JP5845631B2 - Flexure substrate for suspension, suspension, suspension with head, hard disk drive, and manufacturing method and inspection method for suspension flexure substrate - Google Patents

Flexure substrate for suspension, suspension, suspension with head, hard disk drive, and manufacturing method and inspection method for suspension flexure substrate Download PDF

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Description

本発明は、ハードディスクドライブ(HDD)に用いられるサスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブ、およびサスペンション用フレキシャー基板の製造方法、ならびに検査方法に関するものである。   The present invention relates to a suspension flexure substrate used in a hard disk drive (HDD), a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, a manufacturing method of a suspension flexure substrate, and an inspection method.

近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。   In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed, and along with this, the capacity of hard disk drives (HDD) incorporated in personal computers has increased. Increasing information transmission speed is required.

ハードディスクドライブは磁気記録媒体である磁気ディスク、それを高速回転させるスピンドルモータ、磁気ディスクに対して情報を読取または書込する磁気ヘッド、それを高精度に保持しつつ移動させるための各部品、これらの駆動制御回路および信号処理回路などによって構成されている。   A hard disk drive is a magnetic disk that is a magnetic recording medium, a spindle motor that rotates the magnetic disk at high speed, a magnetic head that reads or writes information on the magnetic disk, and each component that moves it while holding it with high precision. Drive control circuit and signal processing circuit.

そして、このハードディスクドライブに用いられる磁気ヘッドを支持している磁気ヘッドサスペンションと呼ばれる部品も、従来の金ワイヤ等の信号線を接続するタイプから、ステンレスのばねに直接銅配線等の信号線が形成されている、いわゆるワイヤレスサスペンションと呼ばれる配線一体型(フレキシャー)に移行している。   In addition, a component called a magnetic head suspension that supports the magnetic head used in this hard disk drive also has a signal line such as a copper wiring directly formed on a stainless steel spring from a conventional type in which a signal line such as a gold wire is connected. The so-called wireless suspension has been shifted to a wiring integrated type (flexure).

このようなサスペンション用フレキシャー基板における配線は、一般的には、図12に示すように、一対の読取配線104と一対の書込配線105とが、金属支持体の上に形成された絶縁層の表面上に、各々配設された構成をしている。   As shown in FIG. 12, the wiring in such a flexure substrate for suspension is generally composed of an insulating layer in which a pair of reading wirings 104 and a pair of writing wirings 105 are formed on a metal support. Each is arranged on the surface.

上述のような一対の配線は、例えば、差動伝送により電気信号の伝送が行われ、一対の配線間には、分布定数回路としての差動伝送路の特性インピーダンスである差動インピーダンスが存在する。この差動インピーダンスは、磁気ヘッドやプリアンプの低インピーダンス化に伴い、インピーダンスマッチングの観点から、低インピーダンス化することが要求されている。   The pair of wirings as described above transmit, for example, an electrical signal by differential transmission, and a differential impedance that is a characteristic impedance of a differential transmission line as a distributed constant circuit exists between the pair of wirings. . The differential impedance is required to be lowered from the viewpoint of impedance matching as the impedance of the magnetic head and the preamplifier is lowered.

従来、上述のような一対の配線は、図13(a)に示すように、同一表面上に、並走するような形態で形成されていたが、近年においては、低インピーダンス化や配線の高密度化に伴い、図13(b)に示すような積層型配線も用いられている(特許文献1、2)。
なお、図13は、図12における一対の読取配線104の構成を模式的に描いたものであり、図中、104a、104bは読取配線を、103a、103bは接続端子部を、111は磁気抵抗素子等の読取素子を、それぞれ示す。
Conventionally, as shown in FIG. 13A, the pair of wirings as described above has been formed on the same surface so as to run side by side. However, in recent years, the impedance has been reduced and the wiring has been increased. With increasing density, stacked wiring as shown in FIG. 13B is also used (Patent Documents 1 and 2).
FIG. 13 schematically illustrates the configuration of the pair of read wirings 104 in FIG. 12, in which 104a and 104b are read wirings, 103a and 103b are connection terminal portions, and 111 is a magnetoresistive resistor. A reading element such as an element is shown.

ここで、図14に示す例を用いて、従来の積層型配線の構成について説明する。図14は、従来の積層型配線の構成例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるG−G断面図である。
図14に示す例においては、金属支持体221の上に形成された第1絶縁層231の同一面上に、第1導体213からなる第1配線と、第1導体211、212からなる第2配線の一部が形成されており、第1導体213の上には、第2絶縁層232を介して、第2導体214からなる第2配線が形成されている。
さらに、第2導体214からなる第2配線は、第2絶縁層232に設けられた開口内に形成された接続部215を通じて、第1導体211、212に電気的に接続されている。
Here, the configuration of the conventional multilayer wiring will be described using the example shown in FIG. 14A and 14B are explanatory views showing a configuration example of a conventional laminated wiring, in which FIG. 14A is a schematic plan view of a main part, and FIG.
In the example shown in FIG. 14, the first wiring composed of the first conductor 213 and the second composed of the first conductors 211 and 212 are formed on the same surface of the first insulating layer 231 formed on the metal support 221. A part of the wiring is formed, and a second wiring made of the second conductor 214 is formed on the first conductor 213 via the second insulating layer 232.
Further, the second wiring composed of the second conductor 214 is electrically connected to the first conductors 211 and 212 through the connection portion 215 formed in the opening provided in the second insulating layer 232.

特開平9−22570号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-22570 特開平10−3632号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-3632

ここで、上述のような積層型配線において、低インピーダンス化を達成するためには、下層の第1配線と上層の第2配線とが、所定の相対位置範囲内に形成されていることが必要であり、その重なり状態を検出して前記相対位置を保証することが必要になる。   Here, in the multilayer wiring as described above, in order to achieve low impedance, it is necessary that the first lower wiring and the second upper wiring are formed within a predetermined relative position range. Therefore, it is necessary to guarantee the relative position by detecting the overlapping state.

しかしながら、図14に示すように、積層された第2導体が、第1導体と重なる場合、透過型または反射型の光学式寸法測定機や、紫外線またはX線等を用いた寸法測定機による自動測長で、第2導体の仕上がり寸法、およびその座標を測定することは困難であり、従来の構成では、前記相対位置精度を保証することが困難であった。   However, as shown in FIG. 14, when the stacked second conductor overlaps with the first conductor, an automatic measurement by a transmission type or a reflection type optical dimension measuring instrument or a dimension measuring instrument using ultraviolet rays, X-rays, or the like. It is difficult to measure the finished dimension of the second conductor and its coordinates by length measurement, and it has been difficult to guarantee the relative position accuracy in the conventional configuration.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、積層された第2導体が、第1導体と重なる場合であっても、容易に前記第1配線と前記第2配線の相対位置を保証することができ、低コストで、低インピーダンス化を達成することが可能なサスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブ、およびサスペンション用フレキシャー基板の製造方法、ならびに検査方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and even when the stacked second conductor overlaps the first conductor, the relative position between the first wiring and the second wiring can be easily guaranteed. It is possible to provide a flexure substrate for suspension, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, a manufacturing method of a flexure substrate for suspension, and an inspection method capable of achieving low impedance at low cost Objective.

本発明者は、種々研究した結果、上述のような積層型配線において、前記第1導体、および前記第2導体から形成される相対位置測定用の一対の構造体を、それぞれ第1配線および第2配線の一部を構成する第1導体パターンの形成工程、および第2配線を構成する第2導体パターンの形成工程で形成し、前記第1導体から形成される相対位置測定用の構造体と、前記第2導体から形成される相対位置測定用の構造体の重なり状態を、光学的に検出することにより、上記課題を解決できることを見出して本発明を完成したものである。   As a result of various researches, the present inventor has determined that a pair of structures for measuring relative positions formed from the first conductor and the second conductor in the multilayer wiring as described above are the first wiring and the first wiring, respectively. A structure for forming a relative position, formed from the first conductor, formed in a step of forming a first conductor pattern constituting a part of two wirings and a step of forming a second conductor pattern constituting a second wiring; The present invention has been completed by finding that the above problem can be solved by optically detecting the overlapping state of the relative position measuring structure formed from the second conductor.

すなわち、本発明の請求項1に係る発明は、金属支持体上に形成された第1絶縁層の上に、少なくとも部分的に、第1導体、第2絶縁層、第2導体が順次積層されており、前記第1導体からなる第1配線と、前記第1導体および前記第2導体からなり、前記第2絶縁層に設けられた開口内に形成された接続部を通じて前記第1導体と前記第2導体が接続された構成を有する第2配線を備えたサスペンション用フレキシャー基板において、前記第1配線と前記第2配線の相対位置測定用の一対の構造体が、前記第1配線または前記第2配線を構成しない前記第1導体、および前記第2配線を構成しない前記第2導体により形成されており、平面視上、前記第1導体に形成された相対位置測定用の構造体と、前記第2導体に形成された相対位置測定用の構造体が、互いに大きさの異なる点対称な形状を有していることを特徴とするサスペンション用フレキシャー基板である。 That is, according to the first aspect of the present invention, the first conductor, the second insulating layer, and the second conductor are sequentially laminated at least partially on the first insulating layer formed on the metal support. The first conductor formed of the first conductor, the first conductor and the second conductor, and the first conductor and the through the connection portion formed in the opening provided in the second insulating layer. In a suspension flexure substrate having a second wiring having a configuration in which a second conductor is connected, a pair of structures for measuring the relative positions of the first wiring and the second wiring are the first wiring or the first wiring. The first conductor that does not constitute two wirings, and the second conductor that does not constitute the second wiring, and a structure for relative position measurement formed on the first conductor in plan view; and Relative position measurement formed on the second conductor Structures use is a flexible substrate for suspension, characterized in that it has a mutually different sizes point symmetrical shape.

