JP5802098B2

JP5802098B2 - Work cleaning method and system, and cleaning apparatus

Info

Publication number: JP5802098B2
Application number: JP2011215673A
Authority: JP
Inventors: 健一嶋田
Original assignee: 島田化成株式会社
Priority date: 2011-09-29
Filing date: 2011-09-29
Publication date: 2015-10-28
Anticipated expiration: 2031-02-21
Also published as: JP2012170953A

Description

本願発明は、ワーク洗浄方法及びそのシステム並びにその洗浄装置に関するものである。 The present invention relates to a workpiece cleaning method, a system thereof, and a cleaning apparatus thereof.

工業製品の生産ラインにおいては、洗浄の必要なワークを生産ラインから外して洗浄し洗浄後再び生産ラインへ戻したり、或いは、洗浄を生産ラインの一工程として行うことが一般的に行われる。
例えば、自動車部品の生産ラインにおいて、加工工程を経たエンジンのシリンダブロックやシリンダヘッドなどのワークに対し、付着した切粉や油脂などの汚れを除去するために、洗浄液による洗浄を行う。 In an industrial product production line, a workpiece that needs to be washed is removed from the production line and washed and then returned to the production line after washing, or washing is performed as one process of the production line.
For example, in a production line for automobile parts, a workpiece such as an engine cylinder block or cylinder head that has undergone a machining process is cleaned with a cleaning liquid in order to remove dirt such as adhering chips and oils and fats.

具体的には、生産ライン上を送られてくる洗浄が必要なワークを、センサにて検知し、当該ワークを、多軸のロボットアームにてクランプして洗浄槽へ運び、洗浄槽内にて、当該洗浄槽の内周面に設けられた噴射ノズルから洗浄液を当該ワークに向けて噴射する（特許文献１）。 Specifically, a workpiece that is sent to the production line and needs to be cleaned is detected by a sensor, and the workpiece is clamped by a multi-axis robot arm and transported to the cleaning tank. The cleaning liquid is sprayed from the spray nozzle provided on the inner peripheral surface of the cleaning tank toward the workpiece (Patent Document 1).

この特許文献１に示す洗浄装置では、噴射ノズルに対して、ロボットアームの制御により、ワークの向きを変えてワークの各面に対して洗浄液を噴射したり、特に洗浄が必要な個所を重点的に噴射ノズルへ向けて洗浄を行うことができる。
洗浄内に溜まった洗浄液は、ワークを１つ洗浄する都度入れ替えられる。
この特許文献１の洗浄装置は、上記のように洗浄液を溜める洗浄槽を備えるものであり、いわゆる水中洗浄が行なわれる。この水中洗浄は、表面形状が入り組んだ複雑な形状のワークや、内部に空洞状の穴を持つワークに対して有効であり、洗浄槽内の洗浄液にワークを浸漬して洗浄することにより、表面及び内部の起伏に付着した汚れを確実に落とすことができる。 In the cleaning device disclosed in Patent Document 1, cleaning fluid is sprayed onto each surface of a workpiece by changing the orientation of the workpiece by controlling the robot arm, or a portion that particularly needs cleaning is focused on the spray nozzle. In addition, cleaning can be performed toward the spray nozzle.
The cleaning liquid collected in the cleaning is replaced each time one workpiece is cleaned.
The cleaning device disclosed in Patent Document 1 includes a cleaning tank for storing a cleaning liquid as described above, and so-called underwater cleaning is performed. This underwater cleaning is effective for complex shaped workpieces with complicated surface shapes and workpieces with hollow holes inside, and the surface can be cleaned by immersing the workpiece in the cleaning solution in the cleaning tank. And the dirt adhering to the undulations inside can be surely removed.

この水中洗浄は、洗浄後、次の洗浄に備えて、洗浄槽から溜まった洗浄液を速やかに排出しておく必要があるが、エンジン部品などの比較的大きなワークを洗浄する洗浄槽では、容積も大きく、洗浄液の排出は時間を要する。
また、この水中洗浄は水中でのノズル噴射となるので、その噴射効力は水の抵抗で減じられるという不利な点もある。
そして、水中洗浄は水槽内で洗浄が行なわれるため、水槽中には除去した切粉が浮遊しており、ロボットがワークを引き上げた時に再付着することがある。 In this underwater cleaning, the cleaning liquid collected from the cleaning tank needs to be quickly drained in preparation for the next cleaning, but the capacity of the cleaning tank that cleans relatively large workpieces such as engine parts is also high. Large, draining the cleaning liquid takes time.
Further, since this underwater cleaning is a nozzle injection in water, there is a disadvantage that the injection efficiency is reduced by the resistance of water.
Since the underwater cleaning is performed in the water tank, the removed chips are floating in the water tank and may reattach when the robot pulls up the workpiece.

特許第４５８９２１６号公報Japanese Patent No. 4589216

本願の発明が解決しようとする課題は、噴射ノズルから噴射された洗浄液の排出効率を向上させることにある。本願発明の他の課題は、水中洗浄において、溜めた洗浄液を速やかに排出することにある。本願発明のさらに他の課題は、ワークを洗浄液中に浸漬して洗浄する水中洗浄と、浸漬せずに洗浄する空中洗浄とを、洗浄対象物であるワークの特性に応じて自由に選択し、必要に応じて組み合わせ行なうことができるようにすることにある。 The problem to be solved by the invention of the present application is to improve the discharge efficiency of the cleaning liquid sprayed from the spray nozzle. Another object of the present invention is to quickly discharge the accumulated cleaning liquid in underwater cleaning. Still another subject of the present invention is to freely select an underwater cleaning in which the workpiece is immersed and cleaned in a cleaning liquid and an in-air cleaning in which the workpiece is not immersed in accordance with the characteristics of the workpiece to be cleaned, It is to be able to be combined as needed.

本願請求項１の発明は、ワークを洗浄するワーク洗浄装置において、次の構成を採るものを提供する。
即ち、このワーク洗浄装置は、洗浄液の噴射部と、夫々上記ワークから離れた位置に配置された３枚以上の側プレートと、底部と、プレート移動部とを備え、上記プレート移動部は、上記側プレートの全てを上記底部の上面で摺動させて上記側プレート同士を近づけ、上記底部の上面と共に洗浄するワークを上記各側プレートにて取り囲ませることにより上記噴射部にて噴射された洗浄液の液溜まりを構成することができ、上記プレート移動部は、集合させワークを取り囲ませた上記側プレート全てを後退させて上記全側プレートを離散させることにより、上記液溜りに一時的に溜められた上記洗浄液を、互いに隣接する全ての側プレートの間から、一気に排水することができるものであり、上記噴射部は、１つ又は複数の噴射用のノズルを備え、少なくとも一部の上記側プレートは、噴射部の上記ノズルが設けられたノズルプレートであり、互いに隣り合う側プレート同士間に隙間が開いた状態において、ワークに対して洗浄液を噴射できるものである。
本願請求項２の発明は、上記本願請求項１の発明の上記全側プレートにおいて、洗浄するワークを臨む面に上記各ノズルが設けられ、上記ワークを取り囲んだ上記状態において、上記各側プレートの横方向の両端夫々は、隣接する他の上記側プレートの横方向の端部と当接して、上記ノズルから噴射された洗浄液の上記溜まりを構成し、
上記噴射部は、側プレート同士が離れた状態と、各側プレートが洗浄するワークを取り囲んで近接した状態の、何れの状態においても、ノズルから洗浄液を噴射することができる。
本願請求項３の発明は、本願の上記請求項１記載のワーク洗浄装置を用いたワーク洗浄方法を提供する。
本願請求項４の発明は、移送ラインから移送されてくるワークを、洗浄液にて洗浄するワーク洗浄システムにおいて、次の構成を採るものを提供する。
即ちこのワーク洗浄システムは、洗浄処理室と、洗浄処理室内に配置された、上記請求項１のワーク洗浄装置と、把持装置とを備え、上記移送ラインは、ワークを上記洗浄処理室へ搬入する第１コンベアと、洗浄後のワークを上記洗浄処理室より搬出する第２コンベアとを備え、上記把持装置は、上記第１コンベアから洗浄するワークを摘み上げて上記ワーク洗浄装置に当該ワークを移動させ上記ワーク洗浄装置にてワークを洗浄する間ワークを支持し、上記把持装置は、洗浄後のワークを上記第２コンベアに移動させてワークを解放するものである。 The invention of claim 1 of the present application provides a workpiece cleaning apparatus for cleaning a workpiece having the following configuration.
That is, the workpiece cleaning device includes a jet of cleaning liquid, and three or more side plate disposed away from each said workpiece, and a bottom portion, and a plate moving unit, the plate moving part, the All of the side plates are slid on the upper surface of the bottom portion, the side plates are brought closer to each other, and the work to be cleaned together with the upper surface of the bottom portion is surrounded by the side plates, so that the cleaning liquid sprayed by the spraying portion A liquid pool can be configured, and the plate moving part is temporarily stored in the liquid pool by retreating all the side plates that have gathered and surrounded the workpiece to separate all the side plates. The cleaning liquid can be drained at a stroke from between all the side plates adjacent to each other, and the injection unit includes one or a plurality of injection nozzles. For example, at least a portion of the side plate, a nozzle plate in which the nozzle is provided in the injection unit, in a state in which a gap is opened between the side plates adjacent to each other, as it can inject cleaning liquid to the workpiece is there.
The invention of claim 2 of the present application is the above-mentioned all-side plate of the invention of claim 1 wherein the nozzles are provided on the surface facing the workpiece to be cleaned, and in the state surrounding the workpiece, Both lateral ends respectively contact the lateral ends of the other adjacent side plates to constitute the pool of cleaning liquid ejected from the nozzle,
The jetting unit can jet the cleaning liquid from the nozzles in either a state where the side plates are separated from each other or a state where each side plate surrounds and closes the workpiece to be cleaned .
The invention of claim 3 of the present application provides a workpiece cleaning method using the workpiece cleaning apparatus of claim 1 of the present application.
The invention of claim 4 of the present application provides a work cleaning system for cleaning a work transferred from a transfer line with a cleaning liquid, which has the following configuration.
That is, the workpiece cleaning system includes a cleaning processing chamber, the workpiece cleaning device according to claim 1 disposed in the cleaning processing chamber, and a gripping device, and the transfer line carries the workpiece into the cleaning processing chamber. A first conveyor and a second conveyor for carrying out the cleaned workpiece from the cleaning chamber; the gripping device picks up the workpiece to be cleaned from the first conveyor and moves the workpiece to the workpiece cleaning device; The workpiece is supported by the workpiece cleaning device while the workpiece is being cleaned, and the gripping device moves the cleaned workpiece to the second conveyor to release the workpiece.

