JP5854205B2 - Liquid crystal alignment agent - Google Patents

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JP5854205B2 JP2011254008A JP2011254008A JP5854205B2 JP 5854205 B2 JP5854205 B2 JP 5854205B2 JP 2011254008 A JP2011254008 A JP 2011254008A JP 2011254008 A JP2011254008 A JP 2011254008A JP 5854205 B2 JP5854205 B2 JP 5854205B2
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Description

本発明は、液晶配向剤に関する。さらに詳しくは、偏光または非偏光の紫外線を照射することによって良好なプレチルト角を発現させることができるとともに、高度の紫外線耐性を有する液晶配向膜を与えることのできる液晶配向剤に関する。   The present invention relates to a liquid crystal aligning agent. More specifically, the present invention relates to a liquid crystal aligning agent that can exhibit a good pretilt angle by irradiating polarized or non-polarized ultraviolet rays and can provide a liquid crystal alignment film having a high degree of ultraviolet resistance.

液晶表示素子としては、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、IPS(In Plane Switching)型などに代表される、正の誘電異方性を有するネマチック型液晶を用いる水平配向モードの液晶表示素子のほか、負の誘電異方性を有するネマチック型液晶を用いる垂直(ホメオトロピック)配向モードのVA(Vertical Alignment)型液晶表示素子が知られている。
このような液晶表示素子は、液晶分子を一定の方向に配向させる機能を有する液晶配向膜を具備している。この液晶配向膜を構成する材料としては、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリオルガノシロキサンなどが知られており、特にポリアミック酸またはポリイミドからなる液晶配向膜が、耐熱性、機械的強度、液晶分子との親和性に優れることなどから、古くから好ましく使用されている(特許文献1〜3)。
また、特許文献4には、3官能および4官能の加水分解性シラン化合物の混合物をシュウ酸およびアルコールの存在下に反応させて得られたポリオルガノシロキサンを含有する液晶配向剤が開示され、かかる液晶配向剤から形成された液晶配向膜が垂直配向性および耐熱性に優れると説明されている。
さらに、有機膜に液晶配向能を付与する方法として、旧来採用されてきたラビング法に代わって、光配向法の実用化が進んでいる。この技術の提案自体は旧聞に属するものであるが、光配向法用液晶配向膜材料の研究開発は進展を続けており、例えば特許文献5には、シンナメート構造を有するポリイミド薄膜に偏光または非偏光の紫外線を照射し、前記シンナメート構造の光異性化による分子の回転を利用して所望のプレチルト角発現性を付与する技術が提案されている。しかしながら特許文献5の技術によると、所望のプレチルト角発現性を付与するためには相当量の紫外線を照射することを要し、液晶表示素子製造時のタクトタイムが長くなり、あるいは強烈な紫外線のために形成される液晶配向膜の電気特性、特に電圧保持率が損なわれるなどの弊害が生じている。
As a liquid crystal display element, a horizontal alignment mode using a nematic liquid crystal having a positive dielectric anisotropy represented by a TN (Twisted Nematic) type, a STN (Super Twisted Nematic) type, an IPS (In Plane Switching) type, etc. In addition to the above liquid crystal display elements, a vertical alignment mode VA (Vertical Alignment) type liquid crystal display element using nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy is known.
Such a liquid crystal display element includes a liquid crystal alignment film having a function of aligning liquid crystal molecules in a certain direction. As the material constituting the liquid crystal alignment film, polyamic acid, polyimide, polyamide, polyester, polyorganosiloxane, and the like are known. In particular, the liquid crystal alignment film made of polyamic acid or polyimide has heat resistance, mechanical strength, liquid crystal It has been used preferably for a long time because of its excellent affinity with molecules (Patent Documents 1 to 3).
Patent Document 4 discloses a liquid crystal aligning agent containing a polyorganosiloxane obtained by reacting a mixture of trifunctional and tetrafunctional hydrolyzable silane compounds in the presence of oxalic acid and alcohol. It is described that a liquid crystal alignment film formed from a liquid crystal aligning agent is excellent in vertical alignment and heat resistance.
Further, as a method for imparting liquid crystal alignment ability to an organic film, the photo-alignment method has been put into practical use in place of the rubbing method that has been conventionally employed. Although the proposal of this technology itself belongs to the old days, research and development of liquid crystal alignment film materials for photo-alignment methods has been progressing. For example, Patent Document 5 discloses that a polyimide thin film having a cinnamate structure is polarized or non-polarized. There has been proposed a technique for imparting a desired pretilt angle expression property by utilizing the rotation of molecules by photoisomerization of the cinnamate structure. However, according to the technique of Patent Document 5, it is necessary to irradiate a considerable amount of ultraviolet rays in order to give a desired pretilt angle expression, and the tact time at the time of manufacturing a liquid crystal display element becomes long or intense ultraviolet rays are emitted. For this reason, the electrical characteristics of the liquid crystal alignment film formed, in particular, the adverse effect such as the loss of the voltage holding ratio has occurred.

近年、光配向法を適用したときに極めて少ない放射線照射量で良好な液晶配向性能を発現しうる新規な液晶配向膜材料として、分子内に特定の感光性部位を導入したポリアミック酸またはポリイミドからなる材料が報告された(特許文献10〜12)。これらの文献に記載された液晶配向剤は、500〜3,000J/m程度の放射線照射によって良好な液晶配向性を示す液晶配向膜を形成することのできる極めて優れた材料である。
ところで液晶表示素子の進展は近年著しく、高精細な表示が可能であり高速の動画応答性に優れる高品位な表示が可能となり、テレビジョンのほか、車載型表示装置、ゲーム機、携帯型動画再生機などへの適用が広くなされていることは周知のとおりである。また、高輝度の表示が可能となるのに伴い、上記の如き液晶表示素子が昼間の屋外で使用される場面が増加することによって、液晶表示素子およびこれに具備される液晶配向膜は、従来の使用態様では考えられなかったほどの強い紫外線を長時間浴びることとなってきた。このため、従来知られている液晶配向膜材料では、現在の使用態様に適応しうる紫外線耐性を有しておらず、液晶配向膜の耐紫外線性の向上が望まれている。
以上述べてきたとおり、液晶表示素子の使用態様の変化、新たな製造方法の開発に伴い、液晶配向膜材料における紫外線耐性向上の要請が大きくなってきており、早急な対策が切望されている。
In recent years, as a new liquid crystal alignment film material that can exhibit good liquid crystal alignment performance with a very small radiation dose when the photo alignment method is applied, it consists of polyamic acid or polyimide with a specific photosensitive site introduced in the molecule Materials have been reported (Patent Documents 10 to 12). The liquid crystal aligning agent described in these documents is an extremely excellent material capable of forming a liquid crystal alignment film exhibiting good liquid crystal alignment properties by irradiation with radiation of about 500 to 3,000 J / m 2 .
By the way, the progress of liquid crystal display devices has been remarkable in recent years, and high-definition display capable of high-definition display and high-speed video response has become possible. In addition to television, in-vehicle display devices, game machines, portable video playback As is well known, it is widely applied to machines. In addition, as the display with high brightness becomes possible, the number of scenes in which the liquid crystal display element as described above is used outdoors in the daytime increases, so that the liquid crystal display element and the liquid crystal alignment film included in the liquid crystal display element have been conventionally used. It has been exposed to strong ultraviolet rays for a long time that could not be considered in the usage mode. For this reason, the conventionally known liquid crystal alignment film materials do not have ultraviolet resistance that can be adapted to the current use mode, and it is desired to improve the ultraviolet resistance of the liquid crystal alignment film.
As described above, with the change in the usage of liquid crystal display elements and the development of new manufacturing methods, there is an increasing demand for improving the ultraviolet resistance of liquid crystal alignment film materials, and an urgent countermeasure is eagerly desired.

特開平4−153622号公報JP-A-4-153622 特開昭56−91277号公報JP 56-91277 A 特開平11−258605号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-258605 特開平9−281502号公報JP-A-9-281502 米国特許出願公開第2009/0325453号明細書US Patent Application Publication No. 2009/0325453 特開平6−222366号公報JP-A-6-222366 特開平6−281937号公報JP-A-6-281937 特開平5−107544号公報JP-A-5-107544 特開2010−97188号公報JP 2010-97188 A 国際公開第09/025386号パンフレットInternational Publication No. 09/025386 Pamphlet 国際公開第2009/25385号パンフレットInternational Publication No. 2009/25385 Pamphlet 国際公開第2009/25388号パンフレットInternational Publication No. 2009/25388 Pamphlet

T.J.Scheffer et.al.,J.Appl.Phys.vol.48,p1783(1977)T. T. et al. J. et al. Scheffer et. al. , J .; Appl. Phys. vol. 48, p1783 (1977) F.Nakano et.al.,JPN.J.Appl.Phys.vol.19,p2013(1980)F. Nakano et. al. , JPN. J. et al. Appl. Phys. vol. 19, p2013 (1980)

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、偏光または非偏光の紫外線を照射して良好なプレチルト角を発現させることができるとともに、高度の紫外線耐性を有する液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal alignment film that can exhibit a good pretilt angle by irradiating polarized or non-polarized ultraviolet rays and has high ultraviolet resistance. It is in providing the liquid crystal aligning agent to give.

本発明によれば、本発明の上記課題は、第1に、
(I)重合性二重結合を有する基を有するポリオルガノシロキサン、および
(II)桂皮酸構造を有する基を有するポリオルガノシロキサン
を含有することを特徴とする、液晶配向剤によって達成される。
本発明の上記課題は、第2に、
(III)重合性二重結合を有する基および桂皮酸構造を有する基を有するポリオルガノシロキサンを含有することを特徴とする、液晶配向剤によって達成される。
According to the present invention, the above-mentioned problems of the present invention are as follows.
It is achieved by a liquid crystal aligning agent comprising (I) a polyorganosiloxane having a group having a polymerizable double bond and (II) a polyorganosiloxane having a group having a cinnamic acid structure.
Secondly, the above problems of the present invention are as follows.
(III) It is achieved by a liquid crystal aligning agent comprising a polyorganosiloxane having a group having a polymerizable double bond and a group having a cinnamic acid structure.

本発明の液晶配向剤は、偏光または非偏光の紫外線を照射することによって良好なプレチルト角発現性を有するとともに高度の紫外線耐性を有する液晶配向膜を与えることができる。
本発明の液晶配向剤から形成された液晶配向膜は高度の紫外線耐性を有するから、かかる液晶配向膜を具備する液晶表示素子は、強い紫外線照射条件下、例えば昼間の屋外において長時間使用しても、その表示品位が劣化することがない。
The liquid crystal aligning agent of this invention can give the liquid crystal aligning film which has favorable pretilt angle expression property, and also has high ultraviolet-ray tolerance by irradiating a polarized or non-polarized ultraviolet-ray.
Since the liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal aligning agent of the present invention has a high UV resistance, the liquid crystal display device having such a liquid crystal alignment film should be used for a long time under strong UV irradiation conditions, for example, outdoors in the daytime. However, the display quality does not deteriorate.

本発明の液晶配向剤は、上記のとおり、
(I)重合性二重結合を有する基を有し、桂皮酸構造を有する基を有さないポリオルガノシロキサン(以下、「ポリオルガノシロキサン(I)」という。)と、
(II)桂皮酸構造を有する基を有するポリオルガノシロキサン(以下、「ポリオルガノシロキサン(II)」という。)と、
からなる少なくとも2種類のポリオルガノシロキサンを含有するものであるか、あるいは
(III)重合性二重結合を有する基および桂皮酸構造を有する基を有するポリオルガノシロキサン(以下、「ポリオルガノシロキサン(III)」という。)
からなる少なくとも1種類のポリオルガノシロキサンを含有するものである。
ポリオルガノシロキサン(I)は、重合性二重結合を有する基のほかに、任意的に、液晶分子を配向させる機能を有する基(以下、「液晶配向性基」という。)、光増感性機能を有する基(以下、「光増感性基」という。)などを有していてもよい。ポリオルガノシロキサン(II)は、桂皮酸構造を有する基のほかに、任意的に、保護されたカルボキシ基を有する基(以下、「潜在性酸性基」という。)、エポキシ基などを有していてもよい。ポリオルガノシロキサン(III)は、重合性二重結合を有する基および桂皮酸構造を有する基のほかに、任意的に、エポキシ基などを有していてもよい。
上記桂皮酸構造を有する基は、その一部に液晶分子を配向させる機能を有する部位を含んでいてもよい。
The liquid crystal aligning agent of the present invention is as described above.
Have a group having (I) a polymerizable double bond, polyorganosiloxanes having no group having a cinnamic acid structure (hereinafter. Referred to as "polyorganosiloxane (I)") and,
(II) a polyorganosiloxane having a group having a cinnamic acid structure (hereinafter referred to as “polyorganosiloxane (II)”);
Or (III) a polyorganosiloxane having a group having a polymerizable double bond and a group having a cinnamic acid structure (hereinafter referred to as “polyorganosiloxane (III)”. ) ")
And containing at least one polyorganosiloxane.
In addition to the group having a polymerizable double bond, the polyorganosiloxane (I) is optionally a group having a function of aligning liquid crystal molecules (hereinafter referred to as “liquid crystal aligning group”), a photosensitizing function. (Hereinafter referred to as “photosensitizing group”) and the like. In addition to the group having a cinnamic acid structure, the polyorganosiloxane (II) optionally has a group having a protected carboxy group (hereinafter referred to as “latent acidic group”), an epoxy group, and the like. May be. The polyorganosiloxane (III) may optionally have an epoxy group in addition to the group having a polymerizable double bond and the group having a cinnamic acid structure.
The group having a cinnamic acid structure may include a part having a function of aligning liquid crystal molecules in a part of the group.

本発明の液晶配向剤が、
液晶配向性基を有するポリオルガノシロキサン(I)を含有する場合、または
液晶分子を配向させる機能を有する部位を含む桂皮酸構造を有する基を有するポリオルガノシロキサン(II)もしくはポリオルガノシロキサン(III)を含有する場合には、該液晶配向剤はVA型の液晶表示素子に好適に適用することができる。それ以外の場合には、該液晶配向剤はTN型、STN型またはIPS型の液晶表示素子に好適に適用することができる。
なお、本明細書における「液晶配向性基」とは、炭素数4〜30のアルキル基、炭素数1〜30のフルオロアルキル基、ステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基、炭素数2〜24のアルコキシ基を有するアルコキシフェニル基、ビシクロヘキサン骨格を有する炭素数12〜30の炭化水素基などを包含する概念である。
The liquid crystal aligning agent of the present invention is
A polyorganosiloxane (II) or a polyorganosiloxane (III) having a group having a cinnamic acid structure including a portion having a function of aligning liquid crystal molecules when the polyorganosiloxane (I) having a liquid crystal aligning group is contained When it contains, this liquid crystal aligning agent can be applied suitably for a VA type liquid crystal display element. In other cases, the liquid crystal aligning agent can be suitably applied to a TN type, STN type, or IPS type liquid crystal display element.
In this specification, the “liquid crystal alignment group” means an alkyl group having 4 to 30 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton, and a carbon number. It is a concept including an alkoxyphenyl group having 2 to 24 alkoxy groups, a hydrocarbon group having 12 to 30 carbon atoms having a bicyclohexane skeleton, and the like.

<ポリオルガノシロキサン>
ポリオルガノシロキサン(I)および(III)における重合性二重結合を有する基は、下記式(A)
<Polyorganosiloxane>
Polyorganosiloxanes (I) and a group having a polymerizable double bond in (III) is lower following formula (A)

Figure 0005854205
Figure 0005854205

(式(A)中、R15は水素原子またはメチル基であり、
およびXIIは、それぞれ、1,4−フェニレン基、メチレン基または炭素数2〜8のアルキレン基であり、
Zは酸素原子、−COO−または−OCO−(ただし、「*」を付した結合手がXII側である。)であり、
a、b、cおよびdは、それぞれ、0または1であり、
ただし、cが0であってdが1であるとき、XIIは1,4−フェニレン基であり、
bが0であるとき、dは0である。)
で表される基である。


(In the formula (A), R 15 is a hydrogen atom or a methyl group,
X I and X II are each a 1,4-phenylene group, a methylene group or an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms,
Z is an oxygen atom, -COO- * or -OCO- * (However, bond marked with "*" is X II side.)
a, b, c and d are each 0 or 1,
However, when c is is a 0 d is 1, X II is a 1,4-phenylene group,
When b is 0, d is 0. )
In Ru groups der represented.


