JP5831603B2 - Transparent conductive film and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、透明電極、ポインティングデバイス、電磁波遮蔽膜等として有用な透明導電膜及びその製造方法とこの透明導電膜を用いたポインティングデバイスに関する。 The present invention relates to a transparent conductive film useful as a transparent electrode, a pointing device, an electromagnetic wave shielding film, and the like, a manufacturing method thereof, and a pointing device using the transparent conductive film.
一般に、透明導電性積層体の一つである透明導電膜は、導電性と光学的な透明性とを合わせ持つという特性を有しているので、産業的には、透明電極、電磁波遮蔽膜、面状発熱膜、反射防止膜等として利用可能である。このため、近年では、特に、タッチパネル向けに用いるポインティングデバイス(位置入力装置)として多用されている。 In general, a transparent conductive film that is one of the transparent conductive laminates has the property of having both conductivity and optical transparency, so industrially, transparent electrodes, electromagnetic shielding films, It can be used as a planar heating film, an antireflection film or the like. For this reason, in recent years, it is frequently used as a pointing device (position input device) used particularly for touch panels.
ところで、ポインティングデバイスには、静電容量結合式や光学式等の多様な方式のものが提案されている。これらの方式の中で、透明導電膜が使用されるのは、例えば、上下の電極が接触することで入力位置を特定する抵抗膜式や静電容量の変化から入力位置を特定する静電容量式のものである。 By the way, various types of pointing devices such as a capacitive coupling type and an optical type have been proposed. Among these methods, the transparent conductive film is used because, for example, a resistive film type that specifies the input position by contacting the upper and lower electrodes and a capacitance that specifies the input position from a change in capacitance Of the formula.
また、ポインティングデバイスは、入力装置として、例えば、携帯用端末、携帯ゲーム機等のディスプレイ前面部分としても使用され、ディスプレイと共にタッチパネルを構成するものとして利用されている。このため、これらの用途で使用されるポインティングデバイスにあっては、特に、ディスプレイの表示性能を損なわないだけの、透過・反射特性が必要である。
また、静電容量式では、静電容量の変化を検出する導電層の有無を目立たないようにする対策も重要になる。
The pointing device is also used as an input device, for example, as a front part of a display of a portable terminal, a portable game machine, etc., and is used as a touch panel together with the display. For this reason, the pointing device used in these applications particularly needs transmission and reflection characteristics that do not impair the display performance of the display.
In the capacitance type, it is also important to take measures to make the presence or absence of a conductive layer that detects a change in capacitance inconspicuous.
特許文献1では、位置検出用の透明電極が無い部分に透明電極と同じ材質の電極(ダミー電極)を電気的に絶縁された状態で形成して配置して透明電極が設置されている所といない所の光学特性を近似させるようにしている。
In
しかしながら、上述した特許文献1のものでは、透明電極とダミー電極の間に隙間が残ってしまい、それが目立つようになるという問題があった。
However, in the above-mentioned
本発明は、その課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、導電層の有無を目立たなくすることが可能な透明導電膜、ポインティングデバイス及びその製造方法を提供することにある。 This invention is made | formed in view of the subject, and the objective of this invention is providing the transparent conductive film which can make the presence or absence of an electroconductive layer inconspicuous, a pointing device, and its manufacturing method.
また、本発明のうち、ある態様は、少なくとも片方が矩形の断面形状を持ち、かつ、導電性を持たない第1の透明層のうち、前記第1の透明層の凸部で区画される領域に、少なくとも1層以上の導電層を積層する工程と、前記導電層の上に第2の透明層を積層させる工程と、を含む透明導電膜の製造方法である。In addition, in one aspect of the present invention, at least one of the first transparent layers having a rectangular cross-sectional shape and not having conductivity is a region defined by the convex portions of the first transparent layer. And a step of laminating at least one conductive layer and a step of laminating a second transparent layer on the conductive layer.
