JP5881963B2 - キャパシタ型蓄電池、キャパシタ型蓄電池用基板、及びキャパシタ型蓄電池用蓄電層 - Google Patents
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Description
特許文献1に記載の薄膜キャパシタ型蓄電池は、第1導電膜又は第1半導体膜及び第1絶縁膜を積層する第1積層膜と、第1絶縁膜上で第1積層膜の長尺方向に延在する第1導電路と、第1絶縁膜上で第1積層膜の長尺方向に延在し第1導電路に平行に設けられた第2導電路と、第1導電路及び第2導電路の外面上にそれぞれ設けられた第2絶縁膜と、を備えている。
第1導電路及び第2導電路端に所定の電位差を与えると、絶縁層を介して配置された導電膜や半導体膜と、導電路間に広がった電磁界すなわちフォトンとの間で、フォトン−フォノンのエネルギー交換が行われる。このため、第1導電路及び第2導電路上に流れる電磁エネルギー速度が遅くなり、電気長が長くなるのと等価の働き、すなわち蓄電池の容量が大きくなり電荷を受容している。そのエネルギーは導電膜中のバンド内で励起される。
そこで、本発明では、静電容量が高く、長時間放置後も充放電効率の高い薄膜キャパシタ型蓄電池を提供することを課題とする。
本発明の第一の形態のキャパシタ型蓄電池は、第1導電膜又は第1半導体膜からなる第1基材と前記第1基材の少なくとも一方の面に複数個の第1導電粒子又は第1半導体粒子を含む第1粒子層とを有する第1積層型基材と、前記第1積層型基材の一方の面に第1絶縁膜と、前記第1積層型基材の他方の面に第2絶縁膜と、前記第1絶縁膜上で前記第1積層型基材の長尺方向に延在する第1導電路と、前記第2絶縁膜上で前記第1積層型基材の長尺方向に延在し、前記第1導電路に平行に設けられた第2導電路と、を備え、前記第1導電粒子若しくは前記第1半導体粒子が複数個集合した第1粒子集合体の最大幅が10μm以下であり、前記第1粒子集合体の間に隙間又は絶縁物が存在し、前記第1粒子集合体の間の距離が30nm以上3000nm以下である。
更に、これら化合物にn型又はp型の遷移金属、希土類金属又は非磁性金属をドープすることが、常温で不純物準位から50%以上の励起電子を発生させる観点から好適である。
一方で、粗密波は、粒子の周囲を形成する境界によって、粒子の外へ伝搬が阻害される。
第1粒子層の役割は、表面プラズモンを活性化することにある。第I粒子の表面により細かい第II粒子を接合すると、実効的な粒子の表面積を増やすことになり、活性化する表面プラズモンの密度が多くなる。結果として蓄電量を増やすことができる。
[第1の実施形態]
図1は、第1の実施形態に係るキャパシタ型蓄電池の一例を示す短尺方向(幅方向)での断面図である。
第1の実施形態のキャパシタ型蓄電池は、第1導電膜又は第1半導体膜からなる第1基材10の少なくとも一方の表面上に複数個の第1導電粒子又は第1半導体粒子(「第1粒子」と総称する)40を含む第1粒子層を有する第1積層型基材を有する。図1では、第1絶縁膜20及び第2絶縁膜22が接する第1基材10の両表面において、第1粒子40が存在する図を示している。
第1粒子40又は第1粒子40が複数個集合した粒子集合体の最大幅は10μm以下である。第1粒子40又は粒子集合体の間には隙間又は絶縁物が介在し、粒子間又は粒子集合体間の距離は30nm以上3000nm以下である。
第1基材10は、第1導電膜又は第1半導体膜からなり、導電物質、半導体物質のいずれで構成されていてもよい。
また、第1導電膜としてSi含有物を用いる場合、SiにB、Al、Pなどに代表される、周期律表の3族から15族からなる群より選択される少なくとも一つの元素を固溶限界以下にまで固溶させ導電性を付与したものを用いることができる。
第1基材の表面の凹凸状態を原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定する。この粗さ曲線からJIS B0601−1994に従い、その平均線の方向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の山頂線と谷底線との間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定して求めた。
第1粒子層は、複数個の第1導電粒子又は複数個の第1半導体粒子(「第1粒子」と総称する)40を含む。
