JP5825313B2 - Resin package array sheet, resin module array sheet with built-in components - Google Patents

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Description

本発明は、半導体チップなどを収容するための樹脂製パッケージを配列した樹脂製パッケージ配列シート、および電子部品などの部品を内蔵した部品内蔵樹脂モジュールを配列した部品内蔵樹脂モジュール配列シートに係り、特に、収容、内蔵されるデバイスの面積占有率を高めるのに好適な樹脂製パッケージ配列シート、および部品内蔵樹脂モジュール配列シートに関する。   The present invention relates to a resin package arrangement sheet in which resin packages for housing semiconductor chips and the like are arranged, and a component built-in resin module arrangement sheet in which component-incorporated resin modules containing components such as electronic parts are arranged. The present invention relates to a resin package array sheet suitable for increasing the area occupancy ratio of a housed and embedded device, and a component built-in resin module array sheet.

絶縁層材料として樹脂を用いた半導体チップ用パッケージや部品内蔵樹脂モジュールは、セラミックを絶縁層として用いたものより安価であり、多用される傾向にある。現状では、応用される機器の小型化、高機能化などに適合するように、収容、内蔵されるデバイスの面積占有率がさらに高められ、これにより、パッケージとしては一層の小型化が、モジュールとしてはさらなる高密度部品内蔵化が図られるように期待がされている。   Semiconductor chip packages and resin modules with built-in components using resin as an insulating layer material are cheaper than those using ceramic as an insulating layer, and tend to be used frequently. At present, the area occupancy rate of the housed and built-in devices has been further increased so that it can be adapted to the downsizing and high functionality of the equipment to be applied. Is expected to be built into higher density components.

樹脂製パッケージや部品内蔵樹脂モジュールは、製造途上において、製造効率を考慮して、多数の同じ製品が縦横に配列されたシートで製造される場合もある。シートとして製造されると、その形態を維持して流通し、応用機器を構成する回路基板の組み立てに供給され得る。この組み立て時には、シートの中から個々のパッケージまたはモジュールがマウンタヘッドによりピックアップされて、マザーボードなどの基板上にマウントすることができる。シート状で流通、供給されることにより応用機器の生産効率化にも適している。   A resin package or a resin module with a built-in component may be manufactured on a sheet in which a large number of the same products are arranged vertically and horizontally in consideration of manufacturing efficiency. When manufactured as a sheet, it is distributed while maintaining its form, and can be supplied to the assembly of circuit boards constituting application equipment. At the time of this assembly, individual packages or modules can be picked up from the sheet by the mounter head and mounted on a substrate such as a mother board. By distributing and supplying in sheet form, it is suitable for increasing the production efficiency of applied equipment.

本願で開示する技術については、下記特許文献に開示された内容とシート(当該文献ではウエハ)をダイシングする一面として類似する点があるが、その目的や具体的な構成などの比較から、当該文献から想到できる範囲のものとは言えない。   The technology disclosed in the present application is similar to the content disclosed in the following patent document as one surface for dicing the sheet (wafer in this document). It cannot be said that it is in the range that can be conceived from.

特開2000−307032号公報JP 2000-307032 A

本発明は、上記した状況を考慮してなされたもので、半導体チップなどを収容するための樹脂製パッケージを配列した樹脂製パッケージ配列シート、および電子部品などの部品を内蔵した部品内蔵樹脂モジュールを配列した部品内蔵樹脂モジュール配列シートにおいて、収容、内蔵されるデバイスの面積占有率を高めることができる樹脂製パッケージ配列シート、および部品内蔵樹脂モジュール配列シートを提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above situation, and includes a resin package array sheet in which resin packages for accommodating semiconductor chips and the like are arranged, and a component built-in resin module in which components such as electronic components are incorporated. It is an object of the present invention to provide a resin package array sheet and a component-embedded resin module array sheet that can increase the area occupancy ratio of the housed and housed devices in the arrayed component built-in resin module array sheet.

まず、参考態様(第1の参考態様)である樹脂製パッケージの製造方法は、樹脂層に、面積A(厚み方向に見たときの面積、以下同じ)、厚みBを有するデバイスを、該厚みBを前記樹脂層の厚みに内包するように埋め込み、該デバイスに重なる前記樹脂層に該デバイスにつながる縦方向導電体を備えているかまたは前記デバイスのない領域の前記樹脂層に該樹脂層を貫通する縦方向導電体を備えている構造の樹脂製パッケージの製造方法であって、前記樹脂製パッケージの一辺長jおよび他辺長k、前記デバイスが埋め込まれる前の状態における前記樹脂層の厚みである初期厚みa0、ならびに前記デバイスの厚みBと、前記樹脂製パッケージにおける前記樹脂層の厚みである変形後厚みa1との差dを設定し、式A*B/{(B+d)−a0}または式A*B/(a1−a0)を計算した結果として面積の次元を有する数値をSpとして求め、Sp/jを計算した結果をk2として求め、前記樹脂製パッケージが縦横に配列された樹脂製パッケージ配列シートにおいて、一辺長jおよび他辺長kを有する前記樹脂製パッケージの占める各領域の前記一辺を介した隣に一辺長がjで他辺長がk2−kであるダミー領域を一辺長jが共通するように設け、かつ前記樹脂製パッケージの領域と前記ダミー領域とが一の方向に交互に並べられるレイアウトで、前記樹脂製パッケージ配列シートを製造し、前記レイアウトを有する前記樹脂製パッケージ配列シートから、各前記樹脂製パッケージを各前記ダミー領域が除かれるように個片化することを特徴とする。   First, a method for manufacturing a resin package, which is a reference embodiment (first reference embodiment), includes a device having an area A (area when viewed in the thickness direction, hereinafter the same) and thickness B on a resin layer. B is embedded so as to be included in the thickness of the resin layer, and the resin layer overlapping the device is provided with a longitudinal conductor connected to the device or penetrates the resin layer in the region without the device A method of manufacturing a resin package having a structure including a vertical conductor, wherein one side length j and the other side length k of the resin package are the thickness of the resin layer in a state before the device is embedded. The difference d between a certain initial thickness a0 and the thickness B of the device and the post-deformation thickness a1, which is the thickness of the resin layer in the resin package, is set, and the formula A * B / {(B + d) − 0} or numerical value having an area dimension as a result of calculating the formula A * B / (a1-a0) is obtained as Sp, and the result of calculating Sp / j is obtained as k2, and the resin packages are arranged vertically and horizontally. In the resin package array sheet, a dummy region having one side length j and the other side length k2−k is adjacent to each region occupied by the resin package having one side length j and the other side length k through the one side. In a layout in which the resin package regions and the dummy regions are alternately arranged in one direction, the resin package array sheet is manufactured, and the layout has the layout. Each of the resin packages is separated from the resin package array sheet so that the dummy regions are removed.

この方法は、樹脂層に、面積A、厚みBを有するデバイスを、該厚みBを前記樹脂層の厚みに内包するように埋め込み、該デバイスに重なる樹脂層に該デバイスにつながる縦方向導電体を備えているかまたはデバイスのない領域の樹脂層に該樹脂層を貫通する縦方向導電体を備えている構造の樹脂製パッケージを対象として、樹脂層内にデバイスを埋め込んだ状態での、デバイスに重なる樹脂層の厚みまたはデバイスのない領域での絶縁層の厚みを適性にコントロールして樹脂製パッケージを製造することを意図している。このような構造において、樹脂層(樹脂製パッケージ)内で占めるデバイスの面積占有率が増加すると、一般には、デバイスに重なる樹脂層の厚み(またはデバイスのない領域での絶縁層の厚み)が増加し、そこに縦方向の導電体を形成する場合に加工上の支障が発生し得る。そこで、上記一態様では、樹脂製パッケージ配列シートにおいて、(結果としての)デバイスの面積占有率に応じて、本来必要とする樹脂製パッケージの領域の隣にダミー領域を設け、このダミー領域に樹脂層の余分な体積分を吸収させるようにしている。   In this method, a device having an area A and a thickness B is embedded in a resin layer so that the thickness B is included in the thickness of the resin layer, and a longitudinal conductor connected to the device is formed in a resin layer overlapping the device. Covers the device in a state where the device is embedded in the resin layer for a resin package having a structure in which the resin layer is provided in the resin layer in a region having no device or having a longitudinal conductor penetrating the resin layer. It is intended to manufacture a resin package by appropriately controlling the thickness of the resin layer or the thickness of the insulating layer in a region where there is no device. In such a structure, when the area occupancy of the device in the resin layer (resin package) increases, the thickness of the resin layer that overlaps the device (or the thickness of the insulating layer in the region without the device) generally increases. However, when a vertical conductor is formed there, processing troubles may occur. Therefore, in the above-described aspect, in the resin package arrangement sheet, a dummy region is provided next to a region of the resin package that is originally required according to the area occupancy of the device (as a result), and the resin is disposed in the dummy region. The extra volume of the layer is absorbed.

より具体的には以下である。埋め込み対象であるデバイスの面積A、厚みBはデバイスから与えられる数値である。樹脂製パッケージの一辺長jおよび他辺長kは製品として決めるものであり、製造当初の樹脂層の厚みである初期厚みa0は、厚みとして規格化された絶縁層素材の選択により決まる。また、デバイスの厚みBと、樹脂製パッケージにおける樹脂層の厚みである積層変形後厚みa1との差dは、コントロールの対象である、デバイスに重なる樹脂層の厚みなので、加工に適する値として設定し得る。デバイスの厚みBとdとの和である積層変形後厚みa1をコントロール対象として考えても等価である。   More specifically, it is as follows. The area A and thickness B of the device to be embedded are numerical values given from the device. The one side length j and the other side length k of the resin package are determined as products, and the initial thickness a0 that is the thickness of the resin layer at the beginning of manufacture is determined by the selection of the insulating layer material standardized as the thickness. Further, the difference d between the thickness B1 of the device and the post-lamination thickness a1, which is the thickness of the resin layer in the resin package, is the thickness of the resin layer that overlaps the device to be controlled. Can do. It is equivalent even if the post-lamination thickness a1, which is the sum of the device thicknesses B and d, is considered as a control target.

式A*B/{(B+d)−a0}で求められる値Spは、樹脂製パッケージの領域とダミー領域との総和として適当な面積値である。すなわち、この面積Spを樹脂層の面積として先に仮定すると、変形後厚み“B+d”(=a1)は、B+d=(その厚みにかかわる全体積)/(その全面積)=(Sp*a0+A*B)/Spと表わすことができ、この式をSpについて解くと上記の式になる。   The value Sp obtained by the expression A * B / {(B + d) −a0} is an appropriate area value as the sum of the resin package region and the dummy region. That is, assuming that the area Sp is the area of the resin layer, the post-deformation thickness “B + d” (= a1) is B + d = (total volume related to the thickness) / (total area) = (Sp * a0 + A * B) / Sp. When this equation is solved for Sp, the above equation is obtained.

そこで、求められた面積値Spに対応して、一辺がj、他辺がSp/j(=k2)の矩形を考え、そのうちのj*k(一辺長j、他辺長k)を樹脂製パッケージの領域に当てることにすると、残りはダミー領域となり、その領域はj*(k2−k)ということになる。このような配分によって、樹脂製パッケージの領域とダミーの領域とが一の方向に交互に並ぶレイアウトの樹脂製パッケージ配列シートを製造する。そして、この配列シートから、各樹脂製パッケージを各ダミー領域が除かれるように個片化する。   Accordingly, a rectangle with one side being j and the other side being Sp / j (= k2) corresponding to the obtained area value Sp is considered, and j * k (one side length j, other side length k) is made of resin. If it is applied to the package area, the rest is a dummy area, and the area is j * (k2-k). By such distribution, a resin package array sheet having a layout in which resin package regions and dummy regions are alternately arranged in one direction is manufactured. Then, each resin package is separated from the array sheet so that each dummy area is removed.

この製造方法によれば、樹脂製パッケージに対するデバイスの面積占有率が増加しても、デバイスに重なる樹脂層の厚み(またはデバイスのない領域での絶縁層の厚み)を加工に支障なく適性にコントロールすることができる。すなわち、樹脂製パッケージとして、収容されるデバイスの面積占有率を高めることができる。   According to this manufacturing method, even if the area occupancy of the device with respect to the resin package increases, the thickness of the resin layer that overlaps the device (or the thickness of the insulating layer in the region without the device) can be controlled appropriately without any trouble in processing. can do. That is, the area occupation ratio of the device accommodated as a resin package can be increased.

また、別の参考態様(第2の参考態様)である部品内蔵樹脂モジュールの製造方法は、樹脂層に、面積A、厚みBを有するデバイスを、該厚みBを前記樹脂層の厚みに内包するように埋め込み、該デバイスに重なる前記樹脂層に該デバイスにつながる縦方向導電体を備えているかまたは前記デバイスのない領域の前記樹脂層に該樹脂層を貫通する縦方向導電体を備えている構造の部品内蔵樹脂モジュールの製造方法であって、前記部品内蔵樹脂モジュールの一辺長jおよび他辺長k、前記デバイスが埋め込まれる前の状態における前記樹脂層の厚みである初期厚みa0、ならびに前記デバイスの厚みBと、前記部品内蔵樹脂モジュールにおける前記樹脂層の厚みである変形後厚みa1との差dを設定し、式A*B/{(B+d)−a0}または式A*B/(a1−a0)を計算した結果として面積の次元を有する数値をSpとして求め、Sp/jを計算した結果をk2として求め、前記部品内蔵樹脂モジュールが縦横に配列された部品内蔵樹脂モジュール配列シートにおいて、一辺長jおよび他辺長kを有する前記部品内蔵樹脂モジュールの占める各領域の前記一辺を介した隣に一辺長がjで他辺長がk2−kであるダミー領域を一辺長jが共通するように設け、かつ前記部品内蔵樹脂モジュールの領域と前記ダミー領域とが一の方向に交互に並べられるレイアウトで、前記部品内蔵樹脂モジュール配列シートを製造し、前記レイアウトを有する前記部品内蔵樹脂モジュール配列シートから、各前記部品内蔵樹脂モジュールを各前記ダミー領域が除かれるように個片化することを特徴とする。   Moreover, the manufacturing method of the component built-in resin module which is another reference aspect (2nd reference aspect) includes the device which has area A and thickness B in the resin layer, and includes this thickness B in the thickness of the said resin layer. The resin layer that is embedded and overlaps with the device is provided with a longitudinal conductor connected to the device, or the resin layer in a region without the device is provided with a longitudinal conductor that penetrates the resin layer The one-side length j and the other-side length k of the component-embedded resin module, the initial thickness a0 that is the thickness of the resin layer before the device is embedded, and the device The difference d between the thickness B of the resin layer and the post-deformation thickness a1, which is the thickness of the resin layer in the component built-in resin module, is set to the formula A * B / {(B + d) −a0} As a result of calculating formula A * B / (a1-a0), a numerical value having an area dimension is obtained as Sp, and a result of calculating Sp / j is obtained as k2, and the component built-in resin modules are arranged vertically and horizontally. In the built-in resin module array sheet, a dummy region having one side length of j and the other side length of k2-k is adjacent to each region occupied by the component built-in resin module having one side length j and the other side length k through the one side. Is manufactured so that one side length j is common, and the component built-in resin module region and the dummy region are alternately arranged in one direction, the component built-in resin module array sheet is manufactured, and the layout is Each of the resin modules with built-in components is separated from the resin module array sheet with built-in components so that the dummy areas are removed. To.

この製造方法は、対象物を上記説明の樹脂製パッケージから部品内蔵樹脂モジュールに変えているが、本質的に趣旨は同じである。樹脂製パッケージは、一般に、半導体チップなどを収容するための樹脂の構造物であり、部品内蔵樹脂モジュールは、電子部品などの部品を内蔵した樹脂板のモジュールである。名称が異なっても構造、構成はよく似ている。したがって、部品内蔵樹脂モジュールについても同じ考えが成立する。   In this manufacturing method, the object is changed from the resin package described above to the resin module with a built-in component, but the gist is essentially the same. The resin package is generally a resin structure for housing a semiconductor chip and the like, and the component built-in resin module is a resin plate module incorporating components such as electronic components. Even if the names are different, the structure and structure are very similar. Therefore, the same idea holds for the resin module with a built-in component.

