JP5882600B2 - Substrate processing apparatus and semiconductor device manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、ウェーハ等の基板に、酸化処理、拡散処理、薄膜の生成等の処理を行う基板処理装置に関するものである。   The present invention relates to a substrate processing apparatus that performs processing such as oxidation processing, diffusion processing, and thin film generation on a substrate such as a wafer.

半導体装置の処理工程の1つとして、シリコンウェーハ等の基板に酸化処理、拡散処理、薄膜の生成等の処理を行う基板処理工程があり、該基板処理工程を実行する装置として基板処理装置があり、又縦型処理炉を具備し、所定枚数の基板を一度に処理するバッチ式の基板処理装置として縦型基板処理装置がある。   As one of the processing steps of a semiconductor device, there is a substrate processing step for performing processing such as oxidation processing, diffusion processing, and thin film generation on a substrate such as a silicon wafer, and there is a substrate processing device as an apparatus for executing the substrate processing step. Further, there is a vertical substrate processing apparatus as a batch type substrate processing apparatus that includes a vertical processing furnace and processes a predetermined number of substrates at a time.

近年、基板の処理時間や基板の搬送時間の短縮や、顧客の生産ラインの運用で発生する基板搬送容器溜り(滞留)により、基板処理装置内に保管可能な基板搬送容器であるポッドの数量の増大が求められている。   In recent years, the number of pods that are substrate transfer containers that can be stored in a substrate processing apparatus has been reduced due to the reduction in substrate processing time and substrate transfer time, and the accumulation of substrate transfer containers (retention) that occurs during the operation of customer production lines. There is a need for an increase.

上記要求により、未処理又は処理済みの基板が保持されたポッドや、基板処理中の空のポッドを基板処理装置内に設けられた回転可能なポッド格納棚へと搬送し、ポッドを保管する基板処理装置が製造されている。   In response to the above request, a pod that holds an unprocessed or processed substrate or an empty pod that is being processed is transferred to a rotatable pod storage shelf provided in the substrate processing apparatus to store the pod. Processing equipment is manufactured.

然し乍ら、基板処理装置をコンテナに積込んで輸送する際には、コンテナに積荷の高さ制限がある為、従来の基板処理装置ではポッド格納棚の最上部の棚を取外してからコンテナに積込んだ後、取外した最上部の棚を別途輸送する必要があった。その為、輸送前の最上部の棚の取外し及び梱包、輸送後の最上部の棚の再取付け等の作業が必要となり、輸送費、作業時間、作業費の面でコストが高くなるという問題があった。   However, when the substrate processing apparatus is loaded into the container and transported, the height of the load on the container is limited, so in the conventional substrate processing apparatus, the top shelf of the pod storage rack is removed and loaded into the container. After that, it was necessary to transport the removed top shelf separately. For this reason, work such as removal and packing of the uppermost shelf before transportation and reattachment of the uppermost shelf after transportation is necessary, which increases the cost in terms of transportation cost, work time, and work cost. there were.

又、ポッド格納棚の最上部の棚の取外し、再取付けは高所での作業であり、又重量が重い為、作業者が2人以上必要となること、最上部の棚を持上げる為のリフターが必要となること等の問題があった。   Also, removing and reattaching the top shelf of the pod storage shelf is a work at a high place, and because it is heavy, it requires two or more workers, to lift the top shelf There were problems such as the need for a lifter.

尚、ポッドを搬入、搬出するI/Oステージを上下2ヶ所に設け、一方のI/Oステージではプロセス用ポッドの搬入、搬出を行い、他方のI/Oステージではダミー用又はモニタ用ポッドの搬入、搬出を行う様、プロセス用ポッド、ダミー用又はモニタ用ポッドを別々に運用することでスループットを向上させると共に、ポッドの収納数を増加させる基板処理装置として、特許文献1に示されるものがある。   There are two I / O stages at the top and bottom for loading and unloading pods. One I / O stage loads and unloads process pods, and the other I / O stage loads dummy and monitor pods. As a substrate processing apparatus that improves throughput by separately operating process pods, dummy pods, or monitor pods so as to carry in and out, a substrate processing apparatus shown in Patent Document 1 increases the number of pods stored. is there.

特開2000−91398号公報JP 2000-91398 A

本発明は斯かる実情に鑑み、輸送時に基板搬送容器格納棚の分解を必要とせず、又再組立てを必要とせず、輸送コストを低減できると共に作業性の向上を図る基板処理装置を提供するものである。   In view of such circumstances, the present invention provides a substrate processing apparatus that does not require disassembly of a substrate transport container storage shelf during transportation, does not require reassembly, can reduce transportation costs, and improves workability. It is.

本発明は、複数枚の基板が収納される基板搬送容器と、該基板搬送容器を搬送する基板搬送容器搬送装置と、該基板搬送容器搬送装置により搬送された複数の基板搬送容器が格納される基板搬送容器格納棚とを具備し、該基板搬送容器格納棚を高さ方向に伸縮可能とした基板処理装置に係るものである。   The present invention stores a substrate transport container that stores a plurality of substrates, a substrate transport container transport device that transports the substrate transport container, and a plurality of substrate transport containers transported by the substrate transport container transport device. The present invention relates to a substrate processing apparatus including a substrate transport container storage shelf and capable of extending and contracting the substrate transport container storage shelf in a height direction.

又本発明は、前記基板搬送容器格納棚は、支柱と該支柱を中心に回転可能に設けられた複数の棚板とで構成され、前記支柱は上側の棚板の下面に固着された上シャフトと、下側の棚板から上方に延出する下シャフトからなる2重管構造となっており、前記上シャフトは前記下シャフトに摺動自在に外嵌する基板処理装置に係るものである。   According to the present invention, the substrate transport container storage shelf includes a support column and a plurality of shelf plates rotatably provided around the support column, and the support column is fixed to the lower surface of the upper shelf plate. And a lower tube extending upward from the lower shelf, and the upper shaft relates to a substrate processing apparatus slidably fitted to the lower shaft.

本発明によれば、複数枚の基板が収納される基板搬送容器と、該基板搬送容器を搬送する基板搬送容器搬送装置と、該基板搬送容器搬送装置により搬送された複数の基板搬送容器が格納される基板搬送容器格納棚とを具備し、該基板搬送容器格納棚を高さ方向に伸縮可能としたので、輸送時に該基板搬送容器格納棚を分解することなくコンテナに収納可能であり、分解した該基板搬送容器格納棚を別途梱包し輸送する必要がなくなり、コストの低減が図れると共に、該基板搬送容器格納棚の再組立てを必要とせず、作業労力及び作業時間を低減させることができる。   According to the present invention, a substrate transport container that stores a plurality of substrates, a substrate transport container transport device that transports the substrate transport container, and a plurality of substrate transport containers transported by the substrate transport container transport device are stored. Substrate transport container storage shelf, and the substrate transport container storage shelf can be expanded and contracted in the height direction, so that it can be stored in a container without disassembling the substrate transport container storage shelf during transportation. Thus, it is not necessary to separately pack and transport the substrate transport container storage shelf, thereby reducing the cost and not requiring reassembly of the substrate transport container storage shelf, thereby reducing work labor and working time.