第1粒子層に含まれる第1粒子40は、複数個が集合した粒子集合体(「第1粒子集合体」と称する)となっていてもよい。前記第1粒子40又は第1粒子集合体の最大幅は10μm以下である。前述の通り、表面プラズモンの活性化の観点からは、異なる大きさの粒子を含む粒子集合体であることが好ましく、第I粒子の表面により細かい第II粒子を接合させた粒子集合体であることがより好ましい。また、量子効果を発揮させる観点からは、前記第1粒子40又は第1粒子集合体の最大幅は100nm以下であることがより好ましく、80nm以下であることが更に好ましい。
なお、上述の通り、第1粒子40又は第1粒子集合体の間の距離が、30nm以上3000nm以下であるため、本発明ではこの部分に隙間又は絶縁物が存在していることを意味する。
特に第1半導体粒子においては、常温で不純物準位から50%以上の励起電子が発生するよう、前記群より選択される化合物にn型又はp型の遷移金属、希土類金属又は非磁性金属をドープすることが有効である。
第1絶縁膜20及び第2絶縁膜22としては、有機絶縁物、無機絶縁物、又は有機絶縁物と無機絶縁物の複合体のいずれから形成されていてもよい。
有機絶縁物としては、ポリエステル、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PPC(ポリエステルポリカーボネート)、ビニリデン、ポリイミド、ポリスチレン、ゴム、アクリル、エポキシなどを挙げることができる。
無機絶縁物としては、ほう珪酸ガラス、ソーダライムガラス、チタン酸バリウムやチタン酸ストロンチウムなどの金属酸化物などを挙げることができる。
また、第1絶縁膜20及び第2絶縁膜22は接着剤層であることが、蓄電層と導電路間の空気の介在を防止できるため好ましい。
第1導電路30及び第2導電路32の組成としては、前記第1導電膜10で説明したものを適用することができ、好適に用いられる材料についても同様である。第1導電路30と第2導電路32は同じ材質で形成してもよいし、異なる材質で形成されていてもよい。
本発明の第1の実施形態のキャパシタ型蓄電池の製造方法は、上記構成のキャパシタ型蓄電池を形成し得る方法であれば特に限定されるものではない。以下に製造方法の一例について説明する。
なお、第1導電膜又は第1半導体膜10の上に第2絶縁膜22を形成する前に、第1粒子40又は粒子集合体を形成してもよい。
図示しないが、蓄電池の長尺方向の一方の端部では第1導電路30及び第2導電路32が露出している。この露出している部分に、第1導電路30及び第2導電路32に電圧を与えるための第1端子及び第2端子がそれぞれ接続している。第1端子及び第2端子に所定の電位差を与えると、第1基材10と、第1導電路30及び第2導電路32との間に広がった電磁界すなわちフォトンとの間で、フォトン−表面プラズモンのエネルギー交換が行われ、大きな容量で蓄電される。以下の実施形態においても同様である。
図2は、第2の実施形態に係るキャパシタ型蓄電池の一例を示す短尺方向(幅方向)での断面図である。
第2の実施形態のキャパシタ型蓄電池は、第1導電膜又は第1半導体膜からなる基材10の表面上に、複数個の第1導電粒子又は第1半導体粒子(「第1粒子」と称する)40を含む第1粒子層と、第1絶縁膜20とをこの順に積層した第1積層膜50を有する。第1積層膜50の第1絶縁膜20上には、第1積層膜50の長尺方向(図2では紙面の手前から奥に向かう方向)に延在する第1導電路30と、第1導電路30に平行する第2導電路32とが設けられる。
第1粒子40又は第1粒子40が複数個集合した粒子集合体の最大幅は10μm以下である。第1粒子40又は粒子集合体の間には隙間又は絶縁物が介在し、粒子間又は粒子集合体間の距離は30nm以上3000nm以下である。
更に図2においては、第1基材10の外側表面には基材シート60が設けられる。
第1基材10は、第1導電膜又は第1半導体膜からなり、導電物質、半導体物質のいずれで構成されていてもよい。
第2の実施形態のキャパシタ型蓄電池における第1基材10は、前記第1の実施形態のキャパシタ型蓄電池における第1基材で説明したものを適用することができ、好適に用いられる材料についても同様である。
第2の実施形態のキャパシタ型蓄電池における第1粒子層は、前記第1の実施形態のキャパシタ型蓄電池における第1粒子層で説明したものをそれぞれ適用することができ、好適に用いられる材料についても同様である。
第2の実施形態のキャパシタ型蓄電池における第1絶縁膜20は、前記第1の実施形態のキャパシタ型蓄電池における第1絶縁膜20で説明したものをそれぞれ適用することができ、好適に用いられる材料についても同様である。
第2の実施形態のキャパシタ型蓄電池における第1導電路30及び第2導電路32は、前記第1の実施形態のキャパシタ型蓄電池における第1導電路及び第2導電路で説明したものをそれぞれ適用することができ、好適に用いられる材料についても同様である。