また、さらに別の参考態様(第3の参考態様)である樹脂製パッケージの製造方法は、第1の樹脂層に面積So、深さDoを有する開口を設け該開口内に収めるように面積A、厚みBを有するデバイスを位置させ、前記第1の樹脂層に積層させて第2の樹脂層を位置させ、かつ該第2の樹脂層が前記第1の樹脂層の前記開口を充填し前記デバイスを埋め込んだ構造を備えた樹脂製パッケージの製造方法であって、前記樹脂製パッケージの一辺長jおよび他辺長k、前記デバイスが埋め込まれる前の状態における前記第2の樹脂層の厚みである初期厚みa0、ならびに前記樹脂製パッケージにおける、前記第1の樹脂層上の前記第2の樹脂層の厚みである変形後厚みa1を設定し、式(So*Do−A*B)/(a0−a1)を計算した結果として面積の次元を有する数値をSpとして求め、Sp/jを計算した結果をk2として求め、前記樹脂製パッケージが縦横に配列された樹脂製パッケージ配列シートにおいて、一辺長jおよび他辺長kを有する前記樹脂製パッケージの占める各領域の前記一辺を介した隣に一辺長がjで他辺長がk2−kであるダミー領域を一辺長jが共通するように設け、かつ前記樹脂製パッケージの領域と前記ダミー領域とが一の方向に交互に並べられるレイアウトで、前記樹脂製パッケージ配列シートを製造し、前記レイアウトを有する前記樹脂製パッケージ配列シートから、各前記樹脂製パッケージを各前記ダミー領域が除かれるように個片化することを特徴とする。   Further, in the method for manufacturing a resin package which is still another reference embodiment (third reference embodiment), an area A is provided so that an opening having an area So and a depth Do is provided in the first resin layer and the opening is accommodated in the opening. , A device having a thickness B is positioned, the second resin layer is positioned by being laminated on the first resin layer, and the second resin layer fills the opening of the first resin layer, and A method of manufacturing a resin package having a structure in which a device is embedded, wherein one side length j and the other side length k of the resin package are the thickness of the second resin layer in a state before the device is embedded. An initial thickness a0 and a post-deformation thickness a1 that is the thickness of the second resin layer on the first resin layer in the resin package are set, and the formula (So * Do-A * B) / ( The result of calculating a0-a1) In the resin package arrangement sheet in which the resin packages are arranged vertically and horizontally, the one side length j and the other side length k are calculated as Sp. A dummy region having one side length j and the other side length k2-k is provided adjacent to each region occupied by each of the resin packages having the one side length j, and the resin package has The resin package array sheet is manufactured in a layout in which the areas and the dummy areas are alternately arranged in one direction, and each resin package is connected to each dummy area from the resin package array sheet having the layout. It is characterized by being separated into pieces so as to be removed.

この方法は、第1の樹脂層に面積So、深さDoを有する開口を設け該開口内に収めるように面積A、厚みBを有するデバイスを位置させ、第1の樹脂層に積層させて第2の樹脂層を位置させ、かつ該第2の樹脂層が第1の樹脂層の開口を充填し上記デバイスを埋め込んだ構造を備えた樹脂製パッケージを対象としている。そして、樹脂層内にデバイスを埋め込んだ状態における、第1の樹脂層に重なる第2の樹脂層の厚みを適性にコントロールして樹脂製パッケージを製造することを意図している。   In this method, an opening having an area So and a depth Do is provided in a first resin layer, a device having an area A and a thickness B is positioned so as to be accommodated in the opening, and the first resin layer is laminated on the first resin layer. The present invention is intended for a resin package having a structure in which two resin layers are positioned and the second resin layer fills the opening of the first resin layer and the device is embedded. In addition, it is intended to manufacture a resin package by appropriately controlling the thickness of the second resin layer overlapping the first resin layer in a state where the device is embedded in the resin layer.

このようなデバイスの埋め込み構造の場合、樹脂層(樹脂製パッケージ)内で占めるデバイスの面積占有率が増加すると、一般には、埋め込みに使われる第2の樹脂層の量が増加し、その分、第1の樹脂層に重なる第2の樹脂層の厚みが減少する。減少の程度によって、絶縁層としての機能が不全になり得る。そこで、この態様では、樹脂製パッケージ配列シートにおいて、(結果としての)デバイスの面積占有率に応じて、本来必要とする樹脂製パッケージの領域の隣にダミー領域を設け、このダミー領域からの樹脂層をも用い、埋め込みに要する分の樹脂を一部負担させるようにしている。   In the case of such a device embedding structure, when the area occupancy of the device in the resin layer (resin package) increases, generally, the amount of the second resin layer used for embedding increases. The thickness of the second resin layer that overlaps the first resin layer decreases. Depending on the degree of reduction, the function as an insulating layer can be impaired. Therefore, in this aspect, in the resin package arrangement sheet, a dummy region is provided next to the originally required resin package region in accordance with the area occupancy of the device (as a result), and the resin from this dummy region is provided. A layer is also used so that a portion of the resin required for embedding is borne.

より具体的には以下である。埋め込み対象であるデバイスの面積A、厚みBはデバイスから与えられる数値である。このデバイスのため設ける第1の樹脂層の開口の面積So、深さDoは、デバイスの面積A、厚みBを勘案して決められる値である。樹脂製パッケージの一辺長jおよび他辺長kは製品として決めるものであり、製造当初の第2の樹脂層の厚みである初期厚みa0は、厚みとして規格化された絶縁層素材の選択により決まる。また、第1の樹脂層上に積層後の第2の樹脂層の厚みである積層変形後厚みa1は、コントロールの対象である樹脂層の厚みなので、絶縁層として機能不全にならない値として設定し得る。   More specifically, it is as follows. The area A and thickness B of the device to be embedded are numerical values given from the device. The area So and the depth Do of the opening of the first resin layer provided for this device are values determined in consideration of the area A and the thickness B of the device. The one side length j and the other side length k of the resin package are determined as products, and the initial thickness a0 that is the thickness of the second resin layer at the beginning of manufacture is determined by the selection of the insulating layer material standardized as the thickness. . In addition, the thickness a1 after lamination deformation, which is the thickness of the second resin layer after being laminated on the first resin layer, is the thickness of the resin layer to be controlled, and is set as a value that does not cause malfunction as an insulating layer. obtain.

式(So*Do−A*B)/(a0−a1)で求められる値Spは、樹脂製パッケージの領域とダミー領域との総和として適当な面積値である。すなわち、この面積Spを第1、第2の樹脂層の面積として先に仮定すると、変形後厚みa1は、a1=(その厚みにかかわる体積分)/(その全面積)={Sp*a0−(So*Do−A*B)}/Spと表わすことができ、この式をSpについて解くと上記の式になる。   The value Sp obtained by the equation (So * Do-A * B) / (a0-a1) is an area value suitable as the sum of the resin package region and the dummy region. That is, assuming this area Sp as the areas of the first and second resin layers, the thickness a1 after deformation is: a1 = (volume related to the thickness) / (total area) = {Sp * a0− (So * Do-A * B)} / Sp. When this equation is solved for Sp, the above equation is obtained.

そこで、求められた面積値Spに対応して、一辺がj、他辺がSp/j(=k2)の矩形を考え、そのうちのj*k(一辺長j、他辺長k)を樹脂製パッケージの領域に当てることにすると、残りはダミー領域となり、その領域はj*(k2−k)ということになる。このような配分によって、樹脂製パッケージの領域とダミーの領域とが一の方向に交互に並ぶレイアウトの樹脂製パッケージ配列シートを製造する。そして、この配列シートから、各樹脂製パッケージを各ダミー領域が除かれるように個片化する。   Accordingly, a rectangle with one side being j and the other side being Sp / j (= k2) corresponding to the obtained area value Sp is considered, and j * k (one side length j, other side length k) is made of resin. If it is applied to the package area, the rest is a dummy area, and the area is j * (k2-k). By such distribution, a resin package array sheet having a layout in which resin package regions and dummy regions are alternately arranged in one direction is manufactured. Then, each resin package is separated from the array sheet so that each dummy area is removed.

この製造方法によれば、樹脂製パッケージに対するデバイスの面積占有率が増加しても、第1の樹脂層に重なる第2の樹脂層の厚みを絶縁層として不全にならないように適性にコントロールすることができる。すなわち、樹脂製パッケージとして、収容されるデバイスの面積占有率を高めることができる。   According to this manufacturing method, even if the area occupancy of the device with respect to the resin package increases, the thickness of the second resin layer that overlaps the first resin layer is appropriately controlled so that it does not become an insulative layer. Can do. That is, the area occupation ratio of the device accommodated as a resin package can be increased.

また、さらに別の参考態様(第4の参考態様)である部品内蔵樹脂モジュールの製造方法は、第1の樹脂層に面積So、深さDoを有する開口を設け該開口内に収めるように面積A、厚みBを有するデバイスを位置させ、前記第1の樹脂層に積層させて第2の樹脂層を位置させ、かつ該第2の樹脂層が前記第1の樹脂層の前記開口を充填し前記デバイスを埋め込んだ構造を備えた部品内蔵樹脂モジュールの製造方法であって、前記部品内蔵樹脂モジュールの一辺長jおよび他辺長k、前記デバイスが埋め込まれる前の状態における前記第2の樹脂層の厚みである初期厚みa0、ならびに前記部品内蔵樹脂モジュールにおける、前記第1の樹脂層上の前記第2の樹脂層の厚みである変形後厚みa1を設定し、式(So*Do−A*B)/(a0−a1)を計算した結果として面積の次元を有する数値をSpとして求め、Sp/jを計算した結果をk2として求め、前記部品内蔵樹脂モジュールが縦横に配列された部品内蔵樹脂モジュール配列シートにおいて、一辺長jおよび他辺長kを有する前記部品内蔵樹脂モジュールの占める各領域の前記一辺を介した隣に一辺長がjで他辺長がk2−kであるダミー領域を一辺長jが共通するように設け、かつ前記部品内蔵樹脂モジュールの領域と前記ダミー領域とが一の方向に交互に並べられるレイアウトで、前記部品内蔵樹脂モジュール配列シートを製造し、前記レイアウトを有する前記部品内蔵樹脂モジュール配列シートから、各前記部品内蔵樹脂モジュールを各前記ダミー領域が除かれるように個片化することを特徴とする。   In addition, in the method of manufacturing the component-embedded resin module which is still another reference mode (fourth reference mode), an opening having an area So and a depth Do is provided in the first resin layer so that the area can be accommodated in the opening. A device having A and thickness B is positioned, laminated on the first resin layer to position the second resin layer, and the second resin layer fills the opening of the first resin layer. A method of manufacturing a component built-in resin module having a structure in which the device is embedded, wherein one side length j and another side length k of the component built-in resin module, the second resin layer in a state before the device is embedded And the post-deformation thickness a1 which is the thickness of the second resin layer on the first resin layer in the component built-in resin module, and the formula (So * Do-A * B) / (a0 As a result of calculating a1), a numerical value having an area dimension is obtained as Sp, a result of calculating Sp / j is obtained as k2, and in the component-embedded resin module array sheet in which the component-embedded resin modules are arranged vertically and horizontally, One side length j is common to a dummy region having one side length j and the other side length k2−k adjacent to each other through each side of the region occupied by the component built-in resin module having length j and other side length k. The component-embedded resin module array sheet is manufactured in a layout in which the regions of the component-embedded resin modules and the dummy regions are alternately arranged in one direction, and the component-embedded resin module array sheet having the layout is manufactured. From the above, each of the resin modules with built-in components is divided into pieces so that the dummy regions are removed.

この製造方法は、対象物を上記説明の樹脂製パッケージから部品内蔵樹脂モジュールに変えているが、本質的に趣旨は同じである。樹脂製パッケージは、一般に、半導体チップなどを収容するための樹脂の構造物であり、部品内蔵樹脂モジュールは、電子部品などの部品を内蔵した樹脂板のモジュールである。名称が異なっても構造、構成はよく似ている。したがって、部品内蔵樹脂モジュールについても同じ考えが成立する。   In this manufacturing method, the object is changed from the resin package described above to the resin module with a built-in component, but the gist is essentially the same. The resin package is generally a resin structure for housing a semiconductor chip and the like, and the component built-in resin module is a resin plate module incorporating components such as electronic components. Even if the names are different, the structure and structure are very similar. Therefore, the same idea holds for the resin module with a built-in component.

なお、以上の各態様では、樹脂製パッケージ(または部品内蔵樹脂モジュール)配列シートの大きさがあらかじめ指定されていないとして説明しているが、その大きさがあらかじめ一辺長Lx、他辺長Lyとして設定されている場合には、別の要素を加えた考え方が成立する。まずその場合、ダミー領域の設定により融通性を与え、縦方向と横方向とにそれぞれ製品との交互配置のダミー領域を設けることを妨げない、とする。これは、そのようなダミー領域の配置により、指定された大きさのシートの中にできるだけ多数の樹脂製パッケージ(または部品内蔵樹脂モジュール)を配置できれば、生産性の観点からコスト的に有利であるとの考えからである。   In each of the above embodiments, the size of the resin package (or component built-in resin module) array sheet is described as not specified in advance, but the sizes are set as one side length Lx and the other side length Ly in advance. If it is set, the idea of adding another element holds. First, in this case, it is assumed that flexibility is provided by setting dummy areas, and it is not hindered to provide dummy areas alternately arranged with products in the vertical direction and the horizontal direction. This is advantageous from the viewpoint of productivity if it is possible to arrange as many resin packages (or resin modules with built-in components) as possible in a sheet having a specified size by arranging such dummy areas. Because of the idea.

配置できる最大の数は、計算上、(Lx*Ly)/Spを超えない最大整数と同数になる。ただし、製品である樹脂製パッケージ(または部品内蔵樹脂モジュール)を縦横に並べる関係上、この数は名目上の数となる可能性がある。一方、配置できる最小の数は、いかに少なくとも、Lxの方向(jの方向)にはダミー領域を設定しないとして求められるLyの方向の製品数(Ly*j)/Spと、Lyの方向(kの方向)にはダミー領域を設定しないとして求められるLxの方向の製品数(Lx*k)/Spとの積である{(Lx*Ly)/Sp}*{(j*k)/Sp}と同数にはなる。   The maximum number that can be arranged is the same as the maximum integer that does not exceed (Lx * Ly) / Sp in calculation. However, there is a possibility that this number is a nominal number because the resin packages (or resin modules with built-in components) as products are arranged vertically and horizontally. On the other hand, the minimum number that can be arranged is, at least, the number of products (Ly * j) / Sp in the direction of Ly that is obtained by setting no dummy area in the direction of Lx (direction of j), and the direction of Ly (k {(Lx * Ly) / Sp} * {(j * k) / Sp}, which is the product of the number of products in the Lx direction (Lx * k) / Sp obtained without setting a dummy area in the direction of And the same number.

次に、本発明の一態様である樹脂製パッケージ配列シートは、樹脂製パッケージが縦横に配列された樹脂製パッケージ配列シートであって、前記樹脂製パッケージのそれぞれが、樹脂層と、該樹脂層の厚み内に内包され埋め込まれたデバイスと、該デバイスに重なる前記樹脂層を貫通して設けられた該デバイスにつながる縦方向導電体または該デバイスのない領域の前記樹脂層に該樹脂層を貫通して設けられた縦方向導電体と、前記縦方向導電体につながるように前記樹脂層上に設けられた配線層と、を有し、前記樹脂製パッケージの占める各領域の隣にダミー領域が設けられ、かつ該樹脂製パッケージの領域と該ダミー領域とが横方向または縦方向の少なくとも一方の方向に交互に並べられており、前記樹脂製パッケージの領域および前記ダミー領域のほかに、へりの部分に、前記樹脂製パッケージの領域および前記ダミー領域の全体を囲むように枠部となる領域が設けられていることを特徴とする。 Next, the resin package array sheet according to one aspect of the present invention is a resin package array sheet in which resin packages are arrayed vertically and horizontally, and each of the resin packages includes a resin layer and the resin layer. A device embedded and embedded within the thickness of the device, and a vertical conductor connected to the device provided through the resin layer overlapping the device, or the resin layer penetrating the resin layer in a region without the device And a wiring layer provided on the resin layer so as to be connected to the vertical conductor, and a dummy region is adjacent to each region occupied by the resin package. And the resin package region and the dummy region are alternately arranged in at least one of a horizontal direction and a vertical direction, and the resin package region and the resin package region Besides Me region, the portion of the helicopter, characterized in that the region to be the frame portion so as to surround the entire region and the dummy region of the resin package is provided.