また、本発明の請求項に係る発明は、前記相対位置測定用の構造体が、略リング状、略枠状、略十字状、略円形状、もしくは略矩形状であることを特徴とする請求項に記載のサスペンション用フレキシャー基板である。 The invention according to claim 2 of the present invention is characterized in that the relative position measuring structure is substantially ring-shaped, substantially frame-shaped, substantially cross-shaped, substantially circular, or substantially rectangular. A suspension flexure substrate according to claim 1 .

また、本発明の請求項に係る発明は、前記第2導体からなる第2配線の上に、カバー層が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のサスペンション用フレキシャー基板である。 The invention according to claim 3 of the present invention, on the second wiring formed from the second conductor, for suspension according to claim 1 or claim 2, characterized in that the cover layer is formed It is a flexure substrate.

また、本発明の請求項に係る発明は、前記第2導体から構成される前記相対位置測定用の構造体、および、前記第1導体から構成される前記相対位置測定用の構造体が形成されている領域の前記第2絶縁層が露出するように、前記カバー層の一部が除去されていることを特徴とする請求項に記載のサスペンション用フレキシャー基板である。 The invention according to claim 4 of the present invention, the structure for the relative position measurement made from said second conductor, and the structure for the relative position measurement made from said first conductor formed 4. The suspension flexure substrate according to claim 3 , wherein a part of the cover layer is removed so that the second insulating layer is exposed in the region that is formed. 5.

また、本発明の請求項に係る発明は、前記第1導体および前記第2導体から構成される前記相対位置測定用の構造体が形成されている領域の前記第1絶縁層が露出するように、前記金属支持体に開口が形成されていることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板である。 The invention according to claim 5 of the present invention, so that the first insulating layer in a region where the structure for the relative position measurement made from said first conductor and said second conductor is formed is exposed to a flexible substrate for suspension according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the opening is formed on the metal support.

また、本発明の請求項に係る発明は、請求項1〜のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板を含むことを特徴とするサスペンションである。 The invention according to claim 6 of the present invention is a suspension including the flexure substrate for suspension according to any one of claims 1 to 5 .

また、本発明の請求項に係る発明は、請求項に記載のサスペンションと、前記サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有することを特徴とするヘッド付サスペンションである。 According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a suspension with a head comprising the suspension according to the sixth aspect and a magnetic head slider mounted on the suspension.

また、本発明の請求項に係る発明は、請求項に記載のヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブである。 According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a hard disk drive including the suspension with a head according to the seventh aspect.

また、本発明の請求項に係る発明は、請求項1〜のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板の製造方法であって、前記第1導体から形成される前記相対位置測定用の構造体を、前記第1導体から前記第1配線を形成する工程と同一の工程で形成し、前記第2導体から形成される前記相対位置測定用の構造体を、前記第2導体から前記第2配線の一部を形成する工程と同一の工程で形成することを特徴とするサスペンション用フレキシャー基板の製造方法である。 The invention according to claim 9 of the present invention, according to claim 1 be any suspension for flexure method for manufacturing a substrate according to the 5, the structure for measuring the relative position formed from the first conductor the body, the formed in the process and the same step of forming the first wiring from the first conductor, the structure for measuring the relative position formed from said second conductor, said from said second conductor second The suspension flexure substrate manufacturing method is characterized in that it is formed in the same step as the step of forming a part of the wiring.

また、本発明の請求項10に係る発明は、請求項1〜のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板の検査方法であって、前記第1導体から形成される前記相対位置測定用の構造体と、前記第2導体から形成される前記相対位置測定用の構造体の重なり状態を、光学的に検出することにより、前記第1配線と前記第2配線の相対位置を保証することを特徴とするサスペンション用フレキシャー基板の検査方法である。
The invention according to claim 10 of the present invention, according to claim 1 be any suspension for flexure testing method for a substrate according to the 5, the structure for measuring the relative position formed from the first conductor features and body, the overlapping state of the structure for the relative position measurement is formed from the second conductor by detecting optically, to guarantee a relative position of the second wiring and the first wiring This is a method for inspecting a flexure substrate for suspension.

本発明によれば、相対位置測定用の一対の構造体を、第1導体および第2導体で形成することにより、前記第1導体から形成される相対位置測定用の構造体と、前記第2導体から形成される相対位置測定用の構造体の重なり状態を光学的に検出することで、積層型配線構成のサスペンション用フレキシャー基板における前記第1配線と前記第2配線の相対位置を保証することができる。
それゆえ、低コストで低インピーダンス化を達成したサスペンション用フレキシャー基板を提供することができる。
According to the present invention, the pair of structures for measuring the relative position is formed of the first conductor and the second conductor, so that the structure for relative position measurement formed from the first conductor and the second conductor are formed. The relative position of the first wiring and the second wiring in the suspension flexure substrate of the laminated wiring configuration is assured by optically detecting the overlapping state of the relative position measuring structure formed from the conductor. Can do.
Therefore, it is possible to provide a suspension flexure substrate that achieves low impedance at low cost.

また、本発明の製造方法によれば、前記第1導体から形成される相対位置測定用の構造体を、前記第1導体を加工して前記第1配線を形成する工程と同一の工程で形成し、前記第2導体から形成される相対位置測定用の構造体を、前記第2導体を加工して前記第2配線の一部を形成する工程と同一の工程で形成するため、複雑な工程を増やすことなく、積層型配線における前記第1配線と前記第2配線の相対位置測定用の構造体を有するサスペンション用フレキシャー基板を製造することができる。   Further, according to the manufacturing method of the present invention, the structure for measuring the relative position formed from the first conductor is formed in the same process as the process of forming the first wiring by processing the first conductor. Since the relative position measurement structure formed from the second conductor is formed in the same process as the process of forming the second wiring by processing the second conductor, a complicated process is required. The suspension flexure substrate having the structure for measuring the relative position of the first wiring and the second wiring in the multilayer wiring can be manufactured without increasing the number of the wirings.

また、本発明の検査方法によれば、前記第1導体から形成される相対位置測定用の構造体と、前記第2導体から形成される相対位置測定用の構造体の重なり状態を、光学的に検出することにより、特殊な測定機を用いなくても、前記第1配線と前記第2配線の相対位置を保証することができる。   According to the inspection method of the present invention, the overlapping state of the relative position measurement structure formed from the first conductor and the relative position measurement structure formed from the second conductor is optically determined. By detecting this, it is possible to guarantee the relative positions of the first wiring and the second wiring without using a special measuring machine.

本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の一例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるA−A断面図である。It is explanatory drawing which shows an example of the flexure substrate for suspensions which concerns on this invention, (a) is a schematic plan view of the principal part, (b) is AA sectional drawing in (a). 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の他の例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるB−B断面図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the flexure board | substrate for suspensions which concerns on this invention, (a) is a schematic plan view of the principal part, (b) is BB sectional drawing in (a). 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の他の例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるC−C断面図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the flexure board | substrate for suspensions concerning this invention, (a) is a schematic plan view of the principal part, (b) is CC sectional drawing in (a). 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の他の例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるD−D断面図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the flexure board | substrate for suspensions which concerns on this invention, (a) is a schematic plan view of the principal part, (b) is DD sectional drawing in (a). 本発明に係る相対位置測定用構造体の例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the example of the structure for relative position measurement which concerns on this invention. 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の他の例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるE−E断面図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the flexure board | substrate for suspensions which concerns on this invention, (a) is a schematic plan view of the principal part, (b) is EE sectional drawing in (a). 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の他の例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるF−F断面図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the flexure board | substrate for suspensions which concerns on this invention, (a) is a schematic plan view of the principal part, (b) is FF sectional drawing in (a). 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the flexure board | substrate for suspensions which concerns on this invention. 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法の一例を示す模式的工程図である。It is a typical process figure showing an example of a manufacturing method of a flexure substrate for suspensions concerning the present invention. 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法の他の例を示す模式的工程図である。It is a typical process figure showing other examples of a manufacturing method of a flexure substrate for suspensions concerning the present invention. 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法の他の例を示す模式的工程図である。It is a typical process figure showing other examples of a manufacturing method of a flexure substrate for suspensions concerning the present invention. 従来のサスペンション用フレキシャー基板の概観を示す概略平面図である。It is a schematic plan view showing an overview of a conventional suspension flexure substrate. 従来の配線構成の例を示す説明図であり、(a)は単層型配線、(b)は積層型配線を示す。It is explanatory drawing which shows the example of the conventional wiring structure, (a) shows single layer type wiring, (b) shows laminated type wiring. 従来のサスペンション用フレキシャー基板の例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるG−G断面図である。It is explanatory drawing which shows the example of the conventional flexure substrate for suspensions, (a) is a schematic plan view of the principal part, (b) is GG sectional drawing in (a).

以下、本発明のサスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブ、およびサスペンション用フレキシャー基板の製造方法、ならびに検査方法について詳細に説明する。   The suspension flexure substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, suspension flexure substrate manufacturing method and inspection method of the present invention will be described in detail below.

