JP5852413B2 - Manufacturing method of spark plug - Google Patents

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本発明は、内燃機関用のスパークプラグの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a spark plug for an internal combustion engine.

ガソリンエンジンなどの内燃機関の点火に使用されるスパークプラグは、軸状の中心電極と、その中心電極を内側に保持する円筒状の絶縁体と、その絶縁体を内側に保持する主体金具とを有する。主体金具には、中心電極との間に火花放電ギャップを形成するように、略L字状の接地電極が設けられている。主体金具および接地電極は、一般に、炭素鋼等の鉄系材料で構成され、その表面には防食のためのめっき処理が施される(下記特許文献1)。しかし、主体金具や接地電極の外表面にめっき層が形成されている場合であっても、加締め工程などにおいて変形する箇所において、当該めっき層が剥離してしまう場合があることが知られている。これまで、こうした主体金具におけるめっき層の剥離を抑制することについて十分な工夫がなされてこなかったのが実情であった。   A spark plug used for ignition of an internal combustion engine such as a gasoline engine includes an axial center electrode, a cylindrical insulator that holds the center electrode inside, and a metal shell that holds the insulator inside. Have. The metal shell is provided with a substantially L-shaped ground electrode so as to form a spark discharge gap with the center electrode. The metal shell and the ground electrode are generally made of an iron-based material such as carbon steel, and the surface thereof is subjected to a plating treatment for corrosion protection (Patent Document 1 below). However, even when a plating layer is formed on the outer surface of the metal shell or the ground electrode, it is known that the plating layer may be peeled off at a location that is deformed in a caulking process or the like. Yes. Until now, the actual situation is that no sufficient contrivance has been made to suppress the peeling of the plating layer in the metal shell.

特開2006−222098号公報JP 2006-222098 A

本発明は、主体金具におけるめっき層の剥離を抑制し、耐食性に優れたスパークプラグを提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the spark plug which suppressed peeling of the plating layer in a main metal fitting, and was excellent in corrosion resistance.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]
軸孔を有する絶縁碍子と、自身の先端が前記絶縁碍子の先端面から突出する状態で前記軸孔に保持される中心電極と、前記絶縁碍子の先端を突出させた状態で前記絶縁碍子を保持する主体金具と、一端が前記主体金具に固定されるとともに他端が前記中心電極の先端部との間に火花放電ギャップを形成する接地電極と、を備えるスパークプラグの製造方法であって、
前記主体金具は、下記の工程により得られた主体金具であることを特徴とするスパークプラグの製造方法。
(a)主体金具の基材を準備する工程
(b)前記基材と電極とを互いに離間した状態でアルカリ性溶液に浸漬させて通電させる電解洗浄として、第1のアルカリ性溶液槽において、前記基材を陽極側として予め設定された時間だけ通電する陽極電解洗浄を実行した後に、第2のアルカリ性溶液槽において、前記陽極電解洗浄の通電時間より短い周期で陰極と陽極とを周期的に切り替えつつ前記基材に通電するPR電解洗浄を実行する工程
(c)電解洗浄された前記基材の外表面にニッケルめっき層を形成する工程。
この製造方法によれば、1回目の電解洗浄として陽極電解洗浄が行われた後に、2回目の電解洗浄としてPR電解洗浄が行われることにより、基材表面の酸化を抑制しつつ、基材表面に対する洗浄効果を向上させることができる。従って、下地とめっき層との密着性が向上し、めっき層の剥離が抑制された主体金具を製造することができ、その主体金具を用いることにより、耐食性に優れたスパークプラグを得ることができる。
[Application Example 1]
An insulator having a shaft hole, a center electrode held by the shaft hole with its own tip protruding from the tip surface of the insulator, and holding the insulator with the tip of the insulator protruding A spark plug comprising: a metal shell, and a ground electrode having one end fixed to the metal shell and the other end forming a spark discharge gap with the tip of the center electrode,
The method of manufacturing a spark plug, wherein the metal shell is a metal shell obtained by the following process.
(A) Step of preparing a base material of the metal shell (b) In the first alkaline solution bath, the base material is used as electrolytic cleaning in which the base material and the electrode are immersed in an alkaline solution in a state of being separated from each other and energized. In the second alkaline solution bath, the cathode and the anode are periodically switched at a cycle shorter than the energization time of the anode electrolytic cleaning in the second alkaline solution tank. (C) A step of forming a nickel plating layer on the outer surface of the electrolytically cleaned substrate.
According to this manufacturing method, the anodic electrolytic cleaning is performed as the first electrolytic cleaning, and then the PR electrolytic cleaning is performed as the second electrolytic cleaning. The cleaning effect on can be improved. Therefore, it is possible to manufacture a metal shell in which adhesion between the base and the plating layer is improved and peeling of the plating layer is suppressed. By using the metal shell, a spark plug excellent in corrosion resistance can be obtained. .

[適用例2]
適用例1記載の製造方法であって、
前記工程(b)において、アルカリ性溶液のpHは8以上であり、かつ、15以下である、製造方法。
この製造方法によれば、電解洗浄処理において、より高い洗浄効果を得ることができる。従って、主体金具におけるめっき層の剥離を抑制することができる。
[Application Example 2]
A manufacturing method according to Application Example 1,
In the step (b), the alkaline solution has a pH of 8 or more and 15 or less.
According to this manufacturing method, a higher cleaning effect can be obtained in the electrolytic cleaning process. Therefore, peeling of the plating layer in the metal shell can be suppressed.

[適用例3]
適用例1または2記載の製造方法であって、
前記工程(b)において、前記第2のアルカリ性溶液槽には、シアン化物イオンが含まれる、製造方法。
この製造方法によれば、溶液槽中のシアン化物イオンによって、電解洗浄工程において基材表面に析出する不純金属が除去されるため、電解洗浄処理における洗浄効果が向上する。
[Application Example 3]
A manufacturing method according to application example 1 or 2,
In the step (b), the second alkaline solution tank contains cyanide ions.
According to this manufacturing method, since the impure metal deposited on the surface of the base material in the electrolytic cleaning step is removed by the cyanide ions in the solution tank, the cleaning effect in the electrolytic cleaning process is improved.

[適用例4]
適用例1〜3のいずれか一つに記載の製造方法であって、
前記工程(b)は、前記PR電解洗浄の後に、前記基材を酸性溶液によって洗浄する工程を含む、製造方法。
この製造方法によれば、陽極電解洗浄やPR電解洗浄において、基材に付着した不純物などを酸性溶液によって除去することができる。従って、基材とめっき層との密着性を、より向上させることができる。
[Application Example 4]
The production method according to any one of Application Examples 1 to 3,
The step (b) includes a step of washing the substrate with an acidic solution after the PR electrolytic washing.
According to this manufacturing method, impurities attached to the substrate can be removed by the acidic solution in anodic electrolytic cleaning and PR electrolytic cleaning. Therefore, the adhesion between the substrate and the plating layer can be further improved.

[適用例5]
適用例4に記載の製造方法であって、
前記酸性溶液は、濃度が4%〜15%である、製造方法。
この製造方法によれば、基材表面の状態劣化を抑制しつつ、基材表面に付着した不純物を効果的に除去することができる。
[Application Example 5]
The manufacturing method according to Application Example 4,
The acidic solution has a concentration of 4% to 15%.
According to this manufacturing method, impurities attached to the substrate surface can be effectively removed while suppressing deterioration of the state of the substrate surface.

なお、本発明は、種々の形態で実現することが可能であり、例えば、主体金具やスパークプラグの製造方法、それらの製造方法によって製造された主体金具やスパークプラグ等の形態で実現することができる。   The present invention can be realized in various forms. For example, it can be realized in the form of a metal shell or a spark plug manufactured by the manufacturing method of the metal shell or the spark plug, or the like. it can.

スパークプラグの構造の一例を示す要部断面図。The principal part sectional drawing which shows an example of the structure of a spark plug. 主体金具の製造工程の一例を工程順に示す説明図。Explanatory drawing which shows an example of the manufacturing process of a metal shell in order of a process. 主体金具のめっき処理の手順を示す説明図。Explanatory drawing which shows the procedure of the metal-plating process. 電解処理装置の構成を示す概略図。Schematic which shows the structure of an electrolytic treatment apparatus. 陰極電解脱脂処理と陽極電解脱脂処理のそれぞれの特性を示す説明図。Explanatory drawing which shows each characteristic of a cathodic electrolytic degreasing process and an anodic electrolytic degreasing process. サンプルグループごとのめっき層の密着性についての評価結果を示す説明図。Explanatory drawing which shows the evaluation result about the adhesiveness of the plating layer for every sample group. めっき層の密着性についての評価部位を説明するための模式図。The schematic diagram for demonstrating the evaluation site | part about the adhesiveness of a plating layer. 電解脱脂処理に用いられるアルカリ性溶液のpHの好適な条件を調べるための実験の実験結果を示す説明図。Explanatory drawing which shows the experimental result of the experiment for investigating the suitable conditions of pH of the alkaline solution used for an electrolytic degreasing process. 酸性溶液による洗浄処理の好ましい処理条件を調べるための実験の実験結果を示す説明図。Explanatory drawing which shows the experimental result of the experiment for investigating the preferable process conditions of the washing process by an acidic solution.