上記式(A)で表される基の具体例としては、例えばビニル基、アリル基、p−スチリル基、(メタ)アクリロキシメチル基、2−((メタ)アクリロキシ)エチル基、3−((メタ)アクリロキシ)プロピル基、4−((メタ)アクリロキシ)ブチル基、5−((メタ)アクリロキシ)ペンチル基、6−((メタ)アクリロキシ)ヘキシル基、7−((メタ)アクリロキシ)ヘプチル基、8−((メタ)アクリロキシ)オクチル基、9−((メタ)アクリロキシ)ノニル基、10−((メタ)アクリロキシ)デシル基、4−(2−((メタ)アクリロキシ)エチル)フェニル基、2−((4−(メタ)アクリロキシ)フェニル)エチル基、4−((メタ)アクリロキシメチル)フェニル基、4−(メタ)アクリロキシフェニルメチル基、4−(3−((メタ)アクリロキシ)プロピル)フェニル基、3−(4−(メタ)アクリロキシフェニル)プロピル基、4−((メタ)アクリロキシメトキシ)フェニル基、4−(2−((メタ)アクリロキシ)エトキシ)フェニル基、4−(3−((メタ)アクリロキシ)プロポキシ)フェニル基、(メタ)アクリロキシメトキシメチル基、2−((メタ)アクリロキシメトキシ)エチル基、2−(2−((メタ)アクリロキシ)エトキシ)エチル基、2−(2−(2−((メタ)アクリロキシ)エトキシ)エトキシ)エチル基、3−(3−((メタ)アクリロキシ)プロポキシ)プロピル基、アクリロキシメチル基などを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上であることができる。これらの中でもビニル基、アリル基、p−スチリル基、(メタ)アクリロキシメチル基、2−((メタ)アクリロキシ)エチル基および3−((メタ)アクリロキシ)プロピル基を好ましい基として挙げることができる。
上記式(A)で表される基は、ポリオルガノシロキサン(I)の有するSi原子に直接結合していてもよく、あるいは2価の連結基を介して結合していてもよい。
Specific examples of the group represented by the above formula (A) include, for example, vinyl group, allyl group, p-styryl group, (meth) acryloxymethyl group, 2-((meth) acryloxy) ethyl group, 3- ( (Meth) acryloxy) propyl group, 4-((meth) acryloxy) butyl group, 5-((meth) acryloxy) pentyl group, 6-((meth) acryloxy) hexyl group, 7-((meth) acryloxy) heptyl Group, 8-((meth) acryloxy) octyl group, 9-((meth) acryloxy) nonyl group, 10-((meth) acryloxy) decyl group, 4- (2-((meth) acryloxy) ethyl) phenyl group 2-((4- (meth) acryloxy) phenyl) ethyl group, 4-((meth) acryloxymethyl) phenyl group, 4- (meth) acryloxyphenylmethyl group, 4 (3-((meth) acryloxy) propyl) phenyl group, 3- (4- (meth) acryloxyphenyl) propyl group, 4-((meth) acryloxymethoxy) phenyl group, 4- (2-((meta ) Acryloxy) ethoxy) phenyl group, 4- (3-((meth) acryloxy) propoxy) phenyl group, (meth) acryloxymethoxymethyl group, 2-((meth) acryloxymethoxy) ethyl group, 2- (2 -((Meth) acryloxy) ethoxy) ethyl group, 2- (2- (2-((meth) acryloxy) ethoxy) ethoxy) ethyl group, 3- (3-((meth) acryloxy) propoxy) propyl group, acryl Roxymethyl group etc. can be mentioned, It can be 1 or more types selected from these. Among these, vinyl group, allyl group, p-styryl group, (meth) acryloxymethyl group, 2-((meth) acryloxy) ethyl group and 3-((meth) acryloxy) propyl group may be mentioned as preferable groups. it can.
The group represented by the above formula (A) may be directly bonded to the Si atom of the polyorganosiloxane (I) or may be bonded via a divalent linking group.

ポリオルガノシロキサン(I)は、重合性炭素−炭素二重結合を含む基、好ましくは上記式(A)で表される基、より好ましくは上記に例示した具体的な基のうちから選択される1種以上の基を、ポリオルガノシロキサン(I)に含まれるケイ素原子の1モルに対して、好ましくは0.01〜0.60モルの割合、より好ましくは0.02〜0.50モルの割合、さらに好ましくは0.02〜0.30モルの割合で含有する。ポリオルガノシロキサン(III)は、重合性炭素−炭素二重結合を含む基、好ましくは上記式(A)で表される基、より好ましくは上記に例示した具体的な基のうちから選択される1種以上の基を、ポリオルガノシロキサン(I)に含まれるケイ素原子の1モルに対して、好ましくは0.01〜0.60モルの割合、より好ましくは0.02〜0.50モルの割合、さらに好ましくは0.02〜0.30モルの割合で含有する。
ポリオルガノシロキサン(II)またはポリオルガノシロキサン(III)における桂皮酸構造を有する基としては、例えば下記式(B0−1)
The polyorganosiloxane (I) is selected from a group containing a polymerizable carbon-carbon double bond, preferably a group represented by the above formula (A), more preferably a specific group exemplified above. One or more groups are preferably in a proportion of 0.01 to 0.60 mol, more preferably 0.02 to 0.50 mol, relative to 1 mol of silicon atoms contained in polyorganosiloxane (I). It is contained in a proportion, more preferably in a proportion of 0.02 to 0.30 mol. The polyorganosiloxane (III) is selected from a group containing a polymerizable carbon-carbon double bond, preferably a group represented by the above formula (A), more preferably a specific group exemplified above. One or more groups are preferably in a proportion of 0.01 to 0.60 mol, more preferably 0.02 to 0.50 mol, relative to 1 mol of silicon atoms contained in polyorganosiloxane (I). It is contained in a proportion, more preferably in a proportion of 0.02 to 0.30 mol.
Examples of the group having a cinnamic acid structure in the polyorganosiloxane (II) or polyorganosiloxane (III) include, for example, the following formula (B0-1)

Figure 0005854205
Figure 0005854205

(式(B0−1)中、Rは炭素数1〜40のアルキル基または脂環式基を含む炭素数3〜40の1価の有機基であり、ただし前記アルキル基の水素原子の一部または全部はフッ素原子で置換されていてもよく、Rは単結合、酸素原子、−COO−または−OCO−であり、Rは2価の芳香族基、2価の脂環式基、2価の複素環式基または2価の縮合環式基であり、ただし前記2価の芳香族基の水素原子の一部または全部はフッ素原子で置換されていてもよく、Rは単結合、酸素原子、−COO−または−OCO−であり、Rは単結合、メチレン基、炭素数2〜10のアルキレン基または2価の芳香族基であり、Rはフッ素原子、メチル基またはシアノ基であり、fは0〜3の整数であり、gは0〜4の整数である。)
で表される基、下記式(B0−2)
(In the formula (B0-1), R 1 is a monovalent organic group having 3 to 40 carbon atoms including an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms or an alicyclic group, provided that one of hydrogen atoms of the alkyl group. Part or all may be substituted with a fluorine atom, R 2 is a single bond, an oxygen atom, —COO— or —OCO—, and R 3 is a divalent aromatic group or a divalent alicyclic group. A divalent heterocyclic group or a divalent condensed cyclic group, provided that part or all of the hydrogen atoms of the divalent aromatic group may be substituted with fluorine atoms, and R 4 is a single group. A bond, an oxygen atom, —COO— or —OCO—, R 5 is a single bond, a methylene group, an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms or a divalent aromatic group, and R 7 is a fluorine atom or a methyl group. Or a cyano group, f is an integer of 0 to 3, and g is an integer of 0 to 4.)
A group represented by formula (B0-2)

Figure 0005854205
Figure 0005854205

(式(B0−2)中、Rは炭素数1〜40のアルキル基または脂環式基もしくは芳香族基を含む炭素数3〜40の1価の有機基であり、ただし前記アルキル基の水素原子の一部または全部はフッ素原子で置換されていてもよく、Rは単結合、酸素原子、−COO−または−OCO−であり、R10はメチレン基、炭素数2〜10のアルキレン基、2価の芳香族基、2価の脂環式基、2価の複素環式基または2価の縮合環式基であり、ただし前記2価の芳香族基の水素原子の一部または全部はフッ素原子で置換されていてもよく、R11は単結合、−OCO−(CH−、−COO−(CH−または−O−(CH−であり、ただしe、kおよびiはそれぞれ1〜10の整数であり、R13はフッ素原子、メチル基またはシアノ基であり、hは0〜3の整数であり、jは0〜4の整数である。)
で表される基などを挙げることができる。
(In the formula (B0-2), R 8 is an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms or a monovalent organic group having 3 to 40 carbon atoms including an alicyclic group or an aromatic group, provided that the alkyl group is Part or all of the hydrogen atoms may be substituted with fluorine atoms, R 9 is a single bond, oxygen atom, —COO— or —OCO—, R 10 is a methylene group, alkylene having 2 to 10 carbon atoms A divalent aromatic group, a divalent alicyclic group, a divalent heterocyclic group, or a divalent condensed cyclic group, provided that a part of hydrogen atoms of the divalent aromatic group or All may be substituted with fluorine atoms, R 11 is a single bond, —OCO— (CH 2 ) e —, —COO— (CH 2 ) k — or —O— (CH 2 ) i —; However e, k and i is an integer of from 1 to 10, respectively, R 13 is fluorine atom, methylcarbamoyl A group or a cyano group, h is an integer of 0 to 3, j is an integer of 0-4.)
The group etc. which are represented by these can be mentioned.

上記式(B0−1)におけるRおよび(B0−2)におけるRの脂環式基を含む炭素数3〜40の1価の有機基としては、例えばコレステニル基、コレスタニル基、アダマンチル基などを挙げることができる。RおよびRの炭素数1〜40のアルキル基としては、例えば炭素数1〜20のアルキル基、ただしこのアルキル基の水素原子の一部または全部はフッ素原子により置換されているフッ化アルキル基であってもよい、であることが好ましい。このような(フッ化)アルキル基としては炭素数5〜20の直鎖のものが好ましく、例えばn−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ラウリル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基、4,4,4−トリフロロブチル基、4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル基、4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロヘキシル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2−(パーフルオロブチル)エチル基、2−(パーフルオロオクチル)エチル基、2−(パーフルオロデシル)エチルなどを挙げることができ、これらのうちの1種以上であることができる。 Examples of the monovalent organic group having 3 to 40 carbon atoms including the alicyclic group of R 1 in the above formula (B0-1) and R 8 in (B0-2) include a cholestenyl group, a cholestanyl group, an adamantyl group and the like. Can be mentioned. Examples of the alkyl group having 1 to 40 carbon atoms of R 1 and R 8 include, for example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, provided that part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with fluorine atoms. It may be a group. Such a (fluorinated) alkyl group is preferably a straight chain group having 5 to 20 carbon atoms, such as an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, an n-nonyl group, n-decyl group, n-lauryl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-eicosyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, 4,4,5,5,5-pentafluoropentyl group, 4,4,5,5,6,6,6-heptafluorohexyl group, 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropentyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2- (perfluoro Butyl) ethyl group, 2- Perfluorooctyl) ethyl group, 2- (including perfluoro decyl) ethyl can be cited, can be at one or more of these.

上記式(B0−1)におけるRおよび(B0−2)におけるR10の、2価の芳香族基としては、例えば1,4−フェニレン基、2−フルオロ−1,4−フェニレン基、3−フルオロ−1,4−フェニレン基、2,3,5,6−テトラフルオロ−1,4−フェニレン基などを;
およびR10の脂環式基としては、例えば1,4−シクロへキシレン基などを;
およびR10の2価の複素環式基としては、例えば1,4−ピリジレン基、2,5−ピリジレン基、1,4−フラニレン基などを;
およびR10の2価の縮合環式基としては、例えばナフチレン基などを、それぞれ挙げることができる。
上記式(B0−1)で表される基としては、例えば下記式(B0−1−1)〜(B0−1−3)のそれぞれで表される記などを;
上記式(B0−2)で表される基としては、例えば下記式(B0−2−1)〜(B0−2−3)のそれぞれで表される基などを、それぞれ挙げることができるほか、特願2010−111836号に記載されたカルボン酸から、カルボキシ基の水素原子を除去して得られる基を挙げることができる。
Examples of the divalent aromatic group represented by R 3 in the above formula (B0-1) and R 10 in (B0-2) include a 1,4-phenylene group, a 2-fluoro-1,4-phenylene group, 3 -Fluoro-1,4-phenylene group, 2,3,5,6-tetrafluoro-1,4-phenylene group and the like;
Examples of the alicyclic group for R 3 and R 10 include a 1,4-cyclohexylene group;
Examples of the divalent heterocyclic group represented by R 3 and R 10 include a 1,4-pyridylene group, a 2,5-pyridylene group, a 1,4-furanylene group;
Examples of the divalent condensed cyclic group represented by R 3 and R 10 include a naphthylene group.
Examples of the group represented by the above formula (B0-1) include the description represented by each of the following formulas (B0-1-1) to (B0-1-3);
Examples of the group represented by the formula (B0-2) include groups represented by the following formulas (B0-2-1) to (B0-2-3), respectively. The group obtained by removing the hydrogen atom of a carboxy group from the carboxylic acid described in Japanese Patent Application No. 2010-1111836 can be mentioned.

Figure 0005854205
Figure 0005854205

Figure 0005854205
Figure 0005854205

(上記式(B0−1−1)〜(B0−1−3)におけるRは上記式(B0−1)におけるのと同じ意味であり;
上記式(B0−2−1)〜(B0−2−3)におけるRは上記式(B0−2)におけるのと同じ意味であり、uは1〜10の整数である。)
上記式(B0−1)または(B0−2)で表される基は、ポリオルガノシロキサン(II)またはポリオルガノシロキサン(III)の有するSi原子に直接結合していてもよく、あるいは2価の連結基を介して結合していてもよい。
ポリオルガノシロキサン(II)は、桂皮酸構造を有する基、好ましくは上記式(B0−1)および(B0−2)のそれぞれで表される基から選択される1種以上、より好ましくは上記に例示した具体的な基のうちから選択される1種以上の基を、ポリオルガノシロキサン(II)に含まれるケイ素原子の1モルに対して、好ましくは0.01〜0.60モルの割合、より好ましくは0.02〜0.50モルの割合、さらに好ましくは0.02〜0.30モルの割合で含有する。ポリオルガノシロキサン(III)は、桂皮酸構造を有する基、好ましくは上記式(B0−1)および(B0−2)のそれぞれで表される基から選択される少なくとも1種、より好ましくは上記に例示した具体的な基のうちから選択される少なくとも1種の基を、ポリオルガノシロキサン(III)に含まれるケイ素原子の1モルに対して、好ましくは0.01〜0.60モルの割合、より好ましくは0.02〜0.50モルの割合、さらに好ましくは0.02〜0.30モルの割合で含有する。
(R 1 in the above formulas (B0-1-1) to (B0-1-3) has the same meaning as in the above formula (B0-1);
R 8 in the above formulas (B0-2-1) to (B0-2-3) has the same meaning as in the above formula (B0-2), and u is an integer of 1 to 10. )
The group represented by the above formula (B0-1) or (B0-2) may be directly bonded to the Si atom of the polyorganosiloxane (II) or polyorganosiloxane (III), or a divalent group. It may be bonded via a linking group.
The polyorganosiloxane (II) is a group having a cinnamic acid structure, preferably one or more selected from the groups represented by the above formulas (B0-1) and (B0-2), more preferably One or more groups selected from the exemplified specific groups are preferably in a ratio of 0.01 to 0.60 moles with respect to 1 mole of silicon atoms contained in the polyorganosiloxane (II). More preferably, it is contained in a proportion of 0.02 to 0.50 mol, and more preferably in a proportion of 0.02 to 0.30 mol. The polyorganosiloxane (III) is a group having a cinnamic acid structure, preferably at least one selected from the groups represented by the formulas (B0-1) and (B0-2), more preferably Preferably at least one group selected from the exemplified specific groups is in a proportion of 0.01 to 0.60 moles per mole of silicon atoms contained in the polyorganosiloxane (III), More preferably, it is contained in a proportion of 0.02 to 0.50 mol, and more preferably in a proportion of 0.02 to 0.30 mol.