また、本発明のうち、ある態様は、少なくとも片方が矩形の断面形状を持ち、かつ、導電性を持たない第1の透明層のうち、前記第1の透明層の凸部で区画される領域に、少なくとも2層以上からなる第2の透明層を積層する工程と、前記第2の透明層同士の間に少なくとも1層以上の導電層を積層させる工程と、を含む透明導電膜の製造方法である。In addition, in one aspect of the present invention, at least one of the first transparent layers having a rectangular cross-sectional shape and not having conductivity is a region defined by the convex portions of the first transparent layer. And a step of laminating at least two second transparent layers, and a step of laminating at least one conductive layer between the second transparent layers. It is.
また、本発明のうち、ある態様は、少なくとも片方が矩形の断面形状を持ち、かつ、少なくとも1層以上からなる導電性を持たない第1の透明層の少なくとも1方の面に、前記第1の透明層とは異なる2層以上の導電性を持たない第2の透明層を積層する工程と、前記第2の透明層同士の間に、少なくとも1層以上の導電層を積層する工程と、前記第1の透明層のうち、前記導電層が積層されていない領域には、少なくとも1層以上の導電性を持たない第3の透明層を積層する工程と、を含む透明導電膜の製造方法である。In addition, in one aspect of the present invention, at least one of the first transparent layers having a rectangular cross-sectional shape and at least one layer having no conductivity is provided on the first surface. A step of laminating two or more second transparent layers different from the transparent layer, and a step of laminating at least one conductive layer between the second transparent layers; A step of laminating at least one third transparent layer having no conductivity in a region of the first transparent layer where the conductive layer is not laminated, and a method for producing a transparent conductive film It is.
また、本発明のうち、ある態様は、少なくとも片方の面に少なくとも1以上の凹部と少なくとも1以上の凸部とを有し、該凸部のそれぞれの表面は同一平面上にあり、該凸部の側面は、該凹部に対して垂直に立設している第1の透明層と、前記第1の透明層の凸部の少なくとも1部に積層された、凸部上に形成された導電層と、前記第1の透明層の凹部の少なくとも1部に積層された、凹部上に形成された導電層と、を含む透明導電膜である。Further, in one aspect of the present invention, at least one surface has at least one concave portion and at least one convex portion, and each surface of the convex portion is on the same plane, and the convex portion The side surface of the first transparent layer erected perpendicularly to the concave portion and a conductive layer formed on the convex portion, which is laminated on at least one portion of the convex portion of the first transparent layer And a conductive layer laminated on at least a part of the concave portion of the first transparent layer and formed on the concave portion.
また、本発明のうち、ある態様は、少なくとも片方の面に少なくとも1以上の凹部と少なくとも1以上の凸部とを有し、該凸部のそれぞれの表面は同一平面上にあり、該凸部の側面は、該凹部に対して垂直に立設している第1の透明層の少なくとも1部に、導電層を積層する工程と、前記導電層に第2の透明層を積層する工程と、を含む透明導電膜の製造方法である。Further, in one aspect of the present invention, at least one surface has at least one concave portion and at least one convex portion, and each surface of the convex portion is on the same plane, and the convex portion The side of the step of laminating a conductive layer on at least a part of the first transparent layer standing upright to the recess, and laminating a second transparent layer on the conductive layer; It is a manufacturing method of the transparent conductive film containing this.
また、本発明のうち、ある態様は、少なくとも片方の面に少なくとも1以上の凹部と少なくとも1以上の凸部とを有し、該凸部のそれぞれの表面は同一平面上にあり、該凸部の側面は、該凹部に対して垂直に立設している第1の透明層の少なくとも1部に、第2の透明層を積層する工程と、前記第1の透明層または前記第2の透明層の表面の少なくとも1部に導電層を積層する工程と、を含む透明導電膜の製造方法である。Further, in one aspect of the present invention, at least one surface has at least one concave portion and at least one convex portion, and each surface of the convex portion is on the same plane, and the convex portion A side surface of the first transparent layer is formed by stacking a second transparent layer on at least a part of the first transparent layer standing upright to the concave portion, and the first transparent layer or the second transparent layer. And laminating a conductive layer on at least a part of the surface of the layer.