この樹脂製パッケージ配列シートは、上記の第1の参考態様である製造方法(樹脂製パッケージ配列シートの大きさがあらかじめ指定されている場合を含む)によって製造され得る樹脂製パッケージを得るための中間体(配列シート)である。このような配列シートは、その形態を維持して流通し、応用機器を構成する回路基板の組み立てに供給され得る。   This resin package array sheet is an intermediate for obtaining a resin package that can be manufactured by the manufacturing method according to the first reference aspect (including the case where the size of the resin package array sheet is specified in advance). Body (array sheet). Such an array sheet may be distributed while maintaining its form, and supplied to the assembly of the circuit board constituting the application device.

また、本発明の別の(第2の)態様である部品内蔵樹脂モジュール配列シートは、部品内蔵樹脂モジュールが縦横に配列された部品内蔵樹脂モジュール配列シートであって、前記部品内蔵樹脂モジュールのそれぞれが、樹脂層と、該樹脂層の厚み内に内包され埋め込まれたデバイスと、該デバイスに重なる前記樹脂層を貫通して設けられた該デバイスにつながる縦方向導電体または該デバイスのない領域の前記樹脂層に該樹脂層を貫通して設けられた縦方向導電体と、前記縦方向導電体につながるように前記樹脂層上に設けられた配線層と、を有し、前記部品内蔵樹脂モジュールの占める各領域の隣にダミー領域が設けられ、かつ該部品内蔵樹脂モジュールの領域と該ダミー領域とが横方向または縦方向の少なくとも一方の方向に交互に並べられており、前記部品内蔵樹脂モジュールの領域および前記ダミー領域のほかに、へりの部分に、前記部品内蔵樹脂モジュールの領域および前記ダミー領域の全体を囲むように枠部となる領域が設けられていることを特徴とする。 Moreover, the component built-in resin module array sheet according to another (second) aspect of the present invention is a component built-in resin module array sheet in which the component built-in resin modules are arrayed vertically and horizontally. Of a resin layer, a device embedded and embedded within the thickness of the resin layer, a longitudinal conductor connected to the device provided through the resin layer overlapping the device, or a region without the device A resin module with a built-in component , comprising: a longitudinal conductor provided through the resin layer through the resin layer; and a wiring layer provided on the resin layer so as to be connected to the longitudinal conductor. A dummy region is provided next to each region occupied by the component, and the region of the component built-in resin module and the dummy region are alternately arranged in at least one of the horizontal direction and the vertical direction. In addition to the region of the resin module with a built-in component and the dummy region, a region serving as a frame is provided at the edge portion so as to surround the entire region of the resin module with a built-in component and the dummy region. It is characterized by being.

この部品内蔵樹脂モジュール配列シートは、上記の第2の参考態様である製造方法(部品内蔵樹脂モジュール配列シートの大きさがあらかじめ指定されている場合を含む)によって製造され得る部品内蔵樹脂モジュールを得るための中間体(配列シート)である。このような配列シートは、その形態を維持して流通し、応用機器を構成する回路基板の組み立てに供給され得る。   This component-embedded resin module array sheet obtains a component-embedded resin module that can be manufactured by the manufacturing method according to the second reference embodiment (including the case where the size of the component-embedded resin module array sheet is specified in advance). Intermediate (array sheet). Such an array sheet may be distributed while maintaining its form, and supplied to the assembly of the circuit board constituting the application device.

また、本発明のさらに別の(第3の)態様である樹脂製パッケージ配列シートは、樹脂製パッケージが縦横に配列された樹脂製パッケージ配列シートであって、前記樹脂製パッケージのそれぞれが、開口を備えた第1の樹脂層と、前記開口内に収められるように位置しているデバイスと、前記第1の樹脂層上に積層されかつ前記第1の樹脂層の前記開口を充填し前記デバイスを埋め込んでいる第2の樹脂層と、前記第1の樹脂層が位置する側とは反対の側の前記第2の樹脂層上に設けられた配線層と、を有し、前記樹脂製パッケージの占める各領域の隣にダミー領域が設けられ、かつ該樹脂製パッケージの領域と該ダミー領域とが横方向または縦方向の少なくとも一方の方向に交互に並べられており、前記樹脂製パッケージの領域および前記ダミー領域のほかに、へりの部分に、前記樹脂製パッケージの領域および前記ダミー領域の全体を囲むように枠部となる領域が設けられていることを特徴とする。 The resin package array sheet according to yet another (third) aspect of the present invention is a resin package array sheet in which resin packages are arrayed vertically and horizontally, and each of the resin packages has an opening. A first resin layer comprising: a device positioned so as to be accommodated in the opening; and the device laminated on the first resin layer and filling the opening of the first resin layer And a wiring layer provided on the second resin layer on the side opposite to the side where the first resin layer is located, and the resin package A dummy region is provided next to each region occupied by the resin package, and the resin package region and the dummy region are alternately arranged in at least one of the horizontal direction and the vertical direction, and the resin package region And said Besides Me region, the portion of the helicopter, characterized in that the region to be the frame portion so as to surround the entire region and the dummy region of the resin package is provided.

この樹脂製パッケージ配列シートは、上記の第3の参考態様である製造方法(樹脂製パッケージ配列シートの大きさがあらかじめ指定されている場合を含む)によって製造され得る樹脂製パッケージを得るための中間体(配列シート)である。このような配列シートは、その形態を維持して流通し、応用機器を構成する回路基板の組み立てに供給され得る。   This resin package array sheet is an intermediate for obtaining a resin package that can be manufactured by the manufacturing method according to the third reference embodiment (including the case where the size of the resin package array sheet is specified in advance). Body (array sheet). Such an array sheet may be distributed while maintaining its form, and supplied to the assembly of the circuit board constituting the application device.

また、本発明のさらに別の(第4の)態様である部品内蔵樹脂モジュール配列シートは、部品内蔵樹脂モジュールが縦横に配列された部品内蔵樹脂モジュール配列シートであって、前記部品内蔵樹脂モジュールのそれぞれが、開口を備えた第1の樹脂層と、前記開口内に収められるように位置しているデバイスと、前記第1の樹脂層上に積層されかつ前記第1の樹脂層の前記開口を充填し前記デバイスを埋め込んでいる第2の樹脂層と、前記第1の樹脂層が位置する側とは反対の側の前記第2の樹脂層上に設けられた配線層と、を有し、前記部品内蔵樹脂モジュールの占める各領域の隣にダミー領域が設けられ、かつ該部品内蔵樹脂モジュールの領域と該ダミー領域とが横方向または縦方向の少なくとも一方の方向に交互に並べられており、前記部品内蔵樹脂モジュールの領域および前記ダミー領域のほかに、へりの部分に、前記部品内蔵樹脂モジュールの領域および前記ダミー領域の全体を囲むように枠部となる領域が設けられていることを特徴とする。 The component-embedded resin module array sheet according to yet another (fourth) aspect of the present invention is a component-embedded resin module array sheet in which the component-embedded resin modules are arranged vertically and horizontally. Each of the first resin layer provided with an opening, the device positioned so as to be accommodated in the opening, and the opening of the first resin layer laminated on the first resin layer A second resin layer filling and embedding the device, and a wiring layer provided on the second resin layer opposite to the side where the first resin layer is located , A dummy region is provided next to each region occupied by the component built-in resin module, and the region of the component built-in resin module and the dummy region are alternately arranged in at least one of the horizontal direction and the vertical direction, In addition to the component built-in resin module region and the dummy region, an edge portion is provided with a region serving as a frame so as to surround the entire component built-in resin module region and the dummy region. And

この部品内蔵樹脂モジュール配列シートは、上記の第4の参考態様である製造方法(部品内蔵樹脂モジュール配列シートの大きさがあらかじめ指定されている場合を含む)によって製造され得る部品内蔵樹脂モジュールを得るための中間体(配列シート)である。このような配列シートは、その形態を維持して流通し、応用機器を構成する回路基板の組み立てに供給され得る。   This component-embedded resin module array sheet obtains a component-embedded resin module that can be manufactured by the manufacturing method according to the fourth reference aspect (including the case where the size of the component-embedded resin module array sheet is specified in advance). Intermediate (array sheet). Such an array sheet may be distributed while maintaining its form, and supplied to the assembly of the circuit board constituting the application device.

本発明によれば、半導体チップなどを収容するための樹脂製パッケージを配列した樹脂製パッケージ配列シート、および電子部品などの部品を内蔵した部品内蔵樹脂モジュールを配列した部品内蔵樹脂モジュール配列シートにおいて、収容、内蔵されるデバイスの面積占有率を高めることができる。   According to the present invention, in a resin package arrangement sheet in which resin packages for housing semiconductor chips and the like are arranged, and in a component built-in resin module arrangement sheet in which component built-in resin modules containing components such as electronic components are arranged, It is possible to increase the area occupancy of the device that is housed and incorporated.

以下では、製造方法を含めて示されるが、そこでの記載に関わらず、それらの製造方法自体は参考態様である。   In the following, although the manufacturing method is shown, the manufacturing method itself is a reference embodiment regardless of the description therein.

本発明の一実施形態である樹脂製パッケージの製造方法を模式的に説明する原理的な工程図。The principle process drawing which illustrates typically the manufacturing method of the resin package which is one Embodiment of this invention. 参照例である樹脂製パッケージの製造方法を、図1に示した製造方法と模式的に比較説明する工程図。Process drawing which compares and demonstrates the manufacturing method of the resin-made packages which are reference examples typically with the manufacturing method shown in FIG. 本発明の一実施形態に係る樹脂製パッケージ配列シートの構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the resin package arrangement | sequence sheet | seats concerning one Embodiment of this invention. 図3に示した樹脂製パッケージ配列シートの好ましい流通態様の一例を示す平面図および断面図。The top view and sectional drawing which show an example of the preferable distribution | circulation aspect of the resin-made package arrangement | sequence sheet | seats shown in FIG. 本発明の別の実施形態に係る樹脂製パッケージ配列シートの構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the resin package arrangement | positioning sheet | seats concerning another embodiment of this invention. 図3、図5に示した樹脂製パッケージ配列シートの各片である樹脂製パッケージの具体的構成例を示す断面図。Sectional drawing which shows the specific structural example of the resin package which is each piece of the resin package arrangement | sequence sheet | seats shown in FIG. 3, FIG. 図6に示したものとは異なる、図3、図5に示した樹脂製パッケージ配列シートの各片である樹脂製パッケージの具体的構成例を示す断面図。Sectional drawing which shows the specific structural example of the resin package which is each piece of the resin package arrangement | sequence sheets shown in FIG. 3, FIG. 5 different from what was shown in FIG. 本発明の別の実施形態である部品内蔵樹脂モジュールの製造方法を模式的に説明する原理的な工程図。The principle process drawing which illustrates typically the manufacturing method of the component built-in resin module which is another embodiment of this invention. 参照例である部品内蔵樹脂モジュールの製造方法を、図8に示した製造方法と模式的に比較説明する工程図。FIG. 9 is a process diagram schematically illustrating a method for manufacturing a component-embedded resin module as a reference example in comparison with the manufacturing method illustrated in FIG. 8. 図8に示した製造方法による部品内蔵樹脂モジュール配列シートの各片である部品内蔵樹脂モジュールの具体的構成例を示す断面図。Sectional drawing which shows the specific structural example of the component built-in resin module which is each piece of the component built-in resin module arrangement | sequence sheet | seat by the manufacturing method shown in FIG.

第1、第2の参考態様では、前記樹脂製パッケージのそれぞれに埋め込まれる前記デバイスが複数あり、前記面積Aとして該複数のデバイスについての面積総和を用い、前記厚みBとして該複数のデバイスについての体積総和を前記面積総和で除算して求めた平均の厚みを用いる、とすることができる。   In the first and second reference aspects, there are a plurality of the devices embedded in each of the resin packages, the total area of the plurality of devices is used as the area A, and the thickness B is about the plurality of devices. The average thickness obtained by dividing the volume sum by the area sum can be used.

これは、埋め込まれるデバイスが複数ある場合についての換算方法である。このように考えれば、埋め込まれるデバイスが複数ある場合についても同じ考えが適用できる。なお、複数のデバイスが埋設される場合として、例えば、半導体チップと受動素子部品(チップキャパシタなど)とが埋設される場合などが挙げられる。この実施態様は、部品内蔵樹脂モジュールの場合も同様である。   This is a conversion method for a case where there are a plurality of embedded devices. In this way, the same idea can be applied to the case where there are a plurality of embedded devices. In addition, as a case where a plurality of devices are embedded, for example, a case where a semiconductor chip and a passive element component (such as a chip capacitor) are embedded can be cited. This embodiment is the same in the case of the resin module with a built-in component.

また、第3、第4の参考態様では、前記樹脂製パッケージのそれぞれに埋め込まれる前記デバイスが複数あり、前記開口の前記面積Soとして該複数のデバイスのためのすべての開口についての総面積を用い、前記開口の前記深さDoとして該すべての開口についての容積総和を前記総面積で除算して求めた平均の深さを用い、前記面積Aとして前記複数のデバイスについての面積総和を用い、前記厚みBとして前記複数のデバイスについての体積総和を前記面積総和で除算して求めた平均の厚みを用いる、とすることができる。   In the third and fourth reference aspects, there are a plurality of devices embedded in each of the resin packages, and the total area of all the openings for the plurality of devices is used as the area So of the openings. , Using the average depth obtained by dividing the total volume for all the openings by the total area as the depth Do of the openings, and using the total area for the plurality of devices as the area A, As the thickness B, an average thickness obtained by dividing a volume sum for the plurality of devices by the area sum can be used.

これも、埋め込まれるデバイスが複数ある場合についての換算方法である。このように考えれば、埋め込まれるデバイスが複数ある場合についても同じ考えが適用できる。複数のデバイスが埋設される場合として、例えば、半導体チップと受動素子部品(チップキャパシタなど)とが埋設される場合などが挙げられる。この実施態様は、部品内蔵樹脂モジュールの場合も同様である。   This is also a conversion method when there are a plurality of embedded devices. In this way, the same idea can be applied to the case where there are a plurality of embedded devices. As a case where a plurality of devices are embedded, for example, a case where a semiconductor chip and a passive element component (such as a chip capacitor) are embedded can be cited. This embodiment is the same in the case of the resin module with a built-in component.

樹脂製パッケージ配列シートとしての実施態様として、前記樹脂製パッケージの領域と前記ダミー領域とを有する前記樹脂製パッケージ配列シートの全体の片面全面に貼付された粘着テープを有し、該粘着テープ上で、前記樹脂製パッケージと前記ダミー領域とがそれぞれ個片化された状態になっている、とすることができる。   As an embodiment as a resin package arrangement sheet, it has an adhesive tape affixed to the entire surface of one side of the resin package arrangement sheet having the resin package area and the dummy area, on the adhesive tape The resin package and the dummy region can be separated into individual pieces.

これは、樹脂製パッケージとして個片化が終わった状態のものであるが、その樹脂製パッケージが粘着テープ上に粘着されてダミー領域とともに並べられた態様のものである。このような態様によると、シートの中から個々のパッケージをマウンタヘッドによりピックアップし、マザーボードなどの基板上にマウントすることが容易にできる。すなわち、応用機器の製造効率化に資することができる。この実施態様は、部品内蔵樹脂モジュールの場合も同様に適用できる。   This is a state in which the resin package has been separated into individual pieces, but the resin package is adhered to the adhesive tape and arranged together with the dummy area. According to such an embodiment, individual packages can be easily picked up from the sheet by the mounter head and mounted on a substrate such as a mother board. That is, it can contribute to the manufacturing efficiency improvement of applied equipment. This embodiment can be similarly applied to the case of a resin module with a built-in component.

以上を踏まえ、以下では本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施形態である樹脂製パッケージの製造方法を模式的に説明する原理的な工程図である。この実施形態は、プリプレグ13を由来とする樹脂層13Aに、面積A、厚みBを有するデバイス12を、この厚みBを樹脂層13Aの厚みに内包するように埋め込み、デバイス12に重なる樹脂層13Aにはデバイス12につながるビア(縦方向導電体)16を備える樹脂製パッケージの製造方法の場合を対象としている。以下、図面に従い説明する。   Based on the above, embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a principle process diagram schematically illustrating a method for producing a resin package according to an embodiment of the present invention. In this embodiment, a device 12 having an area A and a thickness B is embedded in a resin layer 13A derived from the prepreg 13 so that the thickness B is included in the thickness of the resin layer 13A, and the resin layer 13A is overlapped with the device 12. Is intended for a method of manufacturing a resin package including a via (vertical conductor) 16 connected to the device 12. Hereinafter, it demonstrates according to drawing.

