JP5828340B2 - Light emitting device and method for manufacturing the light emitting device - Google Patents

Light emitting device and method for manufacturing the light emitting device Download PDF

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    • H10K50/115OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers comprising active inorganic nanostructures, e.g. luminescent quantum dots

Description

本発明は、発光デバイス、及び該発光デバイスの製造方法に関し、より詳しくは超微粒子の表面が界面活性剤で被覆された量子ドットで発光層を形成する発光デバイスとその製造方法に関する。   The present invention relates to a light-emitting device and a method for manufacturing the light-emitting device, and more particularly to a light-emitting device that forms a light-emitting layer with quantum dots whose surfaces are coated with a surfactant.

粒径が10nm以下のナノ粒子である量子ドットは、キャリア(電子、正孔)の閉じ込め性に優れていることから、電子−正孔の再結合により励起子を容易に生成することができる。このため自由励起子からの発光が期待でき、発光効率が高く発光スペクトルの鋭い発光を実現することが可能である。また、量子ドットは、量子サイズ効果を利用した広い波長範囲での制御が可能であることから、半導体レーザや発光ダイオード(LED)等の発光デバイスへの応用が注目されている。   A quantum dot, which is a nanoparticle having a particle size of 10 nm or less, has excellent carrier (electron, hole) confinement properties. Therefore, excitons can be easily generated by electron-hole recombination. Therefore, light emission from free excitons can be expected, and light emission with high emission efficiency and sharp emission spectrum can be realized. Further, since quantum dots can be controlled in a wide wavelength range using the quantum size effect, their application to light emitting devices such as semiconductor lasers and light emitting diodes (LEDs) has attracted attention.

この種の発光デバイスでは、キャリアを高効率で量子ドット(ナノ粒子)内に閉じ込めて再結合させ、発光効率を高めるのが重要とされている。そして、量子ドットを作製する方法としては、セルフアセンブル(自己組織化)法と呼称される方法が知られている。このセルフアセンブル法は、ドライプロセスで量子ドットを作製する方法であり、格子不整合となる特定の条件下で半導体層を気相エピタキシャル成長させ、3次元的な量子ドット構造を自己形成している。   In this type of light emitting device, it is important to improve the light emission efficiency by confining carriers in quantum dots (nanoparticles) with high efficiency and recombining them. As a method for producing quantum dots, a method called a self-assembly method is known. This self-assembly method is a method of producing quantum dots by a dry process, and a semiconductor layer is vapor-phase epitaxially grown under a specific condition that causes lattice mismatch, and a three-dimensional quantum dot structure is self-formed.

図9は、セルフアセンブル法で作製された量子ドット構造を模式的に示す断面である。   FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a quantum dot structure manufactured by a self-assembly method.

セルフアセンブル法では、第1の基板101の表面に複数の量子ドット102を離散的に分布させ、前記量子ドット102を覆うように第1の基板101の表面に第2の基板103を形成している。すなわち、このセルフアセンブル法では、第1の基板101の格子定数と第2の基板103の格子定数との差から歪みを生じさせ、エピタキシャル成長ができなくなると歪みが生じた箇所に量子ドット102が形成される。そして、このセルフアセンブル法は、人為的に微細加工する場合に比べて、量子ドットが高密度に分布し、かつ高品質の量子ドット構造を得ることができるとされている。   In the self-assembly method, a plurality of quantum dots 102 are discretely distributed on the surface of the first substrate 101, and a second substrate 103 is formed on the surface of the first substrate 101 so as to cover the quantum dots 102. Yes. That is, in this self-assembling method, distortion is caused by the difference between the lattice constant of the first substrate 101 and the lattice constant of the second substrate 103, and when the epitaxial growth cannot be performed, quantum dots 102 are formed at the locations where the distortion occurs. Is done. This self-assembly method is said to be capable of obtaining a high-quality quantum dot structure in which quantum dots are distributed at a higher density than in the case of artificially performing fine processing.

しかしながら、このようなセルフアセンブル法では、量子ドット102が第1の基板101上で離散的に分布するため、該量子ドット102を第1の基板101上に高密度に集積させることができない。すなわち、このセルフアセンブル法では、量子ドット102の面密度が小さく、量子ドット102同士の間隔tが量子ドット102の量子サイズに比べて大きくなる傾向にある。しかも、量子ドット102の形成箇所以外では、第1の基板101は第2の基板103と接合されることから、電子や正孔は、量子ドット102に注入されずに第1の基板101又は第2の基板103に輸送され、このため発光効率の低下を招くおそれがある。   However, in such a self-assembly method, since the quantum dots 102 are discretely distributed on the first substrate 101, the quantum dots 102 cannot be integrated on the first substrate 101 with high density. That is, in this self-assembly method, the surface density of the quantum dots 102 is small, and the interval t between the quantum dots 102 tends to be larger than the quantum size of the quantum dots 102. In addition, since the first substrate 101 is bonded to the second substrate 103 at locations other than where the quantum dots 102 are formed, electrons and holes are not injected into the quantum dots 102 but the first substrate 101 or the first substrate 101. 2 is transported to the second substrate 103, which may cause a decrease in luminous efficiency.

また、上記セルフアセンブル法では、量子ドットに注入されなかったキャリアが量子ドット102の外部で再結合するおそれもある。そして、このように量子ドット102の外部で再結合して発光すると発光色純度の低下を招くおそれがあり、また再結合しても発光しない場合はリーク電流となって発光効率の低下を招くおそれがある。   In the self-assembly method, carriers that are not injected into the quantum dots may be recombined outside the quantum dots 102. If the light is recombined outside the quantum dots 102 to emit light as described above, the emission color purity may be reduced, and if the light is not emitted even after recombination, a leakage current may be caused and the emission efficiency may be reduced. There is.

そこで、特許文献1では、第1の半導体からなる主表面を有する基板と、前記主表面の上に離散的に分布する複数の量子ドットと、前記量子ドットの分布する面の上に形成された第2の半導体からなる被覆層と、前記量子ドットの分布する面内のうち、前記量子ドットの配置されていない領域の少なくとも一部に配置され、前記第1及び第2の半導体のバンドギャップよりも大きなバンドギャップを有する第3の半導体もしくは絶縁材料で形成された障壁層とを有する半導体装置が提案されている。   Therefore, in Patent Document 1, a substrate having a main surface made of a first semiconductor, a plurality of quantum dots distributed discretely on the main surface, and a surface on which the quantum dots are distributed is formed. A covering layer made of a second semiconductor, and disposed in at least a part of a region where the quantum dots are not arranged in a plane in which the quantum dots are distributed, from the band gaps of the first and second semiconductors A semiconductor device having a third semiconductor having a large band gap or a barrier layer formed of an insulating material has been proposed.

この特許文献1では、図10(a)に示すように、第1の基板101や第2の基板103よりも大きなバンドギャップエネルギーを有するAlAs等の半導体を酸化させて絶縁性を有する障壁層104を形成し、これによりキャリア(電子及び正孔)を量子ドット102に注入し易くし、再結合による発光効率の向上を図っている。   In Patent Document 1, as shown in FIG. 10A, a barrier layer 104 having an insulating property by oxidizing a semiconductor such as AlAs having a larger band gap energy than the first substrate 101 and the second substrate 103. Thus, carriers (electrons and holes) can be easily injected into the quantum dots 102, and emission efficiency is improved by recombination.

また、この種の発光デバイスでは、量子ドットと正孔輸送層又は電子輸送層とがオーミック接触していると、その接触界面ではフォノンの移動が遅く、フォノンの遅い移動に律速されて高い準位から低い準位へのエネルギー準位の遷移が抑制され、フォノンボトルネックと呼称される現象が生じる。   Also, in this type of light emitting device, if the quantum dot and the hole transport layer or the electron transport layer are in ohmic contact, the movement of the phonon is slow at the contact interface, and the high level is controlled by the slow movement of the phonon. The transition of the energy level from low to low is suppressed, and a phenomenon called a phonon bottleneck occurs.

そこで、特許文献1では、さらに図10(b)に示すように、第1の基板101と障壁層104との間に第1の量子井戸層105及び第1のトンネル層106を形成し、障壁層104と第2の基板103との間に第2のトンネル層107及び第2の量子井戸層108を形成している。   Therefore, in Patent Document 1, a first quantum well layer 105 and a first tunnel layer 106 are formed between the first substrate 101 and the barrier layer 104 as shown in FIG. A second tunnel layer 107 and a second quantum well layer 108 are formed between the layer 104 and the second substrate 103.

すなわち、特許文献1では、フォノンボトルネックを回避するために、上述した第1及び第2の量子井戸層105、108を形成してキャリアをこれら第1及び第2の量子井戸層105、108に閉じ込め、かつこの閉じ込められたキャリアをトンネル効果により移動させ、これにより、キャリアの量子ドット102への注入効率を高めようとしている。   That is, in Patent Document 1, in order to avoid a phonon bottleneck, the first and second quantum well layers 105 and 108 described above are formed, and carriers are transferred to the first and second quantum well layers 105 and 108. The confinement and the confined carriers are moved by the tunnel effect, thereby increasing the injection efficiency of the carriers into the quantum dots 102.

また、特許文献2には、量子ドットでなり、電子及びホールの再結合によって発光する発光層と、前記発光層へ前記電子を輸送するn型の無機半導体層と、前記発光層へ前記ホールを輸送するp型の無機半導体層と、前記n型の無機半導体層に前記電子を注入するための第1の電極と、前記p型の無機半導体層に前記ホールを注入するための第2の電極とを具備した発光デバイスが提案されている。   Patent Document 2 discloses a light emitting layer that is formed of quantum dots and emits light by recombination of electrons and holes, an n-type inorganic semiconductor layer that transports the electrons to the light emitting layer, and the holes in the light emitting layer. A transporting p-type inorganic semiconductor layer, a first electrode for injecting the electrons into the n-type inorganic semiconductor layer, and a second electrode for injecting the holes into the p-type inorganic semiconductor layer There has been proposed a light emitting device comprising:

この特許文献2では、図11に示すように、p型半導体層111及びn型半導体層112を無機材料で形成し、これらp型半導体層111とn型半導体層112との間に発光層となるコロイダル量子ドット層113が介装されている。すなわち、この特許文献2では、p型半導体層111及びn型半導体層112をキャリア輸送性の良好なバンド構造を有する無機材料で形成することにより、発光層とキャリア輸送層との間にポテンシャル障壁がある場合であっても、トンネル効果によりキャリアをコロイダル量子ドット層113に注入し、これによりキャリアの量子ドット層113への注入効率を向上させている。   In Patent Document 2, as shown in FIG. 11, a p-type semiconductor layer 111 and an n-type semiconductor layer 112 are formed of an inorganic material, and a light emitting layer and a p-type semiconductor layer 111 are interposed between the p-type semiconductor layer 111 and the n-type semiconductor layer 112. A colloidal quantum dot layer 113 is interposed. That is, in Patent Document 2, a potential barrier is formed between the light-emitting layer and the carrier transport layer by forming the p-type semiconductor layer 111 and the n-type semiconductor layer 112 with an inorganic material having a band structure with good carrier transportability. Even if there is a carrier, carriers are injected into the colloidal quantum dot layer 113 by the tunnel effect, thereby improving the injection efficiency of carriers into the quantum dot layer 113.

また、この特許文献2では、半導体層が形成された基板を、量子ドットを含むコロイド溶液に浸漬し、基板を引き上げた後、コロイド溶液を蒸発させることによりコロイダル量子ドット層113を形成している。   Moreover, in this patent document 2, the colloidal quantum dot layer 113 is formed by immersing the board | substrate with which the semiconductor layer was formed in the colloidal solution containing a quantum dot, pulling up a board | substrate, and evaporating a colloidal solution. .

また、特許文献3には、量子ドットの表面に局在する少なくとも2種の配位子からなる界面活性剤を有し、前記配位子のうち、少なくとも1種が正孔輸送性配位子であり、少なくとも1種が電子輸送性配位子であるナノ粒子発光材料が提案されている。   Patent Document 3 has a surfactant composed of at least two kinds of ligands localized on the surface of the quantum dot, and at least one of the ligands is a hole transporting ligand. There has been proposed a nanoparticle light-emitting material in which at least one kind is an electron transporting ligand.

特許文献3では、正孔輸送性配位子及び電子輸送性配位子の双方の配位子を有する界面活性剤(以下、「両性界面活性剤」という。)を使用し、配位子のエネルギー準位をキャリアブロック効果が生じるような組み合わせとなるように工夫し、キャリアをナノ粒子内に閉じ込めようとしている。   In Patent Document 3, a surfactant having both a hole transporting ligand and an electron transporting ligand (hereinafter referred to as “amphoteric surfactant”) is used. The energy level is devised so as to produce a carrier blocking effect, and carriers are confined in the nanoparticles.

図12は、特許文献3を発光デバイスに適用した場合を示している。   FIG. 12 shows a case where Patent Document 3 is applied to a light emitting device.

この発光デバイスは、陽極121の上面に形成された正孔輸送層122と陰極123の下面に形成された電子輸送層124との間に量子ドット125の集合体からなる発光層126が介在されている。そして、量子ドット125は、コア部127とシェル部128からなるナノ粒子129同士が凝集しないように、その表面が両性界面活性剤130で被覆されている。   In this light emitting device, a light emitting layer 126 composed of an assembly of quantum dots 125 is interposed between a hole transport layer 122 formed on the upper surface of the anode 121 and an electron transport layer 124 formed on the lower surface of the cathode 123. Yes. And the surface of the quantum dot 125 is coat | covered with the amphoteric surfactant 130 so that the nanoparticles 129 which consist of the core part 127 and the shell part 128 may not aggregate.