図1は、スパークプラグの構造の一例を示す要部断面図である。このスパークプラグ100は、筒状の主体金具1と、先端部が突出するようにその主体金具1内に嵌め込まれた筒状の絶縁体2と、先端部を突出させた状態で絶縁体2の内側に設けられた中心電極3とを備えている。主体金具1には、接地電極4が接合されている。接地電極4は、一端が主体金具1に結合されるとともに、他端が中心電極3の先端と対向するように配置され、中心電極3との間に火花放電ギャップgを形成する。   FIG. 1 is a cross-sectional view of an essential part showing an example of the structure of a spark plug. The spark plug 100 includes a cylindrical metal shell 1, a cylindrical insulator 2 fitted into the metal shell 1 so that the tip portion protrudes, and the insulator 2 with the tip portion protruding. And a center electrode 3 provided inside. A ground electrode 4 is joined to the metal shell 1. The ground electrode 4 is disposed so that one end is coupled to the metal shell 1 and the other end faces the tip of the center electrode 3, and a spark discharge gap g is formed between the ground electrode 4 and the center electrode 3.

絶縁体2は、例えばアルミナあるいは窒化アルミニウム等のセラミック焼結体により構成され、その内部には絶縁体2の軸方向に沿って中心電極3や端子金具13を嵌め込むための貫通孔6が形成されている。中心電極3は、貫通孔6の先端側(紙面下側)に挿入・固定され、端子金具13は、貫通孔6の後端側(図1の紙面上側)に挿入・固定される。また、貫通孔6内において、端子金具13と中心電極3との間には、抵抗体15が配置される。この抵抗体15の両端部は、導電性ガラスシール層16,17を介して中心電極3と端子金具13とにそれぞれ電気的に接続される。   The insulator 2 is made of, for example, a ceramic sintered body such as alumina or aluminum nitride, and a through-hole 6 for fitting the center electrode 3 and the terminal fitting 13 along the axial direction of the insulator 2 is formed therein. Has been. The center electrode 3 is inserted and fixed on the front end side (the lower side of the drawing) of the through hole 6, and the terminal fitting 13 is inserted and fixed on the rear end side of the through hole 6 (the upper side of the drawing in FIG. 1). A resistor 15 is disposed between the terminal fitting 13 and the center electrode 3 in the through hole 6. Both ends of the resistor 15 are electrically connected to the center electrode 3 and the terminal fitting 13 through the conductive glass seal layers 16 and 17, respectively.

主体金具1は、炭素鋼等の金属により中空円筒状に形成されており、スパークプラグ100のハウジングを構成する。主体金具1の先端側(図1の紙面下側)の外周面には、スパークプラグ100を内燃機関の燃焼室(図示せず)に取り付けるためのねじ部7が形成されている。ねじ部7には、燃焼室に設けられたスパークプラグを取り付けるためのねじ孔に螺合するねじ溝が切られている。なお、ねじ部7の後端側(紙面上側)には、六角部1eが設けられている。六角部1eは、主体金具1を燃焼室に取り付ける際に、スパナやレンチ等の工具を係合させる工具係合部であり、六角状の横断面形状を有している。   The metal shell 1 is formed in a hollow cylindrical shape from a metal such as carbon steel, and constitutes a housing of the spark plug 100. A threaded portion 7 for attaching the spark plug 100 to a combustion chamber (not shown) of the internal combustion engine is formed on the outer peripheral surface of the metal shell 1 on the front end side (the lower side in FIG. 1). The threaded portion 7 has a thread groove that is screwed into a threaded hole for attaching a spark plug provided in the combustion chamber. A hexagonal portion 1e is provided on the rear end side (upper side of the drawing) of the screw portion 7. The hexagonal portion 1e is a tool engaging portion that engages a tool such as a spanner or a wrench when the metal shell 1 is attached to the combustion chamber, and has a hexagonal cross-sectional shape.

主体金具1の後端側の開口部の内壁面と、絶縁体2の外壁面との間には、タルク等の粉体が充填された充填層61が形成されている。充填層61は、絶縁体2のフランジ状の突出部2eと、主体金具1の開口部端部が内側に加締められた加締め部1dとの間に形成されている。充填層61の突出部2e側と加締め部1d側のそれぞれの端部には、リング状の線パッキン62,60が配置されている。なお、充填層61および加締め部1dの形成工程については後述する。   Between the inner wall surface of the opening on the rear end side of the metal shell 1 and the outer wall surface of the insulator 2, a packed layer 61 filled with powder such as talc is formed. The filling layer 61 is formed between the flange-shaped protrusion 2e of the insulator 2 and a crimped portion 1d in which the opening end of the metal shell 1 is crimped inward. Ring-shaped wire packings 62 and 60 are arranged at the end portions of the filling layer 61 on the protruding portion 2e side and the crimped portion 1d side. In addition, the formation process of the filling layer 61 and the crimping part 1d is mentioned later.

主体金具1の六角部1eとねじ部7との間には、フランジ状のガスシール部1fが設けられ、ガスシール部1fのねじ部7側には、ガスケット30がはめ込まれている。このガスケット30は、炭素鋼等の金属板素材を曲げ加工したリング状の部品であり、ねじ部7をシリンダヘッド側のねじ孔にねじ込むことにより、ガスシール部1fとねじ孔の開口周縁部との間で、軸線方向に圧縮されてつぶれるように変形し、ねじ孔とねじ部7との間の隙間をシールする役割を果たす。なお、ガスシール部1fと六角部1eとの間には、溝部1hが形成されている。溝部1hは、厚みが主体金具1の中で最も薄く形成されており、外側にわずかに湾曲している。以後、本明細書では、溝部1hを「薄肉部1h」とも呼ぶ。   A flange-shaped gas seal portion 1 f is provided between the hexagonal portion 1 e of the metal shell 1 and the screw portion 7, and a gasket 30 is fitted on the screw portion 7 side of the gas seal portion 1 f. The gasket 30 is a ring-shaped part formed by bending a metal plate material such as carbon steel. By screwing the screw portion 7 into the screw hole on the cylinder head side, the gas seal portion 1f and the opening peripheral portion of the screw hole are provided. Between the screw hole and the threaded portion 7 to seal the gap between the screw hole and the threaded portion 7. A groove portion 1h is formed between the gas seal portion 1f and the hexagonal portion 1e. The groove 1h is formed to be the thinnest in the metal shell 1 and is slightly curved outward. Hereinafter, in this specification, the groove portion 1h is also referred to as a “thin wall portion 1h”.

図2(A)〜(D)は、主体金具の製造工程の一例を工程順に示す説明図である。図2(A)の工程では、接地電極4が接合された主体金具1の基材1aが準備される。基材1aは、加締め部1dとなるべき加締め予定部1daが、後端側に延びる壁部として形成されている点と、薄肉部1hが湾曲しておらず、接地電極4も屈曲していない直棒状の形状のままである点以外は、図1で説明した主体金具1とほぼ同じである。なお、基材1aの表面は、防食のためのめっき処理がすでに施された状態である。   2A to 2D are explanatory views illustrating an example of the manufacturing process of the metal shell in the order of processes. In the step of FIG. 2A, a base material 1a of the metal shell 1 to which the ground electrode 4 is bonded is prepared. In the base material 1a, the caulking scheduled portion 1da to be the caulking portion 1d is formed as a wall portion extending to the rear end side, the thin portion 1h is not curved, and the ground electrode 4 is also bent. It is almost the same as the metal shell 1 described in FIG. In addition, the surface of the base material 1a has already been subjected to a plating treatment for corrosion prevention.

次に、図2(B)の工程では、基材1aの貫通孔に絶縁体2を、基材1aの後端側の挿入開口部1pから挿入し、絶縁体2と基材1aのそれぞれに設けられた係合部2h,1cを、板パッキン63を介して互いに係合させる。なお、絶縁体2には、中心電極3及び導電性ガラスシール層16,17、抵抗体15及び端子金具13が予め組みつけられている。   Next, in the step of FIG. 2B, the insulator 2 is inserted into the through hole of the base material 1a from the insertion opening 1p on the rear end side of the base material 1a, and the insulator 2 and the base material 1a are respectively inserted. The provided engaging portions 2 h and 1 c are engaged with each other via the plate packing 63. The insulator 2 is preassembled with a center electrode 3, conductive glass seal layers 16 and 17, a resistor 15 and a terminal fitting 13.

図2(C)の工程では、基材1aの挿入開口部1pから線パッキン62を配置し、その後、タルク等の充填層61を形成して、さらに、線パッキン60を挿入開口部1p側に配置する。そして、加締め金型111により、加締め予定部1daを線パッキン62、充填層61及び線パッキン60を介して、突出部2eの端面2nを加締め受部として加締める。これにより、図2(D)に示すように加締め予定部1daが変形して加締め部1dが形成され、基材1aが絶縁体2に加締め固定される。なお、薄肉部1hは、この加締め時における圧縮応力によって湾曲する。加締め工程の後、接地電極4を中心電極3側に曲げ加工して屈曲部Rを形成することにより、火花放電ギャップgが形成され、図1のスパークプラグ100が完成する。   In the step of FIG. 2C, the line packing 62 is disposed from the insertion opening 1p of the substrate 1a, and then a filling layer 61 such as talc is formed, and the line packing 60 is further moved to the insertion opening 1p side. Deploy. Then, the caulking die 111 is used to caulk the caulking scheduled portion 1da through the wire packing 62, the filling layer 61, and the wire packing 60 with the end surface 2n of the protruding portion 2e as the caulking receiving portion. Thereby, as shown in FIG. 2D, the caulking scheduled portion 1 da is deformed to form the caulking portion 1 d, and the base material 1 a is caulked and fixed to the insulator 2. Note that the thin portion 1h is bent by the compressive stress during the caulking. After the caulking process, the ground electrode 4 is bent toward the center electrode 3 to form the bent portion R, thereby forming a spark discharge gap g and completing the spark plug 100 of FIG.

