JP5769532B2 - Capacitor and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、コンデンサおよびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a capacitor and a method for manufacturing the same.

一般的に、コンデンサは、複数の誘電体層が積層された積層体と、積層体の誘電体層間に設けられた内部電極と、内部電極に接続されるように積層体の両端面に設けられた外部電極とを具備する(特許文献1を参照)。   Generally, a capacitor is provided on both end surfaces of a laminate in which a plurality of dielectric layers are laminated, an internal electrode provided between the dielectric layers of the laminate, and an internal electrode. External electrodes (see Patent Document 1).

ここで、内部電極と誘電体層との間には、端面に開口する隙間が形成されてしまっていた。また、外部電極表面にメッキ処理を行う際、メッキ液が外部電極内部を経て、当該隙間から内部電極と誘電体層との界面に沿って積層体内に浸入し、誘電体層および内部電極を侵食し、構造欠陥を引き起こす可能性があった。よって、積層体内へのメッキ液の浸入を防ぐために、この隙間にシランカップリング剤等の撥水処理剤が設けられていた。   Here, a gap opening at the end face has been formed between the internal electrode and the dielectric layer. In addition, when plating the surface of the external electrode, the plating solution passes through the external electrode and enters the laminate along the interface between the internal electrode and the dielectric layer through the gap, eroding the dielectric layer and the internal electrode. And may cause structural defects. Therefore, a water repellent treatment agent such as a silane coupling agent has been provided in this gap in order to prevent the plating solution from entering the laminate.

WO2007/119281号公報WO2007 / 119281 Publication

しかしながら、特許文献1に示すようなコンデンサは、製造時に外部電極の焼付け等の熱処理を行うと、シランカップリング剤等の撥水処理剤が熱によって焼失しやすかった。よって、上述したように、メッキ液が外部電極内を経て内部電極と誘電体層との隙間から積層体内に浸入しやすくなり、構造欠陥を引き起こしやすくなるという問題点があった。   However, when a capacitor as shown in Patent Document 1 is subjected to a heat treatment such as baking of an external electrode at the time of manufacture, the water repellent treatment agent such as a silane coupling agent is easily burned off by heat. Therefore, as described above, there is a problem in that the plating solution easily enters the laminated body through the gap between the internal electrode and the dielectric layer through the external electrode, thereby causing structural defects.

本発明のコンデンサは、複数の積層された誘電体層、および該誘電体層間の界面に沿って形成された複数の内部電極を含み、該内部電極の各端部が所定の端面に露出している積層体と、所定の前記端面に露出した前記内部電極を互いに接続するように、所定の前記端
面に設けられた外部電極とを備え、前記内部電極と前記誘電体層との間に、所定の前記端面に開口する隙間が設けられており、該隙間にオルガノポリシロキサンを主剤としたガラス前駆体を硬化させたガラスが設けられていることを特徴とするものである。

The capacitor of the present invention includes a plurality of laminated dielectric layers and a plurality of internal electrodes formed along an interface between the dielectric layers, and each end of the internal electrode is exposed to a predetermined end surface. A laminated body and an external electrode provided on the predetermined end face so as to connect the internal electrodes exposed on the predetermined end face to each other, and a predetermined gap is provided between the internal electrode and the dielectric layer. A gap opening is provided in the end face, and a glass obtained by curing a glass precursor mainly composed of organopolysiloxane is provided in the gap.

本発明のコンデンサの製造方法は、複数の積層された誘電体層、および該誘電体層間の界面に沿って形成された複数の内部電極を含み、該内部電極の各端部が所定の端面に露出している積層体を準備する工程と、所定の前記端面に露出した前記内部電極を互いに接続するように、所定の前記端面に外部電極を設ける工程とを含む、コンデンサの製造方法であって、前記内部電極と前記誘電体層との間に設けられた、所定の前記端面に開口する隙間に、ガラスを設ける工程を含んでおり、前記ガラスを設ける工程は、オルガノポリシロキサンを主剤としたガラス前駆体を、前記隙間に注入して硬化させることによって行うことを特徴とするものである。

The capacitor manufacturing method of the present invention includes a plurality of laminated dielectric layers and a plurality of internal electrodes formed along an interface between the dielectric layers, and each end of the internal electrodes is formed on a predetermined end surface. A method for manufacturing a capacitor, comprising: preparing an exposed laminated body; and providing an external electrode on a predetermined end face so as to connect the internal electrodes exposed on the predetermined end face to each other. the said internal electrodes disposed between the dielectric layer, a gap which is open to a predetermined said end face, the step of providing a glass and Nde including the step of providing the glass was the main component an organopolysiloxane The glass precursor is injected into the gap and cured .