陽極121と陰極123との間に電圧が印加されると、陽極121には正孔が注入され、陰極123には電子が注入される。そして、電子輸送性及び正孔輸送性の両配位子のエネルギー準位を工夫して正孔輸送層122からの正孔をコア部127内に閉じ込め、また電子輸送層124からの電子をコア部127に閉じ込めることによりコア部127内で電子と正孔を再結合させて励起子発光させている。   When a voltage is applied between the anode 121 and the cathode 123, holes are injected into the anode 121 and electrons are injected into the cathode 123. The energy levels of both the electron transporting and hole transporting ligands are devised to confine the holes from the hole transporting layer 122 in the core part 127, and the electrons from the electron transporting layer 124 are confined to the core. By confining in the part 127, electrons and holes are recombined in the core part 127 to emit excitons.

図13は、特許文献3における量子ドットの閉じ込め原理を説明する図である。   FIG. 13 is a diagram for explaining the quantum dot confinement principle in Patent Document 3. In FIG.

上述したようにナノ粒子129は、コア部127と該コア部127を被覆するシェル部128とで構成され、シェル部128は両性界面活性剤130で被覆されている。この界面活性剤130は正孔輸送性配位子130aと電子輸送性配位子130bとを有し、正孔輸送層122側には正孔輸送性配位子130aが局在し、電子輸送層124側には電子輸送性配位子130bが局在している。   As described above, the nanoparticle 129 includes the core portion 127 and the shell portion 128 that covers the core portion 127, and the shell portion 128 is covered with the amphoteric surfactant 130. This surfactant 130 has a hole-transporting ligand 130a and an electron-transporting ligand 130b, and the hole-transporting ligand 130a is localized on the hole transporting layer 122 side. The electron transporting ligand 130b is localized on the layer 124 side.

そして、特許文献3では、正孔輸送性配位子130aのLUMO準位131を、電子輸送性配位子130bのLUMO準位132よりも高くすることにより、電子輸送層124からの電子をコア部127内に注入する一方、正孔輸送性配位子130aのLUMO準位131を、コア部127の(電子が移動する)伝導帯における最低電子準位133よりも高くすることにより、正孔輸送性配位子130aが電子に対する障壁となり、これにより電子をコア部127の内部に閉じ込めている。   In Patent Document 3, the LUMO level 131 of the hole-transporting ligand 130a is set higher than the LUMO level 132 of the electron-transporting ligand 130b, whereby the electrons from the electron transport layer 124 are cored. While injecting into the portion 127, the LUMO level 131 of the hole transporting ligand 130 a is made higher than the lowest electron level 133 in the conduction band (where electrons move) of the core portion 127. The transporting ligand 130 a serves as a barrier against electrons, thereby confining the electrons inside the core portion 127.

また、電子輸送性配位子130bのHOMO準位134を、正孔輸送層配位子130aのHOMO準位135よりも低くすることにより、正孔輸送層122からの正孔をコア部127内に注入する一方、電子輸送性配位子130bのHOMO準位134を、コア部127の(正孔が移動する)価電子帯における最高電子準位136よりも低くすることにより、電子輸送性配位子130bが正孔に対する障壁となり、これにより正孔をコア部127の内部に閉じ込めている。   In addition, by making the HOMO level 134 of the electron transporting ligand 130b lower than the HOMO level 135 of the hole transporting layer ligand 130a, the holes from the hole transporting layer 122 are moved into the core portion 127. While the HOMO level 134 of the electron transporting ligand 130b is made lower than the highest electron level 136 in the valence band (where holes move) of the core part 127, The ligand 130b becomes a barrier against holes, thereby confining the holes inside the core portion 127.

ここで、LUMO準位とは、分子が光に照射されるとエネルギーは励起状態となり、分子軌道は電子に占有されていない空状態となるが、この場合において、電子に占有されていない分子軌道のうち最も低い最低空軌道(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)に対応するエネルギー準位をいう。   Here, the LUMO level means that when a molecule is irradiated with light, the energy is in an excited state and the molecular orbitals are in an empty state not occupied by electrons. In this case, the molecular orbitals are not occupied by electrons. The energy level corresponding to the lowest lowest orbital (Lowest Unoccupied Molecular Orbital).

また、HOMO準位とは、分子が光に照射される前の基底状態では、最も低いエネルギーを有する分子軌道から順番に電子が占有されていくが、この場合において、基底状態の分子軌道のうち最も高い最高被占軌道(Highest Occupied Molecular Orbital)に対応するエネルギー準位をいう。   The HOMO level means that in the ground state before the molecule is irradiated with light, electrons are occupied in order from the molecular orbital having the lowest energy. In this case, It refers to the energy level corresponding to the highest highest occupied molecular orbital (Highest Occupied Molecular Orbital).

このように特許文献3では、正孔輸送性配位子130aの電子ブロック効果及び電子輸送性配位子130bの正孔ブロック効果により、キャリア(電子及び正孔)をナノ粒子129のコア部127の内部に閉じ込めている。   As described above, in Patent Document 3, the core portion 127 of the nanoparticle 129 is made to have carriers (electrons and holes) by the electron blocking effect of the hole transporting ligand 130a and the hole blocking effect of the electron transporting ligand 130b. Trapped inside.

そして、このように電子及び正孔をコア部127内に閉じ込めることにより、コア部127内で電子−正孔を再結合させることができ、励起子発光させることができる。   Then, by confining electrons and holes in the core part 127 in this way, the electron-holes can be recombined in the core part 127, and exciton light can be emitted.

特開2002−184970号公報(請求項1、請求項2、図1、図3)JP 2002-184970 A (Claim 1, Claim 2, FIG. 1, FIG. 3) 特開2006−185985号公報(請求項1、図1、図3)JP 2006-185985 A (Claim 1, FIG. 1, FIG. 3) 特開2008−214363号公報(請求項1、請求項3〜5)JP 2008-214363 A (Claims 1 and 3 to 5)

しかしながら、特許文献1は、上記した図10(a)に示すように、量子ドット102同士の間隙を埋めるために障壁層104を形成しているものの、ドライプロセスで作製していることから、量子ドット間の間隙を障壁層104で効果的に充填するためには製造工程の煩雑化を招くおそれがある。   However, in Patent Document 1, although the barrier layer 104 is formed in order to fill the gap between the quantum dots 102 as shown in FIG. In order to effectively fill the gaps between the dots with the barrier layer 104, the manufacturing process may be complicated.

すなわち、特許文献1では、量子ドット102を形成した後、障壁層104が形成されるが、この場合、量子ドット102へのキャリア注入を妨げないようにドライエッチングして量子ドット102上の障壁層104を除去する必要があり、製造工程の煩雑化を招く。   That is, in Patent Document 1, the barrier layer 104 is formed after the quantum dot 102 is formed. In this case, the barrier layer on the quantum dot 102 is dry-etched so as not to prevent carrier injection into the quantum dot 102. 104 needs to be removed, resulting in a complicated manufacturing process.

また、特許文献1では、フォノンボトルネックが生じるのを回避するために、図10(b)に示すように、第1の基板101上に第1の量子井戸層105及び第1のトンネル層106を形成し、さらに量子ドット層102及び障壁層104の表面に第2のトンネル層107及び第2の量子井戸層108を形成しており、このため多くの成膜プロセスが必要となり、コスト高を招き、生産性に劣る。   In Patent Document 1, in order to avoid the occurrence of a phonon bottleneck, the first quantum well layer 105 and the first tunnel layer 106 are formed on the first substrate 101 as shown in FIG. In addition, the second tunnel layer 107 and the second quantum well layer 108 are formed on the surfaces of the quantum dot layer 102 and the barrier layer 104. Therefore, many film formation processes are required, which increases the cost. Invited and inferior in productivity.

また、特許文献2(図11参照)では、基板をコロイド溶液に浸漬した後、基板を引き上げ、コロイド溶液を蒸発させているが、超微粒のナノ粒子同士が凝集するおそれがあり、粒径が粗大化し、所望の発光特性を有するコロイダル量子ドット層113を得るのは困難である。   In Patent Document 2 (see FIG. 11), after the substrate is immersed in the colloidal solution, the substrate is pulled up to evaporate the colloidal solution. It is difficult to obtain a colloidal quantum dot layer 113 that is coarsened and has desired emission characteristics.

一方、特許文献3は、上記した図12に示すように、量子ドット125は、ナノ粒子129の表面が両性界面活性剤130で被覆されていることから、ナノ粒子129同士の凝集を回避することが可能である。   On the other hand, in Patent Document 3, as shown in FIG. 12 described above, the quantum dot 125 avoids aggregation of the nanoparticles 129 because the surfaces of the nanoparticles 129 are coated with the amphoteric surfactant 130. Is possible.

また、セルフアセンブル法のように量子ドットが離散状に分布することもなく、界面活性剤の配位子で表面の欠陥を不活性化し、耐環境性を向上させながら面密度を向上させることが可能である。   In addition, the quantum dots are not distributed in a discrete manner as in the self-assembly method, and surface defects can be improved while improving surface resistance by inactivating surface defects with a surfactant ligand. Is possible.

しかしながら、正孔輸送性配位子130a及び電子輸送性配位子130bの双方を有する両性界面活性剤130でナノ粒子129が被覆されているため、正孔と電子とが両性界面活性剤130中で共存した形態で輸送されることとなる。このため電子と正孔とが一定の確率で近づく可能性があり、図12中、aに示すように、両性界面活性剤130中で正孔と電子とが再結合するおそれがある。   However, since the nanoparticle 129 is coated with the amphoteric surfactant 130 having both the hole transporting ligand 130 a and the electron transporting ligand 130 b, the holes and electrons are in the amphoteric surfactant 130. Will be transported in a coexisting form. For this reason, there is a possibility that electrons and holes approach each other with a certain probability, and holes and electrons may be recombined in the amphoteric surfactant 130 as shown by a in FIG.

また、特許文献3では、発光層126は量子ドット125の集合体のみで形成され、かつ、この発光層126上に電子輸送層124が形成されることから、図14に示すように、電子輸送層124の形成工程で、膜密度が十分緻密でなく、量子ドット125間が開いている場合、発光層126が電子輸送性材料137で充填されてしまうことがある。そしてこの場合、通常、界面活性剤の配位子の大きさはナノ粒子129の粒径と変わらないことから、キャリアはナノ粒子129に注入されずに両性界面活性剤130を伝って量子ドット125と量子ドット125との間隙に流れ込むおそれがある。そして、その結果、キャリアはナノ粒子129に注入されずに正孔輸送層122や電子輸送層124に入り込むおそれがあり、更には、図14中、bに示すように、充填された電子輸送性材料137中で電子は正孔と結合して励起子発光するおそれがある。すなわち、特許文献3では、ナノ粒子129のコア部127内で励起子発光せずに、充填された電子輸送性材料137中で励起子発光するキャリアが発生し、このため発光効率の低下や発光色純度の低下を招くおそれがある。   Further, in Patent Document 3, since the light emitting layer 126 is formed only of an assembly of quantum dots 125 and the electron transport layer 124 is formed on the light emitting layer 126, as shown in FIG. In the formation process of the layer 124, when the film density is not sufficiently dense and the quantum dots 125 are open, the light emitting layer 126 may be filled with the electron transporting material 137. In this case, since the size of the surfactant ligand is usually the same as the particle size of the nanoparticle 129, the carrier is not injected into the nanoparticle 129, but travels through the amphoteric surfactant 130 and passes through the quantum dot 125. May flow into the gap between the quantum dots 125 and the quantum dots 125. As a result, carriers may enter the hole transport layer 122 and the electron transport layer 124 without being injected into the nanoparticles 129. Furthermore, as shown in FIG. In the material 137, electrons may combine with holes to emit excitons. That is, in Patent Document 3, excitons do not emit light in the core portion 127 of the nanoparticle 129, and carriers that emit exciton are generated in the filled electron transporting material 137, and therefore, the emission efficiency decreases and the light emission occurs. There is a risk of lowering the color purity.

本発明はこのような事情に鑑みなされたものであって、量子ドット内へのキャリアの注入効率が良好な発光デバイス、及び該発光デバイスの製造方法を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a situation, Comprising: It aims at providing the light-emitting device with favorable injection | pouring efficiency of the carrier in a quantum dot, and the manufacturing method of this light-emitting device.

本発明者は上記目的を達成するために鋭意研究を行なったところ、電子のみ又は正孔のみを輸送する2種類の界面活性剤で超微粒子(酸化物、化合物半導体、及び単体半導体を含む。)を表面被覆し、これにより量子ドットを形成し、さらに緻密で耐電圧性に優れた特定の高分子化合物からなる絶縁性材料を量子ドット間に備えることにより、キャリアの超微粒子内への注入効率を向上させることができ、これにより発光特性を向上させることができるという知見を得た。 The present inventor conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, two types of surfactants that transport only electrons or holes are used to form ultrafine particles (including oxides, compound semiconductors, and single semiconductors). The surface is coated, thereby forming quantum dots, and by providing an insulating material made of a specific polymer compound that is dense and excellent in voltage endurance between the quantum dots, carrier injection efficiency into ultrafine particles It was found that the light emission characteristics can be improved.

