JP5879754B2 - Circuit board manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、回路基板の製造方法に関する。 The present invention relates to the production how the circuit board.

従来、基板上に回路や配線等の導電性パターンを形成する場合、基板上に金属薄膜を成膜してから、フォトエッチングなどによってパターニングを行い、不要部分の金属薄膜を除去することによって、導電性パターンを形成することが多い。
このような製造方法は工程数が多くなるため、近年では、基板上に金属箔シートを接着し、打ち抜き刃によって金属箔を打ち抜くことにより、導電性パターンを形成することも行われている。
例えば、特許文献1には、ICタグのアンテナパターンを形成するために、金属箔および接着層を有する金属箔シートと、基材とを重ね合わせ、加熱された打抜き刃を用いて金属箔シートの打抜きおよび仮止めを行い、不要な部分を吸引機等で除去して、アンテナとなる導電性パターンを形成する方法が記載されている。
Conventionally, when a conductive pattern such as a circuit or wiring is formed on a substrate, a metal thin film is formed on the substrate and then patterned by photoetching, etc., and unnecessary metal thin film is removed to remove the conductive film. In many cases, a sex pattern is formed.
Since such a manufacturing method requires many steps, in recent years, a conductive pattern is also formed by bonding a metal foil sheet on a substrate and punching the metal foil with a punching blade.
For example, in Patent Document 1, in order to form an antenna pattern of an IC tag, a metal foil sheet having a metal foil and an adhesive layer and a base material are overlapped and heated using a punching blade. A method is described in which punching and temporary fixing are performed, and unnecessary portions are removed with a suction machine or the like to form a conductive pattern serving as an antenna.

特開2007−76288号公報JP 2007-76288 A

しかしながら、上記のような金属箔シートを打ち抜いて導電性パターンを形成する方法、およびこれにより製造された導電性パターンを有する基板には以下のような問題があった。
特許文献1の図面には、接着剤層が完全に除去されているかのように記載されているが、金属箔シートを打ち抜いた後に不要部分の金属箔とその裏面側の接着剤層とを吸引機によって除去してこのような形状を形成するには、打ち抜き工程において金属箔シートとともに接着剤層も確実に切断しておく必要がある。このため、打ち抜き刃を接着剤層の下側の基板まで切り込まなくてはならない。この場合、基板表面に導電性パターンに沿って打ち抜き刃による鋭利な表面傷が残るため、外力を受けると基板が破損しやすくなり耐久性が悪化するという問題がある。基板が薄肉の樹脂シートの場合には、特に耐久性が悪化する。
したがって、実際には、打ち抜き刃によって基板を傷つかないように、打ち抜き刃を接着剤層内で止める必要があり、接着剤層を完全に切断することは困難である。このため、吸引される金属箔間の接着剤層とともに、導電性パターンを形成するために必要な金属箔までもいっしょに除去されるおそれがあるため、金属箔間の接着剤層を吸引によって完全に除去することも困難であった。
互いに隣接する金属箔間に接着剤層が残っていると、金属箔同士の間に基板上の接着剤層を通して微弱電流が流れるため、経時的に接着剤層の劣化が進み、いわゆるマイグレーションを起こして短絡を引き起しやすいため、耐久性や信頼性が低くなるという問題がある。
このため、例えば10年〜50年程度の長期間にわたって連続使用することが求められている太陽電池モジュールにおいて、太陽電池セル同士を電気的に接続する配線基板などの用途には用いることができないという問題がある。
However, the method for forming a conductive pattern by punching out the metal foil sheet as described above and the substrate having the conductive pattern manufactured thereby have the following problems.
In the drawing of Patent Document 1, it is described as if the adhesive layer has been completely removed, but after the metal foil sheet is punched out, the unnecessary portion of the metal foil and the adhesive layer on the back side thereof are sucked. In order to form such a shape by removing with a machine, it is necessary to cut the adhesive layer together with the metal foil sheet in the punching process. For this reason, it is necessary to cut the punching blade to the lower substrate of the adhesive layer. In this case, sharp surface scratches by the punching blade remain along the conductive pattern on the surface of the substrate, so that when the external force is applied, the substrate is easily damaged and the durability is deteriorated. When the substrate is a thin resin sheet, the durability is particularly deteriorated.
Therefore, in practice, it is necessary to stop the punching blade within the adhesive layer so that the substrate is not damaged by the punching blade, and it is difficult to completely cut the adhesive layer. For this reason, since the adhesive layer between the metal foils to be sucked and the metal foil necessary for forming the conductive pattern may be removed together, the adhesive layer between the metal foils is completely removed by suction. It was also difficult to remove.
If an adhesive layer remains between metal foils adjacent to each other, a weak current flows between the metal foils through the adhesive layer on the substrate, so that the deterioration of the adhesive layer progresses over time, causing so-called migration. Therefore, there is a problem that durability and reliability are lowered.
For this reason, for example, in a solar cell module that is required to be used continuously for a long period of about 10 to 50 years, it cannot be used for applications such as a wiring board that electrically connects solar cells. There's a problem.

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、金属箔を切断して複数の金属電極を形成する場合でも、容易に製造することができ、耐久性や信頼性に優れる回路基板の製造方法を提供することを目的とする The present invention has been made in view of the above problems, and even when a metal foil is cut to form a plurality of metal electrodes, the circuit can be easily manufactured and has excellent durability and reliability. and to provide a method for manufacturing a board.

上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明では、保持シート上に金属箔を保持した金属箔シートの前記金属箔を切断して、一部の金属箔を除去することにより、前記保持シート上に互いに隙間をあけた複数の金属電極を形成する金属電極形成工程と、該金属電極形成工程において形成された前記複数の金属電極の表面の全体に接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、前記接着剤層を基材に密着させて該基材に接着する基材接着工程と、前記保持シートを前記複数の金属電極の表面から剥離することにより、前記基材上に前記接着剤層および前記複数の金属電極を転写する金属電極転写工程と、を備え方法とする。 In order to solve the above problem, in the invention according to claim 1, by cutting the metal foil of the metal foil sheet holding the metal foil on the holding sheet, by removing a part of the metal foil, A metal electrode forming step for forming a plurality of metal electrodes spaced from each other on the holding sheet, and an adhesive for forming an adhesive layer on the entire surface of the plurality of metal electrodes formed in the metal electrode forming step A layer forming step, a base material adhering step for adhering the adhesive layer to the base material and adhering to the base material, and peeling the holding sheet from the surfaces of the plurality of metal electrodes to form the base material on the base material a metal electrode transfer step of transferring the adhesive layer and the plurality of metal electrodes, and a method of Ru with a.

請求項2に記載の発明では、請求項1に記載の回路基板の製造方法において、前記金属箔シートは、保持シートの表面に設けられた粘着層を介して前記金属箔を保持し、前記金属電極形成工程では、前記金属箔を打ち抜き刃による打ち抜きによって切断するとともに前記打ち抜き刃の押し下げに伴う変形により前記打ち抜き刃の側方における前記一部の金属箔と前記粘着層との間に隙間を有する剥離部を形成した後、前記一部の金属箔の除去を行う方法とする。 According to a second aspect of the present invention, in the method for manufacturing a circuit board according to the first aspect, the metal foil sheet holds the metal foil via an adhesive layer provided on a surface of a holding sheet, and the metal In the electrode forming step, the metal foil is cut by punching with a punching blade, and a gap is formed between the part of the metal foil and the adhesive layer on the side of the punching blade due to deformation accompanying the pressing of the punching blade. After forming the peeling part which has, it is set as the method of removing the said one part metal foil.

請求項3に記載の発明では、請求項2に記載の回路基板の製造方法において、前記打ち抜き刃の突出高さの寸法は、前記金属箔の厚さ寸法よりも大きく、かつ、前記金属箔の厚さ寸法と前記接着剤層の厚さ寸法との和よりも小さい方法とする。 According to a third aspect of the present invention, in the method for manufacturing a circuit board according to the second aspect, the dimension of the protruding height of the punching blade is larger than the thickness dimension of the metal foil, and The method is smaller than the sum of the thickness dimension and the thickness dimension of the adhesive layer .

本発明の回路基板の製造方法によれば、互いに隙間を隔てて形成された複数の接着剤層上にそれぞれ金属電極を形成するため隣接する金属電極間に連続する接着剤層が残らず、金属箔を切断して複数の金属電極を形成する場合でも、容易に製造することができ、耐久性や信頼性に優れるという効果を奏する According to the method for manufacturing a circuit board of the present invention, it does not remain adhesive layer continuous between adjacent metal electrodes to form respective metal electrodes on the plurality of adhesive layer formed at a clearance from one another, Even when the metal foil is cut to form a plurality of metal electrodes, the metal foil can be easily manufactured, and the durability and reliability are excellent .

本発明の実施形態の回路基板および太陽電池モジュールの構成を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the structure of the circuit board and solar cell module of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の回路基板の製造方法の工程フローを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process flow of the manufacturing method of the circuit board of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、金属箔シート形成工程、および金属電極形成工程を説明する模式的な断面図である。It is typical sectional drawing explaining the metal foil sheet | seat formation process and the metal electrode formation process in the manufacturing method of the circuit board of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、接着剤層形成工程を説明する模式的な断面図である。It is typical sectional drawing explaining the adhesive bond layer formation process in the manufacturing method of the circuit board of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、基材接着工程、および金属電極転写工程を説明する模式的な断面図である。It is typical sectional drawing explaining the base-material adhesion | attachment process and the metal electrode transfer process in the manufacturing method of the circuit board of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、金属電極形成工程の一例を説明する模式的な断面図である。It is typical sectional drawing explaining an example of the metal electrode formation process in the manufacturing method of the circuit board of embodiment of this invention. 図6に続く金属電極形成工程の一例を説明する模式的な断面図,およびこれにより製造された回路基板の構成を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing explaining an example of the metal electrode formation process following FIG. 6, and typical sectional drawing which shows the structure of the circuit board manufactured by this. 本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、金属電極形成工程の一例を実施するための装置構成例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the example of an apparatus structure for implementing an example of the metal electrode formation process in the manufacturing method of the circuit board of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の回路基板の変形例の構成を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the structure of the modification of the circuit board of embodiment of this invention.