[サスペンション用フレキシャー基板]
まず、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板について説明する。
(第1の実施形態)
図1は、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の第1の実施形態の一例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるA−A断面図である。
本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板は、金属支持体上に形成された第1絶縁層の上に、第1導体、第2絶縁層、第2導体が積層されており、前記第1導体からなる第1配線と、前記第2絶縁層に設けられた開口内に形成された接続部を通じて前記第1導体と前記第2導体が接続された構成の第2配線を有するサスペンション用フレキシャー基板において、前記第1導体と前記第2導体の相対位置測定用の構造体が、前記第1導体、および前記第2導体から形成されていることを特徴とする。
そして、本実施形態においては、前記相対位置測定用の構造体が、前記第2絶縁層を介して、前記第1配線と前記第2配線が積層された部位の前記第1導体、および前記第2導体に形成されており、前記第1導体に形成された相対位置測定用の構造体の平面形状が、前記第2導体に形成された相対位置測定用の構造体の平面形状よりも大きな外形を有していることを特徴とする。
[Flexible substrate for suspension]
First, the suspension flexure substrate according to the present invention will be described.
(First embodiment)
FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a first embodiment of a flexure substrate for suspension according to the present invention, (a) is a schematic plan view of the main part, and (b) is an A- It is A sectional drawing.
The suspension flexure substrate according to the present invention includes a first conductor, a second insulating layer, and a second conductor laminated on a first insulating layer formed on a metal support, and includes the first conductor. A suspension flexure substrate having a first wiring and a second wiring configured to connect the first conductor and the second conductor through a connection portion formed in an opening provided in the second insulating layer, The structure for measuring the relative position between the first conductor and the second conductor is formed of the first conductor and the second conductor.
In the present embodiment, the structure for measuring the relative position includes the first conductor in the portion where the first wiring and the second wiring are stacked via the second insulating layer, and the first conductor The outer shape of the structure for measuring the relative position formed on the first conductor is larger than the shape of the structure for measuring the relative position formed on the second conductor. It is characterized by having.

例えば、図1に示されるサスペンション用フレキシャー基板1においては、金属支持体21の上に形成された第1絶縁層31の上に、第1導体11、12、13が形成されており、第1導体11、12、13の上には第2絶縁層32が形成されており、第2絶縁層32の上には第2導体14が積層されており、さらに、第2導体14の上にはカバー層41が形成されている。   For example, in the suspension flexure substrate 1 shown in FIG. 1, the first conductors 11, 12, and 13 are formed on the first insulating layer 31 formed on the metal support 21. A second insulating layer 32 is formed on the conductors 11, 12, and 13, a second conductor 14 is laminated on the second insulating layer 32, and further on the second conductor 14. A cover layer 41 is formed.

そして、第1導体により構成される平面略円形状の相対位置測定用の構造体16aが、第1導体13からなる第1配線と、第2導体14からなる第2配線とが積層された部位の第1導体13に形成されており、第2導体により構成される平面略円形状の相対位置測定用の構造体16bが、第1導体13からなる第1配線と、第2導体14からなる第2配線とが積層された部位の第2導体14に形成されている。   And the structure 16a for the relative position measurement of the plane substantially circular shape comprised by the 1st conductor is the part by which the 1st wiring which consists of the 1st conductor 13, and the 2nd wiring which consists of the 2nd conductor 14 were laminated | stacked The structure 16b for measuring the relative position, which is formed on the first conductor 13 and has a substantially circular plane shape constituted by the second conductor, is composed of the first wiring made of the first conductor 13 and the second conductor 14. The second conductor 14 is formed in a portion where the second wiring is laminated.

ここで、構造体16aの中心座標と、構造体16bの中心座標は、同一の座標となるように設計されており、構造体16aの平面形状は、構造体16bの平面形状よりも所定量大きな外形を有している。
それゆえ、例えば、構造体16aの平面形状の外形と、構造体16bの平面形状の外形との大きさの差を第1配線と第2配線の相対位置の許容範囲に設計しておけば、構造体16aと構造体16bの重なり状態を、光学的に検出することにより、第1導体13からなる第1配線と、第2導体14bからなる第2配線との相対位置を保証することができる。
Here, the center coordinates of the structure 16a and the center coordinates of the structure 16b are designed to be the same coordinates, and the planar shape of the structure 16a is larger by a predetermined amount than the planar shape of the structure 16b. It has an outer shape.
Therefore, for example, if the difference in size between the planar outer shape of the structure 16a and the planar outer shape of the structure 16b is designed within an allowable range of the relative positions of the first wiring and the second wiring, By optically detecting the overlapping state of the structure 16a and the structure 16b, the relative position between the first wiring made of the first conductor 13 and the second wiring made of the second conductor 14b can be guaranteed. .

なお、図1においては、構造体16a、16bの平面形状が略円形状の例を示したが、本発明においては、重ね合わせて相対位置測定が可能な形状であればよく、例えば略矩形状であってもよい。また、構造体16a、16bの個数も1組に限らず、複数組形成されていてもよい。   In FIG. 1, an example in which the planar shapes of the structures 16a and 16b are substantially circular is shown. However, in the present invention, any shape can be used as long as the relative positions can be measured by overlapping them. It may be. Further, the number of the structures 16a and 16b is not limited to one set, and a plurality of sets may be formed.

(第2の実施形態)
図2は、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の第2の実施形態の一例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるB−B断面図である。
本実施形態においては、前記相対位置測定用の構造体が、前記第1導体と前記第2導体が接続された部位の前記第1導体、および前記第2導体に形成されており、前記第1導体に形成された相対位置測定用の構造体の平面形状が、前記第2導体に形成された相対位置測定用の構造体の平面形状よりも大きな外形を有していることを特徴とする。
(Second Embodiment)
FIG. 2 is an explanatory view showing an example of a second embodiment of the flexure substrate for suspension according to the present invention, (a) is a schematic plan view of the main part, and (b) is a B- in (a). It is B sectional drawing.
In the present embodiment, the structure for measuring the relative position is formed on the first conductor and the second conductor at a portion where the first conductor and the second conductor are connected. The planar shape of the relative position measuring structure formed on the conductor has a larger outer shape than the planar shape of the relative position measuring structure formed on the second conductor.

例えば、図2に示されるサスペンション用フレキシャー基板1においては、第1導体により構成される平面略円形状の相対位置測定用の構造体16aが、第1導体11と第2導体14が接続された部位の第1導体11、および第1導体12と第2導体14が接続された部位の第1導体12に形成されており、第2導体により構成される平面略円形状の相対位置測定用の構造体16bが、第1導体11と第2導体14が接続された部位の第2導体14、および第1導体12と第2導体14が接続された部位の第2導体14に形成されている。   For example, in the suspension flexure substrate 1 shown in FIG. 2, a structure 16 a for measuring a relative position having a substantially circular plane formed by the first conductor is connected to the first conductor 11 and the second conductor 14. The first conductor 11 of the part and the first conductor 12 of the part where the first conductor 12 and the second conductor 14 are connected are formed for measuring the relative position of the plane substantially circular shape constituted by the second conductor. The structure 16b is formed on the second conductor 14 where the first conductor 11 and the second conductor 14 are connected, and the second conductor 14 where the first conductor 12 and the second conductor 14 are connected. .

ここで、構造体16aの中心座標と、構造体16bの中心座標は、同一の座標となるように設計されており、構造体16aの平面形状は、構造体16bの平面形状よりも所定量大きな外形を有している。
それゆえ、例えば、構造体16aの平面形状の外形と、構造体16bの平面形状の外形との大きさの差を第1配線と第2配線の相対位置の許容範囲に設計しておけば、構造体16aと構造体16bの重なり状態を、光学的に検出することにより、第1導体13からなる第1配線と、第2導体14bからなる第2配線との相対位置を保証することができる。
Here, the center coordinates of the structure 16a and the center coordinates of the structure 16b are designed to be the same coordinates, and the planar shape of the structure 16a is larger by a predetermined amount than the planar shape of the structure 16b. It has an outer shape.
Therefore, for example, if the difference in size between the planar outer shape of the structure 16a and the planar outer shape of the structure 16b is designed within an allowable range of the relative positions of the first wiring and the second wiring, By optically detecting the overlapping state of the structure 16a and the structure 16b, the relative position between the first wiring made of the first conductor 13 and the second wiring made of the second conductor 14b can be guaranteed. .

なお、図2においては、構造体16a、16bの平面形状が略円形状の例を示したが、本発明においては、重ね合わせて相対位置測定が可能な形状であればよく、例えば略矩形状であってもよい。また、構造体16a、16bは、第1導体11と第1導体12の双方の端部に設ける場合の他に、第1導体11、若しくは第1導体12の片方にのみ設けてもよい。   FIG. 2 shows an example in which the planar shapes of the structures 16a and 16b are substantially circular. However, in the present invention, any shape can be used as long as the relative positions can be measured by overlapping them. It may be. Further, the structures 16 a and 16 b may be provided only on one of the first conductor 11 and the first conductor 12 in addition to the case where the structures 16 a and 16 b are provided on both ends of the first conductor 11 and the first conductor 12.