ポリオルガノシロキサン(I)が任意的に有することのできる液晶配向性基としては、例えば炭素数4〜30のアルキル基、炭素数1〜30のフルオロアルキル基、ステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基、炭素数2〜24のアルコキシ基を有するアルコキシフェニル基、ビシクロヘキサン骨格を有する炭素数12〜30の炭化水素基などを挙げることができる。
上記炭素数4〜30のアルキル基としては、直鎖のものが好ましく、例えばn−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基などを挙げることができる。上記炭素数1〜30のフルオロアルキル基としては、例えば3,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシル基などを;
上記ステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基としては、例えば3−コレスタニル基、3−コレステニル基、3−ラノスタニル基、3−コラニル基、3−プレグナル基、3−アンドロスタニル基、3−エストラニル基などを、それぞれ挙げることができる。上記炭素数2〜24のアルコキシ基を有するアルコキシフェニル基としては、炭素数2〜18の直鎖のアルコキシ基を有する4−アルコキシフェニル基であることが好ましく、例えば4−n−ペントキシフェニル基、4−n−ヘキシロキシフェニル基、4−n−オクチロキシフェニル基、4−n−ドデシロキシフェニル基などを挙げることができる。上記ビシクロヘキサン骨格を有する炭素数12〜30の炭化水素基としては、例えば4−n−ペンチルビシクロヘキシル基、4−n−ヘプチルビシクロヘキシル基、4−n−プロピルビシクロヘキシル基などを挙げることができる。
Examples of the liquid crystal orientation group that the polyorganosiloxane (I) can optionally have include, for example, an alkyl group having 4 to 30 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton. A hydrocarbon group having 2 to 24 carbon atoms, an alkoxyphenyl group having 2 to 24 carbon atoms, a hydrocarbon group having 12 to 30 carbon atoms having a bicyclohexane skeleton, and the like.
As said C4-C30 alkyl group, a linear thing is preferable, for example, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-dodecyl group, n-octadecyl group etc. can be mentioned. . Examples of the C1-C30 fluoroalkyl group include 3,3,3-trifluoropropyl group, 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropentyl group, 3,3,4, 4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8, A 9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl group and the like;
Examples of the hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms and having the steroid skeleton include, for example, 3-cholestanyl group, 3-cholestenyl group, 3-lanostanyl group, 3-colanyl group, 3-pregnal group, 3-androstanyl group, 3 -Estranyl group etc. can be mentioned, respectively. The alkoxyphenyl group having an alkoxy group having 2 to 24 carbon atoms is preferably a 4-alkoxyphenyl group having a linear alkoxy group having 2 to 18 carbon atoms, such as a 4-n-pentoxyphenyl group. 4-n-hexyloxyphenyl group, 4-n-octyloxyphenyl group, 4-n-dodecyloxyphenyl group, and the like. Examples of the hydrocarbon group having 12 to 30 carbon atoms having a bicyclohexane skeleton include 4-n-pentylbicyclohexyl group, 4-n-heptylbicyclohexyl group, 4-n-propylbicyclohexyl group and the like. it can.

上記に例示したような液晶配向性基は、ポリオルガノシロキサン(I)の有するSi原子に直接結合していてもよく、あるいは2価の連結基を介して結合していてもよい。
ポリオルガノシロキサン(I)における液晶配向性基の存在割合は、ポリオルガノシロキサン(I)に含まれるケイ素原子の1モルに対して、0.7モル以下の割合であることが好ましく、0.5モル以下の割合であることがより好ましく、特に0.1〜0.5モルの割合であることが好ましい。
The liquid crystal alignment group as exemplified above may be directly bonded to the Si atom of the polyorganosiloxane (I) or may be bonded via a divalent linking group.
The proportion of the liquid crystal alignment group in the polyorganosiloxane (I) is preferably 0.7 mol or less with respect to 1 mol of silicon atoms contained in the polyorganosiloxane (I). The ratio is more preferably less than or equal to mol, and particularly preferably the ratio of 0.1 to 0.5 mol.

ポリオルガノシロキサン(I)が任意的に有することのできる光増感性基としては、例えばアセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造、フルオレン構造、ナフタレン構造、アントラセン構造、アクリジン構造およびインドール構造から選択される構造のうちの1種以上を有する基などなどを挙げることができる。上記の構造は、それぞれ、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アントラキノン、ビフェニル、カルバゾール、ニトロベンゼンもしくはジニトロベンゼン、ナフタレン、フルオレン、アントラセン、アクリジンまたはインドールから、1〜4個の水素原子を除去して得られる基からなる構造である。アセトフェノン構造、カルバゾール構造およびインドール構造は、それぞれ、アセトフェノン、カルバゾールまたはインドールのベンゼン環が有する水素原子のうちの1〜4個を除去して得られる基からなる構造であることが好ましい。
光増感性基としては、これらのうち、アセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造およびナフタレン構造よりなる群から選択される少なくとも1種の構造を有する基であることが好ましく、アセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造およびニトロアリール構造よりなる群から選択される少なくとも1種の構造を有する基であることが特に好ましい。
光増感性基として、例えば下記式(D0−3−1)〜(D0−3−10)
Examples of the photosensitizing group that polyorganosiloxane (I) can optionally have include, for example, an acetophenone structure, a benzophenone structure, an anthraquinone structure, a biphenyl structure, a carbazole structure, a nitroaryl structure, a fluorene structure, a naphthalene structure, an anthracene structure, Examples thereof include a group having one or more of structures selected from an acridine structure and an indole structure. Each of the above structures is a structure comprising groups obtained by removing 1 to 4 hydrogen atoms from acetophenone, benzophenone, anthraquinone, biphenyl, carbazole, nitrobenzene or dinitrobenzene, naphthalene, fluorene, anthracene, acridine or indole. It is. The acetophenone structure, carbazole structure and indole structure are each preferably a structure comprising groups obtained by removing 1 to 4 hydrogen atoms of the benzene ring of acetophenone, carbazole or indole.
Among these, the photosensitizing group is a group having at least one structure selected from the group consisting of an acetophenone structure, a benzophenone structure, an anthraquinone structure, a biphenyl structure, a carbazole structure, a nitroaryl structure, and a naphthalene structure. And a group having at least one structure selected from the group consisting of an acetophenone structure, a benzophenone structure, and a nitroaryl structure is particularly preferable.
Examples of photosensitizing groups include the following formulas (D0-3-1) to (D0-3-10).

Figure 0005854205
Figure 0005854205

のそれぞれで表される基などを挙げることができる。
上記に例示したような光増感性基は、ポリオルガノシロキサン(I)の有するSi原子に直接結合していてもよく、あるいは2価の連結基を介して結合していてもよい。
ポリオルガノシロキサン(I)における光増感性基の存在割合は、ポリオルガノシロキサン(I)に含まれるケイ素原子の1モルに対して、0.3モル以下の割合であることが好ましく、0.2モル以下の割合であることがより好ましく、特に0.1モル以下の割合であることが好ましい。ポリオルガノシロキサン(I)における光増感性基を有さないことが好ましい。
And groups represented by each of the above.
The photosensitizing group as exemplified above may be directly bonded to the Si atom of the polyorganosiloxane (I) or may be bonded via a divalent linking group.
The proportion of the photosensitizing group in the polyorganosiloxane (I) is preferably 0.3 mol or less with respect to 1 mol of silicon atoms contained in the polyorganosiloxane (I). The ratio is more preferably less than or equal to a mole, and particularly preferably less than or equal to 0.1 mole. It is preferable that the polyorganosiloxane (I) does not have a photosensitizing group.

ポリオルガノシロキサン(II)が任意的に有することのできる潜在性酸性基としては、例えば特願2011−202073に記載されたものを挙げることができる。本発明における潜在性酸性基としては、1−エトキシエトキシカルボニル基、1−n−プロポキシエトキシカルボニル基、1−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル基、2−テトラヒドロピラニルオキシカルボニル基、2−テトラヒドロピラニルオキシカルボニル基、1−メチル−1−メトキシエトキシカルボニル基、1−メチル−1−シクロヘキシルオキシエトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基およびt−アミロキシカルボニル基よりなる群から選択される1種以上であることが好ましい。
上記に例示したような潜在性酸性基は、ポリオルガノシロキサン(I)の有するSi原子に直接結合していてもよく、あるいは2価の連結基を介して結合していてもよい。
ポリオルガノシロキサン(II)における潜在性酸性基の存在割合は、ポリオルガノシロキサン(II)に含まれるケイ素原子の1モルに対して、0.3モル以下の割合であることが好ましく、0.2モル以下の割合であることがより好ましく、特に0.1モル以下の割合であることが好ましい。ポリオルガノシロキサン(I)における光増感性基を有さないことが好ましい。
Examples of the latent acidic group that the polyorganosiloxane (II) can optionally have include those described in Japanese Patent Application No. 2011-202073. Examples of the latent acidic group in the present invention include 1-ethoxyethoxycarbonyl group, 1-n-propoxyethoxycarbonyl group, 1-cyclohexyloxyethoxycarbonyl group, 2-tetrahydropyranyloxycarbonyl group, 2-tetrahydropyranyloxycarbonyl. One or more selected from the group consisting of a group, 1-methyl-1-methoxyethoxycarbonyl group, 1-methyl-1-cyclohexyloxyethoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group and t-amyloxycarbonyl group Is preferred.
The latent acidic group as exemplified above may be directly bonded to the Si atom of the polyorganosiloxane (I) or may be bonded via a divalent linking group.
The proportion of latent acidic groups in the polyorganosiloxane (II) is preferably 0.3 mol or less with respect to 1 mol of silicon atoms contained in the polyorganosiloxane (II). The ratio is more preferably less than or equal to a mole, and particularly preferably less than or equal to 0.1 mole. It is preferable that the polyorganosiloxane (I) does not have a photosensitizing group.

ポリオルガノシロキサン(II)および(III)が任意的に有することのできるエポキシ基としては、オキシラニル基(1,2−エポキシ基)、3,4−エポキシシクロヘキシル基などを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上であることができる。
これらのエポキシ基は、ポリオルガノシロキサン(II)またはポリオルガノシロキサン(III)の有するSi原子に直接結合していてもよく、あるいは2価の連結基を介して結合していてもよい。
ポリオルガノシロキサン(II)におけるエポキシ基の存在割合は、ポリオルガノシロキサン(II)に含まれるケイ素原子の1モルに対して、0.7モル以下の割合であることが好ましく、0.05〜0.5モルの割合であることがより好ましく、特に0.1〜0.3モルの割合であることが好ましい。ポリオルガノシロキサン(III)におけるエポキシ基の存在割合は、ポリオルガノシロキサン(III)に含まれるケイ素原子の1モルに対して、0.7モル以下の割合であることが好ましく、0.05〜0.5モルの割合であることがより好ましく、特に0.1〜0.3モルの割合であることが好ましい。
Examples of the epoxy group that the polyorganosiloxane (II) and (III) can optionally have include an oxiranyl group (1,2-epoxy group), a 3,4-epoxycyclohexyl group, and the like. It can be one or more selected from among them.
These epoxy groups may be directly bonded to Si atoms of polyorganosiloxane (II) or polyorganosiloxane (III), or may be bonded via a divalent linking group.
The proportion of the epoxy group present in the polyorganosiloxane (II) is preferably 0.7 mol or less with respect to 1 mol of the silicon atom contained in the polyorganosiloxane (II). More preferably, the ratio is 0.5 mol, and particularly preferably 0.1 to 0.3 mol. The proportion of the epoxy group in the polyorganosiloxane (III) is preferably 0.7 mol or less with respect to 1 mol of the silicon atom contained in the polyorganosiloxane (III), and 0.05 to 0 More preferably, the ratio is 0.5 mol, and particularly preferably 0.1 to 0.3 mol.

ポリオルガノシロキサン(I)、(II)および(III)につき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、それぞれ、500〜1,000,000であることが好ましく、1,000〜100,000であることがより好ましく、さらに1,000〜50,000であることが好ましい。
このようなポリオルガノシロキサン(I)、(II)および(III)は、それぞれ、上記のような特徴を有するものである限り、いかなる方法によって製造されたものであってもよいが、例えば以下のような方法によって得ることができる。
For the polyorganosiloxanes (I), (II) and (III), the polystyrene-equivalent weight average molecular weights measured by gel permeation chromatography are preferably 500 to 1,000,000, respectively. More preferably, it is ˜100,000, more preferably 1,000 to 50,000.
Such polyorganosiloxanes (I), (II) and (III) may be produced by any method as long as they have the above-mentioned characteristics. It can be obtained by such a method.

上記のようなポリオルガノシロキサン(I)は、例えば重合性二重結合を有する加水分解性シラン化合物(以下、「シラン化合物(a1)」という。)またはシラン化合物(a1)と他の加水分解性シラン化合物との混合物を重縮合する工程を経る方法によって得ることができる。ポリオルガノシロキサン(I)を合成するに際して以下のような操作を行うことにより、重合性二重結合を有する基のほかに液晶配向性基および光増感性基から選択される1種以上の基を有するポリオルガノシロキサン(I)を得ることができる。すなわち;
シラン化合物を重縮合するにあたって他の加水分解性シラン化合物を併用し、且つ該他の加水分解性シラン化合物の少なくとも一部にエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物(以下、「シラン化合物(a2)」という。)を使用して先ず重合性二重結合を有する基とエポキシ基とを有するポリオルガノシロキサン(以下、「前駆体(I)」という、)を合成し、次いで該前駆体(I)の有するエポキシ基に、液晶配向性基を有するカルボン酸(以下、「カルボン酸(2)」という。)、および光増感性基を有するカルボン酸(以下、「カルボン酸(3)」という。)から選択される1種以上の化合物を反応させることにより、重合性二重結合を有する基のほかに液晶配向性基および光増感性基から選択される1種以上の基を有するポリオルガノシロキサン(I)を得ることができる。また、シラン化合物を重縮合するにあたって他の加水分解性シラン化合物を併用し、且つ該他の加水分解性シラン化合物の少なくとも一部に液晶配向性基を有する加水分解性シラン化合物(以下、「シラン化合物(a3)」という。)を使用することにより、重合性二重結合を有する基のほかに液晶配向性基を有するポリオルガノシロキサン(I)を得ることができる。
The above polyorganosiloxane (I) is, for example, a hydrolyzable silane compound having a polymerizable double bond (hereinafter referred to as “silane compound (a1)”) or a silane compound (a1) and other hydrolyzable compounds. It can be obtained by a method through a step of polycondensing a mixture with a silane compound. In synthesizing the polyorganosiloxane (I), one or more groups selected from a liquid crystal aligning group and a photosensitizing group can be obtained in addition to a group having a polymerizable double bond by performing the following operation. The polyorganosiloxane (I) can be obtained. Ie;
In the polycondensation of the silane compound, another hydrolyzable silane compound is used in combination, and at least a part of the other hydrolyzable silane compound has an epoxy group (hereinafter referred to as “silane compound (a2)”. First, a polyorganosiloxane having a group having a polymerizable double bond and an epoxy group (hereinafter referred to as “precursor (I)”) is synthesized, and then the precursor (I) is synthesized. A carboxylic acid having a liquid crystal alignment group (hereinafter referred to as “carboxylic acid (2)”) and a carboxylic acid having a photosensitizing group (hereinafter referred to as “carboxylic acid (3)”). In addition to a group having a polymerizable double bond, a polyol having at least one group selected from a liquid crystal aligning group and a photosensitizing group is reacted with one or more compounds selected from It can be obtained Ganoderma siloxane (I). In addition, in the polycondensation of the silane compound, another hydrolyzable silane compound is used in combination, and at least a part of the other hydrolyzable silane compound has a liquid crystal alignment group (hereinafter referred to as “silane”). By using the compound (a3) "), a polyorganosiloxane (I) having a liquid crystal aligning group in addition to a group having a polymerizable double bond can be obtained.