以下では、本発明の実施形態の回路基板、その製造方法、および太陽電池モジュールについて添付図面を参照して説明する。
図1は、本発明の実施形態の回路基板および太陽電池モジュールの構成を示す模式的な断面図である。
Below, the circuit board of the embodiment of the present invention, its manufacturing method, and a solar cell module are explained with reference to an accompanying drawing.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing configurations of a circuit board and a solar cell module according to an embodiment of the present invention.

本実施形態の回路基板2は、表面に導電性パターンを形成した板状またはシート状の部材であって、図1に示すように、基材3、接着剤層4、および金属電極5を備える。
導電性パターンの例としては、電気・電子部品を半田付けするランド部、ランド部間を導通させる配線パターン、例えばアンテナやセンサ等として用いる回路パターンや電極パターン等のいずれか、またはこれらの2以上の組合せ等を挙げることができる。
回路基板2を用いる電気製品は特に限定されないが、長期の経時的な使用において高い耐久性、高い信頼性が求められる用途に特に好適である。以下では、このような高耐久性、高信頼性が求められる電気製品の一例として、太陽電池モジュール50に用いられる場合の例で説明する。
The circuit board 2 of the present embodiment is a plate-like or sheet-like member having a conductive pattern formed on the surface, and includes a base material 3, an adhesive layer 4, and a metal electrode 5, as shown in FIG. .
Examples of the conductive pattern include a land part for soldering an electric / electronic component, a wiring pattern for conducting between the land parts, for example, a circuit pattern or an electrode pattern used as an antenna or a sensor, or two or more of these. And the like.
The electrical product using the circuit board 2 is not particularly limited, but is particularly suitable for applications that require high durability and high reliability in long-term use over time. Below, the example in the case of being used for the solar cell module 50 is demonstrated as an example of such an electric product as which high durability and high reliability are calculated | required.

基材3は、電気絶縁性を有する板状またはシート状の部材である。
本実施形態では、一例として厚さ0.05mm〜0.2mmのポリエチレンテレフタレート製の樹脂シートを採用しており、良好な可撓性を有している。
The substrate 3 is a plate-like or sheet-like member having electrical insulation.
In this embodiment, as an example, a resin sheet made of polyethylene terephthalate having a thickness of 0.05 mm to 0.2 mm is employed, and it has good flexibility.

接着剤層4は、基材3上に金属電極5を固定するためのもので、基材3の基材表面3aに互いに隙間を隔てて複数形成されている。
接着剤層4の材質は、金属電極5の材質や使用温度、必要な接着強度に応じて適宜の材質を採用することができる。例えば、エポキシ接着剤、ウレタン接着剤、アクリル接着剤等を採用することができる。
本実施形態では、一例として、ウレタン系接着剤を採用している。
The adhesive layer 4 is for fixing the metal electrode 5 on the base material 3, and a plurality of adhesive layers 4 are formed on the base material surface 3 a of the base material 3 with a gap therebetween.
As the material of the adhesive layer 4, an appropriate material can be adopted according to the material of the metal electrode 5, the operating temperature, and the required adhesive strength. For example, an epoxy adhesive, a urethane adhesive, an acrylic adhesive, or the like can be employed.
In this embodiment, as an example, a urethane adhesive is employed.

金属電極5は、導電性パターンを形成する金属薄膜からなり、接着剤層4上にそれぞれ1つずつ形成されている。このため、金属電極5の個数は、接着剤層4の個数に応じて複数個が設けられている。
以下では、各金属電極5において、接着剤層4と密着された面を第1面5a、第1面5aと反対の面を第2面5bと称する。
本実施形態では、各金属電極5の平面視形状は、接着剤層4と同形状に形成されている。このため、図1に示すように、厚さ方向の断面では、接着剤層4と同幅で積層している。
金属電極5の材質は、電気伝導性が良好な適宜の金属材質を採用することができる。例えば、金属電極5の例としては、銅、アルミニウム、ニッケル、真鍮、金、銀、鉛などを挙げることができる。
The metal electrodes 5 are made of a metal thin film that forms a conductive pattern, and are formed on the adhesive layer 4 one by one. Therefore, a plurality of metal electrodes 5 are provided according to the number of adhesive layers 4.
Below, in each metal electrode 5, the surface closely adhered to the adhesive layer 4 is referred to as a first surface 5a, and the surface opposite to the first surface 5a is referred to as a second surface 5b.
In the present embodiment, the shape of each metal electrode 5 in plan view is the same as that of the adhesive layer 4. For this reason, as shown in FIG. 1, in the cross section of the thickness direction, it laminate | stacks with the adhesive layer 4 and the same width.
As the material of the metal electrode 5, an appropriate metal material having good electrical conductivity can be adopted. For example, examples of the metal electrode 5 include copper, aluminum, nickel, brass, gold, silver, lead and the like.

金属電極5の厚さは、必要な電気伝導性が得られれば適宜の厚さを採用することができる。ただし、金属電極5を、例えば、打ち抜き刃を有する金型を用いて金属箔から打ち抜いて形成する場合には、金型の型抜き性を考慮すると、金属電極5の厚さは5μm以上、1mm以下であることが望ましい。5μm未満では金属箔のハンドリングが困難となり、1mmを越えると型抜き自体が困難となる。さらに、金型の耐久性を考えると、金属箔の膜厚は200μm以下であることが望ましい。
本実施形態では、一例として、厚さ35μmの銅箔を切断したものを採用している。
An appropriate thickness can be adopted as the thickness of the metal electrode 5 as long as necessary electrical conductivity is obtained. However, when the metal electrode 5 is formed by punching from a metal foil using, for example, a die having a punching blade, the metal electrode 5 has a thickness of 5 μm or more and 1 mm in consideration of the die-cutting property of the die. The following is desirable. If it is less than 5 μm, handling of the metal foil is difficult, and if it exceeds 1 mm, it is difficult to perform die cutting. Furthermore, considering the durability of the mold, the thickness of the metal foil is desirably 200 μm or less.
In this embodiment, what cut | disconnected the 35-micrometer-thick copper foil is employ | adopted as an example.

次に、回路基板2を備える本実施形態の太陽電池モジュール50の概略構成について説明する。
太陽電池モジュール50は、内蔵された太陽電池セル7の電極の接続端子(図示略)が受光面と反対側に設けられた、いわゆるバックコンタクト方式の太陽電池モジュールである。バックコンタクト方式としては、例えば、貫通電極を用いた方式や、受光面電極を設けない方式等があるが、どの方式であってもよい。
太陽電池モジュール50の概略構成は、バックシート1、回路基板2、太陽電池セル7、およびガラスパネル9を備える。以下では、図1に示すように、バックシート1が図示下側、ガラスパネル9が図示上側に配置され、上側からガラスパネル9に入射した外光が太陽電池セル7に入射して電力に変換されるものとして説明する。
Next, a schematic configuration of the solar cell module 50 of the present embodiment including the circuit board 2 will be described.
The solar cell module 50 is a so-called back contact type solar cell module in which connection terminals (not shown) of electrodes of the built-in solar cells 7 are provided on the side opposite to the light receiving surface. Examples of the back contact method include a method using a through electrode and a method in which no light receiving surface electrode is provided, and any method may be used.
The schematic configuration of the solar cell module 50 includes a back sheet 1, a circuit board 2, solar cells 7, and a glass panel 9. In the following, as shown in FIG. 1, the back sheet 1 is arranged on the lower side in the drawing, and the glass panel 9 is arranged on the upper side in the drawing. It will be described as being done.

バックシート1は、回路基板2の基材3を、接着剤層4が設けられたのと反対側の表面で支持する支持部材であり、本実施形態では、太陽電池モジュール50の下面側の最外面を構成している。
これにより、回路基板2は、金属電極5をバックシート1と反対側の上側に向けて、バックシート1上に固定されている。
太陽電池セル7は、回路基板2における複数の金属電極5のうちのいくつかの上方に複数配置され、下側に向いた電極の接続端子(図示略)が、半田接合部6を介して回路基板2の複数の金属電極5の一部と電気的に接続されている。
回路基板2の金属電極5は、太陽電池モジュール50内の太陽電池セル7を互いに電気的に接続して、各太陽電池セル7の電力を太陽電池モジュール50に設けられた図示略の正負の出力端子から取り出せるようにパターン形成されている。
各太陽電池セル7の接続パターンは、必要に応じて直列接続および並列接続を適宜に組合せた接続パターンを採用することができる。
ガラスパネル9は、太陽電池セル7の上方に配置され、外光を太陽電池セル7に向けて透過させる部材であり、太陽電池モジュール50の上面側の最外面を構成している。
基材3の基材表面3aと、ガラスパネル9との間には、各太陽電池セル7を固定するとともに導体間同士を絶縁するため、光透過性の封止材8が充填されている。これにより、太陽電池モジュール50は、バックシート1とガラスパネル9とで挟まれた板状に構成されている。
封止材8の材質としては、例えば、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂(EVA樹脂)を採用することができる。
なお、図1は、断面の一部を描いており、太陽電池セル7は図示の水平方向および紙面奥行き方向に図示のパターンが反復した構成が配列されている。
また、太陽電池モジュール50の平面視の外形は、特に図示しないが、矩形状の外形を有する。
The backsheet 1 is a support member that supports the base material 3 of the circuit board 2 on the surface opposite to the side on which the adhesive layer 4 is provided. In this embodiment, the backsheet 1 is the outermost surface on the lower surface side of the solar cell module 50. It constitutes the outer surface.
Thereby, the circuit board 2 is fixed on the back sheet 1 with the metal electrode 5 facing the upper side opposite to the back sheet 1.
A plurality of solar cells 7 are arranged above some of the plurality of metal electrodes 5 on the circuit board 2, and connection terminals (not shown) of electrodes facing downward are connected via the solder joints 6. It is electrically connected to some of the plurality of metal electrodes 5 of the substrate 2.
The metal electrode 5 of the circuit board 2 electrically connects the solar cells 7 in the solar cell module 50 to each other, and outputs the electric power of each solar cell 7 to the solar cell module 50 (not shown). The pattern is formed so that it can be taken out from the terminal.
As the connection pattern of each solar battery cell 7, a connection pattern in which series connection and parallel connection are appropriately combined can be adopted as necessary.
The glass panel 9 is a member that is disposed above the solar battery cell 7 and transmits external light toward the solar battery cell 7, and constitutes the outermost surface on the upper surface side of the solar battery module 50.
Between the base material surface 3a of the base material 3 and the glass panel 9, in order to fix each photovoltaic cell 7 and to insulate between conductors, the light-transmitting sealing material 8 is filled. Thereby, the solar cell module 50 is configured in a plate shape sandwiched between the back sheet 1 and the glass panel 9.
As a material of the sealing material 8, for example, ethylene / vinyl acetate copolymer resin (EVA resin) can be employed.
FIG. 1 shows a part of a cross section, and the solar cell 7 has a configuration in which the illustrated pattern is repeated in the illustrated horizontal direction and the depth direction in the drawing.
Further, the outer shape of the solar cell module 50 in a plan view has a rectangular shape, although not particularly illustrated.