図1(a)に示すように、基材11上に、例えば半導体チップのようなデバイス12をフェースアップで載置、固定する。そして、基材11上には、図示するように、当初厚みがa0、面積がSpであるプリプレグ13が加圧、加熱下、積層される。プリプレグ13のこの積層面とは反対の側の面上には、金属箔(銅箔)14があらかじめ備えられている。金属箔14は、のちにパターン化されて配線層14Aになるものである。   As shown in FIG. 1A, a device 12 such as a semiconductor chip is placed and fixed on a substrate 11 face up. Then, as shown in the figure, a prepreg 13 having an initial thickness of a0 and an area of Sp is laminated on the substrate 11 under pressure and heating. A metal foil (copper foil) 14 is provided in advance on the surface of the prepreg 13 opposite to the laminated surface. The metal foil 14 is later patterned into a wiring layer 14A.

基材11上にプリプレグ13が積層されるときに、加圧、加熱によりプリプレグ13が流動性を得て変形し、デバイス12の側面および上面に密着するように、基材11上に一体化する(図1(b))。これにより、プリプレグ13は硬化して樹脂層13Aになるが、その厚みは、当初厚みa0からa1に増加する。デバイス12に重なるプリプレグ13から、デバイス12のない領域にプリプレグ13の流動が生じるためである。   When the prepreg 13 is laminated on the base material 11, the prepreg 13 is deformed by pressurization and heating so as to obtain fluidity and is integrated on the base material 11 so as to be in close contact with the side surface and the upper surface of the device 12. (FIG. 1 (b)). Thereby, the prepreg 13 is cured to become the resin layer 13A, but the thickness increases from the initial thickness a0 to a1. This is because the prepreg 13 flows from the prepreg 13 overlapping the device 12 to a region where the device 12 is not present.

樹脂層13Aの厚みa1は、(その厚みにかかわる全体積)/(その全面積)=(Sp*a0+A*B)/Spで表わすことができる。また、この厚みa1は、デバイス12上の樹脂層13Aの厚みをdとすると、a1=B+dである。これらの式からSpについて解くと、Sp=A*B/{(B+d)−a0}となる。このSpについての式は、デバイス12の大きさを規定するA、Bと、絶縁層素材として規格化されたプリプレグ13の当初厚みであるa0と、デバイス12に重なる樹脂層13Aとしてコントロールされるべき厚みであるdとが与えられると、プリプレグ13(樹脂層13A)の適切な面積が決定され得ることを示している。   The thickness a1 of the resin layer 13A can be expressed by (total volume related to the thickness) / (total area) = (Sp * a0 + A * B) / Sp. The thickness a1 is a1 = B + d, where d is the thickness of the resin layer 13A on the device 12. Solving for Sp from these equations yields Sp = A * B / {(B + d) -a0}. The formula for Sp should be controlled as A and B that define the size of the device 12, a0 that is the initial thickness of the prepreg 13 that is standardized as an insulating layer material, and a resin layer 13A that overlaps the device 12. Given that d is the thickness, it indicates that an appropriate area of the prepreg 13 (resin layer 13A) can be determined.

デバイス12に重なる樹脂層13Aの厚みdをコントロールするのは、この部分に、以下説明するように、デバイス12につながるビア(縦方向導電体)16のためのビアホール15を、例えばレーザ加工して設けるため、過度に厚い場合には加工が不十分になったり、あるいはその厚い場合のためだけに特別な対応が必要になったりして製造効率に難を生じるためである。   The thickness d of the resin layer 13A overlapping the device 12 is controlled by, for example, laser processing a via hole 15 for a via (vertical conductor) 16 connected to the device 12 in this portion, as will be described below. This is because if the thickness is excessively thick, the processing becomes insufficient, or a special measure is required only for the thick thickness, resulting in difficulty in manufacturing efficiency.

なお、Spを即、樹脂製パッケージとしての製品サイズとして設定の場合には、式:Sp=A*B/{(B+d)−a0}をa0について解いて、a0=f(Sp,A,B,d)を得ることにより、デバイス12に重なる樹脂層13Aの厚みとすべきdを与えれば、このa0を求め得る。このような厚みa0のプリプレグ13を選択すれば、デバイス12に重なる樹脂層13Aの厚みを所望のdにすることができるとも考えられるが、一般にプリプレグの厚みは規格化されていて、飛び飛びの値の厚みのものしかない。それから外れる厚みのものは特注品になり高価になってしまう。   When Sp is immediately set as the product size as a resin package, the equation: Sp = A * B / {(B + d) -a0} is solved for a0, and a0 = f (Sp, A, B , D), the value of a0 can be obtained by giving d which should be the thickness of the resin layer 13A overlapping the device 12. If the prepreg 13 having such a thickness a0 is selected, it is considered that the thickness of the resin layer 13A overlapping the device 12 can be set to a desired value d. However, in general, the thickness of the prepreg is standardized, and the jump value There is only the thing of thickness. Thicknesses that deviate from it become custom-made and become expensive.

図1を参照する説明に戻り、図1(b)に示すように積層がなされたら、次に、樹脂層13Aおよび金属箔14に対して、デバイス12まで貫通するビアホール15を例えばレーザ加工により形成する。そして、例えば無電解めっきおよび電解めっきの工程を行い、図1(d)に示すように、ビアホール15内を充填するようにめっきビア(縦方向導電体)16を形成する。   Returning to the description with reference to FIG. 1, when lamination is performed as shown in FIG. 1B, next, via holes 15 that penetrate to the device 12 are formed in the resin layer 13 </ b> A and the metal foil 14 by, for example, laser processing. To do. Then, for example, electroless plating and electrolytic plating processes are performed to form plating vias (vertical conductors) 16 so as to fill the via holes 15 as shown in FIG.

さらに、図1(e)に示すように、表層にある金属箔14を、例えば周知のフォトリソグラフィ工程により所定にパターニングして配線パターン14Aに加工する。以上により、樹脂製パッケージ形成のための主要な工程は終了する。   Further, as shown in FIG. 1E, the metal foil 14 on the surface layer is patterned into a wiring pattern 14A by predetermined patterning, for example, by a well-known photolithography process. Thus, the main process for forming the resin package is completed.

この図1(e)に示すように形成された面積Spの積層体については、製品である樹脂製パッケージとしての領域(一辺j、他辺kの領域)と、それ以外の領域(ダミー領域)とで構成されるものとして扱う。換言すると、本来必要とする樹脂製パッケージの領域の隣にダミー領域を設け、このダミー領域に樹脂層13Aの余分な体積分を吸収させ、その厚みを所望に低減した構成である。ダミー領域の面積は、Sp−j*kになる。このようにダミー領域を設けることにより、デバイス12に重なる樹脂層13Aの厚みdを所望にコントロールできる。ダミー領域は、ダイシングライン17により製品である樹脂製パッケージの領域から分離される。   As for the laminate having the area Sp formed as shown in FIG. 1E, a region (region of one side j and a region k of other side) as a resin package as a product and a region other than that (dummy region) It is treated as consisting of In other words, a dummy region is provided next to the region of the resin package that is originally required, and the excess volume of the resin layer 13A is absorbed in this dummy region, and the thickness thereof is reduced as desired. The area of the dummy region is Sp-j * k. By providing the dummy area in this way, the thickness d of the resin layer 13A overlapping the device 12 can be controlled as desired. The dummy area is separated from the resin package area as a product by the dicing line 17.

なお、実際には、ダミー領域の面積は上記のような計算で求められた値から微調整された値となることはあり得る。微調整される要因となるひとつは、実際に製造される場合には、配列シートや大判のパネル(後述する)に複数のものが並べて製造されることが多く、その場合には、個々の製品どうしの間にもともと枠領域や切りしろなどとなる領域が用意されており、その部分も実際には樹脂層13Aの余分な体積分が吸収される領域としてはたらくからである。さらには、要因として、プリプレグ13から樹脂層13Aに変性のときの膨張または収縮や、局部的な厚み変動要因を勘案して安全側を見込む必要などが考えられる。   In practice, the area of the dummy region may be a value finely adjusted from the value obtained by the above calculation. One of the factors that make fine adjustments is that, when actually manufactured, a plurality of products are often arranged side by side on an array sheet or a large panel (described later). This is because a frame region, a margin for cutting, and the like are prepared between the two, and the portion also actually functions as a region where the excess volume of the resin layer 13A is absorbed. Furthermore, as factors, it may be necessary to allow for a safe side in consideration of expansion or contraction when the prepreg 13 is modified to the resin layer 13A, or local thickness variation factors.

ダミー領域では、プリプレグ13に接する基材11上での状態とプリプレグ13との関係において、製品となる樹脂製パッケージの領域と同様な条件をあえて設定するようにしてもよい。例えば、樹脂製パッケージの領域の基材11上に配線パターンが設けられている場合には、ダミー領域にも、その基材11上に同様の密度でダミー配線を設けることができる。このように条件を揃えることで、製品となる樹脂製パッケージの領域とダミー領域とで平均化した偏りのないプリプレグ13の積層が可能になる。このような配線パターンが存在することによるその形成密度も上記したダミー領域面積を微調整する要因のひとつになる。   In the dummy area, the same condition as that of the resin package area as a product may be set in relation to the state on the substrate 11 in contact with the prepreg 13 and the prepreg 13. For example, when the wiring pattern is provided on the base material 11 in the resin package region, the dummy wiring can be provided on the base material 11 at the same density in the dummy region. By aligning the conditions in this manner, it is possible to stack the prepregs 13 with no bias averaged between the resin package region and the dummy region as products. The formation density due to the presence of such a wiring pattern is one of the factors for finely adjusting the dummy area.

次に、比較のため、図1に示したような構成の樹脂製パッケージの場合において、何らのダミー領域を設けない場合を図2を参照して説明する。図2は、参照例である樹脂製パッケージの製造方法を、図1に示した製造方法と模式的に比較説明する工程図である。図2において、図1中に示した構成要素と同一または同一相当のものには同一の符号を付している。   Next, for comparison, a case where no dummy region is provided in the case of the resin package having the configuration shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a process diagram schematically illustrating a resin package manufacturing method as a reference example in comparison with the manufacturing method shown in FIG. 2, the same or equivalent components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.

ダミー領域を設けない場合には、図2(a)に示すような積層がなされる。その結果として得られる図2(b)に示すような積層後の状態での樹脂層13Aの厚みa11は、(その厚みにかかわる全体積)/(その全面積)に従い、(j*k*a0+A*B)/(j*k)となる。また、この厚みa11は、デバイス12上の樹脂層13Aの厚みをddとすると、a11=B+ddである。これらの式からddについて解くと、dd=A*B/(j*k)+a0−Bとなる。この値は、当然ながら、図1におけるdであるA*B/Sp+a0−Bより大きい値である(j*k<Spであるため)。   When the dummy area is not provided, the stacking as shown in FIG. As a result, the thickness a11 of the resin layer 13A in the state after lamination as shown in FIG. 2B is (j * k * a0 + A) in accordance with (total volume related to the thickness) / (total area). * B) / (j * k). The thickness a11 is a11 = B + dd where the thickness of the resin layer 13A on the device 12 is dd. When dd is solved from these equations, dd = A * B / (j * k) + a0−B. Naturally, this value is larger than A * B / Sp + a0−B which is d in FIG. 1 (because j * k <Sp).

dd(=A*B/(j*k)+a0−B)は、典型的に、A/(j*k)[=デバイス12の、樹脂製パッケージに対する面積占有率]が大で、大となることが示されている。すなわち、製品である樹脂製パッケージに対する、その収容されるデバイス12の面積占有率が増加すると、一般には、デバイス12上の樹脂層13Aの厚みが増加し、そこにビアホールを形成する場合の支障が生じ得る。   dd (= A * B / (j * k) + a0−B) typically has a large A / (j * k) [= area occupancy of the device 12 with respect to the resin package]. It has been shown. That is, when the area occupancy of the device 12 accommodated in the resin package as a product increases, the thickness of the resin layer 13A on the device 12 generally increases, and there is a problem in forming a via hole therein. Can occur.

この点、図1に示したようにダミー領域を設ける場合には、デバイス12の面積占有率が増加してもそれに応じてデバイス12上の樹脂層13Aの厚みを所望にコントロールすることができている。よって、図1に示した構成は、製品である樹脂製パッケージに対する、その収容されるデバイス12の面積占有率を増加させ得る構成とも言える。なお、一般にデバイス12の厚みBについては、面積Aほどには変動する要素が小さく一定していると言えるため、数値A/(j*k)ほどに数値B/(j*k)の重要性は高くない。   In this regard, when a dummy region is provided as shown in FIG. 1, the thickness of the resin layer 13A on the device 12 can be controlled as desired even if the area occupancy of the device 12 increases. Yes. Therefore, the configuration shown in FIG. 1 can also be said to be a configuration that can increase the area occupancy rate of the device 12 accommodated in a resin package as a product. In general, it can be said that the thickness B of the device 12 is as small and constant as the area A, and therefore the importance of the numerical value B / (j * k) as much as the numerical value A / (j * k). Is not expensive.

ちなみに、製品である樹脂製パッケージの面積と比較したときの、ダミー領域を含めた樹脂層13Aの想定される面積については、以下である。一般にA<j*kなので、式:Sp=A*B/{(B+d)−a0}において、Aの代わりにj*kを代入し、Sp<j*k*B/{(B+d)−a0}となる。j*kは、製品である樹脂製パッケージの面積なので、ダミー領域を含めた樹脂層13Aの想定される面積Spは、製品である樹脂製パッケージの面積のB/{(B+d)−a0}倍未満ということになる。   Incidentally, the assumed area of the resin layer 13A including the dummy region when compared with the area of the resin package as the product is as follows. In general, since A <j * k, in the formula: Sp = A * B / {(B + d) −a0}, j * k is substituted for A and Sp <j * k * B / {(B + d) −a0 }. Since j * k is the area of the resin package that is the product, the assumed area Sp of the resin layer 13A including the dummy region is B / {(B + d) −a0} times the area of the resin package that is the product. Will be less than.

次に、上記で得られたダミー領域の大きさを踏まえ、樹脂製パッケージ配列シートとして構成する場合を図3を参照して説明する。図3は、本発明の一実施形態に係る樹脂製パッケージ配列シートの構成を示す平面図である。   Next, based on the size of the dummy area obtained as described above, a case where it is configured as a resin package array sheet will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a plan view showing the configuration of a resin package array sheet according to an embodiment of the present invention.

樹脂製パッケージ配列シートとは、製品である樹脂製パッケージが縦横に並んで構成された薄板状のものである。シートの形態で製造されると、次に、そのシートをダイシングしたままの状態を維持して流通させ、応用機器に使用の回路基板の組み立てに供給することができる(図4を参照して後述する)。この組み立て時には、シートの中から個々のパッケージがマウンタヘッドによりピックアップされて、マザーボードなどの基板上にマウントされ得る。シート状で流通、供給されることにより応用機器の生産効率化に適している。   The resin package array sheet is a thin plate-like structure in which resin packages as products are arranged vertically and horizontally. Once manufactured in the form of a sheet, the sheet can then be circulated while being diced, and supplied to the assembly of a circuit board for use in application equipment (described later with reference to FIG. 4). To do). At the time of assembly, individual packages can be picked up from the sheet by a mounter head and mounted on a substrate such as a mother board. It is suitable for increasing the production efficiency of applied equipment by being distributed and supplied in sheet form.

図3に示すように、この配列シート1では、一辺長jおよび他辺長kを有する樹脂製パッケージ10の占める各領域の一辺を介した隣に一辺長がjで他辺長がk2−k(=Sp/j−k)であるダミー片20を一辺長jが共通するように設け、かつ樹脂製パッケージ20の領域とダミー片20とが図示縦方向に交互に並べられるレイアウトを採用している。これは、求められた面積値Spに対応して、一辺がj、他辺がSp/j(=k2)の矩形を考え、そのうちのj*k(一辺長j、他辺長k)を樹脂製パッケージ10の領域に当て、残りをダミー領域(ダミー片20の領域)としたからである。   As shown in FIG. 3, in this arrangement sheet 1, one side length is j and the other side length is k 2 -k adjacent to each other through one side of each region occupied by the resin package 10 having one side length j and the other side length k. Adopting a layout in which dummy pieces 20 (= Sp / j−k) are provided so that one side length j is common, and regions of the resin package 20 and the dummy pieces 20 are alternately arranged in the vertical direction in the figure. Yes. This corresponds to the obtained area value Sp, and considers a rectangle with one side j and the other side Sp / j (= k2), and j * k (one side length j, other side length k) of the rectangle is resin. This is because it is applied to the area of the package 10 and the rest is set as a dummy area (area of the dummy piece 20).

