）、（ｂ．３）、（ｂ．４）及び（ｂ．５）は、既に述べられた反射挙動に関与する要素の他に、好ましくは上記の分散剤及び成分Ｂ〜Ｅから選択される更なる混合成分を含んでよい。

工程（ｉｉ）〜（ｖｉｉ）に関しては、上の記述を参照されたい。

優先方向が等方性キャリアフィルムの又は等方性基材の全領域にわたって生成しない場合、又は配向層がキャリアフィルム又は基材の全領域にわたって適用されない場合、又は適用されたコレステリック層の全てが配向しない場合、拡散領域（優先方向が生じない／配向層が適用されない／配向しない領域）が異なる光学特性を有する光学的配向領域に並んで存在している生成物が得られる。この方法で、顕微鏡の下で又は２つの偏光子の間で見られる、画像、例えば、ロゴス又は隠れた情報を得ることが可能である。

本発明は更に、本発明の重合フィルム又は被覆された基材の、光学フィルタ、偏光子、装飾媒体、偽造防止マーカ、反射媒体、反射防止媒体としての使用又は光を集束させるための（例えば、太陽電池における）使用を提供する。本発明は、本発明の重合フィルムの抗細菌コーティングとしての使用も提供する。

本発明はまた、偽造防止マーカ又は偽造防止マーキング（セキュリティ特徴又はセキュリティマーキングとも呼ばれる）にも関し、これはラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する、好ましくはラインテクスチャを有する本発明の重合フィルムを含む。

偽造防止マーキングでマークされるべき物品は、例えば、価値ある特性の製品、その偽造が防止されるべきもの、例えば、価値のある銀行券、株及び他の証券、小切手又はクレジットカード、ＩＤ、チケット及びクーポンであるが、高価な消費者製品、医薬品及び奢侈品の包装、又はかかる奢侈品自体でもある。後者に関しては、ポイントはブランド盗用を防止すること又は少なくとも複雑にすることである。

本発明のセキュリティ特徴は、ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャのおかげで隠れ、且つ光学的方法によって（例えば、マークされた物品（更に詳細には：ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルム）に照射源、好ましくは単色照射源、例えば、ＵＶ、ＶＩＳ又はＮＩＲ領域のレーザーを通し；例えば、フォトダイオードアレイを用いて距離を測定することによって、光格子の回折式、例えば、ブラッグの式によって、干渉による強め合いに起因する高照射強度点の間の距離を、定性的に又は更に正確に評価することによって）検知できる検知可能な特徴を含む。

本発明は更に、それによって提供された物品上に又は物品内にラインテクスチャを有する重合フィルムを含む偽造防止マーキングの検知方法であって、以下の工程：
（ａ）ラインテクスチャを有する重合フィルムを含む、本発明の偽造防止マーキングを有する物品を提供する工程；
（ｂ）工程（ａ）からの物品を、単色照射源と検出器表面との間に、偽造防止マーカと検出器表面との間の規定の距離で導入する工程；
（ｃ）工程（ｂ）からの照射源からの規定の波長の電磁放射を用いて物品を照射する工程；及び
（ｄ）検出器の表面で生じる高照射強度点の間の距離を、高照射強度点の間の距離を測定することによって、定性的に又は定量的に評価する工程
を含む、検知方法を提供する。

単色照射源は、好ましくはＵＶ、近ＩＲ又は可視スペクトル領域内のレーザーである。

高照射強度点の間の距離は、例えば、フォトダイオードアレイによって測定できる。

本発明による検出方法は、例えば、機械又は携帯用機器を用いて、自動化され且つ実施されてよい。機械は、例えば、自動現金預払機、自動旅券販売機、自動入場券販売機、自動駐車券販売機、自動郵便切手販売機、自動小荷物機等であってよい。

本発明の偽造防止マーキングは、当然ながら、多数の更なるセキュリティ特徴と組み合わせてよい。

例えば、本発明の偽造防止マーキングを設けた基材は、セキュリティ特徴を含む更なる層を備えてよい。更なる層の例は、蛍光、ＩＲ透明及び／又はＩＲ吸収又は反射性物質を備えた層、磁性及び／又は電気的活性層、熱変色層、蛍光層及びマーカ、例えば、ＤＮＡタグ、ナノチューブ又はバイオマーカを含む層である。

