JP5793421B2 - 極薄多基板調色ｏｌｅｄデバイス - Google Patents

Description

本技術は一般に、有機発光材料から形成される大面積の看板、照明などのディスプレイに関する。具体的には、本技術は、かかる材料から調色標識を製造する方法を提供する。

本欄は、明細書及び／又は特許請求の範囲に記載する本技術の態様に関連し得る技術の態様を読者に紹介するためのものである。ここでの説明は、本技術の様々な態様の理解を深めるための予備知識を読者に提供するのに役立つと考えられる。したがって、本欄の記載はこうした観点から解釈すべきであり、従来技術として認めたものではない。

回路及びディスプレイ技術の開発動向として、電気活性有機材料を活用した電子及び光電子デバイスの実装がある。これらのデバイスは、シリコン系電子デバイスの安価な高性能代替物を提供する。かかるデバイスの１つは有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）である。ＯＬＥＤは固体半導体デバイスであり、電気エネルギーを光に変換するための有機半導体層が実装されている。一般に、ＯＬＥＤは、エレクトロルミネセント有機材料からなる複数の薄膜層を２枚の導体又は電極間に配置することによって製造される。電極層と有機層は一般に２枚の基板（例えばガラス又はプラスチック）の間に配置される。ＯＬＥＤは、電極から異極性の電荷担体（電子及び正孔）を受容することによって作動する。外部から電圧を印加すると、電荷担体が再結合領域まで移動して発光を生じる。多くのシリコン系デバイスとは異なり、ＯＬＥＤは、低廉な大面積薄膜堆積プロセスを用いて加工できるので、極薄で軽量の照明ディスプレイを製造することができる。ＯＬＥＤを実装した汎用エリア照明を提供するための格段の進展がなされている。

大面積ＯＬＥＤデバイスは通常、個々のＯＬＥＤデバイスを多数単一基板上で組合せるか、或いは各基板上に個々のＯＬＥＤを複数設けた基板同士を組合せる。通例、ＯＬＥＤデバイスの群を直列及び／又は並列に結合してＯＬＥＤデバイスの配列を生じさせると、例えばディスプレイ、看板又は照明用途に使用し得る。これらの大面積用途では、配列に大きな発光領域を形成しながら、欠陥に起因する非発光領域を最小限することが望まれる。

一般に、デバイスは、複数のＯＬＥＤデバイスを並べて配置した単一の層から形成される。陰極用電極材料が透明ではないことがあるからである。デバイスで様々な色を形成するか又は信頼性を高めるために、異なるデバイスを、デバイスの表面に直列又は並列に接続することがある。しかし、相互接続した多数のデバイスを基板層で組合せると、大面積ＯＬＥＤデバイスの信頼性は高まるが、個々の特徴部の最小寸法が制限されかねない。そのため、「画素」が粗くなったり、非発光領域が大きくなり、標識又は画像で微細な特徴部を表示するのが難しくなる。さらに、粗い画素が肉眼で視認されることがあり、均一な外観が望まれる際の混色が難しくなる。最後に、相互接続のためディスプレイパネルのコストが増大し、低価格用途には向かないことがある。同様に、微細な特徴部を有する画素ディスプレイは、パッシブ又はアクティブマトリックスで接続した個々にアドレス可能な点から製造できるが、得られるパネルの複雑性とそれに伴うコストのため、高性能用途での使用が制限されかねない。

国際公開第９８／０７１３６号

本技術の実施形態では、陰極と、陰極と電気的に接触したエレクトロルミネセント有機材料を含む層と、この層と電気的に接触した陽極とを有するデバイスを備える照明パネルを提供する。陰極及び陽極は電気的に連続している。エレクトロルミネセント有機材料は、約５０００μｍ未満の寸法の発光領域を有する。

別の実施形態では、１以上のデバイスを形成することを含む発光アセンブリの製造方法を提供する。１以上のデバイスの各々の形成は、エレクトロルミネセント有機材料を含む層を寸法約５０００μｍ未満の発光領域として形成し、その層を電気的に連続した陽極及び電気的に連続した陰極と電気的に接触させることを含む。

別の実施形態では、電気制御装置及び電源装置と、電気制御装置及び電源装置で個々に照明されるように構成された１以上の発光デバイスとを備えるシステムを提供する。各発光デバイスは、電気的に連続した陰極と、陰極と電気的に接触した１以上のエレクトロルミネセント有機材料を含む層と、電気的に連続した陽極であって、上記層と電気的に接触した陽極とを備える。陰極と陽極の一方又は両方は、エレクトロルミネセント有機材料の寸法約５０００μｍ未満の発光領域に電圧を印加するようにパターニングされる。

本技術の上記その他の特徴、態様及び利点については、図面と併せて以下の詳細な説明を参照することによって理解を深めることができるであろう。図面を通して、同様の部材には同様の符号を付した。

本技術の実施形態に係る、小さい陰極領域を有するデバイスであって、より深い構造からの光を陰極で覆われていない領域を通して視認し得るデバイスの平面図を示す図面である。 本技術の実施形態に係る、小さい陰極領域を有するデバイスであって、より深い構造からの光を陰極で覆われていない領域を通して見られて縁部からの電圧印加を示すデバイスの平面図を示す図面である。 図１のデバイスの断面図であり、本技術の実施形態に係る非接続の電極領域に電圧を印加するための方法を例示する図である。 本技術の実施形態に係るエレクトロルミネセント有機材料の領域を照明するための方法を例示するデバイスの断面図である。 本技術の実施形態に係る単一の多層構造内に形成された２つのデバイスの断面図である。 本技術の実施形態に係る３つのデバイスから作られた多層構造の断面である。 本技術の実施形態に係る完全な調色ＯＬＥＤシステムの断面図である。

以下、本発明の１以上の特定の実施形態について説明する。これらの実施形態を簡潔に説明するため、現実の実施に際してのあらゆる特徴について本明細書に記載しないこともある。実施化に向けての開発に際して、あらゆるエンジニアリング又は設計プロジェクトの場合と同様に、実施毎に異なる開発者の特定の目標（システム及び業務に関連した制約に従うことなど）を達成すべく、実施に特有の多くの決定を行う必要があることは明らかであろう。さらに、かかる開発努力は複雑で時間を要することもあるが、本明細書の開示内容に接した当業者にとっては日常的な設計、組立及び製造にすぎないことも明らかである。