(第3の実施形態)
図3は、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の第3の実施形態の一例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるC−C断面図である。
本実施形態においては、前記相対位置測定用の構造体が、前記第1導体と前記第2導体が接続された部位の前記第1導体、および前記第2導体の接続部に形成されており、前記第2導体に形成された相対位置測定用の構造体は、前記第2導体の接続部の中央部に形成された開口部を有しており、前記第1導体に形成された相対位置測定用の構造体は、前記第2導体の接続部の中央部に形成された開口部から露出する前記第1導体に形成された開口部を有しており、前記第2導体に形成された相対位置測定用の構造体の開口部が、前記第1導体に形成された相対位置測定用の構造体の開口部よりも大きな内径を有していることを特徴とする。
(Third embodiment)
FIG. 3 is an explanatory view showing an example of the third embodiment of the flexure substrate for suspension according to the present invention, (a) is a schematic plan view of the main part, and (b) is a C- It is C sectional drawing.
In the present embodiment, the structure for measuring the relative position is formed at the connection portion of the first conductor and the second conductor at a portion where the first conductor and the second conductor are connected, The relative position measurement structure formed on the second conductor has an opening formed at the center of the connection portion of the second conductor, and the relative position measurement formed on the first conductor. The structure for use has an opening formed in the first conductor exposed from an opening formed in a central portion of the connection portion of the second conductor, and the relative structure formed in the second conductor The opening of the structure for position measurement has a larger inner diameter than the opening of the structure for relative position measurement formed in the first conductor.

例えば、図3に示されるサスペンション用フレキシャー基板1においては、第1導体により構成される相対位置測定用の構造体16aが、第1導体11と第2導体14が接続された部位の第1導体11、および第1導体12と第2導体14が接続された部位の第1導体12に形成されており、第2導体により構成される相対位置測定用の構造体16bが、第1導体11と第2導体14が接続された部位の接続部15、および第1導体12と第2導体14が接続された部位の接続部15に形成されている。   For example, in the suspension flexure substrate 1 shown in FIG. 3, the relative position measurement structure 16 a configured by the first conductor is the first conductor at the portion where the first conductor 11 and the second conductor 14 are connected. 11 and the first conductor 12 and the first conductor 12 at a portion where the second conductor 14 is connected, and the relative position measuring structure 16b constituted by the second conductor is connected to the first conductor 11 It is formed in the connection part 15 of the site | part to which the 2nd conductor 14 was connected, and the connection part 15 of the site | part to which the 1st conductor 12 and the 2nd conductor 14 were connected.

そして、構造体16bは、接続部15の中央部に形成された開口部を有した平面略リング状の形状をしており、構造体16aは、接続部15の中央部に形成された開口部から露出する第1導体11、若しくは第1導体12に形成された開口部を有している。   The structure 16b has a substantially ring-like shape having an opening formed in the central portion of the connection portion 15, and the structure 16a is an opening formed in the central portion of the connection portion 15. And an opening formed in the first conductor 11 or the first conductor 12.

ここで、構造体16aの有する開口部の中心座標と、構造体16bの有する開口部の中心座標は、同一の座標となるように設計されており、構造体16bの有する開口部の平面内径は、構造体16aの有する開口部の平面内径よりも所定量大きな径を有している。
それゆえ、例えば、構造体16aの開口部の平面内径と、構造体16bの開口部の平面内径との差を第1配線と第2配線の相対位置の許容範囲に設計しておけば、構造体16aと構造体16bの重なり状態を、光学的に検出することにより、第1導体13からなる第1配線と、第2導体14bからなる第2配線との相対位置を保証することができる。
Here, the center coordinate of the opening of the structure 16a and the center coordinate of the opening of the structure 16b are designed to be the same coordinate, and the planar inner diameter of the opening of the structure 16b is The structure 16a has a diameter larger by a predetermined amount than the planar inner diameter of the opening.
Therefore, for example, if the difference between the planar inner diameter of the opening of the structure 16a and the planar inner diameter of the opening of the structure 16b is designed within the allowable range of the relative positions of the first wiring and the second wiring, the structure By optically detecting the overlapping state of the body 16a and the structure 16b, the relative position between the first wiring made of the first conductor 13 and the second wiring made of the second conductor 14b can be guaranteed.

なお、図3においては、一組の構造体16a、16bを、第1導体11と第1導体12の双方の端部に設ける例を示しているが、この他に、一組の構造体16a、16bを、第1導体11、若しくは第1導体12の片方にのみ設けてもよい。   3 shows an example in which a set of structures 16a and 16b is provided at both ends of the first conductor 11 and the first conductor 12, but in addition to this, a set of structures 16a. 16b may be provided only on one side of the first conductor 11 or the first conductor 12.

(第4の実施形態)
図4は、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の第4の実施形態の一例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるD−D断面図である。
本実施形態においては、前記相対位置測定用の構造体が、前記第1配線または前記第2配線を構成しない前記第1導体、および前記第2配線を構成しない前記第2導体により形成されており、前記第1導体に形成された相対位置測定用の構造体の平面形状と、前記第2導体に形成された相対位置測定用の構造体の平面形状が、互いに大きさの異なる点対称な形状を有していることを特徴とする。
(Fourth embodiment)
FIG. 4 is an explanatory view showing an example of the fourth embodiment of the flexure substrate for suspension according to the present invention, (a) is a schematic plan view of the main part, and (b) is a D- It is D sectional drawing.
In this embodiment, the structure for relative position measurement is formed by the first conductor that does not constitute the first wiring or the second wiring, and the second conductor that does not constitute the second wiring. The plane shape of the relative position measurement structure formed on the first conductor and the plane shape of the relative position measurement structure formed on the second conductor are point-symmetric shapes having different sizes. It is characterized by having.

例えば、図4に示されるサスペンション用フレキシャー基板1においては、第1導体により構成される平面略リング状の相対位置測定用の構造体16aが、第1配線または第2配線とは別に、第1絶縁層31上に形成されており、第2導体により構成される平面略円形状の相対位置測定用の構造体16bが、第2配線とは別に、第2絶縁層32上に形成されている。   For example, in the suspension flexure substrate 1 shown in FIG. 4, the planar substantially ring-shaped structure 16a for relative position measurement constituted by the first conductor has the first wiring or the second wiring separately from the first wiring or the second wiring. A structure 16b for measuring a relative position, which is formed on the insulating layer 31 and has a substantially planar shape made of a second conductor, is formed on the second insulating layer 32 separately from the second wiring. .

そして、構造体16aの中心座標と、構造体16bの中心座標は、同一の座標となるように設計されており、構造体16aの平面形状のリング内径は、構造体16bの平面形状の外径よりも所定量大きなサイズを有している。
それゆえ、例えば、構造体16aの平面形状のリング内径と、構造体16bの平面形状の外径との大きさの差を第1配線と第2配線の相対位置の許容範囲に設計しておけば、構造体16aと構造体16bの重なり状態を、光学的に検出することにより、第1導体13からなる第1配線と、第2導体14bからなる第2配線との相対位置を保証することができる。
The center coordinates of the structure 16a and the center coordinates of the structure 16b are designed to be the same coordinates, and the planar inner ring diameter of the structure 16a is the outer diameter of the planar shape of the structure 16b. It has a size larger than a predetermined amount.
Therefore, for example, the difference in size between the planar inner ring diameter of the structure 16a and the outer diameter of the planar shape of the structure 16b should be designed within the allowable range of the relative positions of the first wiring and the second wiring. For example, the relative position between the first wiring made of the first conductor 13 and the second wiring made of the second conductor 14b is ensured by optically detecting the overlapping state of the structure 16a and the structure 16b. Can do.

なお、図4においては、構造体16aの平面形状が略リング状であり、構造体16bの平面形状が略円形状の例を示したが、本発明においては、構造体16a、16bの形状は、重ね合わせて相対位置測定が可能な形状であればよく、例えば、図5(a)〜(j)に示すように、略リング状、略枠状、略十字状、略円形状、もしくは略矩形状等、互いに大きさの異なる点対称な形状であってもよい。また、構造体16a、16bの個数も1組に限らず、複数組形成されていてもよい。   FIG. 4 shows an example in which the planar shape of the structure 16a is a substantially ring shape and the planar shape of the structure 16b is a substantially circular shape. However, in the present invention, the shapes of the structures 16a and 16b are Any shape can be used as long as the relative position can be measured by overlapping. For example, as shown in FIGS. 5A to 5J, a substantially ring shape, a substantially frame shape, a substantially cross shape, a substantially circular shape, or a substantially It may be a point-symmetric shape having a different size, such as a rectangular shape. Further, the number of the structures 16a and 16b is not limited to one set, and a plurality of sets may be formed.

また、図4においては、第1導体により構成される平面略リング状の相対位置測定用の構造体16aと、第2導体により構成される平面略円形状の相対位置測定用の構造体16bとが、異なる高さ位置に形成されている例を示したが、本実施形態においては、構造体16aと構造体16bは同一面上に形成されていても良い。   Also, in FIG. 4, a planar substantially ring-shaped structure for relative position measurement 16a constituted by a first conductor, and a substantially circular planar structure for relative position measurement 16b constituted by a second conductor, However, in the present embodiment, the structure 16a and the structure 16b may be formed on the same surface.