本発明のうち、ある態様は、少なくとも片方が矩形の断面形状を持ち、かつ、導電性を持たない第1の透明層と、前記第1の透明層の凸部で区画される領域に積層された、少なくとも1層以上の導電層と、第2の透明層と、を含む透明導電膜であることを特徴とする。
また、本発明のうち、ある態様は、少なくとも片方が矩形の断面形状を持ち、かつ、少なくとも1層以上からなる導電性を持たない第1の透明層に、前記第1の透明層とは異なる2層以上の導電性を持たない第2の透明層が積層され、前記第2の透明層同士の間に、少なくとも1層以上の導電層を含む層が積層されていることを特徴とする。
In one aspect of the present invention, at least one of them has a rectangular cross-sectional shape and is laminated in a region defined by a first transparent layer having no conductivity and a convex portion of the first transparent layer. In addition, the transparent conductive film includes at least one conductive layer and a second transparent layer.
Further, in one aspect of the present invention, at least one of the first transparent layers has a rectangular cross-sectional shape and does not have conductivity, and is different from the first transparent layer. Two or more second transparent layers having no conductivity are laminated, and a layer including at least one conductive layer is laminated between the second transparent layers.
この発明によると、導電層を含む層と導電性を持たない透明層の光学特性を近づけることが出来、導電層の有無を目立たなくすることが可能となる。 According to the present invention, the optical characteristics of the layer including the conductive layer and the transparent layer having no conductivity can be brought close to each other, and the presence or absence of the conductive layer can be made inconspicuous.
次に、本発明のうち、ある態様は、さらに、前記第1の透明層にて、少なくとも1層以上の導電層を含む層が積層されていない部分に、少なくとも1層以上の導電性を持たない第3の層が積層され、前記第1の透明層の材料は、ガラス、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、および、ポリサルフォンから構成される群から選択される少なくとも1つであり、前記第3の層の材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、および、酸化ニオブから構成される群から選択される少なくとも1つであることを特徴とするものである。
この発明によると、導電層を含む層と導電性を持たない透明層の光学特性を近づけることが出来、導電層の有無を目立たなくすることが可能となる。
Next, in one aspect of the present invention, the first transparent layer further has at least one layer of conductivity in a portion where a layer including at least one layer of conductive layer is not laminated. The third transparent layer is laminated, and the material of the first transparent layer is composed of glass, polyolefin, polyester, polyamide, polyimide, polyacrylate, polycarbonate, polyacrylate, polyethersulfone, and polysulfone The material of the third layer is selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, zinc sulfide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, and niobium oxide. It is characterized by being at least one.
According to the present invention, the optical characteristics of the layer including the conductive layer and the transparent layer having no conductivity can be brought close to each other, and the presence or absence of the conductive layer can be made inconspicuous.
次に、本発明のうち、ある態様は、両方が矩形の断面形状を持ち、少なくとも1層以上からなる導電性を持たない透明層があり、1方の面に、導電性を持たない透明層同士の間に、少なくとも1層以上の導電層を含む層が積層されており、反対の面にも、導電性を持たない透明層同士の間に、少なくとも1層以上の導電層を含む層が積層されていることを特徴とするものである。
この発明によると、導電層を含む層と導電性を持たない透明層の光学特性を近づけることが出来、導電層の有無を目立たなくすることが可能となる。
Next, in one embodiment of the present invention, both have a rectangular cross-sectional shape, and there is a transparent layer having no electrical conductivity composed of at least one layer, and a transparent layer having no electrical conductivity on one surface. A layer including at least one conductive layer is laminated between them, and a layer including at least one conductive layer is formed between the transparent layers having no conductivity on the opposite surface. It is characterized by being laminated.
According to the present invention, the optical characteristics of the layer including the conductive layer and the transparent layer having no conductivity can be brought close to each other, and the presence or absence of the conductive layer can be made inconspicuous.
次に、本発明のうち、ある態様は、透明導電膜を用いて構成されたポインティングデバイスであって、前記透明導電膜として、上述の態様のいずれかに記載の透明導電膜を用いたことを特徴とするものである。
この発明によると、上述の態様のいずれかに記載の発明に基づかずに形成した透明導電膜を用いたポインティングデバイスと比較して、導電層を含む層と導電性を持たない透明層の光学特性を近づけることが出来、導電層の有無を目立たなくすることが可能となる。
Next, an aspect of the present invention is a pointing device configured using a transparent conductive film, wherein the transparent conductive film according to any one of the above aspects is used as the transparent conductive film. It is a feature.