次に、このような構成の回路基板2の製造方法について説明する。
図2は、本発明の実施形態の回路基板の製造方法の工程フローを示すフローチャートである。図3(a)、(b)は、本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、金属箔シート形成工程、および金属電極形成工程を説明する模式的な断面図である。図4(a)、(b)は、本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、接着剤層形成工程を説明する模式的な断面図である。図5(a)、(b)は、本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、基材接着工程、および金属電極転写工程を説明する模式的な断面図である。
Next, a method for manufacturing the circuit board 2 having such a configuration will be described.
FIG. 2 is a flowchart showing a process flow of the circuit board manufacturing method according to the embodiment of the present invention. 3A and 3B are schematic cross-sectional views illustrating a metal foil sheet forming step and a metal electrode forming step in the method for manufacturing a circuit board according to the embodiment of the present invention. 4A and 4B are schematic cross-sectional views illustrating an adhesive layer forming step in the circuit board manufacturing method according to the embodiment of the present invention. FIGS. 5A and 5B are schematic cross-sectional views illustrating a base material bonding step and a metal electrode transfer step in the method for manufacturing a circuit board according to the embodiment of the present invention.

本実施形態の回路基板2の製造方法は、図2に示すように、金属箔シート形成工程S1、金属電極形成工程S2、接着剤層形成工程S3、基材接着工程S4、および金属電極転写工程S5をこの順に行う方法である。   As shown in FIG. 2, the manufacturing method of the circuit board 2 of the present embodiment includes a metal foil sheet forming step S1, a metal electrode forming step S2, an adhesive layer forming step S3, a base material bonding step S4, and a metal electrode transfer step. This is a method of performing S5 in this order.

まず、金属箔シート形成工程S1を行う。本工程は、保持シート上に金属箔を保持した金属箔シートを形成する工程である。
本実施形態では、図3(a)に示すように、金属箔シート14として、保持シート17、粘着層16、および金属箔層15(金属箔)がこの順に積層されたシート部材を形成する。
なお、金属箔シート14の配置姿勢は後述する各工程を支障なく実施できる適宜姿勢に配置することができる。ただし、説明の簡単のため、以下では、図3(a)に示すように、一例として、保持シート17が下側、金属箔層15が上側となる配置であるとして説明する。
First, metal foil sheet formation process S1 is performed. This step is a step of forming a metal foil sheet holding the metal foil on the holding sheet.
In this embodiment, as shown to Fig.3 (a), the sheet member by which the holding sheet 17, the adhesion layer 16, and the metal foil layer 15 (metal foil) were laminated | stacked in this order as the metal foil sheet 14 is formed.
In addition, the arrangement | positioning attitude | position of the metal foil sheet | seat 14 can be arrange | positioned in the suitable attitude | position which can implement each process mentioned later without trouble. However, for the sake of simplicity, the following description will be made assuming that the holding sheet 17 is on the lower side and the metal foil layer 15 is on the upper side, as shown in FIG.

金属箔層15は、切断によって金属電極5を形成するため、金属電極5と同厚さ、同材質の金属箔からなり、回路基板2の基材3上において、金属電極5が形成される範囲を覆うことができる大きさを有している。
本実施形態では、基材3と同幅に切断された、厚さt=35(μm)の銅箔からなる。
The metal foil layer 15 is formed of a metal foil of the same thickness and the same material as the metal electrode 5 in order to form the metal electrode 5 by cutting, and the range in which the metal electrode 5 is formed on the base material 3 of the circuit board 2 It has a size that can cover.
In this embodiment, the base material 3 is cut in the width, made of a copper foil having a thickness of t 1 = 35 (μm).

粘着層16は、保持シート17上に一様な厚さに形成され、金属箔層15の一方の表面に密着して、保持シート17上に金属箔層15を固定するものである。以下では、粘着層16に密着した金属箔層15の一方の表面を第2面15b、他方の表面を第1面15aと称する。
また、粘着層16の材質は、後述する接着剤層4と金属電極5との接着力よりも弱い力で金属箔層15と密着する材質とする。
なお、粘着層16と金属箔層15との間の密着力は、金属箔層15に表面処理を施すことにより調整することもできる。
The adhesive layer 16 is formed to have a uniform thickness on the holding sheet 17, is in close contact with one surface of the metal foil layer 15, and fixes the metal foil layer 15 on the holding sheet 17. Hereinafter, one surface of the metal foil layer 15 in close contact with the adhesive layer 16 is referred to as a second surface 15b, and the other surface is referred to as a first surface 15a.
The adhesive layer 16 is made of a material that adheres to the metal foil layer 15 with a force weaker than the adhesive force between the adhesive layer 4 and the metal electrode 5 described later.
The adhesion between the adhesive layer 16 and the metal foil layer 15 can also be adjusted by subjecting the metal foil layer 15 to a surface treatment.

保持シート17は、金属箔層15を切断して金属電極5の形状を形成し基材3に転写するまでの間、切断された際の複数の金属電極5の相対位置関係を保った状態で保持するシート部材である。
保持シート17は、適宜の樹脂シートを採用することができる。
The holding sheet 17 maintains the relative positional relationship of the plurality of metal electrodes 5 when being cut until the metal foil layer 15 is cut to form the shape of the metal electrode 5 and transferred to the substrate 3. It is the sheet | seat member to hold | maintain.
An appropriate resin sheet can be adopted as the holding sheet 17.

なお、金属箔層15を打ち抜いて切断する場合には、粘着層16と保持シート17との合計の厚さを、打ち抜き刃によって保持シート17を切断することなく金属箔層15を切断するハーフカット工法が可能な厚さとする。この場合、粘着層16と保持シート17との合計厚さは50μm以上であることが望ましい。合計厚さが50μmより薄いと、打ち抜き刃の刃先を保持シート17の厚さ方向の中間部で止めることが困難になる。
本実施形態では、一例として、粘着層16は、アクリルウレタン系粘着材を採用し、厚さt=7(μm)としている。また、保持シート17は、例えば、厚さt=50(μm)のポリエチレンテレフタレート樹脂のシート部材を採用している。
When the metal foil layer 15 is punched and cut, the total thickness of the adhesive layer 16 and the holding sheet 17 is half-cut to cut the metal foil layer 15 without cutting the holding sheet 17 with a punching blade. Use a thickness that allows the construction method. In this case, the total thickness of the adhesive layer 16 and the holding sheet 17 is desirably 50 μm or more. If the total thickness is less than 50 μm, it is difficult to stop the cutting edge of the punching blade at the intermediate portion in the thickness direction of the holding sheet 17.
In the present embodiment, as an example, the adhesive layer 16 employs an acrylic urethane-based adhesive material and has a thickness t 2 = 7 (μm). The holding sheet 17 employs, for example, a polyethylene terephthalate resin sheet member having a thickness t 3 = 50 (μm).

金属箔シート14は、周知の適宜工程によって製造することができる。
例えば、本実施形態では、ロール状に巻かれた保持シート17上に粘着層16を予め塗布した粘着シートに、金属箔層15を貼り合わせて製造している。このような製造工程としては、例えば、ロール・トゥ・ロールのラミネートプロセスを用いることができる。
以上で、金属箔シート形成工程S1が終了する。
The metal foil sheet 14 can be manufactured by a known appropriate process.
For example, in the present embodiment, the metal foil layer 15 is bonded to a pressure-sensitive adhesive sheet in which the pressure-sensitive adhesive layer 16 is previously applied onto the holding sheet 17 wound in a roll shape. As such a manufacturing process, for example, a roll-to-roll laminating process can be used.
Above, metal foil sheet formation process S1 is complete | finished.

ただし、金属箔シート14として好適な3層のシート部材製品が入手できる場合には、本工程は、この製品を必要な大きさに整形することによって金属箔シート14を形成する工程とすることができる。
また、シート部材製品のサイズが、所望の金属箔シート14のサイズに一致する場合には、整形する必要もないため、金属箔シート形成工程S1を省略し、シート部材製品そのものを金属箔シート14として用いることができる。
However, when a three-layer sheet member product suitable as the metal foil sheet 14 is available, this step may be a step of forming the metal foil sheet 14 by shaping the product into a necessary size. it can.
Further, when the size of the sheet member product matches the size of the desired metal foil sheet 14, it is not necessary to shape the sheet member, so the metal foil sheet forming step S <b> 1 is omitted, and the sheet member product itself is replaced with the metal foil sheet 14. Can be used as

