JP5900540B2 - レイアウト設計方法及びレイアウト設計支援プログラム - Google Patents
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(1)半導体集積回路を分割する境界を設定する第1の工程。
(2)第1の工程で設定した境界を通る配線が存在する場合に、その配線によって接続される2つのピン間の間隔に基づいて、配線用に境界上に配置するモジュール端子の位置を割り当てるうえでの優先度を決定し、優先度に従って配線毎にモジュール端子の位置を割り当てる第2の工程。
(3)境界に沿った半導体集積回路の分割により得られるモジュール毎に、モジュール端子に割り当てられた位置を用いてセルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する第3の工程。
図4は、本実施形態の適用により実現可能なレイアウト設計の概略フローを示す図である。
h=H−α×L ・・・ (1)
により行う。ここでαは1未満の定数であり、算出結果が負となった場合は0とされる。それにより、配線禁止範囲hは、セルが境界から離れるほど狭くなるようにさせている。算出した配線禁止範囲hは、抽出した境界が存在する層とともに禁止情報D44として保存される。ステップS16には、その保存を行った後に移行する。
メモリ92は、プログラム実行、データ更新等の際に、外部記憶装置95(あるいは可搬型の記録媒体Mに記憶されているプログラムあるいはデータを一時的に格納するRAM等のメモリである。CPU91は、プログラムをメモリ92に読み出して実行することにより、全体の制御を行う。
(付記1)
半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を実施する方法において、
前記半導体集積回路を分割して得られる第1のモジュールを複数の第2のモジュールに分割する第1の工程と、
前記第1の工程により分割した第2のモジュール毎に、該第2のモジュール内のセルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する第2の工程と、
を含むことを特徴とするレイアウト設計方法。
(付記2)
前記第1の工程では、前記第2のモジュールへの分割は、前記配線の基本単位となるグリッド点を避けて、隣接する他の第2のモジュールとの境界を設定する、
ことを特徴とする付記1記載のレイアウト設計方法。
(付記3)
前記第1の工程では、前記境界を通る配線が存在する場合、該境界上に、該境界の直交方向上に該境界を挟んで隣接する2つのグリッド点間を結ぶ幅のモジュール端子を配置する、
ことを特徴とする付記1記載のレイアウト設計方法。
(付記4)
前記第1の工程では、前記境界を通る配線が存在する場合、該配線によって接続される2つのピン間を基に、該配線用に該境界上に配置するモジュール端子の位置を割り当てるうえでの優先度を決定し、該優先度に従って該配線毎に該モジュール端子の位置を割り当て、
前記第2の工程では、前記モジュール端子に割り当てられた位置を用いて前記詳細設計を実施する、
ことを特徴とする付記1記載のレイアウト設計方法。
(付記5)
前記優先度は、前記2つのピン間を結ぶ矩形を想定し、該矩形が前記境界と交わる幅、及び該矩形の該境界と直交する方向上の幅を基に決定する、
ことを特徴とする付記4記載のレイアウト設計方法。
(付記6)
前記第1の工程では、前記境界の近傍に配置された配線上の障害物を基に、前記モジュール端子を配置しない禁止範囲を該境界上に設定し、該禁止範囲を避けて該モジュール端子の位置を割り当て、
前記第2の工程では、前記モジュール端子に割り当てられた位置を用いて前記詳細設計を実施する、
ことを特徴とする付記1記載のレイアウト設計方法。
(付記7)
前記障害物は、前記配置が決定されているセル、既存の配線、及びビアホールを含む、
ことを特徴とする付記6記載のレイアウト設計方法。
(付記8)
半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を実施する方法において、
前記半導体集積回路を分割する場合に、前記配線の基本単位となるグリッド点を避けて境界を設定する第1の工程と、
前記第1の工程により設定した境界に沿って、前記半導体集積回路を複数のモジュールに分割する第2の工程と、
前記第2の工程により分割したモジュール毎に、該モジュール内のセルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する第3の工程と、
を含むことを特徴とするレイアウト設計方法。
(付記9)
半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を実施する方法において、
前記半導体集積回路を分割する境界を設定する第1の工程と、