According to this invention, compared with a pointing device using a transparent conductive film formed without being based on any of the above-described aspects of the invention, the optical characteristics of the layer including the conductive layer and the transparent layer having no conductivity Can be made closer to each other, and the presence or absence of the conductive layer can be made inconspicuous.
次に、本発明のうち、ある態様は、少なくとも1層以上からなる導電性を持たない透明層の両方の面に、少なくとも1層以上の導電層を含む層を部分的に積層する工程を含む透明導電膜の製造方法であって、前記工程中に、部分的に積層された少なくとも1層以上の導電層を含む層同士の間に少なくとも1層以上の導電性を持たない層を積層する工程を実行することを特徴とする。
この発明によると、導電層を含む層と導電性を持たない透明層の光学特性を近づけることが出来、導電層の有無を目立たなくすることが可能となる。
Next, an aspect of the present invention includes a step of partially laminating a layer including at least one conductive layer on both sides of a transparent layer having at least one layer and not having conductivity. A method for producing a transparent conductive film, wherein a step of laminating at least one layer having no electrical conductivity between layers including at least one conductive layer partially laminated during the step It is characterized by performing.
According to the present invention, the optical characteristics of the layer including the conductive layer and the transparent layer having no conductivity can be brought close to each other, and the presence or absence of the conductive layer can be made inconspicuous.
次に、本発明のうち、ある態様は、少なくとも1層以上からなる導電性を持たない第1の透明層の少なくとも1つの面の断面を矩形にする工程と、前記第1の透明層における前記矩形の凹部に少なくとも1層以上の導電層を含む層を積層する工程を含む透明導電膜の製造方法であって、前記工程中に、前記矩形の凹部に積層された少なくとも1層以上の導電層を含む層同士の間に少なくとも1層以上の導電性を持たない第2の層を積層し、前記第1の透明層の材料は、ガラス、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、および、ポリサルフォンから構成される群から選択される少なくとも1つであり、前記第2の層の材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、および、酸化ニオブから構成される群から選択される少なくとも1つであることを特徴とする。
この発明によると、導電層を含む層と導電性を持たない透明層の光学特性を近づけることが出来、導電層の有無を目立たなくすることが可能となる。
Next, an aspect of the present invention includes a step of making a cross section of at least one surface of the first transparent layer having no conductivity, which is composed of at least one layer or more, rectangular, and the first transparent layer A method for producing a transparent conductive film comprising a step of laminating a layer including at least one conductive layer in a rectangular recess, wherein at least one conductive layer is stacked in the rectangular recess during the step. A layer having at least one second layer having no electrical conductivity is laminated between the layers containing, and the material of the first transparent layer is glass, polyolefin, polyester, polyamide, polyimide, polyacrylate, polycarbonate, At least one selected from the group consisting of polyacrylate, polyethersulfone, and polysulfone, and the material of the second layer is titanium oxide Zirconium oxide, zinc sulfide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, and wherein the at least one selected from the group consisting of niobium oxide.
According to the present invention, the optical characteristics of the layer including the conductive layer and the transparent layer having no conductivity can be brought close to each other, and the presence or absence of the conductive layer can be made inconspicuous.
次に、本発明のうち、ある態様は、少なくとも1層以上からなる導電性を持たない透明層の少なくとも1つの面の断面を矩形にする工程と、前記導電性を持たない透明層に少なくとも1層以上の導電層を含む層を積層させる工程と、前記導電性を持たない透明層における前記矩形の凸部から前記積層された層を剥離する工程を含むことを特徴とする。
この発明によると、導電層を含む層と導電性を持たない透明層の光学特性を近づけることが出来、導電層の有無を目立たなくすることが可能となる。
Next, an aspect of the present invention includes a step of making a cross section of at least one surface of a non-conductive transparent layer comprising at least one layer a rectangle, and at least one of the non-conductive transparent layer. The method includes a step of laminating a layer including a conductive layer of at least one layer, and a step of peeling the laminated layer from the rectangular convex portion in the transparent layer having no conductivity.
