JP5821752B2 - ガス処理装置 - Google Patents
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Description
12…第2反応容器(吸収反応容器)
14…溶液タンク
20…天部
22…電子ビーム取出窓
24…ガス供給管
26…リングノズル
28…底部
30…連通管
32…分散板
34…排管
36…第1溶液ポンプ
38…第2溶液ポンプ
40…フランジ
42A、42B…細孔プレート
44…充填材
E…電子ビーム
G…被処理ガス
L…反応液(アルカリ溶液)
Claims (4)
- 内部に供給された窒素酸化物を含有する被処理ガスに電子ビームを照射すると共に、該被処理ガスをアルカリ溶液に接触させて脱硝する筒状の照射・吸収反応容器を備えたガス処理装置において、
前記照射・吸収反応容器の上端に取り付けられた、該照射・吸収反応容器の軸方向に沿って下方に電子ビームが通過する天部と、
供給された前記被処理ガスを、前記照射・吸収反応容器内を同軸に旋回させる旋回手段と、
旋回されて流動する前記被処理ガスを接触反応させるアルカリ溶液を、前記照射・吸収反応容器の側壁内面に沿って流下させる溶液供給手段と、を備えていることを特徴とするガス処理装置。 - 前記照射・吸収反応容器の底部には連通管が連結され、該連通管を介して接触反応後の前記被処理ガス及びアルカリ溶液を導入する吸収反応容器が設置されていることを特徴とする請求項1に記載のガス処理装置。
- 前記連通管には充填材が充填されていることを特徴とする請求項2に記載のガス処理装置。
- 前記照射・吸収反応容器の下流には、アルカリ溶液を貯留する溶液タンクが配設され、
前記溶液供給手段により前記照射・吸収反応容器に供給されるアルカリ溶液を、該溶液タンクを介して循環させる循環手段を備えていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のガス処理装置。
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