図6は、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の第4の実施形態の他の例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるE−E断面図である。
例えば、図6に示されるサスペンション用フレキシャー基板1においては、第1導体により構成される平面略リング状の相対位置測定用の構造体16aと、第2導体により構成される平面略円形状の相対位置測定用の構造体16bが、同一の第1絶縁層31上に形成されている。
FIG. 6 is an explanatory view showing another example of the fourth embodiment of the flexure substrate for suspension according to the present invention, (a) is a schematic plan view of the main part, and (b) is in (a). It is EE sectional drawing.
For example, in the suspension flexure substrate 1 shown in FIG. 6, the planar substantially ring-shaped relative position measuring structure 16 a constituted by the first conductor and the substantially planar planar relative shape constituted by the second conductor. A position measurement structure 16 b is formed on the same first insulating layer 31.

このような構成であれば、構造体16aと構造体16bは、第2絶縁層32を介さずに同一面上に存在するため、構造体16aと構造体16bの重なり状態を前記第2導体の上から反射光で検出する際に、第2絶縁層32による反射光の吸収や反射、または散乱の影響を受けることがなく、構造体16aと構造体16bの重なり状態の検出をより精度良く行うことができる。   With such a configuration, since the structure 16a and the structure 16b exist on the same plane without the second insulating layer 32, the overlapping state of the structure 16a and the structure 16b is determined by the second conductor. When detecting the reflected light from above, the overlapping state of the structural body 16a and the structural body 16b is more accurately detected without being affected by absorption, reflection, or scattering of the reflected light by the second insulating layer 32. be able to.

なお、上述のような構成は、図5(a)に示す構造体16a、16bのみならず、図5(b)〜(h)に示す構造体16a、16bにおいても、同様に形成することができる。   Note that the above-described configuration can be similarly formed not only in the structures 16a and 16b illustrated in FIG. 5A but also in the structures 16a and 16b illustrated in FIGS. 5B to 5H. it can.

また、図5(i)、(j)に示すように、構造体16aの中心座標と、構造体16bの中心座標が同一の座標となるように設計されており、構造体16aの平面形状が、構造体16bの平面形状よりも所定量大きな外形を有しているような場合には、構造体16aの上に、第2絶縁層32を介さずに、構造体16bを形成した構成とすることもできる。   Further, as shown in FIGS. 5I and 5J, the center coordinates of the structure 16a and the center coordinates of the structure 16b are designed to be the same coordinates, and the planar shape of the structure 16a is the same. When the outer shape has a predetermined amount larger than the planar shape of the structure 16b, the structure 16b is formed on the structure 16a without the second insulating layer 32 interposed therebetween. You can also.

図7は、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の第4の実施形態の他の例を示す説明図であり、(a)は要部の概略平面図であり、(b)は(a)におけるF−F断面図である。
例えば、図7に示されるサスペンション用フレキシャー基板1においては、第1導体により構成される平面略円形状の相対位置測定用の構造体16aの上に、第2導体により構成される平面略円形状の相対位置測定用の構造体16bが、第2絶縁層32を介さずに形成されている。
FIG. 7 is an explanatory view showing another example of the fourth embodiment of the flexure substrate for suspension according to the present invention, (a) is a schematic plan view of the main part, and (b) is in (a). It is FF sectional drawing.
For example, in the flexure substrate 1 for suspension shown in FIG. 7, a substantially circular planar shape constituted by the second conductor on the substantially circular planar relative position measuring structure 16 a constituted by the first conductor. The relative position measuring structure 16b is formed without the second insulating layer 32 interposed therebetween.

このような構成であれば、構造体16aと構造体16bは、第2絶縁層32を介さずに重なっているため、構造体16aと構造体16bの重なり状態を前記第2導体の上から反射光で検出する際に、第2絶縁層32による反射光の吸収や反射、または散乱の影響を受けることがなく、構造体16aと構造体16bの重なり状態の検出をより精度良く行うことができる。   In such a configuration, since the structure 16a and the structure 16b overlap with each other without the second insulating layer 32, the overlapping state of the structure 16a and the structure 16b is reflected from above the second conductor. When detecting with light, the overlapping state of the structure 16a and the structure 16b can be detected more accurately without being affected by absorption, reflection or scattering of the reflected light by the second insulating layer 32. .

また、上述の第1〜第4の実施形態においては、例えば、図8(a)に示すように、構造体16a、16bが形成されている領域のカバー層41は除去されていてもよい。   In the first to fourth embodiments described above, for example, as shown in FIG. 8A, the cover layer 41 in the region where the structures 16a and 16b are formed may be removed.

このような構成であれば、例えば、第1導体から構成される相対位置測定用の構造体16aと、第2導体から構成される相対位置測定用の構造体16bの重なり状態を、前記第2導体の上から反射光で検出する際に、カバー層41による反射光の吸収や反射、または散乱を解消することができるため、反射光による構造体16a、16bの重なり状態の検出がより容易になるからである。   With such a configuration, for example, the relative position measurement structure 16a composed of the first conductor and the relative position measurement structure 16b composed of the second conductor are overlapped with each other. When the reflected light is detected from above the conductor, absorption, reflection or scattering of the reflected light by the cover layer 41 can be eliminated, so that it is easier to detect the overlapping state of the structures 16a and 16b by the reflected light. Because it becomes.

なお、図8(a)は、図4における構成例において、構造体16a、16bが形成されている領域のカバー層41が除去されて、構造体16a、および構造体16bが形成されている領域の第2絶縁層32が露出している形態を示すものである。   8A is a region where the structure 16a and the structure 16b are formed by removing the cover layer 41 in the region where the structures 16a and 16b are formed in the configuration example in FIG. This shows a form in which the second insulating layer 32 is exposed.

また、上述の第1〜第4の実施形態においては、例えば、図8(b)に示すように、構造体16a、16bが形成されている領域の金属支持体21は除去されていてもよい。
このような構成であれば、反射光のみならず、透過光による構造体16a、16bの重なり状態の検出が可能になるからである。
In the first to fourth embodiments described above, for example, as shown in FIG. 8B, the metal support 21 in the region where the structures 16a and 16b are formed may be removed. .
This is because with such a configuration, it is possible to detect not only the reflected light but also the overlapping state of the structures 16a and 16b by transmitted light.

なお、図8(b)は、図4における構成例において、構造体16a、16bが形成されている領域の金属支持体21には開口51が形成されており、構造体16a、16bが形成されている領域の第1絶縁層31が露出している形態を示すものである。   In FIG. 8B, in the configuration example in FIG. 4, the metal support 21 in the region where the structures 16a and 16b are formed has openings 51, and the structures 16a and 16b are formed. The form which the 1st insulating layer 31 of the area | region which has exposed is exposed is shown.

次に、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板を構成する他の各要素について説明する。   Next, other elements constituting the suspension flexure substrate according to the present invention will be described.

[金属支持体]
金属支持体21の材料としては、所望の導電性およびばね性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えばステンレススティール等を挙げることができる。金属支持体21の厚さは、例えば10μm〜30μmの範囲内、中でも15μm〜25μmの範囲内であることが好ましい。
[Metal support]
The material of the metal support 21 is not particularly limited as long as it has desired conductivity and springiness, and examples thereof include stainless steel. The thickness of the metal support 21 is, for example, preferably in the range of 10 μm to 30 μm, and more preferably in the range of 15 μm to 25 μm.

[第1絶縁層]
第1絶縁層31は、金属支持体21の表面上に形成される絶縁層である。第1絶縁層31の材料としては、所望の絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えばポリイミド(PI)等を挙げることができる。また、第1絶縁層31の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。第1絶縁層31の厚さは、例えば5μm〜30μmの範囲内、中でも5μm〜10μmの範囲内であることが好ましい。
[First insulating layer]
The first insulating layer 31 is an insulating layer formed on the surface of the metal support 21. The material for the first insulating layer 31 is not particularly limited as long as it has a desired insulating property, and examples thereof include polyimide (PI). The material of the first insulating layer 31 may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the first insulating layer 31 is, for example, preferably in the range of 5 μm to 30 μm, and more preferably in the range of 5 μm to 10 μm.

[第1導体]
第1導体11、12、13は、第1絶縁層31上に形成される導体である。第1導体11、12、13の材料としては、所望の導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば銅(Cu)等を挙げることができる。
第1導体11、12、13の厚さとしては、例えば、4μm〜18μmの範囲内であることが好ましい。第1導体11、12、13の厚さが小さすぎると、所望の導電性を得ることができない可能性があり、第1導体11、12、13の厚さが大きすぎると、配線回路基板の剛性が高くなる可能性があるからである。
[First conductor]
The first conductors 11, 12, and 13 are conductors formed on the first insulating layer 31. The material of the first conductors 11, 12, 13 is not particularly limited as long as it has desired conductivity, and examples thereof include copper (Cu).
As thickness of the 1st conductors 11, 12, and 13, it is preferable to exist in the range of 4 micrometers-18 micrometers, for example. If the thickness of the first conductors 11, 12, 13 is too small, it may not be possible to obtain the desired conductivity. If the thickness of the first conductors 11, 12, 13 is too large, the wiring circuit board This is because the rigidity may increase.

一方、第1導体11、12、13の線幅としては、例えば10μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。第1導体11、12、13の線幅が小さすぎると、充分な低インピーダンス化を図ることができない可能性があり、第1導体11、12、13の線幅が大きすぎると、配線回路基板の充分な高密度化を図ることができない可能性があるからである。
また、第1導体11、12、13は、その表面にニッケル(Ni)、金(Au)による配線めっき層が形成されていても良い。
On the other hand, the line width of the first conductors 11, 12, 13 is preferably in the range of 10 μm to 300 μm, for example. If the line widths of the first conductors 11, 12, 13 are too small, there is a possibility that sufficient impedance reduction cannot be achieved. If the line widths of the first conductors 11, 12, 13 are too large, a printed circuit board. This is because there is a possibility that sufficient density cannot be increased.
The first conductors 11, 12, and 13 may have a wiring plating layer formed of nickel (Ni) or gold (Au) on the surface thereof.