前記第1の工程で設定した境界を通る配線が存在する場合に、該配線によって接続される2つのピン間に基づいて、該配線用に該境界上に配置するモジュール端子の位置を割り当てるうえでの優先度を決定し、該優先度に従って該配線毎に該モジュール端子の位置を割り当てる第2の工程と、
前記境界に沿った前記半導体集積回路の分割により得られるモジュール毎に、前記モジュール端子に割り当てられた位置を用いて前記セルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する第3の工程と、
を含むことを特徴とするレイアウト設計方法。
(付記10)
半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を実施する方法において、
前記半導体集積回路を分割する境界を設定する第1の工程と、
前記第1の工程で設定した境界の近傍に配置されている配線上の障害物を抽出し、該障害物を基に、該境界に沿った分割により得られる2つのモジュール間の接続用のモジュール端子を配置しない禁止範囲を該境界上に設定し、該禁止範囲を避けて該モジュール端子の位置を割り当てる第2の工程と、
前記境界に沿った前記半導体集積回路の分割により得られるモジュール毎に、前記モジュール端子に割り当てられた位置を用いて前記セルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する第3の工程と、
を含むことを特徴とするレイアウト設計方法。
(付記11)
半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を支援するレイアウト設計支援装置において、
前記半導体集積回路を分割して得られる第1のモジュールを複数の第2のモジュールに分割する第1の分割手段と、
前記第1の分割手段が分割した第2のモジュール毎に、該第2のモジュール内のセルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する第2の分割手段と、
を具備することを特徴とするレイアウト設計支援装置。
(付記12)
半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を支援するレイアウト設計支援装置において、
前記半導体集積回路を分割する場合に、前記配線の基本単位となるグリッド点を避けて境界を設定する境界設定手段と、
前記境界設定手段が設定した境界に沿って、前記半導体集積回路を複数のモジュールに分割する分割手段と、
前記分割手段が分割したモジュール毎に、該モジュール内のセルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する詳細設計手段と、
を具備することを特徴とするレイアウト設計支援装置。
(付記13)
半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を支援するレイアウト設計支援装置において、
前記半導体集積回路を分割する境界を設定する境界設定手段と、
前記境界設定手段が設定した境界を通る配線が存在する場合に、該配線によって接続される2つのピン間に基づいて、該配線用に該境界上に配置するモジュール端子の位置を割り当てるうえでの優先度を決定し、該優先度に従って該配線毎に該モジュール端子の位置を割り当てる位置割当手段と、
前記境界に沿った前記半導体集積回路の分割により得られるモジュール毎に、前記モジュール端子に割り当てられた位置を用いて前記セルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する詳細設計手段と、
を具備することを特徴とするレイアウト設計支援装置。
(付記14)
半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を支援するレイアウト設計支援装置において、
前記半導体集積回路を分割する境界を設定する境界設定手段と、
前記境界設定手段が設定した境界の近傍に配置されている配線上の障害物を抽出し、該障害物を基に、該境界に沿った分割により得られる2つのモジュール間の接続用のモジュール端子を配置しない禁止範囲を該境界上に設定し、該禁止範囲を避けて該モジュール端子の位置を割り当てる位置割当手段と、
前記境界に沿った前記半導体集積回路の分割により得られるモジュール毎に、前記モジュール端子に割り当てられた位置を用いて前記セルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する詳細設計手段と、
を具備することを特徴とするレイアウト設計支援装置。
(付記15)
情報処理装置にインストールすることにより、半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を支援するレイアウト設計支援装置を実現するレイアウト設計支援プログラムにおいて、
前記情報処理装置に、