このように、主体金具1の加締め部1dや接地電極4の屈曲部、薄肉部1hは、表面にめっき処理が施された後の工程で変形される。従って、加締め部1dや接地電極4の屈曲部R、薄肉部1hには、残留応力が生じており、めっき層の剥離が生じやすい。特に、めっき層の剥離は、接地電極4の屈曲部Rにおいて生じやすい。そこで、本実施形態では、以下に説明するめっき処理の工程により、めっき層の剥離を抑制する。   Thus, the caulking portion 1d of the metal shell 1, the bent portion of the ground electrode 4, and the thin-walled portion 1h are deformed in the process after the surface is plated. Accordingly, residual stress is generated in the caulking portion 1d, the bent portion R of the ground electrode 4, and the thin portion 1h, and the plating layer is easily peeled off. In particular, peeling of the plating layer tends to occur at the bent portion R of the ground electrode 4. Therefore, in the present embodiment, peeling of the plating layer is suppressed by a plating process described below.

図3は、本実施形態における主体金具のめっき処理の手順を示すフローチャートである。このめっき処理は、図2で説明した工程の前に、主体金具1の基材1aに対して行われる。ステップS100では、電解脱脂処理(電解洗浄処理)が行われる。この電解脱脂処理は、炭素鋼で形成された主体金具1の基材1aの表面に付着した油脂分を洗浄することにより、後に基材1aの表面に形成されるめっき層と下地金属との密着性を向上させるために行われるものである。   FIG. 3 is a flowchart showing the procedure of the plating process of the metal shell in the present embodiment. This plating process is performed on the base material 1a of the metal shell 1 before the process described in FIG. In step S100, an electrolytic degreasing process (electrolytic cleaning process) is performed. In this electrolytic degreasing treatment, the oil and fat adhering to the surface of the base material 1a of the metal shell 1 made of carbon steel is washed, so that the plating layer formed on the surface of the base material 1a and the underlying metal are adhered to each other later. This is done to improve the performance.

図4(A)〜(C)はそれぞれ、異なる種類の電解脱脂処理を実行する電解処理装置の構成を示す概略図である。一般に、電解脱脂処理としては、陽極電解脱脂処理、PR電解脱脂処理、陰極電解脱脂処理の3種類が知られている。本実施形態における電解脱脂処理工程では、このうちの陽極電解脱脂処理と、PR電解脱脂処理とを実行する。図4(A)は、陽極電解脱脂処理を行うための電解処理装置200の構成を示す概略図である。この電解処理装置200は、電解浴槽201と、2つの電極202a,202bと、基材容器203と、整流器204とを備える。電解浴槽201には、アルカリ性溶液が貯められており、そのアルカリ溶液中に2つの電極202a,202bと、基材容器203とが配置されている。   4 (A) to 4 (C) are schematic views each showing a configuration of an electrolytic treatment apparatus that performs different types of electrolytic degreasing treatments. Generally, three types of electrolytic degreasing treatment are known: anodic electrolytic degreasing treatment, PR electrolytic degreasing treatment, and cathodic electrolytic degreasing treatment. In the electrolytic degreasing process in the present embodiment, the anodic electrolytic degreasing process and the PR electrolytic degreasing process are executed. FIG. 4A is a schematic diagram showing a configuration of an electrolytic treatment apparatus 200 for performing anodic electrolytic degreasing treatment. The electrolytic treatment apparatus 200 includes an electrolytic bath 201, two electrodes 202a and 202b, a base material container 203, and a rectifier 204. The electrolytic bath 201 stores an alkaline solution, and two electrodes 202a and 202b and a base material container 203 are disposed in the alkaline solution.

基材容器203は、複数の基材1aを保持するための容器であり、一般にバレルとも呼ばれる。ここで、基材1aは、めっき処理が施されていない点以外は、図2(A)で説明したものと同様のものである。電解脱脂処理の際には、複数の基材1aは、基材容器203の内部にバラ積みされる。基材容器203の容器壁は、アルカリ性溶液が容器内部に透過するように多孔質に構成されている。これによって、複数の基材1aは、基材容器203内においてアルカリ性溶液に浸漬される。また、基材容器203は、アルカリ性溶液中において、中心部203cを中心として回転可能に配置されており、電解脱脂処理実行中には、駆動モータ(図示せず)によって、ほぼ一定の周期で回転する。これによって、基材容器203にバラ積みされた複数の基材1aは、電解脱脂処理実行中に、アルカリ性溶液中で攪拌される。   The base material container 203 is a container for holding a plurality of base materials 1a, and is generally called a barrel. Here, the base material 1a is the same as that described with reference to FIG. 2A except that the plating treatment is not performed. In the electrolytic degreasing process, the plurality of base materials 1 a are stacked in the base material container 203. The container wall of the base material container 203 is configured to be porous so that the alkaline solution permeates into the container. Accordingly, the plurality of base materials 1 a are immersed in the alkaline solution in the base material container 203. The base material container 203 is disposed so as to be rotatable around the central portion 203c in an alkaline solution, and is rotated at a substantially constant cycle by a drive motor (not shown) during the electrolytic degreasing process. To do. Thus, the plurality of base materials 1a stacked in the base material container 203 are stirred in the alkaline solution during the electrolytic degreasing process.

2つの電極202a,202bは、鉄やステンレス(登録商標)、カーボンによって構成された導電性の板状部材である。2つの電極202a,202bは、アルカリ性溶液中において、基材容器203を挟むように配置されている。なお、2つの電極202a,202bは、基材容器203から互いにほぼ等距離の位置に配置されることが好ましい。整流器204は、直流電源として機能し、直流電源ラインDCLを介して、2つの電極202a,202bおよび基材容器203の中心部203cと電気的に接続されている。より具体的には、整流器204の陰極は、2つの電極202a,202bのそれぞれと並列に接続されており、整流器204の陽極は、基材容器203の中心部203cと接続されている。即ち、この陰極電解脱脂処理では、基材1a側を陰極として通電することにより、電解洗浄が行われる。なお、陽極電解脱脂処理の具体的な好ましい処理条件の例は、下記の通りである。   The two electrodes 202a and 202b are conductive plate members made of iron, stainless steel (registered trademark), or carbon. The two electrodes 202a and 202b are arranged so as to sandwich the base material container 203 in an alkaline solution. Note that the two electrodes 202a and 202b are preferably arranged at substantially equal distances from the base material container 203. The rectifier 204 functions as a direct current power source, and is electrically connected to the two electrodes 202a and 202b and the central portion 203c of the base material container 203 via the direct current power line DCL. More specifically, the cathode of the rectifier 204 is connected in parallel with each of the two electrodes 202 a and 202 b, and the anode of the rectifier 204 is connected to the center portion 203 c of the base material container 203. That is, in this cathodic electrolytic degreasing treatment, electrolytic cleaning is performed by energizing the substrate 1a side as a cathode. In addition, the example of the preferable preferable process conditions of an anodic electrolytic degreasing process is as follows.

<陽極電解脱脂処理の処理条件の例>
・アルカリ性溶液: 水酸化ナトリウム溶液(NaOH溶液)
濃度2〜6%程度
pH7以上、15以下
・処理温度(溶液温度): 40〜65℃
・印加電流密度: 0.1〜0.6A/dm2
・処理時間: 5〜15分
<Examples of processing conditions for anodic electrolytic degreasing>
・ Alkaline solution: Sodium hydroxide solution (NaOH solution)
Concentration around 2-6%
pH 7 or more, 15 or less ・ Processing temperature (solution temperature): 40 to 65 ° C.
Applied current density: 0.1 to 0.6 A / dm 2
・ Processing time: 5-15 minutes

なお、アルカリ性溶液としては、上記の水酸化ナトリウム溶液以外の溶液が用いられるものとしても良い。また、電解処理装置200の2つの電極202a,202bのうち少なくとも一方は省略されるものとしても良い。   As the alkaline solution, a solution other than the above sodium hydroxide solution may be used. Further, at least one of the two electrodes 202a and 202b of the electrolytic treatment apparatus 200 may be omitted.

図4(B)は、PR電解脱脂処理を実行する電解処理装置220の構成を示す概略図である。図4(B)は、直流電源ラインDCLに2つの切替スイッチ221a,221bが設けられている点と、スイッチ駆動部223が追加されている点以外は、図4(A)とほぼ同じである。第1の切替スイッチ221aは、整流器204の陰極に接続されており、整流器204の陰極の接続先を、2つの電極202a,202bまたは基材容器203の中心部203cのいずれかに切り替えることができる。第2の切替スイッチ221bは、整流器204の陽極に接続されており、第1の切替スイッチ221aと同様に、整流器204の陽極の接続先を切り替えることができる。   FIG. 4B is a schematic diagram illustrating a configuration of an electrolytic treatment apparatus 220 that performs PR electrolytic degreasing treatment. FIG. 4B is almost the same as FIG. 4A except that two changeover switches 221a and 221b are provided on the DC power supply line DCL and a switch drive unit 223 is added. . The first changeover switch 221a is connected to the cathode of the rectifier 204, and the connection destination of the cathode of the rectifier 204 can be switched to one of the two electrodes 202a and 202b or the central portion 203c of the base material container 203. . The second changeover switch 221b is connected to the anode of the rectifier 204, and the connection destination of the anode of the rectifier 204 can be changed in the same manner as the first changeover switch 221a.