上記のようなポリオルガノシロキサン(II)は、例えばシラン化合物(a2)またはシラン化合物(a2)と他の加水分解性シラン化合物との混合物を重縮合して先ずエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(以下、「前駆体(II)」という、)を合成し、次いで該前駆体(II)の有するエポキシ基に桂皮酸構造を有するカルボン酸(以下、「カルボン酸(1)」という。)を反応させることにより、合成することができる。ここで、上記カルボン酸(1)とともに潜在性酸性基を有するカルボン酸(以下、「カルボン酸(4)」という。)を併用することにより、桂皮酸構造のほかに潜在性酸性基を有するポリオルガノシロキサン(II)とすることができ;
カルボン酸(1)および任意的に使用されるカルボン酸(4)の合計の使用割合を、前駆体(II)のエポキシ基量よりも少ない量とすることにより、さらにエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(II)とすることができる。
The polyorganosiloxane (II) as described above is prepared by polycondensation of, for example, a silane compound (a2) or a mixture of a silane compound (a2) and another hydrolyzable silane compound, and then first having an epoxy group (hereinafter referred to as “polyorganosiloxane”). , "Precursor (II)"), and then the epoxy group of the precursor (II) is reacted with a carboxylic acid having a cinnamic acid structure (hereinafter referred to as "carboxylic acid (1)"). Can be synthesized. Here, by using together with the carboxylic acid (1), a carboxylic acid having a latent acidic group (hereinafter referred to as “carboxylic acid (4)”), a polyamic acid having a latent acidic group in addition to the cinnamic acid structure is used. Can be an organosiloxane (II);
Polyorganosiloxane further having an epoxy group by setting the total use ratio of the carboxylic acid (1) and the optionally used carboxylic acid (4) to an amount smaller than the amount of the epoxy group of the precursor (II) (II).

上記のようなポリオルガノシロキサン(III)は、例えばシラン化合物(a1)および(a2)、またはこれらと他の加水分解シラン化合物との混合物を重縮合して先ず重合性二重結合を有する基とエポキシ基とを有するポリオルガノシロキサン(以下、「前駆体(III)」という、)を合成し、次いで該前駆体(III)の有するエポキシ基にカルボン酸(1)を反応させることにより、合成することができる。ここで、上記カルボン酸(1)とともにカルボン酸(2)を併用することにより、重合性二重結合を有する基および桂皮酸構造のほかに液晶配向性基を有するポリオルガノシロキサン(II)とすることができ;
カルボン酸(1)および任意的に使用されるカルボン酸(2)の合計の使用割合を、上記前駆体(III)のエポキシ基量よりも少ない量とすることにより、さらにエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(III)とすることができる。
上記加水分解性シラン化合物またはその混合物の重縮合は、例えば特願2011−95224号に記載された方法によって行うことができる。かくして得られる前駆体(I)および(III)は、それぞれ、下記式(S−1)
The polyorganosiloxane (III) as described above includes, for example, polycondensation of silane compounds (a1) and (a2), or a mixture of these with other hydrolyzed silane compounds, and a group having a polymerizable double bond. A polyorganosiloxane having an epoxy group (hereinafter referred to as “precursor (III)”) is synthesized, and then the epoxy group of the precursor (III) is reacted with the carboxylic acid (1). be able to. Here, by using the carboxylic acid (2) together with the carboxylic acid (1), a polyorganosiloxane (II) having a liquid crystal orientation group in addition to a group having a polymerizable double bond and a cinnamic acid structure is obtained. It is possible;
A polyorgano having an epoxy group further by setting the total use ratio of the carboxylic acid (1) and the optionally used carboxylic acid (2) to an amount smaller than the amount of the epoxy group of the precursor (III). Siloxane (III) can be used.
The polycondensation of the hydrolyzable silane compound or a mixture thereof can be performed, for example, by the method described in Japanese Patent Application No. 2011-95224. The precursors (I) and (III) thus obtained are each represented by the following formula (S-1):

Figure 0005854205
Figure 0005854205

(式(S−1)中、Xはエポキシ基を有する基であり、Yは水酸基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基である。)
で表される繰り返し単位および下記式(S−2)
(In Formula (S-1), X 1 is a group having an epoxy group, Y 1 is a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl having 6 to 20 carbon atoms. Group.)
And a repeating unit represented by the following formula (S-2)

Figure 0005854205
Figure 0005854205

(式(S−2)中、Aは上記式(A)で表される基であり、Yは上記式(S−1)におけるYと同じ意味である。)
で表される繰り返し単位を有するポリオルガノシロキサン、その加水分解物および加水分解物の縮合物よりなる群から選択される少なくとも1種であり、おそらくはこれらの混合物である。前駆体(II)は、上記式(S−1)で表される繰り返し単位を有するポリオルガノシロキサン、その加水分解物および加水分解物の縮合物よりなる群から選択される少なくとも1種であり、おそらくはこれらの混合物である。
このような前駆体(I)の有するエポキシ基に、カルボン酸(2)および任意的にカルボン酸(3)を反応させることにより、重合性二重結合を有する基および液晶配向性基ならびに任意的に光増感性基を有するポリオルガノシロキサン(I)を得ることができる。前駆体(II)の有するエポキシ基に、カルボン酸(1)および任意的にカルボン酸(3)を反応させることにより、桂皮酸構造を有する基および任意的に光増感性基を有するポリオルガノシロキサン(II)を得ることができる。前駆体(III)の有するエポキシ基に、カルボン酸(1)および任意的にカルボン酸(4)を反応させることにより、重合性二重結合を有する基および桂皮酸構造を有する基ならびに任意的に潜在性酸性基を有するポリオルガノシロキサン(II)を得ることができる。
(In the formula (S-2), A is a group represented by the formula (A), Y 1 has the same meaning as Y 1 in the above formula (S-1).)
It is at least one selected from the group consisting of a polyorganosiloxane having a repeating unit represented by the following formula, a hydrolyzate thereof and a condensate of the hydrolyzate, and possibly a mixture thereof. The precursor (II) is at least one selected from the group consisting of a polyorganosiloxane having a repeating unit represented by the above formula (S-1), a hydrolyzate thereof, and a condensate of the hydrolyzate, Probably a mixture of these.
By reacting the carboxylic acid (2) and optionally the carboxylic acid (3) with such an epoxy group of the precursor (I), a group having a polymerizable double bond, a liquid crystal alignment group, and an optional group Thus, polyorganosiloxane (I) having a photosensitizing group can be obtained. A polyorganosiloxane having a group having a cinnamic acid structure and optionally a photosensitizing group by reacting the carboxylic acid (1) and optionally the carboxylic acid (3) with the epoxy group of the precursor (II) (II) can be obtained. By reacting the carboxylic acid (1) and optionally the carboxylic acid (4) to the epoxy group of the precursor (III), a group having a polymerizable double bond and a group having a cinnamic acid structure and optionally Polyorganosiloxane (II) having a latent acidic group can be obtained.

上記カルボン酸(1)は桂皮酸構造を有するカルボン酸である。
カルボン酸(1)における桂皮酸構造を有する基としては、上記式(B0−1)および(B0−2)のそれぞれで表される基が好ましい。従って本発明におけるカルボン酸(1)としては、上記式(B0−1)および(B0−2)のそれぞれの結合手にカルボキシ基が結合してなる化合物であることが好ましく、具体的には例えば特願2010−111836号に記載された化合物を使用することがより好ましい。
上記カルボン酸(2)は液晶配向性基を有するカルボン酸である。カルボン酸(2)の有する液晶配向性基については、ポリオルガノシロキサン(I)が任意的に有することのできる液晶配向性基について上記に説明したところと同様である。
本発明において用いられるカルボン酸(2)としては、例えばブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ラウリン酸、ステアリン酸、4−プロピル安息香酸、4−ブチル安息香酸、4−ペンチル安息香酸、4−ヘキシル安息香酸、4−ヘプチル安息香酸、4−オクチル安息香酸、4−ノニル安息香酸、4−デシル安息香酸、4−ドデシル安息香酸、4−オクタデシル安息香酸、4−メトキシ安息香酸、4−エトキシ安息香酸、4−プロポキシ安息香酸、4−ブトキシ安息香酸、4−ペンチルオキシ安息香酸、4−ヘキシルオキシ安息香酸、4−ヘプチルオキシ安息香酸、4−オクチルオキシ安息香酸、4−ノニルオキシ安息香酸、4−デシルオキシ安息香酸、4−ドデシルオキシ安息香酸、4−オクタデシルオキシ安息香酸、4−(4’−n−ペンチルシクロヘキシル)安息香酸、下記式(1)〜(3)
The carboxylic acid (1) is a carboxylic acid having a cinnamic acid structure.
The group having a cinnamic acid structure in the carboxylic acid (1) is preferably a group represented by each of the above formulas (B0-1) and (B0-2). Accordingly, the carboxylic acid (1) in the present invention is preferably a compound in which a carboxy group is bonded to each bond of the above formulas (B0-1) and (B0-2). It is more preferable to use the compound described in Japanese Patent Application No. 2010-1111836.
The carboxylic acid (2) is a carboxylic acid having a liquid crystal alignment group. About the liquid crystal aligning group which carboxylic acid (2) has, it is the same as that of having demonstrated above about the liquid crystal aligning group which polyorganosiloxane (I) can have arbitrarily.
Examples of the carboxylic acid (2) used in the present invention include butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, lauric acid, stearic acid, 4-propylbenzoic acid, and 4-butyl. Benzoic acid, 4-pentylbenzoic acid, 4-hexylbenzoic acid, 4-heptylbenzoic acid, 4-octylbenzoic acid, 4-nonylbenzoic acid, 4-decylbenzoic acid, 4-dodecylbenzoic acid, 4-octadecylbenzoic acid 4-methoxybenzoic acid, 4-ethoxybenzoic acid, 4-propoxybenzoic acid, 4-butoxybenzoic acid, 4-pentyloxybenzoic acid, 4-hexyloxybenzoic acid, 4-heptyloxybenzoic acid, 4-octyloxy Benzoic acid, 4-nonyloxybenzoic acid, 4-decyloxybenzoic acid, 4-dodecyloxybenzoic acid, 4-o Tadeshiruokishi benzoate, 4-(4'-n-pentyl cyclohexyl) benzoic acid, the following formula (1) to (3)

Figure 0005854205
Figure 0005854205

のそれぞれで表される化合物などを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を用いることができる。
上記カルボン酸(3)は光増感性基を有するカルボン酸である。
この光増感性基は、放射線の照射により励起し、この励起エネルギーを重合体内で近接する感光性構造に与える機能を有する。この励起状態は、一重項であってもよく、三重項であってもよいが、寿命が長く効率的にエネルギー移動がなされることから、三重項であることが好ましい。上記光増感性構造が吸収する放射線は、波長150〜600nmの範囲の紫外線または可視光線であることが好ましい。波長がこれより短い放射線は、通常の光学系で取り扱うことができないため、光配向法に好適に用いることができない。一方、これより波長の長い放射線は、エネルギーが小さく、上記光増感性基の励起状態を誘起し難い。
The compound represented by each of these can be mentioned, One or more types selected from these can be used.
The carboxylic acid (3) is a carboxylic acid having a photosensitizing group.
This photosensitizing group has a function of being excited by irradiation with radiation and imparting this excitation energy to the adjacent photosensitive structure in the polymer. This excited state may be a singlet or a triplet, but is preferably a triplet because of its long lifetime and efficient energy transfer. The radiation absorbed by the photosensitizing structure is preferably ultraviolet rays or visible rays having a wavelength in the range of 150 to 600 nm. Radiation having a shorter wavelength cannot be used in a photo-alignment method because it cannot be handled by a normal optical system. On the other hand, radiation having a wavelength longer than this has low energy and hardly induces an excited state of the photosensitizing group.

このような光増感性基における光増感性構造としては、例えばアセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造、フルオレン構造、ナフタレン構造、アントラセン構造、アクリジン構造、インドール構造などを挙げることができ、従って上記光増感性基は、これらのうちの少なくとも1種の構造を有する基であることができる。上記の構造とは、それぞれ、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アントラキノン、ビフェニル、カルバゾール、ニトロベンゼンもしくはジニトロベンゼン、ナフタレン、フルオレン、アントラセン、アクリジンまたはインドールから、1〜4個の水素原子を除去して得られる基からなる構造をいう。ここで、アセトフェノン構造、カルバゾール構造およびインドール構造は、それぞれ、アセトフェノン、カルバゾールまたはインドールのベンゼン環が有する水素原子のうちの1〜4個を除去して得られる基からなる構造であることが好ましい。
光増感性構造としては、これらのうち、アセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造およびナフタレン構造よりなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましく、アセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造およびニトロアリール構造よりなる群から選択される少なくとも1種であることが特に好ましい。
本発明におけるカルボン酸(3)としては、カルボキシル基および光増感性構造を有する化合物であることが好ましく、さらに好ましい化合物として、例えば下記式(C−1)〜(C−10)
Examples of the photosensitizing structure in such a photosensitizing group include acetophenone structure, benzophenone structure, anthraquinone structure, biphenyl structure, carbazole structure, nitroaryl structure, fluorene structure, naphthalene structure, anthracene structure, acridine structure, indole structure, etc. Therefore, the photosensitizing group can be a group having at least one of these structures. Each of the above structures consists of groups obtained by removing 1 to 4 hydrogen atoms from acetophenone, benzophenone, anthraquinone, biphenyl, carbazole, nitrobenzene or dinitrobenzene, naphthalene, fluorene, anthracene, acridine or indole. Refers to the structure. Here, the acetophenone structure, the carbazole structure and the indole structure are each preferably a structure composed of groups obtained by removing 1 to 4 hydrogen atoms of the benzene ring of acetophenone, carbazole or indole.
Of these, the photosensitizing structure is preferably at least one selected from the group consisting of an acetophenone structure, a benzophenone structure, an anthraquinone structure, a biphenyl structure, a carbazole structure, a nitroaryl structure, and a naphthalene structure. Particularly preferred is at least one selected from the group consisting of a benzophenone structure and a nitroaryl structure.
As carboxylic acid (3) in this invention, it is preferable that it is a compound which has a carboxyl group and a photosensitizing structure, and as a more preferable compound, for example, following formula (C-1)-(C-10)

Figure 0005854205
Figure 0005854205

のそれぞれで表される化合物などを挙げることができる。
カルボン酸(4)は潜在性酸性基を有するカルボン酸である。
カルボン酸(4)としては、下記式(D)
R―COOH (D)
(式(D)中、Bは下記式(B−1)および(B−2)
And the like, and the like.
Carboxylic acid (4) is a carboxylic acid having a latent acidic group.
As the carboxylic acid (4), the following formula (D)
B n R-COOH (D)
(In the formula (D), B represents the following formulas (B-1) and (B-2)

Figure 0005854205
Figure 0005854205

(式(B−1)中、R16およびR17は、それぞれ、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜10の脂環式基、炭素数6〜10のアリール基または炭素数7〜10のアラルキル基であり、式(B−2)中、n1は2〜10の整数である。)のそれぞれで表される基、カルボン酸のケタールエステル構造を有する基、カルボン酸の1−アルキルシクロアルキルエステル構造を有する基または第3級アルコキシカルボニル基であり、
nは1〜10の整数であり、
Rは炭素数3〜10の複素環化合物から(n+1)個の水素を除去して得られる基または炭素数1〜18の(n+1)価の炭化水素基である。)
で表される化合物などを挙げることができる。
(In formula (B-1), R 16 and R 17 are each an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or 7 carbon atoms. -10 aralkyl groups, and in formula (B-2), n1 is an integer of 2 to 10), a group having a ketal ester structure of a carboxylic acid, a 1- A group having an alkylcycloalkyl ester structure or a tertiary alkoxycarbonyl group,
n is an integer of 1 to 10,
R is a group obtained by removing (n + 1) hydrogen from a heterocyclic compound having 3 to 10 carbon atoms or an (n + 1) -valent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. )
The compound etc. which are represented by these can be mentioned.