又本発明によれば、前記基板搬送容器格納棚は、支柱と該支柱を中心に回転可能に設けられた複数の棚板とで構成され、前記支柱は上側の棚板の下面に固着された上シャフトと、下側の棚板から上方に延出する下シャフトからなる2重管構造となっており、前記上シャフトは前記下シャフトに摺動自在に外嵌するので、前記棚板上に複数の基板搬送容器を載置し、回転させる場合でも充分な曲げ剛性及び捻り剛性を得ることができ、前記支柱の屈曲や破損を防止することができるという優れた効果を発揮する。   Further, according to the present invention, the substrate transport container storage shelf is composed of a support column and a plurality of shelf plates rotatably provided around the support column, and the support column is fixed to the lower surface of the upper shelf plate. It has a double-pipe structure consisting of an upper shaft and a lower shaft extending upward from the lower shelf, and the upper shaft is slidably fitted to the lower shaft. Even when a plurality of substrate transfer containers are placed and rotated, sufficient bending rigidity and torsional rigidity can be obtained, and an excellent effect that bending and breakage of the support column can be prevented.

本発明の実施例に係る基板処理装置の概略斜視図である。1 is a schematic perspective view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 該基板処理装置の概略側断面図である。It is a schematic sectional side view of this substrate processing apparatus. 本発明の第1の実施例に係る回転式ポッド棚の斜視図であり、(A)は伸長状態を示し、(B)は収縮状態を示している。It is a perspective view of the rotary pod shelf concerning the 1st example of the present invention, (A) shows the expansion state, and (B) shows the contraction state. 本発明の第1の実施例に係る回転式ポッド棚の要部拡大正面図であり、(A)は伸長状態に於ける伸縮部を示し、(B)は(A)のA−A矢視図を示している。It is a principal part enlarged front view of the rotary pod shelf which concerns on 1st Example of this invention, (A) shows the expansion-contraction part in an expansion | extension state, (B) is an AA arrow view of (A). The figure is shown. 本発明の第1の実施例に係る回転式ポッド棚の要部拡大正面図であり、(A)は収縮状態に於ける伸縮部を示し、(B)は(A)のB−B矢視図を示している。It is a principal part enlarged front view of the rotary pod shelf which concerns on 1st Example of this invention, (A) shows the expansion-contraction part in a contracted state, (B) is a BB arrow view of (A). The figure is shown. 本発明の第1の実施例に係る回転式ポッド棚の要部拡大分解斜視図である。It is a principal part expansion disassembled perspective view of the rotary pod shelf which concerns on 1st Example of this invention. 本発明の第2の実施例に係る回転式ポッド棚であり、(A)は該回転式ポッド棚の斜視図を示し、(B)は(A)のC−C矢視図を示している。It is a rotary pod shelf which concerns on 2nd Example of this invention, (A) shows the perspective view of this rotary pod shelf, (B) has shown CC arrow directional view of (A). .

以下、図面を参照しつつ本発明の実施例を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

先ず、図1、図2に於いて、本発明の実施例に係る基板処理装置について説明する。   First, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

尚、基板処理装置は、半導体装置(IC)の製造工程の1つである基板処理工程を実施する。又、以下の説明では、基板処理装置の一例として縦型炉を具備し、基板に酸化処理、CVD成膜処理、拡散処理、アニール処理等を行う縦型の基板処理装置について説明する。   The substrate processing apparatus performs a substrate processing process which is one of the manufacturing processes of a semiconductor device (IC). In the following description, a vertical substrate processing apparatus will be described which includes a vertical furnace as an example of a substrate processing apparatus and performs oxidation processing, CVD film formation processing, diffusion processing, annealing processing, and the like on the substrate.

図1、図2に示されている様に、基板処理装置1は筐体2を備えている。該筐体2の正面壁3の正面前方部にはメンテナンス可能な様に設けられた開口部としての正面メンテナンス口4が開設され、該正面メンテナンス口4は正面メンテナンス扉5によって開閉される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate processing apparatus 1 includes a housing 2. A front maintenance port 4 serving as an opening provided for maintenance is opened at the front front portion of the front wall 3 of the housing 2, and the front maintenance port 4 is opened and closed by a front maintenance door 5.

前記筐体2の正面壁3にはポッド搬入搬出口6が前記筐体2の内外を連通する様に開設されており、前記ポッド搬入搬出口6はフロントシャッタ(搬入搬出口開閉機構)7によって開閉される。前記ポッド搬入搬出口6の正面前方側にはロードポート(基板搬送容器受渡し台)8が設置されており、該ロードポート8は載置されたポッド9を位置合せする様に構成されている。   A pod loading / unloading port 6 is opened on the front wall 3 of the housing 2 so as to communicate between the inside and outside of the housing 2. The pod loading / unloading port 6 is opened by a front shutter (loading / unloading opening / closing mechanism) 7. Opened and closed. A load port (substrate transfer container delivery table) 8 is installed on the front front side of the pod loading / unloading port 6, and the load port 8 is configured to align the placed pod 9.

ポッド9は密閉式の基板搬送容器であり、図示しない工程内搬送装置によって前記ロードポート8上に搬入され、又該ロードポート8上から搬出される様になっている。   The pod 9 is a hermetically sealed substrate transfer container, and is loaded into the load port 8 by an in-process transfer device (not shown) and unloaded from the load port 8.

前記筐体2内の前後方向の略中央部に於ける上部には、上下方向に伸縮可能な回転式ポッド棚(基板搬送容器格納棚)11が設置されており、該回転式ポッド棚11は複数個のポッド9を格納する様に構成されている。   A rotary pod shelf (substrate transfer container storage shelf) 11 that can be expanded and contracted in the vertical direction is installed at an upper portion of the housing 2 at a substantially central portion in the front-rear direction. A plurality of pods 9 are configured to be stored.

前記回転式ポッド棚11は、垂直に立設されて間欠回転される支柱12と、該支柱12に上中下段の各位置に於いて放射状に支持された複数段の棚板(基板搬送容器載置棚)13とを備えており、該棚板13はそれぞれポッド9を複数個載置した状態で格納する様に構成されている。   The rotary pod shelf 11 includes a support column 12 which is erected vertically and rotated intermittently, and a plurality of shelf plates (substrate transfer container mountings) which are radially supported by the support column 12 at the upper, middle and lower positions. The shelf board 13 is configured to store a plurality of pods 9 mounted thereon.

前記回転式ポッド棚11の下方には、ポッドオープナ(基板搬送容器蓋体開閉機口)14が設けられ、該ポッドオープナ14はポッド9を載置し、又ポッド9の蓋を開閉可能な構成を有している。   A pod opener (substrate transfer container lid opening / closing machine opening) 14 is provided below the rotary pod shelf 11. The pod opener 14 is configured to place the pod 9 and to open and close the lid of the pod 9. have.

前記ロードポート8と前記回転式ポッド棚11、前記ポッドオープナ14との間には、ポッド搬送装置(基板搬送容器搬送装置)15が設置され、該ポッド搬送装置15はポッドエレベータ16及びポッド搬送機構17により構成されている。前記ポッドエレベータ16と前記ポッド搬送機構17との連動動作により、前記ポッド搬送装置15は、ポッド9を保持して昇降可能、水平方向に進退可能となっており、前記ロードポート8、前記回転式ポッド棚11、前記ポッドオープナ14との間でポッド9を搬送する様に構成されている。   A pod transfer device (substrate transfer container transfer device) 15 is installed between the load port 8, the rotary pod shelf 11, and the pod opener 14, and the pod transfer device 15 includes a pod elevator 16 and a pod transfer mechanism. 17. By the interlocking operation of the pod elevator 16 and the pod transport mechanism 17, the pod transport device 15 can move up and down while holding the pod 9 and can advance and retreat in the horizontal direction. The pod 9 is transported between the pod shelf 11 and the pod opener 14.