次に、金属電極形成工程S2を行う。本工程は、金属箔シート14の金属箔層15を切断して、一部の金属箔を除去することにより、保持シート17上に互いに隙間をあけた複数の金属電極5を形成する工程である。
本工程は、例えば、図3(b)に示すように、回路基板2の金属電極5の外周面5dを形成する位置に合わせて、金属箔層15を厚さ方向に切断し、回路基板2の隣接する金属電極5間に対応する除去部金属箔18を粘着層16から剥離して、除去する。これにより、粘着層16上には、切断によって側方に外周面5dが形成された複数の金属電極5が、粘着層16と密着した状態で残存することになる。
このとき、本実施形態では粘着層16と金属箔層15との密着力が弱いため、除去部金属箔18が剥離した後の粘着層16は、剥離時に受ける力ではほとんど変形しない。このため、粘着層16の上面の高さ変化はほとんど発生しないため、剥離後の各第1面5aと粘着層16の上面との間には、金属電極5の厚さと略等しい段差が生じる。この結果、隣り合う金属電極5同士の各外周面5dの間には、図示水平方向の隙間が形成される。
ただし、粘着層16の上面は、第1面5aを超えて突出することなく、かつ後述する接着剤層形成工程S3の支障にならない範囲であれば、凹凸が形成されていてもよい。
Next, a metal electrode forming step S2 is performed. This step is a step of forming a plurality of metal electrodes 5 spaced apart from each other on the holding sheet 17 by cutting the metal foil layer 15 of the metal foil sheet 14 and removing some of the metal foil. .
In this step, for example, as shown in FIG. 3 (b), the metal foil layer 15 is cut in the thickness direction in accordance with the position where the outer peripheral surface 5d of the metal electrode 5 of the circuit board 2 is formed. The removal part metal foil 18 corresponding to between the adjacent metal electrodes 5 is peeled off from the adhesive layer 16 and removed. As a result, the plurality of metal electrodes 5 having the outer peripheral surfaces 5d formed on the sides by cutting remain on the adhesive layer 16 in close contact with the adhesive layer 16.
At this time, in this embodiment, since the adhesive force between the adhesive layer 16 and the metal foil layer 15 is weak, the adhesive layer 16 after the removal portion metal foil 18 peels is hardly deformed by the force received during peeling. For this reason, since the height change of the upper surface of the adhesion layer 16 hardly occurs, a step substantially equal to the thickness of the metal electrode 5 occurs between each first surface 5a after peeling and the upper surface of the adhesion layer 16. As a result, a gap in the illustrated horizontal direction is formed between the outer peripheral surfaces 5d of the adjacent metal electrodes 5.
However, the upper surface of the pressure-sensitive adhesive layer 16 may be uneven as long as it does not protrude beyond the first surface 5a and does not hinder the adhesive layer forming step S3 described later.

本工程に用いることができる金属箔層15の切断工法としては、金属箔層15を厚さ方向に確実に切断できれば、特に限定されない。例えば、打ち抜き刃を有する打ち抜き型を用いたプレスによる切断工法や、切断工具を金属箔層15上で移動する切断工法や、レーザ光照射による切断工法などを挙げることができる。このうち、プレスによる切断工法の例の詳細は後にまとめて説明する。
なお、図3(b)は模式図のため、外周面5dが、第1面15aに対して直交する方向に形成されているように描かれているが、切断工法によっては、適宜傾斜していてもよい。また、粘着層16は、何ら変形がないように描かれているが、保持シート17が破断することなく、かつ除去部金属箔18を除く金属電極5が粘着層16と接合している限りは、粘着層16に変形や損傷が生じていてもよい。
The cutting method of the metal foil layer 15 that can be used in this step is not particularly limited as long as the metal foil layer 15 can be reliably cut in the thickness direction. For example, a cutting method by a press using a punching die having a punching blade, a cutting method in which a cutting tool is moved on the metal foil layer 15, a cutting method by laser light irradiation, and the like can be given. Of these, details of examples of the cutting method using a press will be described later.
3B is a schematic diagram, and the outer peripheral surface 5d is drawn so as to be formed in a direction orthogonal to the first surface 15a. However, depending on the cutting method, the outer peripheral surface 5d is appropriately inclined. May be. Moreover, although the adhesion layer 16 is drawn so that there is no deformation, as long as the holding sheet 17 is not broken and the metal electrode 5 excluding the removal portion metal foil 18 is bonded to the adhesion layer 16. The adhesive layer 16 may be deformed or damaged.

また、本工程では、金属箔層15が金属電極5の形状に沿って確実に切断されており、粘着層16の粘着力は、後述する接着剤層4の金属電極5に対する接着力に比べて弱い。このため、除去部金属箔18の剥離工法は、適宜の剥離工法を採用することができる。
例えば、剥離治具などを用いた機械的な剥離、吸引機による吸引による剥離、圧縮空気の吹き付けによる剥離などを採用することができる。
Moreover, in this process, the metal foil layer 15 is cut | disconnected reliably along the shape of the metal electrode 5, and the adhesive force of the adhesion layer 16 is compared with the adhesive force with respect to the metal electrode 5 of the adhesive bond layer 4 mentioned later. weak. For this reason, the peeling method of the removal part metal foil 18 can employ | adopt an appropriate peeling method.
For example, mechanical peeling using a peeling jig or the like, peeling by suction with a suction machine, peeling by blowing compressed air, or the like can be employed.

次に、接着剤層形成工程S3を行う。本工程は、複数の金属電極5の表面である第1面5aに接着剤層4を形成する工程である。
まず、板状またはロール状の接着剤層保持体19(図4(a)参照)の表面に、接着剤層4を形成する接着剤を塗布する。
接着剤層保持体19の表面は、接着剤層4を形成する接着剤の材質に応じて、接着剤層4との密着力が、金属電極5と粘着層16との密着力よりも小さくなる表面加工を施しておく。
次に、図4(a)に示すように、接着剤層保持体19を第1面5aに向けて移動して、接着剤層4と第1面5aとを密着させる。
このとき、各金属電極5の間には水平方向の隙間があるため、隣接する金属電極5間には、粘着層16の上面、互いに対向する外周面5d、接着剤層4の表面によって囲まれた隙間Sが形成される。
Next, adhesive layer formation process S3 is performed. This step is a step of forming the adhesive layer 4 on the first surface 5 a that is the surface of the plurality of metal electrodes 5.
First, the adhesive agent which forms the adhesive bond layer 4 is apply | coated to the surface of the plate-shaped or roll-shaped adhesive bond layer holding body 19 (refer Fig.4 (a)).
Depending on the material of the adhesive forming the adhesive layer 4, the surface of the adhesive layer holding body 19 has an adhesive force with the adhesive layer 4 that is smaller than the adhesive force between the metal electrode 5 and the adhesive layer 16. Apply surface treatment.
Next, as shown in FIG. 4A, the adhesive layer holding body 19 is moved toward the first surface 5a to bring the adhesive layer 4 and the first surface 5a into close contact with each other.
At this time, since there is a horizontal gap between the metal electrodes 5, the adjacent metal electrodes 5 are surrounded by the upper surface of the adhesive layer 16, the outer peripheral surface 5 d facing each other, and the surface of the adhesive layer 4. A gap S is formed.

次に、図4(b)に示すように、接着剤層保持体19を金属電極5に対して離間する方向に相対移動させる。これにより、第1面5a上では、接着剤層4が接着剤層保持体19よりも第1面5aに強く密着しているため、接着剤層4が接着剤層保持体19に対して剥離する。一方、互いに隣接する金属電極5の間の接着剤層4は、隙間Sがあるため、接着剤層保持体19のみと密着している。このため、未転写接着剤層4Aとして接着剤層保持体19に密着したまま移動し、第1面5a上に密着する接着剤層4の部分から分離される。
この結果、各金属電極5の第1面5a上に、第1面5aの形状と同様の接着剤層4が残ることになる。これにより、本実施形態では、各金属電極5の切断形状に等しい接着剤層4が金属電極5と同数形成されることになる。
このようにして形成された保持シート17、粘着層16、各金属電極5、および各接着剤層4による積層体を、以下では中間積層体Mと称する。
以上で、接着剤層形成工程S3が終了する。
Next, as shown in FIG. 4B, the adhesive layer holder 19 is relatively moved in a direction away from the metal electrode 5. As a result, the adhesive layer 4 is more closely attached to the first surface 5 a than the adhesive layer holding body 19 on the first surface 5 a, so that the adhesive layer 4 is peeled from the adhesive layer holding body 19. To do. On the other hand, the adhesive layer 4 between the metal electrodes 5 adjacent to each other is in close contact with only the adhesive layer holding body 19 because there is a gap S. Therefore, the untransferred adhesive layer 4A moves while being in close contact with the adhesive layer holding body 19, and is separated from the portion of the adhesive layer 4 that is in close contact with the first surface 5a.
As a result, the adhesive layer 4 having the same shape as the first surface 5 a remains on the first surface 5 a of each metal electrode 5. Thereby, in this embodiment, the same number of adhesive layers 4 as the cut shape of each metal electrode 5 is formed with the metal electrode 5.
The laminate formed by the holding sheet 17, the pressure-sensitive adhesive layer 16, each metal electrode 5, and each adhesive layer 4 formed in this way is hereinafter referred to as an intermediate laminate M.
The adhesive layer forming step S3 is thus completed.

次に、基材接着工程S4を行う。本工程は、接着剤層4を基材3に密着させて基材3に接着する工程である。
例えば、図5(a)に示すように、中間積層体Mと基材3とを接着剤層4を挟んで対向させ、中間積層体Mを基材3に対して相対移動することにより、接着剤層4側から基材3上に密着させる。そして、接着剤層4と基材3との間に充分な接着力が発現するまで保持する。
これにより中間積層体Mの各接着剤層4が基材3に接着される。
このとき、中間積層体Mの隣接する金属電極5同士の間には隙間が形成されているため、金属電極5同士の間の粘着層16は、基材3に対して離間している。
以上で、基材接着工程S4が終了する。
Next, base material adhesion process S4 is performed. This step is a step of bringing the adhesive layer 4 into close contact with the substrate 3 and bonding it to the substrate 3.
For example, as shown in FIG. 5 (a), the intermediate laminate M and the base material 3 are opposed to each other with the adhesive layer 4 interposed therebetween, and the intermediate laminate M is moved relative to the base material 3 so as to adhere. It adheres on the base material 3 from the agent layer 4 side. And it hold | maintains until sufficient adhesive force expresses between the adhesive bond layer 4 and the base material 3. FIG.
Thereby, each adhesive layer 4 of the intermediate laminate M is bonded to the base material 3.
At this time, since a gap is formed between adjacent metal electrodes 5 of the intermediate laminate M, the adhesive layer 16 between the metal electrodes 5 is separated from the base material 3.
Above, base material adhesion process S4 is complete | finished.

