JP5764033B2 - Method for producing micro phase separation structure film - Google Patents
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- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
Description
本発明は、ミクロ相分離構造体フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a microphase-separated structure film.
ブロック共重合体が自己組織化することで形成されるミクロ相分離構造を屈折率周期構造として利用したホトニック結晶および構造発色体が知られている（例えば特許文献１〜３）。特許文献１〜３に記載されている屈折率周期構造は、ミクロ相分離構造を形成するブロック共重合体の構成ブロック鎖の屈折率が互いに異なることにより形成されており、これによりホトニック結晶の光学特性を発現し、構造発色を呈している。 Photonic crystals and structural color bodies using a microphase-separated structure formed by self-organizing a block copolymer as a refractive index periodic structure are known (for example, Patent Documents 1 to 3). The refractive index periodic structures described in Patent Documents 1 to 3 are formed by different refractive indexes of the constituent block chains of the block copolymer forming the microphase-separated structure. It exhibits characteristics and exhibits structural color.
ミクロ相分離構造を利用した従来のホトニック結晶には、半導体材料や無機材料を用いたホトニック結晶と比較して構成ブロック鎖間の屈折率差が小さく、十分な光学特性が得られないという問題がある。ミクロ相分離構造を構造発色体の屈折率周期構造として利用した場合も同様に、屈折率差が小さく反射率が低いため、誘電体多層膜のような色鮮やかな金属光沢を得ることが難しい。しかしながら、ミクロ相分離構造を利用したホトニック結晶の屈折率差を増大させる試みは殆ど行なわれておらず、上記非特許文献１に示す程度である。非特許文献１では、ミクロ相分離構造の１成分をエッチングによって除去して、ポリマー鎖と空気とから構成される屈折率周期構造とすることで屈折率差の増大を図っている。しかし、非特許文献１の方法では、ミクロ相分離構造の１成分のみを選択的にエッチング可能なブロック共重合体成分に限られ、また、エッチング処理可能なミクロ相分離構造の形態にも制限があり、更に、大掛かりな真空ドライエッチング装置が必要である。ミクロ相分離構造を利用したホトニック結晶および構造発色体の屈折率差を増大させる方法としては、非特許文献１のようにミクロ相分離構造の１成分中に空孔を導入することが有効ではあるが、屈折率差を容易に増大させることができる方法は未だ見出されていない。 Conventional photonic crystals using a microphase-separated structure have a problem that the refractive index difference between constituent block chains is small compared to a photonic crystal using a semiconductor material or an inorganic material, and sufficient optical characteristics cannot be obtained. is there. Similarly, when the microphase-separated structure is used as the refractive index periodic structure of the structural color body, it is difficult to obtain a colorful metallic luster like a dielectric multilayer film because the difference in refractive index is small and the reflectance is low. However, almost no attempt has been made to increase the refractive index difference of the photonic crystal using the microphase separation structure, which is as shown in Non-Patent Document 1 above. In Non-Patent Document 1, one component of the microphase separation structure is removed by etching to obtain a refractive index periodic structure composed of a polymer chain and air, thereby increasing the refractive index difference. However, the method of Non-Patent Document 1 is limited to a block copolymer component that can selectively etch only one component of the microphase separation structure, and there is a limit to the form of the microphase separation structure that can be etched. In addition, a large-scale vacuum dry etching apparatus is required. As a method of increasing the refractive index difference between the photonic crystal and the structural color body using the microphase separation structure, it is effective to introduce pores into one component of the microphase separation structure as in Non-Patent Document 1. However, no method has yet been found that can easily increase the refractive index difference.
一方、ミクロ相分離構造の１成分中に空孔を導入する方法として、上記特許文献４に記載されている方法も知られている。特許文献４では、溶液キャスト法によりミクロ相分離構造体を得る際にミクロ相分離構造の１成分のみに相溶するポリマー、オリゴマー、モノマー等の添加成分を添加して溶液キャストフィルムを作製した後、当該添加成分が溶解可能な溶媒で添加成分を抽出する方法が開示されている。しかしながら、本発明者は、特許文献４の方法により屈折率差の増大を検証したが、添加成分の溶出過程においてフィルムが溶解する等して変形し、形成したミクロ相分離構造が大きく乱れてしまい光学特性が低下することを見出した。 On the other hand, the method described in Patent Document 4 is also known as a method for introducing pores into one component of the microphase separation structure. In Patent Document 4, after obtaining a solution cast film by adding additional components such as a polymer, an oligomer and a monomer that are compatible with only one component of the microphase separation structure when a microphase separation structure is obtained by the solution casting method. A method of extracting an additive component with a solvent in which the additive component can be dissolved is disclosed. However, the present inventor verified the increase in the refractive index difference by the method of Patent Document 4, but the film was dissolved and deformed in the elution process of the additive component, and the formed microphase separation structure was greatly disturbed. It has been found that the optical properties are degraded.
本発明は、上記課題を解決しようとするものであり、優れた光学特性を有するミクロ相分離構造体フィルムを容易に得ることが可能なミクロ相分離構造体フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a method for producing a microphase-separated structure film capable of easily obtaining a microphase-separated structure film having excellent optical properties. And
本発明に係るミクロ相分離構造体フィルムの製造方法は、空孔が選択的に形成されたミクロドメインを有するミクロ相分離構造体フィルムの製造方法であって、ブロック共重合体、光重合性モノマー、光重合開始剤及び可塑剤を含有する溶液に光を照射し光重合性モノマーを光重合させて樹脂フィルムを得る工程と、可塑剤を溶解可溶な溶媒を樹脂フィルムに染み込ませて可塑剤を樹脂フィルムから除去する工程と、溶媒を樹脂フィルムから除去して上記ミクロ相分離構造体フィルムを得る工程と、を備え、ブロック共重合体が、第１のポリマー鎖及び第２のポリマー鎖を有し、樹脂フィルムが、第１のポリマー鎖を含有する第１のミクロドメインと、第２のポリマー鎖を含有する第２のミクロドメインと、を含むミクロ相分離構造を有し、第１のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性が、第２のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性よりも高く、空孔が第２のミクロドメインよりも第１のミクロドメインに選択的に形成される。 A method for producing a microphase-separated structure film according to the present invention is a method for producing a microphase-separated structure film having microdomains in which pores are selectively formed, comprising a block copolymer and a photopolymerizable monomer. , A step of irradiating light to a solution containing a photopolymerization initiator and a plasticizer to photopolymerize a photopolymerizable monomer to obtain a resin film; and a plasticizer by soaking a solvent capable of dissolving the plasticizer in the resin film And removing the solvent from the resin film to obtain the microphase-separated structure film, wherein the block copolymer comprises the first polymer chain and the second polymer chain. And the resin film has a microphase separation structure including a first microdomain containing a first polymer chain and a second microdomain containing a second polymer chain, Compatibility of the solvent with respect to 1 of the polymer chain is higher than the compatibility of the solvent for the second polymer chain, holes are selectively formed in the first microdomain than the second microdomains.
本発明では、ブロック共重合体、光重合性モノマー、光重合開始剤及び可塑剤を含有する溶液に光を照射して光重合性モノマーを光重合させることにより、可塑剤を含有する樹脂フィルムが得られる。このような樹脂フィルムでは、樹脂フィルムが可塑剤を含有することにより、ミクロ相分離構造を保持し易いと共に、フィルムの力学的特性を向上させることができる。また、上記樹脂フィルムでは、光重合性モノマーの光重合によってブロック共重合体の３次元架橋が進行していることにより、可塑剤を溶解可溶な溶媒を樹脂フィルムに染み込ませる場合であっても、樹脂フィルムが変形することが抑制されている。 In the present invention, a resin film containing a plasticizer is obtained by irradiating light to a solution containing a block copolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and a plasticizer to photopolymerize the photopolymerizable monomer. can get. In such a resin film, since the resin film contains a plasticizer, it is easy to maintain a microphase separation structure, and the mechanical properties of the film can be improved. Moreover, in the said resin film, even if it is a case where the resin film melt | dissolves a solvent soluble by the three-dimensional bridge | crosslinking of a block copolymer by the photopolymerization of a photopolymerizable monomer, and the resin film is soaked. The deformation of the resin film is suppressed.
そして、本発明では、可塑剤を溶解可溶な溶媒を樹脂フィルムに染み込ませて可塑剤を樹脂フィルムから除去することにより、樹脂フィルム中の可塑剤が溶媒によって溶出すると共に、樹脂フィルムにおける可塑剤が存在していた空間に溶媒が取り込まれることとなる。その後、樹脂フィルム中に残存する溶媒を樹脂フィルムから除去することにより、溶媒が存在していた空間に空孔が形成される。これにより、空孔が形成されたミクロドメインを有するミクロ相分離構造体フィルムが得られる。 In the present invention, the plasticizer is dissolved in the resin film and the plasticizer is removed from the resin film by dissolving the plasticizer in the resin film, so that the plasticizer in the resin film is eluted by the solvent and the plasticizer in the resin film. The solvent will be taken into the space where was present. Thereafter, the solvent remaining in the resin film is removed from the resin film, whereby pores are formed in the space where the solvent was present. Thereby, a microphase-separated structure film having microdomains in which pores are formed is obtained.