追加的に請求されるのは、本発明の重合フィルム及び基材の、光学フィルタ、特に偏光フィルタ及びノッチフィルタ、即ち、狭帯域干渉フィルタとしての、特に液晶ディスプレイ及び視覚的ディスプレイ装置用の、偏光子としての、特にラミネート加工のための、装飾媒体としての、特に小切手及びクレジットカード、銀行券及びＩＤ用の、偽造防止マーカとしての、並びに所定の波長範囲の照射の選択的反射のための反射性媒体としての使用である。

本発明は更に、本発明の重合フィルムを（当然ながらキャリアフィルムから除去された後に）微粉砕し、任意に得られた小板形状の顔料粒子をサイズで分けることによって得られる顔料を提供する。本発明はまた、かかる顔料の、光学フィルタ、偏光子、装飾媒体、偽造防止マーカ、反射媒体、反射防止媒体としての又はそれらにおける使用又は光を集束させるための（例えば、太陽電池における）使用をも提供する。

本発明による方法によって、規定の表面テクスチャを有するフィルムが得られる。ラインテクスチャを有するフィルムが光格子と同様に挙動するので、特にラインテクスチャが興味深い：多色光（例えば、太陽光又は単純な白熱灯からの光）がかかるフィルムを通過する時に、プリズムスペクトルが観察される。単色光が該フィルムを通過する時に、電磁波が光格子の回折の法則（ブラッグの法則を参照のこと）に従って回析され、干渉による強め合いによって、反射において明確に認識できる高照射強度（最大）点が得られ、これは工程（ｉｉ）の組成物によって規定された特徴的な距離によって明白に識別される。

本発明を、ここで詳細に説明するが、以下の実施例及び図面によって制限されるものではない。

図１は、配合物１で被覆されたフィルム１の上面図の顕微鏡画像を示す。

実施例
１．）配合物
配合物１：
アキラルネマチック化合物：式Ｉ．１．１の化合物；
ネマチックの濃度：配合物の総質量を基準として２４質量％
溶媒：シクロペンタノン
均展添加剤：Ｂｙｋ３６１Ｎ，シクロペンタノン中で１％
光開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７
光開始剤濃度：配合物の総質量を基準として３質量％

配合物２：
アキラルネマチック化合物：式Ｉ．１．１の化合物；
ネマチックの濃度：配合物の総質量を基準として２４質量％
溶媒：シクロペンタノン
均展添加剤：Ｂｙｋ３６１Ｎ，シクロペンタノン中で１％
光開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１２７
光開始剤濃度：配合物の総質量を基準として３質量％

配合物３：
アキラルネマチック化合物：式Ｉ．１．１の化合物＋式Ｉ．２．１の化合物；質量比１：１；
ネマチックの濃度：配合物の総質量を基準として２４質量％
溶媒：シクロペンタノン
均展添加剤：Ｂｙｋ３６１Ｎ，シクロペンタノン中で１％
光開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７
光開始剤濃度：配合物の総質量を基準として３質量％

配合物４：
アキラルネマチック化合物：式Ｉ．１．１の化合物＋式Ｉ．２．２の化合物；質量比１：１；
ネマチックの濃度：配合物の総質量を基準として２４質量％
溶媒：シクロペンタノン
均展添加剤：Ｂｙｋ３６１Ｎ，シクロペンタノン中で１％
光開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７
光開始剤濃度：配合物の総質量を基準として３質量％

２．）被覆フィルムの製造
フィルム１：
Ｌｕｍｉｒｒｏｒ ４００１フィルム（ポリエチレンテレフタレート）をベルベットで磨き、次いで１５μｍのドクターブレードを用いて、それぞれの上記の配合物で被覆し（フィルム厚さ約１．５μｍ）、１３０℃にてオーブン内で５分間乾燥させ、紫外線（４０ｍＷ／ｃｍ^２）を用いて２分間重合させる。その後、フィルムを１３０℃で１０秒間の熱後処理にかけた。