前駆体(I)とカルボン酸とを反応させてポリオルガノシロキサン(I)を合成する場合、カルボン酸の使用割合は、前駆体(I)の有するエポキシ基1モルに対して、それぞれ以下のとおりとすることが好ましい。
カルボン酸(2):好ましくは0.01〜0.4モル、より好ましくは0.03〜0.3モル、さらに好ましくは0.05〜0.2モル。
カルボン酸(3):好ましくは0.3モル以下、より好ましくは0.1モル以下、これを含有しないことがさらに好ましい。
前駆体(II)とカルボン酸とを反応させてポリオルガノシロキサン(II)を合成する場合、カルボン酸の使用割合は、前駆体(II)の有するエポキシ基1モルに対して、それぞれ以下のとおりとすることが好ましい。
桂皮酸構造を有するカルボン酸(1):好ましくは0.01〜0.6モル、より好ましくは0.03〜0.5モル、さらに好ましくは0.05〜0.4モル。
潜在性酸性基を有するカルボン酸(4):好ましくは0.4モル以下、より好ましくは0.01〜0.4モル、さらに好ましくは0.03〜0.3モル、特に好ましくは0.05〜0.2モル。
When synthesizing the polyorganosiloxane (I) by reacting the precursor (I) with a carboxylic acid, the use ratio of the carboxylic acid is as follows with respect to 1 mol of the epoxy group of the precursor (I). It is preferable that
Carboxylic acid (2): Preferably it is 0.01-0.4 mol, More preferably, it is 0.03-0.3 mol, More preferably, it is 0.05-0.2 mol.
Carboxylic acid (3): Preferably it is 0.3 mol or less, More preferably, it is 0.1 mol or less, and it is still more preferable not to contain this.
When the polyorganosiloxane (II) is synthesized by reacting the precursor (II) with a carboxylic acid, the use ratio of the carboxylic acid is as follows with respect to 1 mol of the epoxy group of the precursor (II). It is preferable that
Carboxylic acid (1) having a cinnamic acid structure: preferably 0.01 to 0.6 mol, more preferably 0.03 to 0.5 mol, still more preferably 0.05 to 0.4 mol.
Carboxylic acid (4) having a latent acidic group: preferably 0.4 mol or less, more preferably 0.01 to 0.4 mol, still more preferably 0.03 to 0.3 mol, particularly preferably 0.05. -0.2 mol.

前駆体(III)とカルボン酸とを反応させてポリオルガノシロキサン(III)を合成する場合、カルボン酸の使用割合は、前駆体(III)の有するエポキシ基1モルに対して、それぞれ以下のとおりとすることが好ましい。
カルボン酸(1):好ましくは0.03〜0.9モル、より好ましくは0.06〜0.7モル、さらに好ましくは0.3〜0.5モル。
カルボン酸(2):好ましくは0.5モル以下、より好ましくは0.01〜0.3モル、さらに好ましくは0.05〜0.2モル。
上記すべての場合において、カルボン酸の合計の使用割合は、各前駆体の有するエポキシ基の1モルに対して、0.1〜0.9モルとすることが好ましく、0.2〜0.7モルとすることがより好ましく、0.3〜0.5モルとすることがさらに好ましい。
When the polyorganosiloxane (III) is synthesized by reacting the precursor (III) with a carboxylic acid, the use ratio of the carboxylic acid is as follows with respect to 1 mol of the epoxy group of the precursor (III). It is preferable that
Carboxylic acid (1): Preferably it is 0.03-0.9 mol, More preferably, it is 0.06-0.7 mol, More preferably, it is 0.3-0.5 mol.
Carboxylic acid (2): Preferably it is 0.5 mol or less, More preferably, it is 0.01-0.3 mol, More preferably, it is 0.05-0.2 mol.
In all the cases described above, the total use ratio of the carboxylic acid is preferably 0.1 to 0.9 mol with respect to 1 mol of the epoxy group that each precursor has, More preferably, the molar amount is 0.3 to 0.5 mol.

前駆体とカルボン酸との反応は、好ましくは適当な触媒および適当な有機溶媒の存在下で行われる。
前駆体とカルボン酸との反応において使用される触媒としては、例えば有機塩基を好適に使用することができるほか、エポキシ化合物と酸無水物との反応を促進するいわゆる硬化促進剤を本反応における触媒として使用することができる。上記有機塩基としては例えば1級または2級の有機アミン、3級有機アミン、4級有機アミン塩などを;
上記硬化促進剤としては例えば3級アミン(ただし有機塩基としての3級有機アミンは除く)、イミダゾール誘導体、有機リン化合物、4級ホスフォニウム塩、ジアザビシクロアルケン、有機金属化合物、ハロゲン化4級アンモニウム、金属ハロゲン化合物、潜在性硬化促進剤などを、それぞれ挙げることができる。上記潜在性硬化促進剤としては、例えば高融点分散型潜在性硬化促進剤(例えばアミン付加型促進剤など)、マイクロカプセル型潜在性硬化促進剤、アミン塩型潜在性硬化剤促進剤、高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤などを挙げることができる。
これらのうち、4級有機アミン塩またはハロゲン化4級アンモニウムを使用することが好ましい。
The reaction between the precursor and the carboxylic acid is preferably carried out in the presence of a suitable catalyst and a suitable organic solvent.
As the catalyst used in the reaction between the precursor and the carboxylic acid, for example, an organic base can be suitably used, and a so-called curing accelerator that accelerates the reaction between the epoxy compound and the acid anhydride is used as a catalyst in this reaction. Can be used as Examples of the organic base include primary or secondary organic amines, tertiary organic amines, quaternary organic amine salts, and the like;
Examples of the curing accelerator include tertiary amines (excluding tertiary organic amines as organic bases), imidazole derivatives, organic phosphorus compounds, quaternary phosphonium salts, diazabicycloalkenes, organometallic compounds, and quaternary ammonium halides. , Metal halide compounds, latent curing accelerators, and the like. Examples of the latent curing accelerator include a high melting point dispersion type latent curing accelerator (for example, an amine addition type accelerator), a microcapsule type latent curing accelerator, an amine salt type latent curing accelerator, and a high temperature dissociation. Type thermal cationic polymerization type latent curing accelerator.
Of these, quaternary organic amine salts or halogenated quaternary ammonium salts are preferably used.

触媒の使用割合は、前駆体100重量部に対して、好ましくは0.01〜100重量部であり、より好ましくは0.1〜20重量部である。
前駆体とカルボン酸との反応において使用される有機溶媒としては、例えばケトン、エーテル、エステル、アミド、アルコールなどを挙げることができる。
有機溶媒の使用割合は、反応溶液中の有機溶媒以外の成分の合計重量が反応溶液の全量に占める割合として、0.1〜50重量%となる割合とすることが好ましく、5〜50重量%となる割合とすることがより好ましい。
前駆体とカルボン酸との反応は、好ましくは0〜200℃、より好ましくは50〜150℃の温度において、好ましくは0.1〜50時間、より好ましくは0.5〜20時間行われる。
The use ratio of the catalyst is preferably 0.01 to 100 parts by weight, and more preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the precursor.
Examples of the organic solvent used in the reaction between the precursor and the carboxylic acid include ketones, ethers, esters, amides, and alcohols.
The proportion of the organic solvent used is preferably such that the total weight of the components other than the organic solvent in the reaction solution is 0.1 to 50% by weight as the proportion of the total amount of the reaction solution, and 5 to 50% by weight. It is more preferable to set the ratio as follows.
The reaction between the precursor and the carboxylic acid is preferably performed at a temperature of 0 to 200 ° C., more preferably 50 to 150 ° C., and preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours.

本発明の液晶配向剤は、好ましくは上記の方法によって製造された
ポリオルガノシロキサン(I)およびポリオルガノシロキサン(II)を含有するか、あるいは
ポリオルガノシロキサン(III)を含有する。
本発明の液晶配向剤がポリオルガノシロキサン(I)およびポリオルガノシロキサン(II)を含有する場合におけるポリオルガノシロキサン(II)の含有割合は、ポリオルガノシロキサン(I)100重量部に対して、1〜20重量部とすることが好ましく、3〜15重量部とすることがより好ましく、5〜10重量部とすることが特に好ましい。
本発明の液晶配向剤がポリオルガノシロキサン(I)およびポリオルガノシロキサン(II)を含有する場合、該液晶配向剤はポリオルガノシロキサン(III)をさらに含有していてもよいが、これを含有しないことが好ましい。
本発明の液晶配向剤がポリオルガノシロキサン(III)を含有する場合、該液晶配向剤はポリオルガノシロキサン(I)もしくはポリオルガノシロキサン(II)またはこれらの双方を含有していてもよいが、これらの双方ともを含有しないことが好ましい。
The liquid crystal aligning agent of the present invention preferably contains polyorganosiloxane (I) and polyorganosiloxane (II) produced by the above method, or contains polyorganosiloxane (III).
When the liquid crystal aligning agent of this invention contains polyorganosiloxane (I) and polyorganosiloxane (II), the content rate of polyorganosiloxane (II) is 1 with respect to 100 weight part of polyorganosiloxane (I). It is preferable to set it as -20 weight part, It is more preferable to set it as 3-15 weight part, It is especially preferable to set it as 5-10 weight part.
When the liquid crystal aligning agent of this invention contains polyorganosiloxane (I) and polyorganosiloxane (II), this liquid crystal aligning agent may further contain polyorganosiloxane (III), but does not contain this. It is preferable.
When the liquid crystal aligning agent of the present invention contains polyorganosiloxane (III), the liquid crystal aligning agent may contain polyorganosiloxane (I) or polyorganosiloxane (II), or both. It is preferable not to contain both.

<その他の成分>
本発明の液晶配向剤は、好ましくは上記の方法によって製造された
ポリオルガノシロキサン(I)およびポリオルガノシロキサン(II)か、あるいはポリオルガノシロキサン(III)を、必須の成分として含有するが、本発明の効果を減殺しない限り、必要に応じてその他の成分を含有していてもよい。
このようなその他の成分としては、例えばポリオルガノシロキサン(I)〜(III)以外の重合体(以下、「その他の重合体」という。)、重合性不飽和化合物、光重合開始剤、ラジカル捕捉剤、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物(ポリオルガノシロキサンがエポキシ基を有している場合を除く。)、官能性シラン化合物、界面活性剤などを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
<Other ingredients>
The liquid crystal aligning agent of the present invention preferably contains polyorganosiloxane (I) and polyorganosiloxane (II) produced by the above method or polyorganosiloxane (III) as an essential component. As long as the effects of the invention are not diminished, other components may be contained as necessary.
Examples of such other components include polymers other than polyorganosiloxanes (I) to (III) (hereinafter referred to as “other polymers”), polymerizable unsaturated compounds, photopolymerization initiators, radical scavengers. Agents, compounds having at least one epoxy group in the molecule (except when the polyorganosiloxane has an epoxy group), functional silane compounds, surfactants, and the like. One or more selected can be used.

[その他の重合体]
上記その他の重合体は、得られる液晶配向剤の溶液特性ならびに形成される液晶配向膜の電気特性および液晶配向性のさらなる向上のために使用することができる。かかるその他の重合体は、上記ポリオルガノシロキサン(I)〜(III)以外の重合体であり、例えばポリオルガノシロキサン(I)〜(III)以外のポリオルガノシロキサン(以下、「他のポリオルガノシロキサン」という。)、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレートなどを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
本発明において他の重合体を使用する場合、ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される1種以上を使用することが好ましい。
上記ポリアミック酸は、例えば特許文献9(特開2010−97188号公報)に記載のテトラカルボン酸二無水物およびジアミンを使用して、これらを公知の方法により反応させることにより、製造することができる。
ポリイミドは、上記ポリアミック酸を公知の方法により脱水閉環してイミド化することにより製造することができる。
本発明の液晶配向剤がポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される1種以上の重合体を含有するものである場合、その含有割合は、ポリオルガノシロキサン(I)〜(III)の合計100重量部に対するポリアミック酸およびポリイミドの合計量として、60重量部以下とすることが好ましく、30重量部以下とすることがより好ましい。
[Other polymers]
The above-mentioned other polymers can be used for further improving the solution characteristics of the obtained liquid crystal aligning agent and the electric characteristics and liquid crystal alignment properties of the liquid crystal alignment film to be formed. Such other polymers are polymers other than the above polyorganosiloxanes (I) to (III), for example, polyorganosiloxanes other than polyorganosiloxanes (I) to (III) (hereinafter referred to as “other polyorganosiloxanes”). ”), Polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyester, polyamide, polysiloxane, cellulose derivative, polyacetal, polystyrene derivative, poly (styrene-phenylmaleimide) derivative, poly (meth) acrylate, and the like. One or more selected from these can be used.
When using another polymer in this invention, it is preferable to use 1 or more types selected from the group which consists of a polyamic acid and a polyimide.
The polyamic acid can be produced, for example, by using tetracarboxylic dianhydride and diamine described in Patent Document 9 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-97188) and reacting them by a known method. .
The polyimide can be produced by dehydrating and ring-closing the polyamic acid by a known method to imidize.
When the liquid crystal aligning agent of this invention contains 1 or more types of polymers selected from the group which consists of a polyamic acid and a polyimide, the content rate is the sum total 100 of polyorganosiloxane (I)-(III). The total amount of polyamic acid and polyimide relative to parts by weight is preferably 60 parts by weight or less, and more preferably 30 parts by weight or less.

<液晶配向剤>
本発明の液晶配向剤は、上記のようなポリオルガノシロキサン(I)および(II)か、あるいはポリオルガノシロキサン(III)と、さらに任意的に使用されるその他の成分とが、好ましくは有機溶媒中に溶解含有されてなる液状の組成物として構成される。
<Liquid crystal aligning agent>
In the liquid crystal aligning agent of the present invention, the polyorganosiloxanes (I) and (II) as described above or the polyorganosiloxane (III) and other optional components are preferably used as an organic solvent. It is constituted as a liquid composition which is dissolved and contained therein.

本発明の液晶配向剤に使用できる有機溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−iso−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、モノエチレングリコール、ジエチレングリコール、モノプロピレングリコール、モノヘキシレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホトリアミド、m−クレゾールなどを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することが好ましい。   Examples of the organic solvent that can be used in the liquid crystal aligning agent of the present invention include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 4-hydroxy-4. -Methyl-2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl Ether, ethylene glycol mono-iso-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol Cole monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate , Diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monopropyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diisobutyl ketone, isoamyl propionate, isoamyl isobuty , Diisopentyl ether, ethylene carbonate, propylene carbonate, methanol, ethanol, propanol, butanol, diacetone alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, monoethylene glycol, diethylene glycol, monopropylene glycol, monohexylene glycol, propylene Glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, tetramethylurea, hexamethylphosphotriamide, m-cresol, etc. can be mentioned, one kind selected from these It is preferable to use the above.

