JP5819847B2 - 非モード式プレート間マイクロ波加熱システムおよび加熱方法 - Google Patents
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Description
本明細書において使用されるとき、非モード式プレート間マイクロ波印加装置は、プレート間に負荷を受け入れるように構成された少なくとも2枚のプレートを有する任意のマイクロ波印加装置であって、負荷へとマイクロ波エネルギーを加える目的のためにプレート間に電磁界を生成するように構成され、負荷における電磁界の強度が共振用のエンクロージャの内側に形成される定在波モードに依存しないように設計されているマイクロ波印加装置である。
D=(ε0ε1’E1)=(ε0ε2’E2)
であり、したがって
E2=(ε1/ε2)E1
である。
Claims (34)
- 印加装置から放射されるマイクロ波によって加熱される負荷を受け入れ、
プレート間にマイクロ波エネルギーの電磁界を生成するように構成された非モード式プレート間マイクロ波印加装置と、
前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置に接続されたマイクロ波源と、
前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置を少なくとも部分的に囲んでいる非共振のエンクロージャと
を備え、
負荷における電磁界の強度が電磁界の定在波モードに依存せず、
前記非共振のエンクロージャは、定在波の生成を避けるように、寸法決めされているか若しくはその内面がマイクロ波に対して非反射である
マイクロ波加熱システム。 - 前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置が、閉ループのシングルエンド印加装置、および/または平衡印加装置、および/またはインピーダンス整合した印加装置を備えている、請求項1に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非共振のエンクロージャが円筒形の外形を有しているかまたは非円筒形の外形を有している、請求項1または2に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置が、λ/6未満の距離dだけ隔てられた少なくとも2枚のプレートを備えている、請求項1〜3のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置が少なくとも2枚のプレートを備えており、前記プレートのすべてが同一のエリアを有するものではない、および/または前記プレートのすべてが同一の形状を有するものではない、請求項1〜4のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置が少なくとも2枚のプレートを備えており、前記プレート間の距離が可変である請求項1〜5のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置が少なくとも2枚のプレートを備えており、前記プレートのすべてが同じ材料で製作されているものではなく、および、前記非共振のエンクロージャが、少なくとも1つの導電性材料および少なくとも1つの半導体材料から選択される少なくとも1つの材料を含んでいる、請求項1〜6のいずれかに記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置が少なくとも2枚のプレートを備えており、前記プレート間の空間が、処理対象の負荷以外の誘電体で少なくとも部分的に満たされている、請求項1〜7のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非共振のエンクロージャが、寸法に関して定在波の生成を抑制するように構成されている、請求項1〜8のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置のプレート間で加熱される反応瓶をさらに備えている、請求項1〜9のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記負荷が反応混合物を備えている、請求項10に記載のマイクロ波加熱システム。
- フローリアクタをさらに備えている、請求項1〜11のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記負荷が、移動している負荷を含む、請求項1〜12のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記負荷を前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置の内部に保持すべく前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置に組み合わせられた支持構造をさらに備え、前記支持構造が、マイクロ波に関して透過性である材料およびマイクロ波に関して或る程度透過性である材料から選択される少なくとも1つの材料を含んでいる、請求項1〜13のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記支持構造が液体または気体の一方を含んでおり、および、前記支持構造が少なくとも1つの入口と少なくとも1つの出口とを備えている、請求項14に記載のマイクロ波加熱システム。
- 負荷ホルダをさらに備え、前記負荷ホルダが、反応瓶、球、管、毛細管構造、薄膜基板、ガラススラブ、顕微鏡用スライド、組織カセット、マイクロタイタープレート、マイクロ流体装置、マイクロアレイ、微細加工構造、およびこれらの組み合わせのうちの少なくとも1つを備えている、請求項1〜15のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記負荷ホルダが、ガラススラブおよびフィルムから選択される少なくとも1つの材料を含んでいる、請求項15または16に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置に接続されたチューニング装置をさらに備え、抵抗、インダクタンス、および容量から選択される、前記チューニング装置の少なくとも1つの特性を変化させることができ、および任意で前記チューニング装置へとフィードバック信号を供給する監視装置をさらに備えている、請求項1〜17のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記監視装置が、温度センサ、圧力センサ、紫外線(UV)センサ、赤外線(IR)、X線装置、超音波装置、レーザ、蛍光測定装置、化学発光測定装置、分光装置、およびこれらの組み合わせのうちの少なくとも1つを備えている、請求項18に記載のマイクロ波加熱システム。
