JP5866455B2 - 付着物防止特性を備えた遠心分離機 - Google Patents

Description

本発明は、付着物防止特性の改善のためにコーティングされた請求項１の前段部に記載の遠心分離機に関する。

付着物は、遠心分離機における一般に知られている問題である。動作中、たとえば分離機ディスクやフレームやスラッジ出口チャンネルの付着物は重要であり、たとえば、遠心分離機を通り抜ける流体から発生する堆積物、微生物生育、汚れなどに起因する。特に、その分離能力が変わらないままであれば、分離機ディスクの付着物は、分離機の処理能力を低減することがある。さらに、分離機ディスク上に形成された堆積物は定期的に取り除かれる、すなわち、分離機のディスクと内部はクリーニングされなければならない。連続スループットのための準備された分離機において、堆積物を取り除くための停止は、分離機の不所望な中断時間、したがって、全体的な分離能力の低下を招く。

現代の遠心分離機では、ローター本体とその内側部分はステンレススチールで作られており、液体に接触するローター部分の表面は、これらの表面に対する堆積物の蓄積を可能な限り防止するために研磨される。この研磨にもかかわらず、希望の分離能力を維持され得るように定期的に取り除かれなければならない堆積物が形成される。

ＵＳ３，７４１，４６７は、付着物にさらされる表面を、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）などのフッ化ポリアルケン（flourinated polyalkene）でコーティングすることによって、この問題を克服する試みを開示している。しかしながら、そのようなコーティングの欠点は、摩耗性媒体に対する適用においては、すり減ることがあるということである。別のものは、コーティングが、たとえばディスク厚さに関して不十分である要請厚さを有していることである。

遠心分離機を長期間にわたって運転させておくために、遠心分離機、特にそれらのディスクとスラッジ出口チャンネルとフレームの少ない付着物を確実にする新しい方法を見つけることが望ましい。また、遠心分離機を伴うプロセスのシャットダウン時間の低減は望ましい。

上に示されるように、現在知られている付着物防止コーティングが遭遇する問題は、分離されるべき流体と一緒に遠心分離機に入る摩耗性媒体たとえば砂や他の分散粒子に対する適用におけるコーティングの乏しい耐摩耗性である。さらに、コーティングのクラックは、遠心分離機ディスクに作用する摩擦およびひずませる力や突出したエッジにおける摩耗のために生じることがある。

ＵＳ３，７４１，４６７

本発明の目的は、低減された付着物を示す改良型遠心分離機を提供することである。別の目的は、摩耗性環境において耐摩耗性があり、クラックの形成に対する高抵抗を有している遠心分離機の実施形態を提供することである。

この目的は、それ自体の内部に分離チャンバーを形成する、ローターを備えている、流体混合物の複数のコンポーネントへの連続分離のために準備された遠心分離機によって達成される。前記ローターは、前記分離チャンバー中に１セットの分離ディスクを備えており、分離ディスクは、隣接した分離ディスク間の分離流路を定めており、また、前記分離チャンバー中において分離される流体混合物の連続提供のための、前記ローターに有効に連結された入口と、前記分離空間の径方向内側部分から延びている、前記流体混合物の分離された軽量な第一のコンポーネントのための第一の出口と、前記分離空間の径方向外側部分から延びている、前記流体混合物の分離された高密な第二のコンポーネントのための第二の出口を備えている。前記分離ディスクには、コーティングが少なくとも部分的に設けられており、コーティングは、約５〜６０μｍの層厚を有し、ゾルゲル法によって準備され、Ｏ／Ｓｉ＞１の原子比率を有しているシリコン酸化物ＳｉＯ_ｘを備え、≧１０原子％の炭素を備えている。

前記遠心分離機は、ディスク表面の付着物が著しく低減されるという点で有利である。有機ケイ素化合物を伴うゾルゲル材料を備えているコーティング組成物を分離ディスク表面に塗布することによって、表面自由エネルギーと粗さの両方が低減され、付着物の低減、遠心分離機の少なく容易なクリーニングをもたらす。さらに、本発明のゾルゲルコート遠心分離機は、優れた耐摩耗性を示し、コーティングに発生するクラックの危険を低減する柔軟性を有している。これは、コーティングの非常に薄い厚さによって達成され、それは、ゾルゲル法による準備を通じて可能である。

