JP5832244B2 - 圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法と圧電体セラミックデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
前記分散ステップと前記配向ステップと前記凝集ステップを、前記スラリーがチューブ内を流動する過程で行う、ことをその特徴とする。
本発明に係る圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法は、
(S11)セラミック粒子CPを多数含むセラミック粒子集合体製造用のスラリーSL1を用意する準備ステップ
(S12)準備ステップで用意されたスラリーSL1中のセラミック粒子CPに分散力を付与することによって各セラミック粒子CPをばらばらに散らばらせる分散ステップ(図1の〈分散ステップ〉を参照)
(S13)分散ステップ後のスラリーSL1中のセラミック粒子CPに磁場を印加することによって各セラミック粒子CPの結晶方位を揃える配向ステップ(図1の〈配向ステップ〉を参照)
(S14)配向ステップ後のスラリーSL1中のセラミック粒子CPに凝集力を付与することによって結晶方位が揃っている複数のセラミック粒子CPが凝集したセラミック粒子集合体AScpを作製する凝集ステップ(図1の〈凝集ステップ〉を参照)
(S15)凝集ステップ後のスラリーSL1からセラミック粒子集合体AScpを取り出す取出ステップ
を備える。尚、図1の○は単結晶のセラミック粒子CPを示し、○内の矢印はセラミック粒子CPの結晶方位を示す。
準備ステップは、セラミック粒子CPを多数含むセラミック粒子集合体製造用のスラリーSL1を用意するステップである。
図2は、先に述べた分散ステップ、配向ステップ及び凝集ステップを行うのに適した装置を示す。図2中の符号11は供給槽、符号12は回収槽、符号13は供給槽11から回収槽12に至るチューブ、符号14はチューブ13の供給槽11側に介装されたポンプ、符号16はチューブ13の螺旋状部13aを囲むように配置された電磁石(一般的な電磁石の他に超伝導電磁石も含む)である。
分散ステップは、供給槽11からのスラリーSL1がチューブ13内を流動する過程で、該スラリーSL1中のセラミック粒子CPに分散力を付与することによって各セラミック粒子CPをばらばらに散らばらせるステップである。
配向ステップは、スラリーSL1がチューブ13内を流動する過程で、分散ステップ後のスラリーSL1中のセラミック粒子CPに磁場を印加することによって各セラミック粒子CPの結晶方位を揃えるステップである。
凝集ステップは、スラリーSL1がチューブ13内を流動する過程で、配向ステップ後のスラリーSL1中のセラミック粒子CPに凝集力を付与することによって結晶方位が揃っている複数のセラミック粒子CPが凝集したセラミック粒子集合体AScpを作製するステップである。
取出ステップは、凝集ステップ後に回収槽12に回収されたスラリーSL1からセラミック粒子集合体AScpを取り出すステップであり、第1の具体手法としては、セラミック粒子集合体AScpを含むスラリーSL1を篩にかけて、セラミック粒子集合体AScpのみを分離した後に乾燥させる手法が採用できる。また、第2の具体手法としては、セラミック粒子集合体AScpを含むスラリーSL1を乾燥炉(図示省略)に挿入して、液分を蒸発させる手法が採用できる。
以下、前記〈準備ステップ〉に記載したタングステンブロンズ型化合物の中の「Sr2Ca0.8Na0.8Nb5O15(以下、単にSCNNと言う)」の粒子をセラミック粒子CPとして用いた場合を例として、前記の準備ステップ(S11)、分散ステップ(S12)、配向ステップ(S13)、凝集ステップ(S14)及び取出ステップ(S15)を備えたセラミック粒子集合体の製造方法によって得られる効果について説明する。
本発明に係る圧電体セラミックデバイスの製造方法は、スピーカやトランスやアクチュエータやディスプレイ等のデバイス種類に拘わらず、基本的には、
(P21)前記《圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法》に記載した準備ステップ(S11)、分散ステップ(S12)、配向ステップ(S13)、凝集ステップ(S14)及び取出ステップ(S15)を備えたセラミック粒子集合体の製造方法で製造されたセラミック粒子集合体AScpを用いてグリーンシートGSを作製する工程
(P22)作製したグリーンシートGSを用いて単層または多層の未焼成デバイス本体を作製する工程
(P23)作製した未焼成デバイス本体を焼成して焼成デバイス本体を作製する工程
を備え、必要に応じて
(P24)作製した焼成デバイス本体に端子を作製する工程
が採用される。
(S21a)前記《圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法》に記載した準備ステップ(S11)、分散ステップ(S12)、配向ステップ(S13)、凝集ステップ(S14)及び取出ステップ(S15)を備えたセラミック粒子集合体の製造方法で製造されたセラミック粒子集合体AScpを多数含むグリーンシート作製用のスラリーSL2を用意する準備ステップ
(S21b)準備ステップで用意されたスラリーSL2をベースフィルム22上に塗工して所定厚さのシート状物26を形成する塗工ステップ(図7の〈塗工ステップ〉を参照)