図2に示すキャパシタ型蓄電池では、基材シート60の上に前記第1導電膜又は第1半導体膜10を積層する。基材シート60の適用は任意であり、基材シート60を設けなくともよい。
基材シート60を適用する場合の組成としては、前記第1導電膜又は第1半導体膜10を積層できるものであれば、導電性、半導電性、及び絶縁性のいずれであってもよい。絶縁性であれば、本キャパシタ型蓄電池を巻いて使用する場合には、基材シートは導電性のある第1基材と第1導電路及び第2導電路の間を絶縁する役割を果たせる。
導電性のシートとしては、前記第1導電膜で説明したものと適用することができ、半導電性のシートとしては、前記第1半導体膜で説明したものと適用することができ、絶縁性のシートとしては、前記第1絶縁膜で説明したものを適用することができる。好適に用いられる材料についても同様である。
基材シート60の厚みは、1μm〜25μmが好ましい。
本発明の第2の実施形態のキャパシタ型蓄電池の製造方法は、上記構成のキャパシタ型蓄電池を形成し得る方法であれば特に限定されるものではない。以下に製造方法の一例について説明する。
この第1導電膜又は半導体膜10の上に、マグネトロンスパッタ、DCスパッタ、RFスパッタ、イオンビームスパッタ、蒸着、イオンプレーティング、CVD、溶射などの手法により、上記サイズの第1粒子40を付与する。或いは、電解メッキや無電解メッキなどの手法などの手法により、第1導電膜又は半導体膜10の上に、上記サイズの第1粒子40を析出させる。
図3は、第3の実施形態に係るキャパシタ型蓄電池の一例を示す短尺方向(幅方向)での断面図である。
第3の実施形態のキャパシタ型蓄電池は、第2の実施形態のキャパシタ型蓄電池において、更に、第1導電路30及び第2導電路32の外面上に、第2絶縁膜22が連続して設けられ、第2絶縁膜22の外面上に、複数個の第2導電粒子又は第2半導体粒子(「第2粒子」と総称する)42を含む第2粒子層と、第2導電膜又は第2半導体膜からなる第2基材12と、をこの順に設けられる。更に図3においては、第2基材12の外側表面には基材シート60が設けられる。基材シート60の設置は任意である。
第2絶縁膜22は、前記第1絶縁膜で説明したものを適用することができ、好適に用いられる材料や形状についても同様である。
なお、図3では、第2絶縁膜22及び第2基材12は平板状のものとして示しているが、このような形状に限定されず、導電路30及び第2導電路32による凹凸に沿って設けられていてもよい。
第2導電膜又は第2半導体膜からなる第2基材12は、前記第1基材で説明したものを適用することができ、好適に用いられる材料についても同様である。
第2粒子層は、前記第1粒子層で説明したものを適用することができ、好適に用いられる材料についても同様である。
なお、第2粒子層と第2基材は材料が異なることによりフェルミレベルを変えることでショットキー接合を形成することでエネルギーの熱緩和を防ぐという観点から、第2粒子層を構成する第2粒子42と前記第2基材12とは異なる材質で構成されていることが好ましい。第2粒子層を構成する第2粒子42と第2基材12の具体的な組み合わせは、前述の、第1粒子層を構成する第1粒子40と第1基材10の組み合わせと同様である。
本発明の第3の実施形態のキャパシタ型蓄電池の製造方法は、上記構成のキャパシタ型蓄電池を形成し得る方法であれば特に限定されるものではない。以下に製造方法の一例について説明する。
この第1導電膜又は半導体膜10の上に、マグネトロンスパッタ、DCスパッタ、RFスパッタ、イオンビームスパッタ、蒸着、イオンプレーティング、CVD、溶射などの手法により、上記サイズの第1粒子40を付与する。或いは、電界メッキや無電解メッキなどの手法により、第1導電膜又は半導体膜の上に、上記サイズの第1粒子40を析出させる。
この第2導電膜又は第2半導体膜12の上に、マグネトロンスパッタ、DCスパッタ、RFスパッタ、イオンビームスパッタ、蒸着、イオンプレーティング、CVD、溶射などの手法により、上記サイズの第2粒子42を付与する。或いは、電界メッキや無電解メッキなどの手法により、第2導電膜又は第2半導体膜12の上に、上記サイズの第2粒子42を析出させる。
図4は、第4の実施形態に係るキャパシタ型蓄電池の一例を示す短尺方向(幅方向)での断面図である。
図4に示すキャパシタ型蓄電池は、第1絶縁膜20の同一面上に、第1導電路30及び第2導電路32を複数交互に設けた点、更に図示しないが複数の第1導電路30が同一の第1端子に接続しており、複数の第2導電路32が同一の第2端子に接続している点を除いて、第3の実施形態にかかる蓄電池と同様である。