また、本発明では、ブロック共重合体が、第１のポリマー鎖及び第２のポリマー鎖を有し、樹脂フィルムが、第１のポリマー鎖を含有する第１のミクロドメインと、第２のポリマー鎖を含有する第２のミクロドメインと、を含むミクロ相分離構造を有している。ここで、樹脂フィルムにおける一のミクロドメインのみ、例えば第１のミクロドメインのみが可塑剤を含有する場合、第１のミクロドメインのみに空孔が形成されるため、空孔が第２のミクロドメインよりも第１のミクロドメインに選択的に形成される。 In the present invention, the block copolymer has a first polymer chain and a second polymer chain, and the resin film has a first microdomain containing the first polymer chain and a second polymer. And a microphase separation structure including a second microdomain containing a chain. Here, when only one microdomain in the resin film, for example, only the first microdomain contains a plasticizer, since the void is formed only in the first microdomain, the void is the second microdomain. Rather than in the first microdomain.
一方、本発明では、樹脂フィルムにおける第１のミクロドメイン及び第２のミクロドメインの双方が可塑剤を含有する場合においても、下記のとおり空孔が選択的に形成される。すなわち、まず、本発明では、第１のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性が第２のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性よりも高い。この場合、第１のポリマー鎖を含む第１のミクロドメインでは、第１のミクロドメインに溶媒が染み込むと、ポリマー鎖と溶媒との接触を促進するように、溶媒が占有する空間が拡大する傾向がある。これにより、溶媒が占有する空間の大きさは、第２のミクロドメインよりも第１のミクロドメインの方が大きくなる傾向がある。その後、溶媒を樹脂フィルムから除去することにより、溶媒が占有していた空間が空孔として形成される。これにより、第１のミクロドメイン及び第２のミクロドメインのそれぞれに空孔が形成されるものの、第１のミクロドメインに形成された空孔は、第２のミクロドメインに形成された空孔よりも大きくなる。したがって、空孔が第２のミクロドメインよりも第１のミクロドメインに選択的に形成される。 On the other hand, in the present invention, even when both the first microdomain and the second microdomain in the resin film contain a plasticizer, pores are selectively formed as follows. That is, first, in the present invention, the solvent compatibility with the first polymer chain is higher than the solvent compatibility with the second polymer chain. In this case, in the first microdomain including the first polymer chain, when the solvent soaks into the first microdomain, the space occupied by the solvent tends to expand so as to promote the contact between the polymer chain and the solvent. There is. Thereby, the size of the space occupied by the solvent tends to be larger in the first microdomain than in the second microdomain. Thereafter, by removing the solvent from the resin film, the space occupied by the solvent is formed as a void. Thereby, although a void | hole is formed in each of a 1st micro domain and a 2nd micro domain, the void | hole formed in the 1st micro domain is more than the void | hole formed in the 2nd micro domain. Also grows. Therefore, a void | hole is selectively formed in a 1st micro domain rather than a 2nd micro domain.
本発明では、上記のとおり、空孔が第２のミクロドメインよりも第１のミクロドメインに選択的に形成される。これにより、第１のミクロドメインにおける屈折率を選択的に変化させることが可能であり、第１のミクロドメイン及び第２のミクロドメインの屈折率差を容易に大きくすることができる。したがって、本発明では、優れた光学特性を有するミクロ相分離構造体フィルムを容易に得ることができる。このようなミクロ相分離構造体フィルムでは、例えば、当該フィルムの反射率を増加させることが可能であり、フィルムに金属光沢を付与することができる。 In the present invention, as described above, the pores are selectively formed in the first microdomain rather than the second microdomain. Thereby, the refractive index in the first microdomain can be selectively changed, and the difference in refractive index between the first microdomain and the second microdomain can be easily increased. Therefore, in the present invention, a microphase-separated structure film having excellent optical properties can be easily obtained. In such a microphase-separated structure film, for example, the reflectance of the film can be increased, and a metallic luster can be imparted to the film.
ブロック共重合は、ポリスチレン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）であることが好ましい。この場合、優れた光学特性を有するミクロ相分離構造体フィルムを更に容易に得ることができる。 The block copolymer is preferably polystyrene-b-poly (tert-butyl methacrylate). In this case, a microphase-separated structure film having excellent optical properties can be obtained more easily.
ブロック共重合がポリスチレン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）である場合において、溶媒は、アルコールであることが好ましい。また、アルコールの炭素数は、１〜４であることが好ましい。さらに、アルコールは、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、２−メチル−１−プロパノール、２−ブタノール及び２−メチル−２−プロパノールからなる群より選ばれる少なくとも一種であることがより好ましい。これらの場合、優れた光学特性を有するミクロ相分離構造体フィルムを更に容易に得ることができる。 When the block copolymer is polystyrene-b-poly (tert-butyl methacrylate), the solvent is preferably an alcohol. Moreover, it is preferable that carbon number of alcohol is 1-4. Further, the alcohol is selected from the group consisting of methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, tert-butyl alcohol, 2-methyl-1-propanol, 2-butanol and 2-methyl-2-propanol. More preferably, it is at least one kind. In these cases, a microphase-separated structure film having excellent optical properties can be obtained more easily.
本発明によれば、優れた光学特性（例えば反射率、透過ブロック特性）を有するミクロ相分離構造体フィルムを容易に得ることができる。このようなミクロ相分離構造体フィルムは、光学フィルタや構造色材料として有用である。構造色材料は、例えば、可視光範囲に構造色を有するものである。 According to the present invention, a microphase-separated structure film having excellent optical characteristics (for example, reflectance and transmission block characteristics) can be easily obtained. Such a microphase-separated structure film is useful as an optical filter or a structural color material. The structural color material has a structural color in the visible light range, for example.
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the drawings.
＜ミクロ相分離構造体フィルム＞
図１は、本実施形態に係るミクロ相分離構造体フィルムの製造方法により得られるミクロ相分離構造体フィルムを示す図である。図１（ａ）は、ミクロ相分離構造体フィルムの斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＩｂ−Ｉｂ線に沿った模式断面図である。図１に示すミクロ相分離構造体フィルム１０（以下、「フィルム１０」という。）は、互いに略平行に対向する表面（一方の主面）１０ａ及び裏面（他方の主面）１０ｂを有している。フィルム１０の厚さは、例えば１０〜３００μｍである。フィルム１０の形状は、特に限定されるものではなく、例えば、円形であってもよく（図１（ａ））、矩形であってもよい。
<Micro phase separation structure film>
FIG. 1 is a view showing a microphase separation structure film obtained by the method for producing a microphase separation structure film according to the present embodiment. Fig.1 (a) is a perspective view of a micro phase-separation structure film, FIG.1 (b) is a schematic cross section along the Ib-Ib line | wire of Fig.1 (a). A microphase-separated structure film 10 (hereinafter referred to as “film 10”) shown in FIG. 1 has a front surface (one main surface) 10a and a back surface (the other main surface) 10b facing each other substantially in parallel. Yes. The thickness of the film 10 is, for example, 10 to 300 μm. The shape of the film 10 is not particularly limited, and may be, for example, a circle (FIG. 1 (a)) or a rectangle.
フィルム１０は、例えば高分子ホトニック結晶によって形成された構造発色体である。高分子ホトニック結晶は、ブロック共重合体（高分子ブロック共重合体）を含有している。「ブロック共重合体」とは、２種以上のポリマー鎖（構成ブロック鎖、セグメント）が結合した共重合体であり、例えば、モノマーＡを構造単位とする第１のポリマー鎖と、モノマーＢを構造単位とする第２のポリマー鎖とがポリマー鎖の末端同士で結合した共重合体が挙げられる。 The film 10 is a structural color body formed of, for example, a polymer photonic crystal. The polymer photonic crystal contains a block copolymer (polymer block copolymer). A “block copolymer” is a copolymer in which two or more types of polymer chains (constituent block chains, segments) are bonded. For example, a first polymer chain having a monomer A as a structural unit, and a monomer B Examples thereof include a copolymer in which the second polymer chain as a structural unit is bonded at the ends of the polymer chain.