本発明のコンデンサによれば、前記内部電極と前記誘電体層との間に、前記端面に開口する隙間が設けられており、該隙間にガラスが設けられていることから、外部電極にアニール処理等を施しても、前記内部電極と前記誘電体層との間の隙間にあるガラスが熱によって焼失せずに残るので、外部電極表面のメッキ処理時における、メッキ液の積層体内への浸入をこのガラスで抑制することできる。従って、誘電体層および内部電極の侵食を抑制し、構造欠陥を防止することができる。   According to the capacitor of the present invention, an opening is provided in the end face between the internal electrode and the dielectric layer, and the external electrode is annealed because glass is provided in the gap. The glass in the gap between the internal electrode and the dielectric layer remains without being burned off by heat, so that the plating solution can penetrate into the laminate during the plating process of the external electrode surface. It can be suppressed with this glass. Therefore, erosion of the dielectric layer and the internal electrode can be suppressed and structural defects can be prevented.

本発明のコンデンサの製造方法によれば、前記内部電極と前記誘電体層との間に設けられた、所定の前記端面に開口する隙間に、ガラスを設ける工程を含むことから、その後に外部電極の焼付け、又は、アニール処理等の熱処理を行っても、前記内部電極と前記誘電体層との間の隙間にガラスが残るので、外部電極表面のメッキ処理時における、メッキ液の積層体内への浸入をこのガラスで抑制することできる。従って、誘電体層および内部電極の侵食を抑制し、構造欠陥を防止することができる。   According to the method for manufacturing a capacitor of the present invention, the method includes the step of providing glass in a gap that is provided between the internal electrode and the dielectric layer and opens to the predetermined end face. Even if heat treatment such as annealing or annealing is performed, glass remains in the gap between the internal electrode and the dielectric layer. Infiltration can be suppressed with this glass. Therefore, erosion of the dielectric layer and the internal electrode can be suppressed and structural defects can be prevented.

本発明の実施の形態の一例によるコンデンサの積層体における、内部電極の露出端面近傍の拡大断面図である。It is an expanded sectional view near the exposure end face of an internal electrode in the layered product of a capacitor by an example of an embodiment of the invention. 本発明の実施の形態の一例によるコンデンサの断面図である。It is sectional drawing of the capacitor | condenser by an example of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の一例によるコンデンサの製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the capacitor | condenser by an example of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の他の例によるコンデンサの製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the capacitor | condenser by the other example of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の他の例によるコンデンサの積層体における、内部電極の露出端面近傍の拡大断面図である。It is an expanded sectional view near the exposed end face of an internal electrode in a multilayer body of a capacitor according to another example of an embodiment of the invention.

以下に、本発明のコンデンサの実施の形態の一例について図面を参照しつつ詳細に説明する。図2に示すコンデンサ1は、基本的な構成として、積層体2と、内部電極3と、外部電極4とを具備している。   Hereinafter, an example of an embodiment of a capacitor of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. A capacitor 1 shown in FIG. 2 includes a multilayer body 2, an internal electrode 3, and an external electrode 4 as a basic configuration.

積層体2は、複数の積層された誘電体層5、および誘電体層5間の界面に沿って形成された複数の内部電極3を含む。この積層体2は、図2に示すように、互いに対向する第1の主面2a(上面)及び第2の主面(下面)2bと、互いに対向する第1の側面(不図示)及び第2の側面(不図示)と、互いに対向する第1の端面2e及び第2の端面2fとを有する略直方体状に形成されている。また、積層体2の寸法は、積層体2の長辺の長さを、例えば0.4〜3.2mmとし、積層体2の短辺の長さを、例えば0.2〜1.6mmとする。   The stacked body 2 includes a plurality of stacked dielectric layers 5 and a plurality of internal electrodes 3 formed along an interface between the dielectric layers 5. As shown in FIG. 2, the laminate 2 includes a first main surface 2a (upper surface) and a second main surface (lower surface) 2b facing each other, a first side surface (not shown) and a first main surface facing each other. It is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape having two side surfaces (not shown) and a first end surface 2e and a second end surface 2f facing each other. Moreover, the dimension of the laminated body 2 makes the length of the long side of the laminated body 2 into 0.4-3.2 mm, for example, and makes the length of the short side of the laminated body 2 into 0.2-1.6 mm, for example.