前記遠心分離機表面上の前記コーティングの層厚は、５〜５０μｍ、好ましくは５〜２０μｍであってよい。ディスク厚さよりも十分に少ない、すなわち数百μｍに対して数十μｍのコーティングの層厚を提供する能力で、コーティングは、流れ容量の低下、同じ分離パフォーマンスを得るためにより高い速度を必要とし、分離流路をふさぐ危険の増大をもたらすといった、分離流路の高さの著しい低減を招かない。小さい層厚の一層の利点は、非コートディスクのスタックに比較して、同じ高さのディスクスタックにはめ込まれることが可能であるディスクの枚数が著しく低減される必要がないということである。これは、たとえば、およそ１００μｍの厚さを必要とし、それにより、所与の高さのディスクスタックにはめ込まれ得るディスクの枚数に対する悪影響を与えたり、分離流路の高さに対する悪影響を与えたりするテトラフルオロポリエチレンコーティングと比較して大きな改善である。いずれの場合も、分離流路を通る流れを制限することにより、または、ディスクの枚数の低減による総分離エリアを低減することにより、分離パフォーマンスは悪影響を受けるであろう。

シリコン酸化物ＳｉＯ_ｘコーティングは、１．５〜３、好ましくは２〜２．５の原子比率Ｏ／Ｓｉを有していてよい。

コーティングは、２０〜６０原子％、好ましくは３０〜４０原子％の炭素の含有量を有していてよい。

前記遠心分離機は、前記分離空間の径方向外側部分から延びている、前記流体混合物の分離された第三のコンポーネントのための第三の出口を有していてよい。

前記分離ディスクの厚さは、０．３〜２ｍｍ、好ましくは０．４〜１ｍｍ、より好ましくは０．５〜０．８ｍｍであってよい。

さらに、本発明のさらなる目的と特徴と利点は、添付の概略図に関する本発明のさまざまな実施形態の続く詳細な説明から明らかになるであろう。
図１は、連続動作のための遠心分離機の一つの実施形態の軸断面を概略的に示している。 図２ａは、遠心分離機の実施形態を概略的に示している。 図２ｂは、遠心分離機の実施形態を概略的に示している。 図２ｃは、遠心分離機の実施形態を概略的に示している。 図３は、付着物防止コーティングを備えている分離ディスク表面の概略断面である。

下記において、連続スループットのための遠心分離機の実施形態が説明される。しかしながら、本発明は、分離ディスクを備えており、動作中、ディスク表面の付着物を引き起こす媒体にさらされる、あらゆる連続動作遠心分離機に適用可能であることが知られるべきである。

図１は、流体混合物を複数のコンポーネントに分離するための、たとえば油ベース流体混合物から水と粒子を分離するための遠心分離機１を概略形式で示している。分離機はフレーム２を有しており、フレームは、第一および第二のベアリングによってフレームに連結されたスピンドル２０によって回転軸ｘのまわりの遠心ローター３を支持している。ローターは、示されるような電気ダイレクトドライブモーター２１などのモーターによって駆動される。ローターは、それ自体の内部に分離空間４を形成しており、分離空間は、ローター壁５によって境界が定められており、その中には、円錐台分離ディスクのスタックの形をしている１セットの分離プレート６が配されている。分離ディスクは、各対の隣接ディスクの間に分離流路７を形成している。不動の入口８が、分離される流体混合物の分離空間への提供のため、ローターの中に延びている。流体混合物の分離された軽量な第一のコンポーネントのための第一の出口９が、分離空間の径方向内側部分から延びている。スラッジ空間１０が、分離空間の環状部分として、分離プレートの径方向外側に定められており、流体混合物の分離された高密な第二のコンポーネントの放出のための第二の出口１１が、スラッジ空間の径方向外側部分から延びている。

各分離ディスクには、多数の開口または切り欠きが設けられており、それらは、各ディスクの周囲の近くに配されていて、スタックを通って軸方向に延びている流路を形成し、ディスクスタックを通っておよび越えて分離される流体の流れを分配する。ローターはさらに、ローター中において中央入口空間の境界を定めるディストリビューターを備えており、それは、ローター中の流路を介して分離空間４に連結されている。ディストリビューターは、分離ディスク６のスタックを支持している。不動の入口８が、分離される流体混合物の提供のための入口空間の中に延びている。流体混合物の分離された軽量な第一のコンポーネントのための第一の出口９が、分離空間４の径方向内側部分から延びている。スラッジ空間１０が、分離空間の環状部分として、分離ディスクの径方向外側に定められている。ローターの円周の近くに配された複数の第二の出口１１が、流体混合物の分離された高密な第二のコンポーネント（スラッジと称する）の放出のため、スラッジ空間の径方向外側部分から延びている。第二の出口１１の開口は、この分野で知られているように、スラッジ空間中に集められたスラッジの放出のため、短期間、閉位置から変位されるように配された動作スライドによってコントロールされる。