ブロック共重合体としては、例えば、ポリスチレン−ｂ−ポリ（メチルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（エチルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（プロピルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（ｎ−ブチルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（イソプロピルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（ペンチルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（ヘキシルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（デシルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（ドデシルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（メチルアクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリブタジエン、ポリスチレン−ｂ−ポリイソプレン、ポリスチレン−ｂ−ポリジメチルシロキサン、ポリブタジエン−ｂ−ポリジメチルシロキサン、ポリイソプレン−ｂ−ポリジメチルシロキサン、ポリビニルピリジン−ｂ−ポリ（メチルメタクリレート）、ポリビニルピリジン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）、ポリビニルピリジン−ｂ−ポリブタジエン、ポリビニルピリジン−ｂ−イソプレン、ポリブタジエン−ｂ−ポリビニルナフタレン、ポリビニルナフタレン−ｂ−ポリ（メチルメタクリレート）、ポリビニルナフタレン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）等の２元ブロック共重合体、及び、ポリスチレン−ｂ−ポリブタジエン−ｂ−ポリ（メチルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリブタジエン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリイソプレン−ｂ−ポリ（メチルメタクリレート）、ポリスチレン−ｂ−ポリイソプレン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）等の３元ブロック共重合体などが挙げられる。なお、ブロック共重合体は、ポリマー鎖間で屈折率が異なれば上記に限られるものではない。なお、図１（ａ）では、フィルム１０がブロック共重合体として２元ブロック共重合体を含有する形態を一例として示している。ブロック共重合体の含有量は、フィルム１０の全質量基準で例えば７〜１５質量％である。 Examples of the block copolymer include polystyrene-b-poly (methyl methacrylate), polystyrene-b-poly (ethyl methacrylate), polystyrene-b-poly (propyl methacrylate), and polystyrene-b-poly (tert-butyl methacrylate). , Polystyrene-b-poly (n-butyl methacrylate), polystyrene-b-poly (isopropyl methacrylate), polystyrene-b-poly (pentyl methacrylate), polystyrene-b-poly (hexyl methacrylate), polystyrene-b-poly (decyl) Methacrylate), polystyrene-b-poly (dodecyl methacrylate), polystyrene-b-poly (methyl acrylate), polystyrene-b-poly (tert-butyl acrylate), polystyrene-b-poly Tadiene, polystyrene-b-polyisoprene, polystyrene-b-polydimethylsiloxane, polybutadiene-b-polydimethylsiloxane, polyisoprene-b-polydimethylsiloxane, polyvinylpyridine-b-poly (methyl methacrylate), polyvinylpyridine-b- Poly (tert-butyl methacrylate), polyvinylpyridine-b-polybutadiene, polyvinylpyridine-b-isoprene, polybutadiene-b-polyvinylnaphthalene, polyvinylnaphthalene-b-poly (methyl methacrylate), polyvinylnaphthalene-b-poly (tert-butyl) 2-block copolymers such as methacrylate), polystyrene-b-polybutadiene-b-poly (methyl methacrylate), polystyrene-b-polybutadiene- -Ternary block copolymers such as poly (tert-butyl methacrylate), polystyrene-b-polyisoprene-b-poly (methyl methacrylate), polystyrene-b-polyisoprene-b-poly (tert-butyl methacrylate), etc. Can be mentioned. The block copolymer is not limited to the above as long as the refractive index is different between polymer chains. In addition, in Fig.1 (a), the form in which the film 10 contains a binary block copolymer as a block copolymer is shown as an example. The content of the block copolymer is, for example, 7 to 15% by mass based on the total mass of the film 10.
ブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、構造発色体としての発色性を発現させる周期構造が良好に得られる観点から、８．０×１０５（ｇ／ｍｏｌ）以上が好ましく、９．０×１０５（ｇ／ｍｏｌ）以上がより好ましく、１．０×１０６（ｇ／ｍｏｌ）以上が更に好ましい。ブロック共重合体の重量平均分子量は、構造発色体としての発色性を発現させる周期構造が良好に得られる観点から、３．０×１０６（ｇ／ｍｏｌ）以下が好ましく、２．５×１０６（ｇ／ｍｏｌ）以下がより好ましく、２．０×１０６（ｇ／ｍｏｌ）以下が更に好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いてポリスチレン換算の重量平均分子量として得ることができる。 The weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer is preferably 8.0 × 10 5 (g / mol) or more from the viewpoint of obtaining a favorable periodic structure that exhibits color developability as a structural color former. 0 × 10 5 (g / mol) or more is more preferable, and 1.0 × 10 6 (g / mol) or more is more preferable. The weight average molecular weight of the block copolymer is preferably 3.0 × 10 6 (g / mol) or less, from the viewpoint of obtaining a periodic structure that exhibits color developability as a structural color former, and preferably 2.5 × 10 6. 6 (g / mol) or less is more preferable, and 2.0 × 10 6 (g / mol) or less is more preferable. In addition, a weight average molecular weight can be obtained as a weight average molecular weight of polystyrene conversion using gel permeation chromatography (GPC).
フィルム１０は、ミクロ相分離構造１３を有している。「ミクロ相分離構造」とは、複数のミクロドメインが周期的に配置された集合体をいう。「ミクロドメイン」とは、ブロック共重合体の異種のポリマー鎖が互いに混じり合うことなく相分離して形成される相である。 The film 10 has a microphase separation structure 13. “Microphase separation structure” refers to an aggregate in which a plurality of microdomains are periodically arranged. A “microdomain” is a phase formed by phase separation of different polymer chains of a block copolymer without mixing with each other.
ミクロ相分離構造１３は、ラメラ状のミクロドメイン１５を含んでいる。ミクロドメイン１５は、複数のミクロドメイン１５ａと複数のミクロドメイン１５ｂとを有しており、ミクロドメイン１５ａ及びミクロドメイン１５ｂは、層状に交互に積層されている。ミクロドメイン１５ａ，１５ｂのそれぞれは、例えば、表面１０ａ又は裏面１０ｂの少なくとも一方に対して略平行に配向していてもよい。また、ミクロドメイン１５ａ，１５ｂのそれぞれは、フィルム１０の厚さ方向に振幅を有する波状であってもよい。 The microphase separation structure 13 includes lamellar microdomains 15. The microdomain 15 has a plurality of microdomains 15a and a plurality of microdomains 15b, and the microdomains 15a and the microdomains 15b are alternately stacked in layers. Each of the micro domains 15a and 15b may be oriented substantially parallel to at least one of the front surface 10a or the back surface 10b, for example. Further, each of the micro domains 15 a and 15 b may have a wave shape having an amplitude in the thickness direction of the film 10.
フィルム１０では、秩序だった特徴的なミクロドメイン構造をブロック共重合体が形成している。ミクロドメイン１５ａは、ブロック共重合体の一のポリマー鎖を含んでおり、ミクロドメイン１５ａ同士は、互いに同種のポリマー鎖を含んでいる。また、ミクロドメイン１５ｂは、ブロック共重合体の他のポリマー鎖を含んでおり、互いに同種のポリマー鎖を含んでいる。ミクロ相分離構造１３は、ミクロドメイン１５ａ及びミクロドメイン１５ｂの屈折率が互いに異なっていることにより、ミクロドメイン１５ａとミクロドメイン１５ｂとが交互に積層されて形成された屈折率周期構造を有している。 In the film 10, the block copolymer forms an ordered characteristic microdomain structure. The microdomain 15a includes one polymer chain of the block copolymer, and the microdomains 15a include the same type of polymer chain. The microdomain 15b includes other polymer chains of the block copolymer, and includes the same kind of polymer chains. The microphase separation structure 13 has a refractive index periodic structure formed by alternately laminating the microdomains 15a and the microdomains 15b because the microdomains 15a and the microdomains 15b have different refractive indexes. Yes.
なお、フィルム１０におけるミクロドメインの形態（モルホロジー）はラメラ状に限定されるものではない。ミクロドメインの形態は、ブロック共重合体の組成に応じて変化し、一のミクロドメインが他のミクロドメインからなるマトリックス中に存在する形態であってもよい。このような形態としては、例えば、上記一のミクロドメインが円柱状であるシリンダー状の形態、上記一のミクロドメインが球状である形態、上記一のミクロドメインが網の目構造を有するギロイド状の形態等が挙げられる。 In addition, the form (morphology) of the micro domain in the film 10 is not limited to a lamellar shape. The form of the microdomain varies depending on the composition of the block copolymer, and may be a form in which one microdomain exists in a matrix composed of another microdomain. As such a form, for example, a cylindrical form in which the one microdomain is a columnar form, a form in which the one microdomain is spherical, and a guilloidal form in which the one microdomain has a network structure The form etc. are mentioned.
本実施形態では、ミクロ相分離構造１３において空孔（空隙）１７がミクロドメイン１５ｂよりもミクロドメイン１５ａに選択的に形成されている。本実施形態では、例えば、ミクロドメイン１５ａに空孔１７が形成されているのに対し、ミクロドメイン１５ｂには、空孔１７が形成されていない。空孔１７には、例えば、空気等の気体が満たされている。空孔１７の平均孔径は、例えば１０〜２００ｎｍであり、ミクロドメインの空孔率は、例えば５〜３０体積％である。 In the present embodiment, in the microphase separation structure 13, pores (voids) 17 are selectively formed in the microdomain 15 a rather than the microdomain 15 b. In the present embodiment, for example, the holes 17 are formed in the microdomain 15a, whereas the holes 17 are not formed in the microdomain 15b. The holes 17 are filled with a gas such as air, for example. The average pore diameter of the pores 17 is, for example, 10 to 200 nm, and the porosity of the microdomain is, for example, 5 to 30% by volume.
空気等の気体が満たされた空孔が、ブロック共重合体を含むミクロドメインに形成されることにより、ミクロドメインの屈折率は低下する傾向がある。そのため、本実施形態では、ミクロドメイン１５ａに空孔１７が形成されていることにより、空孔１７が形成されていない状態に比してミクロドメイン１５ａの屈折率は小さくなる傾向がある。これにより、ミクロドメイン１５ａ及びミクロドメイン１５ｂの屈性率差を容易に大きくすることができる。ミクロドメイン１５ａ及びミクロドメイン１５ｂの屈性率差を更に大きくする観点から、ミクロドメインに空孔が形成されていない状態において、空孔１７が形成されるミクロドメイン１５ａの屈折率は、ミクロドメイン１５ｂの屈折率よりも小さいことが好ましい。また、ミクロドメイン１５ａ及びミクロドメイン１５ｂの屈性率差を更に大きくする観点から、ミクロドメイン１５ａに含まれる第１のポリマー鎖の屈折率は、ミクロドメイン１５ｂに含まれる第２のポリマー鎖の屈折率に比して小さいことが好ましい。 When the pores filled with a gas such as air are formed in the microdomain including the block copolymer, the refractive index of the microdomain tends to decrease. For this reason, in the present embodiment, since the holes 17 are formed in the microdomain 15a, the refractive index of the microdomain 15a tends to be smaller than in a state where the holes 17 are not formed. Thereby, the refractive index difference of the microdomain 15a and the microdomain 15b can be enlarged easily. From the viewpoint of further increasing the difference in refractive index between the microdomain 15a and the microdomain 15b, the refractive index of the microdomain 15a in which the pores 17 are formed in the state in which the pores are not formed in the microdomain is as follows. The refractive index is preferably smaller than the refractive index. Further, from the viewpoint of further increasing the difference in refractive index between the microdomain 15a and the microdomain 15b, the refractive index of the first polymer chain included in the microdomain 15a is the refractive index of the second polymer chain included in the microdomain 15b. It is preferable to be smaller than the rate.
ミクロドメイン１５ｂには、図１（ａ）に示すように空孔が形成されていなくてもよいが、空孔が形成されていてもよい。ミクロドメイン１５ｂに空孔が形成されている場合、例えばミクロドメイン１５ａの空孔率がミクロドメイン１５ｂの空孔率よりも高い状態でミクロドメイン１５ａ，１５ｂに空孔が形成されることにより、空孔１７がミクロドメイン１５ｂよりもミクロドメイン１５ａに選択的に形成されている。 As shown in FIG. 1A, the microdomain 15b does not need to have holes formed therein, but may have holes formed therein. When pores are formed in the microdomain 15b, for example, the voids are formed in the microdomains 15a and 15b in a state where the porosity of the microdomain 15a is higher than the porosity of the microdomain 15b. The holes 17 are selectively formed in the microdomain 15a rather than the microdomain 15b.
フィルム１０を構成する高分子ホトニック結晶は、ブロック共重合体以外の構成成分として、ブロック共重合体及び後述する光重合開始剤を可溶な光重合性モノマーを光重合開始剤の存在下で光重合させて得られる光硬化性樹脂（高分子化合物）を含有している。上記光重合性モノマーとしては、アクリレート及びメタクリレートからなる群より選ばれる少なくとも一種が好ましい。 The polymer photonic crystal constituting the film 10 is prepared by using a photopolymerizable monomer soluble in a block copolymer and a photopolymerization initiator described below as a constituent component other than the block copolymer in the presence of the photopolymerization initiator. It contains a photocurable resin (polymer compound) obtained by polymerization. The photopolymerizable monomer is preferably at least one selected from the group consisting of acrylates and methacrylates.
上記光重合性モノマーとしては、単官能性モノマー又は多官能性モノマーのいずれでもよく、例えばカルボキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、オクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、２−エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート等の単官能モノマー、ジエチレングリコールアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールアクリレート、１,９−ノナンジオールジアクリレート、ポリプロピレングレコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、ジシクロペンテニルジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、４，４′−ジアクリロイルオキシスチルベン、ジエチレングリコールメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールメタクリレート、１,９−ノナンジオールジメタクリレート、ジシクロペンタニルジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。上記光重合性モノマーとしては、多官能モノマーが好ましく、ジシクロペンタニルアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリトリトールヘキサアクリレートがより好ましい。上記光重合性モノマーは、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を混合して使用してもよい。光硬化性樹脂の含有量は、フィルム１０の全質量基準で例えば４０〜９０質量％である。 The photopolymerizable monomer may be either a monofunctional monomer or a polyfunctional monomer. For example, carboxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, octyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol acrylate, dicyclopentenyl acrylate , Dicyclopentenyloxyethyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, benzyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate, dicyclopentanyl methacrylate, benzyl methacrylate, octyl methacrylate, 2-ethylhexyl-di Monofunctional monomers such as glycol acrylate, diethylene glycol Acrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, EO-modified bisphenol A diacrylate, dicyclopentanyl diacrylate, dicyclo Pentenyl diacrylate, neopentyl glycol-modified trimethylolpropane diacrylate, 4,4'-diacryloyloxystilbene, diethylene glycol methacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol methacrylate, 1,9-nonanediol Dimethacrylate, dicyclopentanyl dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, EO-modified bisphenol A dimethacrylate, tris (2- And polyfunctional monomers such as (acryloyloxyethyl) isocyanurate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate. As the photopolymerizable monomer, a polyfunctional monomer is preferable, and dicyclopentanyl acrylate, neopentyl glycol-modified trimethylolpropane diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, 1,9 -Nonanediol diacrylate and caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate are more preferable. The said photopolymerizable monomer may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. The content of the photocurable resin is, for example, 40 to 90% by mass based on the total mass of the film 10.
また、フィルム１０を構成する高分子ホトニック結晶は、ブロック共重合体及び光硬化性樹脂以外に他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、例えば、可塑剤、溶媒等が挙げられる。可塑剤や溶媒としては、フィルム１０の製造方法において後述する可塑剤や溶媒が挙げられる。 Moreover, the polymer photonic crystal constituting the film 10 may contain other components in addition to the block copolymer and the photocurable resin. Examples of other components include a plasticizer and a solvent. As a plasticizer and a solvent, the plasticizer and solvent mentioned later in the manufacturing method of the film 10 are mentioned.
本実施形態に係るフィルム１０は、第１のポリマー鎖及び第２のポリマー鎖を有するブロック共重合体と、光重合性モノマーを光重合させて得られる光硬化性樹脂と、を含有すると共に、第１のポリマー鎖を含むミクロドメイン１５ａと、第２のポリマー鎖を含むミクロドメイン１５ｂと、を含むミクロ相分離構造１３を有している。このようなフィルム１０では、光重合性モノマーの光重合によって３次元架橋が進行していることにより、ミクロ相分離構造１３が良好に保持されている。 The film 10 according to the present embodiment contains a block copolymer having a first polymer chain and a second polymer chain, and a photocurable resin obtained by photopolymerizing a photopolymerizable monomer, The microphase separation structure 13 includes a microdomain 15 a including a first polymer chain and a microdomain 15 b including a second polymer chain. In such a film 10, since the three-dimensional crosslinking proceeds by photopolymerization of the photopolymerizable monomer, the microphase separation structure 13 is well maintained.
そして、フィルム１０では、空孔１７がミクロドメイン１５ｂよりもミクロドメイン１５ａに選択的に形成されている。これにより、空孔１７が形成されていない状態に比してミクロドメイン１５ａの屈折率は小さくなる傾向があり、ミクロドメイン１５ａ及びミクロドメイン１５ｂの屈性率差を容易に大きくすることができる。したがって、フィルム１０では、優れた光学特性を得ることができる。 And in the film 10, the void | hole 17 is selectively formed in the micro domain 15a rather than the micro domain 15b. Thereby, the refractive index of the microdomain 15a tends to be smaller than that in the state where the holes 17 are not formed, and the difference in refractive index between the microdomain 15a and the microdomain 15b can be easily increased. Therefore, the film 10 can obtain excellent optical characteristics.
＜ミクロ相分離構造体フィルムの製造方法＞
本実施形態に係るミクロ相分離構造体フィルムの製造方法は、例えば準備工程、光重合工程、可塑剤溶出工程及び溶媒除去工程をこの順に備えている。
<Method for producing microphase-separated structure film>
The method for producing a microphase-separated structure film according to the present embodiment includes, for example, a preparation process, a photopolymerization process, a plasticizer elution process, and a solvent removal process in this order.
準備工程では、まず、上記ブロック共重合体を重合する。ブロック共重合体の重合方法としては、例えばリビングアニオン重合等が挙げられる。ミクロドメインの形態（モルホロジー）は、重合時のモノマー仕込み量を制御する等により調整することができる。 In the preparation step, first, the block copolymer is polymerized. Examples of the polymerization method of the block copolymer include living anionic polymerization. The form (morphology) of the microdomain can be adjusted by controlling the amount of monomer charged during polymerization.
次に、例えば、上記ブロック共重合体及び光重合開始剤を可溶な上記光重合性モノマーにブロック共重合体及び光重合開始剤を溶解させた後に、当該光重合性モノマーと可塑剤とを混合して、ブロック共重合体、光重合開始剤、光重合性モノマー及び可塑剤を含有するポリマー溶液を調製する。このようなポリマー溶液を調製した段階において、例えば、ブロック共重合体の自己組織化によりミクロ相分離構造が形成されている。 Next, for example, after dissolving the block copolymer and the photopolymerization initiator in the photopolymerizable monomer soluble in the block copolymer and the photopolymerization initiator, the photopolymerizable monomer and the plasticizer are added. By mixing, a polymer solution containing a block copolymer, a photopolymerization initiator, a photopolymerizable monomer and a plasticizer is prepared. At the stage of preparing such a polymer solution, for example, a microphase separation structure is formed by self-assembly of a block copolymer.