概説
本技術には、エレクトロルミネセント有機材料からなる非常に小さい照明領域（例えば、ドット又はライン）を有する発光層から調色有機発光デバイス（ＯＬＥＤ）を製造するためのシステム及び方法が含まれる。照明領域は、１以上のパターニングされた電極材料によって電圧が印加され、情報を伝えることが可能なデザイン又は画像を形成する。例えば、電極材料のパターニングは、電極材料の小さい領域又は構造を、例えばシャドウマスクを通した電極材料の熱堆積によって堆積させることによって、行ってもよい。任意の単一層内の電極材料を電気的に連続させて、単一のデバイスを形成してもよい。

複数の発光デバイスを組合せて、多層の調色デバイスを形成してもよい。各デバイス又は層が個々に又は同時に照明してもよい。本出願で用いるように、光が放出されるデバイスの表面を前面と言う。したがって、デバイスが近方であると言った場合、それは、比較のデバイスよりも光放出面に近いことを示している。同様に、デバイスが遠方であると言った場合、それは、デバイスが比較のデバイスよりも光放出面から遠いことをデバイスが示すことを示している。電極材料は一般に反射性か又は不透明であり得るため、電極材料をパターニングすることで、遠方のデバイスからの光が、近方のデバイス内の電極材料未堆積領域を通過できるようにしてもよい。例えば、デバイスのうちの１つ（例えば、多層構造内で最も遠方のデバイス）において、固体電極層がエレクトロルミネセント有機材料上にあって、前面により近い方のデバイス内の電極材料堆積領域間を進み得る光を発し得るようになっていてもよい。かかる構造によって、デバイスから放出される色を、遠方及び近方のデバイスの個々の電圧印加によって調整できる。

多層構造における各発光層は、負極（又は陰極）と正極（又は陽極）との間に配置された１以上のエレクトロルミネセント有機材料を含む別個のデバイスである。エレクトロルミネセント有機材料は、有機半導体として機能し、大きな表面積を有する有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を形成する。さらに、各デバイス内の一方又は両方の電極をパターニングしてもよいが、各電極は電気的に連続しており、例えば、一般に、単一層内には陽極陰極間の相互接続も直列の相互接続もなく、したがって、各デバイスは単一のＯＬＥＤである。そのため、比較的低コストのパネルが実現される。各層において複数のデバイスを相互接続するのに複雑な方式は必要ではないからである。

図１に示す平面図に、パターニングされた電極を用いてデバイスを形成することが例示されている。この例は単に、１つの可能な構成を例示するものである。任意の数の他の構成を構築してもよい。図１に示すように、デバイス１０は、エレクトロルミネセント有機材料上に電極材料を堆積させてパターンを形成することによって作られた電極領域１２を有していてもよい。電極領域１２は空き領域１４と交互に設けてもよい。空き領域１４には電極材料が堆積されていなくてもよい。さらに電極領域１２は、人間の目では個々に識別できないほど小さくてもよい。例えば、電極領域１２の寸法１６は５０μｍほどの小ささであってもよいが、他の実施形態では、電極領域の寸法は、用途に応じて、１００μｍ、２００μｍ又はそれ以上であってもよい。他の実施形態では、例えば、視認者からある程度の距離で配置され得る大きなパネル又は標識では、より大きい電極領域１２、例えば、５００μｍ、１０００μｍ又はさらに大きいものも実用的なことがある。発光領域の寸法を、着色領域の特性を制御するように選択してもよい。例えば、より大きい発光領域を、より大きいかもしくはより小さい詳細デザイン、又はより少ない混色に対して用いてもよく、一方で、より小さい発光領域を用いて詳細デザイン又は滑らかな混色を調製してもよい。空き領域１４は、電極領域１２と同じ寸法１８であってもよいし、例えば、多層構造内の低い方のデバイスからより多くの光を送ることが望ましい場合には、より大きくてもよい。種々の実施形態では、電極領域１２が存在しない空き領域２０を大きくすることによって、デザインの作成、例えば標識、ロゴその他のパターンを形成できる。

電極領域１２には、任意の数の技術を用いて電圧を印加してもよい。例えば、電極領域１２の相互接続を、電極領域１２の最上部に重ねた導電層によって行ってもよい。電極領域１２は一般に、図３について述べるように、エレクトロルミネセント有機材料に電圧を印加することはできない。別の実施形態では、電極領域１２を、連続して相互接続する仕方（例えば図２に示すラインパターン）で形成してもよい。その結果、単一の接続部２２（例えば、デバイス１０の縁部に配置される）から電圧印加することができる。発光領域の形状は、用途、電圧印加技術及び堆積技術にとって望ましいものを選択してもよい。例えば、電極領域１２を非接続の形状（例えばドット）に、図３について説明する電圧印加技術を用いて形成してもよい。

図３はデバイス３０の断面図である。デバイス３０は、図１及び２について述べたように、小さい電極領域１２を備えていてもよい。電極領域１２は、導電層３２を電極領域１２上に堆積してそれらを相互接続する場合には、連続していなくてもよい。例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の導電層３２であれば、電流を電極領域１２に流すことができ得るが、後述するように仕事関数が高すぎて、陰極の機能を果たすこと、例えばエレクトロルミネセント有機材料３４に電子を運ぶことができないことがある。電極領域１２を、仕事関数がもっと低い材料（例えばＮａＦ及びアルミニウムの層状構造）から形成してもよい。電極領域１２は反射性か又は不透明なことがあるので、放出光３６は一般に、電極領域１２とは反対側からの方がよく見えることがある。デバイス及び材料
図３に例示した実施形態では、デバイス３０は、単一層のエレクトロルミネセント有機材料３４を有していてもよい。他の実施形態では、複数のエレクトロルミネセント材料を用いてもよい。任意の数のエレクトロルミネセント有機材料を本技術で使用してもよい。例えば、かかる材料には、決定した波長域で発光することに合わせたエレクトロルミネセント有機材料が含まれていてもよい。エレクトロルミネセント有機材料３４の層の厚さは、約４０ｎｍ超であってもよいし、約３００ｎｍ未満であってもよい。エレクトロルミネセント有機材料３４としては、例えば、ポリマー、コポリマー又はポリマーの混合物が挙げられる。例えば、好適なエレクトロルミネセント材料としては以下のものが挙げられる。ポリＮ−ビニルカルバゾール（ＰＶＫ）及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体、例えばポリアルキルフルオレン、例えばポリ−９，９−ジヘキシルフルオレン、ポリジオクチルフルオレン又はポリ−９，９−ビス−３，６−ジオキサヘプチル−フルオレン−２，７−ジイル、ポリパラ−フェニレン及びその誘導体、例えばポリ−２デシルオキシ−１，４−フェニレン又はポリ−２，５−ジヘプチル−１，４−フェニレン、ポリープ−フェニレンビニレン及びその誘導体、例えばジアルコキシ置換ＰＰＶ及びシアノ置換ＰＰＶ、ポリチオフェン及びその誘導体、例えばポリ−３アルキルチオフェン、ポリ−４，４’−ジアルキル−２，２’−ビチオフェン、ポリ−２，５−チエニレンビニレン、ポリピリジンビニレン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、並びにポリキノリン及びその誘導体。一実施形態では、好適なエレクトロルミネセント材料は、Ｎ，Ｎ−ビス４−メチルフェニル−４アニリンでエンドキャップされたポリ−９，９−ジオクチルフルオレニル−２，７−ジイルである。これらのポリマー又はこれらのポリマーの１種以上に基づくコポリマーの混合物を用いてもよい。