なお、図4では、第3の実施形態のキャパシタ型蓄電池の構成で、第1導電路30及び第2導電路32を複数交互に設けたものを示したが、図1の第1の実施形態のキャパシタ型蓄電池の構成や、図2の第2の実施形態のキャパシタ型蓄電池の構成で、第1導電路30及び第2導電路32を複数交互に設けたものであってもよい。
図1〜図4に示したキャパシタ型蓄電池はシート状であるが、このシートを長尺方向においてロール状に巻いて使用してもよい。
前記第1基材10の少なくとも一方の面上に、複数個の導電性又は半導性の第1粒子40が存在し、前記第1粒子40又は第1粒子が複数個集合した第1粒子集合体の最大幅が10μm以下であり、前記第1粒子40又は前記第1粒子集合体の間の距離が30nm以上3000nm以下であるものは、キャパシタ型蓄電池用基板として有益である。
前記キャパシタ型蓄電池用基板の少なくとも一方の面上に前記第1絶縁膜20を有する積層体は、キャパシタ型蓄電池用蓄電層として有益である。このとき、第1基材10上の複数個の第1粒子40又は第1粒子集合体の間には、隙間又は絶縁物が存在する。
(1)前記キャパシタ型蓄電池用基板と第1絶縁膜の積層体。
(2)第1絶縁膜、キャパシタ型蓄電池用基板、第2絶縁膜をこの順で積層する積層体。
(3)第1絶縁膜、第2絶縁膜、キャパシタ型蓄電池用基板、第3絶縁膜をこの順で積層する積層体。
(4)第1絶縁膜、第2絶縁膜、キャパシタ型蓄電池用基板、第3絶縁膜、第4絶縁膜をこの順で積層する積層体。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上に電解メッキ法を用いCu粒子を析出させ、粒子層を形成した。形成した試料の表面を前述の方法によりSEM画像(倍率:100000倍、以下同様。)で観察すると、最大幅0.15μmの銅粒子が30nmの距離(前記説明の方法で測定、以下同じ)で存在することを確認した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上にマグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅0.14μmの突起が30nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=15μm、厚み20μmの銅箔上にマグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅0.13μmの突起が30nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上にマグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅0.13μmの突起が300nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上に、マグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅0.15μmの突起が3000nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上に、マグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅0.08μmの突起が300nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上に、電解メッキ法を用いCu粒子を析出させ、粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅10μmの突起が300nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
第1基材としてRz=5μm、厚み20μmの銅箔上に電解メッキ法を用い、銅粒子を形成した。形成した試料の表面をSEM観察すると最大幅0.13μmの突起が300nmの距離で形成されていた。
その基材上にマグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。形成した試料の表面をSEM観察するとCu粒子上にSn粒子が最大幅0.02μmの突起が平均10nmの間隔で形成されていた。これにより集合体としての粒子最大幅は0.15μm、粒子集合体の距離は280nmとなった。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上に、電解メッキ法を用いCu粒子を析出させ、粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅9.5μmの突起が平均290nmの距離で形成されていた。