次に、金属電極転写工程S5を行う。本工程は、保持シート17を各金属電極5から剥離することにより、基材3に各接着剤層4および各金属電極5を転写する工程である。
図5(b)に示すように、保持シート17を基材3に対して離間する方向に相対移動すると、第1面5aと金属電極5の接着力に比べて、第2面5bと粘着層16との密着力が弱いため、第2面5bから粘着層16が離間して、粘着層16とともに保持シート17が剥離される。
これにより中間積層体Mのうち、金属電極5および接着剤層4からなる積層部分が、基材3上に転写される。
以上で、金属電極転写工程S5が終了する。
このようにして、回路基板2が製造される。
Next, a metal electrode transfer step S5 is performed. This step is a step of transferring each adhesive layer 4 and each metal electrode 5 to the substrate 3 by peeling the holding sheet 17 from each metal electrode 5.
As shown in FIG. 5B, when the holding sheet 17 is relatively moved in the direction away from the base material 3, the second surface 5 b and the adhesive layer are compared with the adhesive force between the first surface 5 a and the metal electrode 5. Since the adhesive force with 16 is weak, the adhesive layer 16 is separated from the second surface 5 b, and the holding sheet 17 is peeled off together with the adhesive layer 16.
Thereby, the laminated part which consists of the metal electrode 5 and the adhesive bond layer 4 among the intermediate | middle laminated bodies M is transcribe | transferred on the base material 3. FIG.
Thus, the metal electrode transfer step S5 is completed.
In this way, the circuit board 2 is manufactured.

ここで、プレスによる切断工法を用いた場合の金属電極形成工程S2の例について詳細に説明する。
図6(a)、(b)は、本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、金属電極形成工程の一例を説明する模式的な断面図である。図7(a)、(b)は、図6(b)に続く金属電極形成工程の一例を説明する模式的な断面図である。図7(c)は、この金属電極形成工程を経て製造された回路基板の構成を示す模式的な断面図である。図8は、本発明の実施形態の回路基板の製造方法における、金属電極形成工程の一例を実施するための装置構成例を示す模式的な断面図である。
Here, the example of metal electrode formation process S2 at the time of using the cutting method by press is demonstrated in detail.
6A and 6B are schematic cross-sectional views illustrating an example of a metal electrode forming process in the method for manufacturing a circuit board according to the embodiment of the present invention. FIGS. 7A and 7B are schematic cross-sectional views for explaining an example of the metal electrode formation step subsequent to FIG. 6B. FIG.7 (c) is typical sectional drawing which shows the structure of the circuit board manufactured through this metal electrode formation process. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing an apparatus configuration example for carrying out an example of the metal electrode forming step in the circuit board manufacturing method of the embodiment of the present invention.

まず、本工程に用いる打ち抜き型30の構成について説明する。
打ち抜き型30は、図6(a)に示すように、型表面30a上に、打ち抜き刃30b、30cが複数突出して設けられている。
打ち抜き刃30bは、各金属電極5の外形に沿う形状に設けられている。例えば、図6(a)には、打ち抜き刃30bとして、図示左側から右側に向かって、打ち抜き刃30b、30b、30b、30bが設けられている。ここで、打ち抜き刃30b、30bは、幅wを有する1つの金属電極5B(図6(b)参照)の外周形状を打ち抜くものである。また、打ち抜き刃30b、30bは、それぞれ金属電極5Bに隣接する金属電極5C、5D(図6(b)参照)の外周形状を打ち抜くものである。
打ち抜き刃30cは、金属電極5の間の金属箔層15を細分して除去するために設けられている。例えば、図6(a)では、金属電極5C、5B間の幅wの金属箔層15を2等分して2つの除去部金属箔5Aを打ち抜く打ち抜き刃30cと、金属電極5B、5D間の幅wの金属箔層15を2等分して2つの除去部金属箔5Aを打ち抜く打ち抜き刃30cとが設けられている。
打ち抜き刃30cの設置間隔は、金属電極5同士の隙間の大きさに応じて適宜に設定することができる。
First, the structure of the punching die 30 used in this step will be described.
As shown in FIG. 6A, the punching die 30 is provided with a plurality of punching blades 30b and 30c on the die surface 30a.
The punching blade 30 b is provided in a shape along the outer shape of each metal electrode 5. For example, in FIG. 6A, punching blades 30b 2 , 30b 1 , 30b 1 , 30b 3 are provided as the punching blades 30b from the left side to the right side in the figure. Here, the punching blades 30b 1 and 30b 1 punch the outer peripheral shape of one metal electrode 5B (see FIG. 6B) having a width w 1 . The punching blades 30b 2 and 30b 3 punch the outer peripheral shapes of the metal electrodes 5C and 5D (see FIG. 6B) adjacent to the metal electrode 5B, respectively.
The punching blade 30c is provided to subdivide and remove the metal foil layer 15 between the metal electrodes 5. For example, in FIG. 6 (a), the the punching blade 30c 1 punching the metal electrodes 5C, the metal foil layer 15 having a width w 2 between 5B 2 equal portions two removal portions metallic foil 5A, the metal electrodes 5B, 5D a punching blade 30c 2 of the metal foil layer 15 having a width w 3 between 2 aliquoted and punching the two removal portions metallic foil 5A is provided.
The installation interval of the punching blades 30c can be appropriately set according to the size of the gap between the metal electrodes 5.

打ち抜き刃30b、30cは、型表面30aに平行に延びるとともに、長手方向に直交する平面による断面が、突出方向に細る二等辺三角形状に形成され、突出方向の先端に刃先Cが形成されている。刃先Cの角度αは、鋭角に形成することが望ましい。角度αを小さくするほど、切断時に金属箔層15に形成されるバリが小さくなるが、打ち抜き型30の耐久性が低下する。一般的には、角度αは40°から60°程度とすることが望ましい。
打ち抜き刃30b、30cの型表面30aから刃先Cの先端までの高さhは、金属箔層15の厚さtより大きく、第1面5aと型表面30aが密着しても厚さtの粘着層16を突き抜けない高さとする。すなわち、t<h<t+tとする。
さらに、高さhは、打ち抜き刃30b、30cによって、金属箔層15を打ち抜いた際、各刃先Cの側方における金属箔層15と粘着層16との間に密着性が失われる微小隙間からなる剥離部を形成することができる寸法に設定する。
剥離部が形成される範囲は、保持シート17の材質(硬度)や粘着層16の粘着力等の仕様、金属箔層15の材質や厚さ等の仕様、打ち抜き刃30b、30cの材質や形状等の仕様、および、打ち抜き時に刃先Cの先端が達する深さが決まると一義的に定まるものである。このため適切な剥離部の大きさを形成するための高さhは、予め実験などを行って決定しておく。
本実施形態では、予め実使用の材質を用いた実験によって、隣接する打ち抜き刃30b、30c間、隣接する打ち抜き刃30c、30c間で、除去部金属箔5Aの第2面5bから粘着層16が完全に剥離し、1つの金属電極5を形成する打ち抜き刃30b、30bの幅内で金属電極5と粘着層16との部分的な密着状態が保たれるように、条件出しを行うことで、高さhを設定している。
The punching blades 30b and 30c extend in parallel with the mold surface 30a, and a cross section formed by a plane orthogonal to the longitudinal direction is formed in an isosceles triangle shape that narrows in the protruding direction, and a cutting edge C is formed at the tip in the protruding direction. . The angle α of the cutting edge C is desirably formed at an acute angle. As the angle α is reduced, the burrs formed on the metal foil layer 15 at the time of cutting are reduced, but the durability of the punching die 30 is reduced. In general, the angle α is preferably about 40 ° to 60 °.
The height h of the punching blade 30b, from the mold surface 30a of 30c to the tip of the cutting edge C is greater than the thickness t 1 of the metal foil layer 15, the thickness even when the first surface 5a and the mold surface 30a is in close contact t 2 The height of the adhesive layer 16 is not penetrated. That is, t 1 <h <t 1 + t 2 .
Furthermore, when the metal foil layer 15 is punched by the punching blades 30b and 30c, the height h is from a minute gap at which the adhesiveness is lost between the metal foil layer 15 and the adhesive layer 16 on the side of each cutting edge C. The dimension which can form the peeling part which becomes is set.
The range in which the peeling portion is formed includes specifications such as the material (hardness) of the holding sheet 17 and the adhesive strength of the adhesive layer 16, specifications of the material and thickness of the metal foil layer 15, and the materials and shapes of the punching blades 30b and 30c. If the specifications such as the above and the depth that the tip of the cutting edge C reaches at the time of punching are determined, it is uniquely determined. For this reason, the height h for forming an appropriate size of the peeled portion is determined in advance through experiments and the like.
In the present embodiment, the adhesive layer 16 is formed from the second surface 5b of the removal portion metal foil 5A between the adjacent punching blades 30b and 30c and between the adjacent punching blades 30c and 30c by an experiment using an actually used material in advance. By setting the conditions so that the metal electrode 5 and the adhesive layer 16 are kept in partial contact within the width of the punching blades 30b, 30b that completely peel and form one metal electrode 5, The height h is set.

打ち抜き型30は、腐食金型、切削金型等を使用することができるが、これに限られることはない。打ち抜き型30を形成する材料には、プリハ−ドン鋼、焼入焼戻鋼、析出硬化鋼、タングステン・カーバイドとコバルトとの合金、その他の超硬度合金等を使用することができるが、これらに限られることはない。   The punching die 30 can be a corrosion die, a cutting die or the like, but is not limited thereto. Pre-hardened steel, quenching and tempering steel, precipitation hardened steel, alloys of tungsten carbide and cobalt, other superhard alloys, etc. can be used as the material for forming the punching die 30. There is no limit.