2つの切替スイッチ221a,221bの接続先は、スイッチ駆動部223の指令により、同時並行的に切り替えられる。電解処理装置220では、この2つの切替スイッチ221a,221bの切り替え動作によって、基材1aに印加される電流の極性を周期的に切り替えつつ、電解脱脂処理を実行する。なお、PR電解脱脂処理の具体的な好ましい処理条件の例は、下記の通りである。   The connection destinations of the two changeover switches 221a and 221b are switched simultaneously and in parallel by a command from the switch driving unit 223. In the electrolytic treatment apparatus 220, the electrolytic degreasing process is performed while periodically switching the polarity of the current applied to the substrate 1a by the switching operation of the two changeover switches 221a and 221b. In addition, the example of the preferable preferable process conditions of PR electrolytic degreasing process is as follows.

<PR電解脱脂処理の処理条件の例>
・アルカリ性溶液: 水酸化ナトリウム溶液(NaOH溶液)
濃度2〜6%程度
pH7以上、15以下
・処理温度(溶液温度): 40〜65℃
・印加電流密度: 0.1〜0.6A/dm2
・処理時間: 5〜15分
・電流極性の反転周期: 以下の通電時間の繰り返し
基材側を陽極として通電する時間 5〜15秒
基材側を陰極として通電する時間 基材側を陽極とする通電時間の半分程度の時間
<Examples of processing conditions for PR electrolytic degreasing>
・ Alkaline solution: Sodium hydroxide solution (NaOH solution)
Concentration around 2-6%
pH 7 or more, 15 or less ・ Processing temperature (solution temperature): 40 to 65 ° C.
Applied current density: 0.1 to 0.6 A / dm 2
・ Processing time: 5 to 15 minutes ・ Reversal period of current polarity: Repeating the following energizing time Time to energize using the substrate side as the anode 5 to 15 seconds Time to energize using the substrate side as the cathode Use the substrate side as the anode About half of the energization time

図4(C)は、参考例として、陰極電解脱脂処理を行うための電解処理装置240の構成を示す模式図である。図4(C)は、整流器204と、2つの電極202a,202bおよび基材容器203の中心部203cとの電気的接続が異なる点以外は、図4(A)とほぼ同じである。この電解処理装置240では、整流器204の陰極は、基材容器203の中心部203cと接続されており、陽極は、2つの電極202a,202bのそれぞれと並列に接続されている。即ち、この陰極電解脱脂処理では、基材1a側を陰極として通電されることにより、電解洗浄が行われる。ここで、3種類の電解脱脂処理の特性について以下に説明する。   FIG. 4C is a schematic diagram showing a configuration of an electrolytic treatment apparatus 240 for performing a cathodic electrolytic degreasing treatment as a reference example. 4C is substantially the same as FIG. 4A except that the electrical connection between the rectifier 204, the two electrodes 202a and 202b, and the central portion 203c of the base material container 203 is different. In this electrolytic treatment apparatus 240, the cathode of the rectifier 204 is connected to the central portion 203c of the base material container 203, and the anode is connected in parallel to each of the two electrodes 202a and 202b. That is, in this cathodic electrolytic degreasing process, electrolytic cleaning is performed by energizing the base 1a side as a cathode. Here, the characteristic of three types of electrolytic degreasing processes is demonstrated below.

図5は、陰極電解脱脂処理と陽極電解脱脂処理のそれぞれの特性をまとめた説明図である。陰極電解脱脂処理では、前記したとおり、基材1a側を陰極として通電する。そのため、基材1aの表面に水素が発生し、その水素によって基材1aの表面に付着した汚れを効果的に脱落させることができる。しかし、陰極電解脱脂処理は、長時間継続して実行されると、発生水素により、処理対象である基材1aに水素脆化が生じる可能性がある。そのため、陰極電解脱脂処理は、含有炭素量の大きい、いわゆる高C材料で構成された基材1aの洗浄には不向きである。   FIG. 5 is an explanatory diagram summarizing the characteristics of the cathodic electrolytic degreasing treatment and the anodic electrolytic degreasing treatment. In the cathode electrolytic degreasing treatment, as described above, the substrate 1a side is used as a cathode to energize. Therefore, hydrogen is generated on the surface of the substrate 1a, and the dirt attached to the surface of the substrate 1a due to the hydrogen can be effectively removed. However, when the cathodic electrolytic degreasing process is continuously performed for a long time, hydrogen embrittlement may occur in the base material 1a to be processed due to the generated hydrogen. Therefore, the cathodic electrolytic degreasing treatment is not suitable for cleaning the substrate 1a made of a so-called high C material having a large carbon content.

一方、陽極電解脱脂処理では、基材1a側を陽極として通電するため、基材1aの表面には酸素が発生する。陽極電解脱脂処理では、その酸素の発生により、基材1aの表面に付着した汚れを、電解酸化により分解することができる。このように、陽極電解脱脂処理では、陰極電解脱脂処理のような水素脆化の畏れはなく、基材1a表面に発生したスマット(微粉末状の黒色物質)の除去に適している。なお、陽極電解脱脂処理では、基材1aの表面に不動態被膜や酸化被膜が生成される可能性があるため、陽極電解処理の実行後に、基材1aを酸洗することにより、基材1aの表面を活性化することが好ましい。   On the other hand, in the anodic electrolytic degreasing treatment, since electricity is supplied using the base 1a side as an anode, oxygen is generated on the surface of the base 1a. In the anodic electrolytic degreasing treatment, dirt adhering to the surface of the substrate 1a due to the generation of oxygen can be decomposed by electrolytic oxidation. Thus, the anodic electrolytic degreasing treatment does not cause hydrogen embrittlement unlike the cathodic electrolytic degreasing treatment, and is suitable for removing smut (fine powdery black substance) generated on the surface of the substrate 1a. In the anodic electrolytic degreasing treatment, a passive film or an oxide film may be formed on the surface of the base material 1a. Therefore, the base material 1a is pickled after the anodic electrolysis treatment. It is preferable to activate the surface.

PR電解脱脂処理では、上述したように、基材1a側の極性が周期的に切り替えられる。即ち、PR電解脱脂処理は、陰極電解脱脂処理と陽極電解脱脂処理とを交互に短周期で切り替えて実行する洗浄処理であると解釈できる。従って、PR電解脱脂処理では、上述した陰極電解脱脂処理や陽極電解脱脂処理のそれぞれの短所を補完しつつ、洗浄効果を得ることが可能である。ただし、PR電解脱脂処理では、同一極性での連続した通電時間が、通常の陰極電解脱脂処理や陽極電解脱脂処理より短いため、洗浄効率が低くなる可能性がある。また、上述したように、PR電解脱脂処理では、溶液槽において複数の基材1aを攪拌しつつ、電流の極性を反転させる。そのため、各基材1aの中には、電解脱脂のための通電極性や通電時間が不均一となってしまうものが生じてしまう可能性がある。即ち、PR電解脱脂処理では、基材1aに対する洗浄効果にムラが生じてしまう可能性がある。   In the PR electrolytic degreasing treatment, as described above, the polarity on the substrate 1a side is periodically switched. That is, the PR electrolytic degreasing process can be interpreted as a cleaning process that is performed by alternately switching the cathode electrolytic degreasing process and the anodic electrolytic degreasing process in a short cycle. Therefore, in the PR electrolytic degreasing treatment, it is possible to obtain a cleaning effect while complementing the respective disadvantages of the cathode electrolytic degreasing treatment and the anodic electrolytic degreasing treatment described above. However, in the PR electrolytic degreasing treatment, since the continuous energization time with the same polarity is shorter than the normal cathodic electrolytic degreasing treatment or anodic electrolytic degreasing treatment, the cleaning efficiency may be lowered. Further, as described above, in the PR electrolytic degreasing treatment, the polarity of the current is reversed while stirring the plurality of base materials 1a in the solution tank. Therefore, in each base material 1a, what may become non-uniform | heterogenous in the electricity polarity and time for electrolysis degreasing may arise. That is, in the PR electrolytic degreasing treatment, the cleaning effect on the base material 1a may be uneven.

ここで、電解脱脂処理は、処理回数が1回では洗浄効果が十分得られない可能性が高いため、複数回繰り返し行われるのが一般的である。しかし、同じ種類の電解脱脂処理が連続して行われた場合には、各電解脱脂処理の短所が以下のように強調されてしまう可能性があることを本発明の発明者は見出した。即ち、陰極電解脱脂処理が連続して実行された場合には、基材1aの水素脆化が促進されるとともに、基材1aの表面に鉄分などの不純金属イオンが析出する可能性が高くなる。また、陽極電解脱脂処理が連続して実行された場合には、基材1aの表面酸化が顕著となる可能性がある。PR電解脱脂処理が連続して実行された場合には、処理回数に比した洗浄効果が得られない可能性や、基材1aごとの洗浄効果のムラが促進される可能性がある。   Here, the electrolytic degreasing treatment is generally repeated a plurality of times because there is a high possibility that a sufficient cleaning effect cannot be obtained if the number of treatments is one. However, when the same kind of electrolytic degreasing treatment is continuously performed, the inventors of the present invention have found that the disadvantages of each electrolytic degreasing treatment may be emphasized as follows. That is, when the cathodic electrolytic degreasing process is continuously performed, hydrogen embrittlement of the base material 1a is promoted, and the possibility of impure metal ions such as iron deposits on the surface of the base material 1a increases. . Moreover, when the anodic electrolytic degreasing process is continuously performed, the surface oxidation of the base material 1a may become remarkable. When the PR electrolytic degreasing process is continuously performed, there is a possibility that the cleaning effect as compared with the number of processes cannot be obtained, and the unevenness of the cleaning effect for each substrate 1a may be promoted.