誘電体層5は矩形状であり、1層当たりの厚みが例えば1〜2μmの厚みである。この誘電体層5は、積層体2中において例えば20〜2000層積層される。誘電体層5の材料としては、例えば、BaTiO、CaTiO、SrTiOまたはCaZrO等が挙げられる。なお、他の例としては、BaTiO、CaTiO、SrTiOまたはCaZrOなどを主成分とし、Mn化合物、Fe化合物、Cr化合物、Co化合物、Ni化合物等が添加されたものであってもよい。 The dielectric layer 5 has a rectangular shape, and the thickness per layer is, for example, 1 to 2 μm. For example, 20 to 2000 layers of the dielectric layer 5 are stacked in the stacked body 2. Examples of the material for the dielectric layer 5 include BaTiO 3 , CaTiO 3 , SrTiO 3, and CaZrO 3 . As another example, BaTiO 3, CaTiO 3, and SrTiO 3 or CaZrO 3 as a main component, Mn compound, Fe compound, Cr compounds, Co compounds, or may be Ni compound or the like is added .

内部電極3a、3bは、図2に示すように、各端部が積層体2のいずれかの端面2e、2fに露出するように設けられる。第1の端面2eに露出する内部電極3aと第2の端面2fに露出する内部電極3bとは、誘電体層5を介して互いに対向するよう、交互に配置されている。これにより静電容量が得られるようになっている。   As shown in FIG. 2, the internal electrodes 3 a and 3 b are provided so that each end is exposed to one of the end faces 2 e and 2 f of the multilayer body 2. The internal electrodes 3 a exposed on the first end face 2 e and the internal electrodes 3 b exposed on the second end face 2 f are alternately arranged so as to face each other with the dielectric layer 5 interposed therebetween. Thereby, an electrostatic capacity can be obtained.

この内部電極3は、積層体2の誘電体層5間に20〜2000層形成されている。内部電極3の材料としては、例えばNi、Cu、Ag、Pd、Au等の金属、またはこれらの金属の一種以上を含む、Ag−Pd合金などの合金などが挙げられる。全ての内部電極3は、同一の金属または合金により形成されていることが好ましい。   The internal electrode 3 is formed between 20 and 2000 layers between the dielectric layers 5 of the laminate 2. Examples of the material of the internal electrode 3 include metals such as Ni, Cu, Ag, Pd, and Au, or alloys such as an Ag—Pd alloy containing one or more of these metals. All the internal electrodes 3 are preferably formed of the same metal or alloy.

内部電極3の全体の寸法は、積層体2の長辺方向に例えば0.39〜3.1mmであり、積層
体2の短辺方向に例えば0.19〜1.5mmである。内部電極3の厚さは、特に限定されない
が、例えば、0.3〜2μm程度である。
The overall dimensions of the internal electrode 3 are, for example, 0.39 to 3.1 mm in the long side direction of the multilayer body 2 and are, for example, 0.19 to 1.5 mm in the short side direction of the multilayer body 2. Although the thickness of the internal electrode 3 is not specifically limited, For example, it is about 0.3-2 micrometers.

外部電極4a、4bは、いずれかの端面2e、2fに露出した内部電極3a、3bを互いに接続するように、所定の端面2e、2fにそれぞれ設けられる。図2に示す例では、外部電極4a、4bは、積層体2の端部にそれぞれ設けられている。この外部電極4a、4bは、厚みが5〜50μmで形成されている。外部電極4の材料は、銅以外に銀,ニッケル,パラジウムまたはこれらの合金等の金属材料であってもよい。   The external electrodes 4a and 4b are provided on the predetermined end surfaces 2e and 2f, respectively, so as to connect the internal electrodes 3a and 3b exposed on any one of the end surfaces 2e and 2f. In the example shown in FIG. 2, the external electrodes 4 a and 4 b are respectively provided at the end portions of the stacked body 2. The external electrodes 4a and 4b are formed with a thickness of 5 to 50 μm. The material of the external electrode 4 may be a metal material such as silver, nickel, palladium, or an alloy thereof other than copper.

外部電極4a、4bの表面には、外部電極4a、4bの保護、及び実装性の向上等のために、例えば、Niメッキ膜やSnメッキ膜などの単数または複数のメッキ膜が形成されていることが好ましい。例えば、外部電極4a、4bの表面に、Niメッキ膜とSnメッキ膜との積層体を形成してもよい。   On the surface of the external electrodes 4a and 4b, one or a plurality of plating films such as a Ni plating film and a Sn plating film are formed in order to protect the external electrodes 4a and 4b and improve mountability. It is preferable. For example, a laminate of a Ni plating film and a Sn plating film may be formed on the surfaces of the external electrodes 4a and 4b.

外部電極4a、4bを配線基板に接合する方法は、特に限定されない。例えば、Sn−Sb系高温半田などの高温半田、Sb−Pb共晶半田、Sn−Ag−Cu系Pbフリー半田、Sn−Cu系Pbフリー半田、導電性微粒子を含む樹脂などの適宜の接合部材を用いて外部電極4a、4bと配線基板とを接合することができる。   The method for bonding the external electrodes 4a and 4b to the wiring board is not particularly limited. For example, an appropriate joining member such as high-temperature solder such as Sn-Sb-based high-temperature solder, Sb-Pb eutectic solder, Sn-Ag-Cu-based Pb-free solder, Sn-Cu-based Pb-free solder, or resin containing conductive fine particles The external electrodes 4a and 4b and the wiring board can be bonded using

また、図1に示す例のように、内部電極3と誘電体層5との間に、端面2e(2f)に開口する隙間6が設けられている場合が多い。図1に示す例においては、この隙間6にガラス7が設けられている。この構成により、外部電極4表面にメッキ膜を形成する際のメッキ液が、外部電極4を経て隙間6から積層体2内に浸入することを抑制できる。また、ガラス7は、外部電極のアニール処理等の高温処理時であっても蒸発しない。よって、隙間6にガラス7が残るので、製造工程に高温処理を要しても、積層体2内にメッキ液が浸入することを抑制でき、特性の変動が生じにくいコンデンサを提供することができる。   Further, as in the example shown in FIG. 1, a gap 6 that opens to the end face 2 e (2 f) is often provided between the internal electrode 3 and the dielectric layer 5. In the example shown in FIG. 1, a glass 7 is provided in the gap 6. With this configuration, it is possible to suppress the plating solution used when forming the plating film on the surface of the external electrode 4 from entering the laminated body 2 through the gap 6 through the external electrode 4. Further, the glass 7 does not evaporate even during high temperature processing such as annealing of the external electrode. Therefore, since the glass 7 remains in the gap 6, even if a high-temperature treatment is required in the manufacturing process, it is possible to suppress the infiltration of the plating solution into the laminate 2 and to provide a capacitor in which the characteristics are not easily changed. .

ガラス7は、例えば、シリカを主成分とするものが用いられる。このガラス7は、耐熱温度を700〜1700℃程度に設定することができる。また、外部電極4の焼付け温度が800℃程度で、アニール処理の温度が600℃程度なので、必要に応じてこれらの温度より高い耐
熱温度に設定しておけば良い。また、ガラス7は、耐アルカリ性、又は耐酸性を有していることが好ましい。これにより、メッキ液が触れても溶けないので、積層体内へのメッキ液の浸入を有効に防ぐことができる。
As the glass 7, for example, a material mainly composed of silica is used. The glass 7 can be set to a heat resistant temperature of about 700 to 1700 ° C. Further, since the baking temperature of the external electrode 4 is about 800 ° C. and the annealing temperature is about 600 ° C., the heat resistance temperature higher than these temperatures may be set as necessary. Moreover, it is preferable that the glass 7 has alkali resistance or acid resistance. Thereby, even if a plating solution touches, it does not melt | dissolve, Therefore The penetration | invasion of the plating solution to a laminated body can be prevented effectively.

以上のような構成のコンデンサ1は、以下に示すようなセラミックグリーンシート積層法によって作製される。   The capacitor 1 having the above configuration is manufactured by a ceramic green sheet lamination method as described below.

まず、誘電体層5となる複数のグリーンシートを用意する。この工程において、セラミックグリーンシートは、セラミック原料粉末および有機バインダに適当な有機溶剤等を添加し混合することによって泥漿状のセラミックスラリーを作製し、これをドクターブレード法等によって成形することによって得られる。   First, a plurality of green sheets to be the dielectric layer 5 are prepared. In this step, the ceramic green sheet is obtained by preparing a slurry-like ceramic slurry by adding and mixing a suitable organic solvent or the like to the ceramic raw material powder and the organic binder, and molding the slurry by a doctor blade method or the like. .

次に、グリーンシート上に、内部電極3を形成する。この工程においては、得られたセラミックグリーンシートにスクリーン印刷法等によって、内部電極3のパターンとなる導体材料を形成する。なお、1枚のグリーンシートから多数個のコンデンサが得られるように、この1枚のグリーンシートに複数の内部電極3のパターンを印刷する。   Next, the internal electrode 3 is formed on the green sheet. In this step, a conductive material to be a pattern of the internal electrode 3 is formed on the obtained ceramic green sheet by screen printing or the like. In addition, the pattern of the several internal electrode 3 is printed on this one green sheet so that many capacitors can be obtained from one green sheet.

次に、複数のセラミックグリーンシートを積層しかつプレスした後に、多数個分が一体となった生の積層体を作製する。この積層体をカットして、単体分の積層体として、コンデンサ1本体の生の状態のものを得る。   Next, after laminating and pressing a plurality of ceramic green sheets, a raw laminated body in which many pieces are integrated is produced. This laminated body is cut to obtain a raw body of the capacitor 1 as a single laminated body.

次に、生の状態のコンデンサ1本体を焼成して積層体2を得る。この工程においては、例えば800〜1050℃で焼成することによって、図3(a)に示すように、積層体2を得る。
この工程によって、グリーンシートは誘電体層5となり、導体材料は内部電極3となる。
Next, the capacitor body 1 in a raw state is fired to obtain a laminate 2. In this step, for example, by firing at 800 to 1050 ° C., the laminate 2 is obtained as shown in FIG.
By this step, the green sheet becomes the dielectric layer 5 and the conductor material becomes the internal electrode 3.

次に、図3(b)に示すように、内部電極3と誘電体層5との間に設けられた、所定の端面2e(2f)に開口する隙間6に、ガラス7を設ける。この工程は、例えば、ガラスフリットを約300〜400℃の高温で溶融させたものを、積層体の端面に塗布し、隙間6に注入した後に冷却硬化させることによって行われる。また、ガラス7を設ける工程は、オルガノポリシロキサンを主剤としたガラス前駆体を、隙間6に注入して硬化させることによって行うことが好ましい。このガラス前駆体は、常温で液体であり、これを常温で放置すると自然に硬化してガラス7となる。従って、隙間6にガラス7を設ける工程は、高温にすることなく常温で行うことができる。結果、積層体2において高熱の影響によるクラックを生じさせることなく、隙間6にガラス7を設けることができる。   Next, as shown in FIG. 3B, a glass 7 is provided in a gap 6 provided between the internal electrode 3 and the dielectric layer 5 and opening in a predetermined end surface 2 e (2 f). This step is performed, for example, by applying a glass frit melted at a high temperature of about 300 to 400 ° C. to the end face of the laminated body, injecting it into the gap 6 and then cooling and hardening. Moreover, it is preferable to perform the process of providing the glass 7 by inject | pouring the glass precursor which made organopolysiloxane the main ingredient into the clearance gap 6, and hardening it. This glass precursor is liquid at room temperature, and when left at room temperature, it naturally cures to become glass 7. Therefore, the process of providing the glass 7 in the gap 6 can be performed at room temperature without increasing the temperature. As a result, the glass 7 can be provided in the gap 6 without causing cracks due to the influence of high heat in the laminate 2.

具体的には、積層体2を液状のガラス前駆体中に浸漬させて、減圧することで隙間6に注入した後、積層体2を引き上げ、常温で乾燥させる方法が採用される。また、乾燥を促進させるために、ガラス前駆体中から引き上げた積層体2を、60℃で1時間、その後120
℃で1時間かけて乾燥させる方法も採用することができる。また、積層体2における内部電極3が露出した端面に、液状のガラス前駆体を噴霧させて隙間6に注入し乾燥させることにより、ガラス7を設ける方法を採用してもよい。
Specifically, a method is adopted in which the laminate 2 is dipped in a liquid glass precursor and injected into the gap 6 by reducing the pressure, and then the laminate 2 is pulled up and dried at room temperature. In order to accelerate drying, the laminate 2 pulled up from the glass precursor is heated at 60 ° C. for 1 hour, and then 120
A method of drying at 1 ° C. for 1 hour can also be employed. Alternatively, a method may be employed in which the glass 7 is provided by spraying a liquid glass precursor on the end face of the laminate 2 where the internal electrode 3 is exposed, injecting the liquid glass precursor into the gap 6 and drying the glass 7.