ポリマー溶液中のブロック共重合体の含有量は、作製プロセスにおいて粘度を下げるために加熱する必要が無く、室温においてある程度低粘度で流動性を有するポリマー溶液とする観点から、ポリマー溶液の全質量基準で３〜３０質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好ましく、７〜１５質量％が更に好ましい。ブロック共重合体の含有量が３質量％未満であると、ミクロ相分離構造を形成する際の偏析力が減少する傾向があり、ミクロ相分離構造の規則性が低下する傾向がある。ブロック共重合体の含有量が３０質量％を超えると、偏析力は増大するものの、粘度が増加するため、流動場印加による配向制御が難化する傾向がある。 The content of the block copolymer in the polymer solution does not need to be heated in order to reduce the viscosity in the production process, and is based on the total mass of the polymer solution from the viewpoint of making the polymer solution low in viscosity at room temperature and having fluidity. Is preferably 3 to 30% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and even more preferably 7 to 15% by mass. When the content of the block copolymer is less than 3% by mass, the segregation force when forming the microphase separation structure tends to decrease, and the regularity of the microphase separation structure tends to decrease. When the content of the block copolymer exceeds 30% by mass, the segregation force increases, but the viscosity increases, so that the orientation control by applying the flow field tends to be difficult.
光重合性モノマーとしては、上述した光重合性モノマーを用いることができる。ポリマー溶液中の光重合性モノマーの含有量は、ポリマー溶液の全質量基準で例えば４０〜９０質量％である。 As the photopolymerizable monomer, the above-described photopolymerizable monomer can be used. The content of the photopolymerizable monomer in the polymer solution is, for example, 40 to 90% by mass based on the total mass of the polymer solution.
光重合開始剤は、活性光線照射により活性化し得る重合開始剤である。光重合開始剤としては、活性光線の照射により分子が開裂してラジカルとなり、光重合性を有するポリマー又はモノマーとラジカル重合反応を引き起こすことにより、材料を高分子量化（架橋）させてゲル化を進行させるラジカル型光重合開始剤が挙げられる。光重合開始剤としては、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシアルキルフェノン、α−アミノアルキルフェノン等が挙げられ、具体的には、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を混合して用いてもよい。光重合開始剤の含有量は、光重合性モノマーの全質量基準で例えば０．０５〜０．５質量％である。 The photopolymerization initiator is a polymerization initiator that can be activated by irradiation with actinic rays. As a photopolymerization initiator, molecules are cleaved by irradiation with actinic rays to form radicals, causing a radical polymerization reaction with a photopolymerizable polymer or monomer, thereby causing the material to have a high molecular weight (crosslinking) and gelling. The radical type photoinitiator to be advanced is mentioned. Examples of the photopolymerization initiator include benzyl dimethyl ketal, α-hydroxyalkylphenone, α-aminoalkylphenone and the like, and specifically IRGACURE651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and the like. These photoinitiators may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. The content of the photopolymerization initiator is, for example, 0.05 to 0.5% by mass based on the total mass of the photopolymerizable monomer.
可塑剤は、可塑剤溶出工程で使用する溶媒に溶解するものであればよく、常温において固体状及び液状のいずれであってもよい。また、溶媒は、光重合性モノマーに対する溶解性が低いことが好ましい。可塑剤としては、例えば、フタル酸ジオクチル等のフタル酸エステル、アジピン酸エステル、リン酸エステル、トリメリット酸エステル及びクエン酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも一種が挙げられる。これらの中でも、高規則性のミクロ相分離構造を形成させる観点から、フタル酸エステルが好ましい。また、可塑剤は、ブロック共重合体のそれぞれのポリマー鎖に対する相溶性に差があってもよい。可塑剤の含有量は、溶媒処理によって空孔を導入し易くなる観点から、ポリマー溶液の全質量基準で５〜６０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましく、２０〜４０質量％が更に好ましい。可塑剤の含有量が５質量％未満であると、十分な空孔を導入することが困難となる傾向がある。可塑剤の含有量が６０質量％を超えると、ミクロ相分離構造体フィルムの力学的強度が低下する傾向がある。 The plasticizer is not particularly limited as long as it dissolves in the solvent used in the plasticizer elution step, and may be solid or liquid at room temperature. The solvent preferably has low solubility in the photopolymerizable monomer. Examples of the plasticizer include at least one selected from the group consisting of phthalic acid esters such as dioctyl phthalate, adipic acid esters, phosphoric acid esters, trimellitic acid esters, and citric acid esters. Among these, phthalic acid esters are preferable from the viewpoint of forming a highly ordered microphase separation structure. In addition, the plasticizer may have a difference in compatibility with each polymer chain of the block copolymer. The content of the plasticizer is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, and more preferably 20 to 40% by mass based on the total mass of the polymer solution, from the viewpoint of easy introduction of pores by solvent treatment. Further preferred. When the content of the plasticizer is less than 5% by mass, it tends to be difficult to introduce sufficient pores. When content of a plasticizer exceeds 60 mass%, there exists a tendency for the mechanical strength of a micro phase-separation structure film to fall.
光重合工程では、ポリマー溶液を所望の形状に成形した後に、ポリマー溶液に活性光線（例えば紫外線）を照射することによりポリマー溶液中の光重合性モノマーを光重合させて樹脂フィルムを得る。この場合、光重合性モノマーの３次元的な架橋反応が進行し、簡易な方法でミクロ相分離構造を固定化することができる。活性光線の強度は、例えば１０００〜２０００μＷ／ｃｍ２である。なお、ポリマー溶液に活性光線を照射する前に、ポリマー溶液にずり流動場等を印加して、ミクロドメインの配向性を調整してもよい。 In the photopolymerization step, after forming the polymer solution into a desired shape, the polymer solution is irradiated with actinic rays (for example, ultraviolet rays) to photopolymerize the photopolymerizable monomer in the polymer solution to obtain a resin film. In this case, the three-dimensional crosslinking reaction of the photopolymerizable monomer proceeds, and the microphase separation structure can be fixed by a simple method. The intensity of the actinic ray is, for example, 1000 to 2000 μW / cm 2 . In addition, before irradiating an actinic ray to a polymer solution, a shear flow field etc. may be applied to a polymer solution and the orientation of a micro domain may be adjusted.
可塑剤溶出工程では、可塑剤を可溶な溶媒を樹脂フィルムに接触させて溶媒を樹脂フィルムに染み込ませることにより、樹脂フィルムのミクロドメイン中に含まれる可塑剤を溶媒に溶解させて溶出させる。溶媒を樹脂フィルムに染み込ませる方法としては、樹脂フィルムを溶媒に浸漬する方法、溶媒を樹脂フィルムに吹き付ける方法、樹脂フィルムの主面に溶媒を滴下する方法等が挙げられる。なお、可塑剤溶出工程後において、可塑剤の一部が樹脂フィルム内に残存していてもよい。 In the plasticizer elution step, the plasticizer contained in the microdomains of the resin film is dissolved in the solvent and eluted by contacting the resin film with a solvent soluble in the plasticizer and allowing the solvent to penetrate into the resin film. Examples of the method of soaking the solvent in the resin film include a method of immersing the resin film in the solvent, a method of spraying the solvent on the resin film, and a method of dropping the solvent on the main surface of the resin film. In addition, after the plasticizer elution process, a part of the plasticizer may remain in the resin film.
溶媒としては、ブロック共重合体のポリマー鎖の少なくとも一つに対して相溶性を有する溶媒を用い、ブロック共重合体の第１のポリマー鎖に対する相溶性と第２のポリマー鎖に対する相溶性とが互いに異なる溶媒を用いる。すなわち、第１のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性は、第２のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性よりも高い。 As the solvent, a solvent having compatibility with at least one of the polymer chains of the block copolymer is used, and the compatibility of the block copolymer with the first polymer chain and the compatibility with the second polymer chain are as follows. Different solvents are used. That is, the solvent compatibility with the first polymer chain is higher than the solvent compatibility with the second polymer chain.
溶媒としては、可塑剤を好適に溶解可能である観点から、有機溶媒が挙げられる。また、溶媒としては、効果的にミクロドメイン間の屈折率差を増大させる観点から、空孔が形成されるミクロドメインに含まれるポリマー鎖と相溶し易い溶媒が好ましく、例えば、第２のポリマー鎖に比して第１のポリマー鎖に相溶し易い溶媒を用いることが好ましい。 As a solvent, an organic solvent is mentioned from a viewpoint which can dissolve a plasticizer suitably. Further, as the solvent, from the viewpoint of effectively increasing the refractive index difference between the microdomains, a solvent that is easily compatible with the polymer chain contained in the microdomain in which the pores are formed is preferable. For example, the second polymer It is preferable to use a solvent that is more compatible with the first polymer chain than the chain.
