JP5819448B2 - プラズマ処理装置、異常判定方法及びマイクロ波発生器 - Google Patents
プラズマ処理装置、異常判定方法及びマイクロ波発生器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5819448B2 JP5819448B2 JP2014000464A JP2014000464A JP5819448B2 JP 5819448 B2 JP5819448 B2 JP 5819448B2 JP 2014000464 A JP2014000464 A JP 2014000464A JP 2014000464 A JP2014000464 A JP 2014000464A JP 5819448 B2 JP5819448 B2 JP 5819448B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frequency
- oscillation frequency
- microwave
- oscillation
- adjustment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 96
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 title claims description 8
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 385
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 39
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims description 38
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 11
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 37
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 7
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/511—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using microwave discharges
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R23/00—Arrangements for measuring frequencies; Arrangements for analysing frequency spectra
- G01R23/02—Arrangements for measuring frequency, e.g. pulse repetition rate; Arrangements for measuring period of current or voltage
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32201—Generating means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32302—Plural frequencies
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32311—Circuits specially adapted for controlling the microwave discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03L—AUTOMATIC CONTROL, STARTING, SYNCHRONISATION, OR STABILISATION OF GENERATORS OF ELECTRONIC OSCILLATIONS OR PULSES
- H03L7/00—Automatic control of frequency or phase; Synchronisation
- H03L7/26—Automatic control of frequency or phase; Synchronisation using energy levels of molecules, atoms, or subatomic particles as a frequency reference
Description
図1は、第1の実施形態に係るプラズマ処理装置の要部を示す概略断面図である。図2は、図1に示すプラズマ処理装置に含まれるスロットアンテナ板を下方側、すなわち、図1中の矢印IIの方向から見た図である。なお、図1において、理解の容易の観点から、部材の一部のハッチングを省略している。また、この実施形態においては、図1中の矢印IIで示す方向またはその逆の方向で示される図1における紙面上下方向を、プラズマ処理装置における上下方向としている。
第1の実施形態では、インピーダンス発生器45を用いてマグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整する場合に、調整後の発振周波数の検出結果を用いて、発振周波数の調整の成否を判定した。しかしながら、調整後の発振周波数の検出結果と目標周波数との差分に応じて変動するパラメータを用いて、発振周波数の成否を判定しても良い。そこで、第2の実施形態では、調整後の発振周波数の検出結果と目標周波数との差分に応じて変動するパラメータを用いて、発振周波数の成否を判定する例を説明する。以下の説明では、第1の実施形態と同一の構成要件については、同一の符号を付してその説明を省略する。
第1の実施形態では、インピーダンス発生器45を用いてマグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整する場合に、調整後の発振周波数の検出結果を用いて、発振周波数の調整の成否を判定した。しかしながら、マイクロ波の波形を整える信号をマグネトロン42に注入しつつ、インピーダンス発生器45を用いてマグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整する場合に、調整後の発振周波数の検出結果を用いて、発振周波数の調整の成否を判定しても良い。そこで、第3の実施形態では、マイクロ波の波形を整える信号をマグネトロン42に注入しつつ、インピーダンス発生器45を用いてマグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整する場合に、調整後の発振周波数の検出結果を用いて、発振周波数の調整の成否を判定する例を説明する。以下の説明では、第1の実施形態と同一の構成要件については、同一の符号を付してその説明を省略する。
第2の実施形態では、マグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整する場合に、インピーダンス発生器45に設定されたスタブの突出位置を用いて、発振周波数の調整の成否を判定した。しかしながら、マイクロ波の波形を整える信号をマグネトロン42に注入しつつ、マグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整する場合に、インピーダンス発生器45に設定されたスタブの突出位置を用いて、発振周波数の調整の成否を判定しても良い。そこで、第4の実施形態では、マイクロ波の波形を整える信号をマグネトロン42に注入しつつ、マグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整する場合に、インピーダンス発生器45に設定されたスタブの突出位置を用いて、発振周波数の調整の成否を判定する例を説明する。以下の説明では、第2の実施形態と同一の構成要件については、同一の符号を付してその説明を省略する。