この液状のガラス前駆体は、主剤と、架橋剤と、硬化触媒とから成る。主材は、メチル基またはフェニル基を有する液状のオルガノポリシロキサンから成る。架橋材は、アルコキシ基、アシロキシ基、オキシム基等の官能性側鎖をもつオルガノポリシロキサンから成る。硬化触媒は、Zn、Al、Co、Sn等の金属含有有機化合物、またはホウ素イオン、ハロゲン等の無機物であり得る。これら3成分を混合して1液タイプのシリカ溶液とし、好適には無溶剤で使用するが、場合によりイソプロピルアルコールなどの溶剤で希釈して使用することもできる。   This liquid glass precursor consists of a main ingredient, a crosslinking agent, and a curing catalyst. The main material is composed of a liquid organopolysiloxane having a methyl group or a phenyl group. The cross-linking material is composed of an organopolysiloxane having a functional side chain such as an alkoxy group, an acyloxy group, or an oxime group. The curing catalyst can be a metal-containing organic compound such as Zn, Al, Co, or Sn, or an inorganic substance such as boron ion or halogen. These three components are mixed to form a one-pack type silica solution, which is preferably used without a solvent, but may be diluted with a solvent such as isopropyl alcohol.

なお、液状のガラス前駆体は、常温で静置すると自然に硬化する。その硬化機構は、第1段階として、まず、主材であるオルガノポリシロキサンの官能基(メチル基、またはフェニル基)が、空気中の水分により加水分解を受けて水酸基(OH)に変化する。次に、第2段階として、このオルガノポリシロキサンの水酸基に、架橋剤であるオルガノポリシロキサンの官能基が作用し、さらに硬化触媒の作用も受けて脱アルコール反応が起こり、この反応が次第に進行して三次元構造の高分子ポリシロキサン化合物を形成するものである。   In addition, a liquid glass precursor will harden | cure naturally when left still at normal temperature. In the curing mechanism, as a first step, first, the functional group (methyl group or phenyl group) of the organopolysiloxane, which is the main material, is hydrolyzed by moisture in the air and changed to a hydroxyl group (OH). Next, as a second step, the functional group of the organopolysiloxane that is a crosslinking agent acts on the hydroxyl group of the organopolysiloxane, and further receives the action of a curing catalyst to cause a dealcoholization reaction, and this reaction gradually proceeds. Thus, a high-molecular polysiloxane compound having a three-dimensional structure is formed.

次に、図3(c)に示すように、Ag粒子、Pd粒子等の金属粒子とガラスフリットと有機ビヒクルとを混合して調整した導電ペーストを積層体2の両端部に塗布し、焼き付けることにより外部電極4を形成する。また、外部電極4は、蒸着、メッキ、スパッタリング等の薄膜形成法によって形成してもよい。   Next, as shown in FIG. 3C, a conductive paste prepared by mixing metal particles such as Ag particles and Pd particles, glass frit, and an organic vehicle is applied to both ends of the laminate 2 and baked. Thus, the external electrode 4 is formed. The external electrode 4 may be formed by a thin film forming method such as vapor deposition, plating, or sputtering.

次に、得られた外部電極4の表面に、必要に応じてニッケル(Ni)メッキ層,銅(Cu)メッキ層、金(Au)メッキ層,スズ(Sn)メッキ層あるいは半田メッキ層等のメッキ層を形成するメッキ処理を施し、コンデンサ1を得る。   Next, on the surface of the obtained external electrode 4, a nickel (Ni) plating layer, a copper (Cu) plating layer, a gold (Au) plating layer, a tin (Sn) plating layer, a solder plating layer, etc. A capacitor 1 is obtained by performing a plating process for forming a plating layer.

このような製造方法によれば、外部電極4を焼付けにより形成する際に、ガラス7は蒸発しないので、焼付け後も隙間6にガラス7が残り、外部電極4表面へのメッキ形成時に、メッキ液が積層体2内へ浸入することをガラス7で抑制できる。   According to such a manufacturing method, when the external electrode 4 is formed by baking, the glass 7 does not evaporate. Therefore, the glass 7 remains in the gap 6 even after baking, and the plating solution is formed during plating formation on the surface of the external electrode 4. Can be suppressed by the glass 7.

また、外部電極4を形成する前に、ガラス7を隙間6に設けたが、図4に示すように、外部電極4を形成した後に、ガラス7を隙間6に設けても良い。この場合であっても、例
えば、外部電極4にアニール処理を施す際に、ガラス7が熱で蒸発しないので、上記と同様の効果を得ることができる。
Further, the glass 7 is provided in the gap 6 before forming the external electrode 4, but the glass 7 may be provided in the gap 6 after forming the external electrode 4 as shown in FIG. 4. Even in this case, for example, when the annealing process is performed on the external electrode 4, the glass 7 does not evaporate by heat, and thus the same effect as described above can be obtained.

また、外部電極4の形成の後に、隙間6にガラス7を設けるためには、外部電極4が形成されたコンデンサ1を液状のガラス前駆体中に浸漬させて、減圧することで隙間6に注入した後、上記と同様に乾燥させれば良い。   In order to provide the glass 7 in the gap 6 after the formation of the external electrode 4, the capacitor 1 in which the external electrode 4 is formed is immersed in a liquid glass precursor and injected into the gap 6 by reducing the pressure. Then, it may be dried as described above.

また、この製造方法においても、外部電極4をメッキ法によって形成して良い。この場合であっても、例えば、外部電極4にアニール処理を施す際に、ガラス7が熱で蒸発しないので、同様の効果を得ることができる。   Also in this manufacturing method, the external electrode 4 may be formed by a plating method. Even in this case, for example, when the annealing process is performed on the external electrode 4, the glass 7 does not evaporate by heat, and thus the same effect can be obtained.

なお、外部電極4をメッキ法によって形成する場合には、外部電極4の形成の前に、ガラス7を隙間6に設けておくことが好ましい。こうすることにより、外部電極4を形成するためのメッキ液が積層体2内に浸入することを、ガラス7によって防ぐことができるからである。   When the external electrode 4 is formed by a plating method, it is preferable to provide the glass 7 in the gap 6 before forming the external electrode 4. By doing so, the glass 7 can prevent the plating solution for forming the external electrode 4 from entering the laminated body 2.

なお、本発明は上述した実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更,改良等が可能である。   The present invention is not limited to the embodiments described above, and various changes and improvements can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、バレル研磨等によって積層体2に面取りを施し、丸み部を形成してもよい。この工程によって、得られた積層体2の丸み部に、マイクロクラックの除去および欠けが発生することを防止することができる。さらにバレル研磨は金属粒子の表面酸化膜を削り取り金属表面を露出させてメッキ付着性を向上させる効果がある。   For example, the rounded portion may be formed by chamfering the laminate 2 by barrel polishing or the like. By this step, it is possible to prevent microcracks from being removed and chipped in the rounded portion of the obtained laminate 2. Furthermore, the barrel polishing has an effect of removing the surface oxide film of the metal particles and exposing the metal surface to improve the plating adhesion.

また、外部電極4を形成する前の積層体2について、隙間6にガラス7を設ける工程を行った後には、積層体2における内部電極3の露出端面に付着したガラス7を、サンドブラスト、バレル研磨等で除去することが好ましい。これにより、内部電極3の外部電極4への電気的導通を良好なものとすることができる。   In addition, after the step of providing the glass 7 in the gap 6 for the laminate 2 before forming the external electrode 4, the glass 7 attached to the exposed end surface of the internal electrode 3 in the laminate 2 is sandblasted or barrel-polished. It is preferable to remove by, for example. Thereby, the electrical conduction of the internal electrode 3 to the external electrode 4 can be improved.

また、例えば、図5に示すように、焼付け工程によって外部電極4の内部に生じた空孔8にもガラス7を設けておくことが好ましい。この場合には、外部電極4の表面にメッキ処理をする際に、メッキ液が空孔8を伝って積層体の方へ浸入していくのを、外部電極4の空孔8内のガラス7で妨げることができる。よって、メッキ液が積層体内部に浸入するのを防ぐ効果を更に高めることができる。   Further, for example, as shown in FIG. 5, it is preferable to provide glass 7 also in the holes 8 generated in the external electrode 4 by the baking process. In this case, when the surface of the external electrode 4 is plated, the plating solution penetrates through the holes 8 and enters the laminated body. Can be hindered. Therefore, the effect of preventing the plating solution from entering the laminated body can be further enhanced.

また、このような構成とするためには、隙間6にガラス7を設けて、外部電極4を形成した後に、外部電極4内部の空孔8にガラス7を設ければ良い。また、外部電極4を形成した後に、隙間6にガラス7を設ける際には、隙間6および空孔8に同時にガラス7を設けることができるので好ましい。
なお、外部電極4の内部の空孔8は、外部電極4を焼付けによって形成した場合等に、生じやすい。
In order to obtain such a configuration, the glass 7 may be provided in the void 8 inside the external electrode 4 after the glass 7 is provided in the gap 6 and the external electrode 4 is formed. Further, when the glass 7 is provided in the gap 6 after forming the external electrode 4, it is preferable because the glass 7 can be provided in the gap 6 and the holes 8 at the same time.
The holes 8 inside the external electrode 4 are likely to occur when the external electrode 4 is formed by baking.