そこで、本実施形態では、基材1aの水素脆化の可能性のない陽極電解脱脂処理と、陽極電解脱脂処理と陰極電解脱脂処理の短所を補完できるPR電解脱脂処理とを組み合わせた2回の電解脱脂処理を実行することにより、基材1aの脱脂性を向上させる。ここで、陽極電解脱脂処理を2回目の電解脱脂処理として実行した場合には、後続するめっき処理において、基材1aの表面の酸化による影響が顕著に現れる可能性が高い。そのため、本実施形態では、1回目の電解脱脂処理として陽極電解脱脂処理を実行し、2回目の電解脱脂処理としてPR電解脱脂処理を実行する。   Therefore, in the present embodiment, the anodic electrolytic degreasing treatment that does not cause the hydrogen embrittlement of the base material 1a and the PR electrolytic degreasing treatment that can complement the disadvantages of the anodic electrolytic degreasing treatment and the cathodic electrolytic degreasing treatment are combined two times. By performing the electrolytic degreasing treatment, the degreasing property of the substrate 1a is improved. Here, when the anodic electrolytic degreasing process is performed as the second electrolytic degreasing process, there is a high possibility that the effect of the oxidation of the surface of the base material 1a will be noticeable in the subsequent plating process. Therefore, in this embodiment, an anodic electrolytic degreasing process is performed as the first electrolytic degreasing process, and a PR electrolytic degreasing process is performed as the second electrolytic degreasing process.

ところで、電解脱脂処理としては、さらに複数の回数を行うことも可能である。しかし、電解脱脂処理を3回以上行うと、得られる洗浄効果に対して工程数が増大することとなり好ましくない。また、5回以上の電解脱脂処理が行われた場合には、基材1aの表面に荒れが生じ、めっき層の密着性が低下するばかりでなく、基材1aの外観上の不良が発生してしまう可能性がある。   By the way, the electrolytic degreasing treatment can be performed a plurality of times. However, when the electrolytic degreasing treatment is performed three times or more, the number of steps increases with respect to the obtained cleaning effect, which is not preferable. In addition, when the electrolytic degreasing treatment is performed five times or more, the surface of the substrate 1a is roughened, not only the adhesion of the plating layer is lowered, but also the appearance of the substrate 1a is defective. There is a possibility that.

なお、それぞれの電解脱脂処理は、異なる電解浴槽201において実行されることが好ましい。これによって、アルカリ性溶液の劣化による電解脱脂処理の効果低減を抑制できる。また、電解脱脂処理に用いられるアルカリ性溶液には、界面活性剤が含有されていることが好ましく、特に1回目の電解脱脂処理に用いられるアルカリ性溶液に含有されていることが、より好ましい。界面活性剤によって、基材1aの表面の濡れ性を高くすることができ、洗浄効果をより向上させることができるためである。界面活性剤としては、以下のものを使用することができる。   Each electrolytic degreasing process is preferably performed in different electrolytic baths 201. Thereby, reduction in the effect of electrolytic degreasing treatment due to deterioration of the alkaline solution can be suppressed. Further, the alkaline solution used for the electrolytic degreasing treatment preferably contains a surfactant, and more preferably contained in the alkaline solution used for the first electrolytic degreasing treatment. This is because the wettability of the surface of the substrate 1a can be increased by the surfactant, and the cleaning effect can be further improved. As the surfactant, the following can be used.

<界面活性剤の例>
高級脂肪酸ナトリウム、硫酸化油、高級アルコール硫酸エステルナトリウム、アルキルベンゼン硫酸ナトリウム、高級アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム、α−オレフィン硫酸ナトリウム、アルキルポリオキシエチレンエーテル、アルキルフェニルポリオキシエチレンエーテル、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物(ブルロニック)等
<Example of surfactant>
Higher fatty acid sodium, sulfated oil, higher alcohol sulfate sodium, alkylbenzene sodium sulfate, higher alkyl ether sulfate sodium, α-olefin sodium sulfate, alkyl polyoxyethylene ether, alkylphenyl polyoxyethylene ether, fatty acid ethylene oxide adduct, Polypropylene glycol ethylene oxide adduct (Buluronic), etc.

さらに、最後(2回目)の電解脱脂処理に用いられるアルカリ性溶液には、錯化剤として、例えば、シアン化ナトリウムを添加し、シアン化物イオン(CN-)を含有させることが好ましい。このシアン化物イオンによって、基材1aの表面への不純金属イオンの析出を抑制したり、基材1aの表面の酸化物の除去を促進させることが可能である。なお、2回目の電解脱脂処理に用いられるアルカリ性溶液には、シアン化ナトリウムに換えて、下記の錯化剤を含有させるものとしても良い。
<錯化剤の例>
エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、グルコン酸ナトリウム、アミノ基を持つ化合物等
Further, it is preferable to add, for example, sodium cyanide as a complexing agent to the alkaline solution used in the last (second) electrolytic degreasing treatment to contain cyanide ions (CN ). With this cyanide ion, it is possible to suppress the deposition of impure metal ions on the surface of the substrate 1a, or to promote the removal of oxides on the surface of the substrate 1a. The alkaline solution used for the second electrolytic degreasing treatment may contain the following complexing agent instead of sodium cyanide.
<Examples of complexing agents>
Ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), sodium gluconate, compounds with amino groups, etc.

ステップS110(図3)では、基材1aを酸性溶液によって洗浄する。具体的には、酸性溶液中に各基材1aを所定の時間だけ浸漬する。この洗浄工程によって、基材1aの表面に付着したスマットや酸化物等の不純物を除去し、基材1aの表面とめっき層との密着性を向上させる。なお、酸性溶液による洗浄処理の具体的な好まし処理条件の例は、下記の通りである。
<酸性溶液による洗浄処理の処理条件の例>
・酸性溶液: 塩酸、硫酸、硝酸のうちのいずれかを含有する溶液
濃度: 2〜20%、より好ましくは4〜15%
・処理時間: 1〜3分
・溶液温度: 20〜40℃
In step S110 (FIG. 3), the base material 1a is washed with an acidic solution. Specifically, each substrate 1a is immersed in an acidic solution for a predetermined time. By this washing step, impurities such as smut and oxide attached to the surface of the substrate 1a are removed, and the adhesion between the surface of the substrate 1a and the plating layer is improved. In addition, the example of the specific preferable process conditions of the washing process by an acidic solution is as follows.
<Examples of processing conditions for cleaning with an acidic solution>
Acidic solution: A solution containing any one of hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid Concentration: 2 to 20%, more preferably 4 to 15%
・ Processing time: 1 to 3 minutes ・ Solution temperature: 20 to 40 ° C.

ステップS120では、基材1aに対してニッケルめっき処理が実行される。具体的には、回転バレルを使用したバレル式電解ニッケルめっき処理が実行されるものとしても良いし、静止めっき法などの他のめっき処理方法が実行されるものとしても良い。ここで、電解ニッケルめっきの処理条件としては、以下のような、通常利用される処理条件を利用することができる。   In step S120, a nickel plating process is performed on the substrate 1a. Specifically, a barrel electrolytic nickel plating process using a rotating barrel may be performed, or another plating process method such as a static plating method may be performed. Here, as the treatment conditions for electrolytic nickel plating, the following commonly used treatment conditions can be used.

<電解ニッケルめっきの処理条件の例>
・めっき浴組成:
硫酸ニッケル: 100〜400g/L
塩化ニッケル: 20〜60g/L
ホウ酸: 20〜60g/L
溶媒: 脱イオン水
・浴pH: 2.0〜4.8
・処理温度(浴温度): 25〜60℃
・印加電流密度: 0.2〜0.4A/dm2
・処理時間: 30〜90分
<Examples of electrolytic nickel plating treatment conditions>
・ Plating bath composition:
Nickel sulfate: 100-400 g / L
Nickel chloride: 20-60g / L
Boric acid: 20-60 g / L
Solvent: Deionized water / bath pH: 2.0 to 4.8
Processing temperature (bath temperature): 25-60 ° C
Applied current density: 0.2 to 0.4 A / dm 2
・ Processing time: 30-90 minutes

なお、めっき処理としては、例えば、亜鉛めっき処理を行うことも可能である。ただし、本実施形態における電解脱脂処理によるめっき層の剥離抑制効果は、硬度が高いニッケルめっき層において顕著に表れる。従って、この点において、本実施形態の電解脱脂処理には、ニッケルめっき処理を組み合わせることが好ましい。   In addition, as a plating process, it is also possible to perform a zinc plating process, for example. However, the plating layer delamination suppressing effect by the electrolytic degreasing treatment in the present embodiment is remarkably exhibited in the nickel plating layer having high hardness. Accordingly, in this respect, it is preferable to combine the electrolytic degreasing treatment of this embodiment with a nickel plating treatment.

ステップS130では、めっき層の防食のために、めっき層に重ねてクロメート層を形成するための電解クロメート処理が実行される。電解クロメート処理は、回転バレルを利用するものとしても良く、静止めっき法などの他のめっき処理方法を利用するものとしても良い。電解クロメート処理の好ましい処理条件の例は以下の通りである。   In step S130, in order to prevent corrosion of the plated layer, an electrolytic chromate treatment for forming a chromate layer over the plated layer is performed. The electrolytic chromate treatment may use a rotating barrel, or may use another plating method such as a static plating method. Examples of preferable treatment conditions for the electrolytic chromate treatment are as follows.