前記筐体2内の前後方向の略中央部に於ける下部には、サブ筐体18が後端に亘って設けられている。該サブ筐体18の正面壁19には、ウェーハ21を前記サブ筐体18内に対して搬入搬出する為のウェーハ搬入搬出口(基板搬入搬出口)22が1対、垂直方向に上下2段に並べられて開設されており、上下段のウェーハ搬入搬出口22,22に対して前記ポッドオープナ14がそれぞれ設けられている。   A sub-housing 18 is provided over the rear end of the lower portion of the housing 2 at a substantially central portion in the front-rear direction. A pair of wafer loading / unloading ports (substrate loading / unloading ports) 22 for loading / unloading wafers 21 into / from the sub-casing 18 are arranged on the front wall 19 of the sub-casing 18 in two vertical stages. The pod openers 14 are provided for the upper and lower wafer loading / unloading ports 22, 22, respectively.

該ポッドオープナ14は、ポッド9を載置する載置台23と、ポッド9の蓋を開閉する開閉機構24とを備えている。前記ポッドオープナ14は前記載置台23に載置されたポッド9の蓋を前記開閉機構24によって開閉することにより、ポッド9のウェーハ出入れ口を開閉する様になっている。   The pod opener 14 includes a mounting table 23 on which the pod 9 is mounted and an opening / closing mechanism 24 that opens and closes the lid of the pod 9. The pod opener 14 opens and closes the wafer inlet / outlet of the pod 9 by opening and closing the lid of the pod 9 placed on the mounting table 23 by the opening / closing mechanism 24.

前記サブ筐体18は、前記ポッド搬送装置15や前記回転式ポッド棚11が配設されている空間(ポッド搬送空間)から気密な移載室25を構成している。該移載室25の前側領域にはウェーハ移載機構(基板移載機構)26が設置されており、該ウェーハ移載機構26は、ウェーハ21を載置する所要枚数(図示では5枚)のウェーハ載置プレート27を具備し、該ウェーハ載置プレート27は水平方向に直動可能、水平方向に回転可能、又昇降可能となっている。前記ウェーハ移載機構26は、ボート28に対してウェーハ21を装填及び払出しする様に構成されている。   The sub-housing 18 constitutes an airtight transfer chamber 25 from a space (pod transport space) in which the pod transport device 15 and the rotary pod shelf 11 are disposed. A wafer transfer mechanism (substrate transfer mechanism) 26 is installed in the front region of the transfer chamber 25, and the wafer transfer mechanism 26 has a required number of sheets (five in the drawing) on which the wafers 21 are mounted. A wafer mounting plate 27 is provided, and the wafer mounting plate 27 can be moved linearly in the horizontal direction, can be rotated in the horizontal direction, and can be moved up and down. The wafer transfer mechanism 26 is configured to load and unload the wafer 21 with respect to the boat 28.

前記移載室25の後側領域には、前記ボート28を収容して待機させる待機部29が構成され、該待機部29の上方には縦型の処理炉31が設けられている。該処理炉31の下端部は炉口部となっており、該炉口部は炉口シャッタ(炉口開閉機構)32により開閉される様になっている。   In the rear region of the transfer chamber 25, a standby unit 29 that accommodates and waits for the boat 28 is configured, and a vertical processing furnace 31 is provided above the standby unit 29. A lower end portion of the processing furnace 31 is a furnace port portion, and the furnace port portion is opened and closed by a furnace port shutter (furnace port opening / closing mechanism) 32.

前記筐体2の右側端部と前記サブ筐体18の前記待機部29の右側端部との間には、前記ボート28を昇降させる為のボートエレベータ(基板保持具昇降機構)33が設置されている。該ボートエレベータ33の昇降台に連結されたアーム34には、蓋体としての炉口蓋35が水平に取付けられており、該炉口蓋35は前記ボート28を垂直に支持し、前記処理炉31の下端部を気密に閉塞可能となっている。   Between the right end of the casing 2 and the right end of the standby section 29 of the sub casing 18, a boat elevator (substrate holder lifting mechanism) 33 for raising and lowering the boat 28 is installed. ing. A furnace port lid 35 as a lid is horizontally attached to the arm 34 connected to the elevator platform of the boat elevator 33, and the furnace port lid 35 supports the boat 28 vertically, The lower end can be closed airtight.

前記ボート28は複数本の支柱を備えており、複数枚(例えば、50枚〜125枚程度)のウェーハ21を、水平姿勢で垂直方向に多段に保持する様に構成されている。   The boat 28 includes a plurality of support columns, and is configured to hold a plurality of (for example, about 50 to 125) wafers 21 in a horizontal posture in multiple stages in the vertical direction.

前記ボートエレベータ33側と対向した位置にはクリーンユニット36が配設され、該クリーンユニット36は清浄化した雰囲気若しくは不活性ガスであるクリーンエア37を供給する様、供給ファン及び防塵フィルタで構成されている。前記ウェーハ移載機構26と前記クリーンユニット36との間には、ウェーハ21の円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合せ装置(図示せず)が設置されている。   A clean unit 36 is disposed at a position opposite to the boat elevator 33 side, and the clean unit 36 includes a supply fan and a dustproof filter so as to supply a clean atmosphere or clean air 37 which is an inert gas. ing. Between the wafer transfer mechanism 26 and the clean unit 36, a notch alignment device (not shown) is installed as a substrate alignment device for aligning the circumferential position of the wafer 21.

前記クリーンユニット36から前記移載室25に吹出されたクリーンエア37は、ノッチ合せ装置(図示せず)及び前記ウェーハ移載機構26、前記ボート28に流通された後に、図示しないダクトにより吸込まれ、前記筐体2の外部に排気がなされるか、若しくは前記クリーンユニット36の吸込み側である一次側(供給側)に迄循環され、再び該クリーンユニット36によって、前記移載室25内に吹出される様に構成されている。   The clean air 37 blown out from the clean unit 36 to the transfer chamber 25 is circulated through a notch aligner (not shown), the wafer transfer mechanism 26, and the boat 28, and then sucked in by a duct (not shown). The air is exhausted to the outside of the housing 2 or is circulated to the primary side (supply side) which is the suction side of the clean unit 36, and is blown into the transfer chamber 25 again by the clean unit 36. It is configured to be.

次に、前記基板処理装置1の作動について説明する。   Next, the operation of the substrate processing apparatus 1 will be described.

ポッド9が前記ロードポート8に供給されると、前記ポッド搬入搬出口6が前記フロントシャッタ7によって開放される。前記ロードポート8上のポッド9は、前記ポッド搬送装置15によって前記筐体2の内部へ前記ポッド搬入搬出口6を通して搬入され、前記回転式ポッド棚11の指定された前記棚板13へ載置される。ポッド9は前記回転式ポッド棚11で一時的に保管された後、前記ポッド搬送装置15により前記棚板13から何れか一方のポッドオープナ14に搬送されて前記載置台23に移載されるか、若しくは前記ロードポート8から直接前記載置台23に移載される。   When the pod 9 is supplied to the load port 8, the pod loading / unloading port 6 is opened by the front shutter 7. The pod 9 on the load port 8 is carried into the inside of the casing 2 through the pod loading / unloading port 6 by the pod conveying device 15 and placed on the designated shelf plate 13 of the rotary pod shelf 11. Is done. Whether the pod 9 is temporarily stored in the rotary pod shelf 11, then transferred from the shelf 13 to one of the pod openers 14 by the pod transfer device 15 and transferred to the mounting table 23. Alternatively, it is transferred directly from the load port 8 to the mounting table 23.