動作中、ローター３は動作速度で回転され、複数のコンポーネントに分離される流体混合物は、入口８によってローターの入口空間の中に導入される。流体は、遠心力によって、ローター中の流路を通って分離空間に運ばれる。それから、流体の流れは、ディスクの切り欠きによって設けられた軸流路を通って分離ディスク６のスタックを横切り、隣接した分離ディスク間の分離流路７の中に分配される。分離流路中において、流体混合物の高密なコンポーネントと軽量なコンポーネントが分離される。流体の軽量なコンポーネント（たとえば油）は、径方向内向きに、流体混合物の分離された軽量な第一のコンポーネントのための第一の出口９の方へ運ばれ、第一の出口は、分離空間の径方向内側部分から延びている。流体の高密なコンポーネント（水および固体粒子物質、すなわちスラッジ）は、分離空間中を径方向外向きに、スラッジ空間１０の方へ、第二の出口１１の内側に運ばれる。

図２ａに示される実施形態では、前にさらに説明されたような遠心分離機はさらに、第一のコンポーネントよりも高密な第三のコンポーネントのための第三の出口１２を備えており、それは、スラッジ空間の径方向内側部分から延びている。流体混合物のこの高密な第三のコンポーネントは、水などの高密な液体コンポーネントであってよい。トップディスク１３が、分離ディスクのスタックの上側端に設けられている。トップディスク１３は、スラッジ空間の径方向内側部分から延びている、流体混合物から分離された高密な第三のコンポーネントのためのトップディスクとローター壁の間の流路の境界を定めており、その流路は、第三の出口に連結されている。トップディスクは、円錐台プレートの径方向外側に延びているように構成されている。流体混合物から分離された高密なコンポーネントのうち、水などの最も少なく高密なコンポーネントは、トップディスク１３の径方向外側エッジを越えて第三の出口１２の方へ流れる。第三の出口チャンバーから、この分野で知られているようなはぎ取りデバイスによって、流体がはぎ取られてよい。

図２ａ〜２ｃは、連続動作およびスループットのための遠心分離機のさまざまな実施形態を示しており、そのおのおのは、ローター３と、分離ディスク６のスタックを備え、分離ディスクは、各対の隣接ディスクの間に分離流路７を形成している。図２ａは、固体またはスラッジ、または高密なコンポーネントの間欠放出を伴う遠心分離機を概略的に示す。上述したように、図２ａの実施形態では、遠心分離機は、異なる密度の軽量相のための二つの出口９、１２と、重量相や固体やスラッジのための一つの出口１１を有して示されている。しかしながら、一つの軽量相出口と、間欠放出の一つの重量相出口を有している実施形態も考えられる。間欠放出は、上に説明された手法では自動的である。

図２ｂは、自動的連続固体放出分離機とも称される、連続動作のためのノズルタイプ遠心分離機を概略的に示している。上に言及された要素に加えて、分離機は、軽量相分離媒体のための第一の出口９と、重量相分離媒体またはスラッジの連続放出のための第二の出口１１を備えている。前記第二の出口１１は、複数の周辺分配出口ポートのノズルの形をしている。

図２ｃは、固体ボウル遠心分離機を示している。分離機は、軽量相分離媒体のための第一の出口９と、重量相分離媒体のための第二の出口１１を備えている。ボウル内に捕らえられたすなわち第二の出口１１を通って出されない固体は、その径方向外側部分に蓄積され、手で取り除かれる。

このように、いくつかの普通形の連続動作および連続スループットのための遠心分離機が上に説明される。しかしながら、本発明は、説明されたタイプの分離機に限定されていない。たとえば、本発明は、気密および非気密分離機、連続または間欠放出分離機、固体ボウル分離機などに等しく適用可能である。言いかえれば、本発明は、分離ディスクを備えているあらゆる連続動作遠心分離機に適用可能であり、分離ディスクは、動作中、ディスク表面の付着物を引き起こす媒体にさらされる。

上述したように、分離プレート６は、円錐台分離ディスクのスタックの形に用意されている。分離ディスクは、各対の隣接ディスクの間に分離流路を形成しており、隣接ディスクは、一般に、各ディスクの表面上の周囲分配ふさぎ物の配置を介して設けられている。ディスクの数は、一般に、数十ないし数百の範囲内にあり、用途、分離される媒体、分離機のタイプに依存する。ふさぎ物の厚さは、隣接ディスクの間の距離、したがって分離流路の高さを定め、一般に、０．３ｍｍと２ｍｍの間にある。

分離ディスクまたはプレートは、分離ディスクの付着物防止特性の改善のために使用されたコーティングを備えている。コーティングは、くっつかないコーティングと称されてよく、分離機の分離パフォーマンスを改善する。これは、とりわけ、分離流路の高さを低減する過度の付着物が回避されるという事実による。さらに、ディスク上への堆積物の著しく遅い蓄積は、そのあいだは分離機が動作から外れて分解されなければならい逐次の必要なクリーニングの間の期間を増大させる。また、くっつかないコーティングは、ディスク表面のほか、本発明による付着物防止コーティングが設けられた分離機の内部のあらゆる他の部分をクリーニングすることを容易にする。コーティングされた分離ディスクは、ただ水での高圧洗浄を使用することによって容易にクリーニングされ得る。さらに、メカニカルクリーニングまたは強酸や塩基や洗剤を使用するクリーニングで消費する多大な時間を必要としない。