その基材上にマグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。形成した試料の表面をSEM観察するとCu粒子上にSn粒子が最大幅0.02μmの突起が平均10nmの間隔で形成されていた。これにより集合体としての粒子最大幅は9.52μm、粒子集合体の距離は270nmとなった。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
第1基材として実施例6の粒子を形成した基材を用い、その基材上にマグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。形成した試料の表面をSEM観察するとSn粒子上にSn粒子が最大幅0.02μmの突起が平均10nmの距離で形成されていた。これにより集合体としての粒子最大幅は0.1μm、粒子集合体の距離は280nmとなった。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm厚み、20μmの銅箔上に電解メッキ法を用いCu粒子を析出させ、粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅5μmの突起が300nmの距離で形成されていた。
その基材上にマグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。形成した試料の表面をSEM観察するとCu粒子上にSn粒子が最大幅0.4μmの突起が10nmの距離で形成されていた。これにより集合体としての粒子最大幅は5.4μm、粒子集合体の距離は290nmとなった。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm厚み、20μmの銅箔上に電解メッキ法を用いCu粒子を析出させ、粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅5μmの突起が300nmの距離で形成されていた。
その基材上にマグネトロンスパッタを用いてSnの粒子層を形成した。形成した試料の表面をSEM観察するとCu粒子上にSn粒子が最大幅0.03μmの突起が10nmの距離で形成されていた。これにより集合体としての粒子最大幅は5.03μm、粒子集合体の距離は270nmとなった。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=1μm、厚み25μmのPETフィルムを下地層とし、その上にマグネトロンスパッタを用いてSn粒子層を形成した。この表面を上記方法によりSEM画像(倍率:100000倍)で観察したところ、最大幅0.14μmの突起が30nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上にマグネトロンスパッタを用いてSn粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅0.14μmの突起が4000nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm厚み、20μmの銅箔上に電解メッキ法を用いCu粒子を析出させ、粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅20μmの突起が300nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上にマグネトロンスパッタを用いてSn粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅0.14μmの突起が28nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上にマグネトロンスパッタを用いてSn粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅0.14μmの突起が3050nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm厚み、20μmの銅箔上に電解メッキ法を用いCu粒子を析出させ、粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅11μmの突起が300nmの距離で形成されていた。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm、厚み20μmの銅箔上にマグネトロンスパッタを用いてSn粒子層を形
