JP5833631B2 - 光学検査システム中の1つ以上の検査パラメータの1つ以上の範囲を設定する方法 - Google Patents
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Description
太陽光セル及び他の電子部品は、光学検査システムを用いて検査され、様々な欠陥が判定され得る。検査例は、表面を褪色分析することを含む。褪色は、色合い、飽和、強度値及びこれらの組合せ等の様々な検査パラメータを用いて、特徴付けられ得る。褪色を特徴付ける他の方式が用いられてもよい。一実例は、LAB(又はL*a*b)色空間であり、明度に対して表記される1次元(L)と、色対峙次元に対する2つの他の次元(A)及び(B)とを有する色対峙空間である。これらの表記は、非線形圧縮CIEXYZ(国際照明基準委員会)色空間座標に基づく。別の実例は、光学システム中で色画像パイプラインの一部として利用される色空間の一族である、YCbCr又はY’CbCrである。Y’は、輝度成分であり、Cb及びCrは、青差分及び赤差分彩度成分である。Y’(プリズムを用いる)は、Yと異なり、輝度である。それは、光強度が、ガンマを利用して、非線形に符号化されていることを意味する。
図1は、光学検査システム中の1つ以上の検査パラメータの1つ以上の範囲を設定する技術の一実施例に対応するプロセス流れ図である。有用な利用者インターフェースに対するこのプロセスの特定の実装が、以下に更に記載される。プロセス100は、操作102中の1つの検査パラメータに対応する一組の値を受信することで開始し得る。これらの値の各々は、設定画像の1つの中の設定領域に対応する。各々の画像は、個別の画素、画素の組合せ、又は、画像のいずれかの他の部分又は要素であり得る、一群の領域として表される。各々の領域には、1つ以上の値が割り当てられる。値の数は、分析に利用される検査パラメータの数に依存する。例えば、褪色分析では、各々の設定領域には、3つの値、例えば、色合い値、飽和値、及び強度値が割り当てられ得る。従って、各々の検査パラメータは、画像を表す対応組の値を有する。
max=max(r,g,b),min=min(r,g,b)
図5は、ある実施形態による、光学検査システム500の概略的な表記である。そのようなシステムは、図1の前後で記載された技術を実装するのに利用され得る。適切な検査システムの一実施例は、カリフォルニア州、サンホセのケーエルエー−テンカーから入手可能な「PVI−6ウェーハ及びセル検査システム」である。
上記の発明は、明確に理解する目的のために、ある程度詳細に記載されているが、明らかに、付属の請求項の範囲内で、ある程度、変更及び修正され得る。本発明のプロセス、システム及び装置を実装する数多くの代わりの方法があることに留意するべきである。従って、本実施形態は、説明のためのものであり、限定するものではないと見なされるべきであり、本発明は、本明細書で与えられた詳細事項に限定されるべきではない。
Claims (20)
- 光学検査システム中の1つ以上の検査パラメータの1つ以上の範囲を設定する方法であって、前記方法が、
(a)検査パラメータの一組の値であって、試料を撮像して得られる試料画像の設定領域に対応する一組の値をコンピュータが取得するステップと、
(b)前記試料画像において、前記設定領域の色が前記一組の値により定められるように構築するステップと、
(c)前記光学検査システムの利用者インターフェース上に、前記試料画像と、前記検査パラメータが取り得る値の全範囲を示す範囲図であって前記検査パラメータの参照値を示す名目境界を含む範囲図とを表示するステップと、
(d)前記試料画像に基づいて前記名目境界に対応する前記参照値をユーザが前記コンピュータに入力することで前記名目境界を調節するステップと、
(e)前記試料画像が既定の基準に達するまで、(b)〜(d)を繰り返すステップと、
を含み、
前記名目境界は、外部色に対応する外部範囲と重なり合わない色に対応する範囲を定め、
前記設定領域は、前記一組の値が前記範囲内にある場合、前記色を有し、又は、前記一組の値が前記外部範囲内にある場合、前記外部範囲を有する、
ことを特徴とする方法。 - 前記範囲図が、追加範囲を定める第2境界を含み、
前記追加範囲が、前記範囲又は前記外部範囲と重なり合わず、追加の色に対応し、
前記一組の値が追加範囲内にある場合、前記設定領域が追加の色を有する、
請求項1に記載の方法。 - 前記設定領域に対応する、第2検査パラメータの第2組の値を前記コンピュータが取得するステップと、
前記利用者インターフェース上に、前記検査パラメータが取り得る値の全範囲を示す範囲図であって前記検査パラメータの第2参照値を示す第2名目境界を表示するステップと、
前記第2名目境界に対応する前記第2参照値をユーザが前記コンピュータに入力するステップと、
を更に含み、
前記第2名目境界は、第2外部色に対応する第2外部範囲と重なり合わない第2色に対応する第2範囲を定める、
ことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 複数の第2設定領域を含む第2試料画像を構築するステップと、
前記第2試料画像を表示するステップと、
前記第2試料画像が第2既定基準に達するまで、前記第2試料画像に対して、前記表示及び受信操作を繰り返すステップと、
を更に含み、
前記第2設定領域は、前記第2組の値が前記第2範囲内にある場合、前記第2色を有し、前記第2組の値が前記第2外部範囲内にある場合、前記第2外部色を有し、
前記第2試料画像に基づいて、前記第2名目境界に対応する前記第2参照値をユーザが前記コンピュータに入力する、
ことを特徴とする、請求項3に記載の方法。 - 前記第2試料画像の前記設定領域の色が、前記第2組の値により更に定められる、
請求項4に記載の方法。 - 前記既定の基準が、前記試料画像に対応する試料上に存在する欠陥の程度に関する、前記色と前記外部色との間の比較考量である、
請求項1に記載の方法。 - 前記試料画像が、光起電力セルから得られる、