本発明の実施形態によれば、分離機ディスクの表面は、ゾルゲル法を使用する有機ケイ素化合物を備えている組成物でコーティングされる。有機ケイ素化合物は、ゾルゲル法で使用される開始材料であり、好ましくはシリコンアルコキシ化合物である。ゾルゲル法では、ゾルがゲルに変換されてナノ物質を作り出す。加水分解および縮合反応によって、相互階層状分子の三次元網目構造体が液体中に作り出される。熱処理ステージは、ゲルをさらに、最終コーティングをもたらすナノ物質またはナノ構造体に処理する役目をする。前記ナノ物質またはナノ構造体を備えているコーティングは、Ｏ／Ｓｉ＞１の原子比率、好ましくは１．５〜３の範囲内の、または代替的に２〜２．５の範囲内の原子比率を有しているシリコン酸化物ＳｉＯ_ｘを主として備えている。Ｏ／Ｓｉ＞１の原子比率によっては、シリコン酸化物（ＳｉＯ_ｘ）のシリコン原子（Ｓｉ）の数で割られたシリコン酸化物（ＳｉＯ_ｘ）の酸素原子（Ｏ）の数が１よりも大きいことが表されている。相応して、代替例では、シリコン原子の数で割られた酸素原子の数は、１．５〜３の範囲内、または２〜２．５の範囲内にある。

好ましいシリコン酸化物は、シリカＳｉＯ_２である。シリコン酸化物は、分離ディスクの表面に対して優れた付着を有している三次元網目構造体を形成する。すべてのディスクがコーティングされてよく、そのほか、分離機動作中に付着物にさらされる分離機内の他の表面もコーティングされてよい。ディスクは、片側だけが、すなわち上向きまたは下向き表面がコーティングされてよいが、付着物は一般に、分離される流体にさらされるすべての表面に生じるので、好ましくは、両側がコーティングされる。

本発明のコーティングにさらに、有機分子に見つけられるような炭素の含有量を有している。有機部分は、Ｃ＝Ｏ、Ｃ−Ｏ、Ｃ−Ｏ−Ｃ、Ｃ−Ｎ、Ｎ−Ｃ−Ｏ、Ｎ−Ｃ＝Ｏ、その他などの官能基を有していてもいなくてもよい。好ましくは、炭素含有量は、≧１０原子％、好ましくは２０〜６０原子％、最も好ましくは３０〜４０原子％である。有機部分は、柔軟性と弾性をコーティングに与え、それは、分離機の内部、特にディスクスタックにさらされる著しい力のため、動作中、非常に重要である。有機部分は、疎水性かつ疎油性（oleophobic）であり、コーティングのくっつかない特性をもたらす。

図３には、上に説明されたように、シリコン酸化物ゾルゲルコート２２が設けられた分離ディスク表面２１の概略実例が示されている。コーティングはシリコン酸化物層２２とも称される。表面２１の最も近くに、シリコン酸化物コーティング２２は、コーティングシロキサンとディスク表面２１の金属酸化膜の間のインタフェース２３を形成している。コーティング２２のバルクは、有機リンカー鎖と、コーティング２２に柔軟性を与える空隙を有しているシロキサン網目構造体２４である。シロキサン網目構造体２４は、インタフェース２３の上にある。シリコン酸化物層２２は、付着物を低減する疎水性かつ疎油性特性を有している機能的表面２５の形をしている最外層を形成している。インタフェース２３とシロキサン網目構造体２４の間と、シロキサン網目構造体２３と機能的表面２５の間には、それぞれ、はっきりした境界はなく、むしろ徐々に遷移している。

コーティングされたすべての分離ディスクは、上に説明されたコーティングを有していてよい。コーティングは永続性でありまた柔軟であり、優れたくっつかない特性と摩耗およびクラック耐性を有している連続動作遠心分離機のためのディスクを提供する。

さらに、コーティングの厚さは、ディスク厚さよりも著しく小さい、すなわち、数百μｍに対して数μｍなので、コーティングは、分離流路の高さのどんな著しい減少も、非コーティングディスクと同じ高さディスクスタックにはめ込まれることが可能であるディスクの枚数のどんな著しい減少をもたらさない。これは、たとえば、およそ１００μｍの厚さを必要とし、それにより、所与の高さのディスクスタックにはめ込まれ得るディスクの枚数に対する悪影響を与えたり、分離流路の高さに対する悪影響を与えたりするテトラフルオロポリエチレンコーティングと比較して大きな改善である。いずれの場合も、分離パフォーマンスは悪影響を受けるであろう。