また、電子輸送性の第1の界面活性剤及び正孔輸送性の第2の界面活性剤と量子ドットとの間を、トンネル共鳴を利用してキャリア移動させることにより、フォノンボトルネックが生じることなく迅速かつ効率よくキャリアを輸送することができる。そのためには少なくとも第1の界面活性剤は、量子ドットの価電子帯とトンネル共鳴するようなHOMO準位を有するのが好ましく、具体的にはHOMO準位が、価電子帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVであるのが好ましい。In addition, a phonon bottleneck is generated by moving carriers between the first surfactant having electron transporting property and the second surfactant having hole transporting property and the quantum dot using tunnel resonance. The carrier can be transported quickly and efficiently. For that purpose, it is preferable that at least the first surfactant has a HOMO level that causes tunnel resonance with the valence band of the quantum dot. Specifically, the HOMO level is at the energy level of the valence band. On the other hand, it is preferably −0.2 to +0.2 eV.

本発明はこのような知見に基づきなされたものであって、本発明に係る発光デバイスは、発光層が量子ドットの集合体で形成された発光デバイスにおいて、前記量子ドットは、超微粒子の表面が正孔輸送性を有する第1の界面活性剤と電子輸送性を有する第2の界面活性剤とで被覆されると共に、前記超微粒子は、酸化物、化合物半導体、及び単体半導体のいずれかを含み、かつ、前記発光層は、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びポリビニル系樹脂の群から選択された1種以上で形成された高分子化合物からなる絶縁性材料を前記量子ドット間に充填し、前記量子ドットの外部をキャリアが通過するのを抑制すると共に、前記第1の界面活性剤は、前記超微粒子の価電子帯とトンネル共鳴するように、前記価電子帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのHOMO準位を有することを特徴としている。The present invention has been made based on such knowledge, and the light-emitting device according to the present invention is a light-emitting device in which a light-emitting layer is formed of an assembly of quantum dots, and the quantum dot has an ultrafine particle surface. It is coated with a first surfactant having a hole transporting property and a second surfactant having an electron transporting property, and the ultrafine particles include any one of an oxide, a compound semiconductor, and a single semiconductor. And the said light emitting layer consists of a high molecular compound formed by 1 or more types selected from the group of acrylic resin, polystyrene resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, and polyvinyl resin. The insulating material is filled between the quantum dots, and carriers are prevented from passing outside the quantum dots, and the first surfactant is the ultrafine particles. As valence band and tunneling resonance, it is characterized by having a HOMO level of -0.2 to + 0.2 eV with respect to energy levels of the valence band.

これにより少なくとも第1の界面活性剤はトンネル共鳴を利用してキャリア移動することから、フォノンボトルネックが抑制されてキャリアを迅速かつ効率よく輸送することができ、第1の界面活性剤は正孔のみを輸送し、第2の界面活性剤は電子のみを輸送することができ、かつキャリアは超微粒子の内部に高効率で注入され、超微粒子の外部を通過してしまうのを抑制することができる。As a result, at least the first surfactant moves through carriers using tunnel resonance, so that the phonon bottleneck can be suppressed and carriers can be transported quickly and efficiently. The second surfactant can transport only electrons, and the carrier is injected into the ultrafine particles with high efficiency and can be prevented from passing outside the ultrafine particles. it can.

したがって、電圧印加により電極に注入されたキャリアは、超微粒子の外部で正孔と電子が再結合することもなく、効率良く超微粒子内に輸送することができ、これにより、膜のキャリア輸送性が高いために膜厚を薄くせねばならない制限もなく、キャリアの超微粒子への注入効率を向上させることが可能となる。Therefore, carriers injected into the electrode by applying a voltage can be efficiently transported into the ultrafine particles without recombination of holes and electrons outside the ultrafine particles, thereby making it possible to transport the carrier of the film. Therefore, it is possible to improve the efficiency of injecting the carrier into the ultrafine particles.

また、上述したフォノンボトルネックを抑制するためには、第1の界面活性剤のHOMO準位を制御する代わりに、第2の界面活性剤のLUMO準位を制御するのも好ましい。In order to suppress the phonon bottleneck described above, it is also preferable to control the LUMO level of the second surfactant instead of controlling the HOMO level of the first surfactant.

すなわち、本発明に係る発光デバイスは、発光層が量子ドットの集合体で形成された発光デバイスにおいて、前記量子ドットは、超微粒子の表面が正孔輸送性を有する第1の界面活性剤と電子輸送性を有する第2の界面活性剤とで被覆されると共に、前記超微粒子は、酸化物、化合物半導体、及び単体半導体のいずれかを含み、前記発光層は、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びポリビニル系樹脂の群から選択された1種以上で形成された高分子化合物からなる絶縁性材料を前記量子ドット間に充填し、前記量子ドットの外部をキャリアが通過するのを抑制すると共に、前記第2の界面活性剤は、前記超微粒子の伝導帯とトンネル共鳴するように、前記伝導帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのLUMO準位を有していることを特徴としている。 That is, the light- emitting device according to the present invention is a light- emitting device in which a light-emitting layer is formed of an aggregate of quantum dots, and the quantum dot includes a first surfactant and an electron whose surface of ultrafine particles has a hole transporting property. The ultrafine particles include any one of an oxide, a compound semiconductor, and a single semiconductor, and are coated with a second surfactant having a transport property, and the light emitting layer includes an acrylic resin, a polystyrene resin, An insulating material made of a polymer compound formed of one or more selected from the group consisting of a polycarbonate resin, a polyester resin, a polyamide resin, and a polyvinyl resin is filled between the quantum dots, In addition to suppressing the passage of carriers through the outside, the second surfactant is capable of energizing the conduction band so as to resonate with the conduction band of the ultrafine particles. It is characterized by having a LUMO level of -0.2 to + 0.2 eV with respect to Energy levels.

このように界面活性剤が有する配位子のエネルギー準位を調整することによって、トンネル共鳴を利用したキャリア移動を行うことができ、フォノンボトルネックが生じることなく効率の良いキャリア輸送を実現することができる。すなわち、フォノンボトルネックを回避するために、煩雑な成膜プロセスを要する量子井戸層やトンネル層を形成する必要もなく、超微粒子への効率の良いキャリア注入が可能な発光デバイスを実現することが可能となる。   By adjusting the energy level of the ligand in the surfactant in this way, carrier movement using tunnel resonance can be performed, and efficient carrier transport can be realized without causing a phonon bottleneck. Can do. That is, in order to avoid a phonon bottleneck, it is not necessary to form a quantum well layer or a tunnel layer that requires a complicated film formation process, and a light emitting device that can efficiently inject carriers into ultrafine particles can be realized. It becomes possible.

また、本発明の発光デバイスは、前記超微粒子は、コア部と該コア部を被覆するシェル部とからなるコアーシェル構造を有しているのが好ましい。   In the light-emitting device of the present invention, it is preferable that the ultrafine particles have a core-shell structure including a core portion and a shell portion that covers the core portion.

また、本発明の発光デバイスは、前記発光層の一方の主面に正孔輸送層が形成されると共に、前記発光層の他方の主面に電子輸送層が形成されているのが好ましい。   In the light emitting device of the present invention, it is preferable that a hole transport layer is formed on one main surface of the light emitting layer and an electron transport layer is formed on the other main surface of the light emitting layer.

また、上記発光層は、所定のHOMO準位及びLUMO準位を有する第1及び第2の界面活性剤をそれぞれ用意し、これら第1及び第2の界面活性剤を使用して作製された量子ドット分散溶液と絶縁性溶液とを混合させた混合溶液を調製することにより、煩雑な複数の成膜プロセスを要することなく、安価かつ効率良く製造することができる。 In addition, the light emitting layer includes first and second surfactants having predetermined HOMO levels and LUMO levels, respectively, and quantum layers fabricated using these first and second surfactants. By preparing a mixed solution in which a dot dispersion solution and an insulating solution are mixed, it can be manufactured inexpensively and efficiently without requiring a plurality of complicated film forming processes.

すなわち、本発明に係る発光デバイスの製造方法は、価電子帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのHOMO準位を有する正孔輸送性の第1の界面活性剤と、伝導帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのLUMO準位を有する電子輸送性の第2の界面活性剤を用意し、前記第1及び前記第2の界面活性剤で超微粒子を被覆した量子ドット分散溶液を作製する量子ドット分散溶液作製工程と、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びポリビニル系樹脂の群から選択された1種以上の高分子化合物からなる絶縁性材料を用意し、該絶縁性材料を溶媒に溶解させて絶縁性溶液を作製する絶縁性溶液作製工程と、前記量子ドット分散溶液と前記絶縁性溶液とを混合して混合溶液を作製する混合溶液作製工程と、前記混合溶液を使用して発光層を作製する発光層作製工程とを含むことを特徴としている。 That is, the method for manufacturing a light-emitting device according to the present invention includes a hole transporting first surfactant having a HOMO level of −0.2 to +0.2 eV with respect to the energy level of the valence band, An electron transporting second surfactant having a LUMO level of −0.2 to +0.2 eV with respect to the energy level of the band is prepared, and ultrafine particles are formed with the first and second surfactants. One or more selected from the group consisting of an acrylic resin, a polystyrene resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, a polyamide resin, and a polyvinyl resin, and a quantum dot dispersion solution preparation step for preparing a coated quantum dot dispersion solution An insulating material made of a polymer compound of the above, an insulating solution preparation step of preparing an insulating solution by dissolving the insulating material in a solvent, the quantum dot dispersion solution and the insulating property A mixed solution preparing step of preparing mixed to a mixed solution of a liquid, is characterized by including a light-emitting layer manufacturing step of manufacturing a light-emitting layer using the mixed solution.

また、本発明の発光デバイスの製造方法は、透明基板の表面に第1の導電性材料を付与して第1の電極層を形成する第1の電極層形成工程と、前記第1の電極層の表面に正孔輸送性材料を付与し、正孔輸送層を形成する正孔輸送層形成工程と、前記発光層の表面に電子輸送性材料を付与し、電子輸送層を形成する電子輸送層形成工程と、前記電子輸送層の表面に第2の導電性材料を付与して第2の電極層を形成する第2の電極層形成工程とを含み、前記発光層形成工程は、前記正孔輸送層の表面に前記混合溶液を付与して前記発光層を形成するのが好ましい。   Moreover, the manufacturing method of the light-emitting device of this invention provides the 1st electrode layer formation process which provides a 1st electroconductive material on the surface of a transparent substrate, and forms a 1st electrode layer, The said 1st electrode layer A hole transport layer forming step for forming a hole transport layer by providing a hole transport material to the surface of the substrate, and an electron transport layer for forming an electron transport layer by providing an electron transport material to the surface of the light emitting layer A formation step and a second electrode layer formation step of forming a second electrode layer by applying a second conductive material to the surface of the electron transport layer, the light emitting layer formation step including the hole It is preferable to form the light emitting layer by applying the mixed solution to the surface of the transport layer.

これにより隣接する正孔輸送層や電子輸送層が無機材料或いは有機材料のいずれで形成されていても、キャリアの隣接層へのリークが抑制され、超微粒子への注入効率が良好な高品質の発光デバイスを安価かつ高効率で製造することができる。   As a result, regardless of whether the adjacent hole transport layer or electron transport layer is formed of an inorganic material or an organic material, the leakage of the carrier to the adjacent layer is suppressed, and the injection efficiency into the ultrafine particles is high and the quality is high. A light-emitting device can be manufactured inexpensively and with high efficiency.

本発明の発光デバイスによれば、発光層が量子ドットの集合体で形成された発光デバイスにおいて、前記量子ドットは、超微粒子の表面が正孔輸送性を有する第1の界面活性剤と電子輸送性を有する第2の界面活性剤とで被覆されると共に、前記超微粒子は、酸化物、化合物半導体、及び単体半導体のいずれかを含み、かつ、前記発光層は、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びポリビニル系樹脂の群から選択された1種以上で形成された高分子化合物からなる絶縁性材料を前記量子ドット間に充填し、前記量子ドットの外部をキャリアが通過するのを抑制すると共に、前記第1の界面活性剤は、前記超微粒子の価電子帯とトンネル共鳴するように、前記価電子帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのHOMO準位を有し、又は前記第2の界面活性剤は、前記超微粒子の伝導帯とトンネル共鳴するように、前記伝導帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのLUMO準位を有しているので、第1又は第2の界面活性剤はトンネル共鳴を利用してキャリア移動することから、フォノンボトルネックが生じるのが抑制されて迅速かつ効率よくキャリアを輸送することができ、第1の界面活性剤は正孔のみを輸送し、第2の界面活性剤は電子のみを輸送することができる。そして、上記絶縁性材料を量子ドット間に充填することにより、キャリアが超微粒子の外部を通過するのを抑制できることから、キャリアの隣接層へのリークが抑制されて超微粒子の内部に高効率で注入することができ、量子ドット内へのキャリアの注入効率が良好で発光効率や発光色純度が良好な発光デバイスを得ることができる。 According to the light-emitting device of the present invention, in the light-emitting device in which the light-emitting layer is formed of an assembly of quantum dots, the quantum dots include the first surfactant having a hole transport property on the surface of the ultrafine particles and electron transport. coated with a second surfactant having a sexual Rutotomoni, the nanoparticle oxide compound comprises semiconductor, and one of the elemental semiconductor, and the emission layer, an acrylic resin, a polystyrene resin An insulating material made of a polymer compound formed of one or more selected from the group consisting of polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, and polyvinyl resin is filled between the quantum dots, and the quantum dots of the with the carrier inhibits the passage outside said first surfactant, wherein as valence band and tunneling resonance ultrafine particles, of the valence band The energy level of the conduction band has a HOMO level of −0.2 to +0.2 eV with respect to the energy level, or the second surfactant is in tunnel resonance with the conduction band of the ultrafine particles. Since the LUMO level of -0.2 to +0.2 eV with respect to the position, the first or second surfactant moves through the carrier using tunnel resonance, so that a phonon bottleneck occurs. Is suppressed, the carrier can be transported quickly and efficiently, the first surfactant can transport only holes, and the second surfactant can transport only electrons. Then, by filling the insulating material between the quantum dots, the carrier can be prevented from passing outside the ultrafine particles, so that leakage of the carrier to the adjacent layer is suppressed and the ultrafine particles are highly efficient inside. A light-emitting device that can be injected, has good carrier-injection efficiency into the quantum dots, and has good light-emitting efficiency and light-emitting color purity can be obtained.