According to the present invention, the optical characteristics of the layer including the conductive layer and the transparent layer having no conductivity can be brought close to each other, and the presence or absence of the conductive layer can be made inconspicuous.
次に、本発明のうち、ある態様は、少なくとも1層以上からなる導電性を持たない第1の透明層の少なくとも1つの面の断面を矩形にする工程と、前記第1の透明層に少なくとも1層以上の導電層を含む層を積層させる工程と、前記第1の透明層における前記矩形の凸部から前記積層された層を剥離する工程を含む透明導電膜の製造方法であって、前記工程後に、前記第1の透明層における前記矩形の凸部に、少なくとも1層以上の導電性を持たない第2の層を積層する工程を実行し、前記第1の透明層の材料は、ガラス、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、および、ポリサルフォンから構成される群から選択される少なくとも1つであり、前記第2の層の材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、および、酸化ニオブから構成される群から選択される少なくとも1つであることを特徴とする。
この発明によると、導電層を含む層と導電性を持たない透明層の光学特性を近づけることが出来、導電層の有無を目立たなくすることが可能となる。
Next, an aspect of the present invention includes a step of making a cross section of at least one surface of the first transparent layer having at least one layer having no electrical conductivity rectangular, and at least the first transparent layer includes A method for producing a transparent conductive film, comprising: laminating a layer containing one or more conductive layers; and peeling the laminated layer from the rectangular convex portion in the first transparent layer, After the step, a step of laminating at least one or more second non-conductive layers on the rectangular protrusions in the first transparent layer is performed, and the material of the first transparent layer is glass , Polyolefin, polyester, polyamide, polyimide, polyacrylate, polycarbonate, polyacrylate, polyethersulfone, and at least one selected from the group consisting of polysulfone The material of the second layer is at least one selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, zinc sulfide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, and niobium oxide. Features.
According to the present invention, the optical characteristics of the layer including the conductive layer and the transparent layer having no conductivity can be brought close to each other, and the presence or absence of the conductive layer can be made inconspicuous.
本発明によれば、少なくとも1層以上の導電層を含む層が透明層の1方の面に部分的に積層されている透明導電膜において、少なくとも1層以上の導電層を含む層がある部分と無い部分との光学特性を近づけ、導電層の有無を目立たないようになる透明導電膜とその製造方法及びその透明導電膜を含むポインティングデバイスを提供することが可能となる。 According to the present invention, in a transparent conductive film in which a layer including at least one conductive layer is partially laminated on one surface of the transparent layer, a portion having a layer including at least one conductive layer Accordingly, it is possible to provide a transparent conductive film that makes optical characteristics close to each other close to each other and makes the presence or absence of the conductive layer inconspicuous, a manufacturing method thereof, and a pointing device including the transparent conductive film.
以下、本発明の実施形態(以下、「本実施形態」と記載する)について、図面を参照しつつ説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described with reference to the drawings.
(構成)
まず、図1を用いて、本実施形態の透明導電膜を用いて構成したポインティングデバイス100について説明する。図1はそのポインティングデバイス100の積層構造を概略的に示している断層図である。
(Constitution)
First, a
図1に示すように、ポインティングデバイス100は、
透明層10,11(以後、必要に応じて透明層1と表記する場合がある)と、
積層した導電層20C1〜20Cn(以後、必要に応じて導電層20Cと表記する場合がある)を含む層(以後、必要に応じて電極層20と表記する)と、
積層した導電層21C1〜21Cmを含む層(以後、必要に応じて電極層21と表記する)と(この電極層21と上記電極層20を区別せず、電極層2と表記する場合がある)、
導電性を持たない層301〜30pを積層した層(以後、必要に応じて無電極層30と表記する)と、
導電性を持たない層311〜31qを積層した層(以後、必要に応じて無電極層31と表記する)と(この無電極層30と無電極層31を区別せず無電極層3と表記する場合がある)、
粘着層4と、
電極層20,21にそれぞれ接続されている配線50,51(以後、配線50と配線51を区別せずに配線5と表記する場合がある)と、