- マイクロ波の周波数を制御するためのコントローラをさらに備えている、請求項1〜19のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- 前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置が、準備、生成、分析的分析、診断、およびこれらの組み合わせのうちの少なくとも1つを実施するために、マイクロ波によって加熱される負荷を内部に受け入れるように構成されている、請求項1〜20のいずれか一項に記載のマイクロ波加熱システム。
- マイクロ波を用いて負荷を加熱するための方法であって、
電磁界を内部に生成するための印加装置を画定するような形状の非モード式プレート間マイクロ波印加装置を形成するステップであって、前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置は、少なくとも部分的に非共振のエンクロージャに囲まれ、該非共振のエンクロージャは、定在波の生成を避けるように、寸法決めされているか若しくはその内面がマイクロ波に対して非反射であるステップと、
前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置を、マイクロ波を用い負荷を加熱すべく電磁界を生成するように構成するステップと
を含む方法。 - 前記負荷が生体組織を含む、請求項22に記載の方法。
- 前記負荷が陽電子放出断層撮影(PET)材料を含む、請求項22に記載の方法。
- マイクロ波の周波数および出力から選択される少なくとも1つの特性を、負荷における反応を制御するために変化させる、請求項22に記載の方法。
- 組織化学、免疫組織化学、またはin−situハイブリッド形成の処理のために、顕微鏡用スライド上の生体サンプルを前処理する方法であって、
生体サンプルを、非モード式プレート間マイクロ波印加装置のプレート間に配置するステップであって、前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置は、少なくとも部分的に非共振のエンクロージャに囲まれ、該非共振のエンクロージャは、定在波の生成を避けるように、寸法決めされているか若しくはその内面がマイクロ波に対して非反射であるステップと、
マイクロ波源を前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置に接続するステップと、
前記プレート間の電磁界を、前記顕微鏡用スライド上の前記生体サンプルに印加するステップと、
少なくとも1つの染色前処理プロトコル段階を実施するために前記サンプルを加熱するステップと
を含む方法。 - 前記少なくとも1つの前処理プロトコル段階が、焼成、脱蝋、ターゲット回復、ブロッキング、変性、酵素消化、およびこれらの任意の組み合わせから選択される、請求項26に記載の方法。
- 前記サンプルの特性を監視するステップと、
前記監視に少なくとも部分的に応答して前記プレート間の電磁界を調節するステップとをさらに含む、請求項26に記載の方法。 - 組織化学、免疫組織化学、またはin−situハイブリッド形成の処理のために顕微鏡用スライド上の生体サンプルを培養する方法であって、
生体サンプルを、非モード式プレート間マイクロ波印加装置のプレート間に配置するステップであって、前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置は、少なくとも部分的に非共振のエンクロージャに囲まれ、該非共振のエンクロージャは、定在波の生成を避けるように、寸法決めされているか若しくはその内面がマイクロ波に対して非反射であるステップと、
マイクロ波源を、前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置に接続するステップと 、
前記プレート間の電磁界を、前記顕微鏡用スライド上の前記生体サンプルに印加するステップと、
少なくとも1つの培養段階を実施するために前記サンプルを加熱するステップと
を含む方法。 - 前記少なくとも1つの培養段階が、組織化学的培養、免疫組織化学的培養、およびin−situハイブリッド形成から選択される、請求項29に記載の方法。
- 前記サンプルの特性を監視するステップと、
前記監視に少なくとも部分的に応答して前記プレート間の電磁界を調節するステップとをさらに含む、請求項29に記載の方法。 - 組織化学、免疫組織化学、またはin−situハイブリッド形成の処理のための流体をインラインで加熱する方法であって、
流体を運ぶ流体キャリアを、非モード式プレート間マイクロ波印加装置のプレート間に配置するステップであって、前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置は、少なくとも部分的に非共振のエンクロージャに囲まれ、該非共振のエンクロージャは、定在波の生成を避けるように、寸法決めされているか若しくはその内面がマイクロ波に対して非反射であるステップと、
マイクロ波源を、前記非モード式プレート間マイクロ波印加装置に接続するステップと、
前記プレート間の電磁界を、前記流体に印加するステップと、
前記流体を加熱するステップと
を含む方法。 - 前記流体が、洗浄用の流体、すすぎ用の流体、中性の流体、組織化学的試薬、免疫組織化学的試薬、ハイブリッド形成試薬、脱蝋用の流体、およびこれらの任意の組み合わせから選択される、請求項32に記載の方法。
- 前記流体の特性を監視するステップと、
前記監視に少なくとも部分的に応答して前記プレート間の電磁界を調節するステップとをさらに含む、請求項32に記載の方法。
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