本発明の液晶配向剤における固形分濃度(液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合)は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1〜10重量%の範囲である。すなわち、本発明の液晶配向剤は、後述するように基板表面に塗布され、好ましくは加熱されることにより液晶配向膜となる塗膜が形成されるが、固形分濃度が1重量%未満である場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得ることができず、一方固形分濃度が10重量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得ることができないものとなる。
特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって異なる。例えばスピンナー法による場合には固形分濃度1.5〜7.5重量%の範囲が特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を6〜15重量%の範囲とし、それにより溶液粘度を8〜50mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を3〜10重量%の範囲とし、それにより、溶液粘度を3〜15mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。
本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは10℃〜50℃であり、より好ましくは20℃〜30℃である。
The solid content concentration in the liquid crystal aligning agent of the present invention (the ratio of the total weight of components other than the solvent of the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) is appropriately selected in consideration of viscosity, volatility, and the like. The range is preferably 1 to 10% by weight. That is, the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied to the substrate surface as described later, and preferably, when heated, a coating film that becomes a liquid crystal aligning film is formed, but the solid content concentration is less than 1 wt% In this case, the film thickness of the coating film becomes too small to obtain a good liquid crystal alignment film. On the other hand, when the solid content concentration exceeds 10% by weight, the film thickness of the coating film becomes excessive. Therefore, a good liquid crystal alignment film cannot be obtained.
The particularly preferable solid content concentration range varies depending on the method used when applying the liquid crystal aligning agent to the substrate. For example, when the spinner method is used, a solid content concentration of 1.5 to 7.5% by weight is particularly preferable. In the case of the printing method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 6 to 15% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 8 to 50 mPa · s. In the case of the inkjet method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 3 to 10% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 3 to 15 mPa · s.
The temperature for preparing the liquid crystal aligning agent of the present invention is preferably 10 ° C. to 50 ° C., more preferably 20 ° C. to 30 ° C.

<液晶配向膜の形成方法>
本発明の液晶配向剤は、光配向法により液晶配向膜を形成するために好適に使用することができる。
液晶配向膜を形成する方法としては、例えば基板上に本発明の液晶配向膜を塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜に偏光または非偏光の放射線を照射してより液晶配向能を付与する方法を挙げることができる。
まず、パターン状の透明導電膜が設けられた基板の透明導電膜側に、本発明の液晶配向剤を、例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法により塗布する。そして、該塗布面を、予備加熱(プレベーク)し、次いで焼成(ポストベーク)することにより塗膜を形成する。プレベーク条件は、例えば40〜120℃において0.1〜5分であり、ポストベーク条件は、好ましくは120〜300℃、より好ましくは150〜250℃において、好ましくは5〜200分、より好ましくは10〜100分である。ポストベーク後の塗膜の膜厚は、好ましくは0.001〜1μmであり、より好ましくは0.005〜0.5μmである。
前記基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスの如きガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、環状オレフィン樹脂の如きプラスチックからなる透明基板などを用いることができる。
前記透明導電膜としては、SnOからなるNESA(登録商標)膜、In−SnOからなるITO膜などを用いることができる。これらの透明導電膜のパターニングには、公知の方法が用いられる。
液晶配向剤の塗布に際しては、基板または透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板および透明導電膜上に、予め官能性シラン化合物、チタネート化合物などを塗布しておいてもよい。
<Method for forming liquid crystal alignment film>
The liquid crystal aligning agent of this invention can be used conveniently in order to form a liquid crystal aligning film by the photo-alignment method.
As a method for forming the liquid crystal alignment film, for example, the liquid crystal alignment film of the present invention is applied to a substrate to form a coating film, and then the coating film is irradiated with polarized or non-polarized radiation to further enhance the liquid crystal alignment ability. The method of giving can be mentioned.
First, the liquid crystal aligning agent of this invention is apply | coated to the transparent conductive film side of the board | substrate with which the pattern-shaped transparent conductive film was provided, for example by appropriate coating methods, such as a roll coater method, a spinner method, a printing method, an inkjet method. . Then, the coated surface is preheated (prebaked) and then baked (postbaked) to form a coating film. The pre-bake conditions are, for example, 0.1 to 5 minutes at 40 to 120 ° C., and the post-bake conditions are preferably 120 to 300 ° C., more preferably 150 to 250 ° C., preferably 5 to 200 minutes, more preferably 10 to 100 minutes. The film thickness of the coating film after post-baking is preferably 0.001-1 μm, more preferably 0.005-0.5 μm.
Examples of the substrate include glass such as float glass and soda glass, and a transparent substrate made of plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, and cyclic olefin resin.
As the transparent conductive film, a NESA (registered trademark) film made of SnO 2 , an ITO film made of In 2 O 3 —SnO 2, or the like can be used. A known method is used for patterning these transparent conductive films.
When applying the liquid crystal aligning agent, in order to further improve the adhesion between the substrate or the transparent conductive film and the coating film, a functional silane compound, titanate compound or the like is previously applied on the substrate and the transparent conductive film. May be.

次いで、前記塗膜に直線偏光もしくは部分偏光された放射線または非偏光の放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する。ここで、放射線としては、例えば150nm〜800nmの波長の光を含む紫外線および可視光線を用いることができるが、300nm〜400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。用いる放射線が直線偏光または部分偏光している場合には、照射は基板面に垂直の方向から行っても、プレチルト角を付与するために斜め方向から行ってもよく、また、これらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線を照射する場合には、照射の方向は斜め方向である必要がある。
放射線の照射量としては、好ましくは1J/m以上10,000J/m未満であり、より好ましくは10〜3,000J/mである。なお、従来知られている液晶配向剤から形成された塗膜に光配向法により液晶配向能を付与する場合、10,000J/m以上の放射線照射量が必要であった。しかし本発明の液晶配向剤を用いると、光配向法の際の放射線照射量が3,000J/m以下、さらに1,000J/m以下であっても良好な液晶配向能を付与することができ、液晶表示素子の製造コストの削減に資する。
Next, the coating film is given a liquid crystal alignment ability by irradiating linearly polarized light, partially polarized radiation or non-polarized radiation. Here, as the radiation, for example, ultraviolet rays including light having a wavelength of 150 nm to 800 nm and visible light can be used, but ultraviolet rays including light having a wavelength of 300 nm to 400 nm are preferable. When the radiation used is linearly polarized or partially polarized, irradiation may be performed from a direction perpendicular to the substrate surface, or from an oblique direction to give a pretilt angle, or a combination thereof. May be. When irradiating non-polarized radiation, the direction of irradiation needs to be an oblique direction.
The irradiation dose of radiation, preferably less than 1 J / m 2 or more 10,000 J / m 2, more preferably from 10~3,000J / m 2. In addition, when providing the liquid crystal aligning ability by the photo-alignment method to the coating film formed from the conventionally known liquid crystal aligning agent, the irradiation dose of 10,000 J / m < 2 > or more was required. However, when the liquid crystal aligning agent of the present invention is used, a good liquid crystal aligning ability is imparted even when the radiation irradiation amount in the photo-alignment method is 3,000 J / m 2 or less, and further 1,000 J / m 2 or less This contributes to the reduction of the manufacturing cost of the liquid crystal display element.

<液晶表示素子の製造方法>
本発明の液晶表示素子は、本発明の液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備するものである。本発明の液晶配向剤から形成された液晶配向膜は、特に垂直配向型の液晶表示素子に適用したときにその有利な効果を最大限に発揮することができ、好ましい。
本発明の液晶表示素子は、例えば以下のようにして製造することができる。
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を2枚準備し、この2枚の基板間に液晶を配置することにより、液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば以下の2つの方法が挙げられる。
第一の方法は、先ずそれぞれの液晶配向膜が対向するように間隙(セルギャップ)を介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止する方法であり、これにより、液晶セルを製造することができる。
第二の方法は、ODF(One Drop Fill)方式と呼ばれる手法である。液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造することができる。
いずれの方法による場合でも、次いで、用いた液晶が等方相をとる温度まで液晶セルを加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが望ましい。
<Method for manufacturing liquid crystal display element>
The liquid crystal display element of this invention comprises the liquid crystal aligning film formed from the liquid crystal aligning agent of this invention. The liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal aligning agent of the present invention is preferable because it can exhibit its advantageous effects to the maximum when applied to a vertical alignment type liquid crystal display element.
The liquid crystal display element of this invention can be manufactured as follows, for example.
A liquid crystal cell is manufactured by preparing two substrates on which a liquid crystal alignment film is formed as described above, and disposing a liquid crystal between the two substrates. In order to manufacture a liquid crystal cell, the following two methods are mentioned, for example.
In the first method, first, two substrates are arranged to face each other through a gap (cell gap) so that the liquid crystal alignment films face each other, and the peripheral portions of the two substrates are bonded together using a sealant, In this method, liquid crystal is injected and filled in the cell gap defined by the substrate surface and the sealing agent, and then the injection hole is sealed, whereby a liquid crystal cell can be manufactured.
The second method is a method called an ODF (One Drop Fill) method. For example, an ultraviolet light curable sealing material is applied to a predetermined location on one of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed, and liquid crystal is dropped on the liquid crystal alignment film surface. The other substrate is bonded so as to face each other, and then the entire surface of the substrate is irradiated with ultraviolet light to cure the sealant, whereby a liquid crystal cell can be manufactured.
In any case, it is desirable to remove the flow alignment at the time of filling the liquid crystal by heating the liquid crystal cell to a temperature at which the liquid crystal used takes an isotropic phase and then gradually cooling to room temperature.

そして、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、本発明の液晶表示素子を得ることができる。ここで液晶配向膜が垂直配向性である場合には、液晶配向膜が形成された2枚の基板における配向容易軸の方向が平行となるようにセルを構成し、これに、偏光板をその偏光方向が配向容易軸と45°の角度をなすように貼り合わせることにより、垂直配向型液晶セルを有する液晶表示素子とすることができる。
前記シール剤としては、例えばスペーサーとしての酸化アルミニウム球および硬化剤を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。
前記液晶としては、例えばネマティック型液晶、スメクティック型液晶等を好ましく用いることができる。
垂直配向型液晶セルの場合には、負の誘電異方性を有するネマティック型液晶が好ましく、例えばジシアノベンゼン系液晶、ピリダジン系液晶、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶等が用いられる。
液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、またはH膜そのものからなる偏光板等を挙げることができる。
かくして製造された本発明の液晶表示素子は、表示特性、長期信頼性等の諸性能に優れるものである。
And the liquid crystal display element of this invention can be obtained by bonding a polarizing plate on the outer surface of a liquid crystal cell. Here, when the liquid crystal alignment film is vertically aligned, the cell is configured so that the directions of easy alignment axes of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed are parallel, and a polarizing plate is attached to the cell. A liquid crystal display element having a vertical alignment type liquid crystal cell can be obtained by bonding so that the polarization direction forms an angle of 45 ° with the easy alignment axis.
As the sealing agent, for example, an aluminum oxide sphere as a spacer and an epoxy resin containing a curing agent can be used.
As the liquid crystal, for example, nematic liquid crystal, smectic liquid crystal and the like can be preferably used.
In the case of a vertically aligned liquid crystal cell, a nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy is preferable, for example, dicyanobenzene liquid crystal, pyridazine liquid crystal, Schiff base liquid crystal, azoxy liquid crystal, biphenyl liquid crystal, phenyl cyclohexane liquid crystal. Etc. are used.
The polarizing plate used outside the liquid crystal cell is composed of a polarizing film called “H film” in which polyvinyl alcohol is stretched and oriented while absorbing iodine and sandwiched between cellulose acetate protective films, or the H film itself. A polarizing plate etc. can be mentioned.
The liquid crystal display element of the present invention thus produced is excellent in various performances such as display characteristics and long-term reliability.

以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。
以下において、ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量およびポリアミック酸の溶液粘度は以下の方法によって測定した。
[重量平均分子量]
ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量は、以下の装置を用いて以下の条件におけるゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定した結果から、標準物質として単分散ポリスチレンを用いてポリスチレン換算値として求めた。
測定装置:東ソー(株)製、型式「8120−GPC」
カラム:東ソー(株)製、「TSKgelGRCXLII」
溶媒:テトラヒドロフラン
試料濃度:5重量%
試料注入量:100μL
カラム温度:40℃
カラム圧力:68kgf/cm
[ポリアミック酸の溶液粘度]
ポリアミック酸の溶液粘度(mPa・s)は、各重合体溶液についてE型回転粘度計を用いて25℃で測定した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
In the following, the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane and the solution viscosity of the polyamic acid were measured by the following methods.
[Weight average molecular weight]
The weight average molecular weight of the polyorganosiloxane was determined as a polystyrene equivalent value using monodisperse polystyrene as a standard substance from the result of measurement by gel permeation chromatography under the following conditions using the following apparatus.
Measuring device: Model “8120-GPC” manufactured by Tosoh Corporation
Column: “TSKgelGRCXLII” manufactured by Tosoh Corporation
Solvent: Tetrahydrofuran Sample concentration: 5% by weight
Sample injection volume: 100 μL
Column temperature: 40 ° C
Column pressure: 68 kgf / cm 2
[Solution viscosity of polyamic acid]
The solution viscosity (mPa · s) of the polyamic acid was measured at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer for each polymer solution.

<ポリオルガノシロキサン(I)の合成>
合成例A−1
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、シュウ酸13.9gおよびエタノール19.5gを投入し、攪拌してシュウ酸のエタノール溶液を調製した。次いでこの溶液を窒素雰囲気下、70℃まで加熱した後、ここに、原料シラン化合物としてテトラエトキシシラン15.1gおよびビニルトリエトキシシラン1.6gからなる混合物を滴下した。滴下終了後、70℃の温度を6時間維持して重縮合反応を行った。反応終了後、25℃まで冷却し、ブチルセロソルブ40.0gを加えることにより、ポリオルガノシロキサン(I)であるポリオルガノシロキサン(A−1)を含有する溶液を得た。
この溶液に含有されるポリオルガノシロキサン(A−1)の重量平均分子量Mwは12,000であった。
<Synthesis of polyorganosiloxane (I)>
Synthesis Example A-1
To a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux condenser, 13.9 g of oxalic acid and 19.5 g of ethanol were added and stirred to prepare an ethanol solution of oxalic acid. Next, this solution was heated to 70 ° C. in a nitrogen atmosphere, and then a mixture composed of 15.1 g of tetraethoxysilane and 1.6 g of vinyltriethoxysilane as a raw material silane compound was added dropwise thereto. After completion of the dropping, a polycondensation reaction was carried out while maintaining a temperature of 70 ° C. for 6 hours. After completion of the reaction, the solution was cooled to 25 ° C., and 40.0 g of butyl cellosolve was added to obtain a solution containing polyorganosiloxane (A-1) which is polyorganosiloxane (I).
The weight average molecular weight Mw of the polyorganosiloxane (A-1) contained in this solution was 12,000.

合成例A−2〜A−10
上記合成例A−1において、原料として使用したシラン化合物の種類および量ならびに使用したシュウ酸およびエタノールの量をそれぞれ第1表の1に記載の通りとしたほかは上記合成例A−1と同様にして、ポリオルガノシロキサン(I)であるポリオルガノシロキサン(A−2)〜(A−10)をそれぞれ含有する溶液を調製した。
合成例A−7およびA−8においては、シラン化合物(a2−3)を、それぞれ2種類ずつ使用した。
各溶液に含有される各ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mwを、第1表の1に合わせて示した。
Synthesis Examples A-2 to A-10
In Synthesis Example A-1, the kind and amount of the silane compound used as a raw material and the amounts of oxalic acid and ethanol used were the same as those in Synthesis Example A-1, except that the amounts were as described in Table 1 Then, solutions containing polyorganosiloxane (A-2) to (A-10), which are polyorganosiloxane (I), were prepared.
In Synthesis Examples A-7 and A-8, two types of silane compounds (a2-3) were used.
The weight average molecular weight Mw of each polyorganosiloxane contained in each solution is shown in accordance with 1 in Table 1.

<他のポリオルガノシロキサンの合成>
合成例B−1およびB−2
上記合成例A−1において、原料シラン化合物の種類および量ならびに使用したシュウ酸およびエタノールの量をそれぞれ第1表の1に記載の通りとしたほかは上記合成例A−1と同様にして、他のポリオルガノシロキサンであるポリオルガノシロキサン(B−1)および(B−2)をそれぞれ含有する溶液を調製した。
各溶液に含有される各ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mwを、第1表の1に合わせて示した。
<Synthesis of other polyorganosiloxane>
Synthesis Examples B-1 and B-2
In Synthesis Example A-1, except that the type and amount of the raw material silane compound and the amounts of oxalic acid and ethanol used were as described in 1 of Table 1, Solutions containing polyorganosiloxanes (B-1) and (B-2), which are other polyorganosiloxanes, were prepared.
The weight average molecular weight Mw of each polyorganosiloxane contained in each solution is shown in accordance with 1 in Table 1.

Figure 0005854205
Figure 0005854205

第1表の1におけるシラン化合物の略称は、それぞれ以下の意味である。
[シラン化合物(a1)]
VTES:ビニルトリエトキシシラン
STMS:スチリルトリメトキシシラン
ATES:アリルトリエトキシシラン
MPTMS:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
APTMS:3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
[シラン化合物(a3)]
ODES:オクタデシルトリエトキシシラン
DDES:ドデシルトリエトキシシラン
[シラン化合物(a4)]
TEOS:テトラエトキシシラン
MTES:メチルトリエトキシシラン
PTES:フェニルトリエトキシシラン
第1表の1のシラン化合物欄における「−」は、当該欄に該当する原料を使用しなかったことを示す。
Abbreviations of silane compounds in 1 of Table 1 have the following meanings, respectively.
[Silane Compound (a1)]
VTES: vinyltriethoxysilane STMS: styryltrimethoxysilane ATES: allyltriethoxysilane MPTMS: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane APTMS: 3-acryloxypropyltrimethoxysilane [silane compound (a3)]
ODES: Octadecyltriethoxysilane DDES: Dodecyltriethoxysilane [silane compound (a4)]
TEOS: Tetraethoxysilane MTES: Methyltriethoxysilane PTES: Phenyltriethoxysilane "-" in the silane compound column of Table 1 indicates that the raw material corresponding to the column was not used.

<他のポリオルガノシロキサンの合成>
合成例G−1
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、原料シラン化合物として2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン99g、溶媒としてメチルイソブチルケトン500gおよび触媒としてトリエチルアミン10gを仕込み、室温で混合した。次いでここに、脱イオン水100gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、80℃の還流下で撹拌しつつ6時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、0.2重量%硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、H−NMR分析を行なったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことを確認した。
次いで200mLの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン、溶媒としてメチルイソブチルケトン30g、カルボン酸として4−オクチロキシ安息香酸30g(上記エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの有するエポキシ基に対して30モル%に相当する。)および触媒としてUCAT 18X(商品名。サンアプロ(株)製のエポキシ化合物の硬化促進剤である。)0.10gを仕込み、100℃で48時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて得た有機層を3回水洗し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥した後、溶媒を留去することにより、他のポリオルガノシロキサンであるポリオルガノシロキサン(G−1)を得た。このポリオルガノシロキサン(G−1)につき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは7,200であった。
<Synthesis of other polyorganosiloxane>
Synthesis Example G-1
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser, 99 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane as a raw material silane compound, 500 g of methyl isobutyl ketone as a solvent and 10 g of triethylamine as a catalyst Were mixed at room temperature. Next, 100 g of deionized water was added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes, and then the reaction was performed for 6 hours while stirring at 80 ° C. under reflux. After completion of the reaction, the organic layer is taken out and washed with a 0.2 wt% ammonium nitrate aqueous solution until the water after washing becomes neutral, and then the solvent and water are distilled off under reduced pressure, whereby a polyorgano having an epoxy group is obtained. Siloxane was obtained as a viscous transparent liquid.
As a result of 1 H-NMR analysis of the polyorganosiloxane having an epoxy group, a peak based on the epoxy group was obtained in the vicinity of chemical shift (δ) = 3.2 ppm according to the theoretical intensity. It was confirmed that no side reaction occurred.
Next, in a 200 mL three-necked flask, the polyorganosiloxane having an epoxy group obtained above, 30 g of methyl isobutyl ketone as a solvent, 30 g of 4-octyloxybenzoic acid as a carboxylic acid (based on the epoxy group of the polyorganosiloxane having the epoxy group) 0.10 g as a catalyst and UCAT 18X (trade name, a curing accelerator for epoxy compounds manufactured by San Apro Co., Ltd.) as a catalyst, and reacted at 100 ° C. with stirring for 48 hours. went. After completion of the reaction, the organic layer obtained by adding ethyl acetate to the reaction mixture was washed with water three times, dried using magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off to obtain another polyorganosiloxane polyorganosiloxane ( G-1) was obtained. About this polyorganosiloxane (G-1), the weight average molecular weight Mw in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography was 7,200.

<ポリオルガノシロキサン(I)の合成>
合成例C−1〜C−6
上記合成例G−1において、原料シラン化合物の種類および量ならびに使用したカルボン酸の種類および量を、それぞれ第1表の2に記載の通りとしたほかは上記合成例G−1と同様にし、ただし仕込みの原料シラン化合物濃度およびエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン濃度を上記合成例G−1と同じに調整して実施することにより、ポリオルガノシロキサン(I)であるポリオルガノシロキサン(C−1)〜(C−6)をそれぞれ得た。これらのポリオルガノシロキサンにつき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwを、第1表の2に合わせて示した。
合成例C−4〜C−6においては、カルボン酸を、それぞれ2種類ずつ使用した。
<Synthesis of polyorganosiloxane (I)>
Synthesis Examples C-1 to C-6
In the above Synthesis Example G-1, the same as in Synthesis Example G-1, except that the type and amount of the raw material silane compound and the type and amount of the carboxylic acid used were as described in Table 2 respectively. However, the polyorganosiloxane (C-1) which is the polyorganosiloxane (I) is prepared by adjusting the raw material silane compound concentration and the polyorganosiloxane concentration having an epoxy group in the same manner as in Synthesis Example G-1. To (C-6) were obtained. For these polyorganosiloxanes, the polystyrene-reduced weight average molecular weight Mw measured by gel permeation chromatography is shown together with 2 in Table 1.
In Synthesis Examples C-4 to C-6, two carboxylic acids were used.

Figure 0005854205
Figure 0005854205

第1表の2におけるシラン化合物およびカルボン酸の略称は、それぞれ以下の意味である。
[シラン化合物(a1)]
MPTMS:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
[シラン化合物(a2)]
ECETS:2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン
[カルボン酸(2)]
OCTBA:4−n−オクチロキシ安息香酸
PCHBA:4−(4−n−ペンチル−シクロヘキシル)安息香酸
SACE:コハク酸−5ξ−コレスタン−3−イル
[カルボン酸(3)]
AQCA:アントラキノン−2−カルボン酸
DAHBBA:2−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシ−ベンゾイル)−安息香酸
第1表の2のシラン化合物欄およびカルボン酸欄における「−」は、当該欄に該当する原料を使用しなかったことを示す。
Abbreviations of silane compounds and carboxylic acids in 2 of Table 1 have the following meanings, respectively.
[Silane Compound (a1)]
MPTMS: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane [silane compound (a2)]
ECETS: 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane [carboxylic acid (2)]
OCTBA: 4-n-octyloxybenzoic acid PCHBA: 4- (4-n-pentyl-cyclohexyl) benzoic acid SACE: Succinic acid-5ξ-cholestan-3-yl [carboxylic acid (3)]
AQCA: Anthraquinone-2-carboxylic acid DAHBBA: 2- (4-diethylamino-2-hydroxy-benzoyl) -benzoic acid “-” in the silane compound column and the carboxylic acid column in Table 2 corresponds to this column. Indicates that no ingredients were used.

<ポリオルガノシロキサン(II)の合成>
合成例E−1〜E−5
上記合成例G−1と同様にしてエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを得た。その後、使用したカルボン酸の種類および量を、それぞれ第1表の3に記載の通りとした他は、上記合成例G−1と同様にして、ポリオルガノシロキサン(II)であるポリオルガノシロキサン(E−1)〜(E−5)をそれぞれ得た。これらのポリオルガノシロキサンにつき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwを、第1表の3に合わせて示した。
合成例E−1およびE−3〜E−5においては、カルボン酸を、それぞれ2種類ずつ使用した。
<Synthesis of polyorganosiloxane (II)>
Synthesis Examples E-1 to E-5
Polyorganosiloxane having an epoxy group was obtained in the same manner as in Synthesis Example G-1. Thereafter, the polyorganosiloxane (II), a polyorganosiloxane (II), was used in the same manner as in Synthesis Example G-1, except that the type and amount of the carboxylic acid used were as described in Table 3 above. E-1) to (E-5) were obtained. For these polyorganosiloxanes, the polystyrene-reduced weight average molecular weight Mw measured by gel permeation chromatography is shown together with 3 in Table 1.
In Synthesis Examples E-1 and E-3 to E-5, two carboxylic acids were used.

Figure 0005854205
Figure 0005854205

第1表の3におけるシラン化合物(a2)およびカルボン酸の略称は、それぞれ以下の構造である。
[シラン化合物(a2)]
ECETS:2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン
[カルボン酸(1)]
E−1−1:下記式(E−1−1)で表される化合物
E−1−2:下記式(E−1−2)で表される化合物
E−1−3:下記式(E−1−3)で表される化合物
[カルボン酸(4)]
E−4−1:4−(t−ブチルオキシカルボニル)安息香酸
The abbreviations of the silane compound (a2) and carboxylic acid in 3 of Table 1 are the following structures, respectively.
[Silane compound (a2)]
ECETS: 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane [carboxylic acid (1)]
E-1-1: Compound represented by the following formula (E-1-1) E-1-2: Compound represented by the following formula (E-1-2) E-1-3: The following formula (E -1-3) [carboxylic acid (4)]
E-4-1: 4- (t-butyloxycarbonyl) benzoic acid

Figure 0005854205
Figure 0005854205

上記式中の「n−C11−」は、直鎖のペンチル基を表す。
第1表の3のカルボン酸欄における「−」は、当該欄に該当する原料を使用しなかったことを示す。
“NC 5 H 11 —” in the above formula represents a linear pentyl group.
"-" In the carboxylic acid column of 3 in Table 1 indicates that the raw material corresponding to the column was not used.

<ポリオルガノシロキサン(III)の合成>
合成例H−1〜H−5
上記合成例G−1において、原料シラン化合物の種類および量ならびに使用したカルボン酸の種類および量を、それぞれ第1表の4に記載の通りとしたほかは上記合成例G−1と同様にし、ただし仕込みの原料シラン化合物濃度およびエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン濃度を上記合成例G−1と同じに調整して実施することにより、ポリオルガノシロキサン(III)であるポリオルガノシロキサン(H−1)〜(H−5)をそれぞれ得た。これらのポリオルガノシロキサンにつき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwを、第1表の4に合わせて示した。
合成例H−4およびH−5においては、カルボン酸を、それぞれ2種類ずつ使用した。
<Synthesis of polyorganosiloxane (III)>
Synthesis Examples H-1 to H-5
In Synthesis Example G-1, the same as in Synthesis Example G-1, except that the type and amount of the raw material silane compound and the type and amount of the carboxylic acid used were as described in Table 4 respectively. However, the polyorganosiloxane (H-1) which is polyorganosiloxane (III) is prepared by adjusting the concentration of the raw material silane compound and the concentration of the polyorganosiloxane having an epoxy group in the same manner as in Synthesis Example G-1. To (H-5) were obtained. For these polyorganosiloxanes, the polystyrene-reduced weight average molecular weight Mw measured by gel permeation chromatography is shown in accordance with 4 in Table 1.
In Synthesis Examples H-4 and H-5, two types of carboxylic acids were used.

Figure 0005854205
Figure 0005854205

第1表の4におけるシラン化合物およびカルボン酸の略称は、それぞれ前出の略称と同じ意味である。   The abbreviations of silane compound and carboxylic acid in 4 of Table 1 have the same meanings as the abbreviations described above.

<ポリアミック酸の合成>
合成例PA−1〜3
N−メチル−2−ピロリドン135gに、第1表の5に示した種類および量のジアミンおよびテトラカルボン酸二無水物を、この順に加えて溶解し、ジアミンおよびテトラカルボン酸二無水物の合計重量が、反応溶液の全重量に対して10重量%である溶液とし、これを60℃で6時間反応させることにより、ポリアミック酸(F−1)〜(F−3)をそれぞれ10重量%含有する溶液各150gをそれぞれ得た。ここで得られた各溶液の粘度を第1表の5に示した。
<Synthesis of polyamic acid>
Synthesis example PA-1 to PA-3
In 135 g of N-methyl-2-pyrrolidone, the diamine and tetracarboxylic dianhydride of the type and amount shown in Table 1 were added and dissolved in this order, and the total weight of the diamine and tetracarboxylic dianhydride Is 10% by weight with respect to the total weight of the reaction solution, and this is reacted at 60 ° C. for 6 hours to contain 10% by weight of each of polyamic acids (F-1) to (F-3). 150 g of each solution was obtained. The viscosity of each solution obtained here is shown in Table 1-5.

Figure 0005854205
Figure 0005854205

第1表の5におけるジアミンおよびテトラカルボン酸二水和物の略称は、それぞれ以下の意味である。
[ジアミン]
F−1−1:下記式(F−1−1)で表される化合物
F−1−2:下記式(F−1−2)で表される化合物
F−1−3:下記式(F−1−3)で表される化合物
F−1−4:3,5−ジアミノ安息香酸コレスタニル
[テトラカルボン酸二無水物]
F−2−1:2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物
Abbreviations of diamine and tetracarboxylic acid dihydrate in 5 in Table 1 have the following meanings, respectively.
[Diamine]
F-1-1: Compound represented by the following formula (F-1-1) F-1-2: Compound represented by the following formula (F-1-2) F-1-3: The following formula (F -1-3) Compound F-1-4: Cholestanyl 3,5-diaminobenzoate [tetracarboxylic dianhydride]
F-2-1: 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride

Figure 0005854205
Figure 0005854205

上記式中の「n−CO−」および「n−C11O−」は、それぞれ、直鎖のブチル基または直鎖のペンチル基を有するアルコキシ基を表す。 “NC 4 H 9 O—” and “nC 5 H 11 O—” in the above formulas represent an alkoxy group having a linear butyl group or a linear pentyl group, respectively.

実施例1
<液晶配向剤の調製>
ポリオルガノシロキサン(I)として上記合成例A−1で得たポリオルガノシロキサン(A−1)を含有する溶液に、ポリオルガノシロキサン(II)として上記合成例E−1で得たポリオルガノシロキサン(E−1)を、上記溶液中のポリオルガノシロキサン(A−1)100重量部に対して5重量部加え、さらにブチルセロソルブを加えて、固形分濃度5重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いて濾過することにより、液晶配向剤を調製した。
Example 1
<Preparation of liquid crystal aligning agent>
In the solution containing the polyorganosiloxane (A-1) obtained in Synthesis Example A-1 as the polyorganosiloxane (I), the polyorganosiloxane obtained in Synthesis Example E-1 as the polyorganosiloxane (II) ( 5 parts by weight of E-1) was added to 100 parts by weight of polyorganosiloxane (A-1) in the above solution, and butyl cellosolve was further added to obtain a solution having a solid content concentration of 5% by weight. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution using a filter having a pore diameter of 1 μm.

<垂直配向型液晶表示素子の製造および評価>
[垂直配向型液晶表示素子の製造]
ITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面上に、上記で調製した液晶配向剤をスピンナーを用いて塗布し、80℃のホットプレート上で1分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換したオーブン中で200℃において1時間加熱して膜厚0.1μmの塗膜を形成した。次いでこの塗膜表面に、Hg−Xeランプおよびグランテーラープリズムを用いて、313nmの輝線を含む偏光紫外線(p波)200J/mを、基板法線から40°傾いた方向から照射して液晶配向膜とした。
同じ操作を繰り返して、液晶配向膜を有する基板を1対(2枚)製造した。
上記基板のうちの1枚の液晶配向膜を有する面の外周に、直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、1対の基板の液晶配向膜面を対向して、各基板へ照射した偏光紫外線の照射方向が逆平行(180°)となるように圧着した後、150℃において1時間加熱して接着剤を熱硬化した。次いで、液晶注入口より基板間の間隙に、ネガ型液晶(メルク社製、MLC−6608)を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止して液晶セルを構成した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くため、液晶セルを150℃まで加熱した後、室温まで徐冷した。次いで、基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、且つ、液晶配向膜面への偏光紫外線の照射方向と45°の角度をなすように貼り合わせることにより、垂直配向型液晶表示素子を製造した。
<Manufacture and evaluation of vertical alignment type liquid crystal display element>
[Manufacture of vertical alignment type liquid crystal display elements]
On the transparent electrode surface of the glass substrate with a transparent electrode made of an ITO film, the liquid crystal aligning agent prepared above was applied using a spinner, pre-baked on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute, and then the interior was filled with nitrogen. A film having a thickness of 0.1 μm was formed by heating in a substituted oven at 200 ° C. for 1 hour. Next, the surface of the coating film was irradiated with polarized ultraviolet rays (p-waves) 200 J / m 2 containing a 313 nm emission line from a direction inclined by 40 ° from the substrate normal using a Hg-Xe lamp and a Grand Taylor prism. An alignment film was obtained.
The same operation was repeated to manufacture a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film.
An epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm is applied to the outer periphery of the surface having one liquid crystal alignment film of the above substrates by screen printing, and the liquid crystal alignment film surfaces of a pair of substrates are opposed to each other. Then, after pressure-bonding so that the irradiation direction of polarized ultraviolet rays irradiated to each substrate was antiparallel (180 °), the adhesive was thermally cured by heating at 150 ° C. for 1 hour. Next, a negative liquid crystal (MLC-6608, manufactured by Merck & Co., Inc.) was filled in the gap between the substrates from the liquid crystal injection port, and then the liquid crystal injection port was sealed with an epoxy adhesive to constitute a liquid crystal cell. Furthermore, in order to remove the flow alignment during liquid crystal injection, the liquid crystal cell was heated to 150 ° C. and then gradually cooled to room temperature. Next, a vertical alignment type is formed by laminating polarizing plates on both outer surfaces of the substrate so that the polarization directions thereof are orthogonal to each other and form an angle of 45 ° with the irradiation direction of polarized ultraviolet light onto the liquid crystal alignment film surface. A liquid crystal display device was manufactured.

[垂直配向型液晶表示素子の評価]
上記で製造した垂直配向型液晶表示素子につき、以下のように評価した。評価結果は第2表の1に示した。
(1)液晶配向性の評価
上記で製造した液晶表示素子に5Vの電圧をON・OFF(印加・解除)したときの明暗の変化における異常ドメインの有無を目視により観察した。
このとき、電圧OFF時に光漏れが観察されず、且つ電圧印加時に駆動領域が白表示、それ以外の領域から光漏れがなかった場合を液晶配向性「良」とし、光漏れが観察された場合を液晶配向性「不良」とした。
(2)プレチルト角の評価
上記で製造した各液晶表示素子について、それぞれHe−Neレーザー光を用いる結晶回転法によって液晶分子の基板面からの傾きの角度を測定し、この値をプレチルト角とした。結晶回転法は、非特許文献1(T.J.Scheffer et.al.,J.Appl.Phys.vol.48,p1783(1977))および非特許文献2(F.Nakano et.al.,JPN.J.Appl.Phys.vol.19,p2013(1980))に記載の方法に準拠して行った。
(3)耐紫外線性の評価
上記で製造した液晶表示素子に、70℃において1Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、16.67ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から16.67ミリ秒後の電圧保持率を測定し、この値を初期電圧保持率VHRBIとした。
上記初期電圧保持率測定後の液晶表示素子に対し、照度800W/mのメタルハライドランプを用いて10,000J/mの紫外光を照射した後、室温に静置して室温まで自然冷却した。次いで、上記と同様にして再度電圧保持率を測定し、この値を照射後電圧保持率VHRAIとした。
このときの電圧保持率の変化率を、下記数式(1)
[Evaluation of vertical alignment liquid crystal display element]
The vertical alignment type liquid crystal display device manufactured above was evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 2-1.
(1) Evaluation of liquid crystal orientation The presence or absence of an abnormal domain in the change in brightness when the voltage of 5 V was turned ON / OFF (applied / released) in the liquid crystal display element manufactured above was visually observed.
In this case, light leakage is not observed when the voltage is turned off, and the drive region is displayed white when the voltage is applied, and the light is not leaked from other regions. The liquid crystal orientation was “bad”.
(2) Evaluation of pretilt angle About each liquid crystal display element manufactured above, the angle of inclination of the liquid crystal molecules from the substrate surface was measured by a crystal rotation method using He-Ne laser light, and this value was used as the pretilt angle. . The crystal rotation method is described in Non-Patent Document 1 (T. J. Scheffer et. Al., J. Appl. Phys. Vol. 48, p1783 (1977)) and Non-Patent Document 2 (F. Nakano et. Al., JPN). J. Appl.Phys.vol.19, p2013 (1980)).
(3) Evaluation of UV resistance A voltage of 1 V was applied to the liquid crystal display device manufactured above at 70 ° C. with an application time of 60 microseconds and a span of 16.67 milliseconds, and then 16.67 millimeters from the release of application. The voltage holding ratio after 2 seconds was measured, and this value was defined as the initial voltage holding ratio VHR BI .
The liquid crystal display element after measuring the initial voltage holding ratio was irradiated with 10,000 J / m 2 of ultraviolet light using a metal halide lamp with an illuminance of 800 W / m 2 , and then allowed to stand at room temperature and naturally cooled to room temperature. . Subsequently, the voltage holding ratio was measured again in the same manner as described above, and this value was defined as the post-irradiation voltage holding ratio VHR AI .
The change rate of the voltage holding ratio at this time is expressed by the following formula (1).

Figure 0005854205
Figure 0005854205

によって算出し、この値が95%以上であった場合を耐紫外線性「優良」、90%以上95%未満であった場合を耐紫外線性「良」、90%未満であった場合を耐紫外線性「不良」として評価した。
上記電圧保持率の測定は、(株)東陽テクニカ製、「VHR−1」を使用し手行った。
When this value is 95% or more, UV resistance is “excellent”, when 90% or more and less than 95% is UV resistance “good”, and when it is less than 90%, UV resistance is It was evaluated as sex “bad”.
The voltage holding ratio was manually measured using “VHR-1” manufactured by Toyo Corporation.

実施例2〜16ならびに比較例1〜10および16〜22
使用したポリオルガノシロキサンの種類および量を、それぞれ第2表の1に記載のとおりとしたほかは、上記実施例1と同様にして液晶配向剤を調製し、液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は第2表の1に示した。
Examples 2-16 and Comparative Examples 1-10 and 16-22
A liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in Example 1 except that the type and amount of the polyorganosiloxane used were as described in Table 1 and evaluated by producing a liquid crystal display device. . The evaluation results are shown in Table 2-1.

実施例17
<液晶配向剤の調製>
ポリオルガノシロキサン(I)として上記合成例C−1で得たポリオルガノシロキサン(C−1)100重量部およびポリオルガノシロキサン(II)として上記合成例E−5で得たポリオルガノシロキサン(E−5)5重量部をブチルセロソルブに溶解し、固形分濃度5重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いて濾過することにより、液晶配向剤を調製した。
<垂直配向型液晶表示素子の製造および評価>
上記で調製した液晶配向剤を使用したほかは上記実施例1と同様にして液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は第2表の1に示した。
実施例18〜22および比較例11〜15
使用したポリオルガノシロキサンの種類および量を、それぞれ第2表の1に記載のとおりとしたほかは、上記実施例17と同様にして液晶配向剤を調製し、液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は第2表の1に示した。
Example 17
<Preparation of liquid crystal aligning agent>
100 parts by weight of polyorganosiloxane (C-1) obtained in Synthesis Example C-1 as polyorganosiloxane (I) and polyorganosiloxane (E-) obtained in Synthesis Example E-5 as polyorganosiloxane (II) 5) 5 parts by weight was dissolved in butyl cellosolve to obtain a solution having a solid content concentration of 5% by weight. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution using a filter having a pore diameter of 1 μm.
<Manufacture and evaluation of vertical alignment type liquid crystal display element>
A liquid crystal display device was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal aligning agent prepared above was used. The evaluation results are shown in Table 2-1.
Examples 18-22 and Comparative Examples 11-15
A liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in Example 17 except that the type and amount of the polyorganosiloxane used were as shown in Table 2 and evaluated. . The evaluation results are shown in Table 2-1.

Figure 0005854205
Figure 0005854205

Figure 0005854205
Figure 0005854205

実施例23
<液晶配向剤の調製>
ポリオルガノシロキサン(III)として上記合成例H−1で得たポリオルガノシロキサン(H−1)をブチルセロソルブに溶解し、固形分濃度5重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いて濾過することにより、液晶配向剤を調製した。
<垂直配向型液晶表示素子の製造および評価>
上記で調製した液晶配向剤を使用したほかは上記実施例1と同様にして液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は第2表の2に示した。
Example 23
<Preparation of liquid crystal aligning agent>
The polyorganosiloxane (H-1) obtained in Synthesis Example H-1 as polyorganosiloxane (III) was dissolved in butyl cellosolve to obtain a solution having a solid content concentration of 5% by weight. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution using a filter having a pore diameter of 1 μm.
<Manufacture and evaluation of vertical alignment type liquid crystal display element>
A liquid crystal display device was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal aligning agent prepared above was used. The evaluation results are shown in 2 of Table 2.

実施例24〜27
使用したポリオルガノシロキサンの種類を第2表の2に記載のとおりとしたほかは、上記実施例17と同様にして液晶配向剤を調製し、液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は第2表の2に示した。
Examples 24-27
A liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in Example 17 except that the type of polyorganosiloxane used was as described in Table 2, and a liquid crystal display device was produced and evaluated. The evaluation results are shown in 2 of Table 2.

Figure 0005854205
Figure 0005854205

比較例23
<液晶配向剤の調製>
上記合成例PA−1で得たポリアミック酸(PA−1)を含有する溶液に、γ−ブチロラクトン(BL)、プロピレンカーボネート(PC)およびN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を加えて十分に撹拌し、溶媒組成がBL:PC:NMP=10:40:50(重量比)、固形分濃度が3.6重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いて濾過することにより、液晶配向剤を調製した。
<光垂直配向型液晶表示素子の製造および評価>
上記で調製した液晶配向剤を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は第2表の3に示した。
比較例24および25
使用したポリアミック酸の種類を第2表の3に記載のとおりとしたほかは、上記比較例23と同様にして液晶配向剤を調製し、液晶表示素子を製造して評価した。評価結果は第2表の3に示した。
Comparative Example 23
<Preparation of liquid crystal aligning agent>
Γ-butyrolactone (BL), propylene carbonate (PC), and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) are sufficiently added to the solution containing the polyamic acid (PA-1) obtained in Synthesis Example PA-1 above. The solution was stirred to obtain a solution having a solvent composition of BL: PC: NMP = 10: 40: 50 (weight ratio) and a solid content concentration of 3.6% by weight. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution using a filter having a pore diameter of 1 μm.
<Manufacture and Evaluation of Optical Vertical Alignment Type Liquid Crystal Display Device>
A liquid crystal display device was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal aligning agent prepared above was used. The evaluation results are shown in Table 2-3.
Comparative Examples 24 and 25
A liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in Comparative Example 23 except that the type of polyamic acid used was as described in Table 2-3, and a liquid crystal display device was produced and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2-3.

Figure 0005854205
Figure 0005854205

Claims (5)

(I)下記式(A)
Figure 0005854205
(式(A)中、R 15 は水素原子またはメチル基であり、
およびX II は、それぞれ、1,4−フェニレン基、メチレン基または炭素数2〜8のアルキレン基であり、
Zは酸素原子、−COO− または−OCO− (ただし、「*」を付した結合手がX II 側である。)であり、
a、b、cおよびdは、それぞれ、0または1であり、
ただし、cが0であってdが1であるとき、X II は1,4−フェニレン基であり、
bが0であるとき、dは0である。)
で表される重合性二重結合を有する基を有し、桂皮酸構造を有する基を有さないポリオルガノシロキサン、および
(II)桂皮酸構造を有する基を有するポリオルガノシロキサン
を含有することを特徴とする、液晶配向剤。
(I) The following formula (A)
Figure 0005854205
(In the formula (A), R 15 is a hydrogen atom or a methyl group,
X I and X II are each a 1,4-phenylene group, a methylene group or an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms,
Z is an oxygen atom, -COO- * or -OCO- * (However, bond marked with "*" is X II side.)
a, b, c and d are each 0 or 1,
However, when c is is a 0 d is 1, X II is a 1,4-phenylene group,
When b is 0, d is 0. )
Have a group having in polymerizable double bond represented, polyorganosiloxanes having no group having a cinnamic acid structure, and (II) contain a polyorganosiloxane having a group having a cinnamic acid structure The liquid crystal aligning agent characterized by the above-mentioned.
上記(II)ポリオルガノシロキサンが、
エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、
桂皮酸構造を有するカルボン酸と、
を反応させて得られるものである、請求項1に記載の液晶配向剤。
The above (II) polyorganosiloxane is
A polyorganosiloxane having an epoxy group;
A carboxylic acid having a cinnamic acid structure;
The liquid crystal aligning agent of Claim 1 which is obtained by making this react.
垂直配向型である、請求項1または2に記載の液晶配向剤。 The liquid crystal aligning agent of Claim 1 or 2 which is a vertical alignment type. 基板上に、請求項1または2に記載の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、該塗膜に放射線を照射する工程を経ることを特徴とする、液晶配向膜の形成方法。 On a substrate, a coating film formed by applying the liquid crystal aligning agent according to claim 1 or 2, characterized in that through the process of irradiating the coating film, the method of forming the liquid crystal alignment film. 請求項1または2に記載の液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備することを特徴とする、液晶表示素子。 Characterized by comprising a liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal aligning agent according to claim 1 or 2, the liquid crystal display device.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6146100B2 (en) * 2012-06-21 2017-06-14 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, retardation film, liquid crystal display element and method for producing retardation film
TWI525127B (en) * 2014-09-25 2016-03-11 奇美實業股份有限公司 Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display device having the same
JP6701668B2 (en) * 2015-02-03 2020-05-27 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, method for producing liquid crystal aligning film, and liquid crystal element
JP6672801B2 (en) * 2015-04-09 2020-03-25 Jsr株式会社 Liquid crystal alignment agent
TWI722026B (en) * 2015-10-07 2021-03-21 日商日產化學工業股份有限公司 Composition for manufacturing liquid crystal alignment film, liquid crystal alignment film using the composition and manufacturing method thereof, and liquid crystal display element with liquid crystal alignment film and manufacturing method thereof
US20190040320A1 (en) * 2016-02-03 2019-02-07 Sharp Kabushiki Kaisha Alignment film, polymer, and liquid crystal display device
TWI644947B (en) * 2016-02-05 2018-12-21 奇美實業股份有限公司 Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
TWI644948B (en) * 2016-02-26 2018-12-21 奇美實業股份有限公司 Liquid crystal alignment agent and uses thereof
JP7177396B2 (en) * 2017-03-27 2022-11-24 日産化学株式会社 Cured film-forming composition, alignment material and retardation material
CN107807458A (en) * 2017-11-18 2018-03-16 莆田市烛火信息技术有限公司 A kind of manufacture method of double diopter glasses based on photoetching support column

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3945789B2 (en) * 1997-12-19 2007-07-18 林テレンプ株式会社 Alignment film manufacturing method, alignment film, and liquid crystal display device provided with alignment film
KR100970831B1 (en) * 2007-08-21 2010-07-16 제이에스알 가부시끼가이샤 Liquid crystal aligning agent, method for producing liquid crystal alignment film, and liquid crystal display device
CN101821672B (en) * 2007-10-19 2012-05-30 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent, method for producing liquid crystal alignment film, and liquid crystal display device
WO2009069724A1 (en) * 2007-11-27 2009-06-04 Jsr Corporation Liquid crystal aligning agent, method for forming liquid crystal alignment film, and liquid crystal display device
JP5354161B2 (en) * 2008-10-17 2013-11-27 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent and liquid crystal display element
JP5311054B2 (en) * 2009-02-19 2013-10-09 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent, liquid crystal display element and manufacturing method thereof
JP5716883B2 (en) * 2009-06-09 2015-05-13 Jsr株式会社 Manufacturing method of liquid crystal display element

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