本願発明は、上記プレート移動部が少なくとも一部のプレートを移動させて、ワークの周囲を各プレートにて取り囲むことにより、上記プレートによって洗浄液の液溜まりを形成し、且つ、移動させたプレートを元の位置に後退させることにより、溜まった洗浄液をプレートとプレートとの間から排出できるようにしたため、噴射部から噴射された洗浄液の排出効率を、飛躍的に向上させることができたものである。
上記のように本願発明では、洗浄後や、場合によっては洗浄中、あるいはその双方における排水の効率の飛躍的に向上させることができた結果、種々の波及的効果を実現することができた。
例えば、ワークを洗浄液中に浸漬して洗浄する水中洗浄において、液溜まりに溜めた洗浄液を速やかに短時間に排出することができる。
また、水中洗浄と、浸漬せずに洗浄する空中洗浄とを、洗浄対象物であるワークの特性に応じて自由に選択することができる。具体的には、水中洗浄のみを行なう場合、空中洗浄のみを行なう場合、水中洗浄に引き続き空中洗浄を行なう場合など、必要に応じて種々の組み合わせで実施することができる。
より具体的には、ワークがウォータージャケット等を備える場合は、水中洗浄を行い、ワークが袋穴を備えない場合は、空中洗浄を行うものとして実施することができる。また、水中洗浄の後に空中洗浄を行なった場合には、水中洗浄の液中に除去した切粉が浮遊し排水時に再付着しても、空中洗浄を行なうことによって、これを除去することができる。
このように、本願発明は、専ら洗浄液の噴射によるワークの空中洗浄と、ワークを洗浄液に漬けて行う水中洗浄と、ワークに対して空中洗浄及び水中洗浄の双方を施すのもの中から、自由に洗浄の方法を選択することができオールラウンドでフレキシビリティの高い洗浄を行なうことができる。
また、洗浄処理室内に配置された、ワーク洗浄装置と、乾燥装置と、把持装置と、第１第２コンベアを備えたシステムとして実施した場合、ワーク洗浄装置による迅速な排水により、浄化部による使用後の洗浄液の浄化が速やかに行えると共に、把持装置が第２コンベアにてワークを解放することによって、乾燥装置へのワークの移動を第２コンベアに任せて、把持装置を他のワークの処理に移行させることができ、システム全体としての稼働効率を高めることを可能とした。 In the present invention, the plate moving unit moves at least a part of the plate and surrounds the periphery of the work with each plate, thereby forming a pool of cleaning liquid by the plate and using the moved plate as a base. by the retracted position, which is adapted accumulated cleaning liquid may either et discharge between the plate and the plate, the discharge efficiency of the cleaning liquid injected from the injection unit, in which it was possible to dramatically improve .
As described above, according to the present invention, various spillover effects can be realized as a result of drastically improving the efficiency of drainage after washing, or in some cases during washing, or both.
For example, in the underwater cleaning in which the workpiece is immersed and cleaned in the cleaning liquid, the cleaning liquid stored in the liquid reservoir can be quickly discharged in a short time.
In addition, it is possible to freely select the underwater cleaning and the air cleaning in which the cleaning is performed without being immersed in accordance with the characteristics of the workpiece that is the object to be cleaned. Specifically, when performing only underwater cleaning, when performing only air cleaning, when performing air cleaning subsequent to underwater cleaning, various combinations can be performed as necessary.
More specifically, when the work is provided with a water jacket or the like, the underwater cleaning is performed, and when the work is not provided with the bag hole, the air cleaning is performed. In addition, when air cleaning is performed after water cleaning, even if chips removed in the water cleaning solution float and reattach during drainage, this can be removed by air cleaning. .
As described above, the present invention is free from the air cleaning of the work by jetting the cleaning liquid, the underwater cleaning performed by immersing the work in the cleaning liquid, and the air cleaning and the underwater cleaning for the work. A washing method can be selected, and all-round and highly flexible washing can be performed.
Moreover, when it implements as a system provided with a workpiece washing device, a drying device, a gripping device, and a first second conveyor disposed in the washing processing chamber, it is used by the purification unit by quick drainage by the workpiece washing device. The cleaning liquid can be quickly cleaned later, and the gripping device releases the work on the second conveyor, leaving the work to the drying device to move the work to the drying device and processing the gripping device for other work. The system can be migrated, and the operating efficiency of the entire system can be improved.

（Ｉ）は本願発明の一実施の形態に係る洗浄装置の全体平面図、（II）は（Ｉ）の側面図、（III）は（Ｉ）の背面図。(I) is the whole top view of the washing | cleaning apparatus which concerns on one embodiment of this invention, (II) is a side view of (I), (III) is a rear view of (I). （Ｉ）は図１の洗浄装置の要部平面図、（II）は（Ｉ）のＡ−Ａ矢印方向から眺めた要部説明図、（III）は（Ｉ）のＢ−Ｂ矢印方向から眺めた要部説明図、（IV）は（Ｉ）のＣ−Ｃ矢印方向から眺めた要部説明図、（Ｖ）は（Ｉ）のＤ−Ｄ矢印方向から眺めた要部説明図。(I) is a plan view of the main part of the cleaning apparatus of FIG. 1, (II) is a main part explanatory view viewed from the direction of the arrows AA in (I), and (III) is from the direction of the arrows BB in (I) The main part explanatory drawing seen, (IV) is the main part explanatory drawing seen from the CC arrow direction of (I), (V) is the principal part explanatory drawing seen from the DD arrow direction of (I). （Ｉ）は図１の洗浄装置の要部平面図、（II）は（Ｉ）の正面図、（III）は（Ｉ）の側面図。(I) is a principal part top view of the washing | cleaning apparatus of FIG. 1, (II) is a front view of (I), (III) is a side view of (I).

以下、図面に基づき本願発明に係るワーク洗浄システムの実施の形態について説明する。
図１（Ｉ）〜（III）及び図２へ示す通り、このワーク洗浄システムは、洗浄処理室１と、移送ライン２と、洗浄液の浄化部７と、制御部１００とを備える。
以下各部の構成の詳細について説明する。 Hereinafter, an embodiment of a workpiece cleaning system according to the present invention will be described with reference to the drawings.
As shown in FIGS. 1 (I) to (III) and FIG. 2, the workpiece cleaning system includes a cleaning processing chamber 1, a transfer line 2, a cleaning liquid purifying unit 7, and a control unit 100.
Details of the configuration of each unit will be described below.