なお、この配列シート1の縁に設けられた枠部30の領域には、以下の機能を持たせることができる。すなわち、枠部30には、不図示の、ダイシング位置指定のためのマークなどのパターンが記されている。このシートをダイシングする場合には、ダイサーがこのマークを読み取ってダイシングブレードを位置決めし、図示の破線に従うようにダイシングすることができる。   In addition, the area | region of the frame part 30 provided in the edge of this arrangement | sequence sheet | seat 1 can be given the following functions. That is, a pattern such as a mark for designating a dicing position (not shown) is written on the frame portion 30. When the sheet is diced, the dicer reads the mark, positions the dicing blade, and dices so as to follow the broken line shown in the figure.

このような枠部30を設けるため、この部分も実際には樹脂層13Aの余分な体積分が吸収される領域としてはたらく。そこで、図3における、樹脂製パッケージ10のより配列シート1の縁の側に設けられる一列のダミー片20aについてはこれを設けない、とするレイアウトとすることもできる。   Since such a frame portion 30 is provided, this portion also actually functions as a region where the excess volume of the resin layer 13A is absorbed. Therefore, a layout in which the one row of dummy pieces 20a provided on the edge side of the array sheet 1 of the resin package 10 in FIG. 3 is not provided may be employed.

この配列シート1は、さらに大判のパネル(不図示)上に複数個並べて製造することができる。このように製造すれば、さらに効率的な製造ができる。大判のパネルからの配列シート1の切り出しは、周知の例えばルータを用いて行うことができる。このような大判のパネルを考えたとき、配列シート1のようなダミー領域を有する構成で樹脂製パッケージを製造することは、配列シート1がダミー領域を有していても、ダミー領域なくパネルの中に個々に樹脂製パッケージを並べて製造する場合に比べて、必ずしも取り数の減少になるわけではない。   A plurality of the array sheets 1 can be manufactured side by side on a large panel (not shown). If manufactured in this way, more efficient manufacturing can be performed. The arrangement sheet 1 can be cut out from the large panel using a known router, for example. Considering such a large panel, manufacturing a resin package with a configuration having a dummy area such as the array sheet 1 means that even if the array sheet 1 has a dummy area, there is no dummy area. Compared to the case where individual resin packages are arranged side by side, the number is not necessarily reduced.

すなわち、ダミー領域なくパネルの中に個々に樹脂製パッケージを並べて製造する場合には、パネルから、製品である個々の樹脂製パッケージを切り出すのに、例えばルータが用いられ、このときルータによる溝は、各製品の周りに設ける必要がある。製品と製品とがルータによる溝で分離はされない。すなわち、パネルには、切りしろを含む、製品の領域にならないむだな領域を確保する必要がある。   That is, when resin packages are individually arranged in a panel without a dummy area, for example, a router is used to cut out individual resin packages that are products from the panel. It is necessary to provide around each product. The product and the product are not separated by the groove formed by the router. That is, it is necessary to secure a waste area that does not become a product area, including a margin, in the panel.

配列シートの構成で樹脂製パッケージをパネルに製造する場合には、製品が配列としてまとまり隣接しているので、このようなむだな領域を大きく減じることができる。したがって、配列シート1内にはダミー領域が設けられるとしても、パネルの中に、個々にルータで切り出され分離される樹脂製パッケージが並べられる場合に比べて、必ずしも取り数の減少にならず、むしろ増加する可能性が大きい。   In the case of manufacturing a resin package with a configuration of an array sheet on a panel, since the products are arranged in an array and are adjacent to each other, such a waste area can be greatly reduced. Therefore, even if a dummy area is provided in the array sheet 1, the number of picks is not necessarily reduced as compared with the case where resin packages that are individually cut out and separated by a router are arranged in the panel. Rather, it is likely to increase.

次に、図4は、図3に示した樹脂製パッケージ配列シートの好ましい流通態様の一例を示す平面図(図4(a))および断面図(図4(b))である。図4において、すでに説明した図中に示したものと同一のものには同一符号を付してある。   Next, FIG. 4 is a plan view (FIG. 4A) and a cross-sectional view (FIG. 4B) showing an example of a preferable distribution mode of the resin package arrangement sheet shown in FIG. 3. In FIG. 4, the same reference numerals are given to the same components as those shown in the already described drawings.

図3に示すように構成された配列シートは、図4に示すように、上面に粘着性を有するダイシングテープ(粘着テープ)31およびこれを枠取るダイシングフレーム32を伴った形態で流通させることができる。このようにダイシングテープ31およびダイシングフレーム32を伴った形態では、ダイシング済みの配列シート1Dを、各樹脂製パッケージ10がばらばらの状態になることなく、応用機器に使用の回路基板の組み立て工程に供給することができる。   As shown in FIG. 4, the arrangement sheet configured as shown in FIG. 3 can be circulated in a form with a dicing tape (adhesive tape) 31 having adhesiveness on the upper surface and a dicing frame 32 that frames this. it can. As described above, in the form with the dicing tape 31 and the dicing frame 32, the diced array sheet 1D is supplied to the assembly process of the circuit board used for the application equipment without the resin packages 10 being separated. can do.

図4(b)に示すように、ダイシングフレーム32の下面にダイシングテープ31が粘着で留められており、配列シート1Dは、ダイシングフレーム32の内側で、ダイシングテープ31の粘着面上に位置している。そして、配列シート1Dは、ダイシングテープ31の中途厚さまでの見当でダイサーによりダイシングされ、各樹脂製パッケージ10と各ダミー片20とが分離されている。ダイシングテープ31およびダイシングフレーム32は、このように本来、ダイシング前のウエハやシートをダイシングするための構成である。   As shown in FIG. 4B, the dicing tape 31 is fixed to the lower surface of the dicing frame 32 with an adhesive, and the array sheet 1D is positioned on the adhesive surface of the dicing tape 31 inside the dicing frame 32. Yes. The array sheet 1D is diced by a dicer with a register up to the middle thickness of the dicing tape 31, and the resin packages 10 and the dummy pieces 20 are separated. The dicing tape 31 and the dicing frame 32 are originally configured for dicing the wafer or sheet before dicing.

マウンタで各樹脂製パッケージ10をピックアップする場合には、ダイシングテープ31の下面の、ピックアップしようとするパッケージ10に対応する位置に丸突起を押し当ててそのパッケージ10をダイシングテープ31の粘着性から開放し、その状態でパッケージ10の上面をマウンタのヘッドでバキューム吸着する。   When each resin package 10 is picked up by the mounter, the round protrusion is pressed against the position corresponding to the package 10 to be picked up on the lower surface of the dicing tape 31 to release the package 10 from the adhesiveness of the dicing tape 31. In this state, the upper surface of the package 10 is vacuum-adsorbed by the mounter head.

ダイシングテープ31およびダイシングフレーム32が配列シート1をダイシングするための構成である点を補足する。ダイシングテープ31は、当初はテープ状になっていて専用機によりロールから引き出される。このとき、その引き出されて平面になっている粘着面(下面)側が、例えばアルミニウムでできたダイシングフレーム32に対向するようにされる。そして、ダイシングフレーム32の内側の領域のダイシングテープ31に向けてダイシング前の配列シート1を、ダイシングフレーム32とともに(または配列シート1、ダイシングフレーム32の順で)押し付け、配列シート1およびダイシングフレーム32をダイシングテープ31に粘着させる。   It supplements that the dicing tape 31 and the dicing frame 32 are the structures for dicing the arrangement | sequence sheet | seat 1. FIG. The dicing tape 31 is initially in the form of a tape and is drawn from the roll by a dedicated machine. At this time, the adhesive surface (lower surface) side that is drawn out and is flat is opposed to the dicing frame 32 made of, for example, aluminum. Then, the array sheet 1 before dicing is pressed together with the dicing frame 32 (or in the order of the array sheet 1 and the dicing frame 32) toward the dicing tape 31 in the region inside the dicing frame 32, and the array sheet 1 and the dicing frame 32 are pressed. Is adhered to the dicing tape 31.

配列シート1およびダイシングフレーム32がダイシングテープ31に粘着されたあと、ダイシングフレーム32の外側に広がるダイシングテープ31の不要領域は切除される。この状態でダイサーに適用され、配列シート1は、ダイシングテープ31の中途厚さまでの見当でダイサーによりダイシングされ個片化された状態(しかしながらばらばらにならず配列は保った状態)になる。   After the arrangement sheet 1 and the dicing frame 32 are adhered to the dicing tape 31, unnecessary areas of the dicing tape 31 spreading outside the dicing frame 32 are cut off. In this state, it is applied to the dicer, and the arrangement sheet 1 is diced by the dicer up to the middle thickness of the dicing tape 31 and separated into pieces (however, the arrangement sheet 1 is not separated but kept in the arrangement).

次に、図5は、本発明の別の実施形態に係る樹脂製パッケージ配列シートの構成を示す平面図である。この実施形態では、配列シート1A内での枠部30Aを除く有効領域の大きさがあらかじめ指定されていることを前提とする。図5に示すように、このような有効領域としてその一辺長をLx、他辺長をLyとする。このような場合、ダミー領域を、横方向または縦方向の一方の方向のみに製品片と交互に設けることを条件とすると、有効領域内での、面積Spの領域の収まりに無駄が出て生産性が劣化する可能性がある。   Next, FIG. 5 is a plan view showing a configuration of a resin package array sheet according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, it is assumed that the size of the effective area excluding the frame portion 30A in the array sheet 1A is specified in advance. As shown in FIG. 5, as such an effective region, its one side length is Lx and the other side length is Ly. In such a case, if it is a condition that the dummy regions are alternately provided with the product pieces only in one of the horizontal direction and the vertical direction, the production of the area of the area Sp within the effective region is wasted. May deteriorate.

そこで、図5に示すように、ダミー領域の取り方に融通性を持たせ、製品片である樹脂製パッケージ10の並びに対して、それらの横方向および縦方向の両方で交互にダミー片20d、20eを設けるようなレイアウトとする。縦方向1列のダミー片20dと横方向1列のダミー片20eとの交差領域には、ダミー片20fも設けられることになる。樹脂製パッケージ10の領域と、各ひとつのダミー片20d、20e、20fの領域とで面積がSpになる(面積をSpとしている)ことは、図1での説明のとおりである。   Therefore, as shown in FIG. 5, the dummy regions 20d are arranged in the horizontal direction and the vertical direction alternately with respect to the arrangement of the resin packages 10 which are product pieces as shown in FIG. The layout is such that 20e is provided. A dummy piece 20f is also provided in the intersecting region between the dummy piece 20d in the vertical row and the dummy piece 20e in the horizontal row. As described with reference to FIG. 1, the area of the resin package 10 and the area of each one of the dummy pieces 20d, 20e, and 20f is Sp (the area is Sp).

樹脂製パッケージ10の配置できる最大の数は、計算上、(Lx*Ly)/Spを超えない最大整数と同数になる。ただし、樹脂製パッケージ10を縦横に並べる関係上、この数は名目上の数となる可能性がある。一方、配置できる最小の数は、いかに少なくとも、Lxの方向(jの方向)にはダミー領域を設定しないとして求められるLyの方向の製品数(Ly*j)/Spと、Lyの方向(kの方向)にはダミー領域を設定しないとして求められるLxの方向の製品数(Lx*k)/Spとの積である{(Lx*Ly)/Sp}*{(j*k)/Sp}と同数にはなる。   The maximum number of resin packages 10 that can be arranged is the same as the maximum integer that does not exceed (Lx * Ly) / Sp in the calculation. However, this number may be a nominal number because the resin packages 10 are arranged vertically and horizontally. On the other hand, the minimum number that can be arranged is, at least, the number of products (Ly * j) / Sp in the direction of Ly that is obtained by setting no dummy area in the direction of Lx (direction of j), and the direction of Ly (k {(Lx * Ly) / Sp} * {(j * k) / Sp}, which is the product of the number of products in the Lx direction (Lx * k) / Sp obtained without setting a dummy area in the direction of And the same number.

この実施形態で必要なことは、配列シート1Aの有効領域Lx*Ly内で、図1での説明のようにして求められる、ダミー領域を含む面積Spを、無駄な領域を小さな面積に抑えていかに数多く確保できるかである。面積Spとなる矩形(一辺長はj以上、他辺長はk以上)を考え、その辺の長さを振って、有効領域Lx*Ly内に当てはめていくことで、その矩形の数が最大になる場合を求めることができる。   What is necessary in this embodiment is that the area Sp including the dummy area, which is obtained as described with reference to FIG. 1, within the effective area Lx * Ly of the arrangement sheet 1A, is reduced to a small area. How many can be secured. Considering a rectangle with an area Sp (one side length is j or more and the other side length is k or more), the length of the side is changed and applied to the effective area Lx * Ly, so that the number of rectangles is maximized. You can ask if.

なお、一般的な注意としては、もし仮に各ダミー片20d、20eの短辺として0.2mm未満のような短い長さが適当して求められた場合は、採用しない方がよい。このようなダミー片だと、ダイシングテープとの接着が確保されにくくなり、振動などにより、ダイシングテープから意図せず脱落する可能性があるためである。   As a general precaution, if a short length such as less than 0.2 mm is appropriately determined as the short side of each dummy piece 20d, 20e, it is better not to adopt it. This is because such a dummy piece makes it difficult to secure adhesion to the dicing tape, and may be unintentionally dropped from the dicing tape due to vibration or the like.

この実施形態は、配列シート1Aに対してダイシングする回数が、図3に示したような場合に比較して、ダイシングラインが増えるため、増加する。その分、生産コストに影響するが、配列シート1A内で取れる樹脂製パッケージ10の数を増加する効果もあるため、全体としてコスト増になるとは限らない。   In this embodiment, the number of times of dicing for the array sheet 1A is increased because the number of dicing lines is increased as compared with the case shown in FIG. The production cost is affected accordingly, but there is also an effect of increasing the number of the resin packages 10 that can be taken in the array sheet 1A. Therefore, the cost is not necessarily increased as a whole.

次に、図6は、図3、図5に示した樹脂製パッケージ配列シートの各片である樹脂製パッケージ10の具体的構成例を示す断面図である。この樹脂製パッケージは、銅板(スティフナー)51、絶縁層52、絶縁層53、ソルダーレジスト54、半導体チップ(デバイス)55、めっきビア(縦方向導電体)56、配線パターン57、めっきビア58、配線パターン59を有する。   Next, FIG. 6 is a cross-sectional view showing a specific configuration example of the resin package 10 which is each piece of the resin package arrangement sheet shown in FIGS. 3 and 5. This resin package includes a copper plate (stiffener) 51, an insulating layer 52, an insulating layer 53, a solder resist 54, a semiconductor chip (device) 55, a plating via (vertical conductor) 56, a wiring pattern 57, a plating via 58, and wiring. A pattern 59 is provided.

構造を簡単に説明すると、以下である。スティフナーとして機能する銅板51上にフェースアップで半導体チップ55が載置、固定され、半導体チップ55は、絶縁層52により密着されて埋め込まれている。半導体チップ55が、図1において説明したデバイス12に相当し、絶縁層52が、同じく図1の樹脂層13Aに相当する。   The structure will be briefly described as follows. A semiconductor chip 55 is mounted and fixed face-up on a copper plate 51 that functions as a stiffener, and the semiconductor chip 55 is embedded in close contact with an insulating layer 52. The semiconductor chip 55 corresponds to the device 12 described in FIG. 1, and the insulating layer 52 corresponds to the resin layer 13A in FIG.

絶縁層52上に設けられた配線層57と半導体チップ55とは、半導体チップ55上に位置する絶縁層52を貫通して設けられためっきビア56により電気導通する。そして、配線層57を覆うように、別の絶縁層53が積層され、この絶縁層53上に別の配線層59が設けられている。この配線層59と配線層57とは、絶縁層53を貫通して設けられためっきビア58により電気導通する。さらに、絶縁層53の上面上には、はんだを設ける領域でない領域にソルダーレジスト54が形成さている。   The wiring layer 57 provided on the insulating layer 52 and the semiconductor chip 55 are electrically connected by a plating via 56 provided through the insulating layer 52 located on the semiconductor chip 55. Then, another insulating layer 53 is laminated so as to cover the wiring layer 57, and another wiring layer 59 is provided on the insulating layer 53. The wiring layer 59 and the wiring layer 57 are electrically connected by a plating via 58 provided through the insulating layer 53. Further, a solder resist 54 is formed on the upper surface of the insulating layer 53 in a region other than a region where solder is provided.