また、溶媒としては、溶媒除去工程において空孔の大きさを維持しつつ溶媒を除去し易いため効果的に空孔を導入することができる観点から、沸点が低く揮発性が高い溶媒が好ましく、例えば沸点が１００℃以下の溶媒がより好ましい。 Further, as the solvent, a solvent having a low boiling point and high volatility is preferable from the viewpoint that the solvent can be effectively removed while maintaining the size of the pores in the solvent removal step, For example, a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower is more preferable.
溶媒としては、ブロック共重合体がポリスチレン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）の場合、アルコールが好ましく、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、２−メチル−１−プロパノール、２−ブタノール、２−メチル−２−プロパノール等がより好ましく、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノールが更に好ましい。これらの溶媒は、ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）に対する相溶性がポリスチレンに対する相溶性に比して高い傾向がある。上記アルコールの炭素数は、１〜４が好ましく、１〜３がより好ましい。アルコールの炭素数が４を超えると、沸点が高くなり良好に空孔を導入することが困難となる傾向がある。 As the solvent, when the block copolymer is polystyrene-b-poly (tert-butyl methacrylate), an alcohol is preferable, and methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, tert-butyl alcohol, 2- Methyl-1-propanol, 2-butanol, 2-methyl-2-propanol and the like are more preferable, and methanol, ethanol, 1-propanol and 2-propanol are more preferable. These solvents tend to have higher compatibility with poly (tert-butyl methacrylate) than compatibility with polystyrene. 1-4 are preferable and, as for carbon number of the said alcohol, 1-3 are more preferable. If the alcohol has more than 4 carbon atoms, the boiling point tends to be high and it becomes difficult to introduce vacancies well.
また、ブロック共重合体がポリスチレン−ｂ−ポリブタジエンの場合、アルカン化合物が好ましく、ｎ−ブタン、２−メチルプロパン、ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、２，２−ジメチルプロパン、ｎ−へキサン、ｎ−オクタン、等の低沸点のアルカン化合物がより好ましい。これらの溶媒は、ポリブタジエンに対する相溶性がポリスチレンに対する相溶性に比して高い傾向がある。上記アルカン化合物の炭素数は、４〜８が好ましく、５〜６がより好ましい。アルカン化合物の炭素数が４未満であると、常温常圧で気体であり、取り扱いが困難となる傾向がある。アルカン化合物の炭素数が８を超えると、沸点が高くなり良好に空孔を導入することが困難となる傾向がある。 Further, when the block copolymer is polystyrene-b-polybutadiene, an alkane compound is preferable, and n-butane, 2-methylpropane, n-pentane, 2-methylbutane, 2,2-dimethylpropane, n-hexane, n -Low boiling point alkane compounds such as octane are more preferred. These solvents tend to have higher compatibility with polybutadiene than compatibility with polystyrene. 4-8 are preferable and, as for carbon number of the said alkane compound, 5-6 are more preferable. When the alkane compound has less than 4 carbon atoms, it is a gas at normal temperature and pressure, and it tends to be difficult to handle. If the alkane compound has more than 8 carbon atoms, the boiling point tends to be high and it becomes difficult to introduce vacancies well.
本実施形態では、良好な光学特性を得るために、ブロック共重合体の第１のポリマー鎖に対する相溶性と第２のポリマー鎖に対する相溶性とに応じて、ポリマー鎖に対する相溶性に差がある選択溶媒を適宜使用することができる。３元以上のブロック共重合体においても、同様に、各ポリマー鎖の相溶性に応じて溶媒を選択することができる。また、上記溶媒は、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を混合して使用してもよい。 In the present embodiment, in order to obtain good optical characteristics, there is a difference in compatibility with the polymer chain depending on the compatibility of the block copolymer with the first polymer chain and the compatibility with the second polymer chain. A selective solvent can be appropriately used. Similarly, in the case of a ternary or higher block copolymer, a solvent can be selected according to the compatibility of each polymer chain. Moreover, the said solvent may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for it.
溶媒除去工程では、樹脂フィルム中に残存する溶媒を樹脂フィルムから除去する。樹脂フィルムの溶媒の除去方法は、特に限定されるものではなく、例えば、ブロワー等で樹脂フィルムを乾燥して溶媒を樹脂フィルムから除去する。なお、溶媒除去工程後において溶媒の一部が樹脂フィルム内に残存していてもよい。 In the solvent removal step, the solvent remaining in the resin film is removed from the resin film. The removal method of the solvent of a resin film is not specifically limited, For example, a resin film is dried with a blower etc. and a solvent is removed from a resin film. A part of the solvent may remain in the resin film after the solvent removal step.
本実施形態では、上記工程を経ることにより、空孔が形成されたミクロドメインを有するミクロ相分離構造体フィルム（例えばフィルム１０）を得ることができる。具体的には、可塑剤溶出工程において、樹脂フィルムに接した溶媒が樹脂フィルム内に浸透して可塑剤と接触することにより、可塑剤が溶媒に溶解することとなる。そして、溶媒中に溶解した可塑剤は、溶媒と共にフィルム外に除去されることや、溶媒内を拡散してフィルム外に除去されることにより、樹脂フィルムから溶出する。これにより、樹脂フィルムにおける可塑剤が占有していた空間に溶媒が満たされて、樹脂フィルム中に溶媒が分散した状態となる。 In the present embodiment, a microphase-separated structure film (for example, film 10) having microdomains in which pores are formed can be obtained through the above steps. Specifically, in the plasticizer elution step, the solvent in contact with the resin film penetrates into the resin film and comes into contact with the plasticizer, so that the plasticizer is dissolved in the solvent. And the plasticizer which melt | dissolved in the solvent is eluted from a resin film by removing the outside of a film with a solvent, or diffusing the inside of a solvent and removing it outside a film. Thereby, the solvent is filled in the space occupied by the plasticizer in the resin film, and the solvent is dispersed in the resin film.
ところで、上記樹脂フィルムは、（ａ）第１のポリマー鎖を含む第１のミクロドメインにのみ可塑剤が分散され、第２のポリマー鎖を含む第２のミクロドメインに可塑剤が分散されていない状態であってもよく、（ｂ）第１のミクロドメイン及び第２のミクロドメインのいずれにも可塑剤が分散された状態であってもよい。上記（ａ）の場合、可塑剤溶出工程において、第１のミクロドメインの内部にのみ溶媒が残存することとなり、溶媒除去工程において、第１のミクロドメインに残存する溶媒が樹脂フィルムから除去されることにより、当該溶媒が占有していた空間に空孔が形成される。これにより、第１のミクロドメインの内部にのみ空孔が形成され、第２のミクロドメインの内部には空孔が形成されていない状態となる。すなわち、空孔が第２のミクロドメインよりも第１のミクロドメインに選択的に形成されることとなる。 By the way, in the resin film, (a) the plasticizer is dispersed only in the first microdomain including the first polymer chain, and the plasticizer is not dispersed in the second microdomain including the second polymer chain. The state may be sufficient, (b) The state by which the plasticizer was disperse | distributed to both the 1st micro domain and the 2nd micro domain may be sufficient. In the case of (a), the solvent remains only in the first microdomain in the plasticizer elution step, and the solvent remaining in the first microdomain is removed from the resin film in the solvent removal step. As a result, voids are formed in the space occupied by the solvent. Thereby, a void | hole is formed only in the inside of a 1st micro domain, and a void | hole is not formed in the inside of a 2nd micro domain. That is, vacancies are selectively formed in the first microdomain rather than the second microdomain.
上記（ｂ）の場合、可塑剤溶出工程において、第１のミクロドメイン及び第２のミクロドメインの双方の内部に溶媒が残存することとなる。この場合、ミクロドメインのそれぞれに対して同等の相溶性を有する溶媒を用いると、溶媒除去工程においてミクロドメインのそれぞれから溶媒が除去されてミクロドメインのそれぞれに同程度に空孔が形成されることとなり、ミクロドメイン間の屈折率差を充分に大きくすることが困難となる。 In the case of (b), in the plasticizer elution step, the solvent remains in both the first microdomain and the second microdomain. In this case, if a solvent having the same compatibility with each of the microdomains is used, the solvent is removed from each of the microdomains in the solvent removal step, and pores are formed in each of the microdomains to the same extent. Thus, it is difficult to sufficiently increase the refractive index difference between the microdomains.
一方、本実施形態では、第１のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性が第２のポリマー鎖に対する溶媒の相溶性よりも高い。この場合、第１のポリマー鎖を含む第１のミクロドメインでは、第１のミクロドメインに溶媒が染み込むと、ポリマー鎖と溶媒との接触を促進するように、溶媒が占有する空間が拡大する傾向がある。これにより、溶媒が占有する空間の大きさは、第２のミクロドメインよりも第１のミクロドメインの方が大きくなる傾向がある。その後、溶媒除去工程において溶媒が除去されることにより、当該溶媒が占有していた空間が空孔として形成される。これにより、第１のミクロドメイン及び第２のミクロドメインのそれぞれに空孔が形成されるものの、第１のミクロドメインに形成された空孔は、第２のミクロドメインに形成された空孔よりも大きくなる。したがって、空孔が第２のミクロドメインよりも第１のミクロドメインに選択的に形成される。 On the other hand, in this embodiment, the compatibility of the solvent with respect to the first polymer chain is higher than the compatibility of the solvent with respect to the second polymer chain. In this case, in the first microdomain including the first polymer chain, when the solvent soaks into the first microdomain, the space occupied by the solvent tends to expand so as to promote the contact between the polymer chain and the solvent. There is. Thereby, the size of the space occupied by the solvent tends to be larger in the first microdomain than in the second microdomain. Thereafter, by removing the solvent in the solvent removal step, the space occupied by the solvent is formed as pores. Thereby, although a void | hole is formed in each of a 1st micro domain and a 2nd micro domain, the void | hole formed in the 1st micro domain is more than the void | hole formed in the 2nd micro domain. Also grows. Therefore, a void | hole is selectively formed in a 1st micro domain rather than a 2nd micro domain.