すなわち、電圧印加により電極に注入されたキャリアは、超微粒子の外部で正孔と電子が再結合することもなく、効率良く超微粒子内に輸送することができ、これにより、膜のキャリア輸送性が高いために膜厚を薄くせねばならない制限もなく、キャリアの超微粒子への注入効率を向上させることが可能となる。
In other words, carriers injected into the electrode by voltage application can be efficiently transported into the ultrafine particles without recombination of holes and electrons outside the ultrafine particles, thereby making the carrier transportability of the film Therefore, it is possible to improve the efficiency of injecting the carrier into the ultrafine particles.

また、本発明の発光デバイスの製造方法によれば、価電子帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのHOMO準位を有する正孔輸送性の第1の界面活性剤と、伝導帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのLUMO準位を有する電子輸送性の第2の界面活性剤を用意し、前記第1及び前記第2の界面活性剤で超微粒子を被覆した量子ドット分散溶液を作製する量子ドット分散溶液作製工程と、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びポリビニル系樹脂の群から選択された1種以上の高分子化合物からなる絶縁性材料を用意し、該絶縁性材料を溶媒に溶解させて絶縁性溶液を作製する絶縁性溶液作製工程と、前記量子ドット分散溶液と前記絶縁性溶液とを混合して混合溶液を作製する混合溶液作製工程と、前記混合溶液を使用して発光層を作製する発光層作製工程とを含むので、フォノンボトルネックの発生を抑制した良好な注入効率を有する発光層を、ドライプロセスのような複数の煩雑な成膜プロセスを要することなく、1プロセスで作製することが可能であり、安価で効率良く製造することができる。 In addition, according to the method for manufacturing a light-emitting device of the present invention, a hole-transporting first surfactant having a HOMO level of −0.2 to +0.2 eV with respect to the energy level of the valence band, An electron transporting second surfactant having a LUMO level of −0.2 to +0.2 eV with respect to the energy level of the conduction band is prepared, and ultrafine particles are formed using the first and second surfactants. Dot dispersion solution preparation step for preparing a quantum dot dispersion solution coated with a resin, and one kind selected from the group of acrylic resin, polystyrene resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, and polyvinyl resin An insulating material made of the above polymer compound is prepared, an insulating solution preparing step of preparing the insulating solution by dissolving the insulating material in a solvent, the quantum dot dispersion solution and the insulating solution A mixed solution preparing step of preparing mixed to a mixed solution of the door, since by using the mixed solution containing a light-emitting layer manufacturing step of manufacturing a light-emitting layer, a good injection efficiency which suppresses the occurrence of phonon bottleneck the light-emitting layer having, without requiring a plurality of complicated deposition processes, such as dry process, it is possible to Seisuru created in one process, can be efficiently produced at low cost.

本発明に係る発光デバイスの一実施の形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the light-emitting device which concerns on this invention. 図1の発光デバイス使用される量子ドットを模式的に示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which shows typically the quantum dot used for the light-emitting device of FIG. 界面活性剤のエネルギー準位と量子ドットの量子化されたキャリアのエネルギー準位の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the energy level of surfactant, and the energy level of the quantized carrier of a quantum dot. トンネル共鳴によるキャリア移動の原理を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the principle of the carrier movement by tunnel resonance. 発光層を原料となる混合溶液の作製手順を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the preparation procedures of the mixed solution which uses a light emitting layer as a raw material. 本発明に係る発光デバイスの製造方法を示す製造工程図(1/2)である。It is a manufacturing process figure (1/2) which shows the manufacturing method of the light emitting device which concerns on this invention. 本発明に係る発光デバイスの製造方法を示す製造工程図(2/2)である。It is a manufacturing process figure (2/2) which shows the manufacturing method of the light-emitting device which concerns on this invention. 実施例試料の発光スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the emission spectrum of an Example sample. 量子ドットをセルフアセンブル法で作製する場合の一般的方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the general method in the case of producing a quantum dot by the self-assembly method. 特許文献1に記載された先行技術を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the prior art described in patent document 1. FIG. 特許文献2に記載された先行技術を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the prior art described in patent document 2. FIG. 特許文献3に記載された先行技術を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the prior art described in patent document 3. FIG. 特許文献3におけるキャリア閉じ込め原理を説明するための模式図である。10 is a schematic diagram for explaining a carrier confinement principle in Patent Document 3. FIG. 特許文献3の課題を説明するための模式図である。10 is a schematic diagram for explaining the problem of Patent Document 3. FIG.

次に、本発明の実施の形態を詳説する。   Next, an embodiment of the present invention will be described in detail.

図1は、本発明に係る発光デバイスとしての発光ダイオードの一実施の形態を模式的に示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment of a light emitting diode as a light emitting device according to the present invention.

この発光ダイオードは、ガラス基板1(透明基板)上に陽極2が形成され、該陽極2の表面に正孔輸送性材料からなる正孔注入層3及び正孔輸送層4が順次形成され、該正孔輸送層4の表面に量子ドット層5の集合体からなる発光層6が形成され、さらに発光層6の表面には電子輸送性材料からなる電子輸送層7が形成され、該電子輸送層7の表面には陰極8が形成されている。   In this light emitting diode, an anode 2 is formed on a glass substrate 1 (transparent substrate), and a hole injection layer 3 and a hole transport layer 4 made of a hole transporting material are sequentially formed on the surface of the anode 2, A light emitting layer 6 made of an assembly of quantum dot layers 5 is formed on the surface of the hole transport layer 4, and an electron transport layer 7 made of an electron transporting material is further formed on the surface of the light emitting layer 6. A cathode 8 is formed on the surface of 7.

量子ドット5は、図2に示すように、ナノ粒子(超微粒子)9がコア部10と該コア部10を保護するシェル部11とを有するコアーシェル構造からなり、該シェル部11の表面が正孔輸送性を有する正孔輸送性界面活性剤(第1の界面面活性剤)12と電子輸送性を有する電子輸送性界面活性剤(第2の界面活性剤)13とで被覆されている。そして、正孔輸送層4から輸送されてきた正孔と電子輸送層7から輸送されてきた電子とが、ナノ粒子9のコア部10に注入されて正孔と電子とがコア部10内で再結合し、励起子発光する。   As shown in FIG. 2, the quantum dot 5 has a core-shell structure in which nanoparticles (ultrafine particles) 9 have a core portion 10 and a shell portion 11 that protects the core portion 10, and the surface of the shell portion 11 is normal. It is covered with a hole transporting surfactant (first surfactant) 12 having a hole transporting property and an electron transporting surfactant (second surfactant) 13 having an electron transporting property. Then, the holes transported from the hole transport layer 4 and the electrons transported from the electron transport layer 7 are injected into the core part 10 of the nanoparticles 9, and the holes and electrons are injected into the core part 10. Recombines and emits excitons.

ここで、コア部10を形成するコア材料としては、光電変換作用を奏する半導体材料であれば特に限定されるものではなく、InP、CdSe、CdS、PbSe等を使用することができ、また、シェル部11を構成するシェル材料としては、例えばZnSを使用することができる。   Here, the core material for forming the core portion 10 is not particularly limited as long as it is a semiconductor material having a photoelectric conversion effect, and InP, CdSe, CdS, PbSe, or the like can be used. As a shell material constituting the portion 11, for example, ZnS can be used.

上記正孔輸送性界面活性剤12としては、低分子の正孔輸送層用材料に配位子を導入した材料を使用することができる。   As the hole transporting surfactant 12, a material in which a ligand is introduced into a low molecular weight hole transport layer material can be used.

ここで、低分子の正孔輸送層用材料としては、例えば、化学式(1)で表わされるN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−1,1′−ビフェニル−4,4′−ジアミン(以下、「TPD」という。)、化学式(2)で表わされる4,4′−ビス[N-(1-ナフチル)−N-フェニル−アミノ]ビフェニル(以下、「α−NPD」という。)、化学式(3)で表わされる4,4′,4″−トリス(2-ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(以下、「2−TNATA」という。)、化学式(4)で表わされるN,N′−7−ジ(1−ナフチル)−N,N′−ジフェニル−4,4′−ジアミノビフェニル(以下、「Spiro-NPB」という。)、化学式(5)で表わされる4,4′,4″−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(以下、「m−MTDATA」という。)、及びこれらの誘導体を使用することができる。   Here, as a material for a low molecular weight hole transport layer, for example, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-biphenyl represented by the chemical formula (1) is used. -4,4'-diamine (hereinafter referred to as "TPD"), 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino] biphenyl represented by the chemical formula (2) α-NPD ”), 4,4 ′, 4 ″ -tris (2-naphthylphenylamino) triphenylamine (hereinafter referred to as“ 2-TNATA ”) represented by chemical formula (3), chemical formula (4) N, N′-7-di (1-naphthyl) -N, N′-diphenyl-4,4′-diaminobiphenyl (hereinafter referred to as “Spiro-NPB”) represented by the chemical formula (5) 4,4 ′, 4 ″ -tris (3-methylphenylpheny Ruamino) triphenylamine (hereinafter referred to as “m-MTDATA”) and derivatives thereof can be used.

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また、配位子としては、極性基であれば特に限定されるものではなく、例えば、チオール基(−SH)、アミノ基(−NH)、カルボキシル基(−COOH)、カルボニル基(−CO)、ニトロ基(−NO)、ホスフィノ基(−PH)、ホスホロソ基(−PO)等を1つ又は2つ以上使用することができる。The ligand is not particularly limited as long as it is a polar group. For example, a thiol group (—SH), an amino group (—NH 2 ), a carboxyl group (—COOH), a carbonyl group (—CO). ), A nitro group (—NO 2 ), a phosphino group (—PH 2 ), a phosphoroso group (—PO), or the like can be used.

したがって、正孔輸送性界面活性剤12としては、例えば、TPDにチオール基を導入したTPD−チオール配位子、α−NPDにアミノ基を導入したα−NPD−アミノ配位子等を使用することができる。そして、配位子の導入個数が1つの場合は、非極性溶媒に分散させることができ、配位子の導入個数が2つ以上の場合は極性溶媒にも分散させることができる。   Therefore, as the hole transporting surfactant 12, for example, a TPD-thiol ligand in which a thiol group is introduced into TPD, an α-NPD-amino ligand in which an amino group is introduced into α-NPD, or the like is used. be able to. When the number of introduced ligands is one, it can be dispersed in a nonpolar solvent, and when the number of ligands introduced is two or more, it can also be dispersed in a polar solvent.

尚、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン):ポリ(スチレンスルフォネート)(以下、「PEDOT:PSS」という。)のような高分子材料は、正孔輸送層用材料としては好適に使用することができるが、正孔輸送性界面活性剤用材料に使用するのは好ましくない。高分子材料は、分子サイズが大きく、これが立体障害となるため、隣接距離を短くすることができず、その結果、ナノ粒子9の表面被覆率が低下して量子収率の低下を招いたり、量子ドット5の面密度を上げることができない。   A polymer material such as poly (3,4-ethylenedioxythiophene): poly (styrenesulfonate) (hereinafter referred to as “PEDOT: PSS”) is preferably used as the material for the hole transport layer. Although it can be used, it is not preferable to use it as a material for a hole transporting surfactant. Since the polymer material has a large molecular size, which becomes a steric hindrance, the adjacent distance cannot be shortened. As a result, the surface coverage of the nanoparticles 9 decreases, leading to a decrease in quantum yield, The surface density of the quantum dots 5 cannot be increased.

また、電子輸送性界面活性剤13としては、電子輸送層用材料に配位子を導入した材料を使用することができる。   Further, as the electron transporting surfactant 13, a material in which a ligand is introduced into the electron transporting layer material can be used.