（洗浄処理室１）
洗浄処理室１には、移送ライン２にてワークＷを搬入する入口と、移送ライン２にてワークＷを搬出する出口とが設けられており、当該出入口には洗浄処理室１の気密性を確保するために、開閉扉が設けられている（図示せず）。
図１（Ｉ）へ示す通り、洗浄処理室１内には、ワーク洗浄装置ａと、水切り装置ｂと、乾燥装置ｃと、把持装置８とが設けられ、ワーク洗浄装置ａと水切り装置ｂと乾燥装置ｃは、把持装置８の届く範囲に配置されている。 (Cleaning room 1)
The cleaning processing chamber 1 is provided with an inlet for carrying the workpiece W in the transfer line 2 and an outlet for discharging the workpiece W in the transfer line 2. In order to ensure, an opening / closing door is provided (not shown).
As shown in FIG. 1 (I), a workpiece cleaning device a, a draining device b, a drying device c, and a gripping device 8 are provided in the cleaning processing chamber 1, and the workpiece cleaning device a and the draining device b are provided. The drying device c is disposed within the reach of the gripping device 8.

（移送ライン２）
移送ライン２は、第１コンベア２１と、第２コンベア２２とにて構成されている。
第１コンベア２１は、ワークＷを洗浄処理室１の入口を通じて、洗浄処理室１の外部から洗浄処理室１内へワークＷを搬入するコンベアである。
第２コンベア２２は、ワークＷを洗浄処理室１の出口を通じて、洗浄処理室１の内部から洗浄処理室１外部へワークＷを搬出するコンベアである。
この実施の形態において、第１コンベア２１及び第２コンベア２２の夫々は、ワークＷを載せる複数のシャトルを備えると共に、サーボモータから動力を得て、各シャトルを順次、往復移動させる、コンベアである。
具体的には、第１コンベア２１のシャトルは、第１コンベア２１の洗浄処理室１外部側と洗浄処理室１内部側との間を往復移動することができ、第２コンベア２２のシャトルは、第２コンベアの洗浄処理室１内部側と洗浄処理室１外部側との間を往復移動することができる。
但し、第１コンベア２１及び第２コンベア２２には、前進と後進とを切り替える往復移送が可能な、ベルトコンベアやローラコンベア、チェーンコンベア、その他の周知のコンベアを採用することも可能である。 (Transfer line 2)
The transfer line 2 includes a first conveyor 21 and a second conveyor 22.
The first conveyor 21 is a conveyor that carries the workpiece W into the cleaning chamber 1 from the outside of the cleaning chamber 1 through the entrance of the cleaning chamber 1.
The second conveyor 22 is a conveyor that carries the workpiece W out of the cleaning processing chamber 1 to the outside of the cleaning processing chamber 1 through the outlet of the cleaning processing chamber 1.
In this embodiment, each of the first conveyor 21 and the second conveyor 22 is a conveyor that includes a plurality of shuttles on which the workpieces W are placed, and that obtains power from a servo motor and sequentially reciprocates each shuttle. .
Specifically, the shuttle of the first conveyor 21 can reciprocate between the outside of the cleaning processing chamber 1 of the first conveyor 21 and the inside of the cleaning processing chamber 1, and the shuttle of the second conveyor 22 is The second conveyor can reciprocate between the inside of the cleaning processing chamber 1 and the outside of the cleaning processing chamber 1.
However, for the first conveyor 21 and the second conveyor 22, a belt conveyor, a roller conveyor, a chain conveyor, and other well-known conveyors that can perform reciprocating transfer for switching between forward and reverse are also possible.

（ワーク洗浄装置ａ）
図２へ示す通り、ワーク洗浄装置ａは、複数のプレートと、プレート移動部５と、洗浄液の噴射部６とを備える。
複数のプレートのうち１枚は洗浄液の液溜まりの底を構成し、他のプレートは液溜まりの側部を構成する。
以下、液溜まりの底を構成するプレートを床プレート３と呼び、液溜まりの側部を構成する他のプレートを側プレート４と呼ぶ。 (Workpiece cleaning device a)
As shown in FIG. 2, the workpiece cleaning apparatus a includes a plurality of plates, a plate moving unit 5, and a cleaning liquid injection unit 6.
One of the plurality of plates constitutes the bottom of the cleaning liquid reservoir, and the other plate forms the side of the liquid reservoir.
Hereinafter, the plate constituting the bottom of the liquid reservoir is referred to as a floor plate 3, and the other plate constituting the side of the liquid reservoir is referred to as a side plate 4.

（床プレート３）
図３（II）（III）へ示す通り、床プレート３は、洗浄処理室１の床に固定された洗浄用のテーブルであり、テーブル板３１と、当該テーブル板３１の支持部３２とを備える。
この実施の形態において、後述する排出口１２の真上に、テーブルである床プレート３が設けられている。
テーブル板３１上面は平らな面である。洗浄処理室１の床１１を床プレート３としてもよいが、この実施の形態では、上記洗浄用のテーブルを床プレート３とすることによって、床プレート３の上面は、洗浄処理室１の床１１よりも高い位置に設けられている。
テーブル板３１は、図２（Ｉ）へ示す通り、平面視矩形の板、特にこの実施の形態では正方形の板である。
この実施の形態において、床プレート３には、上方に向けて洗浄液を噴射することができる副噴射部３４のノズルが設けられている（図３（II）（III））。但し、副噴射部９を設けずに実施することも可能である。 (Floor plate 3)
As shown in FIGS. 3 (II) and (III), the floor plate 3 is a cleaning table fixed to the floor of the cleaning processing chamber 1 and includes a table plate 31 and a support portion 32 for the table plate 31. .
In this embodiment, a floor plate 3 that is a table is provided directly above a discharge port 12 described later.
The upper surface of the table plate 31 is a flat surface. Although the floor 11 of the cleaning chamber 1 may be the floor plate 3, in this embodiment, the upper surface of the floor plate 3 is the floor 11 of the cleaning chamber 1 by using the floor table 3 as the cleaning table. It is provided at a higher position.
As shown in FIG. 2I, the table plate 31 is a rectangular plate in plan view, particularly a square plate in this embodiment.
In this embodiment, the floor plate 3 is provided with a nozzle of the sub-injection section 34 that can inject the cleaning liquid upward (FIGS. 3 (II) and (III)). However, it is also possible to carry out without providing the sub-injection unit 9.

（側プレート４）
側プレート４…４は、図２（II）〜（Ｖ）へ示す通り、夫々矩形の板である。側プレート４…４は、床プレート３上に配置され、洗浄のため床プレート３上に運ばれたワークＷを、取り囲むことができる。この実施の形態において、洗浄装置は、４枚の側プレート４…４を備え、ワークＷを取り囲んだ状態では、平面視矩形を呈する。各側プレート４…４は、長方形の板であり、長辺を横方向へ伸ばすように配置される。各側プレート４…４は、同じ外形寸法のものを採用することができる。この実施の形態においても、各側プレート４は同じ外形寸法のものを採用するため、ワークＷを取り囲んだ状態において、４枚の側プレート４…４は、平面視正方形を呈する。但し、ワークＷを取り囲んだ状態において、各側プレート４の横方向の両端夫々は、隣接する他の側プレート４の横方向の端部と当接し密着し合うことができればよく、上記の外形寸法は側プレート４間で異なるものであっても実施できる。 (Side plate 4)
The side plates 4 ... 4 are rectangular plates as shown in FIGS. 2 (II) to 2 (V). The side plates 4... 4 are arranged on the floor plate 3 and can surround the work W carried on the floor plate 3 for cleaning. In this embodiment, the cleaning device includes four side plates 4... 4, and exhibits a rectangular shape in plan view when surrounding the workpiece W. Each side plate 4 ... 4 is a rectangular plate, and is arrange | positioned so that a long side may be extended in a horizontal direction. Each side plate 4 ... 4 can adopt the same external dimensions. Also in this embodiment, since each side plate 4 employs the same outer dimensions, the four side plates 4... 4 exhibit a square in plan view in a state of surrounding the workpiece W. However, in the state of surrounding the workpiece W, it is only necessary that both lateral ends of each side plate 4 are in contact with and in close contact with the lateral ends of the other adjacent side plates 4. Can be implemented even if they are different between the side plates 4.