一つの実施形態では、有機ケイ素化合物を備えている少なくとも一つのゾルが、コーティングされる分離ディスクの表面に塗布される。表面は、任意の適切な方法で、ゾルで湿潤／コーティングされてよい。表面コーティングは、たとえば、スプレーや浸漬や浸水によって塗布されてよい。遠心分離機の少なくとも分離ディスクはコーティングされてよい。あるいは、使用のあいだに流体と接触するであろう遠心分離機のすべての表面がコーティングされてもよいであろう。たとえば、付着物を生じさせる流体と接触するすべての表面がコーティングされる。

表面をコーティングする方法は、少なくとも一つのゾルでコーティングされる遠心分離機の少なくとも表面の前処理を備えている。この前処理も、好ましくは、浸漬や浸水やスプレーによって実行される。前処理は、遠心分離機表面に対する後のコーティングの付着の増強を得るために、コーティングされる表面をクリーニングするために使用される。そのような前処理の例は、アセトンおよび／またはアルカリ性溶液たとえば苛性アルカリ溶液での処理である。

コーティングの方法は、熱処理ステージを備えていてよく、たとえば、乾燥作業が前処理の後におこなわれてよく、また、前記ゾルでの表面の実際のコーティングの後に乾燥および／または硬化作業がしばしば必要である。コーティングは、好ましくは、オーブンなどの従来の加熱装置を使用する加熱にさらされる。

コーティングは、上に示されたようにＳｉＯ_ｘを備えており、分離機ディスク表面に塗布される。コーティングの塗布はゾルゲル法によってなされる。表面上の結果のコーティングは、５ないし６０μｍ厚さの間にある。コーティングを含んでいるシリコン酸化物ゾルの膜厚は、５〜６０μｍ、好ましくは５〜５０μｍ、好ましくは５〜２０μｍである。

分離機ディスクが作られる材料は、いくつかの金属および合金から選択されてよい。好ましくは、材料はステンレススチールである。材料はまた、黄銅またはアルミニウム、またはそれらの合金、および／または炭素スチールから選択されてよい。

実例
オフショア機器の長期動作時間の検査において、共に上に説明されたタイプのコーティングである低表面エネルギーガラスセラミックコーティングについて試験がおこなわれた。それらのコーティングは、コート１およびコート２と称され、結果は以下に示される。コート１は、酢酸ブチル中のシラン終端ポリマーであり、コート２は、ソルベントナフサ／酢酸ブチル中のポリシロキサン（polysiloxan）ウレタン樹脂である。

その試験は、コーティングされた熱伝達プレートについておこなわれた。そのようなプレートは、連続動作遠心分離機を包含してもいるプロセスラインで使用されてよい熱交換器中に設けられている。言いかえれば、熱伝達プレートと接触する媒体は、しばしば、後のプロセスにおいて遠心分離プロセス中で分離されるべきであるのと同じ媒体である。したがって、コーティングの付着物防止特性を得るために熱交換器の熱伝達プレート表面に対しておこなわれた試験は、遠心分離機内のディスク表面上のコーティングについての有用な指標でもあり得る。

その分析は、Ｈ_２Ｏ中の１．２％ＨＮＯ_３と、Ｈ_２Ｏ中の１％ＮａＯＨと、原油に対する、基板湿潤および付着、接触角、コーティング厚さ、安定性に関するコーティングの特性を示している。結果は、表１に以下に要約される。
両コーティングは、ステンレススチールまたはチタン基板のいずれに対してスプレーコーティングされたときも、優秀な湿潤を示した。

付着は、標準ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ２４０９によるクロスカット／テープ試験によって測定された。レーティングは、０（優秀）から５（ひどい）までである。０または１は容認可能であるが、２ないし５はそうではない。第一の数字は、クロスカット（１ｍｍグリッド）後のレーティングを示し、第二の数字は、テープが貼られ再び剥がされた後のレーティングを与えている。

コート１とコート２に対する最良の付着を得るため、基板は前処理にさらされた。基板は、３０分間、アルカリクリーニング洗剤に沈められた。その後、基板は、水と純水で洗われ、コート１が塗布される前に乾燥された（最適な付着を達成するために３０分以内に塗布された）。試験は、基板のクリーニングがアセトンだけで実行されると、付着が低減されることを示した。前処理は、コート２でコーティングされるステンレススチール基板にも使用された。このコーティングは、アルカリ洗剤またはアセトンが前処理として使用されたかどうかに影響を及ぼされない付着を示した。前処理ステップが無視されるか正しくなされなければ、それは、コーティング付着に影響を及ぼす。