ここで、電子輸送層用材料としては、例えば、化学式(6)で表わされるトリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(以下、「Alq3」という。)、化学式(7)で表わされる2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(以下、「PBD」という。)、化学式(8)で表わされる2,2′,2″−(1,3,5−ベンジニトリル)−トリス(1−フェニル−1−H−ベンゾイミダゾール(以下、「TPBi」という。)、化学式(9)で表わされる2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(以下、「BCP」という。)、化学式(10)で表わされる3−(ベンゾチアゾール−2−イル)−7−(ジエチルアミノ)−2H−1−ベンゾピラン−2−オン(以下、「クマリン6」という。)、化学式(11)で表わされるビス(2−メチル−8−キノリノラート)−4−(フェニルフェノラート)アルミニウム(以下、「BAlq」という。)、化学式(12)で表わされる4,4′−ビス(9−カルバゾリル)−2,2′−ジメチルビフェニル(以下、「CDBP」という。)、及びこれらの誘導体を使用することができる。   Here, as the electron transport layer material, for example, tris (8-hydroxyquinoline) aluminum (hereinafter, referred to as “Alq3”) represented by the chemical formula (6), 2- (4-) represented by the chemical formula (7). Biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (hereinafter referred to as “PBD”), 2,2 ′, 2 ″-(1 represented by the chemical formula (8) , 3,5-benzonitrile) -tris (1-phenyl-1-H-benzimidazole (hereinafter referred to as “TPBi”), 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl- represented by the chemical formula (9) 1,10-phenanthroline (hereinafter referred to as “BCP”), 3- (benzothiazol-2-yl) -7- (diethylamino) -2H-1-benzopyran-2- represented by the chemical formula (10) (Hereinafter referred to as “coumarin 6”), bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4- (phenylphenolate) aluminum (hereinafter referred to as “BAlq”) represented by chemical formula (11), chemical formula ( 4,4′-bis (9-carbazolyl) -2,2′-dimethylbiphenyl (hereinafter referred to as “CDBP”) represented by 12) and derivatives thereof can be used.

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また、配位子としては、正孔輸送性界面活性剤12と同様、極性基であれば特に限定されるものではなく、例えば、チオール基(−SH)、アミノ基(−NH)、カルボキシル基(−COOH)、カルボニル基(−CO)、ニトロ基(−NO)、ホスフィノ基(−PH)、ホスホロソ基(−PO)等を使用することができる。The ligand is not particularly limited as long as it is a polar group, like the hole transporting surfactant 12. For example, a thiol group (—SH), amino group (—NH 2 ), carboxyl A group (—COOH), a carbonyl group (—CO), a nitro group (—NO 2 ), a phosphino group (—PH 2 ), a phosphoroso group (—PO) and the like can be used.

したがって、電子輸送性界面活性剤13としては、例えば、PBDにチオール基を導入したPBD−チオール配位子、BCPにアミノ基を導入したBCP−アミノ配位子等を使用することができる。   Therefore, as the electron transporting surfactant 13, for example, a PBD-thiol ligand in which a thiol group is introduced into PBD, a BCP-amino ligand in which an amino group is introduced into BCP, or the like can be used.

このように正孔輸送性界面活性剤12と電子輸送性界面活性剤13とが併存した状態でナノ粒子9の表面を被覆することにより、正孔のみ、及び電子のみがそれぞれの界面活性剤(正孔輸送性界面活性剤12及び電子輸送性界面活性剤13)を介して輸送される。そしてその結果、界面活性剤中での電子−正孔の再結合が抑制され、効率の良いキャリア(電子及び正孔)の輸送が可能となる。   Thus, by covering the surface of the nanoparticle 9 in the state where the hole transporting surfactant 12 and the electron transporting surfactant 13 coexist, only the holes and the electrons only have the respective surfactants ( It is transported via a hole transporting surfactant 12 and an electron transporting surfactant 13). As a result, electron-hole recombination in the surfactant is suppressed, and efficient carrier (electron and hole) transport becomes possible.

また、発光層6は、量子ドット5の間隙に絶縁性材料14が充填されている。   In the light emitting layer 6, the gap between the quantum dots 5 is filled with an insulating material 14.

量子ドット5内、すなわち量子ドット5のコア部10内でキャリアを再結合させて効率よく励起子発光させるためには、量子ドット5の近傍に輸送されてきたキャリアをコア部10内に効率的に注入する必要がある。   In order to recombine carriers in the quantum dot 5, that is, in the core part 10 of the quantum dot 5, to efficiently emit excitons, carriers transported in the vicinity of the quantum dot 5 are efficiently contained in the core part 10. Need to be injected into.

しかしながら、ナノ粒子9の表面は正孔輸送性界面活性剤12及び電子輸送性界面活性剤13の配位子によって被覆されているため、量子ドット5の面密度を向上させてもナノ粒子9間には一定の間隙が生じる。したがって、キャリアは、ナノ粒子9のコア部10内に効率良くキャリアの注入されずに、コア部10の外部で再結合したり、或いは互いに対向する正孔輸送層3又は電子輸送層7に流れてしまい、その結果、発光色純度や発光効率の低下を招くおそれがある。   However, since the surfaces of the nanoparticles 9 are covered with the ligands of the hole transporting surfactant 12 and the electron transporting surfactant 13, even if the surface density of the quantum dots 5 is improved, the space between the nanoparticles 9 is increased. A certain gap is generated in. Therefore, the carriers are not efficiently injected into the core portion 10 of the nanoparticles 9 and recombined outside the core portion 10 or flow into the hole transport layer 3 or the electron transport layer 7 facing each other. As a result, the emission color purity and emission efficiency may be reduced.

そこで、本実施の形態では、量子ドット5間の間隙を緻密で耐電圧性に優れた絶縁性材料14で充填している。   Therefore, in the present embodiment, the gaps between the quantum dots 5 are filled with a dense insulating material 14 having excellent voltage resistance.

このような絶縁性材料としては、高分子化合物が好ましい。無機材料の場合は結晶粒界が形成されるため、キャリアはナノ粒子9のコア部10に注入されずに、前記結晶粒界を伝わるような形態で該ナノ粒子9の周辺を通過したり、或いは結晶粒界で電子と正孔が再結合するおそれがあり、好ましくない。   As such an insulating material, a polymer compound is preferable. In the case of an inorganic material, a crystal grain boundary is formed, so that the carrier is not injected into the core part 10 of the nanoparticle 9 and passes around the nanoparticle 9 in such a form as to propagate through the crystal grain boundary, Alternatively, electrons and holes may recombine at the grain boundary, which is not preferable.

そして、このような高分子化合物としては、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)やポリアクリレート等のアクリル系樹脂、単独重合スチレンやアクリルニトリル−スチレンモノマー共重合体(AS)或いはアクリルニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)等のポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ酢酸ビニルやポリ塩化ビニル等のポリビニル系樹脂を使用することができる。 Then, as such a polymer compound, Po Li methacrylate (PMMA) or acrylic resins polyacrylates, homopolymers of styrene and acrylonitrile - styrene monomer copolymer (AS) or acrylonitrile - butadiene - styrene copolymer (ABS) or the like of the polystyrene resin, polycarbonate resin, polyamide resin such as nylon, polyester resin, a polyvinyl-based resins such as polyvinyl acetate and polyvinyl chloride may be used.

このように形成された発光ダイオードでは、電圧が印加されると、陽極2及び陰極8にキャリアが注入される。そして、注入されたキャリアのうち、陽極2に注入された正孔は、正孔輸送性界面活性剤12のバルクへテロ的なネットワーク内を伝ってナノ粒子9内に注入される。一方、陰極8に注入された電子は、電子輸送性界面活性剤13のバルクへテロ的なネットワークの内部を伝ってナノ粒子9内に注入され、コア部10内で正孔と電子とが再結合し、発光する。   In the light emitting diode thus formed, carriers are injected into the anode 2 and the cathode 8 when a voltage is applied. Of the injected carriers, the holes injected into the anode 2 are injected into the nanoparticles 9 along the bulk heterogeneous network of the hole transporting surfactant 12. On the other hand, the electrons injected into the cathode 8 are injected into the nanoparticles 9 through the bulk hetero network of the electron transporting surfactant 13, and the holes and electrons are regenerated in the core 10. Combine and emit light.

このように本実施の形態では、正孔及び電子は、量子ドット5の間隙に流れ込むこともなく、正孔輸送性界面活性剤12及び電子輸送性界面活性剤13を介してそれぞれ別経路でナノ粒子9の内部に輸送されるので、正孔と電子とは輸送中に近づいて再結合することがなく、10μmレベルの比較的厚い膜厚でも効率良く輸送することができる。そしてこれにより電気信号から光信号への光電変換を高効率で行なうことができる。   As described above, in the present embodiment, holes and electrons do not flow into the gaps of the quantum dots 5, but are separated through the hole transporting surfactant 12 and the electron transporting surfactant 13 through different paths. Since they are transported inside the particles 9, the holes and electrons do not approach and recombine during transport, and can be transported efficiently even with a relatively thick film thickness of 10 μm level. Thus, photoelectric conversion from an electrical signal to an optical signal can be performed with high efficiency.

図3は、各界面活性剤12、13のエネルギー準位とナノ粒子9の量子化されたキャリアのエネルギー準位の関係を示す図である。   FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the energy levels of the surfactants 12 and 13 and the energy levels of the quantized carriers of the nanoparticles 9.

正孔輸送性界面活性剤12は、正孔が移動できるエネルギー帯であるコア部10の価電子帯のエネルギー準位(以下、「価電子帯準位」という。)15とトンネル共鳴するようなHOMO準位16を有し、電子輸送性界面活性剤13は、電子が移動できるエネルギー帯であるナノ粒子9のコア部10の伝導帯のエネルギー準位(以下、「伝導帯準位」という。)17とトンネル共鳴するようなLUMO準位18を有している。   The hole transporting surfactant 12 tunnels with a valence band energy level 15 (hereinafter referred to as “valence band level”) 15 of the core 10 which is an energy band in which holes can move. The electron transporting surfactant 13 having the HOMO level 16 is an energy level (hereinafter referred to as “conduction band level”) of the conduction band of the core portion 10 of the nanoparticle 9 which is an energy band in which electrons can move. ) Having a LUMO level 18 that is in tunnel resonance with 17.

そして、このようにトンネル共鳴を利用することにより、キャリアは容易にエネルギー障壁を通り抜けることができ、効率の良いキャリア移動を実現することが可能となる。   By using tunnel resonance in this way, carriers can easily pass through the energy barrier, and efficient carrier movement can be realized.

図4は、トンネル共鳴によるキャリア移動の原理を示す模式図である。   FIG. 4 is a schematic diagram showing the principle of carrier movement by tunnel resonance.

ナノ粒子9は、上述したようにコア部10とシェル部11とからなる。そして、シェル部11は通常1nm以下の超薄膜であるため、トンネル効果によりキャリアは容易に通過するが、コア部10と界面活性剤12、13との間のキャリア移動も迅速に行なってキャリアの輸送効率を向上させるのが望ましい。   The nanoparticle 9 is composed of the core portion 10 and the shell portion 11 as described above. Since the shell portion 11 is usually an ultra-thin film having a thickness of 1 nm or less, carriers easily pass by the tunnel effect. However, the carrier movement between the core portion 10 and the surfactants 12 and 13 is also performed quickly, so It is desirable to improve transportation efficiency.

しかしながら、正孔輸送性界面活性剤12のHOMO準位16′とコア部10の価電子帯準位15とがトンネル共鳴しないような大きなエネルギー準位差を有する場合は、矢印A′に示すようにエネルギー障壁を乗り越えるようにして正孔は移動する。同様に、電子輸送性界面活性剤13のLUMO準位18′とコア部10の伝導帯準位17とがトンネル共鳴しないような大きなエネルギー準位差を有する場合は、矢印B′に示すようにエネルギー障壁を乗り越えるようにして電子は移動する。   However, when the HOMO level 16 'of the hole transporting surfactant 12 and the valence band level 15 of the core part 10 have a large energy level difference that does not cause tunnel resonance, as indicated by an arrow A'. Holes move so as to overcome the energy barrier. Similarly, when the LUMO level 18 'of the electron transporting surfactant 13 and the conduction band level 17 of the core part 10 have a large energy level difference that does not cause tunnel resonance, as indicated by an arrow B'. Electrons move so as to overcome the energy barrier.

しかも、ナノ粒子系ではフォノンの移動が遅く、フォノンの遅い移動に律速されてフォノンボトルネックが生じるため、キャリアの迅速な移動が困難となる。   In addition, in the nanoparticle system, the movement of phonons is slow, and the phonon bottleneck is generated due to the slow movement of phonons, which makes it difficult to move the carriers quickly.

そこで、本実施の形態では、正孔輸送性界面活性剤12が、コア部10の価電子帯準位15とトンネル共鳴するようなHOMO準位16を有し、また、電子輸送性界面活性剤13が、コア部10の伝導帯準位17とトンネル共鳴するようなLUMO準位18を有するようにし、これにより矢印A、Bに示すようにキャリアの移動を迅速に行ない、キャリアの輸送効率向上を図っている。   Therefore, in the present embodiment, the hole transporting surfactant 12 has a HOMO level 16 that is in tunnel resonance with the valence band level 15 of the core portion 10, and the electron transporting surfactant. 13 has a LUMO level 18 that is in tunnel resonance with the conduction band level 17 of the core portion 10, thereby rapidly moving carriers as indicated by arrows A and B, and improving carrier transport efficiency. I am trying.