本実施形態に係るミクロ相分離構造体フィルムの製造方法では、ブロック共重合体、光重合性モノマー、光重合開始剤及び可塑剤を含有する溶液に光を照射して光重合性モノマーを光重合させることにより、可塑剤を含有する樹脂フィルムが得られる。このような樹脂フィルムでは、樹脂フィルムが可塑剤を含有することにより、ミクロ相分離構造を保持し易いと共に、フィルムの力学的特性（例えば曲げ変形性能）を向上させることができる。また、上記樹脂フィルムでは、光重合性モノマーの光重合によってブロック共重合体の３次元架橋が進行していることにより、可塑剤を溶解可溶な溶媒を樹脂フィルムに接触させる場合であっても、樹脂フィルムが変形することが抑制されている。 In the method for producing a microphase-separated structure film according to this embodiment, a photopolymerizable monomer is photopolymerized by irradiating light to a solution containing a block copolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and a plasticizer. By making it, the resin film containing a plasticizer is obtained. In such a resin film, since the resin film contains a plasticizer, it is easy to maintain a microphase separation structure, and mechanical properties (for example, bending deformation performance) of the film can be improved. Moreover, in the said resin film, even if it is a case where the solvent which melt | dissolves a plasticizer and a resin film is made to contact by the three-dimensional bridge | crosslinking of a block copolymer progressing by photopolymerization of a photopolymerizable monomer. The deformation of the resin film is suppressed.
そして、本実施形態では、上述のとおり、空孔１７がミクロドメイン１５ｂよりもミクロドメイン１５ａに選択的に形成されたフィルム１０が得られる。このようなフィルム１０は、空孔１７が形成されていない状態に比してミクロドメイン１５ａの屈折率は小さくなる傾向があり、ミクロドメイン１５ａ及びミクロドメイン１５ｂの屈性率差を容易に大きくすることができる。したがって、フィルム１０では、優れた光学特性を有するフィルム１０を容易に得ることができる。 And in this embodiment, as above-mentioned, the film 10 in which the void | hole 17 was selectively formed in the micro domain 15a rather than the micro domain 15b is obtained. In such a film 10, the refractive index of the microdomain 15 a tends to be smaller than that in the state where the pores 17 are not formed, and the difference in refractive index between the microdomain 15 a and the microdomain 15 b is easily increased. be able to. Therefore, in the film 10, the film 10 having excellent optical characteristics can be easily obtained.
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to this.
＜構造発色フィルムの作製＞
（実施例１）
ブロック共重合体として、ポリスチレン−ｂ−ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）（ＰＳ−ｂ−Ｐ（ｔ−ＢｕＭＡ）、重量平均分子量１．８×１０６［ｇ/ｍｏｌ］、組成ＰＳ：Ｐ（ｔ−ＢｕＭＡ）＝４９：５１［ｖｏｌ％］）を真空下リビングアニオン重合により合成した。次に、光重合性モノマーである１，６−ヘキサンジオールアクリレート（別名「１，６−ビス（アクリロイルオキシ）ヘキサン」）と、可塑剤であるフタル酸ジオクチルとを質量比７０：３０で含有する混合溶媒に、上記ブロック共重合体を混合物の全質量基準で１０．０質量％となるように溶解させて混合物を得た。また、１，６−ヘキサンジオールアクリレートの含有量に対して０．３質量％となるように、光重合開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を混合物に添加してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液には、ラメラ状のブロック共重合体ミクロ相分離構造が形成されており、ポリマー溶液は、ミクロ相分離構造の周期構造に起因した構造発色を呈していた。
<Production of structural coloring film>
Example 1
As a block copolymer, polystyrene-b-poly (tert-butyl methacrylate) (PS-bP (t-BuMA), weight average molecular weight 1.8 × 10 6 [g / mol], composition PS: P (t -BuMA) = 49: 51 [vol%]) was synthesized by living anionic polymerization under vacuum. Next, 1,6-hexanediol acrylate (also known as “1,6-bis (acryloyloxy) hexane”), which is a photopolymerizable monomer, and dioctyl phthalate, which is a plasticizer, are contained at a mass ratio of 70:30. The block copolymer was dissolved in a mixed solvent so as to be 10.0% by mass based on the total mass of the mixture to obtain a mixture. Further, IRGACURE651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator is added to the mixture so as to be 0.3% by mass with respect to the content of 1,6-hexanediol acrylate to obtain a polymer solution. It was. A lamellar block copolymer microphase separation structure was formed in this polymer solution, and the polymer solution exhibited a structural color due to the periodic structure of the microphase separation structure.
厚さ０．０８ｍｍ、開口部内径４０ｍｍのリング状スペーサを円形の石英ガラス板（直径５０ｍｍ、厚さ１．０ｍｍ）の主面上に配置した後、上記ポリマー溶液をスペーサの開口部内に滴下した。続いて、上記と同様の円形の石英ガラス板をスペーサ上に配置し、ポリマー溶液を石英ガラス板で上下に挟み、円形の膜状に展開させた。 A ring-shaped spacer having a thickness of 0.08 mm and an opening inner diameter of 40 mm was placed on the main surface of a circular quartz glass plate (diameter 50 mm, thickness 1.0 mm), and then the polymer solution was dropped into the spacer opening. . Subsequently, a circular quartz glass plate similar to the above was placed on the spacer, and the polymer solution was sandwiched between the quartz glass plates up and down to be developed into a circular film shape.
その後、５分間紫外線をポリマー溶液に照射（１２００μＷ／ｃｍ２）してポリマー溶液を硬化させ、可塑剤を含有したミクロ相分離構造を有する樹脂フィルムを得た。 Thereafter, the polymer solution was cured by irradiating the polymer solution with ultraviolet rays for 5 minutes (1200 μW / cm 2 ) to obtain a resin film having a microphase separation structure containing a plasticizer.
可塑剤を含有する樹脂フィルムをメタノール（溶媒）に浸漬し、１５時間放置してフィルム中の可塑剤を溶出させた。その後、フィルムを溶媒から取り出し、ブロワーで溶媒を乾燥させて構造発色フィルムを得た。 The resin film containing the plasticizer was immersed in methanol (solvent) and allowed to stand for 15 hours to elute the plasticizer in the film. Thereafter, the film was taken out from the solvent, and the solvent was dried with a blower to obtain a structural color film.
乾燥後、メタノール処理したフィルムに強いミラー状の金属光沢が観察された。フィルムは、光重合性モノマーの３次元的な架橋により固定化されているため、フィルムが溶媒に溶解する等の大きな形状変化は確認されなかった。浸漬前後の質量比較から、フィルム中に含有していた可塑剤分の質量減少が観察され、可塑剤溶出が確認された。また、体積収縮も観察された。構造発色フィルムの厚さは０．０７５ｍｍであった。 After drying, a strong mirror-like metallic luster was observed on the methanol-treated film. Since the film was fixed by three-dimensional cross-linking of the photopolymerizable monomer, no significant change in shape such as dissolution of the film in the solvent was confirmed. From the mass comparison before and after the immersion, a decrease in mass of the plasticizer contained in the film was observed, and plasticizer elution was confirmed. Volume shrinkage was also observed. The thickness of the structural color film was 0.075 mm.
（実施例２）
まず、実施例１と同様の手法により樹脂フィルムを得た。次に、メタノールに代えてエタノールを用いた点を除いて実施例１と同様の手法により溶媒処理（可塑剤溶出処理）を樹脂フィルムに施し、構造発色フィルムを得た。
(Example 2)
First, a resin film was obtained by the same method as in Example 1. Next, a solvent treatment (plasticizer elution treatment) was applied to the resin film by the same method as in Example 1 except that ethanol was used in place of methanol to obtain a structural color film.
エタノール処理したフィルムに強いミラー状の金属光沢が観察された。フィルムが溶媒に溶解する等の大きな形状変化は確認されなかった。フィルム中に含有していた可塑剤分の質量減少が観察され、可塑剤溶出が確認された。また、体積収縮も観察された。構造発色フィルムの厚さは０．０７５ｍｍであった。 A strong mirror-like metallic luster was observed on the ethanol-treated film. A large shape change such as dissolution of the film in the solvent was not confirmed. A decrease in the mass of the plasticizer contained in the film was observed, and plasticizer elution was confirmed. Volume shrinkage was also observed. The thickness of the structural color film was 0.075 mm.