この際、前記ウェーハ搬入搬出口22は前記開閉機構24によって閉じられており、前記移載室25にはクリーンエア37が流通され、充填されている。例えば、前記移載室25にはクリーンエア37として窒素ガスが充填されることにより、酸素濃度が20ppm以下と、前記筐体2の内部(大気雰囲気)の酸素濃度よりも遙かに低く設定されている。   At this time, the wafer loading / unloading port 22 is closed by the opening / closing mechanism 24, and clean air 37 is circulated and filled in the transfer chamber 25. For example, when the transfer chamber 25 is filled with nitrogen gas as clean air 37, the oxygen concentration is set to 20 ppm or less, much lower than the oxygen concentration inside the housing 2 (atmosphere). ing.

前記載置台23に載置されたポッド9は、その開口側端面が前記サブ筐体18の前記正面壁19に於ける前記ウェーハ搬入搬出口22の開口縁辺部に押付けられると共に、蓋が前記開閉機構24によって取外され、ウェーハ出入れ口が開放される。   The opening side end surface of the pod 9 placed on the mounting table 23 is pressed against the opening edge of the wafer loading / unloading port 22 in the front wall 19 of the sub casing 18 and the lid is opened and closed. It is removed by the mechanism 24 and the wafer entrance is opened.

ポッド9が前記ポッドオープナ14によって開放されると、ウェーハ21はポッド9から前記ウェーハ移載機構26によって取出され、ノッチ合せ装置(図示せず)にてウェーハ21を整合した後、前記ウェーハ移載機構26はウェーハ21を前記移載室25の後方にある前記待機部29へ搬入し、前記ボート28に装填(チャージング)する。   When the pod 9 is opened by the pod opener 14, the wafer 21 is taken out of the pod 9 by the wafer transfer mechanism 26, aligned with the wafer 21 by a notch alignment device (not shown), and then transferred to the wafer. The mechanism 26 carries the wafer 21 into the standby unit 29 behind the transfer chamber 25 and charges (charges) the boat 28.

該ボート28にウェーハ21を受渡した前記ウェーハ移載機構26はポッド9に戻り、次のウェーハ21を前記ボート28に装填する。   The wafer transfer mechanism 26 that has delivered the wafer 21 to the boat 28 returns to the pod 9 and loads the next wafer 21 into the boat 28.

一方(上段又は下段)のポッドオープナ14に於ける、前記ウェーハ移載機構26によるウェーハ21の前記ボート28への装填作業中に、他方(下段又は上段)のポッドオープナ14には、前記回転式ポッド棚11から別のポッド9が前記ポッド搬送装置15によって搬送されて移載され、前記他方のポッドオープナ14によるポッド9の開放作業が同時進行される。   During the operation of loading the wafer 21 into the boat 28 by the wafer transfer mechanism 26 in one (upper or lower) pod opener 14, the other (lower or upper) pod opener 14 has the rotary type. Another pod 9 is transferred from the pod shelf 11 by the pod transfer device 15 and transferred, and the opening operation of the pod 9 by the other pod opener 14 is simultaneously performed.

予め指定された枚数のウェーハ21が前記ボート28に装填されると、前記炉口シャッタ32によって閉じられていた前記処理炉31の炉口部が、前記炉口シャッタ32によって開放される。続いて、前記ボート28は前記ボートエレベータ33によって上昇され、前記処理炉31内へ搬入(ローディング)される。   When a predetermined number of wafers 21 are loaded into the boat 28, the furnace port portion of the processing furnace 31 that has been closed by the furnace port shutter 32 is opened by the furnace port shutter 32. Subsequently, the boat 28 is raised by the boat elevator 33 and is loaded into the processing furnace 31.

ローディング後は、前記炉口蓋35によって炉口部が気密に閉塞され、前記処理炉31にてウェーハ21に所定の処理が実行される。   After loading, the furnace port portion is hermetically closed by the furnace port lid 35, and a predetermined process is performed on the wafer 21 in the processing furnace 31.

処理後は、ノッチ合せ装置(図示せず)でのウェーハ21の整合工程を除き、上記と逆の手順で、ウェーハ21及びポッド9が前記筐体2の外部へと払出される。   After the processing, the wafer 21 and the pod 9 are discharged to the outside of the housing 2 by a procedure reverse to the above except for the alignment step of the wafer 21 by a notch alignment device (not shown).

次に、図3〜図6に於いて、第1の実施例に於ける前記回転式ポッド棚11の詳細について説明する。   Next, the details of the rotary pod shelf 11 in the first embodiment will be described with reference to FIGS.

該回転式ポッド棚11は、前記支柱12と、該支柱12を回転軸として一体に回転可能に設けられた、所定枚数、例えば4枚の前記棚板13a〜13dとで構成され、該棚板13a〜13dは上下方向に所定の間隔で前記支柱12に固定されている。   The rotary pod shelf 11 is composed of the support column 12 and a predetermined number of, for example, four shelf plates 13a to 13d provided so as to be integrally rotatable with the support column 12 as a rotation axis. 13a-13d is being fixed to the said support | pillar 12 at predetermined intervals in the up-down direction.

該棚板13は略十字形状の板材であり、中心部より四方に突出する4つのポッド載置部38が形成されている。又、該ポッド載置部38の上面には、それぞれ所定箇所、例えば3箇所に上方に突出する係合突起39が形成されており、前記ポッド載置部38にポッド9が載置された際には、前記係合突起39がポッド9の裏面に形成された図示しない係合凹部と係合し、ポッド9の水平方向のずれが防止される様になっている。   The shelf plate 13 is a substantially cross-shaped plate material, and is formed with four pod placement portions 38 that protrude in four directions from the center portion. Further, on the upper surface of the pod mounting portion 38, engaging projections 39 are formed protruding upward at predetermined locations, for example, three locations. When the pod 9 is mounted on the pod mounting portion 38, The engaging protrusion 39 engages with an engaging recess (not shown) formed on the back surface of the pod 9 so that the horizontal displacement of the pod 9 is prevented.

又、前記支柱12は最上段の伸縮部41及び短柱12aが連結される構成となっており、前記伸縮部41は2重管構造となっている。該伸縮部41は前記上から2段目の棚板13bより上方に延出する円筒状の下シャフト42と、該下シャフト42に摺動自在に外嵌し、前記最上段の棚板13aの下面に固着された円筒状の上シャフト43により構成されており、前記下シャフト42と前記上シャフト43とはボルト等の固着具44により固着される様になっている。尚、前記下シャフト42は、前記上から2段目の棚板13bを介在した状態で、ボルト等の固着具40により前記短柱12aと連結される様になっている。   Further, the support column 12 is configured such that the uppermost stretchable portion 41 and the short column 12a are connected, and the stretchable portion 41 has a double tube structure. The expansion / contraction part 41 has a cylindrical lower shaft 42 extending upward from the second shelf 13b from above, and is slidably fitted to the lower shaft 42 so that the uppermost shelf 13a The lower shaft 42 and the upper shaft 43 are fixed by a fixing tool 44 such as a bolt. The cylindrical upper shaft 43 is fixed to the lower surface. The lower shaft 42 is connected to the short column 12a by a fixing tool 40 such as a bolt with the shelf plate 13b in the second stage from above.

該上シャフト43の周面には、略L字状の摺動溝45が円周方向に所定間隔で複数箇所、例えば3箇所に穿設され、該摺動溝45は前記上シャフト43の軸心と平行な長垂直部45aと、該長垂直部45aの下端より前記上シャフト43の周面を反時計回り方向に延出する水平部45bとを有している。該水平部45bは終端より上方に延出し、前記上シャフト43の軸心と平行な短垂直部45cを有している。   On the circumferential surface of the upper shaft 43, a substantially L-shaped sliding groove 45 is formed at a plurality of locations, for example, three locations at predetermined intervals in the circumferential direction, and the sliding groove 45 is an axis of the upper shaft 43. A long vertical portion 45a parallel to the center and a horizontal portion 45b extending from the lower end of the long vertical portion 45a in the counterclockwise direction on the peripheral surface of the upper shaft 43 are provided. The horizontal portion 45 b has a short vertical portion 45 c that extends upward from the end and is parallel to the axis of the upper shaft 43.