尚、このようなトンネル共鳴を生じさせるためには、正孔輸送性界面活性剤12のHOMO準位16は、コア部10の価電子帯準位15に対し−0.2〜+0.2eVの範囲が好ましく、例えば、コア部10にInP(価電子帯準位:5.7eV)を使用する場合は、TPD−チオール配位子(HOMO準位:5.6eV)を使用することができる。   In order to generate such tunnel resonance, the HOMO level 16 of the hole transporting surfactant 12 is −0.2 to +0.2 eV with respect to the valence band level 15 of the core 10. For example, when InP (valence band level: 5.7 eV) is used for the core portion 10, a TPD-thiol ligand (HOMO level: 5.6 eV) can be used.

また、電子輸送性界面活性剤13のLUMO準位18は、コア部10の伝導帯準位17に対し−0.2〜+0.2eVの範囲が好ましく、例えば、コア部10にInP(伝導帯準位:約3eV)を使用する場合は、BCP−アミノ配位子(LUMO準位:3.2eV)を使用することができる。   The LUMO level 18 of the electron transporting surfactant 13 is preferably in the range of −0.2 to +0.2 eV with respect to the conduction band level 17 of the core part 10. For example, the core part 10 has InP (conduction band). When using a level (about 3 eV), a BCP-amino ligand (LUMO level: 3.2 eV) can be used.

次に、上記発光ダイオードの製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the light emitting diode will be described.

ナノ粒子9は、上述したように種々の材料を使用して作製することができるが、下記の実施の形態では、コア部10にInP、シェル部11にZnSを使用した場合を例に説明する。   As described above, the nanoparticles 9 can be manufactured using various materials. In the following embodiment, the case where InP is used for the core portion 10 and ZnS is used for the shell portion 11 will be described as an example. .

図5は量子ドット分散溶液の作製手順を示す製造工程図である。   FIG. 5 is a production process diagram showing the procedure for producing the quantum dot dispersion solution.

まず、図5(a)に示すように、InP/ZnSをナノ粒子9とする原料溶液19を作製する。   First, as shown in FIG. 5A, a raw material solution 19 containing InP / ZnS nanoparticles 9 is prepared.

すなわち、例えば、酢酸インジウム、ミリスチン酸及びオクタデセンを容器中で混合し、窒素雰囲気中、撹拌して溶解させ、これによりインジウム前駆体溶液を調製する。さらに、窒素雰囲気中、トリストリメチルシリルホスフィン、オクチルアミン、オクタデセンを混合し、これによりリン前駆体溶液を調製する。   That is, for example, indium acetate, myristic acid and octadecene are mixed in a container and dissolved by stirring in a nitrogen atmosphere, thereby preparing an indium precursor solution. Further, tristrimethylsilylphosphine, octylamine, and octadecene are mixed in a nitrogen atmosphere, thereby preparing a phosphorus precursor solution.

次いで、インジウム前駆体溶液を所定温度(例えば、190℃)に加熱し、この加熱溶液中にリン前駆体溶液を注入する。すると、高温により活性度の高い前駆体同士が反応し、インジウムとリンが結合して核を形成し、その後周囲の未反応成分と反応して結晶成長が起り、これによりInP量子ドットが作製される。   Next, the indium precursor solution is heated to a predetermined temperature (for example, 190 ° C.), and the phosphorus precursor solution is injected into the heated solution. Then, precursors with high activity react with each other at a high temperature, indium and phosphorus combine to form nuclei, and then react with surrounding unreacted components to cause crystal growth, thereby producing InP quantum dots. The

次に、酸化亜鉛をステアリン酸に溶解させた酸化亜鉛溶液、及びイオウをステアリン酸に溶解させたイオウ溶液を用意する。   Next, a zinc oxide solution in which zinc oxide is dissolved in stearic acid and a sulfur solution in which sulfur is dissolved in stearic acid are prepared.

次いで、所定温度(例えば、150℃)に調整されたInP量子ドット溶液に酸化亜鉛溶液及びイオウ溶液を交互に微量ずつ滴下し、加熱・冷却し、洗浄して溶液中の過剰有機成分を除去する。そしてこの後、ヘキサデシルアミン(以下、「HDA」という。)等の有機化合物からなる界面活性剤を添加しつつ、分散溶媒、例えばヘキサン中に分散させ、これにより界面活性剤で被覆されたInP/ZnSをナノ粒子9とするInP/ZnS分散溶液、すなわち原料溶液19が作製される。   Next, a small amount of zinc oxide solution and sulfur solution are alternately added dropwise to an InP quantum dot solution adjusted to a predetermined temperature (for example, 150 ° C.), heated and cooled, and washed to remove excess organic components in the solution. . After that, while adding a surfactant made of an organic compound such as hexadecylamine (hereinafter referred to as “HDA”), it is dispersed in a dispersion solvent, for example, hexane, whereby InP coated with the surfactant. An InP / ZnS dispersion solution with / nZS as nanoparticles 9, that is, a raw material solution 19 is prepared.

次いで、正孔輸送性界面活性剤12及び電子輸送性界面活性剤13を等量ずつ秤量し、有機溶媒、例えばヘキサンに溶解させ、図5(b)に示すように、界面活性剤溶液20を作製する。   Next, the hole-transporting surfactant 12 and the electron-transporting surfactant 13 are weighed in equal amounts and dissolved in an organic solvent, for example, hexane. As shown in FIG. Make it.

次いで、原料溶液19と界面活性剤溶液20とを、界面活性剤溶液20が原料溶液19に対して2倍程度の混合比率となるように混合し、配位子置換を行う。   Next, the raw material solution 19 and the surfactant solution 20 are mixed so that the surfactant solution 20 has a mixing ratio of about twice that of the raw material solution 19 to perform ligand substitution.

すなわち、界面活性剤溶液20が原料溶液19よりも2倍程度多い状態で原料溶液19と界面活性剤溶液20とを混合し、十分に長い時間放置すると、正孔輸送性界面活性剤12及び電子輸送性界面活性剤13とが等量ずつ存在することから、原料溶液19中の界面活性剤が界面活性剤溶液20中の正孔輸送性界面活性剤12及び電子輸送性界面活性剤13と置換され、これにより、図5(c)に示すように、正孔輸送性界面活性剤12と電子輸送性界面活性剤13とが併存した量子ドット5を有する配位子置換溶液21が得られる。   That is, when the raw material solution 19 and the surfactant solution 20 are mixed in a state where the surfactant solution 20 is about twice as many as the raw material solution 19 and left for a sufficiently long time, the hole transporting surfactant 12 and the electrons are mixed. Since the transporting surfactant 13 is present in an equal amount, the surfactant in the raw material solution 19 is replaced with the hole transporting surfactant 12 and the electron transporting surfactant 13 in the surfactant solution 20. Thus, as shown in FIG. 5C, a ligand substitution solution 21 having quantum dots 5 in which the hole transporting surfactant 12 and the electron transporting surfactant 13 coexist is obtained.

尚、ナノ粒子9同士の凝集を避けるために、HDA等の有機化合物からなる界面活性剤でナノ粒子9を被覆しているが、界面活性剤として通常の有機化合物を使用して発光層を形成しても、有機分子に起因した界面活性剤の低導電性のために電位障壁が大きく、このためキャリア(正孔及び電子)を介した発光効率が低下するおそれがある。   In order to avoid aggregation of the nanoparticles 9, the nanoparticles 9 are covered with a surfactant made of an organic compound such as HDA, but a light emitting layer is formed using a normal organic compound as the surfactant. Even so, the potential barrier is large due to the low conductivity of the surfactant due to the organic molecules, which may reduce the light emission efficiency via the carriers (holes and electrons).

また、界面活性剤として導電性高分子や金属系材料を使用した場合は、電圧印加により電極に注入されたキャリアは、陽極から陰極へ、又は陰極から陽極へと界面活性剤中を通過してしまい、キャリアを量子ドット内に効率良く閉じ込めるのは困難である。   In addition, when a conductive polymer or a metal-based material is used as a surfactant, carriers injected into the electrode by voltage application pass through the surfactant from the anode to the cathode or from the cathode to the anode. Therefore, it is difficult to efficiently confine the carriers in the quantum dots.

これに対し本実施の形態では、配位子置換を行ってナノ粒子9を正孔輸送性の配位子を有する正孔輸送性界面活性剤12、及び電子輸送性の配位子を有する電子輸送性界面活性剤12で被覆し、これにより電子のみ、又は正孔のみを効率良く輸送できるようにし、キャリアのナノ粒子9への注入効率向上を図っている。   On the other hand, in this embodiment, ligand substitution is performed to form nanoparticles 9 as a hole transporting surfactant 12 having a hole transporting ligand and an electron having an electron transporting ligand. It coat | covers with the transportable surfactant 12, and it enables it to transport only an electron or a hole efficiently by this, and the injection | pouring efficiency to the nanoparticle 9 of a carrier is aimed at.

次に、配位子置換溶液21に大量のメタノール等の有機溶剤を投入し、遠心分離機等で分離し、上澄み液を除去した後、図5(d)に示すように、真空乾燥させて溶剤成分を完全に除去する。   Next, a large amount of an organic solvent such as methanol is added to the ligand substitution solution 21, separated by a centrifuge, etc., and the supernatant liquid is removed, followed by vacuum drying as shown in FIG. The solvent component is completely removed.

次いで、量子ドット5を、絶縁性材料14が溶解可能な分散溶媒に溶解させ、これにより図5(e)に示すように、量子ドット分散溶液22を作製する。   Next, the quantum dots 5 are dissolved in a dispersion solvent in which the insulating material 14 can be dissolved, thereby producing a quantum dot dispersion solution 22 as shown in FIG.

一方、図5(f)に示すように、絶縁性材料14を前記分散溶媒と同種の有機溶媒に溶解させて絶縁性溶液23を作製する。   On the other hand, as shown in FIG. 5 (f), the insulating material 14 is dissolved in the same organic solvent as the dispersion solvent to produce the insulating solution 23.

そして、量子ドット分散溶液22と絶縁性溶液23とを混合させ、図5(g)に示すように、混合溶液24を作製する。   And the quantum dot dispersion | distribution solution 22 and the insulating solution 23 are mixed, and the mixed solution 24 is produced as shown in FIG.5 (g).

尚、絶縁性材料14を溶解させる有機溶媒は、使用する絶縁性材料14に応じて適宜選択することができる。   The organic solvent for dissolving the insulating material 14 can be appropriately selected according to the insulating material 14 to be used.

すなわち、有機溶媒としては、例えば、絶縁性材料14にアクリル系樹脂やポリカーボネート樹脂、ポリエステル系樹脂を使用する場合は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、トリクレン、クロロベンゼン、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素含有炭化水素、エステル系有機化合物、ケトン系有機化合物等を使用することができる。絶縁性材料14にポリスチレン系樹脂を使用する場合は、上述した芳香族炭化水素、塩素含有炭化水素の他、アセトン、メタノール、エタノール等を使用することができる。また、絶縁性材料14にポリアミド系樹脂を使用する場合は、フェノールやメタノールを使用することができる。さらにポリ酢酸ビニル樹脂を絶縁性材料14に使用する場合は、上述した芳香族炭化水素、塩素含有炭化水素の他、アニリン、ピリジンを使用することができ、ポリ塩化ビニル樹脂を使用する場合は、上述した塩素含有炭化水素やアセトンを使用することができる。
That is, as the organic solvent, For example, an acrylic resin or polycarbonate resin insulation material 14, when using a polyester resin, benzene, toluene, xylene and like aromatic hydrocarbons, trichlorethylene, chlorobenzene, dichloroethane, Chlorine-containing hydrocarbons such as chloroform, ester organic compounds, ketone organic compounds, and the like can be used. In the case where a polystyrene resin is used for the insulating material 14, acetone, methanol, ethanol or the like can be used in addition to the aromatic hydrocarbon and chlorine-containing hydrocarbon described above. Moreover, when using a polyamide-type resin for the insulating material 14, phenol and methanol can be used. Furthermore, when using a polyvinyl acetate resin for the insulating material 14, in addition to the above-mentioned aromatic hydrocarbon and chlorine-containing hydrocarbon, aniline and pyridine can be used, and when using a polyvinyl chloride resin, The chlorine-containing hydrocarbons and acetone described above can be used.

そして、このような高分子化合物に溶解する有機溶媒に応じて量子ドット分散溶液22の分散溶媒が選択される。例えば、絶縁性材料14にPMMAを使用する場合は、PMMAが溶解するトルエンを絶縁性溶液23の有機溶媒及び量子ドット分散溶液22の分散溶媒に選択することができる。そして、この選択された分散溶媒に分散可能な正孔輸送性界面活性剤12及び電子輸送性界面活性剤13が使用される。   And the dispersion solvent of the quantum dot dispersion solution 22 is selected according to the organic solvent which melt | dissolves in such a high molecular compound. For example, when PMMA is used for the insulating material 14, toluene in which PMMA is dissolved can be selected as an organic solvent for the insulating solution 23 and a dispersion solvent for the quantum dot dispersion solution 22. Then, a hole transporting surfactant 12 and an electron transporting surfactant 13 dispersible in the selected dispersion solvent are used.

図6及び図7は上記発光ダイオードの製造方法を示す製造工程図である。   6 and 7 are manufacturing process diagrams showing the manufacturing method of the light emitting diode.

図6(a)に示すように、スパッタ法によりガラス基板1上にITO膜を成膜し、UVオゾン処理を行い、膜厚100nm〜150nmの陽極2を形成する。   As shown in FIG. 6A, an ITO film is formed on the glass substrate 1 by sputtering and UV ozone treatment is performed to form an anode 2 having a thickness of 100 nm to 150 nm.