このような構成の場合、図示上側をダイシングテープ側とし、下側をピックアップ側として、図4に示した形態として適用することができる。なお、配線層59が含むパターン上にはんだボール(不図示)を設ける構成とすることもできるが、この場合には、ダイシングテープ上への粘着に、実質的な粘着面積が減少しやや難があるように考えられる。とはいうものの不可能というわけではない。   In the case of such a configuration, the embodiment shown in FIG. 4 can be applied with the upper side in the drawing as the dicing tape side and the lower side as the pickup side. In addition, although it can also be set as the structure which provides a solder ball (not shown) on the pattern which the wiring layer 59 contains, in this case, an adhesion area on a dicing tape reduces a substantial adhesion area, and it is a little difficult. There seems to be. That is not to say impossible.

次に、図7は、図6に示したものとは異なる、図3、図5に示した樹脂製パッケージ配列シートの各片である樹脂製パッケージ10の具体的構成例を示す断面図である。この樹脂製パッケージは、絶縁層61、絶縁層62、絶縁層63、ソルダーレジスト64、ソルダーレジスト65、配線パターン66、めっきビア67、配線パターン68、めっきビア69、アンダーフィル樹脂70、半導体チップ(デバイス)71、めっきビア72、配線パターン73、めっきビア74、配線パターン75、表面実装型受動素子部品76、はんだ77、および可能性としてモールド樹脂78を有する。   Next, FIG. 7 is a cross-sectional view showing a specific configuration example of the resin package 10 which is each piece of the resin package arrangement sheet shown in FIGS. 3 and 5, which is different from that shown in FIG. 6. . This resin package includes an insulating layer 61, an insulating layer 62, an insulating layer 63, a solder resist 64, a solder resist 65, a wiring pattern 66, a plating via 67, a wiring pattern 68, a plating via 69, an underfill resin 70, a semiconductor chip ( Device) 71, plating via 72, wiring pattern 73, plating via 74, wiring pattern 75, surface mount passive element component 76, solder 77, and possibly mold resin 78.

構造を簡単に説明すると、以下である。当初は一面の金属層である配線パターン68上にアンダーフィル樹脂70を介して半導体チップ71がフェースダウンで載置、固定される。この金属箔の裏面(図示下面)上には、半導体チップ71の端子パッドに相当する位置に目印をつけておいてもよい。この金属箔上で、半導体チップ71は、絶縁層62により密着されて埋め込まれる。半導体チップ71が、図1において説明したデバイス12に相当し、絶縁層62が、同じく図1の樹脂層13Aに相当する。   The structure will be briefly described as follows. Initially, the semiconductor chip 71 is mounted and fixed face-down on the wiring pattern 68, which is a metal layer on one side, via an underfill resin 70. On the back surface (the lower surface in the figure) of this metal foil, a mark corresponding to the terminal pad of the semiconductor chip 71 may be marked. On this metal foil, the semiconductor chip 71 is embedded in close contact with the insulating layer 62. The semiconductor chip 71 corresponds to the device 12 described in FIG. 1, and the insulating layer 62 corresponds to the resin layer 13A in FIG.

絶縁層62上に設けられた配線パターン73と、上記の配線パターン68とは、絶縁層62を貫通して設けられためっきビア72により電気導通する。半導体チップ71と配線パターン68とは、アンダーフィル樹脂70を貫通して設けられためっきビア69により電気導通する。めっきビア69の位置を特定して形成するため、上記金属箔につけた目印を利用することができる。配線パターン68および配線パターン73は、めっきビア69、72の形成後に金属箔がパターン化され得られたものである。   The wiring pattern 73 provided on the insulating layer 62 and the wiring pattern 68 are electrically connected by a plating via 72 provided through the insulating layer 62. The semiconductor chip 71 and the wiring pattern 68 are electrically connected by a plating via 69 provided through the underfill resin 70. Since the position of the plating via 69 is specified and formed, a mark attached to the metal foil can be used. The wiring pattern 68 and the wiring pattern 73 are obtained by patterning a metal foil after the formation of the plating vias 69 and 72.

そして、配線パターン68を覆うように、別の絶縁層61が積層され、この絶縁層61上に別の配線パターン66が設けられている。この配線パターン68と配線パターン66とは、絶縁層61を貫通して設けられためっきビア67により電気導通する。さらに、絶縁層61の上面上には、はんだを設ける領域でない領域にソルダーレジスト65が形成されている。   Then, another insulating layer 61 is laminated so as to cover the wiring pattern 68, and another wiring pattern 66 is provided on the insulating layer 61. The wiring pattern 68 and the wiring pattern 66 are electrically connected by a plating via 67 provided through the insulating layer 61. Further, a solder resist 65 is formed on the upper surface of the insulating layer 61 in a region other than a region where solder is provided.

また、配線パターン73を覆うように、さらに別の絶縁層63が積層され、この絶縁層63上にさらに別の配線パターン75が設けられている。この配線パターン75と配線パターン73とは、絶縁層63を貫通して設けられためっきビア74により電気導通する。さらに、絶縁層63の上面上には、はんだおよび表面実装型受動素子部品76を設ける領域でない領域にソルダーレジスト64が形成されている。配線パターン75が含むランド上には、表面実装型受動素子部品76がはんだ77により実装されている。   Further, another insulating layer 63 is laminated so as to cover the wiring pattern 73, and another wiring pattern 75 is provided on the insulating layer 63. The wiring pattern 75 and the wiring pattern 73 are electrically connected by a plating via 74 provided through the insulating layer 63. Further, a solder resist 64 is formed on the upper surface of the insulating layer 63 in a region that is not a region where the solder and the surface-mounted passive element component 76 are provided. On the lands included in the wiring pattern 75, the surface mount type passive element component 76 is mounted with solder 77.

加えて、可能性として、表面実装型受動素子部品76を封止するように、絶縁層63上一面全体にわたりモールド樹脂78を有する。モールド樹脂78は、図3に示した配列シートの段階で一面に形成しておくことができる。   In addition, as a possibility, a mold resin 78 is provided over the entire surface of the insulating layer 63 so as to seal the surface-mounted passive element component 76. The mold resin 78 can be formed on one side at the stage of the arrangement sheet shown in FIG.

このような構成の場合、図示下側をダイシングテープ側とし、上側をピックアップ側として、図4に示した形態として適用することができる。なお、配線パターン66が含むパターン上にはんだボール(不図示)を設ける構成とすることもできる。この点については、図6での説明と同様である。   In the case of such a configuration, the embodiment shown in FIG. 4 can be applied with the lower side in the figure as the dicing tape side and the upper side as the pickup side. A configuration in which solder balls (not shown) are provided on the pattern included in the wiring pattern 66 can also be adopted. This is the same as described with reference to FIG.

この例は、半導体チップ(デバイス)71のない領域の樹脂層62に樹脂層62を貫通するめっきビア(縦方向導電体)72を備えている構造の樹脂製パッケージであり、その点が、図6までで説明した形態と事情が異なる。しかしながら、この図7に示す場合は、樹脂層62内で占める半導体チップ(デバイス)71の面積占有率が増加すると、半導体チップ71のない領域での絶縁層62の厚みが増加し、そこに縦方向の導電体(めっきビア72)を形成する場合に加工上の支障が発生し得るという点で、類似の課題が生じる。   This example is a resin package having a structure in which a resin via 62 (longitudinal conductor) 72 penetrating the resin layer 62 is provided in the resin layer 62 in a region without the semiconductor chip (device) 71. The situation is different from the form described up to 6. However, in the case shown in FIG. 7, when the area occupation ratio of the semiconductor chip (device) 71 occupying in the resin layer 62 increases, the thickness of the insulating layer 62 in the region without the semiconductor chip 71 increases, A similar problem arises in that processing difficulties can occur when forming a directional conductor (plating via 72).

つまり、面積Spを求める式:Sp=A*B/{(B+d)−a0}において、B+dが樹脂層62の厚みに等しく、よって、半導体チップ71の大きさを規定するA、Bと、絶縁層素材として規格化された絶縁層62の当初厚みであるa0と、半導体チップ71のない領域での絶縁層62の厚みとしてコントロールされるべきa1(=B+d)とが与えられると、絶縁層62のダミーを含めた適切な面積Spが決定され得る、という点では共通になる。これにより、図3に示したような配列シートにおいて、樹脂製パッケージ10とダミー片20との適切な大きさの関係を導き出せる。   That is, in the formula for determining the area Sp: Sp = A * B / {(B + d) −a0}, B + d is equal to the thickness of the resin layer 62, and therefore, the insulation between A and B defining the size of the semiconductor chip 71 is isolated. When a0 which is the initial thickness of the insulating layer 62 standardized as a layer material and a1 (= B + d) to be controlled as the thickness of the insulating layer 62 in the region where the semiconductor chip 71 is not provided are given. This is common in that an appropriate area Sp including the dummy can be determined. Thereby, in the arrangement sheet as shown in FIG. 3, an appropriate size relationship between the resin package 10 and the dummy piece 20 can be derived.

以上、実施形態として樹脂製パッケージを例に説明をしたが、部品内蔵樹脂モジュールの場合も同様に考えることができる。樹脂製パッケージは、一般に、半導体チップなどを収容するための樹脂の構造物であり、部品内蔵樹脂モジュールは、電子部品などの部品を内蔵した樹脂板のモジュールである。したがって、樹脂層に、面積A、厚みBを有するデバイスを、この厚みBを樹脂層の厚みに内包するように埋め込み、デバイスに重なる樹脂層にこのデバイスにつながる縦方向導電体を備えているかまたはデバイスのない領域の樹脂層にこの樹脂層を貫通する縦方向導電体を備えている構造である限りは、同じ考えが成立する。   As described above, the resin package has been described as an example as an embodiment, but the case of a resin module with a built-in component can be similarly considered. The resin package is generally a resin structure for housing a semiconductor chip and the like, and the component built-in resin module is a resin plate module incorporating components such as electronic components. Therefore, a device having an area A and a thickness B is embedded in the resin layer so that the thickness B is included in the thickness of the resin layer, and a longitudinal conductor connected to the device is provided in the resin layer overlapping the device, or The same idea holds true as long as the resin layer in a region where no device is provided has a longitudinal conductor passing through the resin layer.

また、樹脂製パッケージのそれぞれに埋め込まれるデバイスが複数ある場合については、次のようにして換算すれば、同様に、式:Sp=A*B/{(B+d)−a0}を用いて、樹脂層13Aとしてデバイス12上に所望厚みdを有する樹脂製パッケージ(またはデバイス12のない領域の樹脂層13Aとして所望厚みa1(=B+d)を有する樹脂製パッケージ)を得ることができる。   Further, in the case where there are a plurality of devices embedded in each of the resin packages, if converted as follows, the equation: Sp = A * B / {(B + d) −a0} is similarly used. A resin package having a desired thickness d on the device 12 as the layer 13A (or a resin package having the desired thickness a1 (= B + d) as the resin layer 13A in the region without the device 12) can be obtained.

すなわち、面積Aとして複数のデバイスについての面積総和を用い、厚みBとして複数のデバイスについての体積総和をこの面積総和で除算して求めた平均の厚みを用いる。dは、平均厚みを有するとした仮想的なデバイス上の絶縁層厚みを意味することになるが、実際の厚みは現実のデバイスの厚さと平均値との差を用いて求めることができる。その実際の厚みが所望厚み(の範囲)に収まっていればよい。このような複数のデバイスが収容、内蔵される形態は、樹脂製パッケージや部品内蔵樹脂モジュールにおいて、近年その対応の要求が強くなっている。   That is, the total area for the plurality of devices is used as the area A, and the average thickness obtained by dividing the total volume for the plurality of devices by the total area is used as the thickness B. d means the thickness of the insulating layer on a virtual device having an average thickness, but the actual thickness can be obtained by using the difference between the actual device thickness and the average value. The actual thickness should just be settled in desired thickness (range). In recent years, there is an increasing demand for such a configuration in which a plurality of devices are accommodated and incorporated in resin packages and resin modules with built-in components.

次に、本発明の別の実施形態について図8を参照して説明する。図8は、本発明の別の実施形態である部品内蔵樹脂モジュールの製造方法を模式的に説明する原理的な工程図である。この実施形態は、コア樹脂層115に面積So、深さDoを有する開口を設けこの開口内に収めるように面積A、厚みBを有するデバイス112を位置させ、コア樹脂層115に積層させて樹脂層113Aを位置させ、かつ樹脂層113Aがコア樹脂層115の開口を充填しデバイス112を埋め込んでいる構成の樹脂製パッケージの製造方法の場合を対象としている。以下、図面に従い説明する。   Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a principle process diagram schematically illustrating a method of manufacturing a component built-in resin module according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, an opening having an area So and a depth Do is provided in the core resin layer 115, and a device 112 having an area A and a thickness B is positioned so as to be accommodated in the opening. The case of the method of manufacturing a resin package in which the layer 113A is positioned and the resin layer 113A fills the opening of the core resin layer 115 and embeds the device 112 is targeted. Hereinafter, it demonstrates according to drawing.

図8(a)に示すように、基材111上に、コア樹脂層115が積層されている。コア樹脂層115には、面積So、深さDoの開口が設けられ、この開口内に収めるように面積A、厚みBのデバイス112がフェースダウンまたはフェースアップで設けられている。また、基材111側と反対側のコア樹脂層115上には、配線層116が設けられている。   As shown in FIG. 8A, the core resin layer 115 is laminated on the base material 111. The core resin layer 115 is provided with an opening having an area So and a depth Do, and a device 112 having an area A and a thickness B is provided face-down or face-up so as to be accommodated in the opening. A wiring layer 116 is provided on the core resin layer 115 on the side opposite to the substrate 111 side.

そして、開口を含むデバイス112上および配線層116上を含めて、コア樹脂層115上には、図示するように、当初厚みがa0、面積がSpであるプリプレグ113が加圧、加熱下、積層される。プリプレグ113のこの積層面とは反対の側の面上には、金属箔(銅箔)114があらかじめ備えられている。金属箔114は、のちにパターン化されて配線層114Aになるものである。   Then, on the core resin layer 115 including the device 112 including the opening and the wiring layer 116, a prepreg 113 having an initial thickness of a0 and an area of Sp is laminated under pressure and heat as shown in the figure. Is done. A metal foil (copper foil) 114 is provided in advance on the surface of the prepreg 113 opposite to the laminated surface. The metal foil 114 is later patterned to become the wiring layer 114A.

コア樹脂層115にプリプレグ113が積層されるときに、加圧、加熱によりプリプレグ113が流動性を得て変形し、コア樹脂層115の開口を充填しデバイス112を埋め込み密着するように、コア樹脂層115上に一体化する(図8(b))。これにより、プリプレグ113は硬化して樹脂層113Aになるが、その厚みは、当初厚みa0からa1に減少する。コア樹脂層115の開口内に向けてプリプレグ13の流動が生じるためである。   When the prepreg 113 is laminated on the core resin layer 115, the core resin is so formed that the prepreg 113 is deformed by applying pressure and heat so as to obtain fluidity, fill the opening of the core resin layer 115, and embed and adhere to the device 112. It is integrated on the layer 115 (FIG. 8B). As a result, the prepreg 113 is cured to become the resin layer 113A, but its thickness is reduced from the initial thickness a0 to a1. This is because the prepreg 13 flows toward the opening of the core resin layer 115.