<電解クロメート処理の処理条件の例>
・処理浴(クロメート処理液)組成:
重クロム酸ナトリウム: 20〜70g/L
溶媒:脱イオン水
・浴pH: 2〜6
・処理温度(浴温度): 20〜60℃
・陰極電流密度: 0.02〜0.45A/dm2
・処理時間: 1〜10分
<Example of treatment conditions for electrolytic chromate treatment>
・ Composition of treatment bath (chromate treatment solution):
Sodium dichromate: 20-70 g / L
Solvent: Deionized water / bath pH: 2-6
Processing temperature (bath temperature): 20-60 ° C
Cathode current density: 0.02 to 0.45 A / dm 2
・ Processing time: 1-10 minutes

なお、重クロム酸塩としては、重クロム酸ナトリウムの他に重クロム酸カリウムも利用可能である。ステップS120,S130のめっき処理によって、ニッケルめっき層とクロメート層との2層構造の皮膜が基材1aの外側及び内側の面を含む外表面に形成される。基材1aの外表面には、さらに他の保護皮膜が重ねて形成されるものとしても良い。こうして多層構造の保護皮膜が形成された基材1aを用いて、図2で説明した工程により、スパークプラグが製造される。なお、加締め工程としては、冷間加締めの他に、熱加締めも利用することができる。   As the dichromate, potassium dichromate can be used in addition to sodium dichromate. By the plating process in steps S120 and S130, a two-layered film of a nickel plating layer and a chromate layer is formed on the outer surface including the outer and inner surfaces of the substrate 1a. Further, another protective film may be formed on the outer surface of the substrate 1a. A spark plug is manufactured by the process described with reference to FIG. 2 using the base material 1a on which the protective film having a multilayer structure is formed. In addition, as a caulking process, in addition to cold caulking, heat caulking can also be used.

以下の実験では、主体金具1の基材1aに対して、電解脱脂処理の処理内容を変えた複数通りのめっき処理を行い、そのめっき層の密着性の評価を行った。なお、主体金具1の基材1aは、JISG3539に規定された冷間圧造用炭素鋼線SWCH17Kを素材として用いて冷間鍛造により製造した。接地電極4は、ニッケル(Ni)を主成分としてアルミニウムを含有させた材料によって形成し、基材1aの先端側に溶接接合して設けた。めっき処理は図3のフローチャートに従って、以下の処理条件の下で行った。   In the following experiment, the base metal 1a of the metal shell 1 was subjected to a plurality of types of plating treatments with different electrolytic degreasing treatment contents, and the adhesion of the plating layer was evaluated. The base 1a of the metal shell 1 was manufactured by cold forging using a carbon steel wire SWCH17K for cold heading defined in JISG3539 as a material. The ground electrode 4 was made of a material containing nickel (Ni) as a main component and containing aluminum, and was welded to the tip side of the substrate 1a. The plating process was performed under the following processing conditions according to the flowchart of FIG.

<陽極電気亜脱脂処理/PR電解脱脂処理の共通の処理条件>
・アルカリ性溶液: 水酸化ナトリウム溶液(NaOH溶液)
濃度3% (最後の電解処理のみ濃度5%)
pH12以上,15以下
・処理温度(溶液温度): 55±5℃
・印加電流密度: 0.3A/dm2
・処理時間: 10分
<PR電解脱脂処理の処理条件>
・電流極性の反転周期: 以下の通電時間を交互に繰り返し
基材側を陽極としたときの通電時間 10秒
基材側を陰極としたときの通電時間 5秒
<Common treatment conditions for anode electric degreasing / PR electrolytic degreasing>
・ Alkaline solution: Sodium hydroxide solution (NaOH solution)
Concentration 3% (only the last electrolytic treatment is 5%)
pH12 or more, 15 or less ・ Processing temperature (solution temperature): 55 ± 5 ℃
Applied current density: 0.3 A / dm 2
・ Treatment time: 10 minutes <treatment conditions for PR electrolytic degreasing>
-Current polarity reversal cycle: The following energization times are alternately repeated.
Energizing time when the substrate side is the anode 10 seconds
Energizing time when the substrate side is the cathode 5 seconds

各電解脱脂処理の間には、室温で約2分間、基材1aを水洗した。そして、最後の電解脱脂処理が完了した後には、室温で1分間、基材1aを水洗した。なお、いずれの電解脱脂処理においても、1回目の電解脱脂処理に用いたアルカリ性溶液には、界面活性剤として、アルキルポリオキシエチレンエーテルを含有させた。また、最後の電解脱脂処理に用いたアルカリ性溶液には、錯化剤としてシアン化ナトリウムを含有させた。   Between each electrolytic degreasing process, the base material 1a was washed with water at room temperature for about 2 minutes. And after the last electrolytic degreasing process was completed, the base material 1a was washed with water at room temperature for 1 minute. In any electrolytic degreasing treatment, the alkaline solution used for the first electrolytic degreasing treatment contained alkyl polyoxyethylene ether as a surfactant. Further, the alkaline solution used for the final electrolytic degreasing treatment contained sodium cyanide as a complexing agent.

電解脱脂処理の後には、酸性溶液による洗浄処理を、以下の処理条件の下で実施した。なお、この洗浄処理が完了した後、基材1aを、室温で約30秒間、水洗した。
<酸性溶液による洗浄処理の処理条件>
・酸性溶液: 塩酸溶液
水と塩酸とを4:1の割合で混合
(塩酸の比重 1.040±0.005)
・処理時間: 2分
・溶液温度: 30±5℃
After the electrolytic degreasing treatment, a washing treatment with an acidic solution was performed under the following treatment conditions. In addition, after this washing | cleaning process was completed, the base material 1a was washed with water at room temperature for about 30 seconds.
<Processing conditions for washing with acidic solution>
・ Acid solution: hydrochloric acid solution
Mixing water and hydrochloric acid in a ratio of 4: 1
(Specific gravity of hydrochloric acid 1.040 ± 0.005)
・ Processing time: 2 minutes ・ Solution temperature: 30 ± 5 ℃

次に、電解ニッケルめっき処理を、回転バレルを用いて下記の処理条件で行うことによって、ニッケルめっき層を形成した。
<電解ニッケルめっきの処理条件>
・めっき浴組成:
硫酸ニッケル: 250g/L
塩化ニッケル: 50g/L
ホウ酸: 40g/L
・浴pH: 4.0
・処理温度(浴温度): 55±5℃
・陰極電流密度: 0.3A/dm2
・処理時間: 60分
Next, the nickel plating layer was formed by performing an electrolytic nickel plating process on the following process conditions using a rotating barrel.
<Processing conditions for electrolytic nickel plating>
・ Plating bath composition:
Nickel sulfate: 250 g / L
Nickel chloride: 50 g / L
Boric acid: 40 g / L
-Bath pH: 4.0
・ Processing temperature (bath temperature): 55 ± 5 ℃
Cathode current density: 0.3 A / dm 2
・ Processing time: 60 minutes

なお、電解ニッケル処理の後には、基材1aを水洗し、下記の処理条件の下で、中和処理を実施した。そして、中和処理の後、再び基材1aを水洗した。なお、中和処理の前後における基材1aの水洗時間はいずれも1分とした。
<中和処理の処理条件>
・浸漬溶液: 水酸化ナトリウム
・溶液濃度: 5%
pH12以上、15以下
・処理温度(浴温度): 30±5℃
・処理時間: 2分
In addition, after the electrolytic nickel treatment, the substrate 1a was washed with water and neutralized under the following treatment conditions. And after the neutralization process, the base material 1a was washed with water again. The washing time of the base material 1a before and after the neutralization treatment was 1 minute.
<Neutralization treatment conditions>
・ Immersion solution: Sodium hydroxide ・ Solution concentration: 5%
pH12 or more, 15 or less ・ Processing temperature (bath temperature): 30 ± 5 ℃
・ Processing time: 2 minutes

次に、電解クロメート処理を、回転バレルを用いて下記の処理条件で行うことによって、ニッケルめっき層の上にクロメート層を形成した。
<電解クロメート処理の処理条件>
・処理浴(クロメート処理液)組成:
重クロム酸ナトリウム: 40g/L
溶媒:脱イオン水
・処理温度(浴温度): 35±5℃
・陰極電流密度: 0.2A/dm2
・処理時間: 5分
Next, the chromate layer was formed on the nickel plating layer by performing electrolytic chromate treatment under the following treatment conditions using a rotating barrel.
<Processing conditions for electrolytic chromate treatment>
・ Composition of treatment bath (chromate treatment solution):
Sodium dichromate: 40 g / L
Solvent: Deionized water ・ Processing temperature (bath temperature): 35 ± 5 ℃
Cathode current density: 0.2 A / dm 2
・ Processing time: 5 minutes

図6は、上記の処理条件の下で作成された基材1aのサンプルのめっき層についての評価結果をまとめた表を示す説明図である。基材1aのサンプルは、電解脱脂処理の処理内容を変えたサンプルグループごとに、100個ずつ作成した。そして、各サンプルグループにおいて、各サンプルの接地電極4を以下に説明するように屈曲させ、その屈曲部位におけるめっき層の剥離の発生を観察した。   FIG. 6 is an explanatory diagram showing a table summarizing the evaluation results of the plating layers of the samples of the base material 1a created under the above processing conditions. 100 samples of the substrate 1a were prepared for each sample group in which the content of the electrolytic degreasing treatment was changed. In each sample group, the ground electrode 4 of each sample was bent as described below, and the occurrence of peeling of the plating layer at the bent portion was observed.

