JP5808241B2 - Sputtering target peeling apparatus and peeling method therefor - Google Patents
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Description
本発明は、薄膜形成等に用いられる板状スパッタリングターゲットをバッキングプレートから剥離する装置およびその剥離方法に関する。 The present invention relates to an apparatus for peeling a plate-like sputtering target used for forming a thin film from a backing plate and a peeling method thereof.
薄膜形成等に使用された板状のスパッタリングターゲットは、スパッタリングターゲット材とバッキングプレートに分離され、スパッタリングターゲット材は、回収精製された後に原材料等として利用され、バッキングプレートはブラスト処理等を施して再利用される。 The plate-like sputtering target used for forming a thin film is separated into a sputtering target material and a backing plate. The sputtering target material is recovered and refined and then used as a raw material. The backing plate is subjected to a blasting process and the like. Used.
そのために、スパッタリングターゲット材をバッキングプレートから剥離する作業があり、その剥離作業のためには、ボンディング処理された板状スパッタリングターゲットをホットプレート等の熱源の上に配置し、In等のボンディング用接合材を溶融させる必要がある。 For this purpose, there is an operation for peeling the sputtering target material from the backing plate. For the peeling operation, the bonded plate-like sputtering target is placed on a heat source such as a hot plate and bonding for bonding such as In is performed. It is necessary to melt the material.
そのボンディング用接合材が溶融したことを確認するには、板状スパッタリングターゲット材とバッキングプレートが動くかを手の感覚で確認している。 In order to confirm that the bonding material for bonding has melted, it is confirmed by hand whether the plate-like sputtering target material and the backing plate move.
ボンディング用接合材は、バッキングプレートと板状スパッタリングターゲット材の間に最適な量で使用されているため、ボンディング用接合材が溶融したことを目視で確認することは難しい。 Since the bonding material for bonding is used in an optimal amount between the backing plate and the plate-like sputtering target material, it is difficult to visually confirm that the bonding material for melting has melted.
また、ボンディング用接合材が溶融したことを目視するまでの時間はバッキングプレートと板状スパッタリングターゲット材の寸法や材質によっても異なるため、ボンディング用接合材が溶融したことを一定時間ごとに確認する必要がある。 In addition, since the time until it is visually observed that the bonding material has been melted depends on the dimensions and materials of the backing plate and the plate-like sputtering target material, it is necessary to confirm that the bonding material has melted at regular intervals. There is.
さらに、ボンディング用接合材が溶融後、バッキングプレートから板状スパッタリングターゲット材を剥離する際に、ハンマー等で衝撃を与える場合があり、その際にバッキングプレートを傷つけることがある。 Furthermore, after the bonding material for bonding is melted, when the plate-like sputtering target material is peeled off from the backing plate, an impact may be applied with a hammer or the like, and the backing plate may be damaged at that time.
そこで本発明は、先端に押圧部を形成した押圧板をステージの一側に後方からばねで押圧して移動可能に設置し、上記ステージ上に、バッキングプレートにボンディングされているスパッタリングターゲット材を配置し、そのスパッタリングターゲット材の周囲側面に、上記押圧板の押圧部を当接させてスパッタリングターゲット材に自動的に押圧力がかかるようにし、さらにステージ上に、スパッタリングターゲット材の移動によって接触する電極を設け、この電極をブザーおよび/もしくはランプに配線してスパッタリングターゲット材がバッキングプレートから剥離して移動したことを報知するようにした剥離装置を構成した。 Therefore, the present invention is such that a pressing plate having a pressing portion at the tip is movably installed on one side of the stage with a spring from behind, and a sputtering target material bonded to a backing plate is disposed on the stage. Then, the pressing portion of the pressing plate is brought into contact with the peripheral side surface of the sputtering target material so that the pressing force is automatically applied to the sputtering target material, and the electrode that is in contact with the stage by the movement of the sputtering target material. And the electrode was wired to a buzzer and / or a lamp so as to notify that the sputtering target material was peeled off from the backing plate and moved.
上記の剥離装置により、バッキングプレートにボンディングされているスパッタリングターゲット材を配置したステージをホットプレート上に載置して加熱することにより、ボンディング用接合材が溶融し、これによって、押圧板がばねの発力によって自動的に移動し、押圧部によって押圧されているスパッタリングターゲット材がバッキングプレート上を自動的に移動してスパッタリングターゲット材がバッキングプレートから剥離して移動し、これによってスパッタリングターゲット材が電極に接触することによってブザーおよび/もしくはランプが作動してスパッタリングターゲット材がバッキングプレートから剥離したことを報知するものである。 By placing the sputtering target material bonded to the backing plate on the hot plate and heating it by the above-described peeling device, the bonding material for melting is melted. The sputtering target material that is automatically moved by the generated force and is pressed by the pressing part automatically moves on the backing plate, and the sputtering target material is peeled off from the backing plate and moved. The buzzer and / or the lamp is activated by contacting the substrate and the sputtering target material is peeled off from the backing plate.