樹脂層113Aの厚みa1は、(その厚みにかかわる体積分)/(その全面積)={Sp*a0−(So*Do−A*B)}/Spで表わすことができる。この式をSpについて解くと、Sp=(So*Do−A*B)/(a0−a1)となる。このSpについての式は、デバイス112の大きさを規定するA、Bと、デバイス112を収めるコア樹脂層113Aの開口の面積Soおよび深さDoと、絶縁層素材として規格化されたプリプレグ113の当初厚みであるa0と、樹脂層113Aの厚さとしてコントロールされるべき厚みであるa1とが与えられると、プリプレグ113(樹脂層113A)の適切な面積が決定され得ることを示している。   The thickness a1 of the resin layer 113A can be represented by (volume volume related to the thickness) / (total area) = {Sp * a0− (So * Do−A * B)} / Sp. When this equation is solved for Sp, Sp = (So * Do-A * B) / (a0-a1). The formula for Sp is as follows: A and B that define the size of the device 112; the area So and the depth Do of the opening of the core resin layer 113A that houses the device 112; and the prepreg 113 that is standardized as the insulating layer material. When the initial thickness a0 and the thickness a1 to be controlled as the thickness of the resin layer 113A are given, it is indicated that an appropriate area of the prepreg 113 (resin layer 113A) can be determined.

樹脂層113Aの厚さa1をコントロールするのは、絶縁層としての機能を保全するためである。すなわち、樹脂層113Aの厚さa1は当初厚さであるa0から減少したものとなるので、所定の厚さが確保できないと、配線層116と、金属箔114から形成される配線層114Aとの電気的絶縁の信頼性が低下するためである。逆に、所定の厚さを保とうとして当初厚さa0を過大に厚くすると、樹脂層113Aに例えばレーザ加工でビアホールを形成してビアを設ける場合の支障になることもあり得る。すなわち、過度に厚い場合には加工が不十分になったり、あるいはその厚い場合のためだけに特別な対応が必要になったりして製造効率に難を生じたりする可能性がある。   The reason why the thickness a1 of the resin layer 113A is controlled is to maintain the function as an insulating layer. That is, since the thickness a1 of the resin layer 113A is reduced from the initial thickness a0, if the predetermined thickness cannot be secured, the wiring layer 116 and the wiring layer 114A formed from the metal foil 114 This is because the reliability of electrical insulation is reduced. On the other hand, if the initial thickness a0 is excessively increased in order to maintain the predetermined thickness, there may be a problem when a via hole is formed in the resin layer 113A by laser processing, for example. That is, when the thickness is excessively large, the processing may be insufficient, or special measures may be required only for the thick thickness, which may cause difficulty in manufacturing efficiency.

Spを即、樹脂製パッケージとしての製品サイズとして設定の場合には、式:Sp=(So*Do−A*B)/(a0−a1)をa0について解いて、a0=f(Sp,A,B,So,Do,a1)を得ることにより、樹脂層113Aの厚みとすべきa1を与えれば、このa0を求め得る。このような厚みa0のプリプレグ113を選択すれば、樹脂層113Aの厚みを所望のa1にすることができるとも考えられるが、一般にプリプレグの厚みは規格化されていて、飛び飛びの値の厚みのものしかない。それから外れる厚みのものは特注品になり高価になってしまう。   When Sp is immediately set as the product size as a resin package, the formula: Sp = (So * Do−A * B) / (a0−a1) is solved for a0, and a0 = f (Sp, A , B, So, Do, a1), a1 can be obtained by giving a1 that should be the thickness of the resin layer 113A. It is considered that the thickness of the resin layer 113A can be set to a desired a1 by selecting the prepreg 113 having such a thickness a0. However, in general, the thickness of the prepreg is standardized and the thickness of the skipped value is There is only. Thicknesses that deviate from it become custom-made and become expensive.

図8を参照する説明に戻り、図8(b)に示すように積層がなされたら、次に、樹脂層113Aおよび金属箔114に対して、配線層116まで貫通するビアホールを例えばレーザ加工により形成する。そして、例えば無電解めっきおよび電解めっきの工程を行い、図8(c)に示すように、そのビアホール内を充填するようにめっきビア(縦方向導電体)117を形成する。デバイス112がフェースアップである場合には、樹脂層113Aおよび金属箔114に対して、デバイス112まで貫通するビアホールを例えばレーザ加工により形成し、同様にめっきビア(不図示)を形成することができる。   Returning to the description with reference to FIG. 8, when lamination is performed as shown in FIG. 8B, next, via holes penetrating to the wiring layer 116 are formed in the resin layer 113 </ b> A and the metal foil 114 by, for example, laser processing. To do. Then, for example, electroless plating and electrolytic plating processes are performed to form plating vias (longitudinal conductors) 117 so as to fill the via holes as shown in FIG. 8C. When the device 112 is face up, a via hole penetrating to the device 112 can be formed in the resin layer 113A and the metal foil 114 by, for example, laser processing, and a plating via (not shown) can be formed in the same manner. .

さらに、図8(d)に示すように、表層にある金属箔114を、例えば周知のフォトリソグラフィ工程により所定にパターニングして配線層114Aに加工する。以上により、樹脂製パッケージ形成のための主要な工程は終了する。   Further, as shown in FIG. 8D, the metal foil 114 on the surface layer is processed into a wiring layer 114A by predetermined patterning, for example, by a well-known photolithography process. Thus, the main process for forming the resin package is completed.

この図8(d)に示すように形成された面積Spの積層体については、製品である樹脂製パッケージとしての領域(一辺j、他辺kの領域)と、それ以外の領域(ダミー領域)とで構成されるものとして扱う。換言すると、本来必要とする樹脂製パッケージの領域の隣にダミー領域を設け、このダミー領域から樹脂層113Aを所定厚さで形成するための体積分を一部負担させて、その厚み減少を所望に低減した構成である。ダミー領域の面積は、Sp−j*kになる。このようにダミー領域を設けることにより、樹脂層113Aの厚みa1を所望にコントロールできる。ダミー領域は、ダイシングライン118により製品である樹脂製パッケージの領域から分離される。   As for the laminated body having the area Sp formed as shown in FIG. 8D, a region (one side j, another side k region) as a resin package as a product and the other region (dummy region). It is treated as consisting of In other words, a dummy region is provided next to the originally required resin package region, and a part of the volume for forming the resin layer 113A with a predetermined thickness is borne from this dummy region, and the thickness reduction is desired. The configuration is reduced to a very low level. The area of the dummy region is Sp-j * k. By providing the dummy region in this way, the thickness a1 of the resin layer 113A can be controlled as desired. The dummy region is separated from the region of the resin package which is a product by the dicing line 118.

比較のため、図8に示したような構成の樹脂製パッケージの場合において、何らのダミー領域を設けない場合を図9を参照して説明する。図9は、参照例である樹脂製パッケージの製造方法を、図8に示した製造方法と模式的に比較説明する工程図である。図9において、図1中に示した構成要素と同一または同一相当のものには同一の符号を付している。   For comparison, a case where no dummy region is provided in the case of the resin package having the configuration shown in FIG. 8 will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a process diagram schematically illustrating a method for manufacturing a resin package as a reference example in comparison with the manufacturing method illustrated in FIG. 8. 9, components that are the same as or equivalent to the components shown in FIG.

ダミー領域を設けない場合には、図9(a)に示すような積層がなされる。その結果として得られる図9(b)に示すような積層後の状態での樹脂層113Aの厚みa11は、(その厚みにかかわる体積分)/(その全面積)に従い、{j*k*a0−(So*Do−A*B)}/(j*k)=a0−(So*Do−A*B)/(j*k)となる。この式から、当然ながら、a11はa0より小さな値である。   When the dummy area is not provided, the stacking as shown in FIG. As a result, the thickness a11 of the resin layer 113A in the state after lamination as shown in FIG. 9B is (j * k * a0) according to (volume volume related to the thickness) / (total area). − (So * Do−A * B)} / (j * k) = a0− (So * Do−A * B) / (j * k). Of course, a11 is smaller than a0.

a11は、典型的には、A/(j*k)[=デバイス112の、樹脂製パッケージに対する面積占有率]が大で、小となる。A/(j*k)が大であるとき、So/(j*k)も必然的に大である必要があり、数値(So−A)/(j*k)で考えてもこの数値は大になると考えられるためである。すなわち、製品である樹脂製パッケージに対する、その収容されるデバイス112の面積占有率が増加すると、一般には、開口の上側に積層される樹脂層113Aの厚みが減少し、その絶縁層としての信頼性低下が懸念され得る。   a11 typically has a large A / (j * k) [= area occupancy ratio of the device 112 with respect to the resin-made package]. When A / (j * k) is large, So / (j * k) must also be large, and this numerical value is considered even when considered as numerical value (So−A) / (j * k). This is because it is considered to be large. That is, when the area occupancy of the device 112 accommodated in the resin package as a product increases, the thickness of the resin layer 113A laminated on the upper side of the opening generally decreases, and the reliability as the insulating layer is increased. Decrease may be a concern.

この点、図8に示したようにダミー領域を設ける場合には、デバイス112の面積占有率が増加してもそれに応じて開口上に位置する樹脂層113Aを所望に厚さコントロールすることができている。よって、図8に示した構成は、製品である樹脂製パッケージに対する、その収容されるデバイス112の面積占有率を増加させ得る構成とも言える。なお、一般にデバイス112の厚みBについては、面積Aほどには変動する要素が小さく一定していると言えるため、数値A/(j*k)ほどに数値B/(j*k)の重要性は高くない。   In this regard, when a dummy region is provided as shown in FIG. 8, even if the area occupancy of the device 112 increases, the thickness of the resin layer 113A positioned on the opening can be controlled as desired. ing. Therefore, the configuration shown in FIG. 8 can also be said to be a configuration that can increase the area occupancy of the device 112 accommodated in the resin package as the product. In general, it can be said that the thickness B of the device 112 is as small and constant as the area A, so the importance of the numerical value B / (j * k) is as high as the numerical value A / (j * k). Is not expensive.

ちなみに、製品である樹脂製パッケージの面積と比較したときの、ダミー領域を含めた樹脂層113Aの想定される面積については、以下である。一般にSo<j*kなので、式:Sp=(So*Do−A*B)/(a0−a1)において、Soの代わりにj*kを代入し、Sp<(j*k*Do−A*B)/(a0−a1)となる。ここで、一般に、j*k*Do>>A*Bと仮定することができる。よって、A*Bの項を無視して、Sp<j*k*Do/(a0−a1)となる。j*kは、製品である樹脂製パッケージの面積なので、ダミー領域を含めた樹脂層113Aの想定される面積Spは、製品である樹脂製パッケージの面積のDo/(a0−a1)倍未満ということになる。   Incidentally, the assumed area of the resin layer 113A including the dummy region when compared with the area of the resin package as the product is as follows. Since So <j * k in general, in the formula: Sp = (So * Do-A * B) / (a0-a1), j * k is substituted for So, and Sp <(j * k * Do-A * B) / (a0-a1). Here, in general, it can be assumed that j * k * Do >> A * B. Therefore, Sp <j * k * Do / (a0−a1) is obtained by ignoring the A * B term. Since j * k is the area of the resin package that is the product, the assumed area Sp of the resin layer 113A including the dummy region is less than Do / (a0-a1) times the area of the resin package that is the product. It will be.

図8を参照して説明した樹脂製パッケージについても、図1を参照の樹脂製パッケージと同様に、図3に示したような配設シートとして構成することができる。また、図4に示したような、ダイシングテープ31およびダイシングフレーム32を伴い、ダイシングテープ31上でダイシングされている状態の形態とすることができる。また、図8では実施形態として樹脂製パッケージを例に説明をしたが、部品内蔵樹脂モジュールの場合も同様に考えることができる。   The resin package described with reference to FIG. 8 can also be configured as a disposition sheet as shown in FIG. 3 in the same manner as the resin package with reference to FIG. Moreover, it can be set as the form of the state diced on the dicing tape 31 with the dicing tape 31 and the dicing frame 32 as shown in FIG. Moreover, although FIG. 8 demonstrated the resin-made package as an example as embodiment, the case of the resin module with a built-in component can be considered similarly.

さらに、樹脂製パッケージのそれぞれに埋め込まれるデバイスが複数ある場合については、次のようにして換算すれば、同様に、式:Sp=(So*Do−A*B)/(a0−a1)を用いて、樹脂層113Aとして所望厚みa1を有する樹脂製パッケージを得ることができる。   Further, in the case where there are a plurality of devices embedded in each of the resin packages, if converted as follows, the formula: Sp = (So * Do-A * B) / (a0-a1) is similarly obtained. By using this, a resin package having a desired thickness a1 can be obtained as the resin layer 113A.

すなわち、開口の面積Soとして複数のデバイスのためのすべての開口についての総面積を用い、開口の深さDoとしてすべての開口についての容積総和を上記総面積で除算して求めた平均の深さを用い、面積Aとして複数のデバイスについての面積総和を用い、厚みBとして複数のデバイスについての体積総和を上記面積総和で除算して求めた平均の厚みを用いる。このような複数のデバイスが収容、内蔵される形態は、樹脂製パッケージや部品内蔵樹脂モジュールにおいて、近年その対応の要求が強くなっている。   That is, the average depth obtained by dividing the total volume for all openings by the total area as the opening depth Do, using the total area for all openings for a plurality of devices as the opening area So. , And the area A is the total area for the plurality of devices, and the thickness B is the average thickness obtained by dividing the volume total for the plurality of devices by the area total. In recent years, there is an increasing demand for such a configuration in which a plurality of devices are accommodated and incorporated in resin packages and resin modules with built-in components.

次に、図10は、図8に示した製造方法による部品内蔵樹脂モジュール配列シートの各片である部品内蔵樹脂モジュールの具体的構成例を示す断面図である。この部品内蔵樹脂モジュールは、絶縁層211、212、213、214、215、216、217、配線層(配線パターン)221、222、223、224、225、226、227、228、層間接続体(導電性組成物印刷による導電性バンプ)231、232、233、234、235、236、237、表面実装型受動素子部品(デバイス)241、はんだ251、はんだレジスト261、262を有する。   Next, FIG. 10 is a cross-sectional view showing a specific configuration example of the component built-in resin module that is each piece of the component built-in resin module array sheet by the manufacturing method shown in FIG. This component built-in resin module includes insulating layers 211, 212, 213, 214, 215, 216, and 217, wiring layers (wiring patterns) 221, 222, 223, 224, 225, 226, 227, and 228, an interlayer connector (conductive). Conductive bumps 231, 232, 233, 234, 235, 236, 237, surface mounted passive element parts (devices) 241, solder 251, solder resists 261 and 262.

構造を簡単に説明すると、以下である。表面実装型受動素子部品241は、表面実装用のチップ部品であり、例えばチップコンデンサ、チップ抵抗である。その平面的な大きさは例えば0.6mm×0.3mmである。両端に端子を有し、その下側が配線層222による実装用ランドに対向位置している。表面実装型受動素子部品241の端子と実装用ランドとははんだ251により電気的、機械的に接続されている。受動素子部品241は、図8において説明したデバイス112に相当する。   The structure will be briefly described as follows. The surface mounted passive element component 241 is a chip component for surface mounting, and is, for example, a chip capacitor or a chip resistor. The planar size is, for example, 0.6 mm × 0.3 mm. Terminals are provided at both ends, and the lower side thereof is opposed to the mounting land formed by the wiring layer 222. The terminals of the surface mount type passive element component 241 and the mounting lands are electrically and mechanically connected by solder 251. The passive element component 241 corresponds to the device 112 described in FIG.

配線層221、228は、配線板としての両主面上の配線層であってランドを含んでいる。配線層221によるランドは、例えば外部接続端子としてのランドであり、配線層228によるランドは、その上に別のデバイスが実装され得るランドである。はんだが位置するランドの部分を除いて両主面上には、はんだ接続時に溶融したはんだをランド部分に留めかつその後は保護層として機能するはんだレジスト261、262が形成されている。ランド部分の表層には、耐腐食性の高いNi/Auのめっき層(不図示)を形成しておいてもよい。   The wiring layers 221 and 228 are wiring layers on both main surfaces as wiring boards and include lands. The land by the wiring layer 221 is, for example, a land as an external connection terminal, and the land by the wiring layer 228 is a land on which another device can be mounted. Solder resists 261 and 262 are formed on both main surfaces except for the land portion where the solder is located, so that the solder melted at the time of solder connection is fixed to the land portion and then functions as a protective layer. A Ni / Au plating layer (not shown) having high corrosion resistance may be formed on the surface layer of the land portion.