[第2絶縁層]
第2絶縁層32は、第1導体11、12、13上に形成される絶縁層である。第2絶縁層32の材料については、上述した第1絶縁層31と同様である。また、第1導体11、12、13の上に形成された第2絶縁層32の厚さは、例えば4μm〜18μmの範囲内であることが好ましい。上記厚さが小さすぎると、伝送特性の悪化およびピンホールによるショートの可能性があり、上記厚さが大きすぎると、サスペンション用フレキシャー基板全体の厚さが大きくなる可能性があるからである。
[Second insulating layer]
The second insulating layer 32 is an insulating layer formed on the first conductors 11, 12, and 13. The material of the second insulating layer 32 is the same as that of the first insulating layer 31 described above. Moreover, it is preferable that the thickness of the 2nd insulating layer 32 formed on the 1st conductors 11, 12, and 13 exists in the range of 4 micrometers-18 micrometers, for example. If the thickness is too small, there is a possibility of deterioration of transmission characteristics and short-circuiting due to pinholes. If the thickness is too large, the thickness of the entire flexure substrate for suspension may be increased.

[第2導体]
第2導体14は、第2絶縁層32上に形成される導体である。第2導体14の材料は、上述した第1導体11、12、13と同様である。また、第2導体14は、その表面にニッケル(Ni)、金(Au)による配線めっき層が形成されていても良い。第2導体層の厚さは、例えば4μm〜15μmの範囲内であることが好ましい。
第2導体14の線幅は、上述した第1導体11、12、13と同様である。
[Second conductor]
The second conductor 14 is a conductor formed on the second insulating layer 32. The material of the second conductor 14 is the same as that of the first conductors 11, 12, and 13 described above. The second conductor 14 may have a wiring plating layer formed of nickel (Ni) or gold (Au) on the surface thereof. The thickness of the second conductor layer is preferably in the range of 4 μm to 15 μm, for example.
The line width of the second conductor 14 is the same as that of the first conductors 11, 12, and 13 described above.

[カバー層]
カバー層41の材料としては、例えば、ポリイミド(PI)等を挙げることができる。また、カバー層41の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。なお、カバー層41の材料は、上述した第1絶縁層12および第2絶縁層15と同じであっても良く、異なっていても良い。カバー層41の厚さは、例えば3μm〜30μmの範囲内であることが好ましい。
[Cover layer]
Examples of the material of the cover layer 41 include polyimide (PI). Further, the material of the cover layer 41 may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. Note that the material of the cover layer 41 may be the same as or different from the first insulating layer 12 and the second insulating layer 15 described above. The thickness of the cover layer 41 is preferably in the range of 3 μm to 30 μm, for example.

[サスペンション用フレキシャー基板の製造方法]
次に、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法について説明する。
本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法は、第1導体により構成される相対位置測定用の構造体16aを、第1導体13を加工して第1配線を形成する工程と同一の工程で形成し、第2導体により構成される相対位置測定用の構造体16bを、第2導体14を加工して第2配線の一部を形成する工程と同一の工程で形成することを特徴とするものである。
[Manufacturing method of flexure substrate for suspension]
Next, a method for manufacturing a flexure substrate for suspension according to the present invention will be described.
The manufacturing method of the suspension flexure substrate according to the present invention is the same process as the process of forming the first wiring by processing the first conductor 13 of the relative position measuring structure 16a constituted by the first conductor. The relative position measurement structure 16b formed and formed by the second conductor is formed in the same step as the step of processing the second conductor 14 to form part of the second wiring. Is.

以下、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法について、図面を用いて、より具体的に説明する。ただし、本発明のサスペンション用フレキシャー基板の製造方法においては、上述の相対位置測定用の構造体以外の構成要素、例えば、第1配線や第2配線、第1絶縁層や第2絶縁層、およびカバー層等の形成方法は、従前公知の方法を用いることができるため、ここでの詳述は省略する。   Hereinafter, the manufacturing method of the flexure substrate for suspension according to the present invention will be described more specifically with reference to the drawings. However, in the method for manufacturing a flexure substrate for suspension according to the present invention, components other than the above-described structure for measuring the relative position, for example, the first wiring and the second wiring, the first insulating layer and the second insulating layer, and Since a conventionally known method can be used as a method for forming the cover layer or the like, detailed description thereof is omitted here.

図9は、図4に示す本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法の一例を示す模式的工程図である。   FIG. 9 is a schematic process diagram showing an example of a manufacturing method of the flexure substrate for suspension according to the present invention shown in FIG.

まず、図9(a)に示すように、金属支持体21の上に第1絶縁層31を形成し、第1絶縁層31の上に第1導体層13Aを形成する。   First, as shown in FIG. 9A, the first insulating layer 31 is formed on the metal support 21, and the first conductor layer 13 </ b> A is formed on the first insulating layer 31.

次に、フォトリソグラフィー等の製版技術を用いて、相対位置測定用の構造体16aの形成と、第1配線を構成する第1導体13の形成を、同一の工程で行う(図9(b))。
なお、上述の構造体16aおよび第1配線を構成する第1導体13の形成の他に、第2配線の一部を構成する第1導体11、12も、この工程で同時に形成される(図示せず)。
ここで、構造体16aと第1導体13は同一工程で形成されるため、両者は設計通りの位置関係になる。それゆえ、構造体16aの位置を検出することにより、第1導体13からなる第1配線の位置を保証することができる。
Next, using a plate making technique such as photolithography, the formation of the structure 16a for measuring the relative position and the formation of the first conductor 13 constituting the first wiring are performed in the same process (FIG. 9B). ).
In addition to the formation of the structure 16a and the first conductor 13 constituting the first wiring, the first conductors 11 and 12 constituting a part of the second wiring are simultaneously formed in this step (see FIG. Not shown).
Here, since the structure 16a and the first conductor 13 are formed in the same process, the two are in the positional relationship as designed. Therefore, the position of the first wiring composed of the first conductor 13 can be guaranteed by detecting the position of the structure 16a.

次に、構造体16a、第1導体13、および第1導体11、12(図示せず)の上に、第2絶縁層32を形成し(図9(c))、さらに、第2絶縁層32の上に、電解めっき用のレジストパターン61を形成する(図9(d))。   Next, a second insulating layer 32 is formed on the structure 16a, the first conductor 13, and the first conductors 11 and 12 (not shown) (FIG. 9C), and further, the second insulating layer. A resist pattern 61 for electrolytic plating is formed on 32 (FIG. 9D).

次に、電解めっき法により、相対位置測定用の構造体16bの形成と、第2配線の一部を構成する第2導体14の形成を、同一の工程で行う(図9(e))。構造体16bと第2導体14は同一工程で形成されるため、両者は設計通りの位置関係になる。それゆえ、構造体16bの位置を検出することにより、第2導体14からなる第2配線の位置を保証することができる。   Next, the formation of the structure 16b for measuring the relative position and the formation of the second conductor 14 constituting a part of the second wiring are performed in the same process by an electrolytic plating method (FIG. 9E). Since the structural body 16b and the second conductor 14 are formed in the same process, the positional relationship is as designed. Therefore, the position of the second wiring made of the second conductor 14 can be guaranteed by detecting the position of the structure 16b.

次に、レジストパターン61を除去し(図9(f))、その後は、適宜、カバー層41の形成や(図9(g))、金属支持体21の開口加工等を施し、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板を得る。   Next, the resist pattern 61 is removed (FIG. 9 (f)), and thereafter, the cover layer 41 is formed (FIG. 9 (g)), the metal support 21 is opened, etc. A suspension flexure substrate is obtained.

次に、図6に示す本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法の一例について、図10を用いて説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the flexure substrate for suspension according to the present invention shown in FIG. 6 will be described with reference to FIG.

まず、図10(a)に示すように、金属支持体21の上に第1絶縁層31を形成し、第1絶縁層31の上に第1導体層13Aを形成する。   First, as shown in FIG. 10A, the first insulating layer 31 is formed on the metal support 21, and the first conductor layer 13 </ b> A is formed on the first insulating layer 31.

次に、フォトリソグラフィー等の製版技術を用いて、相対位置測定用の構造体16aの形成と、第1配線を構成する第1導体13の形成を、同一の工程で行う(図10(b))。
なお、上述の構造体16aおよび第1配線を構成する第1導体13の形成の他に、第2配線の一部を構成する第1導体11、12も、この工程で同時に形成される(図示せず)。
ここで、構造体16aと第1導体13は同一工程で形成されるため、両者は設計通りの位置関係になる。それゆえ、構造体16aの位置を検出することにより、第1導体13からなる第1配線の位置を保証することができる。
Next, using a plate making technique such as photolithography, the formation of the structure 16a for relative position measurement and the formation of the first conductor 13 constituting the first wiring are performed in the same process (FIG. 10B). ).
In addition to the formation of the structure 16a and the first conductor 13 constituting the first wiring, the first conductors 11 and 12 constituting a part of the second wiring are simultaneously formed in this step (see FIG. Not shown).
Here, since the structure 16a and the first conductor 13 are formed in the same process, the two are in the positional relationship as designed. Therefore, the position of the first wiring composed of the first conductor 13 can be guaranteed by detecting the position of the structure 16a.