第3の実施形態では、マイクロ波の波形を整える基準信号をマグネトロン42に注入しつつ、インピーダンス発生器45を用いてマグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整した。しかしながら、周波数が目標周波数であり、かつ、マイクロ波の波形を整える基準信号をマグネトロン42に注入することによって、マグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整しても良い。そこで、第5の実施形態では、周波数が目標周波数であり、かつ、マイクロ波の波形を整える基準信号をマグネトロン42に注入することによって、マグネトロン42の発振周波数を目標周波数に調整する例を説明する。以下の説明では、第3の実施形態と同一の構成要件については、同一の符号を付してその説明を省略する。
第1の実施形態では、発振周波数の調整の成否を判定した。しかしながら、発振周波数の調整の成否を判定し、さらに、マグネトロン42の異常発振を判定しても良い。そこで、第6の実施形態では、発振周波数の調整の成否を判定し、さらに、マグネトロン42の異常発振を判定する例を説明する。以下の説明では、第1の実施形態と同一の構成要件については、同一の符号を付してその説明を省略する。
第6の実施形態では、発振周波数の調整の成否を判定し、さらに、マグネトロン42の異常発振を判定した。しかしながら、マイクロ波の波形を整える信号をマグネトロン42に注入しつつ、発振周波数の調整の成否を判定し、さらに、マグネトロン42の異常発振を判定しても良い。そこで、第7の実施形態では、マイクロ波の波形を整える信号をマグネトロン42に注入しつつ、発振周波数の調整の成否を判定し、さらに、マグネトロン42の異常発振を判定する例を説明する。以下の説明では、第6の実施形態と同一の構成要件については、同一の符号を付してその説明を省略する。
第6の実施形態では、発振周波数の調整の成否を判定し、さらに、マグネトロン42の異常発振を判定した。しかしながら、周波数が目標周波数であり、かつ、マイクロ波の波形を整える基準信号をマグネトロン42に注入しつつ、発振周波数の調整の成否を判定し、さらに、マグネトロン42の異常発振を判定しても良い。そこで、第8の実施形態では、周波数が目標周波数であり、かつ、マイクロ波の波形を整える基準信号をマグネトロン42に注入しつつ、発振周波数の調整の成否を判定し、さらに、マグネトロン42の異常発振を判定する例を説明する。以下の説明では、第6の実施形態と同一の構成要件については、同一の符号を付してその説明を省略する。
12 処理容器
19 プラズマ発生機構
41a、41b、41c、41d、41e、41f、41g、41h マイクロ波発生器
42 マグネトロン
45 インピーダンス発生器
47 周波数検出器
48 発振周波数調整器
49 サーキュレータ
101、201 メモリ
102 周波数比較器
103、203、604 報知器
202 スタブ位置判定器
302、402、703 増幅器
303、304、403、404、502、503、704、705、802、803 サーキュレータ
501、801 基準信号発生器
601 スペクトラムレベル検出器
602 CPU
603、701 D/A変換器
Claims (9)
- 処理容器と、
マイクロ波発振器を含み、前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波を用いて前記処理容器内にプラズマを発生させるプラズマ生成機構と、
前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波の周波数である発振周波数と所定の周波数とが一致するように、前記発振周波数を前記所定の周波数に向けて調整する調整部と、
前記調整部によって調整された前記発振周波数を検出する検出部と、
前記検出部によって検出された前記発振周波数を用いて、又は、該発振周波数と前記所定の周波数との差分に応じて変動するパラメータを用いて、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致したか否かを判定する判定部と
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 可動自在な可動部材を含み、設定される前記可動部材の可動位置に応じて、前記マイクロ波発振器に付与されるインピーダンスを発生させるインピーダンス発生器をさらに備え、
前記調整部は、前記検出部によって検出された発振周波数と前記所定の周波数との差分を減少させる前記可動部材の可動位置を前記インピーダンス発生器に設定することによって、前記発振周波数を調整し、
前記判定部は、前記検出部によって検出された前記発振周波数が、前記インピーダンス発生器に設定される前記可動部材の可動位置が下限位置と上限位置との間で変更されることによって変動し得る前記発振周波数の変動範囲に包含される所定の周波数帯域であって、前記所定の周波数を中心とする所定の周波数帯域である判定用周波数帯域に存在する場合に、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致したと判定し、前記検出部によって検出された前記発振周波数が、前記判定用周波数帯域に存在しない場合に、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致していないと判定する
ことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 可動自在な可動部材を含み、設定される前記可動部材の可動位置に応じて、前記マイクロ波発振器に付与されるインピーダンスを発生するインピーダンス発生器をさらに備え、
前記調整部は、前記検出部によって検出された発振周波数と前記所定の周波数との差分を減少させる前記可動部材の可動位置を前記インピーダンス発生器に設定することによって、前記発振周波数を調整し、
前記判定部は、前記パラメータとして、前記調整部によって前記インピーダンス発生器に設定される前記可動部材の可動位置が、予め許容された範囲に存在する場合に、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致したと判定し、前記パラメータとして、前記調整部によって前記インピーダンス発生器に設定される前記可動部材の可動量が、予め許容された範囲に存在しない場合に、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致していないと判定する
ことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記発振周波数と周波数が同一であり、かつ、前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波よりも電力が低い信号を前記マイクロ波発振器に注入する注入部をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載のプラズマ処理装置。
- 処理容器と、
マイクロ波発振器を含み、前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波を用いて前記処理容器内にプラズマを発生させるプラズマ生成機構と、