前記半導体集積回路を分割する場合に、前記配線の基本単位となるグリッド点を避けて境界を設定するステップと、
前記設定するステップにより設定した境界に沿って、前記半導体集積回路を複数のモジュールに分割するステップと、
を実行させるためのレイアウト設計支援プログラム。
(付記16)
情報処理装置にインストールすることにより、半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を支援するレイアウト設計支援装置を実現するレイアウト設計支援プログラムにおいて、
前記情報処理装置に、
前記半導体集積回路を分割する境界を設定するステップと、
前記設定するステップにより設定した境界を通る配線が存在する場合に、該配線によって接続される2つのピン間に基づいて、該配線用に該境界上に配置するモジュール端子の位置を割り当てるうえでの優先度を決定し、該優先度に従って該配線毎に該モジュール端子の位置を割り当てるステップと、
を実行させるためのレイアウト設計支援プログラム。
(付記17)
情報処理装置にインストールすることにより、半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を支援するレイアウト設計支援装置を実現するレイアウト設計支援プログラムにおいて、
前記情報処理装置に、
前記半導体集積回路を分割する境界を設定するステップと、
前記設定するステップにより設定した境界の近傍に配置されている配線上の障害物を抽出し、該障害物を基に、該境界に沿った分割により得られる2つのモジュール間の接続用のモジュール端子を配置しない禁止範囲を該境界上に設定し、該禁止範囲を避けて該モジュール端子の位置を割り当てるステップと、
を実行させるためのレイアウト設計支援プログラム。
52 器配線端子化部
53 禁止マッピング部
54 端子辺設定部
55 配線長予測部
56 割当順決定部
57 端子割当部
58 モジュール分割部
59 サブモジュール詳細設計部
60 フラット化処理部
Claims (3)
- 半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を実施する方法において、
コンピュータが、
前記半導体集積回路を分割する境界を設定する第1の工程と、
前記第1の工程で設定した境界を通る配線が存在する場合に、該配線によって接続される2つのピン間を結ぶ矩形の該境界と平行な方向における第1の長さと、該境界と直交する方向における第2の長さとに基づいて、該配線用に該境界上に配置するモジュール端子の位置を割り当てるうえでの優先度を決定し、該優先度に従って該配線毎に該モジュール端子の位置を割り当てる第2の工程と、
前記境界に沿った前記半導体集積回路の分割により得られるモジュール毎に、前記モジュール端子に割り当てられた位置を用いて前記セルの配置、及び配線を決定するレイアウトの詳細設計を実施する第3の工程と、
を実行することを特徴とするレイアウト設計方法。 - 前記第2の工程は、前記第1の工程で設定した境界の近傍に配置されている配線上の障害物を抽出し、該障害物を基に、該境界に沿った分割により得られる2つのモジュール間の接続用のモジュール端子を配置しない禁止範囲を該境界上に設定し、該禁止範囲を避けて該モジュール端子の位置を割り当てる、
ことを特徴とする請求項1記載のレイアウト設計方法。 - 情報処理装置にインストールすることにより、半導体集積回路を構成するセルの配置、及び配線を決定するレイアウト設計を支援するレイアウト設計支援装置を実現するレイアウト設計支援プログラムにおいて、
前記情報処理装置に、
前記半導体集積回路を分割する境界を設定するステップと、
前記設定するステップにより設定した境界を通る配線が存在する場合に、該配線によって接続される2つのピン間を結ぶ矩形の該境界と平行な方向における第1の長さと、該境界と直交する方向における第2の長さとに基づいて、該配線用に該境界上に配置するモジュール端子の位置を割り当てるうえでの優先度を決定し、該優先度に従って該配線毎に該モジュール端子の位置を割り当てるステップと、
を実行させるためのレイアウト設計支援プログラム。
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| JP2014130791A JP5900540B2 (ja) | 2014-06-25 | 2014-06-25 | レイアウト設計方法及びレイアウト設計支援プログラム |
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| JP2014130791A JP5900540B2 (ja) | 2014-06-25 | 2014-06-25 | レイアウト設計方法及びレイアウト設計支援プログラム |
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