（実施例３）
まず、実施例１と同様の手法により樹脂フィルムを得た。次に、メタノールに代えてｔｅｒｔ−ブチルアルコールを用いた点を除いて実施例１と同様の手法により溶媒処理を樹脂フィルムに施し、構造発色フィルムを得た。
(Example 3)
First, a resin film was obtained by the same method as in Example 1. Next, a solvent treatment was applied to the resin film by the same method as in Example 1 except that tert-butyl alcohol was used instead of methanol to obtain a structural color film.
ｔｅｒｔ−ブチルアルコール処理したフィルムに強いミラー状の金属光沢が観察された。フィルムが溶媒に溶解する等の大きな形状変化は確認されなかった。フィルム中に含有していた可塑剤分の質量減少が観察され、可塑剤溶出が確認された。また、体積収縮も観察された。構造発色フィルムの厚さは０．０７５ｍｍであった。 A strong mirror-like metallic luster was observed on the film treated with tert-butyl alcohol. A large shape change such as dissolution of the film in the solvent was not confirmed. A decrease in the mass of the plasticizer contained in the film was observed, and plasticizer elution was confirmed. Volume shrinkage was also observed. The thickness of the structural color film was 0.075 mm.
（比較例１）
まず、実施例１と同様の手法により樹脂フィルムを得た。樹脂フィルムに対して溶媒処理を施すことなく、樹脂フィルムを構造発色フィルムとして準備した。構造発色フィルムには、強いミラー状の金属光沢が観察されなかった。
(Comparative Example 1)
First, a resin film was obtained by the same method as in Example 1. The resin film was prepared as a structural color film without subjecting the resin film to solvent treatment. No strong mirror-like metallic luster was observed in the structural coloring film.
（比較例２）
まず、実施例１と同様の手法により樹脂フィルムを得た。次に、メタノールに代えてｎ−ヘキサンを用いた点を除いて実施例１と同様の手法により溶媒処理を樹脂フィルムに施し、構造発色フィルムを得た。構造発色フィルムには、強いミラー状の金属光沢が観察されなかった。
(Comparative Example 2)
First, a resin film was obtained by the same method as in Example 1. Next, a solvent treatment was applied to the resin film in the same manner as in Example 1 except that n-hexane was used in place of methanol to obtain a structural color film. No strong mirror-like metallic luster was observed in the structural coloring film.
（比較例３）
まず、実施例１と同様の手法により樹脂フィルムを得た。次に、メタノールに代えてアセトンを用いた点を除いて実施例１と同様の手法により溶媒処理を樹脂フィルムに施し、構造発色フィルムを得た。構造発色フィルムには、強いミラー状の金属光沢が観察されなかった。
(Comparative Example 3)
First, a resin film was obtained by the same method as in Example 1. Next, a solvent treatment was applied to the resin film by the same method as in Example 1 except that acetone was used instead of methanol to obtain a structural color film. No strong mirror-like metallic luster was observed in the structural coloring film.
（比較例４）
まず、実施例１と同様の手法により樹脂フィルムを得た。次に、メタノールに代えてテトラヒドロフランを用いた点を除いて実施例１と同様の手法により溶媒処理を樹脂フィルムに施し、構造発色フィルムを得た。構造発色フィルムには、強いミラー状の金属光沢が観察されなかった。
(Comparative Example 4)
First, a resin film was obtained by the same method as in Example 1. Next, a solvent treatment was applied to the resin film in the same manner as in Example 1 except that tetrahydrofuran was used in place of methanol to obtain a structural color film. No strong mirror-like metallic luster was observed in the structural coloring film.
＜構造観察＞
溶媒処理後における構造発色フィルムの断面の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察結果を図２，３に示す。図２は、実施例１〜３の構造発色フィルムのＳＥＭ写真であり、図３は、比較例２〜４の構造発色フィルムのＳＥＭ写真である。
<Structural observation>
The scanning electron microscope (SEM) observation result of the cross section of the structural coloring film after the solvent treatment is shown in FIGS. FIG. 2 is an SEM photograph of the structural color films of Examples 1 to 3, and FIG. 3 is an SEM photograph of the structural color films of Comparative Examples 2 to 4.
溶媒処理により構造発色フィルムに多数の空孔が形成されていることが観察された。ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート）に対する相溶性がポリスチレンに対する相溶性に比して高い溶媒を用いた実施例１〜３では、３次元架橋により保持されたミクロ相分離構造の片側のミクロドメインに選択的に空孔が形成されていることが観察された（図２）。いずれのポリマー鎖に対しても十分な相溶性を有していない比較例２では、ミクロ相分離構造の片側のミクロドメインに選択的に空孔が形成されていることが観察されなかった。また、ポリマー鎖に対する相溶性がそれぞれのポリマー鎖について同等である比較例３および４についても、ミクロ相分離構造の片側のミクロドメインに選択的に空孔が形成されていることが観察されなかった。 It was observed that a large number of pores were formed in the structural coloring film by the solvent treatment. In Examples 1 to 3 using a solvent having higher compatibility with poly (tert-butyl methacrylate) than that with polystyrene, it was selective for one side microdomain of the microphase separation structure retained by three-dimensional crosslinking. It was observed that pores were formed in (Fig. 2). In Comparative Example 2 which does not have sufficient compatibility with any polymer chain, it was not observed that pores were selectively formed in one microdomain of the microphase separation structure. Further, in Comparative Examples 3 and 4 in which the compatibility with the polymer chain is the same for each polymer chain, it was not observed that vacancies were selectively formed in one microdomain of the microphase separation structure. .
＜光学特性評価＞
マルチチャンネル分光測光ＰＭＡ−１２（浜松ホトニクス社製）を用いて、構造発色フィルムの反射分光スペクトルを測定した。図４は、構造発色フィルムの反射分光スペクトルを示す図である。溶媒処理によって、フィルムは僅かに収縮するため、反射波長の低波長側へのシフトが観察された。反射率は、実施例１〜３において大幅に増大していることが確認された。実施例１〜３では、ミクロ相分離構造におけるミクロドメインの片側成分のみに選択的に空孔が形成されているため、屈折率周期構造の屈折率差が増大して、反射率が増大したものと推測される。一方、比較例１〜４では、反射率は小さいものであり、溶媒処理を施しても反射率に大きな変化は観察されなかった。
<Optical characteristic evaluation>
Using a multi-channel spectrophotometric PMA-12 (manufactured by Hamamatsu Photonics), the reflection spectral spectrum of the structural color film was measured. FIG. 4 is a diagram showing a reflection spectrum of the structural color film. The film was slightly shrunk by the solvent treatment, and a shift of the reflection wavelength toward the lower wavelength side was observed. It was confirmed that the reflectance was significantly increased in Examples 1 to 3. In Examples 1 to 3, since pores are selectively formed only in one side component of the micro domain in the micro phase separation structure, the refractive index difference of the refractive index periodic structure is increased, and the reflectance is increased. It is guessed. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 4, the reflectance was small, and no significant change was observed in the reflectance even when the solvent treatment was performed.
１０…ミクロ相分離構造体フィルム、１３…ミクロ相分離構造、１５，１５ａ，１５ｂ…ミクロドメイン、１７…空孔。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Micro phase-separation structure film, 13 ... Micro phase-separation structure, 15, 15a, 15b ... Micro domain, 17 ... Hole.
Claims (6)
ブロック共重合体、光重合性モノマー、光重合開始剤及び可塑剤を含有する溶液に光を照射し前記光重合性モノマーを光重合させて樹脂フィルムを得る工程と、
前記可塑剤を溶解可溶な溶媒を前記樹脂フィルムに染み込ませて前記可塑剤を前記樹脂フィルムから除去する工程と、
前記溶媒を前記樹脂フィルムから除去して前記ミクロ相分離構造体フィルムを得る工程と、を備え、
前記ブロック共重合体が、第１のポリマー鎖及び第２のポリマー鎖を有し、
前記樹脂フィルムが、前記第１のポリマー鎖を含有する第１のミクロドメインと、前記第２のポリマー鎖を含有する第２のミクロドメインと、を含むミクロ相分離構造を有し、
前記第１のポリマー鎖に対する前記溶媒の相溶性が、前記第２のポリマー鎖に対する前記溶媒の相溶性よりも高く、
前記空孔が前記第２のミクロドメインよりも前記第１のミクロドメインに選択的に形成される、ミクロ相分離構造体フィルムの製造方法。 A method for producing a microphase-separated structure film having microdomains in which pores are selectively formed,
Irradiating a solution containing a block copolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator and a plasticizer with light to photopolymerize the photopolymerizable monomer to obtain a resin film;
Soaking a solvent soluble in the plasticizer in the resin film and removing the plasticizer from the resin film;
Removing the solvent from the resin film to obtain the microphase-separated structure film, and
The block copolymer has a first polymer chain and a second polymer chain;
The resin film has a microphase separation structure including a first microdomain containing the first polymer chain and a second microdomain containing the second polymer chain,
The solvent compatibility with the first polymer chain is higher than the solvent compatibility with the second polymer chain;
A method for producing a microphase-separated structure film, wherein the pores are selectively formed in the first microdomain rather than the second microdomain.
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