（噴射部６）
図２（Ｉ）へ示す通り、洗浄液の噴射部６は、側プレート４…４の夫々に設けられている。
図２（II）〜（Ｖ）へ示す通り、個々の側プレート４が備える当該噴射部６は、複数のノズル６１…６１と、加圧室６２と、ホース６３,６３とを備える。
複数のノズル６１…６１は、側プレート４のワークＷを臨む面に設けられている。
複数の当該ノズル６１…６１は、横方向に、直線的に並べられて、ノズル群６０を形成している。
加圧室６２は、側プレート４の内部に設けられた洗浄液の収容空間であり、各ノズル６１…６１に連絡する。
ホース６３，６３は、一端が側プレート４に接続されて加圧室６２に連絡し、他の一端側が浄化部７（図１（Ｉ））に連絡する。
図２（Ｉ）へ示す通り、この実施の形態において、各側プレート４は、２枚の板を間隔を開けて重ねて形成し、周囲をスペーサで密閉することにより、両板間を上記加圧室６２としている。各側プレート４が呈する矩形の４つの辺に沿って配列された黒点は、当該スペーサを挟んで両板を固定するネジやボルトなどの固定具を示している。 (Injection unit 6)
As shown in FIG. 2 (I), the cleaning liquid injection section 6 is provided on each of the side plates 4.
As shown in FIGS. 2 (II) to 2 (V), the injection section 6 provided in each side plate 4 includes a plurality of nozzles 61... 61, a pressurizing chamber 62, and hoses 63 and 63.
The plurality of nozzles 61... 61 are provided on the surface of the side plate 4 facing the workpiece W.
The plurality of nozzles 61... 61 are linearly arranged in the lateral direction to form a nozzle group 60.
The pressurizing chamber 62 is a cleaning liquid storage space provided inside the side plate 4 and communicates with the nozzles 61.
One end of each of the hoses 63, 63 is connected to the side plate 4 and communicates with the pressurizing chamber 62, and the other one end communicates with the purification unit 7 (FIG. 1 (I)).
As shown in FIG. 2 (I), in this embodiment, each side plate 4 is formed by stacking two plates with a space between each other and sealing the periphery with a spacer so that the above-mentioned additional plate is interposed between the two plates. A pressure chamber 62 is provided. The black dots arranged along the four sides of the rectangle that each side plate 4 exhibits indicate fixing tools such as screws and bolts that fix the two plates with the spacer interposed therebetween.

この実施の形態では、上記構成により、平面視において、加圧室６２は、側プレート４の長辺のほぼ全域に渡るものである。但し、ノズル群の横幅に合わせ、加圧室６２は、側プレート４の長辺より短く、側プレート４の横方向（長辺方向）について、側プレート４の両端よりも中央に寄ったものとしても実施できる。
各側プレート４…４間において、ノズル群６０の位置は同じものとしても実施できるが、上下方向について、或いは側プレート４の横方向について異なるものとしても実施できる。この実施の形態では、洗浄するワークＷの背面側に配される側プレート４（図２（II））と、洗浄するワークＷの正面側に配される側プレート４（図２（III））とにおいて、ノズル群６０（の上下方向中心）は、夫々の側プレート４の上端付近に配置されている。一方、洗浄するワークＷの右側面側に配される側プレート４（図２（IV））と、洗浄するワークＷの左側面側に配される側プレート４（図２（Ｖ））とは、夫々の側プレート４の上端付近であって、洗浄するワークＷの背面側に配される側プレート４（図２（II））及び洗浄するワークＷの正面側に配される側プレート４（図２（III））よりも下方にノズル群６０（の上下方向中心）が配置されている。
但し、上記において、一部の側プレートのノズル群が、他の側プレートのノズル群よりも低い位置に設けられていればよい。即ち、何れの側プレートのノズル群６０を他の側プレートのノズル群６０よりも低い位置に設けるものとしてもよく、上記に限定するものではない。
また、各側プレートにおいて、ノズルは、複数設けられたものに限定するものでなく、１つであってもよい。 In this embodiment, with the above configuration, the pressurizing chamber 62 extends over substantially the entire long side of the side plate 4 in plan view. However, according to the lateral width of the nozzle group, the pressurizing chamber 62 is shorter than the long side of the side plate 4 and is closer to the center than the both ends of the side plate 4 in the lateral direction (long side direction) of the side plate 4. Can also be implemented.
Although the position of the nozzle group 60 can be the same between the side plates 4... 4, it can also be implemented differently in the vertical direction or in the lateral direction of the side plate 4. In this embodiment, the side plate 4 (FIG. 2 (II)) disposed on the back side of the workpiece W to be cleaned and the side plate 4 (FIG. 2 (III)) disposed on the front side of the workpiece W to be cleaned. The nozzle group 60 (the vertical center thereof) is disposed in the vicinity of the upper end of each side plate 4. On the other hand, the side plate 4 (FIG. 2 (IV)) arranged on the right side of the workpiece W to be cleaned and the side plate 4 (FIG. 2 (V)) arranged on the left side of the workpiece W to be cleaned are The side plate 4 (FIG. 2 (II)) arranged near the upper end of each side plate 4 and on the back side of the workpiece W to be cleaned, and the side plate 4 arranged on the front side of the workpiece W to be cleaned ( The nozzle group 60 (the center in the vertical direction) is disposed below the part (III) in FIG.
However, in the above, the nozzle group of some side plates should just be provided in the position lower than the nozzle group of another side plate. That is, the nozzle group 60 of any side plate may be provided at a position lower than the nozzle group 60 of the other side plate, and is not limited to the above.
Further, in each side plate, the number of nozzles is not limited to that provided, and may be one.

洗浄するワークＷの背面側に配される側プレート４（図２（II））と、洗浄するワークＷの正面側に配される側プレート４（図２（III））とおいて、ノズル群６０は、横方向に配列された１７個のノズル６１にて構成されている。そして、洗浄するワークＷの背面側に配される側プレート４（図２（II））と、洗浄するワークＷの正面側に配される側プレート４（図２（III））では、平面視において、ノズル群６０の中央に位置するノズル６１は、側プレート４の長手方向の中央位置即ち長辺の中点と一致する。 In the side plate 4 (FIG. 2 (II)) arranged on the back side of the workpiece W to be cleaned and the side plate 4 (FIG. 2 (III)) arranged on the front side of the workpiece W to be cleaned, the nozzle group 60 Is composed of 17 nozzles 61 arranged in the horizontal direction. The side plate 4 (FIG. 2 (II)) disposed on the back side of the workpiece W to be cleaned and the side plate 4 (FIG. 2 (III)) disposed on the front side of the workpiece W to be cleaned are viewed in plan view. The nozzle 61 located at the center of the nozzle group 60 coincides with the center position in the longitudinal direction of the side plate 4, that is, the midpoint of the long side.

一方、洗浄するワークＷの右側面側に配される側プレート４（図２（IV））と、洗浄するワークＷの左側面側に配される側プレート４（図２（Ｖ））とにおいて、ノズル群６０は、横方向に配列された９個のノズル６１にて構成されている。そして、洗浄するワークＷの右側面側に配される側プレート４（図２（IV））と、洗浄するワークＷの左側面側に配される側プレート４（図２（Ｖ））では、平面視において、ノズル群６０の中央に位置するノズル６１は、側プレート４の長手方向の中央位置即ち長辺の中点よりも、洗浄装置の正面側に寄っている。但し、このようなノズル６１の配置や個数は変更可能である。 On the other hand, in the side plate 4 (FIG. 2 (IV)) arranged on the right side of the workpiece W to be cleaned and the side plate 4 (FIG. 2 (V)) arranged on the left side of the workpiece W to be cleaned. The nozzle group 60 is composed of nine nozzles 61 arranged in the horizontal direction. And in the side plate 4 (FIG. 2 (IV)) arranged on the right side of the workpiece W to be cleaned and the side plate 4 (FIG. 2 (V)) arranged on the left side of the workpiece W to be cleaned, In plan view, the nozzle 61 positioned at the center of the nozzle group 60 is closer to the front side of the cleaning device than the center position in the longitudinal direction of the side plate 4, that is, the midpoint of the long side. However, the arrangement and number of such nozzles 61 can be changed.