成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅0.11μmの突起が38nmの距離で形成されていた。
これに別のスパッタ条件で再びSnをマグネトロンスパッタしたところ最初に形成された粒子上に最大幅0.02nmの突起が平均10nmで形成されていた。これにより集合体としての粒子最大幅は0.13μm、粒子集合体の距離は20nmとなった。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
Rz=5μm厚み、20μmの銅箔上に電解メッキ法を用いCu粒子を析出させ、粒子層を形成した。この表面をSEMで観察したところ最大幅10.7μmの突起が270nmの距離で形成されていた。
この基材上にマグネトロンスパッタを用いてSn粒子層を形成した。この基材をSEMで観察すると、最初に形成された粒子上に最大幅0.02nmの突起が平均10nmの距離で形成されていた。これにより集合体としての粒子最大幅は10.72μm、粒子集合体の距離は290nmとなった。
粒子層上に、絶縁層、第1導電路及び第2導電路を実施例1と同様の方法で作製した。
このようにして作製したキャパシタ型蓄電池について、定電流充電装置を用いて電気容量を評価した。評価の方法を以下に示す。
(2)上記(1)の後に1Cのレートで放電を行った。
(3)放電電気量を測定、電気量が60mAh以下となる経過日数を保持時間とし、比較した。
12 第2基材(第2導電膜又は第2半導体膜)
20 第1絶縁膜
22 第2絶縁膜
30 第1導電路
32 第2導電路
40 第1粒子
42 第2粒子
50 第1積層膜
60 基材シート
Claims (21)
- 第1導電膜又は第1半導体膜からなる第1基材と、前記第1基材の少なくとも一方の面に複数個の第1導電粒子又は第1半導体粒子を含む第1粒子層と、を有する第1積層型基材と、
前記第1積層型基材の一方の面に第1絶縁膜と、
前記第1積層型基材の他方の面に第2絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上で該第1積層型基材の長尺方向に延在する第1導電路と、
前記第2絶縁膜上で該第1積層型基材の長尺方向に延在し、前記第1導電路に平行に設けられた第2導電路と、を備え、
前記第1導電粒子若しくは前記第1半導体粒子が複数個集合した第1粒子集合体の最大幅が10μm以下であり、前記第1粒子集合体の間に隙間又は絶縁物が存在し、前記第1粒子集合体の間の距離が30nm以上3000nm以下であるキャパシタ型蓄電池。 - 第1導電膜又は第1半導体膜からなる第1基材、複数個の第1導電粒子又は第1半導体粒子を含む第1粒子層、及び第1絶縁膜、をこの順に積層した第1積層膜と、
前記第1積層膜の第1絶縁膜上で前記第1積層膜の長尺方向に延在する第1導電路と、
前記第1積層膜の第1絶縁膜上で前記第1積層膜の長尺方向に延在し、前記第1導電路に平行に設けられた第2導電路と、を備え、
前記第1導電粒子若しくは前記第1半導体粒子が複数個集合した第1粒子集合体の最大幅が10μm以下であり、前記第1粒子集合体の間に隙間又は絶縁物が存在し、前記第1粒子集合体の間の距離が30nm以上3000nm以下であるキャパシタ型蓄電池。 - 更に、前記第1導電路及び前記第2導電路の外面上に連続した第2絶縁膜が設けられ、
前記第2絶縁膜の外面上に、複数個の第2導電粒子又は第2半導体粒子を含む第2粒子層と、第2導電膜又は第2半導体膜からなる第2基材と、をこの順に備え、
前記第2導電粒子若しくは前記第2半導体粒子が複数個集合した第2粒子集合体の最大幅が10μm以下であり、前記第2粒子集合体の間に隙間又は絶縁物が存在し、前記第2粒子集合体の間の距離が30nm以上3000nm以下である請求項2に記載のキャパシタ型蓄電池。 - 前記第2粒子集合体は、異なる大きさの粒子を含む請求項3に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第2粒子集合体の最大幅が、100nm未満である請求項3又は請求項4に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第2基材と第2粒子層を構成する第2導電粒子又は第2半導体粒子とが、異なる材質である請求項3〜請求項5のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第2基材の表面粗さRz(μm)が、1≦Rz≦10である請求項3〜請求項6のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第2導電膜及び第2導電粒子が、各々独立に、Fe、Al、Co、Cr、Ni、Ag、Mg、Cu、Sn、Au、Pt、Pd、In、Ti、Ta及びCからなる群より選択される少なくとも一つの元素、前記群より選択される少なくとも二種の元素で構成される合金若しくは共析物、又は前記群より選択される少なくとも一つの元素を含み更に周期律表の3族〜14族からなる群より選択される少なくとも一つの元素を含んで構成される合金若しくは共析物、を含有する請求項3〜請求項7のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第2半導体膜及び第2半導体粒子が、各々独立に、ニッケルナイトライド、アナターゼ構造のチタン酸化物、酸化錫混入の酸化インジウム、酸化錫、ジルコニウム酸化物、ガリウムナイトライド、アルミニウムナイトライド、シリコン及びカーボンからなる群より選択される少なくとも一種の化合物を含有する請求項3〜請求項8のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第1絶縁膜の同一面上に、複数列の前記第1導電路及び前記第2導電路を備える請求項2〜請求項9のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記複数列の第1導電路に接続する第1端子と、
前記複数列の第2導電路に接続する第2端子と、
を備え、
前記第1端子及び前記第2端子は、前記第1導電路及び前記第2導電路から離れるに従って幅が狭くなる部分を有しており、この部分において、前記第1導電路と同一方向に延伸する2辺は、互いになす角度が30°以下である請求項10に記載のキャパシタ型蓄電池。 - 前記第1粒子集合体は、異なる大きさの粒子を含む請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第1粒子集合体の最大幅が、100nm未満である請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第1基材と前記第1粒子層を構成する第1導電粒子又は第1半導体粒子とが、異なる材質である請求項1〜請求項13のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第1基材の表面粗さRz(μm)が、1≦Rz≦10である請求項1〜請求項14のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第1導電膜及び第1導電粒子が、各々独立に、Fe、Al、Co、Cr、Ni、Ag、Mg、Cu、Sn、Au、Pt、Pd、In、Ti、Ta及びCからなる群より選択される少なくとも一つの元素、前記群より選択される少なくとも二種の元素で構成される合金若しくは共析物、又は前記群より選択される少なくとも一つの元素を含み更に周期律表の3族〜14族からなる群より選択される少なくとも一つの元素を含んで構成される合金若しくは共析物、を含有する請求項1〜請求項15のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 前記第1半導体膜及び第1半導体粒子が、各々独立に、ニッケルナイトライド、アナターゼ構造のチタン酸化物、酸化錫混入の酸化インジウム、酸化錫、ジルコニウム酸化物、ガリウムナイトライド、アルミニウムナイトライド、シリコン及びカーボンからなる群より選択される少なくとも一種の化合物を含有する請求項1〜請求項16のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 常温で不純物準位から50%以上の励起電子が発生するよう、前記化合物にn型又はp型の遷移金属、希土類金属又は非磁性金属をドープしてなる請求項9又は請求項17に記載のキャパシタ型蓄電池。
- 第1導電膜又は第1半導体膜からなる第1基材の少なくとも一方の面上に、複数個の導電性又は半導性の第1粒子が存在し、
第1粒子が複数個集合した第1粒子集合体の最大幅が10μm以下であり、前記第1粒子集合体の間の距離が30nm以上3000nm以下であるキャパシタ型蓄電池用基板。 - 前記第1粒子集合体は、異なる大きさの粒子を含む請求項19に記載のキャパシタ型蓄電池用基板。
- 第1基材の少なくとも一方の面上に、複数個の第1粒子又は第1粒子集合体を有する請求項19又は請求項20のいずれか1項に記載のキャパシタ型蓄電池用基板と、
前記キャパシタ型蓄電池用基板の少なくとも一方の面上に絶縁膜と、を有し、
前記第1粒子又は前記第1粒子集合体の間に隙間又は絶縁物が存在するキャパシタ型蓄電池用蓄電層。
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