以上の本発明によると、バッキングプレートにボンディング処理されたスパッタリングターゲット材を載置したステージをホットプレート上で加熱することにより、接合材が溶融し、押圧されているスパッタリングターゲット材がバッキングプレート上を自動的に移動してスパッタリングターゲット材が剥離し、電極に接触してブザーおよび/もしくはランプで報知することにより、スパッタリングターゲットの剥離を目視等によって作業員が確認する必要がなくなり剥離の自動化が可能となる効果を有する。 According to the present invention described above, by heating the stage on which the sputtering target material bonded to the backing plate is placed on the hot plate, the bonding material is melted and the pressed sputtering target material is moved over the backing plate. By automatically moving, the sputtering target material peels off, and the buzzer and / or lamp informs when it comes into contact with the electrode, eliminating the need for the worker to visually confirm the peeling of the sputtering target and automating the peeling. It has the effect which becomes.
本発明の実施例を説明する。 Examples of the present invention will be described.
先端に凹部7を設けて2つの押圧部1を形成し、中程に複数の移動用の長孔2を形成してステンレス等製で押圧板3を形成する。 A concave portion 7 is provided at the tip to form two pressing portions 1, a plurality of moving long holes 2 are formed in the middle, and the pressing plate 3 is formed of stainless steel or the like.
上記押圧板3の先端に形成した押圧部1は、後述するバッキングプレート15の厚さより高い位置とするために押圧板3の下面より浮いた位置となるようにして突出形成されている。 The pressing portion 1 formed at the tip of the pressing plate 3 is formed so as to protrude from the lower surface of the pressing plate 3 so as to be higher than the thickness of a backing plate 15 described later.
このようにした押圧板3を、ステージ4の一側に後方からばね5で押圧するようにして設置し、上記長孔2を通す支持ピン6をステージ4に立てて押圧板3がステージ4上を移動可能となるようにする。 The thus configured pressing plate 3 is installed on one side of the stage 4 so as to be pressed by a spring 5 from behind, and the supporting pin 6 through which the long hole 2 is passed is placed on the stage 4 so that the pressing plate 3 is placed on the stage 4. To be movable.
8は固定部であり、ステージ4上にバッキングプレート15の位置を固定するものであり、その1つの固定部8に絶縁部9を介して電極10を形成し、回路11によりブザー12およびランプ13に接続する。14は電源である。なお、このブザー12およびランプ13は必ずしも両方設置しなくてもよく、どちらか一方だけでもよい。なお、本実施例では、固定部を利用して電極を設けたが、固定部以外に電極を独立して設けてブザーやランプと接続するようにしてもよい。 Reference numeral 8 denotes a fixing portion, which fixes the position of the backing plate 15 on the stage 4. The electrode 10 is formed on the one fixing portion 8 via the insulating portion 9, and the buzzer 12 and the lamp 13 are formed by the circuit 11. Connect to. Reference numeral 14 denotes a power source. Note that both the buzzer 12 and the lamp 13 are not necessarily installed, and only one of them may be provided. In the present embodiment, the electrode is provided using the fixed portion. However, the electrode may be provided independently of the fixed portion and connected to the buzzer or the lamp.
スパッタリングターゲットの形状は、円形、矩形、多角形等があり、押圧板3の先端に形成した押圧面1の形状を上記した形状にしておくことによりどのような形状のスパッタリングターゲットの外周形状にも対応することができるが、剥離するスパッタリングターゲットの外周形状に対応できる形状であればどのような形状でもよい。 The shape of the sputtering target has a circular shape, a rectangular shape, a polygonal shape, and the like, and the shape of the pressing surface 1 formed at the tip of the pressing plate 3 is the above-described shape, so that the outer peripheral shape of the sputtering target can be any shape. Although it can respond | correspond, what kind of shape may be sufficient if it is a shape which can respond to the outer periphery shape of the sputtering target to peel.
また、長孔と支持ピンとの構造は上記構造に限るものではなく、例えば、押圧板の両側に支持ピンを立てたりガイドを設けて押圧板を挟むようにして押圧板が移動できるようにしてもよいもので、要するに押圧板が直線移動できる構造であればどのような構造でもよい。 In addition, the structure of the long hole and the support pin is not limited to the above structure. For example, the support plate may be moved by placing support pins on both sides of the press plate or providing guides to sandwich the press plate. In short, any structure may be used as long as the pressing plate can move linearly.
以下に上記装置の作動例を説明する。 The operation example of the above apparatus will be described below.