フィルム２：
Ｌｕｍｉｒｒｏｒ ９６μｍフィルム（ポリエチレンテレフタレート）をベルベットで磨き、次いで１５μｍのドクターブレードを用いて配合物１で被覆し（フィルム厚さ約１．７μｍ）、１２０℃にてオーブン内で５分間乾燥させ、紫外線（４０ｍＷ／ｃｍ^２）を用いて６０℃（フィルム２．１）、８０℃（フィルム２．２）、１００℃（フィルム２．３）又は１１０℃（フィルム２．４）の温度で２分間重合させる。熱はＬｕｍｉｒｒｏｒフィルムを配置した加熱可能なアルミニウム板から生じた。その後、フィルムを１１０℃で９０秒間の熱後処理にかけた。

フィルム３：
Ｌｕｍｉｒｒｏｒ ９６μｍフィルム（ポリエチレンテレフタレート）をベルベットで磨き、次いで１５μｍのドクターブレードを用いて配合物１で被覆し（フィルム厚さ約１．７μｍ）、１２０℃にてオーブン内で５分間乾燥させ、紫外線（４０ｍＷ／ｃｍ^２）を用いて１００℃の温度で２分間重合させた。熱はＬｕｍｉｒｒｏｒフィルムを配置した加熱可能なアルミニウム板から生じた。熱後処理は実施しなかった。

フィルム４
Ｌｕｍｉｒｒｏｒ ９６μｍフィルム（ポリエチレンテレフタレート）をベルベットで磨き、次いで１５μｍのドクターブレードを用いて配合物１で被覆し（フィルム厚さ約１．７μｍ）、１２０℃にてオーブン内で５分間乾燥させ、紫外線（ＵＶ−ＡＢ表面発光系、Ｈｏｅｎｌｅ社製、独国、ＵＶ２０００型）を用いて２分間重合させた。その後、フィルムを１１０℃で９０秒間の熱後処理にかけた。次にフィルムを周囲温度（フィルム４．１）で又は８０℃（フィルム４．２）で２分間もう一度照射した。

いずれの場合でも、ラインテクスチャを有するフィルムが得られ、これは断面に正弦波の外観を有する。ラインテクスチャの正弦波の「山の連なり」は、１．６〜２．６μｍの平均高さと８〜１６μｍの平均半値幅を有する。しかしながら、フィルム２．１ではラインテクスチャは完全に形成されていなかった。

図１は、例えば、配合物１で被覆されたフィルム１の上面図の顕微鏡画像を示す。

３．）貯蔵安定性
３．１）温度試験
その製造後の貯蔵の４週間後に、フィルムを１２０℃で３０分間加熱した。全てのフィルムにおいてラインテクスチャが実質的に変化しないまま残った。

３．２）アイロンがけ試験
その製造直後に又は貯蔵の４週間後に、フィルムを１４０℃〜１６０℃で５分間アイロンがけした。フィルム４．１及びフィルム４．２のみ、ラインテクスチャが実質的に変化しないまま残り、他の全てのフィルムではラインテクスチャは消滅した。これは後硬化工程（ｖｉｉ）がラインテクスチャの安定性を更に高めることを示す。

Claims (30)

1. ラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルム又はラインテクスチャもしくはフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムで被覆された基材の製造方法であって、
   （ｉ）キャリアフィルム又は基材を提供する工程、及びフィルム材料又は基材が次の工程（ｉｉ）で適用される組成物の配向に対して優先方向を規定しない場合、フィルムもしくは基材表面上に又はフィルムもしくは基材表面上の一部に優先方向を生じさせる工程；
   （ｉｉ）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び少なくとも１種の分散媒を含む組成物をフィルム又は基材表面に適用する工程であって、組成物は、紫外線で重合可能な少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを含み、該組成物は、紫外線で重合可能な少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを、組成物中に存在するアキラルネマチック重合性モノマーの総質量を基準として、少なくとも２５質量％の量で含み；且つ組成物は、フィンガープリントテクスチャを有するフィルムが得られるべき場合、少なくとも１種のキラル重合性モノマーも含む工程；
   （ｉｖ）分散媒を少なくとも部分的に除去する工程；
   （ｖ）紫外線の作用下で組成物中に存在する少なくとも１種のモノマーを重合する工程；および
   （ｖｉ）工程（ｖ）で得られた生成物を６０℃〜２２０℃に１秒〜５分、加熱することにより、工程（ｖ）で得られた生成物を熱後処理する工程；
   を含む、前記製造方法。
2. 工程（ｉ）において、フィルム若しくは基材表面上又はフィルム若しくは基材表面上の一部に優先方向を生じさせる、請求項１に記載の方法。
3. 工程（ｉｉ）の後の工程（ｉｉｉ）において、工程（ｉｉ）で適用される組成物又は工程（ｉｉ）で適用される組成物の一部を配向させる、請求項１又は２に記載の方法。
4. 工程（ｉｖ）において分散媒の少なくとも部分的な除去が高められた温度で行われる、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
5. 工程（ｖ）の重合が８０℃〜１２０℃の温度で行われる、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
6. 工程（ｖｉ）の熱後処理を、工程（ｖ）で得られた生成物を７０℃〜１５０℃に５秒〜２分間加熱することによって行う、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
7. 工程（ｖｉ）の後の工程（ｖｉｉ）において、工程（ｖｉ）で得られた生成物を紫外線の作用下で後硬化する、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
8. 工程（ｉｉ）で使用される組成物がキラル重合性モノマーを含まない、ラインテクスチャを有する重合フィルムを製造するための請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
9. 工程（ｉｉ）で使用される少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーが、以下の式Ｉ
   Ｚ^１−（Ｙ^１−Ａ^１）_ｖ−Ｙ^２−Ｍ−Ｙ^３−（Ａ^２−Ｙ^４）_ｗ−Ｚ^２ （Ｉ）
   （式中、
   Ｚ^１、Ｚ^２は重合が実施され得る同一又は異なる反応性基であるか、又はかかる反応性基を含む基であり、その際、反応性基はＣ＝Ｃ二重結合、Ｃ≡Ｃ三重結合、オキシラン、チイラン、アジラン、シアナート、チオシアナート、イソシアナート、カルボン酸、ヒドロキシル又はアミノ基から選択され；
   Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３、Ｙ^４はそれぞれ独立して化学結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−であり、その際、Ｒ^ａは水素又はＣ_１−Ｃ_４−アルキルであり；
   Ａ^１、Ａ^２は酸素、硫黄及び／又は非置換又は一置換された窒素で中断されてよい直鎖状Ｃ _２ −Ｃ _３０ −アルキレン基から選択される同一又は異なるスペーサであり、その際、これらの中断基は隣接してはならず；好適アミン置換基はＣ_１−Ｃ_４−アルキル基を含み、アルキレン鎖はフッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル又はエチルによって置換されてよく；
   ｖ及びｗはそれぞれ独立して０、１又は２であり；
   Ｍは一般式ＩＩ：
   （Ｔ^１−Ｙ^５）_ｙ−Ｔ^２ （ＩＩ）
   （式中、
   Ｔ^１はそれぞれ独立して二価の脂環式、飽和又は部分的に不飽和の複素環式、芳香族又はヘテロ芳香族基であり；
   Ｔ^２は独立してＴ^１として定義されるか又は−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基であり；
   Ｙ^５は同一又は異なる橋部分−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＨ_２−Ｓ−、−Ｓ−ＣＨ_２、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、−ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ_３）−又は直接結合であり、且つ
   ｙは０、１、２又は３である）のメソゲン基である）
   の少なくとも１種の二官能重合性アキラルネマチックモノマーを含む、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
10. 工程（ｉｉ）で使用される少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーが、以下の式Ｉ．１
    

    

    （式中、
    Ｚ^１１及びＺ^２１はそれぞれ独立して
    

    