打ち抜き型30を用いて、金属電極形成工程S2を行うには、図6(a)に示すように、金属箔シート14の金属箔層15上で、打ち抜き型30を位置合わせする。
次に、打ち抜き型30によって金属箔シート14をプレスする。
これにより、図6(b)に示すように、各打ち抜き刃30b、30cが、金属箔層15を貫通し、型表面30aと第1面15aが密着する。このとき、各刃先Cは、金属箔層15を切断しつつ、刃先Cの先端が粘着層16内に到達する。
金属箔層15は打ち抜き刃30b、30cの側面形状に沿って塑性変形して、打ち抜き刃30b、30cの外形が転写されたV字溝形状が形成される。
刃先Cの先端では、応力が集中するため、金属箔層15が打ち抜き刃30b、30cの長手方向に沿って切断される。このため、金属箔層15は、金属電極5、除去部金属箔5Aに切断された状態になる。
In order to perform the metal electrode forming step S2 using the punching die 30, the punching die 30 is aligned on the metal foil layer 15 of the metal foil sheet 14, as shown in FIG.
Next, the metal foil sheet 14 is pressed by the punching die 30.
Thereby, as shown in FIG.6 (b), each punching blade 30b and 30c penetrates the metal foil layer 15, and the die | dye surface 30a and the 1st surface 15a contact | adhere. At this time, each blade edge C cuts the metal foil layer 15 and the tip of the blade edge C reaches the adhesive layer 16.
The metal foil layer 15 is plastically deformed along the side surface shape of the punching blades 30b and 30c to form a V-shaped groove shape to which the outer shape of the punching blades 30b and 30c is transferred.
Since stress concentrates at the tip of the cutting edge C, the metal foil layer 15 is cut along the longitudinal direction of the punching blades 30b and 30c. For this reason, the metal foil layer 15 will be in the state cut | disconnected by the metal electrode 5 and the removal part metal foil 5A.

金属電極5、除去部金属箔5Aの第2面5b側には、塑性変形により、粘着層16側に向かって突出する突出部5cが形成される。
これにより、突出部5cの周辺の第2面5bが湾曲し、これと刃先Cの先端によって粘着層16が保持シート17側に押し下げられて湾曲することとが相俟って、第2面5bと粘着層16の上面との間が離間し、微小隙間からなる剥離部31、32が形成される。
On the second surface 5b side of the metal electrode 5 and the removal portion metal foil 5A, a protruding portion 5c protruding toward the adhesive layer 16 side is formed by plastic deformation.
Thereby, the second surface 5b around the protruding portion 5c is curved, and the second surface 5b is combined with this and the adhesive layer 16 being pushed down toward the holding sheet 17 by the tip of the blade edge C and curved. And the upper surface of the pressure-sensitive adhesive layer 16 are separated from each other, and peeling portions 31 and 32 each including a minute gap are formed.

ここで、剥離部31は、打ち抜き刃30bの側方から打ち抜き型30が当接する金属電極5側に向かって形成されるもので、打ち抜き刃30bの中心から側方に幅Rの範囲に形成される。特に図示しないが、図示奥行き方向では、刃先Cに沿う各所で同様な形状に形成される。
幅Rは、各金属電極5の最小幅の半分よりも狭いため、各金属電極5の第2面5bには、粘着層16との密着部分が残っている。
また、剥離部32は、互いに隣接する打ち抜き刃30b、30cの間、または、互いに隣接する打ち抜き刃30c同士の間に形成されるもので、除去部金属箔5Aの第2面5b側に形成される。本実施形態では、互いに隣接する打ち抜き刃30b、30cの間、または、互いに隣接する打ち抜き刃30c同士の間の幅を、最大でも幅Rの2倍程度に設定することによって、剥離部32は、除去部金属箔5Aの第2面5bの全体にわたって形成されている。これにより、除去部金属箔5Aの第2面5bでは、除去部金属箔5Aと粘着層16との密着部分を消失させることができる。
Here, the peeling portion 31 is formed from the side of the punching blade 30b toward the metal electrode 5 with which the punching die 30 contacts, and is formed in a range of a width R from the center of the punching blade 30b to the side. The Although not particularly illustrated, in the illustrated depth direction, a similar shape is formed at various locations along the cutting edge C.
Since the width R is narrower than half of the minimum width of each metal electrode 5, a close contact portion with the adhesive layer 16 remains on the second surface 5 b of each metal electrode 5.
Moreover, the peeling part 32 is formed between the punching blades 30b and 30c adjacent to each other or between the punching blades 30c adjacent to each other, and is formed on the second surface 5b side of the removing portion metal foil 5A. The In the present embodiment, by setting the width between the adjacent punching blades 30b, 30c or between the adjacent punching blades 30c to be at most about twice the width R, the peeling portion 32 is It is formed over the entire second surface 5b of the removal portion metal foil 5A. Thereby, in the 2nd surface 5b of 5 A of removal part metal foil, the contact | adherence part of 5 A of removal part metal foil and the adhesion layer 16 can be lose | disappeared.

次に、打ち抜き型30をプレス方向と逆方向、すなわち保持シート17から離間する方向に退避させる。これにより、図7(a)に示すように、金属箔層15が切断されて、金属電極5、除去部金属箔5Aが形成された3層構成の打ち抜き済シート33が形成される。このとき、打ち抜き型30によるハーフカット工法では、保持シート17が切断されることはないため、打ち抜き済シート33の平面視の大きさは、保持シート17と同じである。
次に、図7(b)に示すように、打ち抜き済シート33から、除去部金属箔5Aを除去して、不要金属箔除去済シート34を形成する。
打ち抜き済シート33において、各除去部金属箔5Aは、粘着層16から剥離されているため、上記に説明したいずれの剥離工法によっても、より容易に剥離させることができる。
不要金属箔除去済シート34は、上記のようなプレス加工によって形成されるため、外周面5dは、打ち抜き刃30bの側面の傾斜に応じて、第1面5aから第2面5bに向かって外方に傾斜しており、角度α/2のテーパ面になっている。
以上で、プレスによる切断工法を用いた場合の金属電極形成工程S2が終了する。
Next, the punching die 30 is retracted in the direction opposite to the pressing direction, that is, in the direction away from the holding sheet 17. Thereby, as shown in FIG. 7A, the metal foil layer 15 is cut to form a punched sheet 33 having a three-layer structure in which the metal electrode 5 and the removal portion metal foil 5A are formed. At this time, since the holding sheet 17 is not cut by the half-cut method using the punching die 30, the size of the punched sheet 33 in plan view is the same as that of the holding sheet 17.
Next, as shown in FIG. 7B, the removed portion metal foil 5 </ b> A is removed from the punched sheet 33 to form an unnecessary metal foil removed sheet 34.
In the punched sheet 33, each removed portion metal foil 5A is peeled off from the adhesive layer 16, and therefore can be peeled off more easily by any of the peeling methods described above.
Since the unnecessary metal foil-removed sheet 34 is formed by pressing as described above, the outer peripheral surface 5d is exposed from the first surface 5a toward the second surface 5b according to the inclination of the side surface of the punching blade 30b. It is inclined in the direction of a taper surface having an angle α / 2.
Thus, the metal electrode forming step S2 in the case where the cutting method using a press is used is completed.

次に、この不要金属箔除去済シート34を用いて、上記と同様に、接着剤層形成工程S3、基材接着工程S4、金属電極転写工程S5を行う。
これにより、図7(c)に示す断面形状を有する回路基板2が製造される。すなわち、接着剤層形成工程S3によって各第1面5aに接着剤層4が形成され、これにより、図4(b)と同様の層構成を有する中間積層体M(図示略)が形成される。次に、基材接着工程S4によってこの中間積層体Mが基材3と接着する。これにより上記の不要金属箔除去済シート34が接着剤層4を介して基材3と接着される。
次に、金属電極転写工程S5によって、中間積層体Mから、保持シート17を剥離する。これにより保持シート17とともに粘着層16が各第2面5bから剥離され、図7(c)に示すような断面形状を有する回路基板2が形成される。
Next, using this unnecessary metal foil removed sheet 34, the adhesive layer forming step S3, the base material adhering step S4, and the metal electrode transfer step S5 are performed in the same manner as described above.
Thereby, the circuit board 2 having the cross-sectional shape shown in FIG. That is, the adhesive layer 4 is formed on each first surface 5a by the adhesive layer forming step S3, thereby forming an intermediate laminate M (not shown) having the same layer configuration as that in FIG. 4B. . Next, the intermediate laminate M is bonded to the substrate 3 by the substrate bonding step S4. Thereby, the above-described unnecessary metal foil removed sheet 34 is bonded to the base material 3 through the adhesive layer 4.
Next, the holding sheet 17 is peeled from the intermediate laminate M by the metal electrode transfer step S5. Thereby, the adhesive layer 16 is peeled from each second surface 5b together with the holding sheet 17, and the circuit board 2 having a cross-sectional shape as shown in FIG. 7C is formed.

図7(c)に示す回路基板2は、プレスによる切断工法を用いた金属電極形成工程S2を行うことにより、各外周面5d第1面5aから第2面5bに向かうにつれて外方に角度α/2だけ傾斜している。また、各第2面5bの外縁部には、基材3と反対側方向に向かって第2面5bから突出する突出部5cが形成されている。 The circuit board 2 shown in FIG. 7C is subjected to a metal electrode forming step S2 using a press cutting method so that each outer peripheral surface 5d is angled outwardly from the first surface 5a toward the second surface 5b. Inclined by α / 2. Moreover, the protrusion part 5c which protrudes from the 2nd surface 5b toward the opposite side direction to the base material 3 is formed in the outer edge part of each 2nd surface 5b.

このようなプレスによる切断工法を用いた金属電極形成工程S2および接着剤層形成工程S3は、図8に示す加工装置48を用いて、連続的に行うことができる。
加工装置48は、金属箔シート14を図示左側から右側に搬送しつつ、搬送方向の上流側から下流側に順次配置された型抜きローラ40、圧縮空気吹き付け部42、塗布ローラ46の作用により、打ち抜き済シート33、不要金属箔除去済シート34、中間積層体Mを、順次形成していくものである。
型抜きローラ40は、外周面に打ち抜き型30が設けられており、押圧ローラ41と対向して回転可能に支持されている。このため、型抜きローラ40側に金属箔層15、押圧ローラ41側に保持シート17を向けた金属箔シート14を、型抜きローラ40および押圧ローラ41の間に挿通して、型抜きローラ40を回転すると、打ち抜き型30の打ち抜きが連続的に行われる。これにより金属箔シート14から打ち抜き済シート33を形成される。
本例では、保持シート17が上向き、金属箔層15が下向きとなる状態で、金属箔シート14を搬送している。このため、金属箔シート14を挟んで、型抜きローラ40が下側、押圧ローラ41が上側に配置されている。
The metal electrode forming step S2 and the adhesive layer forming step S3 using such a press cutting method can be performed continuously using the processing device 48 shown in FIG.
The processing device 48 conveys the metal foil sheet 14 from the left side to the right side in the figure, and by the action of the die-cutting roller 40, the compressed air blowing portion 42, and the application roller 46 that are sequentially arranged from the upstream side to the downstream side in the conveyance direction. The punched sheet 33, the unnecessary metal foil removed sheet 34, and the intermediate laminate M are sequentially formed.
The punching roller 40 is provided with a punching die 30 on the outer peripheral surface, and is rotatably supported facing the pressing roller 41. For this reason, the metal foil layer 14 with the metal foil layer 15 facing the mold release roller 40 and the holding sheet 17 facing the pressure roller 41 is inserted between the mold release roller 40 and the pressure roller 41, and the mold release roller 40 is inserted. Is rotated, the punching die 30 is continuously punched. Thereby, the punched sheet 33 is formed from the metal foil sheet 14.
In this example, the metal foil sheet 14 is conveyed with the holding sheet 17 facing upward and the metal foil layer 15 facing downward. For this reason, with the metal foil sheet 14 interposed therebetween, the die removing roller 40 is disposed on the lower side and the pressing roller 41 is disposed on the upper side.