次に、第1導体13、および第1導体11、12(図示せず)の上に、第2絶縁層32を形成する(図10(c))。ここで、構造体16aは、第2絶縁層32で被覆しないようにして露出しておく。   Next, the second insulating layer 32 is formed on the first conductor 13 and the first conductors 11 and 12 (not shown) (FIG. 10C). Here, the structure 16 a is exposed so as not to be covered with the second insulating layer 32.

次に、第1絶縁層31、構造体16a、および第2絶縁層32の上に、電解めっき用のレジストパターン61を形成し(図10(d))、電解めっき法により、相対位置測定用の構造体16bの形成と、第2配線の一部を構成する第2導体14の形成を、同一の工程で行う(図10(e))。構造体16bと第2導体14は同一工程で形成されるため、両者は設計通りの位置関係になる。それゆえ、構造体16bの位置を検出することにより、第2導体14からなる第2配線の位置を保証することができる。   Next, a resist pattern 61 for electrolytic plating is formed on the first insulating layer 31, the structure 16a, and the second insulating layer 32 (FIG. 10 (d)), and relative position measurement is performed by electrolytic plating. The formation of the structure 16b and the formation of the second conductor 14 constituting a part of the second wiring are performed in the same process (FIG. 10E). Since the structural body 16b and the second conductor 14 are formed in the same process, the positional relationship is as designed. Therefore, the position of the second wiring made of the second conductor 14 can be guaranteed by detecting the position of the structure 16b.

次に、レジストパターン61を除去し(図10(f))、その後は、適宜、カバー層41の形成や(図10(g))、金属支持体21の開口加工等を施し、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板を得る。   Next, the resist pattern 61 is removed (FIG. 10 (f)), and thereafter, the cover layer 41 is formed (FIG. 10 (g)), the metal support 21 is opened, etc. A suspension flexure substrate is obtained.

次に、図7に示す本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法の一例について、図11を用いて説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the flexure substrate for suspension according to the present invention shown in FIG. 7 will be described with reference to FIG.

まず、図11(a)に示すように、金属支持体21の上に第1絶縁層31を形成し、第1絶縁層31の上に第1導体層13Aを形成する。   First, as shown in FIG. 11A, the first insulating layer 31 is formed on the metal support 21, and the first conductor layer 13 </ b> A is formed on the first insulating layer 31.

次に、フォトリソグラフィー等の製版技術を用いて、相対位置測定用の構造体16aの形成と、第1配線を構成する第1導体13の形成を、同一の工程で行う(図11(b))。
なお、上述の構造体16aおよび第1配線を構成する第1導体13の形成の他に、第2配線の一部を構成する第1導体11、12も、この工程で同時に形成される(図示せず)。
ここで、構造体16aと第1導体13は同一工程で形成されるため、両者は設計通りの位置関係になる。それゆえ、構造体16aの位置を検出することにより、第1導体13からなる第1配線の位置を保証することができる。
Next, using a plate making technique such as photolithography, the formation of the structure 16a for relative position measurement and the formation of the first conductor 13 constituting the first wiring are performed in the same process (FIG. 11B). ).
In addition to the formation of the structure 16a and the first conductor 13 constituting the first wiring, the first conductors 11 and 12 constituting a part of the second wiring are simultaneously formed in this step (see FIG. Not shown).
Here, since the structure 16a and the first conductor 13 are formed in the same process, the two are in the positional relationship as designed. Therefore, the position of the first wiring composed of the first conductor 13 can be guaranteed by detecting the position of the structure 16a.

次に、第1導体13、および第1導体11、12(図示せず)の上に、第2絶縁層32を形成する(図11(c))。ここで、構造体16aは、第2絶縁層32で被覆しないようにして露出しておく。   Next, the second insulating layer 32 is formed on the first conductor 13 and the first conductors 11 and 12 (not shown) (FIG. 11C). Here, the structure 16 a is exposed so as not to be covered with the second insulating layer 32.

次に、第1絶縁層31、構造体16a、および第2絶縁層32の上に、電解めっき用のレジストパターン61を形成し(図11(d))、電解めっき法により、相対位置測定用の構造体16bの形成と、第2配線の一部を構成する第2導体14の形成を、同一の工程で行う(図11(e))。構造体16bと第2導体14は同一工程で形成されるため、両者は設計通りの位置関係になる。それゆえ、構造体16bの位置を検出することにより、第2導体14からなる第2配線の位置を保証することができる。   Next, a resist pattern 61 for electrolytic plating is formed on the first insulating layer 31, the structure 16a, and the second insulating layer 32 (FIG. 11D), and the relative position measurement is performed by electrolytic plating. The formation of the structure 16b and the formation of the second conductor 14 constituting a part of the second wiring are performed in the same process (FIG. 11E). Since the structural body 16b and the second conductor 14 are formed in the same process, the positional relationship is as designed. Therefore, the position of the second wiring made of the second conductor 14 can be guaranteed by detecting the position of the structure 16b.

次に、レジストパターン61を除去し(図11(f))、その後は、適宜、カバー層41の形成や(図11(g))、金属支持体21の開口加工等を施し、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板を得る。   Next, the resist pattern 61 is removed (FIG. 11 (f)). Thereafter, the cover layer 41 is formed (FIG. 11 (g)), the metal support 21 is opened, etc. A suspension flexure substrate is obtained.

上述のような製造方法を用いることにより、本発明においては、複雑な工程を増やすことなく、積層型配線における前記第1配線と前記第2配線の相対位置測定用の構造体を有するサスペンション用フレキシャー基板を製造することができる。   By using the manufacturing method as described above, in the present invention, the suspension flexure having the structure for measuring the relative position of the first wiring and the second wiring in the multilayer wiring without increasing the number of complicated steps. A substrate can be manufactured.

[サスペンション用フレキシャー基板の検査方法]
次に、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の検査方法について説明する。
本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の検査方法は、第1導体により構成される相対位置測定用の構造体16aと、第2導体により構成される相対位置測定用の構造体16bの重なり状態を光学的に検出することにより、第1導体13からなる第1配線と第2導体14からなる第2配線の相対位置を保証することを特徴とするものである。
[Inspection method for flexure substrate for suspension]
Next, a method for inspecting a flexure substrate for suspension according to the present invention will be described.
The method for inspecting a flexure substrate for suspension according to the present invention optically measures the overlapping state of a relative position measurement structure 16a composed of a first conductor and a relative position measurement structure 16b composed of a second conductor. By detecting automatically, the relative position of the 1st wiring which consists of the 1st conductor 13, and the 2nd wiring which consists of the 2nd conductor 14 is ensured.

このような検査方法を用いることにより、本発明においては、特殊な測定機を用いなくても、前記第1配線と前記第2配線の相対位置を保証することができる。   By using such an inspection method, in the present invention, the relative positions of the first wiring and the second wiring can be guaranteed without using a special measuring machine.

また、本発明においては、位置測定用の構造体16a、16bが形成されている領域の上にはカバー層41を形成せず、位置測定用の構造体16bが形成されている部位以外の第2導体の上にはカバー層41を形成して、第1導体により構成される相対位置測定用の構造体16aと、第2導体により構成される相対位置測定用の構造体16bの重なり状態を、前記第2導体の上から反射光で検出することにより、第1導体13からなる第1配線と第2導体14からなる第2配線の相対位置を保証するようにしてもよい。   In the present invention, the cover layer 41 is not formed on the region where the position measurement structures 16a and 16b are formed, and the portions other than the portion where the position measurement structure 16b is formed. A cover layer 41 is formed on the two conductors, and the overlapping state of the relative position measuring structure 16a constituted by the first conductor and the relative position measuring structure 16b constituted by the second conductor is shown. The relative position of the first wiring made of the first conductor 13 and the second wiring made of the second conductor 14 may be guaranteed by detecting the reflected light from above the second conductor.

このような検査方法を用いることにより、カバー層41による反射光の吸収や反射、または散乱を解消することができるため、反射光による構造体16a、16bの重なり状態の検出がより容易になるからである。   By using such an inspection method, absorption, reflection, or scattering of the reflected light by the cover layer 41 can be eliminated, so that it is easier to detect the overlapping state of the structures 16a and 16b by the reflected light. It is.

また、本発明においては、位置測定用の構造体16a、16bが形成されている領域の第1絶縁層31が露出するように、金属支持体21に開口を形成して、第1導体により構成される相対位置測定用の構造体16aと、第2導体により構成される相対位置測定用の構造体16bの重なり状態を、透過光で検出することにより、第1導体13からなる第1配線と第2導体14からなる第2配線の相対位置を保証するようにしてもよい。     Further, in the present invention, an opening is formed in the metal support 21 so as to expose the first insulating layer 31 in the region where the structure bodies 16a and 16b for position measurement are formed, and is configured by the first conductor. And detecting the overlapping state of the relative position measurement structure 16a constituted by the second conductor and the relative position measurement structure 16b by the transmitted light, The relative position of the second wiring made of the second conductor 14 may be guaranteed.