    であり；
    Ａ^１１及びＡ^２１はそれぞれ独立して炭素数２〜８のアルキレン基であり、
    Ｙ^１１及びＹ^４１はそれぞれ独立して化学的単結合、酸素、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であり；且つ
    Ｒ^１は水素、Ｃ_１−Ｃ_６−アルキル、Ｃ_１−Ｃ_６−アルコキシ又はＣＯ−Ｏ−Ｃ_１−Ｃ_６−アルキルである）
    の少なくとも１種の二官能重合性アキラルネマチックモノマーを含み；
    且つ工程（ｉｉ）で使用される少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーは更に以下の式Ｉ．２
    

    

    （式中、
    Ｔ^２２は以下の式
    

    

    の二価の基であり；
    Ｎ、Ｏ及びＳから選択される１個、２個又は３個のヘテロ原子を環員として有する二価の５員又は６員のヘテロ芳香族基であるか又は−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基であり；
    Ｚ^１２及びＺ^２２はそれぞれ独立して
    

    

    であり；
    Ａ^１２及びＡ^２２はそれぞれ独立して炭素数２〜８のアルキレン基であり、
    Ｙ^１２及びＹ^４２はそれぞれ独立して化学的単結合、酸素、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であり；
    Ｙ^５２は化学的単結合、酸素、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であるが、但し、Ｔ^２２が−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−基である時にＹ^５２が化学的単結合であることを条件とし；
    Ｒ^２は水素、Ｃ_１−Ｃ_６−アルキル、Ｃ_１−Ｃ_６−アルコキシ又はＣＯ−Ｏ−Ｃ_１−Ｃ_６−アルキルであり；且つ
    Ｒ^３は水素、Ｃ_１−Ｃ_６−アルキル、Ｃ_１−Ｃ_６−アルコキシ又はＣＯ−Ｏ−Ｃ_１−Ｃ_６−アルキルである）
    の少なくとも１種の二官能重合性アキラルネマチックモノマーを含む、請求項９に記載の方法。
11. 工程（ｉｉ）で使用される少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーが、式Ｉ．２の少なくとも１種の二官能重合性アキラルネマチックモノマーをも含む場合、式Ｉ．１の少なくとも１種のモノマー対式Ｉ．２の少なくとも１種のモノマーの総質量比が少なくとも１：１である、請求項１０に記載の方法。
12. 使用されるモノマーＩ．１が式Ｉ．１．１
    

    

    の化合物である、請求項１０又は１１に記載の方法。
13. 少なくとも１種のモノマーＩ．２が、式Ｉ．２．１、Ｉ．２．２、Ｉ．２．３及びＩ．２．４
    

    

    の化合物並びにそれらの混合物から選択される、請求項１０から１２までのいずれか１項に記載の方法。
14. 少なくとも１種のモノマーＩ．２が、式Ｉ．２．１及びＩ．２．２の化合物並びにそれらの混合物から選択される、請求項１３に記載の方法。
15. 工程（ｉｉ）で使用される組成物が少なくとも１種の光開始剤を含む、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の方法。
16. 光開始剤が、組成物の総質量を基準として、５質量％以下の量で存在する、請求項１５に記載の方法。
17. 光開始剤が式Ａ及びＢ
    

    