圧縮空気吹き付け部42は、型抜きローラ40を通って搬送された打ち抜き済シート33上の除去部金属箔5Aに圧縮空気を吹き付けて、除去金属箔部5Aを粘着層16から剥離するもので、型抜きローラ40の下流側において、打ち抜き済シート33の金属電極5、除去金属箔部5Aが形成された方の表面の近傍に配置されている。
打ち抜き済シート33の下方、かつ型抜きローラ40と圧縮空気吹き付け部42の間において、圧縮空気吹き付け部42の近傍には、打ち抜き済シート33から剥離した除去部金属箔5Aを回収する除去部金属箔回収容器44が配置されている。
また、圧縮空気吹き付け部42の配置位置と打ち抜き済シート33を挟んで対向する位置には、圧縮空気吹き付け部42の吹き付け時に打ち抜き済シート33を保持シート17側から支える裏面保持ステージ43が設けられている。
圧縮空気吹き付け部42によって除去部金属箔5Aが剥離、除去される。除去金属箔部5Aは、除去金属箔回収容器44内に落下して回収される。これにより、打ち抜き済シート33は、不要金属箔除去済シート34となり、塗布ローラ46に向けて搬送される。
The compressed air blowing part 42 blows compressed air on the removed metal foil 5A on the punched sheet 33 conveyed through the die-cutting roller 40 to peel the removed metal foil part 5A from the adhesive layer 16. On the downstream side of the punching roller 40, the punched sheet 33 is disposed in the vicinity of the surface on which the metal electrode 5 and the removed metal foil portion 5A are formed.
Below the punched sheet 33 and between the die-cutting roller 40 and the compressed air blowing part 42, in the vicinity of the compressed air blowing part 42, a removing part metal that collects the removed metal foil 5A peeled off from the punched sheet 33. A foil collection container 44 is arranged.
Further, a back surface holding stage 43 that supports the punched sheet 33 from the holding sheet 17 side when the compressed air spraying part 42 is sprayed is provided at a position facing the arrangement position of the compressed air spraying part 42 across the punched sheet 33. ing.
The removal portion metal foil 5 </ b> A is peeled off and removed by the compressed air blowing portion 42. The removed metal foil portion 5A falls into the removed metal foil collection container 44 and is collected. Thereby, the punched sheet 33 becomes an unnecessary metal foil removed sheet 34 and is conveyed toward the application roller 46.

塗布ローラ46は、搬送される不要金属箔除去済シート34の第2面5bに接着剤層4を形成する接着剤49を供給する回転ローラであり、接着剤49が貯留された接着剤貯留部45にローラ下部が浸漬されている。
塗布ローラ46の上側には、不要金属箔除去済シート34の保持シート17を回転搬送する搬送ローラ47が対向して配置されている。
このため、塗布ローラ46と搬送ローラ47との間に不要金属箔除去済シート34が挿通されると、各金属電極5の第2面5b上に接着剤49が塗布され、接着剤層4が形成された中間積層体Mが形成される。
The application roller 46 is a rotating roller that supplies an adhesive 49 that forms the adhesive layer 4 on the second surface 5b of the sheet 34 with the unnecessary metal foil removed, and an adhesive storage section in which the adhesive 49 is stored. The lower part of the roller is immersed in 45.
A conveying roller 47 that rotates and conveys the holding sheet 17 of the unnecessary metal foil-removed sheet 34 is disposed on the upper side of the application roller 46 so as to be opposed thereto.
Therefore, when the unnecessary metal foil removed sheet 34 is inserted between the application roller 46 and the conveyance roller 47, the adhesive 49 is applied on the second surface 5b of each metal electrode 5, and the adhesive layer 4 is formed. The formed intermediate laminate M is formed.

加工装置48によれば、金属箔シート14を搬送する間に、金属箔の切断、除去部金属箔5Aの剥離、除去、および回収、接着剤49の塗布による接着剤層4の形成を順次連続的に行うことができるため、本実施形態の回路基板の製造方法の金属電極形成工程S2および接着剤層形成工程S3を効率的かつ迅速に行うことができる。   According to the processing device 48, while the metal foil sheet 14 is being conveyed, the formation of the adhesive layer 4 is successively performed by cutting the metal foil, peeling off, removing and recovering the removal portion metal foil 5 </ b> A, and applying the adhesive 49. Therefore, the metal electrode forming step S2 and the adhesive layer forming step S3 of the circuit board manufacturing method of the present embodiment can be performed efficiently and quickly.

以上に説明したように、本実施形態の回路基板2は、互いに隙間を隔てて形成された複数の接着剤層4上にそれぞれ金属電極5を形成するため、隣接する金属電極5間に連続する接着剤層4が残らず、金属箔を切断して複数の金属電極5を形成する場合でも、容易に製造することができる。
また、このような回路基板2は、打ち抜き工法を用いても、基材3が傷つくことがないため、回路基板2の機械的な耐久性に優れる。
また、このような回路基板2は、隣接する金属電極5を基材3に接合している接着剤層4は互いに離間しているため、隣接する金属電極5同士の間で、接着剤層4を通じて微弱電流が流れることもなく、これによる接着剤層4の劣化、いわゆるマイグレーションが進んで短絡を起こすおそれもない。この結果、長期間使用しても、電気的な耐久性、信頼性に優れる。
このように、本実施形態の回路基板2は、マイグレーションの原因となる隣接する金属電極5間に連続する接着剤層4を有しないため、例えば、10年〜50年のような長期にわたって、太陽光が照射され続ける屋外環境で使用される、太陽電池モジュール等の高耐久性、高信頼性を要求される電気製品に特に好適である。
As described above, the circuit board 2 according to the present embodiment is formed between the adjacent metal electrodes 5 because the metal electrodes 5 are formed on the plurality of adhesive layers 4 formed with a gap therebetween. Even when the adhesive layer 4 is not left and the plurality of metal electrodes 5 are formed by cutting the metal foil, it can be easily manufactured.
Further, such a circuit board 2 is excellent in mechanical durability of the circuit board 2 because the base material 3 is not damaged even if a punching method is used.
Further, in such a circuit board 2, since the adhesive layers 4 that join the adjacent metal electrodes 5 to the base material 3 are separated from each other, the adhesive layer 4 is interposed between the adjacent metal electrodes 5. No weak current flows therethrough, and there is no possibility of causing a short circuit due to the deterioration of the adhesive layer 4 due to this, so-called migration. As a result, even if it is used for a long time, it is excellent in electrical durability and reliability.
Thus, since the circuit board 2 of this embodiment does not have the adhesive layer 4 which continues between the adjacent metal electrodes 5 which cause migration, for example, for a long period of time such as 10 to 50 years, It is particularly suitable for an electric product that requires high durability and high reliability, such as a solar cell module, used in an outdoor environment where light is continuously irradiated.

また、本実施形態の回路基板2およびその製造方法によれば、離間した接着剤層4の間の基材3上には接着剤層4を形成しない。このため、基材3の全面に接着剤層4を形成する場合に比べて、接着剤層4を形成するための接着剤の使用量を低減することができ、製造コストを低減することができる。
また、全面に接着剤層4を形成した後に除去加工を行う場合に比べると、接着剤の使用量の他に、接着剤層4の除去加工を省略することができるため、さらに製造コストを低減することができる。
Moreover, according to the circuit board 2 of this embodiment and its manufacturing method, the adhesive layer 4 is not formed on the base material 3 between the spaced apart adhesive layers 4. For this reason, compared with the case where the adhesive bond layer 4 is formed in the whole surface of the base material 3, the usage-amount of the adhesive agent for forming the adhesive bond layer 4 can be reduced, and manufacturing cost can be reduced. .
Further, compared to the case where the removal process is performed after the adhesive layer 4 is formed on the entire surface, in addition to the amount of adhesive used, the removal process of the adhesive layer 4 can be omitted, thereby further reducing the manufacturing cost. can do.

また、本実施形態の太陽電池モジュール50によれば、回路基板2を用いるため、耐久性や信頼性に優れる。   Moreover, according to the solar cell module 50 of this embodiment, since the circuit board 2 is used, it is excellent in durability and reliability.

[変形例]
次に、本実施形態の変形例の回路基板について説明する。
図9は、本発明の実施形態の回路基板の変形例の構成を示す模式的な断面図である。
[Modification]
Next, a circuit board according to a modification of this embodiment will be described.
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a modified example of the circuit board according to the embodiment of the present invention.