請求項1に記載の方法。 - 前記検査パラメータが、褪色の測度である、
請求項1に記載の方法。 - 前記検査パラメータが、色合い、飽和、及び強度から成る群から選択される、
請求項1に記載の方法。 - 前記試料画像から得られる対応RGB値から、前記一組の値を算出するステップ、
を更に含む、請求項1に記載の方法。 - 前記試料を撮像して前記試料画像を得るステップ、
を更に含む、請求項1に記載の方法。 - 前記検査パラメータの複数の組の値を受信するステップ、
を更に含み、
前記複数の組の値が、様々な欠陥レベルを有する複数の試料画像に対応する、
前記請求項1に記載の方法。 - 前記設定領域が、前記試料画像の個別の画素である、
請求項1に記載の方法。 - 前記範囲図が、色合い円、飽和スペクトル、及び強度スペクトルから成る群から選択された図を含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記名目境界が、初期に、前記一組の値のうちの最もよくあるものに設定される、
請求項1に記載の方法。 - 前記範囲の広がりが、前記名目境界を調節している際に、同じままである、
請求項1に記載の方法。 - 前記調節するステップが、数値入力を受信するステップ、及び/又は、前記範囲図上の前記名目境界を図表で調節するステップを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記利用者が、前記範囲及び前記外部範囲に他の色を割り当てることができるように、前記利用者インターフェースが設定されている、
請求項1に記載の方法。 - 光学検査システム中の1つ以上の検査パラメータの1つ以上の範囲を設定するプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
前記プログラムが、コンピュータに、
(a)試料を撮像して得られた試料画像の設定領域に対応する、検査パラメータの一組の値を取得するステップと、
(b)複数の設定領域を含む試料画像を、前記設定領域の色が前記一組の値により定められるように構築するステップと、
(c)前記光学検査システムの利用者インターフェース上に、前記試料画像と、前記検査パラメータが取り得る値の全範囲を示す範囲図であって前記検査パラメータの参照値を示す名目境界を含む範囲図とを表示するステップと、
(d)前記試料画像に基づいて、前記名目境界に対応する前記参照値を取得するステップと、
(e)前記試料画像が既定の基準に達するまで、(b)〜(d)を繰り返すステップと、
を実行させ、
前記名目境界は、外部色に対応する外部範囲と重なり合わない色に対応する範囲を定め、
前記設定領域は、前記一組の値が前記範囲内にある場合、前記色を有し、又は、前記一組の値が前記外部範囲内にある場合、前記外部範囲を有する、
ことを特徴とする、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。 - 少なくとも1つのメモリと少なくとも1つのプロセッサとを含む、1つ以上の検査パラメータの1つ以上の範囲を設定する光学検査システムであって、
前記プロセッサが、
(a)試料を撮像して得られた試料画像の設定領域に対応する、検査パラメータの一組の値を取得するステップと、
(b)複数の設定領域を含む試料画像を、前記設定領域の色が前記一組の値により定められるように構築するステップと、
(c)前記光学検査システムの利用者インターフェース上に、前記試料画像と、前記検査パラメータが取り得る値の全範囲を示す範囲図であって前記検査パラメータの参照値を示す名目境界を含む範囲図とを表示するステップと、
(d)前記試料画像に基づいて、前記名目境界に対応する前記参照値を取得するステップと、
(e)前記試料画像が既定の基準に達するまで、(b)〜(d)を繰り返すステップと、
を実行し、
前記名目境界は、外部色に対応する外部範囲と重なり合わない色に対応する範囲を定め、
前記設定領域は、前記一組の値が前記範囲内にある場合、前記色を有し、又は、前記一組の値が前記外部範囲内にある場合、前記外部範囲を有する、
ことを特徴とする、光学検査システム。
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9098180B1 (en) * | 2013-08-29 | 2015-08-04 | Panasonic Automotive Systems Company Of America, Division Of Panasonic Corporation Of North America | User interface and method for personalized radio station creation |
EP3040838B1 (en) * | 2014-12-29 | 2021-04-21 | Dassault Systèmes | Setting a parameter |
EP3040831A1 (en) * | 2014-12-29 | 2016-07-06 | Dassault Systèmes | Setting a parameter |
EP3040832A1 (en) * | 2014-12-29 | 2016-07-06 | Dassault Systèmes | Setting a parameter |
CN106769892A (zh) * | 2016-08-23 | 2017-05-31 | 协鑫电力设计研究有限公司 | 光伏阵列灰尘识别方法 |
US11846933B2 (en) * | 2019-01-11 | 2023-12-19 | General Electric Company | Apparatus, system and method for developing industrial process solutions using artificial intelligence |