を備えている。電極層2と無電極層3とは互いの層の間に位置して透明層10,11の面方向に交互に積層する状態で配置されている。また、少なくとも1層以上の導電層を含む層が積層されていない部分に、少なくとも1層以上の導電性を持たない層が積層されている。
As shown in FIG. 1, the
A layer including the stacked conductive layers 20C1 to 20Cn (hereinafter may be referred to as the conductive layer 20C as needed) (hereinafter referred to as the
A layer including the laminated conductive layers 21C1 to 21Cm (hereinafter referred to as an
A layer in which layers 301 to 30p having no conductivity are stacked (hereinafter, referred to as an
A layer in which
Adhesive layer 4;
Wirings 50 and 51 respectively connected to the electrode layers 20 and 21 (hereinafter, the wiring 50 and the
It has. The
そして、透明層10と導電層20と無電極層30の組は、透明導電膜Aを構成しており、また、透明層11と導電層21と無電極層31の組は、別の透明導電膜Bを構成している。これは、透明電極、タッチパネル、電磁波遮蔽膜等の構成部品として用いることができる。また、透明層10の両面に電極層2や無電極層3を積層させる場合、上記粘着層4は必ずしも必要でない。
The set of the
図1のポインティングデバイス100に用いられる透明導電膜A及び透明導電膜Bは、図1に示したように構成する場合の他、図2に示すように、透明層の表面部分が矩形波状の断面形状の部分を形成し、この透明層となる凸部で区画されるその間に形成される凹部内に導電層を設けるように構成するものでもよい。この場合、ITO(酸化インジウム錫:IndiumTinOxide)等による導電層を設けた層2aに導電性を持たない層7aを(光学)調整層として積層して設けるようにしてもよい。
The transparent conductive film A and the transparent conductive film B used in the
また、図3のように、図2に示した透明導電膜の導電層を含む層を積層されていない凸部の部分にも導電性を持たない層8a,8bを(光学)調整層として積層するようにしてもよい。上述した導電性を持たない層は透明樹脂であってもよい。
Further, as shown in FIG. 3, the
さらに、図2に示したと同様の導電層、導電性を持たない層を、図4に示すように、透明層の両面側でそれぞれ積層するように設けるようにしたものでもよい。 Furthermore, a conductive layer similar to that shown in FIG. 2 or a layer having no conductivity may be provided so as to be laminated on both sides of the transparent layer as shown in FIG.
本実施形態では、一例として以下に、透明導電膜を、図1に示すポインティングデバイス100として用いる場合について具体的に説明する。
In the present embodiment, as an example, a case where a transparent conductive film is used as the
透明層1は、透明なガラスやフィルムであり、それらにハードコートなどの層が積層されているものが好適である。透明樹脂であってもよい。しかしながら、透明基材の構成は、これに限定されるものではない。また、透明層1の厚さは、場所によって厚みが変わっていてもよく、最も薄い部分でも10〜200μm程度であり、表面部の断面が、図2〜4のように矩形波状になっていても構わない。その場合、断面の薄い部分、厚い部分の差は、数〜数十μm程度である。
The
また、透明層1は、一方または両方の面に、易接着処理、プラズマ処理、コロナ処理等の表面処理が施されていてもよい。その他、透過率向上や色調調整の目的で、無機膜や有機膜を適宜積層してもよい。
Moreover, the
透明層1の材料としては、ガラス、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)を用いることが可能である。
As the material of the
また、透明層1の材料としては、ポリアミド(ナイロン6、ナイロン66等)、ポリイミド、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォンを用いることも可能である。
As the material of the
さらに、透明層1の材料としては、上述した材料の共重合体を無延伸、または延伸させたプラスチックフィルムを用いることも可能である。
Furthermore, as a material for the
また、透明層1の材料としては、上述した材料以外にも。透明性の高い他のプラスチックフィルムを用いることも可能である。
Moreover, as a material of the
なお、本実施形態では、一例として、透明層1の材料を、コスト面で有利な、ポリエチレンテレフタレート(PET)とした場合を説明する。
In the present embodiment, as an example, a case where the material of the
導電層20Cを形成する方法は、導電性ポリマーとして、例えば、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリフェニレンスルフィド、ポリピリジルビニレン、及びポリアジン等が挙げられる。これらは1種のみ、目的に応じて2種以上を組み合わせて用い、上記導電性ポリマーを塗布する方法や、ITO(酸化インジウム錫:IndiumTinOxide)、酸化亜鉛のターゲットを使用して、真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法などを行う方法などが挙げられる。 The method for forming the conductive layer 20C includes, for example, polyacetylene, polydiacetylene, polyaniline, polyparaphenylene, polyparaphenylene vinylene, polythiophene, polyethylene dioxythiophene, polyfuran, polypyrrole, polyphenylene sulfide, polypyridyl vinylene, And polyazine and the like. These are only one type, in combination of two or more depending on the purpose, a method of applying the conductive polymer, a vacuum deposition method using a target of ITO (Indium Tin Oxide), zinc oxide, Examples include a physical vapor deposition method such as sputtering and a chemical vapor deposition method such as a CVD method.