本変形例の回路基板2Aは、図9に示すように、上記実施形態の回路基板2の接着剤層4に代えて、接着剤層4Bを備える。以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。
接着剤層4Bは、接着剤層外周面4dが、各金属電極5において、外周面5dよりも外方に位置する点が、接着剤層4と異なる。
このため、接着剤層4Bは、回路基板2Aを第2面5b側から見たときに、各金属電極5の側方に飛び出している。ただし、隣接する接着剤層4B同士の各接着剤層外周面4dとの間は離間されている。
なお、図9には、すべての金属電極5が、接着剤層4Bに積層されている場合の例を示したが、回路基板2Aは、接着剤層4と金属電極5が積層した部分を有していてもよい。
As shown in FIG. 9, the circuit board 2 </ b> A of this modification includes an adhesive layer 4 </ b> B instead of the adhesive layer 4 of the circuit board 2 of the above embodiment. Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the above embodiment.
The adhesive layer 4B is different from the adhesive layer 4 in that the adhesive layer outer peripheral surface 4d is located on the outer side of the outer peripheral surface 5d in each metal electrode 5.
For this reason, the adhesive layer 4B protrudes to the side of each metal electrode 5 when the circuit board 2A is viewed from the second surface 5b side. However, the adhesive layer outer peripheral surfaces 4d of the adjacent adhesive layers 4B are separated from each other.
Although FIG. 9 shows an example in which all the metal electrodes 5 are laminated on the adhesive layer 4B, the circuit board 2A has a portion where the adhesive layer 4 and the metal electrodes 5 are laminated. You may do it.

次に、本変形例の回路基板2Aの製造方法の一例について説明する。
まず、上記実施形態と同様にして、図3(b)に示す、粘着層16上に複数の金属電極5を離間して配置した金属電極積層体を形成する(金属電極積層体形成工程)。なお、この金属電極積層体は、プレス加工で形成してもよく、この場合、上記実施形態の不要金属箔除去済シート34が金属電極積層体となる。
次に、基材3上に予め接着剤層4Bをパターニングした接着剤層積層体を形成する(接着剤層積層形成工程)。
パターニング手段は、特に限定されない。例えば、接着剤吐出手段から接着剤を吐出しつつ、接着剤吐出手段と基材3とを相対移動させることにより、接着剤層4Bのパターンを描画する、といったパターニング手段を採用することができる。
ただし、これらの形成工程は、順序を入れ替えてもよいし、並行して行ってもよい。
Next, an example of a manufacturing method of the circuit board 2A according to this modification will be described.
First, in the same manner as in the above embodiment, a metal electrode laminated body in which a plurality of metal electrodes 5 are arranged separately on the adhesive layer 16 shown in FIG. 3B is formed (metal electrode laminated body forming step). In addition, this metal electrode laminated body may be formed by press work, and in this case, the unnecessary metal foil removed sheet 34 of the above embodiment becomes the metal electrode laminated body.
Next, the adhesive layer laminated body which patterned the adhesive layer 4B previously on the base material 3 is formed (adhesive layer laminated | stacking formation process).
The patterning means is not particularly limited. For example, a patterning unit that draws a pattern of the adhesive layer 4B by relatively moving the adhesive discharge unit and the substrate 3 while discharging the adhesive from the adhesive discharge unit can be employed.
However, the order of these forming steps may be changed or performed in parallel.

次に、金属電極積層体と接着剤層積層体とを位置合わせして、金属電極5の第1面5aと、接着剤層4Bとを密着し、接着強度が発現するのを待つ(積層体接着工程)。接着強度が発現したら、保持シート17を粘着層16ともに剥離する(保持シート剥離工程)。
このようにして、回路基板2Aが製造される。
Next, the metal electrode laminate and the adhesive layer laminate are aligned, the first surface 5a of the metal electrode 5 and the adhesive layer 4B are brought into close contact with each other, and the adhesive strength is awaited (laminate). Adhesion process). When the adhesive strength is developed, the holding sheet 17 is peeled off together with the adhesive layer 16 (holding sheet peeling step).
In this way, the circuit board 2A is manufactured.

なお、上記実施形態に説明したすべての構成要素は、本発明の技術的思想の範囲で適宜組み合わせを代えたり、削除したりして実施することができる。   It should be noted that all the constituent elements described in the above embodiments can be implemented by appropriately changing or deleting combinations within the scope of the technical idea of the present invention.

1 バックシート
2、2A 回路基板
3 基材
3a 基材表面
4、4B 接着剤層
4d 接着剤層外周面
5、5B、5C、5D 金属電極
5A 除去部金属箔
5c 突出部
5d 外周面
7 太陽電池セル
14 金属箔シート
15 金属箔層(金属箔)
16 粘着層
17 保持シート
19 接着剤層保持体
30 打ち抜き型
30a 型表面
30b、30b、30b、30b、30c、30c、30c 打ち抜き刃
31、32 剥離部
33 打ち抜き済シート
34 不要金属箔除去済シート
40 型抜きローラ
42 圧縮空気吹き付け部
46 塗布ローラ
48 加工装置
49 接着剤
50 太陽電池モジュール
C 刃先
M 中間積層体
S1 金属箔シート形成工程
S2 金属電極形成工程
S3 接着剤層形成工程
S4 基材接着工程
S5 金属電極転写工程
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Back sheet 2, 2A Circuit board 3 Base material 3a Base material surface 4, 4B Adhesive layer 4d Adhesive layer outer peripheral surface 5, 5B, 5C, 5D Metal electrode 5A Removal part Metal foil 5c Protrusion part 5d Outer peripheral surface 7 Solar cell Cell 14 Metal foil sheet 15 Metal foil layer (metal foil)
16 adhesive layer 17 holds the sheet 19 the adhesive layer holding member 30 cutting die 30a-type surface 30b, 30b 1, 30b 2, 30b 3, 30c, 30c 1, 30c 2 punching blade 31 peeling unit 33 punched already sheet 34 unnecessary metal Foil-removed sheet 40 Die cutting roller 42 Compressed air spray section 46 Application roller 48 Processing device 49 Adhesive 50 Solar cell module C Cutting edge M Intermediate laminate S1 Metal foil sheet forming step S2 Metal electrode forming step S3 Adhesive layer forming step S4 Substrate adhesion process S5 Metal electrode transfer process

Claims (3)

保持シート上に金属箔を保持した金属箔シートの前記金属箔を切断して、一部の金属箔を除去することにより、前記保持シート上に互いに隙間をあけた複数の金属電極を形成する金属電極形成工程と、
該金属電極形成工程において形成された前記複数の金属電極の表面の全体に接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、
前記接着剤層を基材に密着させて該基材に接着する基材接着工程と、
前記保持シートを前記複数の金属電極の表面から剥離することにより、前記基材上に前記接着剤層および前記複数の金属電極を転写する金属電極転写工程と、
を備える回路基板の製造方法。
A metal that forms a plurality of metal electrodes spaced apart from each other on the holding sheet by cutting the metal foil of the metal foil sheet holding the metal foil on the holding sheet and removing a part of the metal foil. An electrode forming step;
An adhesive layer forming step of forming an adhesive layer on the entire surface of the plurality of metal electrodes formed in the metal electrode forming step;
A base material adhesion step of adhering the adhesive layer to the base material and adhering to the base material;
A metal electrode transfer step of transferring the adhesive layer and the plurality of metal electrodes onto the substrate by peeling the holding sheet from the surfaces of the plurality of metal electrodes;
A method of manufacturing a circuit board comprising:
前記金属箔シートは、保持シートの表面に設けられた粘着層を介して前記金属箔を保持し、
前記金属電極形成工程では、前記金属箔を打ち抜き刃による打ち抜きによって切断するとともに、前記打ち抜き刃の押し下げに伴う変形により前記打ち抜き刃の側方における前記一部の金属箔と前記粘着層との間に隙間を有する剥離部を形成した後、前記一部の金属箔の除去を行う
ことを特徴とする請求項1に記載の回路基板の製造方法。
The metal foil sheet holds the metal foil via an adhesive layer provided on the surface of the holding sheet,
In the metal electrode forming step, the metal foil is cut by punching with a punching blade, and between the part of the metal foil and the adhesive layer on the side of the punching blade due to deformation accompanying the pressing of the punching blade. The method for manufacturing a circuit board according to claim 1, wherein the part of the metal foil is removed after the peeling portion having a gap is formed.
前記打ち抜き刃の突出高さの寸法は、
前記金属箔の厚さ寸法よりも大きく、かつ、前記金属箔の厚さ寸法と前記接着剤層の厚さ寸法との和よりも小さい
ことを特徴とする請求項2に記載の回路基板の製造方法。
The dimension of the protruding height of the punching blade is:
3. The circuit board manufacturing method according to claim 2, wherein the thickness is larger than the thickness of the metal foil and smaller than the sum of the thickness of the metal foil and the thickness of the adhesive layer. Method.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10651320B2 (en) 2010-11-19 2020-05-12 Dsm Ip Assets B.V. Method of manufacturing a circuit board by punching
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9812592B2 (en) * 2012-12-21 2017-11-07 Sunpower Corporation Metal-foil-assisted fabrication of thin-silicon solar cell
US9666733B2 (en) 2013-09-04 2017-05-30 Hyeon Woo AHN Solar cell using printed circuit board
JP2015050413A (en) * 2013-09-04 2015-03-16 アン,ヒョン・ウー Solar cell utilizing pcb
JP2015070221A (en) * 2013-09-30 2015-04-13 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of current collection sheet for solar cell module
CN107078075A (en) 2014-11-05 2017-08-18 Ev 集团 E·索尔纳有限责任公司 Method and apparatus for carrying out coating to product substrate
ITUB20161049A1 (en) * 2016-02-25 2017-08-25 Coveme Spa Conductive backsheet for photovoltaic modules
JP6707694B2 (en) * 2019-03-29 2020-06-10 エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー Method and apparatus for coating product substrates

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005339518A (en) * 2004-04-28 2005-12-08 Dainippon Printing Co Ltd Conductive member for contactless type data carrier and method and device for manufacturing the same
JP5252472B2 (en) * 2007-09-28 2013-07-31 シャープ株式会社 Solar cell, method for manufacturing solar cell, method for manufacturing solar cell module, and solar cell module
JP2011061151A (en) * 2009-09-14 2011-03-24 Toppan Printing Co Ltd Back protective sheet for solar cell, method of manufacturing the same, and solar cell module

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10651320B2 (en) 2010-11-19 2020-05-12 Dsm Ip Assets B.V. Method of manufacturing a circuit board by punching
US10672928B2 (en) 2011-06-06 2020-06-02 Dsm Ip Assets B.V. Metal foil pattern layered body, metal foil layered body, metal foil multi-layer substrate, solar cell module, and method of manufacturing metal foil pattern layered body

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