JP5781286B2 - プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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(1)被処理物であるウエハ20を処理する真空処理室30。
(2)真空処理室30内のガスを排気する排気部40。
(3)ガスを生成するマスフロー部50。
(4)マスフロー部50から供給されたガスでプラズマ活性ガスを発生させるプラズマ発生部60。
(5)プラズマ発生部60から真空処理室30に活性ガスを輸送する輸送管71。
前記のパーティクルは、例えば、プラズマ点火時又は消火時に発生する微小範囲での急激な温度変化により、ウエハ20の表面やエッチング装置表面の微小突起が欠けたり、また、表面に付着した副生成物が剥がれたりするなどで発生する。
プラズマ点火してプラズマ処理を開始するまでには複数の段取りを踏む必要があり、この間もガスは流されているが、プラズマ処理に利用されることはなく無駄に捨てられている。また、この待ち時間のため生産性を低下させている。この点を説明するため、プラズマを点火してプラズマ処理を開始するまでのシーケンスとおおよその時間を下記に示す。
(2)調圧バルブ5の開度を調整してチャンバ圧力を調整する。……5秒
(3)高周波電源61の出力をONさせ、インピーダンスを整合する。……3秒
被処理物をプラズマ処理する真空処理部と、プラズマを発生するプラズマ発生部と、前記真空処理部と前記プラズマ発生部とを接続し、前記プラズマ発生部で発生した活性ガスを前記真空処理部に送るガス輸送部と、前記ガス輸送部に設けられた分岐部と、この分岐部に接続されたバイパス部と、前記プラズマ発生部で発生した活性ガスのガス流路を前記真空処理部または前記バイパス部のいずれかに切り替える流路切替部とを有し、
前記流路切替部は、前記プラズマ発生部においてプラズマを点火するときに、前記ガス流路を前記バイパス部に切り替え、前記プラズマ発生部における放電が安定した後、前記ガス流路を前記真空処理部に切り替え、
前記バイパス部は、前記ガス流路の下流側に調圧バルブと真空ポンプを備えることを特徴とする。
図1に示す実施形態のエッチング装置10において、ガス輸送部70は、プラズマ発生部60から真空処理室30(請求項の真空処理部に相当する)に活性ガスを輸送する輸送管71、輸送管71に設けられている分岐部72、及び分岐部72より下流側に設けられている開閉バルブ73を有する。バイパス部80がこの分岐部72から分岐され、このバイパス部80の下流側には開閉バルブ84、メインバルブ83、調圧バルブ82、及び真空ポンプ81が設けられている。
図2を用いて、図1の実施形態の作用について説明する。ウエハ20が支持台31に設置されエッチング装置10による処理が開始されると、マスフロー部50の開閉バルブ52,53が開き、コントローラ51の制御に基づき処理用のガスがプラズマ発生部60に供給される(ステップS100)。
本実施形態によれば、プラズマ発生部60の点火時に活性ガスの流路をバイパス部80にし、処理が終了した時点で再び活性ガスの流路をバイパス部80に切り替えて、電源61の出力を停止して放電管63の放電を消火する。このように、プラズマ着火時又は消火時に発生するパーティクルは、真空処理室30へは到達せず、直接真空ポンプ81へ排気され、ウエハ20に載ることを防止することができる。この結果より、エッチング加工を阻害するという問題が解決され、ウエハ20の歩留まりを向上させることができる。
本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、以下のような他の実施形態も含有する。
Claims (4)
- 被処理物をプラズマ処理する真空処理部と、プラズマを発生するプラズマ発生部と、前記真空処理部と前記プラズマ発生部とを接続し、前記プラズマ発生部で発生した活性ガスを前記真空処理部に送るガス輸送部と、前記ガス輸送部に設けられた分岐部と、この分岐部に接続されたバイパス部と、前記プラズマ発生部で発生した活性ガスのガス流路を前記真空処理部または前記バイパス部のいずれかに切り替える流路切替部とを有し、
前記流路切替部は、前記プラズマ発生部においてプラズマを点火するときに、前記ガス流路を前記バイパス部に切り替え、前記プラズマ発生部における放電が安定した後、前記ガス流路を前記真空処理部に切り替え、
前記バイパス部は、前記ガス流路の下流側に調圧バルブと真空ポンプを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記流路切替部は、前記活性ガスを用いて前記被処理物の加工処理を行うときに、前記ガス流路を前記真空処理部に切り替え、前記プラズマ発生部においてプラズマを消火する前に、前記ガス流路を前記バイパス部に切り替えることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ発生部はプラズマ点火または消火を検知するセンサまたはタイマを有し、前記流路切替部は前記センサまたは前記タイマの情報に基づいて前記ガス流路を切り替えることを特徴とする請求項1または2記載のプラズマ処理装置。
- 前記流路切替部は、被処理物の加工処理が終了したときに、前記ガス流路を前記バイパス部に切り替え、次の被処理物に対して加工処理を実施するときに、前記ガス流路を前記真空処理部に切り替えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置。
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