導電層20Cを除く無電極層30,31を構成する層を形成するには、一般に光学薄膜として使用されている酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物などの無機化合物を用いる。具体的には、酸化マグネシウム、二酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化タンタルなどが挙げられる。これら無機化合物を用いて、真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法などにより形成される。上記無機化合物は、材料および膜厚により屈折率が異なるため、目的に合わせた材料を特定の膜厚で形成することにより光学特性を調整する。また、光学特性が調整可能な有機系材料を塗布して形成してもよい。 In order to form the layers constituting the electrodeless layers 30 and 31 excluding the conductive layer 20C, inorganic compounds such as oxides, sulfides, fluorides and nitrides generally used as optical thin films are used. Specific examples include magnesium oxide, silicon dioxide, magnesium fluoride, aluminum fluoride, titanium oxide, zirconium oxide, zinc sulfide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, niobium oxide, and tantalum oxide. Using these inorganic compounds, they are formed by a vacuum vapor deposition method, a physical vapor deposition method such as sputtering, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method. Since the refractive index of the inorganic compound varies depending on the material and the film thickness, the optical characteristics are adjusted by forming a material according to the purpose with a specific film thickness. Alternatively, an organic material whose optical characteristics can be adjusted may be applied and formed.
粘着層4は、例えば、アクリル系、ウレタン系等の接着剤を用いて形成されている。 The pressure-sensitive adhesive layer 4 is formed using, for example, an acrylic or urethane adhesive.
配線5は、本実施形態のように、透明導電膜をポインティングデバイス100として用いる場合には、必要に応じて、透明導電膜(ポインティングデバイス100)と外部の電気回路とを電気的に接続する目的で、電極層2の上、具体的には、電極層2の透明層1と反対側の面に印刷などの手段で形成してもよい。
When the transparent conductive film is used as the
(入力装置の製造方法)
以下、図1を参照して、本実施形態のポインティングデバイス100に用いる透明導電膜Aを製造する方法である、透明導電膜の製造方法を説明する。
(Manufacturing method of input device)
Hereinafter, with reference to FIG. 1, the manufacturing method of the transparent conductive film which is the method of manufacturing the transparent conductive film A used for the
本実施形態の透明導電膜の製造方法は、電極層2を形成する工程と、無電極層3を形成する工程を含む方法である。場合によって、透明層1の断面を矩形にする工程を含む。
The manufacturing method of the transparent conductive film of this embodiment is a method including the process of forming the
電極層2は、上述した方法を用いて形成する。その際、透明層1に部分的に保護膜を付けるなどの処理を行い、保護膜がある側の透明層1の面に電極層2を形成する。その後、保護膜を除去し、電極層2が形成される部分と、電極層2が形成されない部分を作る。もしくは、透明層1のどちらかの面に電極層2を形成し、その後、電極層2に、透明層1と反対側に部分的に保護膜を付けるなどの処理を行う。その後、エッチング処理などにより、電極層2の内、少なくとも導電層2Cまで除去する。その後、もしくは無電極層3を形成した後、電極層2に部分的に付けた保護膜を除去するようにする。
The
無電極層3は、電極層2の透明層1と反対側の面に保護膜を付け、上述した方法により形成する。無電極層3を形成した後、適当な方法により電極層2に付けた保護膜を除去する。
The
透明層1の断面を矩形にするには、透明層1に矩形状のシートを転写し、もしくは透明層1の再表層を形成する際に矩形状のロールを通して形状を付与してから硬化させる。もしくは、物理的に削り取ったり、レーザーなどで削り取るようにしてもよい。