    の化合物並びにそれらの混合物から選択される、請求項１５又は１６に記載の方法。
18. 工程（ｖ）の実施後に工程（ｉｉ）で適用された組成物から形成されるポリマーフィルムの層厚さが０．１μｍ〜１０μｍである、請求項１から１７までのいずれか１項に記載の方法。
19. 工程（ｉｉ）で使用される分散媒が脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、複素環化合物、ハロアルカン、開環及び環状エーテル、開環及び環状ケトン、Ｃ_１−Ｃ_４−アルカノール、グリコール、グリコールエーテル、Ｃ_１−Ｃ_４−カルボン酸とＣ_１−Ｃ_４−アルカノールとのエステル、Ｃ_１−Ｃ_４−カルボン酸のアミド、脂肪族及び芳香族ニトリル、並びにスルホキシドから選択される、請求項１から１８までのいずれか１項に記載の方法。
20. 工程（ｉｉ）で使用される組成物が染料を含む、請求項１から１９までのいずれか１項に記載の方法。
21. 工程（ｉｉ）で使用される組成物が、少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーを、該組成物の総質量を基準として、５０質量％以下の量で含む、請求項１から２０までのいずれか１項に記載の方法。
22. 以下の工程：
    （ｉ．１）キャリアフィルム又は基材を提供し、及びキャリアフィルムを引き延ばすことによって、及び／又はベルベットもしくはマイクロファイバー布を用いる単一又は複数の一方向摩擦によってフィルムもしくは基材表面上に又はフィルムもしくは基材表面の一部に優先方向を生じさせる工程；或いは代替的に又は追加的に
    （ｉ．２）配向層をキャリアフィルムもしくは基材に又はキャリアフィルムもしくは基材の一部に適用し、配向層に又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
    （ｉ．３）液晶組成物（ａ）を、工程（ｉ．１）又は（ｉ．２）からの生成物に適用し、前記組成物は、以下の
    （ａ．１）少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー、又は、少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び少なくとも１種のキラル重合性モノマーを含む組成物；
    （ａ．２）少なくとも１種のコレステリック重合性モノマーを含む組成物；
    （ａ．３）少なくとも１種のコレステリック架橋性ポリマーを含む組成物；
    （ａ．４）少なくとも１種のコレステリックポリマーを重合性希釈剤中に含む組成物；及び
    （ａ．５）少なくとも２種のこれらの組成物の混合物；から選択され；
    該組成物を配向させ、且つ少なくとも部分的に硬化する工程；
    （ｉ．４）配向層を、工程（ｉ．３）で得られる層に又は工程（ｉ．３）で得られる層の一部に適用し、洗浄する及び／又は配向層又は配向層の一部に優先方向を生じさせる工程；
    （ｉｉ）請求項１及び請求項８〜２１のいずれか１項に規定される組成物を適用する工程；
    （ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で適用された組成物又は工程（ｉｉ）で適用された組成物の一部を配向させる工程；
    （ｉｖ）分散媒を少なくとも部分的に除去する工程；
    （ｖ）紫外線の作用下で組成物中に存在する少なくとも１種のモノマーを重合する工程；及び
    （ｖｉ）工程（ｖ）で得られる生成物を熱後処理する工程；
    を含む、方法。
23. 保護層、接着層及び／又は放出層を、得られる最終層に適用する、請求項２２に記載の方法。
24. キャリアフィルムが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルクロリド、可撓性ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリレート、ポリ（エチレン−コ−酢酸ビニル）、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン及びアクリル樹脂のフィルムから選択される、請求項１から２３までのいずれか１項に記載の方法。
25. 基材が請求項２４に記載のフィルム及びガラスから選択される、請求項１から２４までのいずれか１項に記載の方法。
26. 少なくとも１つの配向層がポリビニルアルコール又はポリイミドの層から選択される、請求項１から２５までのいずれか１項に記載の方法。
27. 重合した形の少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマーから形成されるラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する層を有し又は前記層からなり、ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムであって、
    これらのネマチックモノマーの少なくとも１種は紫外線によって重合可能でありアキラルネマチック重合性モノマーの総質量を基準として少なくとも２５質量％で存在し、フィンガープリントテクスチャの場合、前記層は重合した形の少なくとも１種のアキラルネマチック重合性モノマー及び少なくとも１種のキラル重合性モノマーの両方から形成され、
    ラインテクスチャは、顕微鏡を上から見た時に、実質的に平行な線又は無限大の縦範囲のストリップの系として現れる表面特性を意味し、
    フィンガープリントテクスチャは、顕微鏡を上から見た時に、指紋又は蛇皮を想起させるライン又はストリップの系として現れる表面特性を意味する、重合フィルム。
28. 請求項２７の定義による、ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する重合フィルムで被覆された基材。
29. 請求項２７に記載の重合フィルム又は請求項２８に記載の被覆された基材の、光学フィルタ、偏光子、装飾媒体、偽造防止マーカ、反射性媒体、反射防止媒体としての又は光を集束させるための使用。
30. 請求項２７に記載の、ラインテクスチャ又はフィンガープリントテクスチャを有する、重合フィルムを含む偽造防止マーカ。

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