(S21c)シート状物26に磁場を印加することによって該シート状物26内のセラミック粒子集合体AScpそれぞれを磁場方向に配向させる配向ステップ(図7の〈配向ステップ〉を参照)
(S21d)配向ステップ後のシート状物26に硬化処理を施すことによって該シート状物26内のセラミック粒子集合体AScpの配向を固定する固定ステップ(図7の〈固定ステップ〉を参照)
を含む。尚、図7の○の集合はセラミック粒子集合体AScpを示し、○内の矢印はセラミック粒子集合体AScp(各セラミック粒子CP)の結晶方位を示す。
準備ステップは、セラミック粒子集合体AScpを多数含むグリーンシート作製用のスラリーSL2を用意するステップである。
図8は、先に述べた配向ステップ及び固定ステップを行うのに適した装置を示す。図8中の符号21は搬送ローラ、符号22は搬送ローラ21によって所定方向に走行するベースフィルム、符号23は塗工機、符号24は電磁石(一般的な電磁石の他に超伝導電磁石も含む)、符号25は加熱機、符号26は塗工後のシート状物、符号27は配向及び加熱後のシート状物(グリーンシートGS)である。
塗工ステップは、スラリーSL2をベースフィルム22上に塗工して所定厚さのシート状物26を形成するステップである。ベースフィルム22の走行速度はスラリーSL2の粘性等に応じて適宜選定される。
配向ステップは、ベースフィルム22上に形成されたシート状物26に磁場を印加することによって該シート状物26内のセラミック粒子集合体AScpそれぞれを磁場方向に配向させるステップである。
固定ステップは、配向ステップ後のシート状物26に硬化処理を施すことによって該シート状物26内のセラミック粒子集合体AScpの配向を固定するステップである。
以下、前記《圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法》の〈効果〉に例示したセラミック粒子集合体AScp(SCNN粒子を用いて製造されたもの)を用いた場合を例として、前記の準備ステップ(S21a)、塗工ステップ(P21b)、配向ステップ(P21c)及び固定ステップ(P21d)を含むグリーンシート作製工程(P21)を少なくとも備えた圧電体セラミックデバイスの製造方法によって得られる効果について説明する。
Claims (7)
- セラミック粒子を多数含むセラミック粒子集合体製造用のスラリーを用意する準備ステップと、
前記準備ステップで用意されたスラリー中のセラミック粒子に分散力を付与することによって各セラミック粒子をばらばらに散らばらせる分散ステップと、
前記分散ステップ後のスラリー中のセラミック粒子に磁場を印加することによって各セラミック粒子の結晶方位を揃える配向ステップと、
前記配向ステップ後のスラリー中のセラミック粒子に凝集力を付与することによって結晶方位が揃っている複数のセラミック粒子が凝集したセラミック粒子集合体を作製する凝集ステップと、
前記凝集ステップ後のスラリーから前記セラミック粒子集合体を取り出す取出ステップとを備え、
前記分散ステップと前記配向ステップと前記凝集ステップを、前記スラリーがチューブ内を流動する過程で行う、
ことを特徴とする圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法。 - 前記分散ステップが、前記スラリー中のセラミック粒子に超音波の付与することによって行われる、
ことを特徴とする請求項1に記載の圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法。 - 前記分散ステップが、前記スラリーの流速を増加させることによって行われる、
ことを特徴とする請求項1に記載の圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法。 - 前記凝集ステップが、前記準備ステップで用意されたスラリーに予め紫外線硬化剤を添加しておくと共に該スラリー中のセラミック粒子に紫外線を照射することによって行われる、
ことを特徴とする請求項1に記載の圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法。 - 前記凝集ステップが、前記スラリーの流速を減少させることによって行われる、
ことを特徴とする請求項1に記載の圧電体セラミックデバイス用のセラミック粒子集合体の製造方法。 - スラリーからグリーンシートを作製する工程を備えた圧電セラミックデバイスの製造方法であって、
前記グリーンシート作製工程が、
請求項1〜5の何れかによって製造されたセラミック粒子集合体を多数含むスラリーを用意する準備ステップと、
前記スラリーをベースフィルム上に塗工して所定厚さのシート状物を形成する塗工ステップと、
前記シート状物に磁場を印加することによって該シート状物内のセラミック粒子集合体それぞれを配向させる配向ステップと、
前記配向ステップ後のシート状物に硬化処理を施すことによって該シート状物内のセラミック粒子集合体の配向を固定する固定ステップとを備える、
ことを特徴とする圧電セラミックデバイスの製造方法。 - 前記固定ステップが、前記配向ステップ後のシート状物を加熱することによって行われる、
ことを特徴とする請求項6に記載の圧電セラミックデバイスの製造方法。
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