エレクトロルミネセント有機材料３４として用いてもよい他の好適な材料としてはポリシランが挙げられる。ポリシランは、アルキル及び／又はアリール側基によって置換されたケイ素骨格を有する線状ポリマーである。ポリシランは、ポリマー骨格鎖に沿って非局在化σ共役電子を伴う擬一次元材料である。ポリシランの例としては、ポリジ−ｎブチルシラン、ポリジ−ｎペンチルシラン、ポリジ−ｎヘキシルシラン、ポリメチルフェニルシラン及びポリビスｐ−ブチルフェニルシランが挙げられる。

一実施形態では、分子量約５０００未満の有機材料（例えば、芳香族単位）を、エレクトロルミネセント有機材料３４として用いてもよい。かかる材料の例としては、１，３，５−トリス［Ｎ−（４−ジフェニルアミノフェニル）フェニルアミノ］ベンゼンが挙げられる。この材料は、発光波長域が約３８０ｎｍ〜約５００ｎｍである。これらのエレクトロルミネセント材料を、例えば以下の有機分子から調製してもよい。フェニルアントラセン、テトラアリールテン、クマリン、ルブレン、テトラフェニルブタジエン、アントラセン、ペリレン、コロネン又はそれらの誘導体。これらの材料は、最大波長が約５２０ｎｍの光を発してもよい。さらに他の好適な材料は、例えば以下のような低分子量金属有機錯体である。アルミニウム−アセチルアセトネート、ガリウム−アセチルアセトネート及びインジウム−アセチルアセトネート（発光波長域が約４１５ｎｍ〜約４５７ｎｍ）、アルミニウムピコリメチルケトンビス−２，６−ジブチルフェノキシド又はスカンジウム−４メトキシピコリルメチルケトン−ビスアセチルアセトン（発光波長域が約４２０ｎｍ〜約４３３ｎｍ）。可視波長域で発光する他の好適な材料として、８−ヒドロキシキノリンの有機金属錯体例えばトリス−８キノリノラトアルミニウム及びその誘導体が挙げられる。

エレクトロルミネセント有機材料３４は任意的に、隣接層中の１以上の非発光材料と接触していてもよい。これらの非発光層は、エレクトロルミネセント材料の性能又は寿命を向上させる。非発光層には、例えば以下のものが含まれていてもよい。電荷輸送層、正孔輸送層、正孔注入層、正孔注入促進層、電子輸送層、電子注入層、電子注入促進層又はそれらの組合せ。例えば、電荷輸送層３８を図３の断面に例示する。他の実施形態では、他の層（図示せず）が含まれていてもよい。

電荷輸送層３８として用いるのに適した材料の非限定的な例としては、低−中間分子量有機ポリマー、例えば、ポリスチレン標準を用いて決定される重量平均分子量が約２０００００グラム／モル未満の有機ポリマーが挙げられる。かかるポリマーとしては、例えば、以下のものが挙げられる。ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、ポリアニリン、ポリ−３，４−プロピレンジオキシチオフェン（ＰＰＤＯＴ）、スルホン酸ポリスチレン（ＰＳＳ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）などの材料、並びにそれらの組合せ。

正孔輸送層に適した材料の非限定的な例としては、以下のものが挙げられる。トリアリールジアミン、テトラフェニルジアミン、芳香族三級アミン、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体例えばアミノ基、ポリチオフェンなどの材料。正孔阻止層に適した材料の非限定的な例としては、ポリＮ−ビニルカルバゾールなどの材料が挙げられる。

正孔注入層に適した材料の非限定的な例としては、以下のものが挙げられる。「ｐドープされた」プロトンドープされた導電性ポリマー、例えばプロトンドープされたポリチオフェン又はポリアニリン及びｐドープされた有機半導体、例えばテトラフルオロテトラシアノキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＱＮ）、ドープされた有機及び高分子半導体、並びにトリアリールアミン含有化合物及びポリマー。電子注入材料の非限定的な例としては、ポリフルオレン及びその誘導体、アルミニウムトリス−８−ヒドロキシキノリン（Ａｌｑ３）、アルカリアルカリ土類金属を用いてｎドープされた有機／高分子半導体などが挙げられる。正孔注入促進層に適した材料の非限定的な例としては、アリーレン系化合物例えば３，４，９，１０−ペリレンテトラ−カルボキシリックジアンヒドリド、ビス−１，２，５−チアジアゾール−ｐキノビス−１，３−ジチオールなどの材料が挙げられる。

またデバイス３０は陽極４０を有している。陽極４０は、デバイス３０に渡って電気的に連続しているため、例えば、単一の電気回路部として、すべてのエレクトロルミネセント有機材料３４が、陽極４０陰極間（例えば電極領域１２）を流れる単一電流によって電力供給される電荷回路部を形成することができる。陽極４０は電気的に連続しているが、陽極４０を、デバイス内の一部の領域には電圧を印加しながら他の領域はパワー未供給状態にしておくパターンで堆積してもよい。これについては、後に図４に関して述べる。一般に、陽極４０に対して用いる材料は、仕事関数が高くても（例えば、約４．０電子ボルトより大きくても）よい。好適であり得る好適な材料としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化亜鉛インジウムスズ、酸化アンチモン及びそれらの混合物が挙げられる。かかる電気伝導性酸化物を含む陽極４０の厚さは一般に、約１０ｎｍより大きくてもよい。種々の実施形態では、厚さの範囲は、約１０ｎｍ〜約５０ｎｍ、約５０ｎｍ〜約１００ｎｍ又は約１００ｎｍ〜約２００ｎｍであってもよい。

薄い透明な金属層も陽極４０に適していることがある。金属層の厚さは、例えば約５０ｎｍ以下であってもよい。種々の実施形態では、金属厚さは約５０ｎｍ〜約２０ｎｍの範囲であってもよい。陽極４０に好適な金属としては、例えば、銀、銅、タングステン、ニッケル、コバルト、鉄、セレン、ゲルマニウム、金、白金、アルミニウム又はそれらの混合物もしくはそれらの合金が挙げられる。陽極４０は、その下に設けられた要素に、物理気相成長法、化学気相成長法又はスパッタリングなどの技術を用いて堆積してもよい。

本技術の実施形態で用いてもよい陽極４０の１つのタイプは、厚さが約６０〜１５０ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の堆積層から形成してもよい。ＩＴＯ層は約６０〜１００ｎｍの厚さであってもよいし、約７０ｎｍの厚さであってもよい。陽極４０の厚さは、透明度と伝導性との間でバランスを取ることによって決めてもよい。陽極４０が薄いほど透明な場合があり、下部層からの光がより多く通過することができる。対照的に、陽極４０が厚くなると、より光を遮ることがあるが、伝導性は向上し、デバイス３０の寿命が延びることがある。陽極４０の厚さは、多層構造におけるデバイス３０の場所にも依存することがある。例えば、近方のデバイスにおける陽極４０であれば、例えば遠方のデバイスにおける陽極４０より薄くてもよい。

またデバイス３０は陰極（例えば、電極領域１２）を有している。陰極は一般に、仕事関数が低い（例えば、約４電子ボルト未満の）金属材料から形成してもよい。陰極として用いるのに適した材料がすべて、仕事関数が低い必要があるわけではない。陰極として用いるのに適した材料としては、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｃ及びＹが挙げられる。他の好適な材料としては、ランタニド系の元素、それらの合金又はそれらの混合物が挙げられる。陰極を製造するための合金材料に好適な例としては、Ａｇ−Ｍｇ、Ａｌ−Ｌｉ、Ｉｎ−Ｍｇ及びＡｌ−Ｃａ合金が挙げられる。また層状の非合金構造を用いてもよい。かかる層状の非合金構造としては、厚さが約１ｎｍ〜約５０ｎｍの範囲のＣａなどの金属の薄層が挙げられる。他のかかる層状の非合金構造としては、ＬｉＦ、ＫＦ又はＮａＦなどの非金属の上に何らかの他の金属のより厚い層を覆ったものが挙げられる。かかる好適な金属としてはアルミニウム又は銀が挙げられる。陰極を、その下に設けられた層に、例えば、物理気相成長法、化学気相成長法又はスパッタリングを用いて堆積してもよい。電極領域１２のパターンを形成するために、材料をシャドウマスク上に堆積してもよい。シャドウマスクによって、パターンを形成するために用いる空き領域１４及びより大きい空き領域２０での堆積を遮ってもよい。

非常に薄い（したがってより透明な）陰極を形成するために用いてもよい材料の１つの組合せには、約７．５〜１５ｎｍの厚さ又は約１０ｎｍの厚さの銀から形成された第１の層があってもよい。厚さが約２．５〜６．５ｎｍのバリウムから作った層を、銀層の真下に堆積して、エレクトロルミネセント有機材料３４と接触させてもよい。バリウム層は約３〜４ｎｍの厚さであってもよい。パターニングされた電極領域１２と組合せて、かかる透明電極によって、構造の前面から遠方にあるデバイスから出た光が、視認者にもっと容易に到達できるようにすることによって、多層構造の形成がさらに助けられる。

伝導層３２を形成するために用いてもよい材料としては、薄層を形成したときに透明度を保有する電気伝導性材料が挙げられる。例えばポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、ポリアニリン、ポリ−３，４−プロピレンジオキシチオフェン（ＰＰＤＯＴ）、ポリスチレンスルホン酸塩（ＰＳＳ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ＡｌＱ３などの材料である。他の好適な材料としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛、酸化亜鉛インジウムスズ、酸化アンチモン及びそれらの混合物が挙げられる。また金属の薄い透明層、例えば金、銀、銅、タングステン、ニッケル、コバルト、鉄、セレン、ゲルマニウム、金、白金、アルミニウム、もしくはそれらの混合物、もしくはそれらの合金又はカーボンナノチューブ、グラフェンなどの材料の薄層を用いてもよい。一般に、伝導層３２を形成するために用いてもよい材料は、仕事関数が高くてもよい。その結果、伝導層が電流を電極領域１２に伝えることはできるが、エレクトロルミネセント有機材料３４に直接電圧は印加されない。

陽極４０及び電極領域１２を、対応する基板４２によって支持してもよい。基板４２は、デバイス３０の前面及び背面に対して同じ材料であってもよいし、異なる材料を選んでもよい。一般に、２種類の材料を基板４２に対して用いてもよい。無機材料及び有機材料である。無機材料（例えば、ガラス）は、非常に透明な場合があり、また障壁層としても機能して、酸素による有機材料の劣化を防止する。しかし無機材料は壊れやすい（厚い場合に）、可撓性がない、脆弱である及び／又は重いことがある。これらの不利点を打開するために、プラスチックを基板４２に対して用いてもよい。基板４２に対して用いてもよい材料の非限定的な例として、以下のものが挙げられる。無機ガラス、セラミック箔、ポリマー材料、充填ポリマー材料、コーティングされた金属泊、アクリル、エポキシ、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリケトン、ポリオキシ−１，４−フェニレンオキシ−１，４−フェニレンカルボニル−１，４−フェニレン（ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）とも呼ばれる）、ポリノルボルネン、ポリフェニレンオキシド、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）及び繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）。一実施形態では、基板は可撓性であってもよい。また可撓性基板を、薄い金属箔（例えばステンレス鋼）から形成してもよい。ただし金属箔には、陽極４０から金属箔を電気絶縁するために絶縁層をコーティングしておく（金属箔が陽極４０として機能する場合を除いて）。

デバイス３０（例えば、電極領域１２、陽極４０、エレクトロルミネセント有機材料３４、電荷輸送層３８又は後述する層のいずれか）を形成するために用いる材料の堆積を、以下の技術を用いて行ってもよい。例えば、特に限定されないが、スピンコーティング、ディップコーティング、逆ロールコーティング、ワイヤ巻き又はメイヤーロッドコーティング、直接及びオフセットグラビアコーティング、スロットダイコーティング、ブレードコーティング、ホットメルトコーティング、カーテンコーティング、ナイフオーバーロールコーティング、押出成形、エアーナイフコーティング、スプレイ、ロータリースクリーンコーティング、多層スライドコーティング、共押出成形、メニスカスコーティング、コンマ及びマイクログラビアコーティング、リソグラフィプロセス、ラングミュアプロセス及びフラッシュ蒸発、熱又は電子ビーム支援蒸発、蒸着、プラズマ励起化学気相成長法（「ＰＥＣＶＤ」）、無線周波数プラズマ励起化学気相成長法（「ＲＦＰＥＣＶＤ」）、膨張熱プラズマ化学気相成長法（「ＥＴＰＣＶＤ」）、スパッタリング、例えば、特に限定されないが、反応性スパッタリング、電子サイクロトロン共鳴プラズマ励起化学気相成長法（「ＥＣＲＰＥＣＶＤ」）、誘導結合プラズマ励起化学気相成長法（「ＩＣＰＥＣＶＤ」）及びそれらの組合せである。例えば、電極領域１２の堆積は次のように行ってもよい。材料を熱蒸発させた後で、エレクトロルミネセント有機材料３４上に、シャドウマスクを用いて空き領域１４での層形成を防止しながら堆積させる。

デバイス３０の最外部層（例えば、前側又は背側基板４２のいずれか）がプラスチックである場合、バリア特性を向上させて、エレクトロルミネセント有機材料３４を、とりわけ、プラスチックを通って拡散する酸素又は水蒸気が原因で生じる劣化から保護し、その結果、デバイスの寿命を延ばしてもよい。例えば、バリアコーティング４４を基板４２上に配置するか基板４２内に含浸させて、バリアコーティング４４が基板４２を完全に覆うようにしてもよい。バリアコーティング４４によって、基板４２を通る水分及び酸素の拡散が防止される。さらに、前面で用いるバリアコーティング４４は、デバイス３０の背面で用いてもよいものと同じでなくてもよい。例えば、背面が金属箔を用いて層状になっている場合、バリアコーティング４４は必要でなくてもよい。

バリアコーティング４４の厚さは、約１０ｎｍ〜約１００００ｎｍの範囲であってもよいし、約１０ｎｍ〜約１０００ｎｍの範囲であってもよい。バリアコーティング４４の厚さは、基板４２を通る光の伝達を妨げないように選んでもよい。例えばバリアコーティング４４の層として、光透過の低下が約２０％未満又は約５％未満となるようなものである。またバリアコーティング４４の材料及び厚さを制御して、基板４２の可撓性を保持し、曲げによる著しい劣化が伴わないようにしてもよい。以下で詳細に述べるように、バリアコーティング４４には、反応種にとって任意の好適な反応又は再結合生成物が含まれていてもよい。

バリアコーティング４４には、材料として、例えば、特に限定されないが、有機材料、無機材料、セラミックス、金属又はそれらの組合せが含まれていてもよい。通常、これらの材料は、基板４２上にプラズマから堆積させてもよい反応プラズマ種の反応又は再結合生成物である。ある実施形態では、有機材料には、炭素、水素、酸素及び任意的に、他の微量元素、例えばイオウ、窒素、ケイ素などが、反応物のタイプに応じて含まれていてもよい。コーティング内の有機組成物となる好適な反応物は、直鎖又は分岐のアルカン、アルケン、アルキン、アルコール、アルデヒド、エーテル、アルキレンオキシド、芳香族など、最大で１５の炭素原子を有するものである。無機及びセラミックコーティング材料には通常、以下のものが含まれる。第ＩＩＡ族、第ＩＩＩＡ族、第ＩＶＡ族、第ＶＡ族、第ＶＩＡ族、第ＶＩＩＡ族、第ＩＢ族及び第ＩＩＢ族の元素の酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物、酸窒化物、酸炭化物又はそれらの組合せ、第ＩＩＩＢ族、第ＩＶＢ族及び第ＶＢ族の金属、並びに希土類金属。例えば、炭化ケイ素を基板４２上に、シラン（ＳｉＨ₄）及び有機材料（例えばメタン又はキシレン）から生成されるプラズマの再結合によって、堆積させることができる。酸炭化ケイ素を、シラン、メタン及び酸素又はシラン及び酸化プロピレンから生成されるプラズマから堆積させることができる。また酸炭化ケイ素を、以下のような有機シリコーン前駆体から生成されるプラズマから堆積させることもできる。例えばテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳＮ）又はオクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）。窒化ケイ素を、シラン及びアンモニアから生成されるプラズマから堆積させることができる。アルミニウムオキシカルボナイトライドを、アルミニウムチトラート及びアンモニアの混合物から生成されるプラズマから堆積させることができる。反応物の他の組合せ（例えば金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素）を、所望のコーティング組成物が得られるように選択してもよい。

他の実施形態では、バリアコーティング４４には、ハイブリッド有機／無機材料又は多層有機／無機材料が含まれていてもよい。有機材料には、アクリレート、エポキシ、エポキシアミン、キシレン、シロキサン、シリコーンなどが含まれていてもよい。またほとんどの金属は、基板４２が透明であることが必要とされない用途では、例えば基板４２がデバイス３０の背面として用いられる場合には、バリアコーティング４４に適している。さらに、バリアコーティング４４を基板４２の内面上で電極に直接隣接して設けてもよいし、バリアコーティング４４を基板４２の外面上に設けてもよい。適切な状況の下では、他の障壁層を用いてもよい。例えば、反射箔層を背側デバイスの背側層の下に取り付けると、障壁層として機能する。さらに、薄いガラスシート（光学的に透明か又はある程度不透明）を前側デバイスの前側層上に取り付けても、障壁層として機能する。

一実施形態では、デバイス３０の形成を、最初にバリアコーティング４４をプラスチックの基板４２上に形成することによって行ってもよい。バリアコーティング４４上に、陽極４０（例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ））を、前述した技術のいずれか（例えばスパッタリング）を用いて堆積させてもよい。１以上の有機材料層を陽極４０上に堆積させてもよい。これらの層には、とりわけ電荷輸送層３８及びエレクトロルミネセント有機材料３４が含まれていてもよい。種々の実施形態では、これらの層又は追加の有機層を、例えば、印刷プロセス（例えば輪転グラビア、ジェット印刷など）を用いて、パターンに形成してもよい。有機材料上に電極領域１２（例えば、ＮａＦ／Ａｇ、バリウム、銀など）を、種々の技術（例えば、シャドウマスク上への熱蒸着）を用いて堆積させて、パターンを形成してもよい。前述の通り、導電層３２（例えば、ＩＴＯ又は別の高仕事関数材料）を電極領域１２上に堆積させて、陰極を形成してもよい。最後に、バリアコーティング４４を有する別の基板４２を、陰極上に取り付けてもよい。陽極４０及び導電層３２を次に、電源リード線（図示せず）に接続してもよい。

陰極の電極領域１２をパターニングすることに加えて、陽極４０をパターニングしてもよい。これを図４の断面図に例示する。図４では、第１のデバイス５０を示している。明瞭にするために、図４〜７では、正孔輸送層３８は図示していないが、この層又は前述した他の層のいずれかは、任意的に存在していてもよい。この実施形態では、陽極４０及び陰極（例えば、電極領域１２）の両方をパターニングしてもよい。したがって、電圧印加されると、陽極４０と陰極の電極領域１２との間に配置されたエレクトロルミネセント有機材料３４は発光５２している。しかし、活性電極領域１２が存在しないエレクトロルミネセント有機材料３４の領域（参照数字５４で示す）は、照明していない。図３について述べたように、電極領域１２を電気的に接続して、ＩＴＯ層３２によって電圧を印加してもよい。ＩＴＯ層３２は、エレクトロルミネセント材料３４には電圧を印加していなくてもよい。同様に、活性陽極４０が存在しないエレクトロルミネセント有機材料３４の領域（参照数字５６で示す）も非照明であってもよい。デバイス３０（図３に関して説明した）については、デバイスから出る放出光３６は、陰極の一般に反射性の電極領域１２の反対側で最も明るい。

陽極４０のパターニングは、陰極の電極領域１２の場合と同様であってもよく、例えば、縁部における単一の接続部から陽極４０に電力供給できるようにする連続した交線を伴うものである。さらに、陽極のラインが陰極の電極領域１２のラインに垂直で、エレクトロルミネセント有機材料３４内に矩形の照明領域を形成していてもよい。

図５の断面に示すように、多層構造７０の形成を、第２のデバイス７２を第１のデバイス５０（図４に関して前述した）に接合することによって行ってもよい。デバイス５０、７２を一緒に積み重ねて多層構造７０を形成することを、任意の数の可能な技術を用いて行ってもよい。例えば、デバイスを、デバイス５０、７２間に配置された接続層７４によって接合してもよい。接続層７４は、光学接着剤として、基板４２内で用いる材料の屈折率にマッチングするように、したがって界面材料での反射に起因する光損失が最小になるように、選択されたものであってもよい。或いは、接続層７４は、基板４２にマッチングする屈折率を伴うオイルであってもよい。この例では、オイルは単に屈折率にマッチングするために用いられており、デバイスを一緒に保持するために用いられていなくてもよい。デバイスの保持は、パッケージング（図７に関してさらに説明及び例示される）によって行ってもよい。

当業者であれば分かるように、基板４２中で用いる材料に応じて、任意の数の他の技術を用いてデバイス５０、７２を結合してもよい。例えば、溶剤結合、超音波溶接、熱積層又は任意の他の、表面を接合するために当技術分野で用いられる技術である。幾つかの実施形態では、デバイス５０、７２の結合を単に物理的なパッケージングによって、オイルも他の屈折率マッチング化合物も用いずに行ってもよい。そのため、低いデバイスからの光透過効率は減少するが、損失は用途によっては著しくないことがある。

第２のデバイス７２の形成を、デバイス３０に関して述べた（図３に関して前述した）材料と同じものを用いて行ってもよい。さらに、第２のデバイス７２が、陽極７６及び陰極７８（第１のデバイス５０の陽極４０及び電極領域１２から独立している）を有して、独立な照明が可能になっていてもよい。したがって、第２のデバイス７２によって、ＯＬＥＤパネルの色の調整又は情報伝達、芸術的効果の実現などが可能になる。

例えば、図５の実施形態に示すように、第２のデバイス７２がエレクトロルミネセント有機材料の固体層８０を有して、デバイス７０に対する背景として有用な単一色を実現してもよい。第１のデバイス５０の電極領域１２が、全表面に規則的に離間させて配置されている場合、多層構造７０はチューナブル光源として有用な場合があり、第２のデバイス７２から放出された光は第１のデバイス５０の電極領域１２内のギャップ間で放出される。他の実施形態では、第１のデバイス５０は、画像、ロゴなどのデザインを有していてもよく、第２のデバイス７２の無地色が対照的な背景を実現していてもよい。さらに他の実施形態では、追加のデバイスとして、それぞれ、追加情報を伝えるのに有用な別個のデザインを有するものを取り入れてもよい。

例えば、図６に示す断面に、第２の多層構造９０を例示する。第２の多層構造９０は、第１のデバイス５０に接合された第３のデバイス９２と第２のデバイス７２とを有している。第２のデバイス７２、第３のデバイス９２及び任意の後続のデバイスについて言えば、図３に関して前述したものと同じデザイン及び材料を備えていてもよい。各デバイス５０、７２、９２に対して選択する材料は、他のデバイスから独立していてもよい。図５に関して述べたように、基板４２の最外層には、エレクトロルミネセント有機材料３４を劣化から保護するための障壁層（図示せず）が含まれていてもよい。これらの障壁層は、対応する基板４０の内面又は外面上に形成してもよい。

幾つかの実施形態では、第３のデバイス９２を、前述の通り、パターニングされた電極を用いて形成してもよい。さらに、第３のデバイス９２の陽極９４及び陰極９６が、第１のデバイス５０及び第２のデバイス７２から独立していて、第３のデバイス９２が独立に照明するようになっていてもよい。幾つかの実施形態では、第３のデバイス９２の発光領域９８を規則的に離間させて配置してチューナブル光源を形成し、第２のデバイス７２からの光が、第１のデバイス５０及び第３のデバイス９２の陰極内のギャップを通って光るようになっていてもよい。他の実施形態では、発光領域９８を、とりわけ画像、ロゴ又は符号などのデザインを形成するように配置してもよい。このデザインを、第１のデバイス５０の発光領域１００が形成するデザインと同時に照明してもよいし、独立に照明してもよい。多層パネルを用いるシステム
個々のデバイス（例えば、第１のデバイス５０、第２のデバイス７２及び第３のデバイス９２）を、積み重ねて及び／又は互いに結合した後に、得られる多層構造９０を、最終的なディスプレイシステム１１０に取り入れてもよい。ディスプレイシステム１１０の例が、図７に例示する断面において分かる。図７において、多層構造９０は、反射層１１２（例えば、金属箔）が構造の背面１１４上に配置されていて、光を前面１１８に向けて反射し、そこで放出されてもよい３６。金属箔に適した材料としては、アルミニウム箔、ステンレス鋼箔、銅箔、スズ、コバール、インバーなどの材料が挙げられる。他の実施形態では、第３のデバイス７２の陰極７８は、十分に反射性であってもよい。ディフューザパネル１１６を前面１１８上に配置して、個々のデバイスからの光を散乱し、個々のデバイス５０、７２、９２から放出される光を混合するようにしてもよい。

図３について前述の通り、多層構造９０の前面１１８及び背面１１４を気密シールして、酸素侵入による有機材料（例えば、エレクトロルミネセント有機材料３４又は電荷輸送層３８）への損傷を防止してもよい。例えば、図３について前述の通り、基板４２はバリアコーティング４４が表面内に含浸されていてもよい。これを多層構造９０の前面１１８及び背面１１４の基板４２に対して行った場合、これによって有機材料が保護される。或いは、裏面１１４が反射層１１２（例えば、金属箔）を有する実施形態では、反射層１１２によって、水分及び酸素侵入からの十分な保護が得られる。同様に、多層構造９０の前面１１８に取り付けたディフューザパネル１１６がガラス又は他の堅固な材料から作られている場合、前面１１８の基板４２をそれ以上処理せずに、有機材料に対する十分な保護が得られる。

前述した技術によって、デバイス５０、７２、９２内の有機材料が、多層構造９０の前面１１８又は背面１１４を通る酸素の拡散から保護されるが、多層構造９０の縁部１２０から起こる酸素又は水蒸気の拡散によって、依然として有機材料が劣化する。したがって、縁部１２０を封止してこの侵入を防止してもよい。任意の数の技術を用いてパネルの縁部を封止してもよい。

例えば、非浸透性粘着剤１２２を用いて、多層構造９０の縁部１２０を封止してもよい。非浸透性粘着剤１２２としては、例えば、シリコーンＲＴＶ化合物、ポリウレタン、ポリイミド、エポキシ、ポリアクリルアミド、もしくは任意の同様のシール剤又はシール剤の組合せが挙げられる。これらは、ニートで用いてもよいし、これらに非浸透性充填材（例えば、ガラス粒子、金属粒子など）の添加によって充填してもよい。さらに、縁取り材料１２４（プラスチック、金属又は任意の他の材料であってもよい）を、多層構造９０の周りに配置してもよく、また所定の位置に保持して非浸透性粘着剤１２２によって封止してもよい。任意の数の他の技術を用いて、多層構造９０の縁部を封止してもよい。例えば、金属合金シール剤を、多層構造９０の全周囲の周りに配置して、エレクトロルミネセント有機材料が金属合金シール剤で完全に囲まれるようにしてもよい。さらに、これらの技術の任意の組合せを用いてもよい。例えば、縁取り材料１２４を、金属合金シール剤上で層状にして、非浸透性粘着剤１２２によって所定の位置に保持してもよい。

多層構造９０を、制御器１２６に、各デバイス（例えば、第１のデバイス５０、第２のデバイス７２及び第３のデバイス９２）の陽極及び陰極に接続されるライン１２８を経由して接続してもよい。制御器１２６の構成を、各デバイスへの電力供給を他のデバイスと個々に又は同時に行ってデザインの１以上が同時に見えるように設定してもよい。各デバイスに加えるエネルギーの量を制御して、多層構造９０によって得られる照明の量又は色を変えるようにしてもよい。これを用いて、例えば、多層構造９０の色を調整することができる。他の実施形態では、加えるエネルギーの量を用いて画像又は符号の照明を周囲の照明条件に対して調整して、明るい状態中に符号がもっと見えるようにすることができる。

本明細書では本技術の幾つかの特徴のみを例示し説明してきたが、当業者には多くの修正及び変化が自明であろう。従って、特許請求の範囲はかかる修正及び変化を本発明の技術的思想に属するものとして包含する。

Claims (21)