上述してきた各側プレート４のノズル６１…６１は、洗浄液を低圧で噴射する低圧ノズルである。
この他、図２（II）〜（Ｖ）へ示すように、上記ノズル６１よりも高圧で洗浄液を噴射する高圧ノズル６４を備えるものとして実施することができる。
この高圧ノズル６４は、何れの側プレート４においても、上記低圧ノズルにて構成されたノズル群６０と側プレート４の上端との間に配置されている。
高圧ノズル６４は、洗浄するワークＷの背面側に配される側プレート４（図２（II））と、洗浄するワークＷの正面側に配される側プレート４（図２（III））では、２個設けられ、平面視において、各高圧ノズル６４は、側プレート４の長手方向の中央位置即ち長辺の中点から左右へ、当該中点から等距離離れた位置に設けられている。
高圧ノズル６４は、洗浄するワークＷの右側面側に配される側プレート４（図２（IV））と、洗浄するワークＷの左側面側に配される側プレート４（図２（Ｖ））では、側プレート４の長手方向の中央位置即ち長辺の中点に１個設けられている。
但し、上記の各ノズル６１，６４の配置は、例示であり、自由に変更することができる。
尚、図示は省略するが、高圧ノズル６４の実施に当たり、高圧ノズル６４用の加圧室を、低圧ノズル６１用の加圧室６２とは別に設けて実施することができる。この高圧ノズル６４用の加圧室周辺の構成については、上記低圧ノズル６１の加圧室６２と同様である。
また、上記の高圧を発生させる圧力の調整を高圧ノズル６４側にて行うものとし、低圧ノズル６１用の加圧室６２を高圧ノズル６４と共用するものとしても実施できる。 The nozzles 61... 61 of each side plate 4 described above are low pressure nozzles that inject the cleaning liquid at low pressure.
In addition, as shown in FIGS. 2 (II) to (V), the present invention can be implemented as including a high-pressure nozzle 64 that ejects the cleaning liquid at a higher pressure than the nozzle 61.
In any side plate 4, the high pressure nozzle 64 is disposed between the nozzle group 60 constituted by the low pressure nozzle and the upper end of the side plate 4.
The high pressure nozzle 64 is provided on the side plate 4 (FIG. 2 (II)) disposed on the back side of the workpiece W to be cleaned and on the side plate 4 (FIG. 2 (III)) disposed on the front side of the workpiece W to be cleaned. Two high pressure nozzles 64 are provided in plan view, and each high pressure nozzle 64 is provided at the center position in the longitudinal direction of the side plate 4, that is, at a position equidistant from the midpoint from the midpoint of the long side to the left and right.
The high-pressure nozzle 64 includes a side plate 4 (FIG. 2 (IV)) arranged on the right side of the workpiece W to be cleaned and a side plate 4 (FIG. 2 (V)) arranged on the left side of the workpiece W to be cleaned. ), One is provided at the center position in the longitudinal direction of the side plate 4, that is, at the midpoint of the long side.
However, the arrangement of the nozzles 61 and 64 is merely an example, and can be freely changed.
Although illustration is omitted, when the high pressure nozzle 64 is implemented, the pressure chamber for the high pressure nozzle 64 can be provided separately from the pressure chamber 62 for the low pressure nozzle 61. The configuration around the pressurizing chamber for the high pressure nozzle 64 is the same as that of the pressurizing chamber 62 of the low pressure nozzle 61.
Further, the pressure for generating the high pressure can be adjusted on the high pressure nozzle 64 side, and the pressure chamber 62 for the low pressure nozzle 61 can be shared with the high pressure nozzle 64.

（プレート移動部５）
図２（Ｉ）へ示す通り、プレート移動部５は、床プレート３上に運ばれたワークＷから離れた位置に配置された各側プレート４…４を移動させて、上記の通りワークＷに近付け、側プレート４…４にてワークＷを取り囲ませる。この実施の形態において、プレート移動部５は、各側プレート４…４に対応する、ピストン部５１と、当該ピストン部５１を収容するシリンダ部５２と、ピストン部５１をシリンダ部５２から伸縮させる動力部（図示せず。）とを夫々備える。動力部は、油圧や空気圧などの流体圧によってピストン部５１をシリンダ部５２から伸縮させる。
各ピストン部５１の先端に上記側プレート４の夫々が取り付けられている。側プレート４において、ピストン部５１の取り付け面と反対側の面は、洗浄するワークＷを臨む面であり、上記各ノズル６１，６４が設けられた面である。 (Plate moving part 5)
As shown in FIG. 2 (I), the plate moving unit 5 moves each side plate 4... 4 arranged at a position away from the workpiece W carried on the floor plate 3 to the workpiece W as described above. The work W is surrounded by the side plates 4. In this embodiment, the plate moving unit 5 includes a piston unit 51 corresponding to each of the side plates 4, 4, a cylinder unit 52 that accommodates the piston unit 51, and a power for extending and retracting the piston unit 51 from the cylinder unit 52. Part (not shown). The power unit extends and contracts the piston unit 51 from the cylinder unit 52 by fluid pressure such as hydraulic pressure or air pressure.
Each of the side plates 4 is attached to the tip of each piston portion 51. In the side plate 4, the surface opposite to the mounting surface of the piston portion 51 is a surface facing the workpiece W to be cleaned, and is a surface on which the nozzles 61 and 64 are provided.

この実施の形態において、ピストン部５１は、シリンダ部５２から水平に伸縮し、側プレート４を、床プレート３の上面で摺動させる。
ピストン部５１の作動により、側プレート４…４同士は近づき、横方向即ち長手方向両端を隣接する側プレート４，４の長手方向端部と当接させて、床プレート３上面と共に洗浄するワークＷを取り囲み、ノズル６１，６４から噴射された洗浄液の溜まり場即ち液溜まりを構成する。具体的には、ピストン部５１をシリンダ部５２から伸ばすことにより、ピストン部５１先端の側プレート４…４同士を接近させて洗浄するワークＷを各側プレート４…４にて取り囲む。ピストン部５１をシリンダ部５２へ縮めることにより、ピストン部５１先端の側プレート４…４を元の位置に後退させる。上記側プレート４…４の集合により、側プレート４…４に囲まれた空間の内側に一時的に溜められた洗浄液は、側プレート４…４の離散により、互いに隣接する側プレート４，４間から流れ出る。
上記離散時の隣接する側プレート４，４間の隙間は、迅速で円滑な排水ができるものであればよい。
このように隣接する側プレート４，４の横方向の端部同士が離れることにより、ワーク周囲に溜めた洗浄水を一気に排水することができ、床プレート３が、排水口１２（図３（II）（III））の真上に配置されたことと相俟って、本システムにおいて、洗浄液の浄化・循環を迅速に行うことができる。
噴射部６において、側プレート４…４同士が離れた状態でも、上記の通り、各側プレート４…４が洗浄するワークＷを取り囲んで近接した状態でも、何れの状態においても、ノズル６１，６２から洗浄液を噴射することが可能である。
この実施の形態において、洗浄処理室１の床１１には、使用後の垂れ流された洗浄液を排出口１２へ向けて排出するダクト３３が、床プレート３を取り囲むように設けられており、当該ダクト３３に上記シリンダ部５２が取り付けられている。 In this embodiment, the piston part 51 extends and contracts horizontally from the cylinder part 52 and slides the side plate 4 on the upper surface of the floor plate 3.
By the operation of the piston portion 51, the side plates 4... 4 approach each other, and the workpiece W to be cleaned together with the upper surface of the floor plate 3 is brought into contact with the longitudinal ends of the adjacent side plates 4, 4 in the lateral direction, that is, the longitudinal ends. And constitutes a pool of cleaning liquid sprayed from the nozzles 61 and 64, that is, a liquid pool. Specifically, by extending the piston part 51 from the cylinder part 52, the side plates 4... 4 at the tip of the piston part 51 are brought close to each other and the workpiece W to be cleaned is surrounded by the side plates 4. By contracting the piston part 51 to the cylinder part 52, the side plates 4 ... 4 at the tip of the piston part 51 are retracted to their original positions. The cleaning liquid temporarily stored inside the space surrounded by the side plates 4... 4 due to the assembly of the side plates 4. Flowing out of.
The gap between the adjacent side plates 4 and 4 at the time of the discrete time may be any as long as it allows quick and smooth drainage.
By separating the lateral ends of the adjacent side plates 4 and 4 in this way, the cleaning water collected around the work can be drained all at once, and the floor plate 3 is connected to the drain port 12 (FIG. 3 (II ) (III)) In combination with the arrangement immediately above (III)), the cleaning liquid can be quickly purified and circulated in this system.
In either state, the nozzles 61, 62 are arranged in the state where the side plates 4... 4 are separated from each other in the injection unit 6, as described above, in the state where each side plate 4. It is possible to spray the cleaning liquid from
In this embodiment, the floor 11 of the cleaning treatment chamber 1 is provided with a duct 33 that discharges the used cleaning liquid that has flowed down toward the outlet 12 so as to surround the floor plate 3. The cylinder portion 52 is attached to the duct 33.

（水切り装置ｂ）
図１（Ｉ）へ示す通り、水切り装置ｂは、洗浄装置ａ即ち床プレート３と、異なる位置に設けられた水切り用ブース９と、当該水切り用ブースに設けられた空気噴射用のエアノズル（図示しない。）とを備えるエアブロー部である。水切り用ブース９は、床プレート３と同様のテーブルである。但し、エアノズルは固定されている。
把持装置８は、床プレート３から、洗浄後のワークＷを乾燥装置ｂの水切り用ブース９へ移動させて、水切り用ブース９内にてワークＷを支持する。
水切り装置ｂにおいて、上記エアノズルから空気をワークＷへ吹き付けて、即ちエアブローにて水分を飛ばす。 (Draining device b)
As shown in FIG. 1 (I), the draining device b includes a cleaning device a, that is, a floor plate 3, a draining booth 9 provided at a different position, and an air nozzle for air injection (illustrated) provided in the draining booth. Not)). The draining booth 9 is a table similar to the floor plate 3. However, the air nozzle is fixed.
The gripping device 8 moves the washed workpiece W from the floor plate 3 to the draining booth 9 of the drying device b, and supports the workpiece W in the draining booth 9.
In the draining device b, air is blown from the air nozzle onto the workpiece W, that is, air is blown off by air blow.