図7(A),(B)は、各サンプルにおけるめっき層の密着性についての評価部位を説明するための模式図である。本実施例におけるめっき層の密着性の評価では、各サンプルの接地電極4を図7(A),(B)に示すように2段階で屈曲させた。具体的には、以下の通りである。即ち、第1段階では、直棒状の接地電極4を基材1aの仮想的中心軸1cxに向かってほぼ90°に屈曲させた(図7(A))。そして、第2段階では、第1段階において屈曲させたのと同じ部位Rtを、第1段階のときとは反対の方向(外側)へと180°屈曲させた(図7(A))。以後、第1段階および第2段階で屈曲加工が施された部位Rtを「評価屈曲部Rt」と呼ぶ。   FIGS. 7A and 7B are schematic views for explaining an evaluation site for the adhesion of the plating layer in each sample. In the evaluation of the adhesion of the plating layer in this example, the ground electrode 4 of each sample was bent in two stages as shown in FIGS. 7 (A) and (B). Specifically, it is as follows. That is, in the first stage, the straight rod-shaped ground electrode 4 was bent at approximately 90 ° toward the virtual central axis 1cx of the substrate 1a (FIG. 7A). In the second stage, the same portion Rt that was bent in the first stage was bent 180 ° in the direction (outside) opposite to that in the first stage (FIG. 7A). Hereinafter, the portion Rt subjected to the bending process in the first stage and the second stage is referred to as “evaluation bent part Rt”.

各サンプルグループにおけるめっき密着性の評価は、各サンプルの評価屈曲部Rtにおけるめっき層の剥離を観察して、以下の基準により評価した。即ち、各サンプルグループについて、100個のサンプル中に、評価屈曲部Rtにめっき層の剥離部位が生じたものが1つもなかった場合は、評価を「◎」とした。また、直径1mm未満のめっき層の剥離部位を生じたサンプルが1個であった場合には、評価を「○」とした。直径1mm以上のめっき層の剥離部位が生じたサンプルが1個以上あった、または、直径1mm未満のめっき層の剥離部位が生じたサンプルが2個以上あった場合には、評価を「×」とした。   The evaluation of the plating adhesion in each sample group was evaluated according to the following criteria by observing the peeling of the plating layer at the evaluation bent portion Rt of each sample. That is, for each sample group, when none of the 100 samples in which the peeling portion of the plating layer occurred in the evaluation bent portion Rt, the evaluation was “と し た”. Moreover, when the number of the sample which produced the peeling site | part of the plating layer less than 1 mm in diameter was one, evaluation was set as "(circle)". If there were one or more samples where the peeling portion of the plating layer having a diameter of 1 mm or more was generated, or two or more samples where the peeling portion of the plating layer having a diameter of less than 1 mm was generated, the evaluation was “x”. It was.

なお、図6の各表には、電解脱脂処理の種類を略して表記してある。具体的には、陽極電解脱脂処理を「陽」とし、PR電解脱脂処理を「PR」として表示してある。また、各サンプルグループにおいて、同じ種類の電解脱脂処理が連続して行われた回数、即ち、陽極電解脱脂処理またはPR電解脱脂処理が連続して行われた回数を「同種処理連続回数」として表示してある。さらに、各サンプルグループにおいて、陽極電解脱脂処理からPR電解脱脂処理へと切り替えられた、または、PR電解脱脂処理から陽極電解脱脂処理へと切り替えられた回数を「陽/PR切替回数」として表示してある。   In addition, in each table | surface of FIG. 6, the kind of electrolytic degreasing process is abbreviate | omitted and described. Specifically, the anodic electrolytic degreasing treatment is indicated as “positive”, and the PR electrolytic degreasing treatment is indicated as “PR”. In each sample group, the number of times that the same type of electrolytic degreasing treatment is continuously performed, that is, the number of times that the anodic electrolytic degreasing treatment or the PR electrolytic degreasing treatment is continuously performed, is displayed as “the number of consecutive times of the same kind of treatment” It is. Furthermore, in each sample group, the number of times of switching from the anodic electrolytic degreasing process to the PR electrolytic degreasing process or the switching from the PR electrolytic degreasing process to the anodic electrolytic degreasing process is displayed as “positive / PR switching number”. It is.

図6(A)には、陽極電解脱脂処理またはPR電解脱脂処理がそれぞれ1回のみ行われたサンプルグループSG01,SG02についての評価がまとめられている。陽極電解脱脂処理であっても、PR電解脱脂処理であっても、1回のみ単独で行われた場合には、十分な脱脂効果(洗浄効果)を得ることができず、好ましい評価を得ることはできなかった。   FIG. 6A summarizes the evaluation of the sample groups SG01 and SG02 in which the anodic electrolytic degreasing process or the PR electrolytic degreasing process is performed only once. Even if it is an anodic electrolytic degreasing process or a PR electrolytic degreasing process, when it is performed only once, a sufficient degreasing effect (cleaning effect) cannot be obtained, and a favorable evaluation is obtained. I couldn't.

図6(B)には、電解脱脂処理を2回実行することにより作成されたサンプルグループSG03〜SG06についての評価がまとめられている。サンプルグループSG04,SG06ではそれぞれ、同じ種類の電解脱脂処理を連続して2回行った。これらのサンプルグループSG04〜SG06では、それぞれの種類の電解脱脂処理の短所が補われないため、好ましい結果を得ることはできなかった。   FIG. 6 (B) summarizes evaluations about sample groups SG03 to SG06 created by performing the electrolytic degreasing process twice. In each of the sample groups SG04 and SG06, the same type of electrolytic degreasing treatment was continuously performed twice. In these sample groups SG04 to SG06, the disadvantages of the respective types of electrolytic degreasing treatment were not compensated, and therefore, preferable results could not be obtained.

サンプルグループSG05では、1回目の電解脱脂処理としてPR電解脱脂処理を実行し、2回目の電解脱脂処理として陽極電解脱脂処理を実行してサンプルを作成した。このサンプルグループSG05では、上述したように、2回目の陽極電解脱脂処理によるサンプル表面の酸化の影響により、好ましい評価結果を得ることはできなかった。   In sample group SG05, a PR electrolytic degreasing process was performed as the first electrolytic degreasing process, and an anodic electrolytic degreasing process was performed as the second electrolytic degreasing process to create a sample. In this sample group SG05, as described above, a favorable evaluation result could not be obtained due to the influence of the oxidation of the sample surface by the second anodic electrolytic degreasing treatment.

サンプルグループSG03では、1回目の電解脱脂処理として陽極電解脱脂処理を実行し、2回目の電解脱脂処理としてPR電解脱脂処理を実行してサンプルを作成した。このサンプルグループSG03では、最も好ましい評価結果を得ることができた。これらの評価結果から、電解脱脂処理としては、1回目に陽極電解脱脂処理を実行し、2回目にPR電解脱脂処理を実行することにより、最も高い洗浄効果を得ることができることがわかる。   In sample group SG03, an anodic electrolytic degreasing process was performed as the first electrolytic degreasing process, and a PR electrolytic degreasing process was performed as the second electrolytic degreasing process to create a sample. In this sample group SG03, the most preferable evaluation result could be obtained. From these evaluation results, it can be seen that the highest cleaning effect can be obtained by performing the anodic electrolytic degreasing process first time and the PR electrolytic degreasing process second time as the electrolytic degreasing process.

図8は、電解脱脂処理に用いられるアルカリ性溶液のpHの好適な条件を調べるための実験の結果を表した説明図である。この実験では、pHの値の異なるアルカリ性溶液を用いた点以外は、上記のサンプルグループSG03(図6(B))と同様な条件で、電解脱脂処理と、ニッケルめっき処理と、電解クロメート処理とを実施し、アルカリ性溶液のpHの値ごとに、100個のサンプルを作成した。そして、各サンプルにおいて、図7で説明したように、接地電極4に評価屈曲部Rtを形成し、図6で説明したのと同様な基準で評価を行った。   FIG. 8 is an explanatory diagram showing the results of an experiment for investigating suitable conditions for the pH of the alkaline solution used for the electrolytic degreasing treatment. In this experiment, the electrolytic degreasing treatment, the nickel plating treatment, the electrolytic chromate treatment, and the like under the same conditions as the sample group SG03 (FIG. 6B) except that alkaline solutions having different pH values were used. And 100 samples were prepared for each pH value of the alkaline solution. In each sample, as described with reference to FIG. 7, the evaluation bent portion Rt was formed in the ground electrode 4, and the evaluation was performed based on the same criteria as described with reference to FIG. 6.

この実験結果からもわかるとおり、電解脱脂処理に用いられるアルカリ性溶液のpHは、8以上が好ましく、11以上がより好ましい。また、アルカリ性溶液のpHは12以上であることが特に好ましい。ただし、アルカリ性溶液は、pHが15より大きくなると、基材1aの表面に荒れが生じる可能性が高くなる。そのため、電解脱脂処理に用いられるアルカリ性溶液のpHの値の範囲としては、8以上、かつ、15以下が好ましく、11以上、かつ、14以下がより好ましいと言える。さらに、pHの値は、12以上、かつ、14以下が特に好ましい。   As can be seen from the experimental results, the pH of the alkaline solution used for the electrolytic degreasing treatment is preferably 8 or more, and more preferably 11 or more. The pH of the alkaline solution is particularly preferably 12 or higher. However, when the pH of the alkaline solution is higher than 15, there is a high possibility that the surface of the substrate 1a becomes rough. Therefore, it can be said that the range of the pH value of the alkaline solution used for the electrolytic degreasing treatment is preferably 8 or more and 15 or less, more preferably 11 or more and 14 or less. Furthermore, the pH value is particularly preferably 12 or more and 14 or less.