又、前記上シャフト43の下端部内周面には、若干細径となった嵌合部46が形成されると共に、該嵌合部46が形成された部分に、前記固着具44を半径方向に挿通可能な挿通孔47が所定の間隔で複数穿設されている。   In addition, a fitting portion 46 having a slightly smaller diameter is formed on the inner peripheral surface of the lower end portion of the upper shaft 43, and the fixing tool 44 is placed in the radial direction at the portion where the fitting portion 46 is formed. A plurality of insertion holes 47 that can be inserted are formed at predetermined intervals.

前記下シャフト42の上端部には、若干太径となった嵌合部48が形成され、該嵌合部48と前記嵌合部46とはガタツキなく嵌合可能となっている。前記下シャフト42の上端部、即ち前記嵌合部48が形成された部分には、前記固着具44を螺入可能な伸長時ネジ孔49が前記挿通孔47に対応して複数穿設されると共に、外周面から径方向に突出する摺動ピン51が前記摺動溝45と同数突設されている。前記摺動ピン51の直径は前記摺動溝45の幅よりも僅かに小さくなっており、該摺動溝45に前記摺動ピン51が摺動自在に挿通される様になっている。   A fitting portion 48 having a slightly larger diameter is formed at the upper end portion of the lower shaft 42, and the fitting portion 48 and the fitting portion 46 can be fitted with no backlash. At the upper end portion of the lower shaft 42, that is, the portion where the fitting portion 48 is formed, a plurality of screw holes 49 at the time of extension capable of screwing the fixing tool 44 are formed corresponding to the insertion holes 47. In addition, the same number of sliding pins 51 as the sliding grooves 45 project radially from the outer peripheral surface. The diameter of the sliding pin 51 is slightly smaller than the width of the sliding groove 45, and the sliding pin 51 is slidably inserted into the sliding groove 45.

前記上シャフト43は前記摺動ピン51が前記摺動溝45に案内され摺動することで、前記下シャフト42に対して垂直方向に摺動し、前記長垂直部45a或は前記短垂直部45cの下端で前記水平部45bに案内され、水平方向に回転可能となっており、前記摺動ピン51がそれぞれ前記長垂直部45aの上端、或は前記短垂直部45cの上端に当接することで、前記上シャフト43の伸長時、収縮時に於ける位置が決定される様になっている。   The upper shaft 43 slides in the vertical direction with respect to the lower shaft 42 as the sliding pin 51 is guided and slid by the sliding groove 45, and the long vertical portion 45 a or the short vertical portion. Guided to the horizontal part 45b at the lower end of 45c and rotatable in the horizontal direction, the sliding pins 51 abut on the upper end of the long vertical part 45a or the upper end of the short vertical part 45c, respectively. Thus, the position when the upper shaft 43 is extended or contracted is determined.

又、前記下シャフト42下端部には前記固着具44が螺入可能な収縮時ネジ孔52が穿設されており、該収縮時ネジ孔52が穿設される位置は、前記摺動ピン51が前記水平部45bを摺動する移動量だけ、前記伸長時ネジ孔49よりも周方向に変位した位置となっている。   Further, a screw hole 52 at the time of contraction into which the fixing tool 44 can be screwed is formed at the lower end portion of the lower shaft 42, and the position at which the screw hole 52 at the time of contraction is formed is located at the slide pin 51. Is a position displaced in the circumferential direction from the screw hole 49 at the time of extension by an amount of movement that slides on the horizontal portion 45b.

次に、前記回転式ポッド棚11の伸長、収縮について説明する。   Next, the expansion and contraction of the rotary pod shelf 11 will be described.

該回転式ポッド棚11が伸長状態の場合には、図4(A)に示される様に、前記摺動ピン51が前記短垂直部45cの上端に当接している。この時、前記挿通孔47と前記伸長時ネジ孔49からの位置が一致しており、前記挿通孔47を通して前記固着具44を前記伸長時ネジ孔49に螺入させることで、前記上シャフト43が伸長状態で固定され、前記回転式ポッド棚11の高さが伸長された状態となる。   When the rotary pod shelf 11 is in the extended state, as shown in FIG. 4A, the slide pin 51 is in contact with the upper end of the short vertical portion 45c. At this time, the positions of the insertion hole 47 and the extension screw hole 49 coincide with each other, and the fixing tool 44 is screwed into the extension screw hole 49 through the insertion hole 47, whereby the upper shaft 43. Is fixed in the extended state, and the height of the rotary pod shelf 11 is extended.

又、該回転式ポッド棚11が収縮状態の場合には、図5(A)に示される様に、前記摺動ピン51が前記長垂直部45aの上端に当接している。この時、前記挿通孔47と前記収縮時ネジ孔52の位置が一致しており、前記挿通孔47を通して前記固着具44を前記収縮時ネジ孔52に螺入させることで、前記上シャフト43が収縮状態で固定され、前記回転式ポッド棚11の高さが収縮された状態となる。   When the rotary pod shelf 11 is in the contracted state, as shown in FIG. 5A, the slide pin 51 is in contact with the upper end of the long vertical portion 45a. At this time, the positions of the insertion hole 47 and the screw hole 52 at the time of contraction coincide with each other, and the fixing shaft 44 is screwed into the screw hole 52 at the time of contraction through the insertion hole 47 so that the upper shaft 43 is It is fixed in the contracted state, and the height of the rotary pod shelf 11 is contracted.

該回転式ポッド棚11を伸長状態から収縮状態に変更する際には、前記固着具44を前記伸長時ネジ孔49から取外した後、前記上シャフト43を上昇させ、前記摺動ピン51を前記短垂直部45cに沿って相対的に下方に摺動させる。   When the rotary pod shelf 11 is changed from the extended state to the contracted state, the fixing tool 44 is removed from the screw hole 49 at the time of extension, and then the upper shaft 43 is raised, and the sliding pin 51 is It slides relatively downward along the short vertical portion 45c.

前記摺動ピン51が前記短垂直部45cの下端に到達した後、前記上シャフト43を反時計回りに回転させ、前記摺動ピン51を前記水平部45bに沿って相対的に時計回り方向に摺動させる。前記上シャフト43を所定量降下させると、前記嵌合部46と前記嵌合部48とが外れ、前記下シャフト42と前記上シャフト43との間に隙間が形成され、該上シャフト43を容易に降下させることができる。   After the sliding pin 51 reaches the lower end of the short vertical portion 45c, the upper shaft 43 is rotated counterclockwise, and the sliding pin 51 is moved in the clockwise direction relatively along the horizontal portion 45b. Slide. When the upper shaft 43 is lowered by a predetermined amount, the fitting portion 46 and the fitting portion 48 are detached, and a gap is formed between the lower shaft 42 and the upper shaft 43, so that the upper shaft 43 can be easily moved. Can be lowered.

次に、前記上シャフト43を降下させ、前記摺動ピン51を前記長垂直部45aに沿って相対的に上方に摺動させる。前記摺動ピン51が前記長垂直部45aの上端に当接することで、前記上シャフト43の収縮時に於ける高さ方向の位置が決定され、且つ前記上シャフト43の自重により高さ方向の位置が決定される。又、前記長垂直部45aの幅は前記摺動ピン51の直径よりも僅かに大きいだけであるので、前記上シャフト43の回転が拘束され、該上シャフト43の回転方向の位置も決定される。   Next, the upper shaft 43 is lowered, and the sliding pin 51 is slid relatively upward along the long vertical portion 45a. The sliding pin 51 abuts on the upper end of the long vertical portion 45a, whereby the position in the height direction when the upper shaft 43 contracts is determined, and the position in the height direction is determined by the weight of the upper shaft 43. Is determined. Further, since the width of the long vertical portion 45a is only slightly larger than the diameter of the sliding pin 51, the rotation of the upper shaft 43 is restrained and the position of the upper shaft 43 in the rotational direction is also determined. .

この時、前記摺動ピン51が前記長垂直部45aの上端に当接することで、前記挿通孔47と前記収縮時ネジ孔52の位置が一致し、又前記上シャフト43の重量が前記摺動ピン51によって支持されているので、作業者が前記上シャフト43の重量を支持する必要がなく、容易に前記固着具44を前記収縮時ネジ孔52に螺入することができる。又、前記固着具44で前記上シャフト43を前記下シャフト42に固定することができる。   At this time, the sliding pin 51 comes into contact with the upper end of the long vertical portion 45a, so that the positions of the insertion hole 47 and the screw hole 52 at the time of contraction are matched, and the weight of the upper shaft 43 is the sliding amount. Since it is supported by the pin 51, the operator does not need to support the weight of the upper shaft 43, and the fixing tool 44 can be easily screwed into the screw hole 52 at the time of contraction. Further, the upper shaft 43 can be fixed to the lower shaft 42 by the fixing tool 44.

又、前記回転式ポッド棚11を収縮状態から伸長状態に変更する際には、前記固着具44を前記収縮時ネジ孔52から取外した後、前記上シャフト43を上昇させ、前記摺動ピン51を前記長垂直部45aに沿って相対的に下方に摺動させる。   Further, when the rotary pod shelf 11 is changed from the contracted state to the extended state, the fixing tool 44 is removed from the screw hole 52 at the time of contraction, and then the upper shaft 43 is raised to move the sliding pin 51. Is slid relatively downward along the long vertical portion 45a.

前記摺動ピン51が前記長垂直部45aの下端に到達した後、前記上シャフト43を時計回りに回転させ、前記摺動ピン51を前記水平部45bに沿って相対的に反時計回り方向に摺動させる。次に前記上シャフト43を降下させ、前記摺動ピン51を前記短垂直部45cに沿って相対的に上方に摺動させる。   After the sliding pin 51 reaches the lower end of the long vertical portion 45a, the upper shaft 43 is rotated clockwise, and the sliding pin 51 is moved relatively counterclockwise along the horizontal portion 45b. Slide. Next, the upper shaft 43 is lowered, and the sliding pin 51 is slid relatively upward along the short vertical portion 45c.

前記摺動ピン51が前記短垂直部45cの上端に当接することで、前記上シャフト43の伸長時に於ける高さ方向の位置が決定され、且つ前記上シャフト43の自重により高さ方向の位置が決定される。又、前記短垂直部45cの幅は前記摺動ピン51の直径よりも僅かに大きいだけであるので、前記上シャフト43の回転が拘束され、該上シャフト43の回転方向の位置も決定される。   The sliding pin 51 abuts on the upper end of the short vertical portion 45c, whereby the position in the height direction when the upper shaft 43 is extended is determined, and the position in the height direction is determined by the weight of the upper shaft 43. Is determined. Further, since the width of the short vertical portion 45c is only slightly larger than the diameter of the sliding pin 51, the rotation of the upper shaft 43 is restricted, and the position of the upper shaft 43 in the rotational direction is also determined. .

更に、前記回転式ポッド棚11が伸長状態の場合には、図4(B)に示される様に、前記嵌合部46と前記嵌合部48とが嵌合した状態となるので、前記上シャフト43と前記下シャフト42の芯合せが自動的に行われる。   Further, when the rotary pod shelf 11 is in the extended state, the fitting portion 46 and the fitting portion 48 are fitted as shown in FIG. The shaft 43 and the lower shaft 42 are automatically aligned.

この時、前記摺動ピン51が前記短垂直部45cの上端に当接することで、前記挿通孔47と前記伸長時ネジ孔49の位置が一致しており、又前記上シャフト43の重量が前記摺動ピン51によって支持されているので、作業者が前記上シャフト43の重量を支持する必要がなく、容易に前記固着具44を前記伸長時ネジ孔49に螺入することができる。又、前記固着具44で前記上シャフト43を前記下シャフト42に固定することができる。   At this time, the sliding pin 51 contacts the upper end of the short vertical portion 45c, so that the positions of the insertion hole 47 and the screw hole 49 at the time of extension coincide with each other, and the weight of the upper shaft 43 is Since it is supported by the sliding pin 51, the operator does not need to support the weight of the upper shaft 43, and the fixing tool 44 can be easily screwed into the screw hole 49 at the time of extension. Further, the upper shaft 43 can be fixed to the lower shaft 42 by the fixing tool 44.

更に、上記した収縮状態から伸長状態への変更時、伸長状態から収縮状態への変更時に於いては、図5(B)に示される様に、前記下シャフト42の外周面と前記上シャフト43の内周面との間に隙間が形成されるので、該上シャフト43を容易に伸縮させることができる。   Further, when changing from the contracted state to the extended state, or when changing from the extended state to the contracted state, the outer peripheral surface of the lower shaft 42 and the upper shaft 43 are changed as shown in FIG. A gap is formed between the upper shaft 43 and the upper shaft 43 can be easily expanded and contracted.

又、収縮状態、伸長状態の何れの場合も、3箇所に設けられた前記摺動ピン51が、前記長垂直部45a、或は前記短垂直部45cの上端にそれぞれ当接されるので、前記上シャフト43の上端に固着された前記最上段の棚板13aの水平度を容易に出すことができる。   Further, in both the contracted state and the extended state, the sliding pins 51 provided at three locations are respectively brought into contact with the upper ends of the long vertical portion 45a or the short vertical portion 45c. The level of the uppermost shelf 13a fixed to the upper end of the upper shaft 43 can be easily obtained.

又、第1の実施例では、前記下シャフト42の径よりも前記上シャフト43の径を大きくしたことで、前記最上段の棚板13a上に複数のポッド9が載置され、回転した場合に於いても充分な曲げ剛性及び捻り剛性を得ることができ、前記支柱12の屈曲や破損を防止することができる。   In the first embodiment, when the diameter of the upper shaft 43 is larger than the diameter of the lower shaft 42, a plurality of pods 9 are placed on the uppermost shelf 13 a and rotated. In this case, sufficient bending rigidity and torsional rigidity can be obtained, and bending and breakage of the support column 12 can be prevented.

上述の様に、第1の実施例では、前記支柱12の、前記最上段の棚板13aと前記上から2段目の棚板13bとの間の部分を2重管構造の伸縮部41とし、伸縮可能な構造としたので、前記最上段の棚板13aを取外すことなく前記回転式ポッド棚11の高さを縮め、輸送用のコンテナに積込むことができる。   As described above, in the first embodiment, the portion of the support column 12 between the uppermost shelf 13a and the second shelf 13b from the top is the double-pipe expansion / contraction part 41. Since the structure can be extended and contracted, the height of the rotary pod shelf 11 can be reduced without removing the uppermost shelf 13a and can be loaded into a container for transportation.

従って、輸送時に於ける前記最上段の棚板13aの取外し、取外した該最上段の棚板13aの梱包、納品先での該最上段の棚板13aの再取付け等の作業が必要なくなるので、取付け及び取外しに対応する工数を削減することができ、作業時間及び作業労力の低減が図れると共に、取外した該最上段の棚板13aの為に別途輸送費用及び梱包材費用が掛るのを省略でき、作業、梱包、輸送等に於けるコストの低減を図ることができる。   Therefore, it is not necessary to remove the uppermost shelf 13a at the time of transportation, packing the removed uppermost shelf 13a, or reattaching the uppermost shelf 13a at the delivery destination. The number of man-hours required for mounting and dismounting can be reduced, the working time and labor can be reduced, and it is possible to eliminate the extra transportation costs and packing material costs due to the removed uppermost shelf 13a. In addition, costs for work, packing, transportation, etc. can be reduced.

更に、前記回転式ポッド棚11は、簡易な操作で伸縮可能であるので、作業者は1人で安全に行え、又リフターや治具を必要とせず、作業コストを低減させることができる。   Furthermore, since the rotary pod shelf 11 can be extended and contracted by a simple operation, one operator can safely perform the operation, and no lifter or jig is required, so that the operation cost can be reduced.

尚、第1の実施例では、前記支柱12の前記最上段の棚板13aと前記上から2段目の棚板13bとの間のみを伸縮可能な構造としているが、該上から2段目の棚板13bと上から3段目の棚板13cとの間、該上から3段目の棚板13cと最下段の棚板13dとの間の一方或は両方を伸縮可能な構造としてもよい。   In the first embodiment, the structure is such that only the space between the uppermost shelf 13a of the support column 12 and the second shelf from the top 13b can be expanded and contracted. A structure in which one or both of the shelf board 13b and the third shelf board 13c from the top, and one or both of the third shelf board 13c and the bottom shelf board 13d from the top can be extended and contracted is also possible. Good.

又、第1の実施例では、前記摺動溝45及び前記摺動ピン51を3箇所に設けているが、前記摺動溝45及び前記摺動ピン51は4箇所以上に設けてもよいのは言う迄もない。   In the first embodiment, the sliding groove 45 and the sliding pin 51 are provided at three places. However, the sliding groove 45 and the sliding pin 51 may be provided at four places or more. Needless to say.

次に、図7(A)(B)に於いて、本発明の第2の実施例に於ける回転式ポッド棚11について説明する。尚、図7(A)(B)中、図3(A)(B)中と同等のものには同符号を付し、その説明を省略する。   Next, with reference to FIGS. 7A and 7B, the rotary pod shelf 11 according to the second embodiment of the present invention will be described. 7A and 7B, the same components as those in FIGS. 3A and 3B are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

第2の実施例では、支柱12の、最上段の棚板13aと上から2段目の棚板13bとの間の部分は円柱部12aとなり、上から2段目の棚板13bと上から3段目の棚板13cとの間の部分は円筒部12bとなっている。前記円柱部12aの外径は前記円筒部12bの内径よりも小さく、前記円柱部12aは前記円筒部12bに摺動自在に内嵌している。   In the second embodiment, the portion of the support column 12 between the uppermost shelf 13a and the second shelf 13b from above is a cylindrical portion 12a, and the second shelf 13b from above and from above. The portion between the third shelf 13c is a cylindrical portion 12b. The outer diameter of the cylindrical portion 12a is smaller than the inner diameter of the cylindrical portion 12b, and the cylindrical portion 12a is slidably fitted into the cylindrical portion 12b.

前記円柱部12aの下端から所定距離上方には、周面より径方向に突出する略直方体形状の係止片53が周方向に所定間隔で所定箇所、例えば3箇所に設けられ、前記円柱部12aの軸心から前記係止片53の先端迄の長さは、前記円筒部12bの内径よりも長くなっている。   Above the lower end of the cylindrical portion 12a, a substantially rectangular parallelepiped-shaped locking piece 53 protruding in the radial direction from the circumferential surface is provided at predetermined intervals, for example, three locations in the circumferential direction, and the cylindrical portion 12a. The length from the axial center to the tip of the locking piece 53 is longer than the inner diameter of the cylindrical portion 12b.

又、前記円筒部12bの内周面には、前記係止片53と同数且つ同等の間隔で挿通溝54が刻設されている。該挿通溝54は前記円筒部12bの高さ方向に軸心と平行に全長に亘って刻設されると共に、前記挿通溝54は前記係止片53が自在に摺動できる大きさとなっている。   Further, insertion grooves 54 are formed on the inner peripheral surface of the cylindrical portion 12b at the same number and the same interval as the locking pieces 53. The insertion groove 54 is engraved over the entire length in parallel to the axis in the height direction of the cylindrical portion 12b, and the insertion groove 54 has a size that allows the locking piece 53 to slide freely. .

前記回転式ポッド棚11が伸長状態の場合には、前記係止片53の下面が前記円筒部12bの上端面に当接した状態で、ボルト等の固着具(図示せず)により前記円柱部12aと前記円筒部12bとが固着されている。   When the rotary pod shelf 11 is in the extended state, the cylindrical portion is fixed by a fixing tool (not shown) such as a bolt with the lower surface of the locking piece 53 in contact with the upper end surface of the cylindrical portion 12b. 12a and the cylindrical portion 12b are fixed.

前記回転式ポッド棚11を伸長状態から収縮状態へと変更する際には、前記円柱部12a及び前記円筒部12bから前記固着具を取外し、前記係止片53と前記挿通溝54の位置が合致する様前記円柱部12aを回転させる。その後、前記最上段の棚板13aの下面が前記上から2段目の棚板13bの上面と当接する迄降下させることで、前記係止片53が前記挿通溝54を通って降下し、前記円柱部12aが全て前記円筒部12bの内部に収納される。最後に前記固着具により前記円柱部12aと前記円筒部12bとを固着することで、前記回転式ポッド棚11が収縮状態で固定される。   When the rotary pod shelf 11 is changed from the extended state to the contracted state, the fixing tool is removed from the columnar portion 12a and the cylindrical portion 12b, and the positions of the locking piece 53 and the insertion groove 54 match. The cylindrical portion 12a is rotated so as to do this. Thereafter, the locking piece 53 is lowered through the insertion groove 54 by lowering until the lower surface of the uppermost shelf 13a comes into contact with the upper surface of the second shelf 13b. All the cylindrical portions 12a are accommodated in the cylindrical portion 12b. Finally, the rotary pod shelf 11 is fixed in a contracted state by fixing the cylindrical portion 12a and the cylindrical portion 12b with the fixing tool.

前記回転式ポッド棚11を収縮状態から伸長状態へと変更する際には、上記と逆の順序で作業が行われる。この時、前記挿通溝54は前記円筒部12bの内周面に高さ方向全長に亘って刻設されているので、前記円柱部12aに対するガイド溝の役割を果し、収縮状態から伸長状態への変更を容易とすることができる。   When the rotary pod shelf 11 is changed from the contracted state to the extended state, work is performed in the reverse order. At this time, since the insertion groove 54 is engraved on the inner peripheral surface of the cylindrical portion 12b over the entire length in the height direction, it plays the role of a guide groove with respect to the cylindrical portion 12a, and from the contracted state to the extended state. Can be easily changed.

又、第2の実施例の前記回転式ポッド棚11では、前記支柱12の前記円柱部12aを前記円筒部12b内に全て収納可能な構造となっているので、前記回転式ポッド棚11の高さをより縮小することができる。   Further, in the rotary pod shelf 11 of the second embodiment, since the column portion 12a of the support column 12 can be stored in the cylindrical portion 12b, the height of the rotary pod shelf 11 is increased. Can be further reduced.