両コーティングは、酸性コンディションの下で良好な安定性を示した。コーティングは、７５度で１．５時間、また、室温で２４時間以上、安定であった。

アルカリ性コンディションの下で、コート１は、コート２よりも良好な結果を示した。コート１は、８５℃で３時間アルカリ性コンディションに耐えることができたが、コート２は８５℃で２時間であった。両コーティングは、６カ月間、室温で原油に沈められた後、疎油性特性の変質や低減を示さなかった。

それから、スタック３０の熱伝達プレートは、コート１とコート２でコーティングされた。熱交換器プレートは、この試験では、チタンで作られ、熱交換器２は、原油用途に使用された。すべてのコーティングされた熱伝達プレートは前処理を受け、前処理は、付着物を取り除くために酸性およびアルカリ性溶液での処理と、水でのプレートの高圧洗浄を備えていた。プレートは、コーティングの塗布の前に、乾燥に供された。

前処理は、コート１とコート２がプレートに塗布される１日前に完了された。プレートは、周囲温度（ほぼ２０℃あたり）で乾燥に供されたので、いくつかのプレートはまだぬれていた。正確には、プレートの三分の一は、コート１でコーティングされ、プレートの三分の一は、コート２でコーティングされ、プレートの残りの三分の一は、コーティングされないままであった。コーティングは、スタック３０中のプレートによって形成された流れ経路５７，６７の中にそれぞれのコートをスプレーすることによって実施され、それにより、流れ経路に面している側がコーティングされる。コーティングの厚さは、２〜４μｍであると測定された。二つのコーティングに対する硬化／乾燥が、オーブン中で１．５時間、それぞれ、２００℃と１６０℃の高温でおこなわれた。

それから、コーティングされた熱伝達プレートを備えたスタックが熱交換器の中に配され、プレート式熱交換器の約７カ月の動作の後に、コーティングされたプレートの評価がおこなわれた。

プレートは７カ月後に分析された。詳細には、三枚の異なるシリコン酸化物コーティングされた熱伝達プレートが、ＥＳＣＡ（化学分析電子分光法）としても知られている、ＸＰＳ（Ｘ線電子分光法）によって分析された。ＸＰＳ法は、表面の最外２〜１０ｎｍについて原子％で表現される化学組成を含む、定量的化学情報を提供する。

ＸＰＳ法の測定原理は、サンプル（すなわち、コート１でコーティングされた熱伝達プレートと、コート２でコーティングされた熱伝達プレートと、コーティングされていないプレート）が高真空中に置かれ、よく定められたＸ線エネルギーで照射されることを有しており、サンプルから光電子の放出をもたらす。サンプルの最外表面からの光電子だけが検出器に到達する。光電子の運動エネルギーを分析することによって、それらの結合エネルギーが計算されることが可能であり、それにより、サンプルの化学元素（電子殻を含む）に関してそれらの起源を与える。

ＸＰＳは、サンプルの化学元素の元素組成および異なる化学状態の両方についての（さまざまな官能基、化学結合、酸化状態、その他などの）定量的データを提供した。水素とヘリウム以外のすべての化学元素が検出され、サンプルの得られた化学成分は原子％で表現される。

ＸＰＳスペクトルは、Kratos AXIS UltraDLD ｘ線光電子分光計を使用して記録された。サンプルは、単色Ａｌｘ線源を使用して分析された。分析領域は、１ｍｍ^２未満だった。分析では、サンプルの表面中に存在する化学元素を検出するために、いわゆる広スペクトルランがおこなわれた。相対的表面組成は、各化学元素の定量化から得られた。

ここに説明された（ＣとＯとＳｉの含有量に関する）さまざまなタイプのシリコン酸化物コーティングを備えた熱伝達プレートが分析されるとき、または、正確にはコーティングの化学元素が分析されるとき、原子％および原子比率Ｏ／Ｓｉの相対的表面組成が見つけられ得る。それから、主にＣとＯとＳｉが、コーティングの最外表面で検出され得ることが観察された。Ｃの含有量は一般に４１．９〜６８．０原子％であり、Ｏの含有量は１９．５〜３４．３原子％であり、一方、Ｓｉの含有量は８．６〜２３．４原子％である。原子比率Ｏ／Ｓｉは１．４６〜２．３０である。原子比率Ｏ／Ｓｉについては、酸素の総量が使用されることに注意されたい。これは、炭素をもつ官能基中の酸素も含まれることを意味している。他の点では、シリカについて、２．０の理論的比Ｏ／Ｓｉが期待される（すなわちＳｉＯ_２の形をしているＳｉＯ_ｘ）。

４カ月の動作の後、サーモイメージングによる事前検査がおこなわれた。熱交換器が動作されたとき、サーモイメージングが熱交換器２の中央領域におこなわれた。イメージから、いくつかの熱伝達プレートが、熱交換器中の他の熱伝達プレートと比較して、増大した熱伝達を示すことが明白になった。