図9は、電解脱脂処理が実行された後に実行される酸性溶液による洗浄処理の好ましい処理条件を調べるための実験の結果をまとめた説明図である。この実験では、濃度の異なる酸性溶液を用いた点以外は、上記のサンプルグループSG03(図6(B))と同様な条件で、電解脱脂処理と、ニッケルめっき処理と、電解クロメート処理とを実施し、酸性溶液の濃度ごとに、100個のサンプルを作成した。   FIG. 9 is an explanatory view summarizing the results of an experiment for examining preferable processing conditions for the cleaning treatment with an acidic solution performed after the electrolytic degreasing processing is performed. In this experiment, electrolytic degreasing treatment, nickel plating treatment, and electrolytic chromate treatment were performed under the same conditions as the sample group SG03 (FIG. 6B) except that acidic solutions having different concentrations were used. 100 samples were prepared for each concentration of the acidic solution.

そして、溶液の濃度ごとのサンプルグループについて、めっきの密着性と、絶縁体2(図1)との間の気密性の評価を行った。具体的には、各サンプルにおいて、図7で説明したように、接地電極4に評価屈曲部Rtを形成し、その評価屈曲部Rtを観察することにより、めっき層と下地との密着性の評価を行った。めっき層と下地との密着性の評価は、図6で説明したのと同様な基準で行った。   And about the sample group for every density | concentration of a solution, the adhesiveness of plating and the airtightness between the insulators 2 (FIG. 1) were evaluated. Specifically, in each sample, as described with reference to FIG. 7, the evaluation bending portion Rt is formed on the ground electrode 4 and the evaluation bending portion Rt is observed to evaluate the adhesion between the plating layer and the base. Went. Evaluation of adhesion between the plating layer and the base was performed according to the same criteria as described in FIG.

また、各サンプルを絶縁体2に加締めて取りつけ(図2(C),(D))、その加締め工程により湾曲した溝部1hを観察することにより、絶縁体2との間の気密性の評価を行った。溝部1hに、幅1mm以上の裂傷が生じたものが1個以上、または、幅1mm未満の裂傷が生じているものが2個以上あった場合には「×」とした。溝部1hに幅1mm未満の裂傷が生じたものが1個だけ生じている場合には「○」とし、溝部1hに裂傷を生じたものがなかった場合には「◎」とした。   Moreover, each sample is crimped and attached to the insulator 2 (FIGS. 2C and 2D), and by observing the groove 1h curved by the crimping process, the airtightness between the sample and the insulator 2 is improved. Evaluation was performed. When the groove portion 1h had one or more lacerations having a width of 1 mm or more, or two or more lacerations having a width of less than 1 mm, the result was “X”. In the case where only one laceration having a width of less than 1 mm occurred in the groove portion 1h, “◯” was indicated, and in the case where no laceration occurred in the groove portion 1h, “◎” was indicated.

この実験結果からもわかるとおり、酸性溶液による洗浄処理に用いられる酸性溶液としては、めっき層の密着性および気密性のいずれの評価も「○」以上の評価が得られた濃度が4%以上、15%以下の酸性溶液が好ましい。また、めっき層の密着性および気密性のいずれの評価も「◎」の評価が得られた、濃度が6%以上、14%以下の酸性溶液が特に好ましい。   As can be seen from this experimental result, the acidic solution used for the cleaning treatment with the acidic solution has a concentration of 4% or more at which evaluation of both adhesion and airtightness of the plating layer is evaluated as “◯” or more, An acidic solution of 15% or less is preferred. Further, an acidic solution having a concentration of 6% or more and 14% or less, in which the evaluation of “◎” is obtained for both the adhesion and the airtightness of the plating layer, is particularly preferable.

このように、上記の実施形態で説明した電解脱脂処理を実行することにより、より下地とめっき層との密着性が高いスパークプラグ用の主体金具を製造することが可能である。従って、この主体金具を用いたスパークプラグであれば、主体金具本体や接地電極におけるめっきの剥離が抑制され、より耐久性や着火性に優れたスパークプラグを得ることが可能である。   As described above, by performing the electrolytic degreasing process described in the above embodiment, it is possible to manufacture a metal shell for a spark plug having higher adhesion between the base and the plating layer. Therefore, with the spark plug using this metallic shell, it is possible to suppress the peeling of the plating on the metallic shell main body and the ground electrode, and to obtain a spark plug with more excellent durability and ignitability.

1…主体金具
1a…基材
1cx…仮想的中心軸
1d…加締め部
1da…加締め予定部
1e…六角部
1f…ガスシール部
1h…溝部(薄肉部)
1p…挿入開口部
2…絶縁体
2e…突出部
2h,1c…係合部
2n…端面
3…中心電極
4…接地電極
6…貫通孔
7…ねじ部
13…端子金具
15…抵抗体
16,17…導電性ガラスシール層
30…ガスケット
60…線パッキン
61…充填層
62…線パッキン
63…板パッキン
100…スパークプラグ
111…金型
200,220,240…電解処理装置
201…電解浴槽
202a,202b…電極
203…基材容器
203c…中心部
204…整流器
221a…第1の切替スイッチ
221b…第2の切替スイッチ
223…スイッチ駆動部
DCL…直流電源ライン
R…屈曲部
Rt…評価屈曲部
g…火花放電ギャップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal fitting 1a ... Base material 1cx ... Virtual center axis 1d ... Clamping part 1da ... Clamping part 1e ... Hexagon part 1f ... Gas seal part 1h ... Groove part (thin part)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1p ... Insertion opening part 2 ... Insulator 2e ... Protrusion part 2h, 1c ... Engagement part 2n ... End surface 3 ... Center electrode 4 ... Ground electrode 6 ... Through-hole 7 ... Screw part 13 ... Terminal metal fitting 15 ... Resistor 16, 17 ... Conductive glass sealing layer 30 ... Gasket 60 ... Wire packing 61 ... Filling layer 62 ... Line packing 63 ... Plate packing 100 ... Spark plug 111 ... Mold 200, 220, 240 ... Electrolytic treatment apparatus 201 ... Electrolytic bath 202a, 202b ... Electrode 203 ... Base material container 203c ... Center part 204 ... Rectifier 221a ... First changeover switch 221b ... Second changeover switch 223 ... Switch drive part DCL ... DC power supply line R ... Bending part Rt ... Evaluation bending part g ... Spark discharge gap

Claims (5)

軸孔を有する絶縁碍子と、自身の先端が前記絶縁碍子の先端面から突出する状態で前記軸孔に保持される中心電極と、前記絶縁碍子の先端を突出させた状態で前記絶縁碍子を保持する主体金具と、一端が前記主体金具に固定されるとともに他端が前記中心電極の先端部との間に火花放電ギャップを形成する接地電極と、を備えるスパークプラグの製造方法であって、
前記主体金具は、下記の工程により得られた主体金具であることを特徴とするスパークプラグの製造方法。
(a)主体金具の基材を準備する工程
(b)前記基材と電極とを互いに離間した状態でアルカリ性溶液に浸漬させて通電させる電解洗浄として、第1のアルカリ性溶液槽において、前記基材を陽極側として予め設定された時間だけ通電する陽極電解洗浄を実行した後に、第2のアルカリ性溶液槽において、前記陽極電解洗浄の通電時間より短い周期で陰極と陽極とを周期的に切り替えつつ前記基材に通電するPR電解洗浄を実行する工程
(c)電解洗浄された前記基材の外表面にニッケルめっき層を形成する工程。
An insulator having a shaft hole, a center electrode held by the shaft hole with its own tip protruding from the tip surface of the insulator, and holding the insulator with the tip of the insulator protruding A spark plug comprising: a metal shell, and a ground electrode having one end fixed to the metal shell and the other end forming a spark discharge gap with the tip of the center electrode,
The method of manufacturing a spark plug, wherein the metal shell is a metal shell obtained by the following process.
(A) Step of preparing a base material of the metal shell (b) In the first alkaline solution bath, the base material is used as electrolytic cleaning in which the base material and the electrode are immersed in an alkaline solution in a state of being separated from each other and energized. In the second alkaline solution bath, the cathode and the anode are periodically switched at a cycle shorter than the energization time of the anode electrolytic cleaning in the second alkaline solution tank. (C) A step of forming a nickel plating layer on the outer surface of the electrolytically cleaned substrate.
請求項1記載の製造方法であって、
前記工程(b)において、アルカリ性溶液のpHは8以上であり、かつ、15以下である、製造方法。
The manufacturing method according to claim 1,
In the step (b), the alkaline solution has a pH of 8 or more and 15 or less.
請求項1または2記載の製造方法であって、
前記工程(b)において、前記第2のアルカリ性溶液槽には、シアン化物イオンが含まれる、製造方法。
The manufacturing method according to claim 1 or 2,
In the step (b), the second alkaline solution tank contains cyanide ions.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法であって、
前記工程(b)は、前記PR電解洗浄の後に、前記基材を酸性溶液によって洗浄する工程を含む、製造方法。
It is a manufacturing method as described in any one of Claims 1-3,
The step (b) includes a step of washing the substrate with an acidic solution after the PR electrolytic washing.
請求項4に記載の製造方法であって、
前記酸性溶液は、濃度が4%〜15%である、製造方法。
The manufacturing method according to claim 4,
The acidic solution has a concentration of 4% to 15%.
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