配線層222〜227は、それぞれ、内層の配線層であり、順に、配線層221と配線層222の間に絶縁層211が、配線層222と配線層223の間に絶縁層212が、配線層223と配線層224との間に絶縁層213が、配線層224と配線層225との間に絶縁層214が、配線層225と配線層226との間に絶縁層215が、配線層226と配線層227との間に絶縁層216が、配線層227と配線層228との間に絶縁層217が、それぞれ位置しこれらの配線層221〜228を隔てている。各配線層221〜228は、例えば金属(銅)箔に対するパターン形成で得られている。   Each of the wiring layers 222 to 227 is an inner wiring layer. In order, the insulating layer 211 is between the wiring layer 221 and the wiring layer 222, and the insulating layer 212 is between the wiring layer 222 and the wiring layer 223. 223 and the wiring layer 224, the insulating layer 214 between the wiring layer 224 and the wiring layer 225, the insulating layer 215 between the wiring layer 225 and the wiring layer 226, and the wiring layer 226. An insulating layer 216 is located between the wiring layer 227 and an insulating layer 217 is located between the wiring layer 227 and the wiring layer 228, respectively, and separates these wiring layers 221 to 228. Each of the wiring layers 221 to 228 is obtained, for example, by pattern formation on a metal (copper) foil.

各絶縁層211〜217は、それぞれ例えばガラスエポキシ樹脂からなるリジッドな素材である。特に絶縁層213、214、215は、内蔵された表面実装型受動素子部品241に相当する位置部分が開口部となっており、受動素子部品241を埋設するための空間を提供する。絶縁層212、216は、内蔵された受動素子部品241のための絶縁層213〜215の上記開口部を埋めるように変形進入しており内部に空隙となる空間は存在しない。   Each of the insulating layers 211 to 217 is a rigid material made of, for example, a glass epoxy resin. In particular, the insulating layers 213, 214, and 215 have openings corresponding to the built-in surface-mounted passive element components 241, and provide a space for embedding the passive element components 241. The insulating layers 212 and 216 are deformed so as to fill the openings of the insulating layers 213 to 215 for the built-in passive element component 241, and there is no space serving as a gap inside.

絶縁層213〜215は、一応、図8において説明したコア樹脂層113Aに相当する。ただし、この例では、絶縁層211にも当初、受動素子部品241用の開口部が設けられているため、絶縁層211もコア樹脂層113Aに含めて考えることができる。絶縁層211は、絶縁層216と同様に当初はプリプレグであるため、開口部を埋めるためにも貢献するが、絶縁層216と比較してその程度は小さいと考えてよい。絶縁層216は、図8における樹脂層113Aに相当する。   The insulating layers 213 to 215 correspond to the core resin layer 113A described with reference to FIG. However, in this example, since the opening for the passive element component 241 is also initially provided in the insulating layer 211, the insulating layer 211 can be considered to be included in the core resin layer 113A. Since the insulating layer 211 is initially a prepreg like the insulating layer 216, it contributes to fill the opening, but it may be considered that the degree is smaller than that of the insulating layer 216. The insulating layer 216 corresponds to the resin layer 113A in FIG.

配線層221と配線層222とは、それらのパターンの面の間に挟設されかつ絶縁層211を貫通する層間接続体231により導通し得る。同様に、配線層222と配線層223とは、それらのパターンの面の間に挟設されかつ絶縁層212を貫通する層間接続体232により導通し得る。配線層223と配線層224とは、絶縁層213を貫通して設けられた層間接続体233により導通し得る。配線層224と配線層225とは、それらのパターンの面の間に挟設されかつ絶縁層214を貫通する層間接続体234により導通し得る。   The wiring layer 221 and the wiring layer 222 can be electrically connected by an interlayer connector 231 that is sandwiched between the surfaces of these patterns and penetrates the insulating layer 211. Similarly, the wiring layer 222 and the wiring layer 223 can be conducted by an interlayer connector 232 that is sandwiched between the surfaces of these patterns and penetrates the insulating layer 212. The wiring layer 223 and the wiring layer 224 can be electrically connected by an interlayer connector 233 provided through the insulating layer 213. The wiring layer 224 and the wiring layer 225 can be conducted by an interlayer connector 234 that is sandwiched between the surfaces of these patterns and penetrates the insulating layer 214.

さらに同様に、配線層225と配線層226とは、それらのパターンの面の間に挟設されかつ絶縁層215を貫通する層間接続体235により導通し得る。配線層226と配線層227とは、それらのパターンの面の間に挟設されかつ絶縁層216を貫通する層間接続体236により導通し得る。配線層227と配線層228とは、それらのパターンの面の間に挟設されかつ絶縁層217を貫通する層間接続体237により導通し得る。   Further, similarly, the wiring layer 225 and the wiring layer 226 can be conducted by an interlayer connector 235 that is sandwiched between the surfaces of these patterns and penetrates the insulating layer 215. The wiring layer 226 and the wiring layer 227 can be conducted by an interlayer connector 236 that is sandwiched between the surfaces of the patterns and penetrates the insulating layer 216. The wiring layer 227 and the wiring layer 228 can be conducted by an interlayer connector 237 that is sandwiched between the surfaces of the patterns and penetrates the insulating layer 217.

層間接続体231〜237は、それぞれ、導電性組成物のスクリーン印刷により形成される導電性バンプを由来とするものであり、その製造工程に依拠して軸方向(図1の図示で上下の積層方向)に径が変化している。   The interlayer connectors 231 to 237 are derived from conductive bumps formed by screen printing of a conductive composition, and depend on the manufacturing process in the axial direction (upper and lower laminations in the illustration of FIG. 1). Direction).

このような構成の部品内蔵樹脂モジュールの場合、図示下側、上側いずれかをダイシングテープ側とし、その反対面をピックアップ側として、図4に示した形態として適用することができる。なお、配線パターン221が含むパターン上にはんだボール(不図示)を設ける構成とすることもできる。この点については、図6での説明と同様である。   In the case of the component built-in resin module having such a configuration, either the lower side or the upper side in the figure can be the dicing tape side, and the opposite side can be the pickup side. In addition, it can also be set as the structure which provides a solder ball (not shown) on the pattern which the wiring pattern 221 contains. This is the same as described with reference to FIG.

1,1A…樹脂製パッケージ配列シート、1D…樹脂製パッケージ配列シート(ダイシング済み)、10…樹脂製パッケージ、11…基材、12…デバイス、13…プリプレグ、13A…樹脂層、14…金属箔(銅箔)、14A…配線層(配線パターン)、15…ビアホール、16…めっきビア(縦方向導電体)、17…ダイシングライン、20…ダミー片、20a…ダミー片、20d,20e,20f…ダミー片、30,30A…枠部、31…ダイシングテープ、32…ダイシングフレーム、51…銅板(スティフナー)、52…絶縁層、53…絶縁層、54…ソルダーレジスト、55…半導体チップ(デバイス)、56…めっきビア(縦方向導電体)、57…配線パターン、58…めっきビア、59…配線パターン、61…絶縁層、62…絶縁層、63…絶縁層、64…ソルダーレジスト、65…ソルダーレジスト、66…配線パターン、67…めっきビア、68…配線パターン、69…めっきビア、70…アンダーフィル樹脂、71…半導体チップ(デバイス)、72…めっきビア、73…配線パターン、74…めっきビア、75…配線パターン、76…表面実装型受動素子部品、77…はんだ、78…モールド樹脂、111…基材、112…デバイス、113…プリプレグ、113A…樹脂層、114…金属箔(銅箔)、114A…配線層(配線パターン)、115…コア樹脂層、116…配線層(配線パターン)、117…ビア(縦方向導電体)、118…、ダイシングライン、211,212,213,214,215,216,217…絶縁層、221,222,223,224,225,226,227,228…配線層(配線パターン)、231,232,233,234,235,236,237…層間接続体(導電性組成物印刷による導電性バンプ)、241…表面実装型受動素子部品(デバイス)、251…はんだ、261,262…はんだレジスト。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1A ... Resin package arrangement sheet, 1D ... Resin package arrangement sheet (diced), 10 ... Resin package, 11 ... Base material, 12 ... Device, 13 ... Prepreg, 13A ... Resin layer, 14 ... Metal foil (Copper foil), 14A ... wiring layer (wiring pattern), 15 ... via hole, 16 ... plated via (vertical conductor), 17 ... dicing line, 20 ... dummy piece, 20a ... dummy piece, 20d, 20e, 20f ... Dummy piece 30, 30A ... Frame portion, 31 ... Dicing tape, 32 ... Dicing frame, 51 ... Copper plate (stiffener), 52 ... Insulating layer, 53 ... Insulating layer, 54 ... Solder resist, 55 ... Semiconductor chip (device), 56 ... Plating via (vertical conductor), 57 ... wiring pattern, 58 ... plating via, 59 ... wiring pattern, 61 ... insulating layer, 62 Insulating layer, 63 ... Insulating layer, 64 ... Solder resist, 65 ... Solder resist, 66 ... Wiring pattern, 67 ... Plating via, 68 ... Wiring pattern, 69 ... Plating via, 70 ... Underfill resin, 71 ... Semiconductor chip (device) , 72... Plated via, 73 .. wiring pattern, 74 .. plated via, 75 .. wiring pattern, 76 .. surface mount passive element component, 77 .. solder, 78 .. mold resin, 111. Prepreg, 113A resin layer, 114 metal foil (copper foil), 114A wiring layer (wiring pattern), 115 core resin layer, 116 wiring layer (wiring pattern), 117 via (vertical conductor) 118, dicing lines 211, 212, 213, 214, 215, 216, 217 ... insulating layers 221, 222, 2 3, 224, 225, 226, 227, 228... Wiring layer (wiring pattern), 231, 232, 233, 234, 235, 236, 237... Interlayer connection body (conductive bump by conductive composition printing), 241. Surface mount type passive element parts (devices), 251... Solder, 261, 262... Solder resist.

Claims (4)

樹脂製パッケージが縦横に配列された樹脂製パッケージ配列シートであって、
前記樹脂製パッケージのそれぞれが、樹脂層と、該樹脂層の厚み内に内包され埋め込まれたデバイスと、該デバイスに重なる前記樹脂層を貫通して設けられた該デバイスにつながる縦方向導電体または該デバイスのない領域の前記樹脂層に該樹脂層を貫通して設けられた縦方向導電体と、前記縦方向導電体につながるように前記樹脂層上に設けられた配線層と、を有し、
前記樹脂製パッケージの占める各領域の隣にダミー領域が設けられ、かつ該樹脂製パッケージの領域と該ダミー領域とが横方向または縦方向の少なくとも一方の方向に交互に並べられており、
前記樹脂製パッケージの領域および前記ダミー領域のほかに、へりの部分に、前記樹脂製パッケージの領域および前記ダミー領域の全体を囲むように枠部となる領域が設けられていること
を特徴とする樹脂製パッケージ配列シート。
A resin package arrangement sheet in which resin packages are arranged vertically and horizontally,
Each of the resin packages includes a resin layer, a device embedded and embedded within the thickness of the resin layer, and a longitudinal conductor connected to the device provided through the resin layer overlapping the device, or A longitudinal conductor provided through the resin layer in the resin layer in a region without the device, and a wiring layer provided on the resin layer so as to be connected to the longitudinal conductor. ,
A dummy region is provided next to each region occupied by the resin package, and the region of the resin package and the dummy region are alternately arranged in at least one of the horizontal direction and the vertical direction,
In addition to the resin package region and the dummy region, an edge portion is provided with a region serving as a frame so as to surround the entire resin package region and the dummy region. Resin package array sheet.
部品内蔵樹脂モジュールが縦横に配列された部品内蔵樹脂モジュール配列シートであって、
前記部品内蔵樹脂モジュールのそれぞれが、樹脂層と、該樹脂層の厚み内に内包され埋め込まれたデバイスと、該デバイスに重なる前記樹脂層を貫通して設けられた該デバイスにつながる縦方向導電体または該デバイスのない領域の前記樹脂層に該樹脂層を貫通して設けられた縦方向導電体と、前記縦方向導電体につながるように前記樹脂層上に設けられた配線層と、を有し、
前記部品内蔵樹脂モジュールの占める各領域の隣にダミー領域が設けられ、かつ該部品内蔵樹脂モジュールの領域と該ダミー領域とが横方向または縦方向の少なくとも一方の方向に交互に並べられており、
前記部品内蔵樹脂モジュールの領域および前記ダミー領域のほかに、へりの部分に、前記部品内蔵樹脂モジュールの領域および前記ダミー領域の全体を囲むように枠部となる領域が設けられていること
を特徴とする部品内蔵樹脂モジュール配列シート。
A resin module arrangement sheet with built-in parts in which resin modules with built-in parts are arranged vertically and horizontally,
Each of the component-embedded resin modules includes a resin layer, a device embedded and embedded within the thickness of the resin layer, and a longitudinal conductor connected to the device provided through the resin layer overlapping the device Alternatively, a vertical conductor provided through the resin layer in the resin layer in a region without the device and a wiring layer provided on the resin layer so as to be connected to the vertical conductor are provided. And
A dummy region is provided next to each region occupied by the component built-in resin module, and the region of the component built-in resin module and the dummy region are alternately arranged in at least one of the horizontal direction and the vertical direction,
In addition to the component-embedded resin module region and the dummy region, an edge portion is provided with a region serving as a frame so as to surround the entire component-embedded resin module region and the dummy region. Component built-in resin module array sheet.
樹脂製パッケージが縦横に配列された樹脂製パッケージ配列シートであって、
前記樹脂製パッケージのそれぞれが、開口を備えた第1の樹脂層と、前記開口内に収められるように位置しているデバイスと、前記第1の樹脂層上に積層されかつ前記第1の樹脂層の前記開口を充填し前記デバイスを埋め込んでいる第2の樹脂層と、前記第1の樹脂層が位置する側とは反対の側の前記第2の樹脂層上に設けられた配線層と、を有し、
前記樹脂製パッケージの占める各領域の隣にダミー領域が設けられ、かつ該樹脂製パッケージの領域と該ダミー領域とが横方向または縦方向の少なくとも一方の方向に交互に並べられており、
前記樹脂製パッケージの領域および前記ダミー領域のほかに、へりの部分に、前記樹脂製パッケージの領域および前記ダミー領域の全体を囲むように枠部となる領域が設けられていること
を特徴とする樹脂製パッケージ配列シート。
A resin package arrangement sheet in which resin packages are arranged vertically and horizontally,
Each of the resin packages has a first resin layer having an opening, a device positioned so as to be accommodated in the opening, and the first resin layered on the first resin layer. A second resin layer filling the opening of the layer and embedding the device, and a wiring layer provided on the second resin layer opposite to the side where the first resin layer is located, , has a,
A dummy region is provided next to each region occupied by the resin package, and the region of the resin package and the dummy region are alternately arranged in at least one of the horizontal direction and the vertical direction,
In addition to the resin package region and the dummy region, an edge portion is provided with a region serving as a frame so as to surround the entire resin package region and the dummy region. Resin package array sheet.
部品内蔵樹脂モジュールが縦横に配列された部品内蔵樹脂モジュール配列シートであって、
前記部品内蔵樹脂モジュールのそれぞれが、開口を備えた第1の樹脂層と、前記開口内に収められるように位置しているデバイスと、前記第1の樹脂層上に積層されかつ前記第1の樹脂層の前記開口を充填し前記デバイスを埋め込んでいる第2の樹脂層と、前記第1の樹脂層が位置する側とは反対の側の前記第2の樹脂層上に設けられた配線層と、を有し、
前記部品内蔵樹脂モジュールの占める各領域の隣にダミー領域が設けられ、かつ該部品内蔵樹脂モジュールの領域と該ダミー領域とが横方向または縦方向の少なくとも一方の方向に交互に並べられており、
前記部品内蔵樹脂モジュールの領域および前記ダミー領域のほかに、へりの部分に、前記部品内蔵樹脂モジュールの領域および前記ダミー領域の全体を囲むように枠部となる領域が設けられていること
を特徴とする部品内蔵樹脂モジュール配列シート。
A resin module arrangement sheet with built-in parts in which resin modules with built-in parts are arranged vertically and horizontally,
Each of the component-embedded resin modules includes a first resin layer having an opening, a device positioned so as to be accommodated in the opening, the first resin layer stacked on the first resin layer, and the first resin layer A second resin layer filling the opening of the resin layer and embedding the device, and a wiring layer provided on the second resin layer on the side opposite to the side where the first resin layer is located And having
A dummy region is provided next to each region occupied by the component built-in resin module, and the region of the component built-in resin module and the dummy region are alternately arranged in at least one of the horizontal direction and the vertical direction,
In addition to the component-embedded resin module region and the dummy region, an edge portion is provided with a region serving as a frame so as to surround the entire component-embedded resin module region and the dummy region. Component built-in resin module array sheet.
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