その検査は、コーティングされたプレートの所で高温を示した。コーティングされていないプレートは、低い動作温度を示した。温度の差は、異なる付着物の影響であり、そこでは、コーティングされたプレートは高温にあった。

外観検査は、コート１で示されたコーティングをもつプレートが、原油対面プレート側が最少量の付着物で覆われていたことを明らかにした。また、コート２は、むき出しのチタン表面と比較して、原油対面プレート側が少ない量の付着物を有していたが、その程度はコート１よりも少なかった。むき出しのチタンプレートは、プレートに「付着した」原油の厚い層で完全に覆われていた。ここにおいて、用語「付着物」は、動作中に熱伝達プレート上に形成される堆積物を説明するために使用される。付着物は、原油によって形成される残留物と堆積物であり、ワックス状有機部分と鉱物／無機部分から成る。

個々の付着したプレートについて記録された重量から正常なプレートの平均重量を引くことによって、表面タイプごとに平均付着物量が計算された（表２）。コーティングの重量は補われなかったので、実際の付着物低減はいくらか高目である。試験に使用された熱伝達プレートについて、熱伝達表面は０．８５ｍ^２であり、したがって、４μｍ厚コーティングを両側に有するプレートについて、コーティング材料の総体積は約６．８ｃｍ^３である。コーティングが純粋なＳｉＯ_２（密度２．６ｇ／ｃｍ^３）であると推定されるならば、一枚のプレートあたりのコーティングの量は約２０ｇである。
コート１とコート２の両方について、プレートの付着物は、むき出しのチタンプレート上の付着物と比較して容易に取り除かれた（表３参照）。クリーニング要求の差が、ティッシュでの手によるプレートの拭き取りによって、また高圧水クリーニングによって試験された。ティッシュでプレートを単に拭くことは、コーティングされていないプレートとは対照的に、コーティングされたプレートから付着物が非常に容易に取り除かれたことを示した。高圧水クリーニングを使用することによって、一つまたは二つの小さいパッチを除いて、すべての付着物が、コート１がコーティングされた表面から取り除かれることが可能であった。コート２がコーティングされた表面では、いくらか多い付着物が、ウォータージェットクリーニングの後に存在した。この付着物は、わずかに焼けた油の形をしていた。コーティングは、良好なコンディションであった。原油は、熱交換器２の第一の流れ経路を通り抜け、一方、海水は、第二の流れ経路を通り抜けた。海水に面するプレート表面では、両コーティングは劣化した。
寒冷コンディションに対するコーティング耐性が、−１９６℃の温度の液体窒素にプレートを沈めて試験された。次に、プレートは高圧水によって洗われ、高圧水はすべての付着物をほとんど取り除いた。コーティング破損は、コート１またはコート２のいずれにおいても観察されなかった。

連続動作のための遠心分離機の分離ディスクスタック中の多数のディスクが、ゾルゲル法によって準備された、シリコン酸化物ベース付着物防止コーティングでコーティングされたものにおいて、代表的試験がおこなわれた。分離機は、自動的連続重量相または固体放出を伴う大型ノズルタイプ分離機だった。

分離された流体混合物は、重油組成物が固体と水から分離された油性混合物だった。これは、高い付着混合物であり、油組成物と無機粒子の両方が、時の経過とともにディスク表面に蓄積する。粒子の蓄積すなわちスラッジ堆積物は、数日後にはもう既に著しいことがある。結局、分離機は分解され、ディスクスタックは取り除かれて、溶媒エマルジョンを使用して手によりクリーニングされる。

フィールド試験が、数カ月間にわたりおこなわれた。この時期のあいだ、コーティングされたディスクは、等間隔をおいて視覚的に検査され、コーティングされていないディスクと比較された。数週間後、コーティングされたディスクは、それらのトップ表面に付着物をほとんど示さなかったのに対して、コーティングされていないディスクは、著しい付着物を有していた。コーティングされたディスクの底表面には、いくらかの付着物があったが、コーティングされていないディスクに比較して著しく少なかった。しかしながら、コーティングされたディスク上で見つかった付着物は、クリーニングするのが著しくより容易であった。１カ月以上の後、結果は同様であった。数カ月では、コーティングされた表面とコーティングされていない表面の間の付着物の差は、試験の初期段階ほど著しくはなかった。しかしながら、容易に識別可能な差が付着物にまだあり、付着物は、取り除くのがはるかに容易であった。