TWI693386B (zh) * | 2019-05-09 | 2020-05-11 | 聯策科技股份有限公司 | 取像參數最佳化調整系統與方法 |
CN112345452A (zh) * | 2020-11-06 | 2021-02-09 | 罗建华 | 一种灯光调整方法、存储介质及系统 |
CN112361941A (zh) * | 2020-11-09 | 2021-02-12 | 天津正丽科技有限公司 | 一种快速定性检测隐形牙齿矫治器变形的装置及方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04352286A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-07 | Tokimec Inc | 画像処理装置 |
JPH09138205A (ja) * | 1995-11-15 | 1997-05-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 赤外線サーモグラフィによる材料の欠陥検出方法 |
US6606115B1 (en) * | 1998-04-18 | 2003-08-12 | Flir Systems Boston | Method and apparatus for monitoring the thermal characteristics of an image |
JP2002008013A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-01-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 外観検査プログラム作成装置およびその方法 |
US6898305B2 (en) * | 2001-02-22 | 2005-05-24 | Hitachi, Ltd. | Circuit pattern inspection method and apparatus |
US6623119B2 (en) * | 2002-01-11 | 2003-09-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | System and method for modifying image-processing software in response to visual test results |
DE10229407B4 (de) * | 2002-06-29 | 2021-10-14 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Verfahren zur Einstellung der Systemparameter eines Rastermikroskops und Rastermikroskop |
JP4153755B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2008-09-24 | 三菱重工業株式会社 | 太陽電池パネル色むら検査装置 |
US7180524B1 (en) * | 2002-09-30 | 2007-02-20 | Dale Axelrod | Artists' color display system |
JP4018049B2 (ja) * | 2003-09-19 | 2007-12-05 | 大日本印刷株式会社 | 品質レベル判定表示装置および方法 |
DE10345509A1 (de) | 2003-09-30 | 2005-05-04 | Siemens Ag | Visualisierte Bildoptimierung eines Röntgenbilds |
WO2005114422A2 (en) | 2004-05-21 | 2005-12-01 | Pressco Technology Inc. | Graphical re-inspection user setup interface |
US7570797B1 (en) * | 2005-05-10 | 2009-08-04 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for generating an inspection process for an inspection system |
KR20080031677A (ko) * | 2005-07-04 | 2008-04-10 | 가부시키가이샤 니콘 | 표면 검사 장치 |
JP4915991B2 (ja) * | 2006-07-20 | 2012-04-11 | 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構 | 太陽電池の欠陥検査装置及びその方法 |
US8386951B2 (en) * | 2006-09-29 | 2013-02-26 | Fluke Corporation | Display adjustment features |
US7693679B1 (en) | 2007-02-08 | 2010-04-06 | Fluke Corporation | System and method for configuring a thermal imaging instrument |
TW200940977A (en) | 2008-03-19 | 2009-10-01 | Viswell Technology Co Ltd | Optical imaging apparatus and method for inspection of solar cells |
JP2009277891A (ja) * | 2008-05-15 | 2009-11-26 | Kaneka Corp | 薄膜太陽電池モジュール |
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