次に、正孔注入層用界面活性剤溶液(以下、「正孔注入層用溶液」という。)を用意する。ここで、正孔注入層用材料としては、正孔輸送層用材料と同様の材料を使用することができ、例えば、PEDOT:PSS等を使用することができる。   Next, a surfactant solution for a hole injection layer (hereinafter referred to as “hole injection layer solution”) is prepared. Here, as the material for the hole injection layer, the same material as the material for the hole transport layer can be used, for example, PEDOT: PSS or the like can be used.

そして、スピンコート法等を使用して正孔注入層用溶液を陽極2上に塗布し、図6(b)に示すように、膜厚20nm〜30nmの正孔注入層3を形成する。   Then, a hole injection layer solution is applied onto the anode 2 by using a spin coating method or the like to form a hole injection layer 3 having a film thickness of 20 nm to 30 nm as shown in FIG.

次に、正孔注入層用材料よりもHOMO準位の低いエネルギーを有する正孔輸送層用界面活性剤溶液(以下、「正孔輸送層用溶液」という。)を用意する。ここで、例えば、PEDOT:PSSを正孔注入層用材料に使用した場合は、正孔輸送層用材料として、該PEDOT:PSSよりもHOMO準位の低いポリ−TPD等を使用することができる。   Next, a hole transport layer surfactant solution (hereinafter referred to as a “hole transport layer solution”) having an energy having a lower HOMO level than the hole injection layer material is prepared. Here, for example, when PEDOT: PSS is used as the material for the hole injection layer, poly-TPD having a HOMO level lower than that of the PEDOT: PSS can be used as the material for the hole transport layer. .

そして、スピンコート法等を使用して正孔輸送層用溶液を正極注入層3上に塗布し、図6(c)に示すように、膜厚60nm〜70nmの正孔輸送層4を形成する。   Then, a hole transport layer solution is applied onto the positive electrode injection layer 3 by using a spin coat method or the like to form a hole transport layer 4 having a film thickness of 60 nm to 70 nm as shown in FIG. .

尚、上記正孔注入層3は、正孔の輸送性を向上させるために設けたものであることから、正孔輸送層4が正孔注入層3を兼用してもよく、この場合は正孔輸送層4をポリ−TPDのみで形成し、正孔注入層3を省略することができる。   Since the hole injection layer 3 is provided to improve the hole transportability, the hole transport layer 4 may also be used as the hole injection layer 3. The hole transport layer 4 can be formed of only poly-TPD, and the hole injection layer 3 can be omitted.

次に、上述した混合溶液24を用意する。   Next, the above-described mixed solution 24 is prepared.

そして、スピンコート法等を使用し、混合溶液24を正孔輸送層4上に塗布し、図7(d)に示すように、積層構造を有する膜厚300nm〜1000nmの発光層6を形成する。   Then, using a spin coating method or the like, the mixed solution 24 is applied onto the hole transport layer 4 to form the light emitting layer 6 having a laminated structure and a film thickness of 300 nm to 1000 nm as shown in FIG. .

次に、Alq3等の電子輸送性材料を使用し、図7(e)に示すように、真空蒸着法で発光層6の表面に膜厚50nm〜70nmの電子輸送層7を形成する。   Next, using an electron transporting material such as Alq3, as shown in FIG. 7E, the electron transporting layer 7 having a film thickness of 50 nm to 70 nm is formed on the surface of the light emitting layer 6 by vacuum deposition.

そして、図7(f)に示すように、LiF、Al等を使用し、真空蒸着法で膜厚100nm〜300nmの陰極8を形成し、これにより発光ダイオードが作製される。   And as shown in FIG.7 (f), LiF, Al, etc. are used, The cathode 8 with a film thickness of 100 nm-300 nm is formed by a vacuum evaporation method, Thereby, a light emitting diode is produced.

このように本実施の形態では、正孔輸送性界面活性剤12及び電子輸送性界面活性剤13でナノ粒子9を被覆した量子ドット分散溶液22を作製する一方、高分子化合物からなる絶縁性材料14を溶媒に溶解させて絶縁性溶液23を作製し、量子ドット分散溶液22と絶縁性溶液23とを混合して混合溶液24を作製し、この混合溶液24を正孔輸送層4の表面に塗付して発光層6を形成しているので、ドライプロセスのような複数の煩雑な成膜プロセスを要することなく、1プロセスで発光層を作製することが可能となり、安価で効率良く製造することができる。   As described above, in this embodiment, the quantum dot dispersion solution 22 in which the nanoparticles 9 are coated with the hole transporting surfactant 12 and the electron transporting surfactant 13 is produced, while the insulating material made of a polymer compound is used. 14 is dissolved in a solvent to prepare an insulating solution 23, and the quantum dot dispersion solution 22 and the insulating solution 23 are mixed to prepare a mixed solution 24. The mixed solution 24 is applied to the surface of the hole transport layer 4. Since the light-emitting layer 6 is formed by coating, the light-emitting layer can be produced in one process without requiring a plurality of complicated film forming processes such as a dry process, and the light-emitting layer 6 can be manufactured inexpensively and efficiently. be able to.

また、発光層6に隣接する正孔輸送層4及び電子輸送層7が無機材料或いは有機材料のいずれで形成されていても、キャリアの隣接層へのリークを抑制することができ、ナノ粒子9への注入効率が良好な高品質の発光デバイスを安価かつ高効率で製造することができる。   Moreover, even if the hole transport layer 4 and the electron transport layer 7 adjacent to the light emitting layer 6 are formed of either an inorganic material or an organic material, leakage of carriers to the adjacent layer can be suppressed. A high-quality light-emitting device with good injection efficiency can be manufactured at low cost and high efficiency.

そしてこのようにして形成された発光ダイオードは、正孔輸送性界面活性剤12で正孔のみを輸送し、電子輸送性界面活性剤13で電子のみを輸送することができ、しかも量子ドット5間は絶縁性材料14で充填されているので、キャリアがナノ粒子9の内部に高効率で注入され、ナノ粒子9の外部を通過してしまうのを抑制することができる。   The light-emitting diode thus formed can transport only holes by the hole-transporting surfactant 12 and can transport only electrons by the electron-transporting surfactant 13, and between the quantum dots 5. Is filled with the insulating material 14, it is possible to suppress carriers from being injected into the inside of the nanoparticle 9 with high efficiency and passing through the outside of the nanoparticle 9.

すなわち、電圧印加により電極に注入されたキャリアは、ナノ粒子9の外部で正孔と電子が再結合することもなく、効率良く量子ドット内に輸送することができる。そしてこれにより、キャリアの超微粒子への注入効率を向上させることが可能となる。   That is, the carriers injected into the electrode by applying a voltage can be efficiently transported into the quantum dots without recombination of holes and electrons outside the nanoparticles 9. This makes it possible to improve the efficiency of carrier injection into ultrafine particles.

また、界面活性剤が有する配位子のエネルギー準位を調整することによって、トンネル共鳴を利用したキャリア移動を行うことができ、フォノンボトルネックが生じることなく効率の良いキャリア輸送を実現することができる。すなわち、フォノンボトルネックを回避するために、煩雑な成膜プロセスを要する量子井戸層やトンネル層を形成する必要もなく、ナノ粒子9への効率の良いキャリア注入が可能な発光デバイスを実現することが可能となる。   In addition, by adjusting the energy level of the ligand possessed by the surfactant, carrier transfer using tunnel resonance can be performed, and efficient carrier transport can be realized without causing a phonon bottleneck. it can. That is, to avoid a phonon bottleneck, it is not necessary to form a quantum well layer or a tunnel layer that requires a complicated film formation process, and a light-emitting device that can efficiently inject carriers into nanoparticles 9 is realized. Is possible.

尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものでない。上記実施の形態では、ナノ粒子9は、コア部10を1層のシェル部11で被覆したコアーシェル構造を有しているが、シェル部が2層構造のコアーシェルーシェル構造や、シェル部のない場合にも同様に適用できる。   The present invention is not limited to the above embodiment. In the above embodiment, the nanoparticles 9 have a core-shell structure in which the core portion 10 is covered with the one-layer shell portion 11, but the core portion does not have a two-layer core-shell structure or a shell portion. The same applies to the case.

また、上記実施の形態では、ナノ粒子9としてInP/ZnSからなる化合物半導体を使用したが、酸化物や単体半導体であってもよいのはいうまでもない。   Moreover, in the said embodiment, although the compound semiconductor which consists of InP / ZnS was used as the nanoparticle 9, it cannot be overemphasized that an oxide and a single-piece | unit semiconductor may be sufficient.

また、上記実施の形態では、発光デバイスとして発光ダイオードの場合について説明したが、半導体レーザや各種表示装置等の各種発光デバイスに使用できるのはいうまでもない。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the case of the light emitting diode as a light emitting device, it cannot be overemphasized that it can use for various light emitting devices, such as a semiconductor laser and various display apparatuses.

また、上記実施の形態では、電子輸送層7は真空蒸着法を使用したドライプロセスで行っているが、スピンコート法等のウェットプロセスで作製してもよい。ただし、この場合は、浸漬工程で使用した分散溶液と同じ極性の分散溶媒を使用する必要がある。   Moreover, in the said embodiment, although the electron carrying layer 7 is performed by the dry process which uses the vacuum evaporation method, you may produce it by wet processes, such as a spin coat method. However, in this case, it is necessary to use a dispersion solvent having the same polarity as the dispersion solution used in the dipping process.

〔試料の作製〕
(試料番号1)
コア部がInP、シェル部がZnSで形成されたInP/ZnSナノ粒子を界面活性剤としてのHDAで被覆し、ヘキサン溶液に分散させた濃度が5mg/mLの原料溶液を用意した。
[Sample preparation]
(Sample No. 1)
A raw material solution having a concentration of 5 mg / mL was prepared by coating InP / ZnS nanoparticles having a core part made of InP and a shell part made of ZnS with HDA as a surfactant, and dispersing in a hexane solution.

次いで、正孔輸送性界面活性剤としてTPD−チオール配位子、及び電子輸送性界面活性剤としてBCP−アミノ配位子をそれぞれ用意し、界面活性剤の濃度が0.1mol/Lとなるようにこれらを等量ずつ秤量し、ヘキサンに溶解させて界面活性剤溶液を作製した。   Next, a TPD-thiol ligand is prepared as a hole transporting surfactant and a BCP-amino ligand is prepared as an electron transporting surfactant so that the concentration of the surfactant is 0.1 mol / L. These were weighed in equal amounts and dissolved in hexane to prepare a surfactant solution.

次いで、原料溶液と界面活性剤溶液とを、原料溶液:界面活性剤溶液=1:2となるように両者を混合し、24時間放置し、HDAをTPD−チオール配位子及びBCP−アミノ配位子で置換し、量子ドットを含有した配位子置換溶液を得た。   Next, the raw material solution and the surfactant solution were mixed so that the raw material solution: surfactant solution = 1: 2, and allowed to stand for 24 hours, and HDA was mixed with TPD-thiol ligand and BCP-amino coordination. Ligand substitution was performed to obtain a ligand substitution solution containing quantum dots.

次に、配位子置換溶液に対し5倍のメタノールを投入し、遠心分離機で分離し、上澄み液を除去し、その後真空乾燥させてメタノールを完全に除去した。   Next, 5 times as much methanol as the ligand substitution solution was added and separated with a centrifuge, and the supernatant was removed, followed by vacuum drying to completely remove the methanol.

次いで、量子ドットの濃度が2〜5mg/mLとなるように量子ドットをトルエン中に分散させ、量子ドット分散溶液を作製した。   Next, the quantum dots were dispersed in toluene so that the concentration of the quantum dots was 2 to 5 mg / mL to prepare a quantum dot dispersion solution.

次いで、絶縁性材料としてのPMMAをトルエンに溶解させ、濃度が0.1Mol/mLの絶縁性溶液を作製した。   Next, PMMA as an insulating material was dissolved in toluene to prepare an insulating solution having a concentration of 0.1 mol / mL.

その後、量子ドット分散溶液と絶縁性溶液とを混合させ、量子ドットの濃度が0.8mg/mLの混合溶液を作製した。   Thereafter, the quantum dot dispersion solution and the insulating solution were mixed to prepare a mixed solution having a quantum dot concentration of 0.8 mg / mL.

次に、スパッタ法によりガラス基板上にITO膜を成膜し、UVオゾン処理を行い、膜厚120nmの陽極を作製した。   Next, an ITO film was formed on a glass substrate by a sputtering method, UV ozone treatment was performed, and an anode with a thickness of 120 nm was produced.

次に、正孔注入層用材料としてのPEDOT:PSSを純水に分散させて正孔注入層用溶液を作製した。   Next, PEDOT: PSS as a hole injection layer material was dispersed in pure water to prepare a hole injection layer solution.

そして、スピンコート法を使用して正孔注入層用溶液を陽極上に塗布し、膜厚20nmの正孔注入層を形成した。   And the solution for positive hole injection layers was apply | coated on the anode using the spin coat method, and the positive hole injection layer with a film thickness of 20 nm was formed.

次に、正孔輸送層用材料としてのポリ−TPDをクロロベンゼンに分散させて正孔輸送層用溶液を作製した。   Next, poly-TPD as a hole transport layer material was dispersed in chlorobenzene to prepare a hole transport layer solution.