上記の説明から、本発明のさまざまな実施形態が説明され示されたけれども、本発明はそれらに限定されるものではなく、続く特許請求の範囲において定められる主題の範囲内においてさまざまな手法で具体化されてよいことがわかる。
［１］ 流体混合物の複数のコンポーネントへの連続分離のために配された遠心分離機（１）であり、
・それ自体の内部に分離チャンバー（４）を形成し、前記分離チャンバー（４）中に、隣接した分離ディスクの間に分離流路（７）を定めている１セットの分離ディスク（６）を備えているローター（３）と、
・前記分離チャンバー（４）中において分離される流体混合物の連続提供のための、前記ローター（３）に有効に連結された入口（８）と、
・前記分離空間の径方向内側部分から延びている、前記流体混合物の分離された軽量な第一のコンポーネントのための第一の出口（９）と、
・前記分離空間の径方向外側部分から延びている、前記流体混合物の分離された高密な第二のコンポーネントのための第二の出口（１１）を備えている遠心分離機において、
前記分離ディスク（８）にはコーティングが少なくとも部分的に設けられていて、そのコーティングは、
約５〜６０μｍの層厚を有し、
ゾルゲル法によって準備され、
Ｏ／Ｓｉ＞１の原子比を有しているシリコン酸化物ＳｉＯｘを備え、
≧１０原子％の炭素を備えていることを特徴とする遠心分離機。
［２］ 前記コーティングの層厚は、約５〜５０μｍ、好ましくは５〜２０μｍの層厚を有している、［１］に記載の遠心分離機。
［３］ 前記コーティングは、１．５〜３、好ましくは２〜２．５のＯ／Ｓｉの原子比率を有しているシリコン酸化物ＳｉＯｘを備えている、［１］または［２］に記載の遠心分離機。
［４］ 前記コーティングは、２０〜６０原子％、好ましくは３０〜４０原子％の炭素の含有量を有している、［１］〜［３］のいずれかひとつに記載の遠心分離機。
［５］ 前記分離空間の径方向外側部分から延びている、前記流体混合物の分離された第三のコンポーネントのための第三の出口（１２）を備えている、［１］〜［４］のいずれかひとつに記載の遠心分離機。
［６］ 前記分離ディスクは、０．３〜２ｍｍ、好ましくは０．４〜１ｍｍ、より好ましくは０．５〜０．８ｍｍの厚さを有している、［１］〜［５］のいずれかひとつに記載の遠心分離機。

Claims (11)

1. 流体混合物の複数のコンポーネントへの連続分離のために配された遠心分離機（１）であり、
   ・それ自体の内部に分離空間（４）を形成し、前記分離空間（４）中に、隣接した分離ディスクの間に分離流路（７）を定めている１セットの分離ディスク（６）を備えているローター（３）と、
   ・前記分離空間（４）中において分離される流体混合物の連続提供のための、前記ローター（３）に有効に連結された入口（８）と、
   ・前記分離空間の径方向内側部分から延びている、前記流体混合物の分離された軽量な第一のコンポーネントのための第一の出口（９）と、
   ・前記分離空間の径方向外側部分から延びている、前記流体混合物の分離された高密な第二のコンポーネントのための第二の出口（１１）を備えている遠心分離機において、
   前記分離ディスク（６）にはコーティングが少なくとも部分的に設けられていて、そのコーティングは、
   約５〜６０μｍの層厚を有し、
   ゾルゲル法によって準備され、
   Ｏ／Ｓｉ＞１の原子比を有しているシリコン酸化物ＳｉＯｘを備え、
   １０〜６０原子％の炭素を備えていることを特徴とする遠心分離機。
2. 前記コーティングは、約５〜５０μｍの層厚を有している、請求項１に記載の遠心分離機。
3. 前記コーティングは、５〜２０μｍの層厚を有している、請求項２に記載の遠心分離機。
4. 前記コーティングは、１．５〜３のＯ／Ｓｉの原子比率を有しているシリコン酸化物ＳｉＯｘを備えている、請求項１〜３のいずれかひとつに記載の遠心分離機。
5. Ｏ／Ｓｉの原子比率は２〜２．５である、請求項４に記載の遠心分離機。
6. 前記コーティングは、２０〜６０原子％の炭素の含有量を有している、請求項１〜５のいずれかひとつに記載の遠心分離機。
7. 前記コーティングは、３０〜４０原子％の炭素の含有量を有している、請求項６に記載の遠心分離機。
8. 前記分離空間の径方向外側部分から延びている、前記流体混合物の分離された第三のコンポーネントのための第三の出口（１２）を備えている、請求項１〜７のいずれかひとつに記載の遠心分離機。
9. 前記分離ディスクは、０．３〜２ｍｍの厚さを有している、請求項１〜８のいずれかひとつに記載の遠心分離機。
10. 前記分離ディスクは、０．４〜１ｍｍの厚さを有している、請求項９に記載の遠心分離機。
11. 前記分離ディスクは、０．５〜０．８ｍｍの厚さを有している、請求項９に記載の遠心分離機。