尚、第2の実施例では、前記挿通溝54を前記円筒部12bの全長に亘って刻設しているが、該円筒部12bの上端部にのみ細径部を形成し、該細径部に前記係止片53が挿通可能な切欠きを設けてもよい。又、前記円柱部12aに段付き加工を施し、前記回転式ポッド棚11の高さを段階的に伸縮できる様にしてもよい。   In the second embodiment, the insertion groove 54 is engraved over the entire length of the cylindrical portion 12b, but a small diameter portion is formed only at the upper end portion of the cylindrical portion 12b. A notch through which the locking piece 53 can be inserted may be provided. Further, a stepped process may be applied to the cylindrical portion 12a so that the height of the rotary pod shelf 11 can be expanded and contracted stepwise.

(付記)
又、本発明は以下の実施の態様を含む。
(Appendix)
The present invention includes the following embodiments.

(付記1)複数枚の基板が収納される基板搬送容器と、該基板搬送容器を搬送する基板搬送容器搬送装置と、該基板搬送容器搬送装置により搬送された複数の基板搬送容器が格納される基板搬送容器格納棚とを具備し、該基板搬送容器格納棚を高さ方向に伸縮可能としたことを特徴とする基板処理装置。   (Supplementary Note 1) A substrate transport container for storing a plurality of substrates, a substrate transport container transport device for transporting the substrate transport container, and a plurality of substrate transport containers transported by the substrate transport container transport device are stored. A substrate processing apparatus comprising: a substrate transport container storage shelf, wherein the substrate transport container storage shelf is extendable in a height direction.

(付記2)前記基板搬送容器格納棚は、支柱と該支柱を中心に回転可能に設けられた複数の棚板とで構成され、前記支柱は上側の棚板の下面に固着された上シャフトと、下側の棚板から上方に延出する下シャフトからなる2重管構造となっており、前記上シャフトは前記下シャフトに摺動自在に外嵌する付記1の基板処理装置。   (Additional remark 2) The said board | substrate conveyance container storage shelf is comprised by the support | pillar and the some shelf provided rotatably about this support | pillar, and the said support | pillar is fixed to the lower surface of the upper shelf board, The substrate processing apparatus according to appendix 1, wherein the substrate processing apparatus has a double tube structure including a lower shaft extending upward from a lower shelf plate, and the upper shaft is slidably fitted to the lower shaft.

(付記3)前記下シャフト上端部の外周面には所定間隔で所定数摺動ピンが突設され、前記上シャフトには前記摺動ピンと同数且つ同等の間隔で略L字状の摺動溝が穿設され、該摺動溝を前記摺動ピンが摺動すると共に、該摺動ピンは前記基板搬送容器格納棚の伸長時及び収縮時にそれぞれ前記摺動溝の垂直部上端及び水平部終端で位置決めされる付記2の基板処理装置。   (Supplementary note 3) A predetermined number of sliding pins project from the outer peripheral surface of the upper end of the lower shaft at a predetermined interval, and the upper shaft has a substantially L-shaped sliding groove at the same number and the same interval as the sliding pin. The sliding pin slides in the sliding groove, and the sliding pin extends at the upper end and the horizontal end of the sliding groove when the substrate transfer container storage shelf is extended and contracted, respectively. The substrate processing apparatus according to appendix 2, which is positioned at

1 基板処理装置
9 ポッド
11 回転式ポッド棚
12 支柱
13 棚板
15 ポッド搬送装置
21 ウェーハ
28 ボート
31 処理炉
41 伸縮部
42 下シャフト
43 上シャフト
45 摺動溝
46 嵌合部
48 嵌合部
51 摺動ピン
53 係止片
54 挿通溝
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate processing apparatus 9 Pod 11 Rotating pod shelf 12 Support | pillar 13 Shelf board 15 Pod transfer device 21 Wafer 28 Boat 31 Processing furnace 41 Expansion / contraction part 42 Lower shaft 43 Upper shaft 45 Sliding groove 46 Fitting part 48 Fitting part 51 Sliding Moving pin 53 Locking piece 54 Insertion groove

Claims (5)

複数枚の基板が収納される基板搬送容器を搬送する基板搬送容器搬送装置と、該基板搬送容器搬送装置により搬送された複数の基板搬送容器が格納される基板搬送容器格納棚とを具備し、
該基板搬送容器格納棚は、支柱と該支柱を中心に回転可能に設けられた棚板とで構成され、前記支柱は上側の棚板の下面に固着された上シャフトと、下側の棚板から上方に延出する下シャフトからなる2重管構造となっており、前記上シャフトは前記下シャフトに摺動自在に嵌合することを特徴とする基板処理装置。
Comprising a substrate transport container transfer device for transferring the substrate transport container in which a plurality of substrates are accommodated, and a substrate transport container storage shelves in which a plurality of substrate transport containers transported by the substrate transport container transport apparatus is stored ,
The substrate transport container storage shelf includes a support column and a shelf plate rotatably provided around the support column, the support column being fixed to the lower surface of the upper shelf plate, and the lower shelf plate. A substrate processing apparatus having a double tube structure including a lower shaft extending upward from the upper shaft, wherein the upper shaft is slidably fitted to the lower shaft .
前記上シャフトには、円周方向に摺動溝が設けられている請求項1に記載の基板処理装置。   The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the upper shaft is provided with a sliding groove in a circumferential direction. 前記下シャフトには、前記摺動溝に摺動自在に挿通された摺動ピンが設けられている請求項2に記載の基板処理装置。   The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the lower shaft is provided with a sliding pin that is slidably inserted into the sliding groove. 前記摺動溝は、前記上シャフトの軸心と平行な長垂直部と、該長垂直部の下端より前記上シャフトの周面を反時計回り方向に延出する水平部と、を有する請求項2又は請求項3に記載の基板処理装置。   The sliding groove has a long vertical portion parallel to the axis of the upper shaft, and a horizontal portion extending from the lower end of the long vertical portion in the counterclockwise direction on the peripheral surface of the upper shaft. The substrate processing apparatus of Claim 2 or Claim 3. 複数枚の基板が収納される基板搬送容器を格納し、上側の棚板の下面に固着された上シャフトと、下側の棚板から上方に延出する下シャフトからなる2重管構造となっており、前記上シャフトは前記下シャフトに摺動自在に嵌合する支柱と、該支柱を中心に回転可能に設けられた棚板とで構成される基板搬送容器格納棚から前記基板搬送容器を搬送する工程と、
搬送された前記基板搬送容器から前記基板を取出して基板保持具へ装填する工程と、
該基板保持具を処理炉内へ搬入し、基板処理を行う工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
Stores a substrate transfer container that stores a plurality of substrates, and has a double tube structure including an upper shaft fixed to the lower surface of the upper shelf plate and a lower shaft extending upward from the lower shelf plate. And the upper shaft removes the substrate transport container from a substrate transport container storage shelf composed of a support column slidably fitted to the lower shaft and a shelf plate rotatably provided around the support shaft. A conveying step;
Removing the substrate from the transported substrate transport container and loading it onto a substrate holder;
Carrying the substrate holder into a processing furnace and performing substrate processing;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
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JP2002184771A (en) * 2000-12-19 2002-06-28 Tokyo Electron Ltd Heat treatment apparatus
JP4572636B2 (en) * 2004-09-10 2010-11-04 ムラテックオートメーション株式会社 Shelf equipment
JP2009010009A (en) * 2007-06-26 2009-01-15 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processing apparatus and fabrication process of semiconductor device

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