そして、スピンコート法を使用して正孔輸送層用溶液を正孔注入層上に塗布し、膜厚65nmの正孔輸送層を作製した。   And the solution for hole transport layers was apply | coated on the positive hole injection layer using the spin coat method, and the 65-nm-thick hole transport layer was produced.

次に、スピンコート法を使用し、上述した混合溶液を正孔輸送層上に塗布し、発光層を形成した。具体的には、発光層の厚みが1モノレイヤー(単分子層)となるように、スピンコート法で発光層を形成した。すなわち、混合溶液:0.1mLを正孔輸送層に滴下し、ガラス基板を回転数:3000rpmで60秒間回転させて発光層を作製した。尚、本実施例で発光層の厚みを1モノレイヤーとしたが、これはナノ粒子が1粒子分の厚みでかつ僅かに隙間が生じている状態を意味する。   Next, using the spin coating method, the above-described mixed solution was applied onto the hole transport layer to form a light emitting layer. Specifically, the light emitting layer was formed by spin coating so that the thickness of the light emitting layer was 1 monolayer (monomolecular layer). That is, 0.1 mL of mixed solution was dripped at the positive hole transport layer, and the glass substrate was rotated at 3000 rpm for 60 seconds, and the light emitting layer was produced. In addition, although the thickness of the light emitting layer was made into 1 monolayer in the present Example, this means the state which the nanoparticle is the thickness for 1 particle, and the clearance gap has arisen slightly.

次に、電子輸送性材料としてAlq3を使用し、真空蒸着法で発光層の表面に膜厚50nmの電子輸送層を作製した。尚、発光層の厚みは1モノレイヤーであるが、この電子輸送層は発光層上に形成されることから、電子輸送層を形成するAlq3は、量子ドットの僅かな間隙に流れ込んでいると推測される。   Next, Alq3 was used as an electron transporting material, and an electron transport layer having a film thickness of 50 nm was formed on the surface of the light emitting layer by vacuum deposition. Although the thickness of the light emitting layer is one monolayer, since this electron transport layer is formed on the light emitting layer, it is assumed that Alq3 forming the electron transport layer flows into a slight gap between the quantum dots. Is done.

そして、LiF及びAlを使用し、真空蒸着法で二層構造からなる膜厚が250nmの陰極を形成し、これにより試料番号1の試料を作製した。   Then, using LiF and Al, a cathode having a film thickness of 250 nm and having a two-layer structure was formed by a vacuum vapor deposition method, thereby preparing a sample of sample number 1.

(試料番号2)
上述した混合溶液を使用する代わりに、量子ドット分散溶液を使用し、該量子ドット分散溶液を正孔輸送層上に厚みが1モノレイヤーとなるように塗布し、発光層を形成した。それ以外は、試料番号1と同様の方法・手順で、試料番号2の試料を作製した。
(Sample No. 2)
Instead of using the mixed solution described above, a quantum dot dispersion solution was used, and the quantum dot dispersion solution was applied on the hole transport layer so as to have a thickness of 1 monolayer, thereby forming a light emitting layer. Other than that, the sample No. 2 was prepared by the same method and procedure as Sample No. 1.

〔試料の評価〕
試料番号1、2について、直流電圧を印加し、プリズムとCCDで構成されたマルチチャネルアナライザを使用して発光スペクトルを測定した。
(Sample evaluation)
For Sample Nos. 1 and 2, a direct current voltage was applied, and an emission spectrum was measured using a multichannel analyzer composed of a prism and a CCD.

図8はその測定結果を示している。横軸が波長(nm)、縦軸が発光スペクトル(a.u.)であり、上側が試料番号1、下側が試料番号2の測定結果を示している。   FIG. 8 shows the measurement results. The horizontal axis indicates the wavelength (nm), the vertical axis indicates the emission spectrum (au), the upper side indicates the measurement result of sample number 1, and the lower side indicates the measurement result of sample number 2.

試料番号2は、波長が614nm付近で発光スペクトルがピークに達しているが、535nm付近の波長域でも発光スペクトルが出現し、発光色の純度が低下した。これは電子輸送性材料であるAlq3が量子ドット間に流れ込み、ナノ粒子内で再結合するキャリアが存在する一方で、一部の正孔は隙間に充填された電子輸送性材料中、もしくは量子ドット層に隣接する電子輸送層中で電子と再結合し、Alq3の吸収波長域である535nm付近でも発光したものと思われる。   In Sample No. 2, the emission spectrum reached a peak at a wavelength of around 614 nm, but the emission spectrum also appeared at a wavelength of around 535 nm, and the purity of the emission color was lowered. This is because the electron transporting material Alq3 flows between the quantum dots and there are carriers that recombine within the nanoparticle, while some holes are in the electron transporting material filled in the gap or quantum dots It is considered that light recombined with electrons in the electron transport layer adjacent to the layer and emitted light even in the vicinity of 535 nm, which is the absorption wavelength region of Alq3.

これに対し試料番号1は、緻密で耐電圧性に優れたPMMAで量子ドット間が充填されているので、量子ドット発光の614nm付近の波長域のみで発光し、隣接電子輸送層の発光のない良好な発光色純度が得られることが確認された。   On the other hand, Sample No. 1 is dense and has excellent voltage resistance and is filled between quantum dots, so that it emits light only in the wavelength region near 614 nm of the quantum dot emission, and there is no emission of the adjacent electron transport layer. It was confirmed that good emission color purity was obtained.

キャリアのナノ粒子内部への注入効率を向上させて良好な発光効率を有する発光ダイオード等の発光デバイスを実現できる。   A light emitting device such as a light emitting diode having good luminous efficiency can be realized by improving the efficiency of carrier injection into the nanoparticles.

1 透明基板
2 陽極(第1の電極層)
4 正孔輸送層
5 量子ドット
6 発光層
7 電子輸送層
8 陰極(第2の電極層)
9 ナノ粒子(超微粒子)
10 コア部
11 シェル部
12 正孔輸送性界面活性剤(第1の界面活性剤)
13 電子輸送性界面活性剤(第2の界面活性剤)
14 絶縁性材料
15 価電子帯準位
16 HOMO準位
17 伝導帯準位
18 LUMO準位
22 量子ドット分散溶液
23 絶縁性溶液
24 混合溶液
1 Transparent substrate 2 Anode (first electrode layer)
4 hole transport layer 5 quantum dot 6 light emitting layer 7 electron transport layer 8 cathode (second electrode layer)
9 Nanoparticles (ultrafine particles)
10 Core part 11 Shell part 12 Hole transporting surfactant (first surfactant)
13 Electron transporting surfactant (second surfactant)
14 Insulating Material 15 Valence Band Level 16 HOMO Level 17 Conduction Band Level 18 LUMO Level 22 Quantum Dot Dispersion Solution 23 Insulating Solution 24 Mixed Solution

Claims (6)

発光層が量子ドットの集合体で形成された発光デバイスにおいて、
前記量子ドットは、超微粒子の表面が正孔輸送性を有する第1の界面活性剤と電子輸送性を有する第2の界面活性剤とで被覆されると共に、
前記超微粒子は、酸化物、化合物半導体、及び単体半導体のいずれかを含み、
かつ、前記発光層は、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びポリビニル系樹脂の群から選択された1種以上で形成された高分子化合物からなる絶縁性材料を前記量子ドット間に充填し、前記量子ドットの外部をキャリアが通過するのを抑制すると共に、
前記第1の界面活性剤は、前記超微粒子の価電子帯とトンネル共鳴するように、前記価電子帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのHOMO準位を有していることを特徴とする発光デバイス。
In the light emitting device in which the light emitting layer is formed of an assembly of quantum dots,
The quantum dots, is coated with a second surfactant having a first surfactant and an electron-transporting surface of the ultrafine particles has a hole transporting property Rutotomoni,
The ultrafine particles include any one of an oxide, a compound semiconductor, and a single semiconductor,
In addition, the light emitting layer is an insulating layer made of a polymer compound formed of at least one selected from the group consisting of acrylic resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, polyester resins, polyamide resins, and polyvinyl resins. Filling the space between the quantum dots, suppress the carrier from passing through the outside of the quantum dots ,
The first surfactant has a HOMO level of −0.2 to +0.2 eV with respect to the energy level of the valence band so as to resonate with the valence band of the ultrafine particles. A light emitting device characterized by that.
発光層が量子ドットの集合体で形成された発光デバイスにおいて、
前記量子ドットは、超微粒子の表面が正孔輸送性を有する第1の界面活性剤と電子輸送性を有する第2の界面活性剤とで被覆されると共に、
前記超微粒子は、酸化物、化合物半導体、及び単体半導体のいずれかを含み、
かつ、前記発光層は、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びポリビニル系樹脂の群から選択された1種以上で形成された高分子化合物からなる絶縁性材料を前記量子ドット間に充填し、前記量子ドットの外部をキャリアが通過するのを抑制すると共に、
前記第2の界面活性剤は、前記超微粒子の伝導帯とトンネル共鳴するように、前記伝導帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのLUMO準位を有していることを特徴とする発光デバイス。
In the light emitting device in which the light emitting layer is formed of an assembly of quantum dots,
The quantum dots are coated with a first surfactant having a hole transporting property and a second surfactant having an electron transporting property on the surface of the ultrafine particles,
The ultrafine particles include any one of an oxide, a compound semiconductor, and a single semiconductor,
In addition, the light emitting layer is an insulating layer made of a polymer compound formed of at least one selected from the group consisting of acrylic resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, polyester resins, polyamide resins, and polyvinyl resins. Filling the space between the quantum dots, suppress the carrier from passing through the outside of the quantum dots,
The second surfactant has a LUMO level of −0.2 to +0.2 eV with respect to the energy level of the conduction band so as to tunnel resonance with the conduction band of the ultrafine particles. A light emitting device characterized .
前記超微粒子は、コア部と該コア部を被覆するシェル部とからなるコアーシェル構造を有していることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の発光デバイス。 The ultrafine particles according to claim 1 or claim 2 light-emitting device according to, characterized in that it has a core-shell structure comprising a shell part covering the core part and the core part. 前記発光層の一方の主面に正孔輸送層が形成されると共に、前記発光層の他方の主面に電子輸送層が形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれかに記載の発光デバイス。 With the hole transport layer is formed on one main surface of the light-emitting layer, any of claims 1 to 3, characterized in that the electron transport layer on the other main surface of the light emitting layer is formed A light emitting device according to any one of the above. 価電子帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのHOMO準位を有する正孔輸送性の第1の界面活性剤と、伝導帯のエネルギー準位に対し−0.2〜+0.2eVのLUMO準位を有する電子輸送性の第2の界面活性剤を用意し、
前記第1及び前記第2の界面活性剤で超微粒子を被覆した量子ドット分散溶液を作製する量子ドット分散溶液作製工程と、
アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びポリビニル系樹脂の群から選択された1種以上の高分子化合物からなる絶縁性材料を用意し、該絶縁性材料を溶媒に溶解させて絶縁性溶液を作製する絶縁性溶液作製工程と、
前記量子ドット分散溶液と前記絶縁性溶液とを混合して混合溶液を作製する混合溶液作製工程と、
前記混合溶液を使用して発光層を作製する発光層作製工程とを含むことを特徴とする発光デバイスの製造方法。
A hole-transporting first surfactant having a HOMO level of −0.2 to +0.2 eV with respect to the energy level of the valence band; and −0.2 to +0 with respect to the energy level of the conduction band. An electron transporting second surfactant having a LUMO level of 2 eV,
A quantum dot dispersion solution preparing step of preparing a quantum dot dispersion solution in which ultrafine particles are coated with the first and second surfactants;
Insulating material comprising one or more polymer compounds selected from the group of acrylic resin, polystyrene resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, and polyvinyl resin is prepared. An insulating solution preparation step of preparing an insulating solution by dissolving
A mixed solution preparation step of mixing the quantum dot dispersion solution and the insulating solution to prepare a mixed solution;
And a light emitting layer manufacturing step of manufacturing a light emitting layer using the mixed solution.
透明基板の表面に第1の導電性材料を付与して第1の電極層を形成する第1の電極層形成工程と、
前記第1の電極層の表面に正孔輸送性材料を付与し、正孔輸送層を形成する正孔輸送層形成工程と、
前記発光層の表面に電子輸送性材料を付与し、電子輸送層を形成する電子輸送層形成工程と、
前記電子輸送層の表面に第2の導電性材料を付与して第2の電極層を形成する第2の電極層形成工程とを含み、
前記発光層形成工程は、前記正孔輸送層の表面に前記混合溶液を付与して前記発光層を形成することを特徴とする請求項記載の発光デバイスの製造方法。
A first electrode layer forming step of forming a first electrode layer by applying a first conductive material to the surface of the transparent substrate;
A hole transport layer forming step of providing a hole transport material on the surface of the first electrode layer to form a hole transport layer;
An electron transport layer forming step of providing an electron transport material on the surface of the light emitting layer and forming an electron transport layer;
A second electrode layer forming step of forming a second electrode layer by applying a second conductive material to the surface of the electron transport layer,
6. The method of manufacturing a light emitting device according to claim 5, wherein the light emitting layer forming step forms the light emitting layer by applying the mixed solution to a surface of the hole transport layer.
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