1. 第１のデバイスと第２のデバイスとを備える照明パネルであって、
   第１のデバイスが、
   電気的に連続した第１の陰極と、
   陰極と電気的に接触した第１のエレクトロルミネセント有機材料を含む第１の層と、
   電気的に連続した第１の陽極であって、上記層と電気的に接触した第１の陽極と
   を備えていて、前記第１の陰極と前記第１の陽極の少なくとも一方が、各々５０００μｍ未満の横寸法をもつ複数の電極領域を画成するようにパターニングされて、電圧を印加すると前記第１の層内に発光領域を画成し、
   第２のデバイスが、
   電気的に連続した第２の陰極と、
   第２の陰極と電気的に接触した第２のエレクトロルミネセント有機材料を備える第２の層と、
   電気的に連続した第２の陽極であって、第２の層と電気的に接触した第２の陽極と
   を備えていて、前記第２の陰極と前記第２の陽極がいずれもパターニングされずに前記第２の層の両側で連続層をなしており、
   第１のデバイスが第２のデバイスに接合して多層構造を形成し、第１のデバイス及び第２のデバイスが個々に電圧が印加されるように構成されている、照明パネル。
2. 前記第１の陰極、第１の層又は第１の陽極の少なくともいずれかがパターニングされて、照明されるように構成された第１のデザインを形成する、請求項１記載の照明パネル。
3. 前記第１の陰極が、
   エレクトロルミネセント有機材料に実質的に電圧を印加するように構成された２以上の非連続電極領域と、
   非連続電極領域上に堆積された導電層であって、非連続電極領域には通電するが、エレクトロルミネセント有機材料には実質的に電圧を印加しないように構成された導電層と
   を備える、請求項２記載の照明パネル。
4. 上記発光領域が最小寸法１００μｍ未満である、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の照明パネル。
5. 当該照明パネルが調色光源となるように構成されている、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の照明パネル。
6. 当該照明パネルが第３のデバイスを備えており、第３のデバイスが、
   電気的に連続した第３の陰極と、
   第３の陰極と電気的に接触した第３のエレクトロルミネセント有機材料を含む第３の層と、
   電気的に連続した第３の陽極であって、第３の層と電気的に接触した第３の陽極と
   を備えており、第３の陰極、第３の層又は第３の陽極の少なくとも１つがパターニングされて、照明されるように構成された第２のデザインを形成し、
   前記第３の陰極と前記第３の陽極の少なくとも一方が、各々５０００μｍ未満の横寸法をもつ複数の電極領域を画成するようにパターニングされて、電圧を印加すると前記第３の層内に発光領域を画成し、
   第３のデバイスは第１及び第２のデバイスに接合して多層構造を形成し、
   第１のデバイス、第２のデバイス及び第３のデバイスが個々に電圧が印加されるように構成される、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の照明パネル。
7. 当該照明パネルが調色光源となるように構成されている、請求項６記載の照明パネル。
8. 第３の陰極が、
   第３のエレクトロルミネセント有機材料に実質的に電圧を印加するように構成された２以上の非連続電極領域と、
   非連続電極領域上に堆積された導電層であって、非連続電極領域には通電するが、第３のエレクトロルミネセント有機材料には実質的に電圧を印加しないように構成された導電層と
   を備える、請求項６又は請求項７記載の照明パネル。
9. 第１の陽極、第２の陽極又は第３の陽極の少なくとも１つが、６０ｎｍ〜１５０ｎｍの厚さの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の層を備える、請求項６乃至請求項８のいずれか１項記載の照明パネル。
10. 第１のデザイン及び第２のデザインが、画像、デザイン、ロゴ、パターン又はそれらの組合せからなる異なる色の層を含む、請求項６乃至請求項９のいずれか１項記載の照明パネル。
11. 第１の陰極、第３の陰極のいずれか又は両方が、単一の電気的接続から電圧が印加されるように構成された電極材料の交線から形成されるパターンを備える、請求項６乃至請求項１０のいずれか１項記載の照明パネル。
12. エレクトロルミネセント有機材料が、ポリフルオレン、ポリ（フェニレンビニレン）及びポリ（ビニルカルバゾール）からなる群から選択される１種以上のエレクトロルミネセントポリマー又はエレクトロルミネセントポリマー誘導体を含む、請求項６乃至請求項１１のいずれか１項記載の照明パネル。
13. エレクトロルミネセント有機材料が有機金属化合物を含む、請求項６乃至請求項１１のいずれか１項記載の照明パネル。
14. 第１の陰極、第２の陰極、第３の陰極又はそれらの組合せが、光に対して実質的に透明であるように構成される、請求項６乃至請求項１３のいずれか１項記載の照明パネル。
15. 第１の層、第２の層、第３の層のいずれか又はそれらの組合せが、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層又はエレクトロルミネセント層の１以上を含む、請求項６乃至請求項１４のいずれか１項記載の照明パネル。
16. 多層構造が、気密シールパッケージ内に封止されている、請求項６乃至請求項１５のいずれか１項記載の照明パネル。
17. 複数のデバイスを積み重ねて結合して多層構造を形成することを含む発光アセンブリの製造方法であって、前記複数のデバイスは個々に電圧が印加されるように構成されており、前記複数のデバイスの各々の形成が、
    エレクトロルミネセント有機材料を含む層を形成する段階と、
    上記層を、電気的に連続した陽極及び電気的に連続した陰極と電気的に接触させる段階であって、前記陰極及び前記陽極の一方又は両方が、各々５０００μｍ未満の横寸法をもつ複数の電極領域を画成するようにパターニングされて、電圧を印加すると前記層内に発光領域を画成するように構成される、段階と
    を含んでおり、当該方法が、さらに、
    バックライトデバイスを形成する段階であって、
    電気的に連続したバックライト陰極を形成する段階と、
    バックライト陰極と電気的に接触したバックライトエレクトロルミネセント有機材料を含むバックライト層を形成する段階と、
    電気的に連続し、バックライト層と電気的に接触したバックライト陽極を形成する段階とを含むバックライトデバイスを形成する段階と、
    バックライトデバイスを１以上のデバイスに接合して層状構造を形成する段階であって、各デバイスは個々に照明するように構成される、段階と
    を含んでいる、方法。
18. 陽極と陰極の一方又は両方に、エレクトロルミネセント有機材料の発光領域に電圧を印して最小寸法１００μｍ未満の発光領域にするパターンを形成する段階を含む、請求項１７記載の方法。
19. 陰極の形成を、
    ２以上の非連続電極領域をエレクトロルミネセント有機材料上に堆積させる段階であって、電極領域が、エレクトロルミネセント有機材料に実質的に電圧を印加するように構成される、段階と、
    導電層を２以上の非連続電極領域上に堆積させる段階であって、導電層は電流を電極領域に伝えるように構成され、導電層はエレクトロルミネセント有機材料に実質的に電圧を印加しないように構成される、段階と
    によって行うことを含む、請求項１７又は請求項１８記載の方法。
20. 発光領域を、デザイン、写真、文字又はそれらの組合せを含むパターンに形成する段階を含む、請求項１７乃至請求項１９のいずれか１項記載の方法。
21. 電気制御装置及び電源装置と、
    電気制御装置及び電源装置によって照明するように構成された複数の発光デバイスと、
    発光デバイスに接合されて層状デバイスを形成するバックライトデバイスと
    を備えるシステムであって、複数の発光デバイスは積み重ねて結合されて多層構造を形成し、前記複数の発光デバイスは個々に電圧が印加されるように構成され、前記複数の発光デバイスが、
    電気的に連続した陰極と、
    陰極と電気的に接触したエレクトロルミネセント有機材料を含む層と、
    電気的に連続した陽極であって、上記層と電気的に接触した陽極と
    を備えており、
    前記陰極と前記陽極の一方又は両方が、各々５０００μｍ未満の横寸法をもつ複数の電極領域を画成するようにパターニングされて、電圧を印加すると前記層内に発光領域を画成し、
    バックライトデバイスは、電気制御装置及び電源装置で個々に照明されるように構成され、バックライトデバイスは、エレクトロルミネセント有機材料を含む層を備え、バックライトデバイスは、層状デバイスに渡って均一に発光するように構成される、システム。