また、外部電極4を形成した後、隙間6にガラス7を設ける工程を行った後には、外部電極4の表面に付着したガラスを、サンドブラスト、バレル研磨等で除去することが好ましい。これにより、メッキ膜の外部電極4表面に対しての濡れ性を良好なものとすることができる。また、外部電極4表面に付着したガラス前駆体が、硬化前の液状の状態であるうちに、ガラス前駆体をエア等で吹き飛ばすことによって、外部電極4表面にガラスが形成されるのを抑制してもよい。   In addition, after forming the external electrode 4 and performing the step of providing the glass 7 in the gap 6, it is preferable to remove the glass adhering to the surface of the external electrode 4 by sandblasting, barrel polishing, or the like. Thereby, the wettability with respect to the surface of the external electrode 4 of a plating film can be made favorable. Moreover, while the glass precursor adhering to the surface of the external electrode 4 is in a liquid state before curing, the glass precursor is blown off with air or the like to suppress the formation of glass on the surface of the external electrode 4. May be.

1:コンデンサ
2:積層体
3(3a、3b):内部電極
4(4a、4b):外部電極
5:誘電体層
6:隙間
7:ガラス
8:空孔
1: Capacitor 2: Laminate 3 (3a, 3b): Internal electrode 4 (4a, 4b): External electrode 5: Dielectric layer 6: Gap 7: Glass 8: Hole

Claims (4)

複数の積層された誘電体層、および該誘電体層間の界面に沿って形成された複数の内部電極を含み、該内部電極の各端部が所定の端面に露出している積層体と、
所定の前記端面に露出した前記内部電極を互いに接続するように、所定の前記端面に設けられた外部電極とを備え、
前記内部電極と前記誘電体層との間に、所定の前記端面に開口する隙間が設けられており、該隙間にオルガノポリシロキサンを主剤としたガラス前駆体を硬化させたガラスが設けられていることを特徴とするコンデンサ。
A laminated body including a plurality of laminated dielectric layers and a plurality of internal electrodes formed along an interface between the dielectric layers, each end of the internal electrodes being exposed to a predetermined end face;
An external electrode provided on the predetermined end face so as to connect the internal electrodes exposed on the predetermined end face to each other;
A gap opening at a predetermined end face is provided between the internal electrode and the dielectric layer, and a glass obtained by curing a glass precursor mainly composed of organopolysiloxane is provided in the gap. Capacitor characterized by that.
前記外部電極は、空孔を内部に有しており、該空孔に前記ガラスが設けられていることを特徴とする請求項1に記載のコンデンサ。   The capacitor according to claim 1, wherein the external electrode has a hole therein, and the glass is provided in the hole. 複数の積層された誘電体層、および該誘電体層間の界面に沿って形成された複数の内部電極を含み、該内部電極の各端部が所定の端面に露出している積層体を準備する工程と、
所定の前記端面に露出した前記内部電極を互いに接続するように、所定の前記端面に外部電極を形成する工程とを含む、コンデンサの製造方法であって、
前記内部電極と前記誘電体層との間に設けられた、所定の前記端面に開口する隙間に、ガラスを設ける工程を含んでおり、
前記ガラスを設ける工程は、オルガノポリシロキサンを主剤としたガラス前駆体を、前記隙間に注入して硬化させることによって行うことを特徴とするコンデンサの製造方法。
A laminated body including a plurality of laminated dielectric layers and a plurality of internal electrodes formed along an interface between the dielectric layers, each end portion of the internal electrodes being exposed to a predetermined end face is prepared. Process,
Forming an external electrode on the predetermined end face so as to connect the internal electrodes exposed on the predetermined end face to each other,
Wherein provided between the internal electrode and the dielectric layer, a gap which is open to a predetermined said end face, and Nde including the step of providing a glass,
The step of providing the glass is performed by injecting a glass precursor containing organopolysiloxane as a main ingredient into the gap and curing the glass precursor .
前記外部電極内部の空孔にガラスを設ける工程をさらに含む、請求項3に記載のコンデンサの製造方法。
The method for manufacturing a capacitor according to claim 3, further comprising a step of providing glass in the holes inside the external electrode.
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