周波数が所定の周波数であり、かつ、前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波よりも電力が低い信号である基準信号を発生し、前記基準信号を前記マイクロ波発振器に注入することによって、前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波の周波数である発振周波数と前記所定の周波数とが一致するように、前記発振周波数を前記所定の周波数に向けて調整する調整部と、
前記調整部によって調整された前記発振周波数を検出する検出部と、
前記検出部によって検出された前記発振周波数が、前記所定の周波数を中心とする所定の周波数帯域である判定用周波数帯域に存在する場合に、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致したと判定し、前記検出部によって検出された前記発振周波数が、前記判定用周波数帯域に存在しない場合に、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致しないと判定する判定部と
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記検出部は、前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波が分岐されて得られる分岐マイクロ波の周波数に対する、前記分岐マイクロ波の強度の分布を検出するスペクトラムレベル検出器を含み、前記分布における最大値に対応する周波数を前記発振周波数として検出し、
前記判定部は、前記検出部によって検出された前記発振周波数を用いて、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致したか否かを判定し、さらに、前記検出部によって検出された前記分布における最大値と、前記分布における、前記最大値に対応する周波数を中心とする所定の周波数帯域の両端に対応する周辺値との差分を算出し、算出した差分の値を用いて、前記マイクロ波発振器の異常発振を判定する
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載のプラズマ処理装置。 - 前記判定部による判定結果を報知する報知部をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載のプラズマ処理装置。
- 処理容器と、
マイクロ波発振器を含み、前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波を用いて前記処理容器内にプラズマを発生させるプラズマ生成機構と、
前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波の周波数である発振周波数と所定の周波数とが一致するように、前記発振周波数を前記所定の周波数に向けて調整する調整部とを備えたプラズマ処理装置による異常判定方法であって、
前記調整部によって調整された前記発振周波数を検出し、
検出された前記発振周波数を用いて、又は、該発振周波数と前記所定の周波数との差分に応じて変動するパラメータを用いて、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致したか否かを判定する
ことを特徴とする異常判定方法。 - マイクロ波を発振するマイクロ波発振器と、
前記マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波の周波数である発振周波数と所定の周波数とが一致するように、前記発振周波数を前記所定の周波数に向けて調整する調整部と、
前記調整部によって調整された発振周波数を検出する検出部と、
前記検出部によって検出された前記発振周波数を用いて、又は、該発振周波数と前記所定の周波数との差分に応じて変動するパラメータを用いて、前記調整部における調整の結果、前記発振周波数と前記所定の周波数とが一致したか否かを判定する判定部と
を備えたことを特徴とするマイクロ波発生器。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014000464A JP5819448B2 (ja) | 2014-01-06 | 2014-01-06 | プラズマ処理装置、異常判定方法及びマイクロ波発生器 |
US14/588,114 US10662531B2 (en) | 2014-01-06 | 2014-12-31 | Plasma processing apparatus, abnormality determination method, and microwave generator |
KR1020150001147A KR101645118B1 (ko) | 2014-01-06 | 2015-01-06 | 플라즈마 처리 장치, 이상 판정 방법 및 마이크로파 발생기 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014000464A JP5819448B2 (ja) | 2014-01-06 | 2014-01-06 | プラズマ処理装置、異常判定方法及びマイクロ波発生器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015130252A JP2015130252A (ja) | 2015-07-16 |
JP5819448B2 true JP5819448B2 (ja) | 2015-11-24 |
Family
ID=53495753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014000464A Expired - Fee Related JP5819448B2 (ja) | 2014-01-06 | 2014-01-06 | プラズマ処理装置、異常判定方法及びマイクロ波発生器 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10662531B2 (ja) |
JP (1) | JP5819448B2 (ja) |
KR (1) | KR101645118B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017014210A1 (ja) * | 2015-07-21 | 2017-01-26 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
KR20180033995A (ko) | 2016-09-27 | 2018-04-04 | 삼성전자주식회사 | 모니터링 유닛, 이를 포함하는 플라즈마 처리 장치 및 그를 이용한 반도체 칩의 제조 방법 |
JP6752117B2 (ja) * | 2016-11-09 | 2020-09-09 | 東京エレクトロン株式会社 | マイクロ波プラズマ源およびマイクロ波プラズマ処理装置 |
JP6883488B2 (ja) * | 2017-08-18 | 2021-06-09 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP2019091526A (ja) * | 2017-11-10 | 2019-06-13 | 東京エレクトロン株式会社 | パルスモニタ装置及びプラズマ処理装置 |