（乾燥装置ｃ）
図１（Ｉ）へ示す通り、乾燥装置ｃは、洗浄処理室１内に設けられた、真空ポンプ１０と、真空室１４とにて構成されている。真空ポンプ１０は、真空室１４内を減圧することができる。
乾燥装置ｃの真空室１４は、第２コンベア２２の洗浄処理室１の室内側の端部に配置されている。
第２コンベア２２は、把持装置８によってシャトルの上に載せられた水切り後のワークを、シャトルを後進させることによって真空室１４内へ収容することができる。ワークＷを収容後、真空室１４は開閉蓋にて密閉される。前述の真空ポンプ１０の稼働によって、真空室１４内は、減圧される。当該減圧によって、真空室１４は、水切り後のワークＷを乾燥させる。
乾燥後のワークＷは、第２コンベア２２がシャトルを前進させることによって、洗浄処理室１の外部へ搬出される。 (Drying device c)
As shown in FIG. 1I, the drying device c includes a vacuum pump 10 and a vacuum chamber 14 provided in the cleaning processing chamber 1. The vacuum pump 10 can depressurize the inside of the vacuum chamber 14.
The vacuum chamber 14 of the drying apparatus c is disposed at the end of the second conveyor 22 on the indoor side of the cleaning processing chamber 1.
The second conveyor 22 can accommodate the drained work placed on the shuttle by the gripping device 8 in the vacuum chamber 14 by moving the shuttle backward. After accommodating the workpiece W, the vacuum chamber 14 is sealed with an opening / closing lid. The vacuum chamber 14 is depressurized by the operation of the vacuum pump 10 described above. By the decompression, the vacuum chamber 14 dries the workpiece W after draining.
The dried workpiece W is carried out of the cleaning processing chamber 1 by the second conveyor 22 moving the shuttle forward.

（把持装置８）
図１（Ｉ）及び図３へ示す通り、把持装置８は、第１コンベア２１から洗浄処理室１内へ送られてきたワークＷを摘みあげて、床プレート３の上方へ移動させる。側プレート４…４の噴射部６にて当該ワークＷを洗浄する間、把持装置８は、当該ワークＷを、床プレート３の上面から上方に間隔を開けて支持することができる。但し、副噴射部３４による洗浄液の噴射を行わない場合など、当該ワークＷを床プレート３の上面に乗せて保持するものとしてもよい。
把持装置８は、図１及び図３へ示す通り、多軸のロボットアームを採用することができる。図示した把持装置８は、６軸のロボットアームである。
このロボットアームにて、洗浄するワークＷをクランプして、上記の通り、第１コンベア２１から床プレート３の上方へ移動させ、支持するものとすればよい。
図１（Ｉ）へ示す通り、洗浄処理室１内には、ロボットアーム先端の把持部分を構成するクランプツールについて、交換用の当該クランプツールを置くツールチェンジ棚１３，１３が備えられている。
洗浄処理室１内において、第１コンベア２１と、洗浄装置ａと、水切り装置ｂと、第２コンベア２２とは、把持装置８のクランプツールが届く範囲に設置されているのである。
把持装置８である多軸のロボットアームは、洗浄装置ａにおいて、噴射部６のノズルに対してクランプしているワークＷの向きを自由に変えて、ワークＷ各部に洗浄液を当てて行くことができる。また。把持装置８である多軸のロボットアームは、水切り装置ｂにおいて、エアノズルに対してクランプしているワークＷの向きを自由に変えて、ワークＷ各部に空気を当てて行くことができる。 (Gripping device 8)
As shown in FIGS. 1I and 3, the gripping device 8 picks up the workpiece W sent from the first conveyor 21 into the cleaning processing chamber 1 and moves it to above the floor plate 3. While the work W is being cleaned by the injection unit 6 of the side plates 4... 4, the gripping device 8 can support the work W with an interval upward from the upper surface of the floor plate 3. However, the workpiece W may be placed on the upper surface of the floor plate 3 and held, for example, when the cleaning liquid is not ejected by the sub-injection unit 34.
As shown in FIGS. 1 and 3, the gripping device 8 can employ a multi-axis robot arm. The illustrated gripping device 8 is a 6-axis robot arm.
With this robot arm, the workpiece W to be cleaned may be clamped and moved from the first conveyor 21 to above the floor plate 3 and supported as described above.
As shown in FIG. 1I, the cleaning chamber 1 is provided with tool change shelves 13 and 13 for placing the clamp tool for replacement with respect to the clamp tool constituting the gripping portion at the tip of the robot arm.
In the cleaning treatment chamber 1, the first conveyor 21, the cleaning device “a”, the draining device “b”, and the second conveyor 22 are installed within the reach of the clamping tool of the gripping device 8.
The multi-axis robot arm that is the gripping device 8 can freely change the direction of the workpiece W clamped with respect to the nozzle of the ejection unit 6 and apply the cleaning liquid to each part of the workpiece W in the cleaning device a. it can. Also. The multi-axis robot arm which is the gripping device 8 can freely change the direction of the workpiece W clamped with respect to the air nozzle in the draining device b and can apply air to each part of the workpiece W.

（浄化部７）
図１（Ｉ）（III）へ示す通り、洗浄液の浄化部７は、洗浄処理室１の外部に設置されている。浄化部７は、ドラムフィルタ７１などの洗浄液の濾過手段を備え、使用後の洗浄液を浄化することができる。
浄化部７には、前述の通り、噴射部６のホース６３が接続されており（接続部は図示しない。）、浄化された洗浄液は浄化部７から噴射部６へ供給される。副噴射部３４についても同様である。
使用後の洗浄液は、洗浄処理室１の床１１に設けられた上記ダクト３３を通じて、洗浄処理室１の排出口１２に送られる（図３（II）（III））。排出口１２は、浄化部７へ通じる通路（図示せず。）に連絡する。当該通路を通じて使用後の洗浄液は、浄化部７へ送られる。
図１（III）へ示す通り、浄化部７は、スラッジの排出部７２を備える。排出部７２から排出されたスラッジは、台車７３へ積載されて他へ運ばれる。 (Purification unit 7)
As shown in FIGS. 1 (I) and (III), the cleaning liquid purifier 7 is installed outside the cleaning chamber 1. The purifying unit 7 includes a cleaning liquid filtering means such as a drum filter 71 and can purify the used cleaning liquid.
As described above, the hose 63 of the injection unit 6 is connected to the purification unit 7 (the connection unit is not shown), and the purified cleaning liquid is supplied from the purification unit 7 to the injection unit 6. The same applies to the sub-injection unit 34.
The used cleaning liquid is sent to the discharge port 12 of the cleaning processing chamber 1 through the duct 33 provided on the floor 11 of the cleaning processing chamber 1 (FIGS. 3 (II) and (III)). The discharge port 12 communicates with a passage (not shown) that leads to the purification unit 7. The used cleaning liquid is sent to the purification unit 7 through the passage.
As shown in FIG. 1 (III), the purification unit 7 includes a sludge discharge unit 72. The sludge discharged from the discharge unit 72 is loaded on the carriage 73 and carried to the other.

（制御部１００）
図１（Ｉ）へ示す通り、制御部１００は、ワーク洗浄システムの各装置を制御し、後述する各工程を遂行するものであり、中央情報処理装置即ちＣＰＵと、ハードディスクやメモリチップに代表される記憶部と、設定を入力し変更する入力部である操作盤と、出力部とを備える。
制御部１００の出力部は、洗浄処理室１の、洗浄装置ａと、水切り装置ｂと、乾燥装置ｃと、把持装置８と、移送ライン２と、浄化部３の、夫々を、記憶部に記憶する情報に基づいて作動させる。制御部１００の出力部と各装置との結線は図示を省略する。
オペレータは、操作盤を通じて、洗浄装置の各部の動作設定や洗浄液の調節を行うことができる。 (Control unit 100)
As shown in FIG. 1 (I), the control unit 100 controls each device of the workpiece cleaning system and performs each process described later, and is represented by a central information processing device, that is, a CPU, a hard disk, and a memory chip. A storage unit, an operation panel that is an input unit for inputting and changing settings, and an output unit.
The output unit of the control unit 100 stores the cleaning device a, the draining device b, the drying device c, the gripping device 8, the transfer line 2, and the purification unit 3 of the cleaning processing chamber 1 in the storage unit. Operate based on information stored. The connection between the output unit of the control unit 100 and each device is not shown.
The operator can perform operation setting of each part of the cleaning device and adjustment of the cleaning liquid through the operation panel.

（システムの動作フロー）
本願発明のワーク洗浄方法は、制御部１００に設定された情報に基づき、ローディング工程、洗浄工程、水切り工程、乾燥工程、アンローディング工程を順次遂行するものである。
以下、当該各工程について、順に説明する。 (System operation flow)
The workpiece cleaning method of the present invention sequentially performs a loading process, a cleaning process, a draining process, a drying process, and an unloading process based on information set in the control unit 100.
Hereinafter, each process will be described in order.

（ローディング工程）
図１（Ｉ）へ示す通り、先ず、洗浄以前の工程に用いる他の装置より、洗浄するワークＷを第１コンベア２１のシャトルに載置する。第１コンベア２１の稼働にて洗浄処理室１の入口から洗浄処理室１内へ当該ワークＷが搬入される。
把持装置８は、シリンダブロックやシリンダヘッドといった種類の異なるワークＷに応じたクランプツールを、ツールチェンジ棚１３から選択して、先端に装着し、ワークＷの搬入を待機している。
把持装置８は、搬入されたワークＷを摘み上げ、第１コンベア２１のシャトルから当該ワークＷを、洗浄装置ａの床プレート３の上方へ移動させる。 (Loading process)
As shown in FIG. 1 (I), first, the workpiece W to be cleaned is placed on the shuttle of the first conveyor 21 from another device used in the process before cleaning. The work W is carried into the cleaning processing chamber 1 from the entrance of the cleaning processing chamber 1 by the operation of the first conveyor 21.
The gripping device 8 selects a clamp tool corresponding to a different type of workpiece W such as a cylinder block or a cylinder head from the tool change shelf 13, attaches it to the tip, and waits for the workpiece W to be loaded.
The gripping device 8 picks up the loaded workpiece W and moves the workpiece W from the shuttle of the first conveyor 21 to above the floor plate 3 of the cleaning device a.

（洗浄工程）
図１（Ｉ）、図２及び図３へ示す通り、床プレート３上にワークＷが移動してくると、プレート移動部５により各側プレート４…４が移動して接近し当該ワークＷを取り囲む。即ち、床プレート３上を液溜まりの側部を構成する各側プレート４…４が摺動し、側プレート４…４の長手方向の両端同士が当接してワークＷを取り囲むと、噴射部６のノズル６１，６２からワークに向け洗浄液が噴射される。
床プレート３上方において、把持装置８は、クランプしているワークＷの向きを変えることにより、当該ワークＷに対し噴射部６のノズル６１，６４から洗浄液を噴射する位置を順次変えて行く。
数秒で、側プレート４…４に取り囲まれた空間に洗浄液が溜まり、ワークＷを水中洗浄する。
但し、側プレート４…４に取り囲まれた空間に先に洗浄液を溜めてから洗浄を行うものとしてもよい。
洗浄後、プレート移動部５により各側プレート４…４を元の位置に後退させることにより、隣接する側プレート４，４間から、瞬時に溜まっていた洗浄液を排出することができる。排出した洗浄液は、浄化部７に回収され浄化される。
一方、ワークＷ表面の汚れのみ落としたい場合は、側プレート４の長手方向の両端を他の側プレート４，４の長手方向端部と当接させないことにより洗浄液を溜めずにおき即ち水中洗浄を行わずに、空中で洗浄液を噴射して洗浄を行う空中洗浄を実施することができる。
更に、上記空中洗浄と水中洗浄の双方を実施することもできる。
ワークの特性や種類に応じ、制御部１００における情報の設定により、空中洗浄と、水中洗浄と、空中・水中双方の洗浄とから、選択して、適切な洗浄をワークに施せばよい。 (Washing process)
As shown in FIG. 1 (I), FIG. 2 and FIG. 3, when the workpiece W moves on the floor plate 3, the side plates 4. surround. That is, when the side plates 4... 4 constituting the side portions of the liquid pool slide on the floor plate 3 and both ends in the longitudinal direction of the side plates 4. The cleaning liquid is sprayed from the nozzles 61 and 62 toward the workpiece.
Above the floor plate 3, the gripping device 8 sequentially changes the position of the cleaning liquid sprayed from the nozzles 61 and 64 of the spray unit 6 to the work W by changing the direction of the work W being clamped.
In a few seconds, the cleaning liquid accumulates in the space surrounded by the side plates 4 ... 4, and the workpiece W is washed in water.
However, the cleaning may be performed after first storing the cleaning liquid in the space surrounded by the side plates 4.
After the cleaning, the side moving plates 4... 4 are moved back to the original positions by the plate moving unit 5, so that the cleaning liquid accumulated instantaneously can be discharged from between the adjacent side plates 4 and 4. The discharged cleaning liquid is collected and purified by the purification unit 7.
On the other hand, when it is desired to remove only the dirt on the surface of the workpiece W, the both ends in the longitudinal direction of the side plate 4 are not brought into contact with the end portions in the longitudinal direction of the other side plates 4, 4. Without performing, air cleaning can be performed in which the cleaning liquid is sprayed in the air to perform cleaning.
Furthermore, both the above-described air cleaning and water cleaning can be performed.
Depending on the characteristics and type of the workpiece, by selecting information in the control unit 100, air cleaning, underwater cleaning, and both in-air and underwater cleaning may be selected and subjected to appropriate cleaning.

（水切り工程）
洗浄後、図１（Ｉ）（II）へ示す通り、把持装置８は、ワークＷをクランプして、洗浄装置ａの床プレート３上方から、水切り装置ｂ即ちエアブロー部の水切り用ブース９へ移動させる。
エアノズルは、水切り用ブース９内のワークＷへ空気を吹き付けて水分を飛ばす。
把持装置８は、エアブロー中もワークＷを支持し続けると共に、エアノズルに対するワークＷの向きを順次変えて、ワークＷ表面各部の水分を満遍なく飛ばす。 (Draining process)
After the cleaning, as shown in FIGS. 1 (I) and (II), the gripping device 8 clamps the workpiece W and moves from above the floor plate 3 of the cleaning device a to the draining device b, ie, the draining booth 9 of the air blow unit. Let
The air nozzle blows air by blowing air to the workpiece W in the draining booth 9.
The gripping device 8 continues to support the workpiece W even during air blowing, and sequentially changes the orientation of the workpiece W with respect to the air nozzle, so that moisture on each surface of the workpiece W is evenly distributed.

（乾燥工程）
水切り後、把持装置８は、ワークＷをクランプしたまま、水切り装置ｂの水切り用ブースから、第２コンベア２２のシャトル上へワークＷを移動させる。
シャトル上にワークＷを置いた後、把持装置８は、ワークＷのクランプを解除する。即ち、把持装置８は、第２コンベア２２のシャトル上にてワークＷを解放する。
ワークＷ解放後、把持装置８は、次のワークＷの処理に移行する。
把持装置８から解放された後のワークＷの移動は、上記第２コンベア２２によって行われる。即ち、シャトルを後進させることによって、真空室１４内へ水切り後の当該ワークＷを引き込む。真空室１４が開閉蓋を閉じた後、真空ポンプ１０が稼働して、真空室１４内を減圧し、ワークＷを乾燥させる。
上記にて、把持装置８は、ワークＷの乾燥中、次のワークＷの処理を行うことができる。 (Drying process)
After draining, the gripping device 8 moves the workpiece W from the draining booth of the draining device b onto the shuttle of the second conveyor 22 while clamping the workpiece W.
After placing the workpiece W on the shuttle, the gripping device 8 releases the clamping of the workpiece W. That is, the gripping device 8 releases the workpiece W on the shuttle of the second conveyor 22.
After releasing the workpiece W, the gripping device 8 shifts to processing of the next workpiece W.
The movement of the workpiece W after being released from the gripping device 8 is performed by the second conveyor 22. That is, the work W after draining is drawn into the vacuum chamber 14 by moving the shuttle backward. After the vacuum chamber 14 closes the open / close lid, the vacuum pump 10 is operated to depressurize the vacuum chamber 14 and dry the workpiece W.
As described above, the gripping device 8 can process the next workpiece W while the workpiece W is being dried.

（アンローディング工程）
乾燥後、第２コンベア２２のシャトルは、真空室１４からワークＷを移動させ、出口から洗浄処理室１の外部へワークＷを搬出する。この後の他の工程で用いられる装置によって、搬出されたワークＷはシャトルから他へ運ばれる。 (Unloading process)
After drying, the shuttle of the second conveyor 22 moves the workpiece W from the vacuum chamber 14 and carries the workpiece W out of the cleaning processing chamber 1 from the outlet. The work W carried out is transported from the shuttle to another by an apparatus used in another process thereafter.

（変更例）
上記の実施の形態において、液溜まりの側部を構成する側プレート４…４は、夫々矩形の板とした。そして４枚の側プレート４…４にて平面視矩形を呈して、ワークＷを取り囲むものとした。但し、液溜まりの側部を構成する側プレート４は、４枚に限定するものではなく、例えば３枚の側プレート４…４にて、平面視三角形を呈してワークＷを取り囲むものとしても実施できる。更に、５枚以上の側プレート４…４で、平面視五角形以上の多角形を呈してワークＷを取り囲むものとしても実施できる。
更に、液溜まりの側部を構成する側プレート４は、平らな板に限定するものではなく、平面視弧状に湾曲した即ち反ったものであっても実施できる。この場合、平面視において、円を呈してワークＷを取り囲むものとしても実施できる。従って、３枚以上の側プレート４…４を用いるものに限らず、２枚の側プレート４，４にてワークＷを取り囲むものとして実施することが可能である。更には、平面視において、直線状のプレートと曲線状のプレートとを組み合わせるものとしてもよい。また、夫々平面視略コの字或いは略Ｌ字型の、２つのプレートを用いるものとし、プレート同士が近接することにより、平面視において、矩形を呈するものとしても実施できる。
また、プレート移動部５は、床プレート３に沿って、液溜まりの側部を構成する各側プレート４…４を摺動させ、側プレート同士を近接離反させるものとした。この他、液溜まりの側部を構成する側プレート４…４は、上下に移動して床プレート３上にてワークＷを取り囲むものとしても実施でき、また、各側プレート４…４同士は、上記以外の方向へ移動可能とすることによって、集合し離散するものとしても実施できる。 (Example of change)
In the above embodiment, the side plates 4... 4 constituting the side portions of the liquid reservoir are each rectangular plates. The four side plates 4 ... 4 have a rectangular shape in plan view and surround the workpiece W. However, the number of the side plates 4 constituting the side portions of the liquid reservoir is not limited to four. For example, the three side plates 4... it can. Furthermore, the present invention can be implemented as five or more side plates 4... 4 that form a polygon that is a pentagon or more in plan view and surround the workpiece W.
Further, the side plate 4 constituting the side of the liquid reservoir is not limited to a flat plate, but can be implemented even if it is curved, ie, warped in a plan view arc shape. In this case, it can also be implemented as a circle surrounding the work W in plan view. Therefore, the present invention is not limited to using three or more side plates 4... 4, and can be implemented by surrounding the workpiece W with the two side plates 4 and 4. Furthermore, it is good also as what combines a linear plate and a curved plate in planar view. Further, two plates each having a substantially U-shape or a substantially L-shape in a plan view are used, and the plates can be implemented to have a rectangular shape in a plan view by being close to each other.
Moreover, the plate moving part 5 shall slide each side plate 4 ... 4 which comprises the side part of a liquid reservoir along the floor plate 3, and shall adjoin and separate the side plates. In addition, the side plates 4... 4 constituting the side portions of the liquid reservoir can be implemented as moving up and down to surround the workpiece W on the floor plate 3, and the side plates 4. By making it possible to move in directions other than the above, it can also be implemented as being aggregated and dispersed.

図１〜図３へ示す実施の形態では、噴射部６のノズル６１，６４は、側プレート４に設けられたものであった。即ち、側プレート４は、ノズルを有するノズルプレートである。この他、噴射部のノズルは、側プレート４とは別に設けられたものとしても実施できる。ノズルを側プレート４と別体とする場合、ノズル専用の移動部を備えるものとしてもよいが、プレート移動部に取り付けられて、側プレート４と共に移動するものとしても実施できる。 In the embodiment shown in FIGS. 1 to 3, the nozzles 61 and 64 of the injection unit 6 are provided on the side plate 4. That is, the side plate 4 is a nozzle plate having nozzles. In addition, the nozzle of the injection unit can be implemented even if provided separately from the side plate 4. When the nozzle is separated from the side plate 4, a nozzle-specific moving unit may be provided, but the nozzle may be attached to the plate moving unit and moved together with the side plate 4.

液溜まりの側部を構成する全ての側プレート４…４が移動する以外に、一部の側プレート４…４は、移動せず、他の側プレート４の集合位置に固定されたものとしても実施できる。
ワークＷを取り囲むのは全て側プレート４…４に頼るものに限定するものではなく、一部洗浄処理室１の内壁や他の設置物の側面などを利用して側プレート４…４と共にワークＷを取り囲むものとしても実施できる。
床プレート３も、プレートとして、プレート移動部により上下できるものとし、上方へ移動することにより、側プレート４…４と共に洗浄液の液溜まりを一時的に形成するものとしてもよい。
また、図示した実施の形態において、水中洗浄の場合、隣接する側プレート４，４同士は、端部を完全に当接させ密着させるものとした。しかし、隣接する側プレート４，４の端部同士を完全に当接させずに即ち端部間に隙間が開いた状態にて、水中洗浄を行うものとしても実施できる。噴射部６の噴射による洗浄液の給水速度が、上記隙間からの排水速度を上回れば洗浄液を溜めることができるからである。 Other than the movement of all the side plates 4... 4 constituting the side of the liquid pool, some of the side plates 4... 4 may not be moved and may be fixed to the assembly position of the other side plates 4. Can be implemented.
Surrounding the workpiece W is not limited to relying solely on the side plates 4... 4, but the workpiece W together with the side plates 4. It can also be implemented as a thing surrounding.
The floor plate 3 may also be moved up and down by a plate moving part, and may move upward to form a pool of cleaning liquid together with the side plates 4.
Further, in the illustrated embodiment, in the case of underwater cleaning, the adjacent side plates 4 and 4 are in close contact with each other with their end portions in contact with each other. However, it is also possible to perform underwater cleaning without completely contacting the ends of the adjacent side plates 4 and 4, that is, with a gap between the ends. This is because the cleaning liquid can be stored if the water supply speed of the cleaning liquid by the injection of the injection unit 6 exceeds the drainage speed from the gap.

プレート移動部５については、上記のピストンとシリンダとを用いるものに限定するものではなく、エアシリンダやリンク機構など、周知の他の移動装置を用いるものとしても実施できる。
また、噴射部６は、低圧ノズルと共に高圧ノズルを備えるものを例示したが、何れか一種のノズルのみ備えるものとしても実施できる。 The plate moving unit 5 is not limited to the one using the above-described piston and cylinder, and may be implemented using another known moving device such as an air cylinder or a link mechanism.
Moreover, although the injection | pouring part 6 illustrated what was equipped with the high pressure nozzle with the low pressure nozzle, it can implement also as what has only one kind of nozzle.

１洗浄処理室
２移送ライン
３床プレート
４側プレート
５プレート移動部
６噴射部
７浄化部
８把持装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning process chamber 2 Transfer line 3 Floor plate 4 Side plate 5 Plate moving part 6 Injecting part 7 Purifying part 8 Gripping device

Claims

In workpiece cleaning equipment that cleans workpieces,
A cleaning liquid spraying unit, three or more side plates each disposed at a position away from the workpiece, a bottom, and a plate moving unit;
The plate moving unit slides all of the side plates on the upper surface of the bottom portion to bring the side plates closer to each other, and surrounds the workpiece to be cleaned together with the upper surface of the bottom portion by the side plates. Can constitute a pool of cleaning liquid sprayed at
The plate moving unit is configured to retract all the side plates that have gathered and surround the workpiece to separate all the side plates, so that the cleaning liquid temporarily stored in the liquid reservoir can be removed from all adjacent ones. It can drain at a stretch from between the side plates ,
The injection unit includes one or a plurality of injection nozzles,
At least a part of the side plate is a nozzle plate provided with the nozzle of the injection unit, and is capable of injecting the cleaning liquid onto the workpiece in a state where a gap is opened between adjacent side plates. A workpiece cleaning device.

In each of the all side plates, each nozzle is provided on the surface facing the workpiece to be cleaned,
In the state surrounding the workpiece, both lateral ends of each side plate are in contact with the lateral ends of the other adjacent side plates to collect the pool of cleaning liquid sprayed from the nozzle. Configure
The injection unit is capable of injecting the cleaning liquid from the nozzle in any state where the side plates are separated from each other and in a state where each side plate surrounds and is close to the workpiece to be cleaned. The workpiece cleaning apparatus according to claim 1.

A workpiece cleaning method using the workpiece cleaning apparatus according to claim 1.

In a workpiece cleaning system that cleans workpieces transferred from a transfer line with a cleaning solution,
A cleaning processing chamber, and the workpiece cleaning device disposed in the cleaning processing chamber, and a gripping device,
The transfer line includes a first conveyor that carries a workpiece into the cleaning treatment chamber, and a second conveyor that carries the workpiece after washing out from the washing treatment chamber,
The gripping device picks up the workpiece to be cleaned from the first conveyor, moves the workpiece to the workpiece cleaning device, and supports the workpiece while cleaning the workpiece by the workpiece cleaning device. work cleaning system having a workpiece cleaning device according to claim 1, wherein you characterized in that the workpiece is to release the workpiece is moved to the second conveyor.