In order to make the cross section of the
(実施例)
ここで、図1を用いて、透明導電膜Aを用いた第一発明例、ポインティングデバイス100に共通の構成を説明する。
(Example)
Here, a configuration common to the first invention example using the transparent conductive film A and the
図1中に示すように、透明導電膜A、及びポインティングデバイス100は、少なくとも電極層2、無電極層3を備えている。ポインティングデバイス100は、配線5を備える。また、粘着層4を含む場合がある。そして、静電容量式のタッチパッドに用いることが出来る。
As shown in FIG. 1, the transparent conductive film A and the
透明層1は、両方の面に、ハードコートを塗布した透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムであり、その厚さは、188μmである。
The
電極層2は、透明層1の一方の面に形成されており、DCマグネトロンスパッタリング法にて成膜した、厚さ20nmのITO(IndiumTinOxide)膜である。電極層2の上に配線5を形成した。配線5は、電極層2の上、具体的には電極層2の透明層1と反対側の面(図1中では、上面)に形成されている。
The
電極層2や配線5に保護膜を付けた。保護膜は一般的なレジスト樹脂が好適であるが、今回は粘着テープを用いた。さらに、DCマグネトロンスパッタリング法にて、無電極層3として、厚さ15nmの酸化ニオブ膜を形成し、保護膜を除去した。
A protective film was attached to the
(第一比較例)
第一発明例と違い、無電極層3を形成しなかった。また、タッチパッドに対し、各評価試験を行う際の方法を、以下に示す。
(First comparative example)
Unlike the first invention example, the
A.色彩測定
分光光度計を用い、D65光源による色彩値を測定した。
A. Color measurement The color value with a D65 light source was measured using a spectrophotometer.
B.目視観察
第一発明例、第一比較例を、それぞれ目視により、電極層2と無電極層3の見え方に違いがあるか観察を行なった。
B. Visual observation The first invention example and the first comparative example were each visually observed to see if there was a difference in the appearance of the
I.第一発明例
配線5が形成されている部分以外の電極層2の透過L*、a*、b*、反射L*、a*、b*は、それぞれ94.7、−0.2、2.5、40.4、−0.5、−5.0だった。無電極層3の透過L*、a*、b*、反射L*、a*、b*は、それぞれ94.6、−0.4、3.8、36.4、0.8、−10.0だった。目視では、電極層2と無電極層3の区別はつきにくかった。
I. First Invention Example The transmission L *, a *, b * and reflection L *, a *, b * of the
II.第一比較例
透明層1の透過L*、a*、b*、反射L*、a*、b*は、それぞれ96.4、−0.3、1.3、34.4、0.1、−1.0だった。目視では、電極層2と無電極層3の区別はつきやすかった。
II. First Comparative Example Transmission L *, a *, b *, reflection L *, a *, b * of the
本発明の導電機能層及び導電機能層の製造方法は、ポインティングデバイス、特に、静電容量式タッチパッド、及び静電容量式タッチパッドの製造方法として用いる事が可能である。 The conductive functional layer and the method for manufacturing the conductive functional layer of the present invention can be used as a pointing device, in particular, a capacitive touch pad and a method for manufacturing a capacitive touch pad.
100…ポインティングデバイス
10,11…透明層
20,21〜電極層
20C1〜20Cn,21C1〜21Cm…導電層
30、31…無電極層
30C1〜30Cp、31C1〜31Cq…電性を持たない層
4…粘着層
5…配線
A…透明電極A
B…透明電極B
DESCRIPTION OF
B ... Transparent electrode B
Claims (2)
前記導電層に第2の透明層を積層する工程と、Laminating a second transparent layer on the conductive layer;
さらに、前記第1の透明層に積層された導電層の一部を剥離する工程と、A step of peeling a part of the conductive layer laminated on the first transparent layer;
を含む透明導電膜の製造方法。The manufacturing method of the transparent conductive film containing this.
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