JP5891040B2 - スパッタリング装置、絶縁膜の形成方法 - Google Patents
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Description
通常、固体電解質薄膜(絶縁膜)144は、交流(RF)電源を用いたスパッタリング法により成膜されている(例えば、特許文献1の段落0038参照)。
本発明は、真空槽内の同一平面内に一列に並んで配置され、スパッタ面が同一方向に向けられた複数の絶縁体のターゲットにそれぞれ交流電圧を印加して、各前記スパッタ面をスパッタし、各前記スパッタ面から放出されたスパッタ粒子を各前記スパッタ面と対面する基板に到達させ、前記基板に絶縁膜を形成する絶縁膜の形成方法であって、前記ターゲットの数は4個であり、前記ターゲットと同数の交流電源から同一周波数の前記交流電圧を出力させ、入力電圧の位相を所定の位相変化量だけ変化させて出力する移相器にそれぞれ入力させ、前記移相器により、前記ターゲットの列の一端と他端の前記ターゲットには第一の位相の前記交流電圧を印加し、他の二個の前記ターゲットには前記第一の位相とは180°異なる第二の位相の前記交流電圧を印加する絶縁膜の形成方法である。
本発明のスパッタリング装置の構造を説明する。
図1は本発明のスパッタリング装置10の一例の内部構成図である。
真空槽11には、真空槽11内を真空排気する真空排気部12と、真空槽11内にスパッタガスを供給するスパッタガス供給部13とがそれぞれ接続されている。ここでは真空排気部12はロータリーポンプとクライオポンプとを有している。
本発明の絶縁膜の形成方法を、上述のスパッタリング装置10を用いて説明する。
ここではターゲット211〜214にはLi3PO4を用いる。なお、本発明のターゲット211〜214は絶縁体であればLi3PO4に限定されない。
各移相器181〜184の位相変化量をそれぞれ調整して、各ターゲット211〜214に印加される交流電圧の各ターゲット211〜214間の位相差を決定する。
真空排気部12により真空槽11内を真空排気し、真空雰囲気を形成する。以後、真空排気部12による真空排気を継続し、真空槽11内の真空雰囲気を維持する。
真空槽11内にスパッタガス供給部からスパッタガス(ここではArガスとN2ガスとの混合ガス)を供給し、各交流電源161〜164から同時に同一周波数の交流電圧を、ここでは同一位相で出力させると、交流電圧は移相器181〜184によりそれぞれ所定の位相変化量(ゼロを含む)だけ位相変化され、ターゲット211〜214の列の一端と他端のターゲット211、214には第一の位相で交流電圧が印加され、他の二個のターゲット212、213には第一の位相とは180°異なる第二の位相で交流電圧が印加される。
基板移動部32により、基板30a〜30dを基板保持部31と一緒に成膜位置の外側に移動させ、成膜済みの基板30a〜30dを回収する。
また、上述の説明ではターゲット211〜214の数が4個であったが、本発明ではターゲット211〜214の数は4個に限定されず、2個以上であればよい。
各ターゲットで同時に1時間、ターゲットの列の一端と他端のターゲットには第一の位相で交流電圧を印加し、他の二個のターゲットには第一の位相とは180°異なる第二の位相で交流電圧を印加した。
各ターゲットで同時に1時間、各ターゲットに同一位相で交流電圧を印加した。
(比較例2)
各ターゲットに一つずつ順番に1時間ずつ交流電圧を印加した。
11……真空槽
15……電源部
17……位相差決定部
211〜214……ターゲット
30a〜30d……基板
Claims (2)
- 真空槽と、
前記真空槽内の同一平面内に一列に並んで配置され、スパッタ面が同一方向に向けられた4個の絶縁体のターゲットと、
同一周波数の交流電圧をそれぞれ出力する前記ターゲットと同数の交流電源と、
を有し、
各前記スパッタ面と対面する基板には、各前記スパッタ面からスパッタされたスパッタ粒子が到達するスパッタリング装置であって、
各前記交流電源が出力した前記交流電圧は、入力電圧の位相を所定の位相変化量だけ変化させる移相器に入力され、前記移相器により、前記ターゲットの列の一端と他端の前記ターゲットには第一の位相の前記交流電圧が印加され、他の二個の前記ターゲットには前記第一の位相とは180°異なる第二の位相の前記交流電圧が印加されるように構成されたスパッタリング装置。 - 真空槽内の同一平面内に一列に並んで配置され、スパッタ面が同一方向に向けられた複数の絶縁体のターゲットにそれぞれ交流電圧を印加して、各前記スパッタ面をスパッタし、各前記スパッタ面から放出されたスパッタ粒子を各前記スパッタ面と対面する基板に到達させ、前記基板に絶縁膜を形成する絶縁膜の形成方法であって、
前記ターゲットの数は4個であり、
前記ターゲットと同数の交流電源から同一周波数の前記交流電圧を出力させ、入力電圧の位相を所定の位相変化量だけ変化させて出力する移相器にそれぞれ入力させ、
前記移相器により、前記ターゲットの列の一端と他端の前記ターゲットには第一の位相の前記交流電圧を印加し、他の二個の前記ターゲットには前記第一の位相とは180°異なる第二の位相の前記交流電圧を印加する絶縁膜の形成方法。
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