このような検査方法を用いることにより、反射光のみならず、透過光による構造体16a、16bの重なり状態の検出が可能になるからである。   This is because by using such an inspection method, it is possible to detect the overlapping state of the structures 16a and 16b not only by reflected light but also by transmitted light.

[サスペンション]
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用基板を含むことを特徴とするものである。
[suspension]
Next, the suspension of the present invention will be described. The suspension of the present invention includes the above-described suspension substrate.

本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用フレキシャー基板1と、ジンバル部が形成されている表面とは反対側のサスペンション用フレキシャー基板1の表面に備え付けられたロードビームとを有するものである。ロードビームは、一般的なサスペンションに用いられるロードビームと同様のものを用いることができる。   The suspension of the present invention includes the above-described suspension flexure substrate 1 and a load beam provided on the surface of the suspension flexure substrate 1 opposite to the surface on which the gimbal portion is formed. As the load beam, the same load beam used for a general suspension can be used.

本発明によれば、上述したサスペンション用フレキシャー基板を用いることで、より低インピーダンス化を達成したサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension flexure substrate, it is possible to obtain a suspension that achieves lower impedance.

[ヘッド付サスペンション]
次に、本発明のヘッド付サスペンションについて説明する。本発明のヘッド付サスペンションは、上述したサスペンションと、該サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有するものである。
サスペンションについては、上述した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、磁気ヘッドスライダは、一般的なヘッド付サスペンションに用いられる磁気ヘッドスライダと同様のものを用いることができる。
[Suspension with head]
Next, the head suspension according to the present invention will be described. The suspension with a head of the present invention includes the above-described suspension and a magnetic head slider mounted on the suspension.
Since the suspension is the same as described above, description thereof is omitted here. Further, the magnetic head slider can be the same as the magnetic head slider used in a general suspension with a head.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、より低インピーダンス化を達成したヘッド付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension, a suspension with a head that achieves lower impedance can be obtained.

[ハードディスクドライブ]
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上述したヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするものである。
[Hard disk drive]
Next, the hard disk drive of the present invention will be described. The hard disk drive of the present invention includes the above-described suspension with a head.

本発明のハードディスクドライブは、少なくともヘッド付サスペンションを有し、通常は、さらにディスク、スピンドルモータ、アームおよびボイスコイルモータを有する。ヘッド付サスペンションについては、上述した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。   The hard disk drive of the present invention has at least a suspension with a head, and usually further includes a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor. Since the suspension with a head is the same as described above, description thereof is omitted here. As other members, the same members as those used in a general hard disk drive can be used.

本発明によれば、上述したヘッド付サスペンションを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with higher functionality can be obtained by using the suspension with a head described above.

以上、本発明のサスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブ、およびサスペンション用フレキシャー基板の製造方法、ならびに検査方法について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The above has described the flexure substrate for suspension, the suspension, the suspension with head, the hard disk drive, and the manufacturing method and the inspection method of the flexure substrate for suspension according to the present invention, but the present invention is not limited to the above embodiment. . The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

1・・・サスペンション用フレキシャー基板
13A・・・第1導体層
11、12、13・・・第1導体
14A・・・第2導体層
14・・・第2導体
15・・・接続部
16a、16b・・・相対位置測定用構造体
21・・・金属支持体
31・・・第1絶縁層
32・・・第2絶縁層
41・・・カバー層
51・・・開口
61・・・レジストパターン
100、200・・・サスペンション用フレキシャー基板
102・・・ジンバル部
103、103a、103b・・・接続端子部
104、104a、104b・・・読取配線
105・・・書込配線
111・・・読取素子
211、212、213・・・第1導体
214・・・第2導体
215・・・接続部
221・・・金属支持体
231・・・第1絶縁層
232・・・第2絶縁層
241・・・カバー層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Flexure board for suspensions 13A ... 1st conductor layer 11, 12, 13 ... 1st conductor 14A ... 2nd conductor layer 14 ... 2nd conductor 15 ... Connection part 16a, 16b ... Relative position measurement structure 21 ... Metal support 31 ... First insulating layer 32 ... Second insulating layer 41 ... Cover layer 51 ... Opening 61 ... Resist pattern DESCRIPTION OF SYMBOLS 100, 200 ... Suspension flexure board | substrate 102 ... Gimbal part 103, 103a, 103b ... Connection terminal part 104, 104a, 104b ... Read wiring 105 ... Write wiring 111 ... Read element 211, 212, 213 ... first conductor 214 ... second conductor 215 ... connection part 221 ... metal support 231 ... first insulating layer 232 ... second insulating layer 241, ..Cover layer

Claims (10)

金属支持体上に形成された第1絶縁層の上に、少なくとも部分的に、第1導体、第2絶縁層、第2導体が順次積層されており、
前記第1導体からなる第1配線と、
前記第1導体および前記第2導体からなり、前記第2絶縁層に設けられた開口内に形成された接続部を通じて前記第1導体と前記第2導体が接続された構成を有する第2配線を備えたサスペンション用フレキシャー基板において、
前記第1配線と前記第2配線の相対位置測定用の一対の構造体が、
前記第1配線または前記第2配線を構成しない前記第1導体、および前記第2配線を構成しない前記第2導体により形成されており、
平面視上、
前記第1導体に形成された相対位置測定用の構造体と、
前記第2導体に形成された相対位置測定用の構造体が、
互いに大きさの異なる点対称な形状を有していることを特徴とするサスペンション用フレキシャー基板。
A first conductor, a second insulating layer, and a second conductor are sequentially stacked at least partially on the first insulating layer formed on the metal support,
A first wiring made of the first conductor;
A second wiring comprising the first conductor and the second conductor and having a configuration in which the first conductor and the second conductor are connected through a connection portion formed in an opening provided in the second insulating layer; In the flexure substrate for suspension provided,
A pair of structures for measuring the relative position of the first wiring and the second wiring,
The first conductor that does not constitute the first wiring or the second wiring, and the second conductor that does not constitute the second wiring;
In plan view,
A relative position measuring structure formed on the first conductor;
A structure for measuring a relative position formed on the second conductor,
A flexure substrate for suspension, which has point-symmetric shapes having different sizes .
前記相対位置測定用の構造体が、略リング状、略枠状、略十字状、略円形状、もしくは略矩形状であることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用フレキシャー基板。 The suspension flexure substrate according to claim 1, wherein the relative position measuring structure has a substantially ring shape, a substantially frame shape, a substantially cross shape, a substantially circular shape, or a substantially rectangular shape . 前記第2導体からなる第2配線の上に、カバー層が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のサスペンション用フレキシャー基板。 Wherein on the second wiring made of the second conductor, flexible substrate for suspension according to claim 1 or claim 2, characterized in that the cover layer is formed. 前記第2導体から構成される前記相対位置測定用の構造体、および、前記第1導体から構成される前記相対位置測定用の構造体が形成されている領域の前記第2絶縁層が露出するように、前記カバー層の一部が除去されていることを特徴とする請求項に記載のサスペンション用フレキシャー基板。 The structure for relative position measurement composed of the second conductor and the second insulating layer in the region where the structure for relative position measurement composed of the first conductor is formed are exposed. The suspension flexure substrate according to claim 3 , wherein a part of the cover layer is removed . 前記第1導体および前記第2導体から構成される前記相対位置測定用の構造体が形成されている領域の前記第1絶縁層が露出するように、前記金属支持体に開口が形成されていることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板。 An opening is formed in the metal support so that the first insulating layer is exposed in a region where the structure for measuring the relative position composed of the first conductor and the second conductor is formed. The suspension flexure substrate according to any one of claims 1 to 4 . 請求項1〜5のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板を含むことを特徴とするサスペンション A suspension comprising the flexure substrate for suspension according to any one of claims 1 to 5 . 請求項6に記載のサスペンションと、前記サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有することを特徴とするヘッド付サスペンション A suspension with a head comprising the suspension according to claim 6 and a magnetic head slider mounted on the suspension . 請求項7に記載のヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブ A hard disk drive comprising the suspension with a head according to claim 7 . 請求項1〜5のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板の製造方法であって、
前記第1導体から形成される前記相対位置測定用の構造体を、
前記第1導体から前記第1配線を形成する工程と同一の工程で形成し、
前記第2導体から形成される前記相対位置測定用の構造体を、
前記第2導体から前記第2配線の一部を形成する工程と同一の工程で形成することを特徴とするサスペンション用フレキシャー基板の製造方法
It is a manufacturing method of the flexure substrate for suspensions in any one of Claims 1-5,
The structure for measuring the relative position formed from the first conductor,
Forming in the same step as the step of forming the first wiring from the first conductor;
The relative position measuring structure formed from the second conductor,
A method of manufacturing a flexure substrate for suspension, wherein the second conductor is formed in the same step as the step of forming a part of the second wiring from the second conductor .
請求項1〜5のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板の検査方法であって、
前記第1導体から形成される前記相対位置測定用の構造体と、前記第2導体から形成される前記相対位置測定用の構造体の重なり状態を、光学的に検出することにより、
前記第1配線と前記第2配線の相対位置を保証することを特徴とするサスペンション用フレキシャー基板の検査方法
A method for inspecting a flexure substrate for a suspension according to any one of claims 1 to 5,
By optically detecting the overlapping state of the relative position measurement structure formed from the first conductor and the relative position measurement structure formed from the second conductor,
A method for inspecting a flexure substrate for suspension, wherein a relative position between the first wiring and the second wiring is guaranteed .
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