図1、図2、図3に示す如く、バッキングプレート15(材質99.9質量%Cu、φ250mm×板厚3mm、段付きφ200mm×高さ1.5mm)にスパッタリングターゲット材16(材質99.99質量%Ag、φ200mm×板厚5mm)がInのボンディング用接合材によってボンディング処理されたものを用意した。 As shown in FIGS. 1, 2, and 3, a sputtering target material 16 (material 99.99) is formed on a backing plate 15 (material 99.9 mass% Cu, φ250 mm × plate thickness 3 mm, stepped φ200 mm × height 1.5 mm). (Mass% Ag, φ200 mm × plate thickness 5 mm) was prepared by bonding with an In bonding material.
そこで、図1に示すように、バッキングプレート15上にボンディング処理されたスパッタリングターゲット材16をステージ4の上に配置し、ステージ4に設けた固定部8によってバッキングプレート15の端部を固定し、押圧板3の押圧部1端面をスパッタリングターゲット材16の側面に当て、これによってばね5の発力により押圧力を作用させる。 Therefore, as shown in FIG. 1, the sputtering target material 16 bonded on the backing plate 15 is placed on the stage 4, and the end of the backing plate 15 is fixed by the fixing portion 8 provided on the stage 4, An end surface of the pressing portion 1 of the pressing plate 3 is applied to the side surface of the sputtering target material 16, and thereby a pressing force is applied by the force generated by the spring 5.
このような状態にしたステージ4を、図示しないホットプレート上に載せて加熱することにより、ボンディング用接合材17であるInが溶融する。この溶融によって、押圧板3がばね5の発力によって長孔2に沿って矢印方向に自動的に移動し、これによって、図3に示す如く、スパッタリングターゲット材16はバッキングプレート15上を移動してスパッタリングターゲット材16は剥離する。 When the stage 4 in such a state is placed on a hot plate (not shown) and heated, In which is the bonding material 17 for bonding is melted. By this melting, the pressing plate 3 is automatically moved in the direction of the arrow along the long hole 2 by the force of the spring 5, whereby the sputtering target material 16 moves on the backing plate 15 as shown in FIG. Then, the sputtering target material 16 is peeled off.
このスパッタリングターゲット材16の移動によってスパッタリングターゲット材16が電極10に接触し、これによってブザー12およびランプ13によってその移動が報知される。なお、図示しないが、この電極10への接触の信号をカウンター等に接続することにより自動制御するようにもできる。 Due to the movement of the sputtering target material 16, the sputtering target material 16 comes into contact with the electrode 10, whereby the movement is notified by the buzzer 12 and the lamp 13. Although not shown, it is also possible to automatically control the contact signal to the electrode 10 by connecting it to a counter or the like.
以上の説明は、円板状のスパッタリングターゲット材16の場合で説明したが、図4に示す如く、矩形のスパッタリングターゲット材16においても同様にして行うことができ、さらに図示しない他の形状のスパッタリングターゲット材においても同じである。 The above description has been given for the case of the disk-shaped sputtering target material 16, but as shown in FIG. 4, it can be performed in the same manner for the rectangular sputtering target material 16, and further, sputtering of other shapes not shown. The same applies to the target material.
また、図示する他の押圧板3の押圧部1においても、上記と同様の作用でスパッタリングターゲット材16をバッキングプレート15から剥離させることができる。 Moreover, also in the press part 1 of the other press plate 3 shown in figure, the sputtering target material 16 can be peeled from the backing plate 15 by the effect | action similar to the above.
1 押圧部
2 長孔
3 押圧板
4 ステージ
5 ばね
6 支持ピン
7 凹部
8 固定部
9 絶縁部
10 電極
11 回路
12 ブザー
13 ランプ
14 電源
15 バッキングプレート
16 スパッタリングターゲット材
17 ボンディング用接合材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Press part 2 Long hole 3 Press plate 4 Stage 5 Spring 6 Support pin 7 Concave part 8 Fixed part 9 Insulation part 10 Electrode 11 Circuit 12 Buzzer 13 Lamp 14 Power supply 15 Backing plate 16 Sputtering target material 17 Bonding material for bonding
Claims (3)
2. The peeling apparatus according to claim 1, wherein a stage on which a sputtering target material bonded to a backing plate is placed is placed on a hot plate and heated to melt the bonding material, whereby a pressing plate Is automatically moved by the spring force, and the sputtering target material pressed by the pressing portion is automatically moved on the backing plate. The movement of the sputtering target material brings the sputtering target material into contact with the electrode. A method of peeling a sputtering target, characterized in that the movement of the sputtering target material is notified by a buzzer and / or a lamp so that peeling of the sputtering target material can be known.
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