JP2021180070A (ja) * | 2020-05-11 | 2021-11-18 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びマイクロ波制御方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4122802C1 (ja) * | 1991-07-10 | 1992-12-17 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De | |
JPH05144381A (ja) | 1991-11-20 | 1993-06-11 | Hitachi Ltd | マグネトロン応用装置 |
JPH05299024A (ja) | 1992-04-22 | 1993-11-12 | Hitachi Ltd | マグネトロン応用装置 |
JP3697504B2 (ja) | 2000-07-31 | 2005-09-21 | 国立大学法人京都大学 | マグネトロン周波数/位相制御回路とマグネトロンを用いたマイクロ波発生装置 |
JP5138131B2 (ja) * | 2001-03-28 | 2013-02-06 | 忠弘 大見 | マイクロ波プラズマプロセス装置及びプラズマプロセス制御方法 |
JP2004055614A (ja) * | 2002-07-16 | 2004-02-19 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JP4099074B2 (ja) * | 2003-01-27 | 2008-06-11 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
JP3751967B1 (ja) | 2004-09-24 | 2006-03-08 | 日本高周波株式会社 | マグネトロン発振装置 |
JP2007228219A (ja) | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Idx Corp | マイクロ波装置 |
JP4905179B2 (ja) * | 2007-02-27 | 2012-03-28 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びそのクリーニング方法 |
JP5026916B2 (ja) * | 2007-10-19 | 2012-09-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
JP4528870B1 (ja) * | 2009-06-05 | 2010-08-25 | 日本高周波株式会社 | マグネトロン発振装置およびプラズマ処理装置 |
US10510513B2 (en) | 2012-02-23 | 2019-12-17 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing device and high-frequency generator |
US10074524B2 (en) | 2012-03-26 | 2018-09-11 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus and high frequency generator |
-
2014
- 2014-01-06 JP JP2014000464A patent/JP5819448B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-12-31 US US14/588,114 patent/US10662531B2/en active Active
-
2015
- 2015-01-06 KR KR1020150001147A patent/KR101645118B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150194292A1 (en) | 2015-07-09 |
KR101645118B1 (ko) | 2016-08-02 |
KR20150082126A (ko) | 2015-07-15 |
JP2015130252A (ja) | 2015-07-16 |
US10662531B2 (en) | 2020-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5819448B2 (ja) | プラズマ処理装置、異常判定方法及びマイクロ波発生器 | |
US9159536B2 (en) | Plasma processing apparatus, abnormal oscillation determination method and high-frequency generator | |
JP6698033B2 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
US9418822B2 (en) | Plasma processing apparatus, plasma processing method and high frequency generator | |
US10510513B2 (en) | Plasma processing device and high-frequency generator | |
US10622197B2 (en) | Plasma processing apparatus and plasma processing method | |
KR20180061033A (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
US10074524B2 (en) | Plasma processing apparatus and high frequency generator | |
JP6625122B2 (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
WO2016002590A1 (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
US10879045B2 (en) | Plasma processing apparatus | |
US11031213B2 (en) | Microwave output device and plasma processing device | |
KR101882608B1 (ko) | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법 | |
JP2016100312A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
JP6486207B2 (ja) | プラズマ処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150609 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150706 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150924 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150930 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5819448 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |