JP5748397B2 - Organic EL device - Google Patents

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Description

本発明は、有機EL装置に関する。   The present invention relates to an organic EL device.

有機EL装置は、高輝度、低消費電力などの特性を有するので、たとえば、照明デバイス、ディスプレイ用バックライトなどに使用されている。
有機EL装置は、たとえば、透明なガラス基板と、ガラス基板上に設けられた透明アノード電極と、透明アノード電極に対向配置されたカソード電極と、透明アノード電極とカソード電極との間に介在された有機EL層とを備えている。透明アノード電極、有機EL層およびカソード電極により構成される積層構造は、有機EL装置において光を生成する有機EL素子である。
The organic EL device has characteristics such as high luminance and low power consumption, and is used for, for example, a lighting device and a backlight for a display.
The organic EL device is, for example, interposed between a transparent glass substrate, a transparent anode electrode provided on the glass substrate, a cathode electrode disposed opposite to the transparent anode electrode, and the transparent anode electrode and the cathode electrode. And an organic EL layer. A laminated structure composed of a transparent anode electrode, an organic EL layer, and a cathode electrode is an organic EL element that generates light in an organic EL device.

透明アノード電極−カソード電極間に電圧が印加されると、透明アノード電極から正孔が、カソード電極から電子が、有機化合物層中にそれぞれ注入される。これによって、電子と正孔とが有機EL層の発光層で再結合し、光が生成される。こうして、有機EL素子が発光する。   When a voltage is applied between the transparent anode electrode and the cathode electrode, holes are injected from the transparent anode electrode and electrons are injected from the cathode electrode into the organic compound layer. Thereby, electrons and holes are recombined in the light emitting layer of the organic EL layer, and light is generated. Thus, the organic EL element emits light.

特開2003−17245号公報JP 2003-17245 A

近年、有機EL装置の用途を拡大すべく、有機EL素子の大面積化および高輝度化が要望されている。その対策として、たとえば、透明アノード電極−カソード電極間に、より高い電圧を印加して印加電流を大きくし、有機EL素子の輝度を向上させることが考えられる。
しかし、印加電流が大きくなると、各電極での単位面積当たりの電圧降下が大きくなる。そのため、各電極においては、その給電箇所での電圧と、給電箇所から離れた位置での電圧との差が大きくなる。その結果、有機EL層に対する正孔や電子の供給ムラが生じ、有機EL素子の発光領域における輝度のバラツキが大きくなるという不具合がある。
In recent years, there has been a demand for an organic EL element having a large area and high brightness in order to expand the application of the organic EL device. As a countermeasure, for example, it is conceivable to apply a higher voltage between the transparent anode electrode and the cathode electrode to increase the applied current and improve the luminance of the organic EL element.
However, as the applied current increases, the voltage drop per unit area at each electrode increases. Therefore, in each electrode, the difference between the voltage at the feeding point and the voltage at a position away from the feeding point becomes large. As a result, there is a problem that uneven supply of holes and electrons to the organic EL layer occurs, resulting in large variations in luminance in the light emitting region of the organic EL element.

このような不具合に対して、電極の厚さを大きくすることによって、電極の単位面積当たりの抵抗を下げることが考えられる。ところが、電極の厚さが大きくなると、有機EL素子のフレキシブル性が低下するなど、別の不具合が発生する。また、透明アノード電極の厚さが大きくなると、光の透過率が低下するといった不具合もある。
本発明の目的は、有機EL素子のフレキシブル性などの特性の低下を抑制しつつ、有機EL素子の発光領域内における輝度のバラツキを抑制することができる有機EL装置を提供することにある。
To cope with such a problem, it is conceivable to reduce the resistance per unit area of the electrode by increasing the thickness of the electrode. However, when the thickness of the electrode is increased, another problem such as a decrease in the flexibility of the organic EL element occurs. Further, when the thickness of the transparent anode electrode is increased, there is a problem that the light transmittance is lowered.
The objective of this invention is providing the organic EL apparatus which can suppress the variation in the brightness | luminance in the light emission area | region of an organic EL element, suppressing the fall of characteristics, such as flexibility of an organic EL element.

上記目的を達成するための請求項1記載の発明は、第1基板と、平面視矩形状の第1電極、前記第1電極に対向配置された平面視矩形状の第2電極、および前記第1電極と前記第2電極との間に介在された有機化合物層を有し、前記第1基板上に設けられた有機EL素子と、前記第1基板上に設けられ、前記有機EL素子を覆うことにより前記有機EL素子を封止する導電封止層と、前記第1基板上に設けられ、前記第1電極および前記第2電極にそれぞれ接続される第1端子および第2端子とを含み、前記第1電極は、前記第2電極の抵抗よりもシート抵抗が大きい電極膜であって、平面視で前記有機化合物層の外周の外側に露出する前記第1電極の周縁部の形状が、前記第2端子側が開放された平面視コ字状であり、前記第2電極は、前記第1電極の前記周縁部で取り囲まれていない一辺側から外側に引き出されることで、前記第2端子が形成され、前記導電封止層は、前記第1基板の厚さ方向に間隔を空けて前記有機EL素子に対向配置され、平面視で前記有機EL素子を覆う導電性のキャップ部と、前記導電性のキャップ部の前記第1基板側の面上に設けられ、前記第2端子に対応する部分を除いて前記有機EL素子の周囲を取り囲む平面視略四角環状に形成された導電性のシール部とから構成された第1領域を有し、前記導電性のシール部は、前記第1電極の周縁部と平面視コ字状に線状に接触して電気的に接続されるとともに、前記第1端子と接触して電気的に接続され、前記第1基板および前記導電封止層により形成され、前記有機EL素子を収容する中空部分には、絶縁体が充填されることにより絶縁層が形成されている、有機EL装置である。 The invention of claim 1, wherein in order to achieve the above object, a first substrate, a rectangular shape in plan view a first electrode, the first electrode to the oppositely disposed rectangular in plan view of the second electrode, and the first An organic compound layer interposed between one electrode and the second electrode, the organic EL element provided on the first substrate, and the organic EL element provided on the first substrate and covering the organic EL element A conductive sealing layer for sealing the organic EL element, and a first terminal and a second terminal provided on the first substrate and connected to the first electrode and the second electrode, respectively . The first electrode is an electrode film having a sheet resistance larger than the resistance of the second electrode, and the shape of the peripheral portion of the first electrode exposed outside the outer periphery of the organic compound layer in a plan view is a U-shaped plan configuration in which the second terminal side is opened, the second electrode, prior to By outwardly extends from one side end which is not surrounded by the peripheral portion of the first electrode, the second terminal is formed, the conductive sealing layer is spaced in the thickness direction of the first substrate A conductive cap portion disposed opposite to the organic EL element and covering the organic EL element in plan view, and provided on the surface of the conductive cap portion on the first substrate side, corresponding to the second terminal And a conductive seal portion formed in a substantially square annular shape in plan view surrounding the periphery of the organic EL element except for the portion to be formed, and the conductive seal portion includes the first seal portion. In contact with the peripheral portion of the electrode in a line shape in a U shape in plan view, and electrically connected to the first terminal, the first substrate and the conductive sealing layer In the formed hollow portion for accommodating the organic EL element Insulator insulating layer is formed by being filled, an organic EL device.

この構成によれば、第1電極に対して電気的なコンタクトを形成するための電極として、有機EL素子を覆うことにより有機EL素子を封止する導電封止層を利用することができる。導電封止層は、有機EL素子を覆うように大きな面積に形成されているので、第1電極に対して大きな面積で接続することができる。これにより、導電封止層が接続された第1電極において、等電位部分の面積を大きくすることができる。 According to this configuration, it can be used as an electrode for forming an electrical contact for the first electrodes, the conductive sealing layer for sealing the organic EL element by covering the organic EL element. Conductive sealing layer and is formed in a large area so as to cover the organic EL element can be connected with a large area for the first electrodes. Thus, Oite the first electrodes to the conductive sealing layer is connected, it is possible to the area of the equipotential portions increased.

その結果、第1電極の厚さを大きくしなくても、有機化合物層に対する電子および正孔の供給ムラを低減することができる。そのため、有機EL素子のフレキシブル性などの特性の低下を抑制しつつ、有機EL素子の発光領域における輝度のバラツキを抑制することができる。よって、有機EL素子の大面積化および高輝度化を図ることができる。 As a result, without increasing the thickness of the first electrodes, it is possible to reduce the supply unevenness of electrons and holes to the organic compound layer. Therefore, it is possible to suppress variation in luminance in the light emitting region of the organic EL element while suppressing deterioration in characteristics such as flexibility of the organic EL element. Therefore, the organic EL element can be increased in area and brightness.

また、有機EL素子が導電封止層により封止されているので、酸素や水分などによる有機EL素子の劣化を抑制することができる。
換言すれば、有機EL素子(とくに有機化合物層)への酸素または水分の侵入を抑制する導電封止層が、第1電極への給電のために兼用されている。これにより、有機EL素子の特性劣化の抑制と、輝度ムラの低減とが同時に達成される。
Moreover, since the organic EL element is sealed with the conductive sealing layer, it is possible to suppress the deterioration of the organic EL element due to oxygen, moisture, or the like.
In other words, the organic EL device (particularly an organic compound layer) oxygen or moisture inhibiting conductive sealing layer intrusion into, are also used for feeding to the first electrodes. Thereby, suppression of characteristic deterioration of the organic EL element and reduction of luminance unevenness are simultaneously achieved.

第1電極および/または第2電極の発光領域における電位ムラを抑制する方策として、たとえば、第1電極および第2電極の外周に沿って補助配線を設け、当該補助配線を第1電極および第2電極の外周縁に接触させることが考えられるかも知れない。しかし、このような方策では、第1電極および第2電極の外側に補助配線を設置するためのスペースが必要となる。そのため、有機EL素子が複雑化・大型化するという不具合を生じる。また、補助配線の抵抗を維持したまま電極外方への補助配線のはみ出し量をできる限り低減するために、補助配線の厚さを大きくすることが考えられるかも知れない。しかし、そうすると、有機EL素子のフレキシブル性が低下する。   As a measure for suppressing potential unevenness in the light emitting region of the first electrode and / or the second electrode, for example, an auxiliary wiring is provided along the outer periphery of the first electrode and the second electrode, and the auxiliary wiring is connected to the first electrode and the second electrode. It may be considered to contact the outer periphery of the electrode. However, such a measure requires a space for installing the auxiliary wiring outside the first electrode and the second electrode. For this reason, there arises a problem that the organic EL element becomes complicated and large. Further, it may be considered to increase the thickness of the auxiliary wiring in order to reduce the protruding amount of the auxiliary wiring to the outside of the electrode as much as possible while maintaining the resistance of the auxiliary wiring. However, when it does so, the flexibility of an organic EL element will fall.

これに対し、請求項1に記載の有機EL装置によれば、有機EL素子を封止するための導電封止層を利用して、第1電極に対する電気的なコンタクトが形成される。この場合、電気的なコンタクトを形成するためのスペースは、第1電極の外周に補助配線を設ける場合よりも、小さくて済む。その結果、有機EL素子の簡素化および薄型化を図ることができる。 In contrast, according to the organic EL device according to claim 1, using a conductive sealing layer for sealing the organic EL element, electrical contacts against the first electrodes are formed. In this case, space for forming the electrical contacts than the case of providing the auxiliary wiring to the outer periphery of the first electrodes, small. As a result, the organic EL element can be simplified and thinned.

また、導電封止層が、第2電極の抵抗よりもシート抵抗が大きい電極膜(第1電極)に接続されている。そのため、より効果的に、有機化合物層に対する電子または正孔の供給ムラを低減することができる。 The conductive sealing layer is connected to an electrode film (first electrode) having a sheet resistance larger than that of the second electrode. Therefore, the uneven supply of electrons or holes to the organic compound layer can be reduced more effectively.

また、導電封止層の導電性のシール部が、第1電極の周縁部と平面視コ字状に線状に接触するため、第1電極における周縁部に囲まれる中央部に、光を取り出すための面積を十分確保することができる。そのため、有機EL素子の光取出効率の低下を抑制しつつ、第1電極に対して導電封止層を大きな面積で接触させることができる。さらには、この線状接続部(導電性のシール部)が有機EL素子の側面から封止することにより、酸素や水分の侵入をより効果的に抑制することができる。 In addition, since the conductive seal portion of the conductive sealing layer is in linear contact with the peripheral portion of the first electrode in a U shape in plan view , light is extracted to the central portion surrounded by the peripheral portion of the first electrode. Therefore, a sufficient area can be secured. Therefore, the conductive sealing layer can be brought into contact with the first electrode in a large area while suppressing a decrease in light extraction efficiency of the organic EL element. Furthermore, the intrusion of oxygen and moisture can be more effectively suppressed by sealing the linear connection portion ( conductive seal portion ) from the side surface of the organic EL element.

なお、前記導電性のシール部は、第1電極の周縁部に沿って、所定の間隔を空けて複数設けられていてもよい。
また、請求項2記載の発明は、前記導電封止層は、前記第2端子に対応する部分に設けられ、前記第1領域から絶縁分離されるとともに前記第2電極に電気的に接続された第2領域を有している、請求項1に記載の有機EL装置である。
また、請求項3記載の発明は、前記導電封止層を支持する絶縁性の第2基板をさらに含む、請求項1または2に記載の有機EL装置である。
Note that a plurality of the conductive seal portions may be provided along the peripheral portion of the first electrode with a predetermined interval.
According to a second aspect of the present invention, the conductive sealing layer is provided at a portion corresponding to the second terminal, is insulated and separated from the first region, and is electrically connected to the second electrode. The organic EL device according to claim 1, wherein the organic EL device has a second region.
The invention according to claim 3 is the organic EL device according to claim 1 or 2, further comprising an insulating second substrate that supports the conductive sealing layer.

この構成では、第1領域および第2領域が絶縁性の第2基板に支持されているので、第1電極および第2電極に接続される2つの導電領域を、1つの第2基板に集約することができる。そのため、有機EL素子の構造を簡素化することができる。このような第1領域および第2領域は、たとえば、導電膜付きの絶縁性基板(銅箔付きポリイミド基板など)の導電膜を予めパターニングすることにより、簡単に形成することができる。   In this configuration, since the first region and the second region are supported by the insulating second substrate, the two conductive regions connected to the first electrode and the second electrode are integrated into one second substrate. be able to. Therefore, the structure of the organic EL element can be simplified. Such a 1st area | region and a 2nd area | region can be easily formed, for example by patterning the electrically conductive film of an insulating board | substrate with a electrically conductive film (such as a polyimide board with a copper foil) beforehand.

また、前記導電封止層は、前記有機EL素子を挟んで前記第1基板に対向する導電層と、前記導電層と前記第1電極の前記周縁部との間に介在された導電バンプとを含んでいてもよい
この構成では、導電封止層が導電層と導電バンプとを有している。導電封止層を第1電極の周縁部に電気的に接続する際には、まず、第1電極の周縁部における所定位置に導電バンプを形成し、その後、導電バンプに導電層を接触させればよい。すなわち、第1電極の周縁部に対する導電バンプの位置合わせによって、第1電極の周縁部に対する導電封止層のコンタクト位置が決定する。導電バンプは、たとえば、めっき法、転写法など、従来知られているバンプ形成技術により作製することができる。したがって、第1電極の周縁部に対する導電封止層の電気的なコンタクトを簡単に形成することができ、さらには、コンタクト位置を精密に制御することもできる。
The front Kishirubeden sealing layer includes a conductive layer facing the first substrate across the organic EL device, a conductive bump that is interposed between the peripheral edge portion of the first electrode and the conductive layer the may be including Ndei.
In this configuration, the conductive sealing layer has a conductive layer and a conductive bump. When electrically connecting the conductive sealing layer to the peripheral portion of the first electrode, first, a conductive bump is formed at a predetermined position on the peripheral portion of the first electrode, and then the conductive layer is brought into contact with the conductive bump. That's fine. That is, the contact position of the conductive sealing layer with respect to the peripheral portion of the first electrode is determined by the alignment of the conductive bump with respect to the peripheral portion of the first electrode. The conductive bump can be manufactured by a conventionally known bump forming technique such as a plating method or a transfer method. Therefore, the electrical contact of the conductive sealing layer with respect to the peripheral portion of the first electrode can be easily formed, and further, the contact position can be precisely controlled.

また、請求項記載の発明は、前記導電性のシール部は、樹脂材料からなるコアと、前記コアを被覆する導電被覆膜とからなる導電バンプである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機EL装置である。
この構成では、導電バンプの全体が導電材料ではなく、そのコアが樹脂材料であるため、導電材料の使用量を低減することができる。その結果、コストを低減することができる。また、樹脂材料が、たとえば、熱硬化性樹脂であれば、有機EL素子が発熱しても軟化し難いので、有機EL素子の曲げ耐性を向上させることができる。
Moreover, the invention according to claim 4 is the conductive bump according to any one of claims 1 to 3 , wherein the conductive seal portion is a conductive bump including a core made of a resin material and a conductive coating film covering the core . The organic EL device according to one item .
In this configuration, since the entire conductive bump is not a conductive material and its core is a resin material, the amount of conductive material used can be reduced. As a result, cost can be reduced. Further, if the resin material is, for example, a thermosetting resin, it is difficult to soften even if the organic EL element generates heat, so that the bending resistance of the organic EL element can be improved.

また、請求項記載の発明は、前記導電封止層および前記有機EL素子の少なくとも一方を被覆するバリア層をさらに含む、請求項1〜のいずれか一項に記載の有機EL装置である。
この構成では、導電封止層および有機EL素子の少なくとも一方がバリア層により被覆されているので、酸素や水分などによる有機EL素子の劣化を一層抑制することができる。
Moreover, invention of Claim 5 is an organic EL apparatus as described in any one of Claims 1-4 which further contains the barrier layer which coat | covers at least one of the said electroconductive sealing layer and the said organic EL element. .
In this configuration, since at least one of the conductive sealing layer and the organic EL element is covered with the barrier layer, deterioration of the organic EL element due to oxygen, moisture, or the like can be further suppressed.

また、請求項記載の発明は、前記第1基板がフレキシブル性を有する、請求項1〜のいずれか一項に記載の有機EL装置である。
この構成では、第1基板がフレキシブル性を有するので、たとえば、フレキシブル性が要求される各種工業製品に好適に使用することができる。なお、有機EL装置が前記第2基板を備える場合には、第1基板および第2基板の両方がフレキシブル性を有することが好適である。
また、請求項7記載の発明は、前記第1端子は、前記第2端子を挟むように配置された一対の端子であり、前記一対の第1端子は、平面視コ字状の前記周縁部の互いに対向する一対の辺の延長線上に配置されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載の有機EL装置である。
また、請求項記載の発明は、前記導電封止層は、前記一対の第1端子および前記第2端子の端部を露出させるように形成されている、請求項に記載の有機EL装置である。
請求項記載の発明は、前記第1電極が、透明電極材料からなる電極膜からなり、
前記第2電極が、金属材料からなる電極膜からなる、請求項1〜のいずれか一項に記載の有機EL装置である。
請求項10記載の発明は、前記第1基板が、透明基板からなり、前記第1電極が、前記第1基板の上面に形成されている、請求項に記載の有機EL装置である。
請求項11記載の発明は、前記第1電極が、アノード電極であり、前記第2電極が、カソード電極である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の有機EL装置である。
Moreover, invention of Claim 6 is an organic electroluminescent apparatus as described in any one of Claims 1-5 with which the said 1st board | substrate has flexibility.
In this configuration, since the first substrate has flexibility, it can be suitably used for various industrial products that require flexibility, for example. In the case where the organic EL device includes the second substrate, it is preferable that both the first substrate and the second substrate have flexibility.
According to a seventh aspect of the present invention, the first terminal is a pair of terminals disposed so as to sandwich the second terminal, and the pair of first terminals is a U-shaped peripheral portion in plan view. The organic EL device according to claim 1, which is disposed on an extension line of a pair of sides facing each other.
The invention according to claim 8 is the organic EL device according to claim 7 , wherein the conductive sealing layer is formed so as to expose end portions of the pair of first terminals and the second terminals. It is.
The invention according to claim 9 is that the first electrode is made of an electrode film made of a transparent electrode material,
The second electrode is made of the electrode film made of a metal material, an organic EL device according to any one of claims 1-8.
The invention according to claim 10 is the organic EL device according to claim 9 , wherein the first substrate is formed of a transparent substrate, and the first electrode is formed on an upper surface of the first substrate.
The invention according to claim 11 is the organic EL device according to any one of claims 1 to 10 , wherein the first electrode is an anode electrode and the second electrode is a cathode electrode.

図1は、本発明の第1実施形態に係る有機EL装置の模式的な平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view of an organic EL device according to the first embodiment of the present invention. 図2(a)(b)(c)は、図1の有機EL装置の断面図であり、図2(a)は切断線IIa−IIaでの切断面、図2(b)は切断線IIb−IIbでの切断面、図2(c)は切断線IIc−IIcでの切断面をそれぞれ示す。2A, 2B, and 2C are cross-sectional views of the organic EL device of FIG. 1, in which FIG. 2A is a cut surface taken along a cutting line IIa-IIa, and FIG. 2B is a cutting line IIb. FIG. 2C shows a cut surface taken along the cutting line IIc-IIc. 図3(a)〜(e)は、図1および図2に示す有機EL装置の製造方法を工程順に示す図である。3A to 3E are views showing the method of manufacturing the organic EL device shown in FIGS. 1 and 2 in the order of steps. 図4は、本発明の第2実施形態に係る有機EL装置の模式的な平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view of an organic EL device according to the second embodiment of the present invention. 図5(a)(b)(c)は、図4の有機EL装置の断面図であり、図5(a)は切断線Va−Vaでの切断面、図5(b)は切断線Vb−Vbでの切断面、図5(c)は切断線Vc−Vcでの切断面をそれぞれ示す。5A, 5B, and 5C are cross-sectional views of the organic EL device of FIG. 4, in which FIG. 5A is a cut surface taken along the cutting line Va-Va, and FIG. 5B is a cutting line Vb. FIG. 5C shows a cut surface taken along the cutting line Vc-Vc. 図6(a)〜(e)は、図3および図4に示す有機EL装置の製造方法を工程順に示す図である。6A to 6E are views showing the method of manufacturing the organic EL device shown in FIGS. 3 and 4 in the order of steps. 図7は、第1実施形態の有機EL装置の第1変形例を示す図であって、図2(a)に対応する断面図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a first modification of the organic EL device according to the first embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG. 図8は、第1実施形態の有機EL装置の第2変形例を示す図であって、図2(a)に対応する断面図である。FIG. 8 is a view showing a second modification of the organic EL device of the first embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG. 図9は、第1実施形態の有機EL装置の第3変形例を示す図であって、図2(a)に対応する断面図である。FIG. 9 is a view showing a third modification of the organic EL device of the first embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG. 図10は、第1実施形態の有機EL装置の第4変形例を示す図であって、図2(a)に対応する断面図である。FIG. 10 is a view showing a fourth modification of the organic EL device of the first embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG. 図11は、第2実施形態の有機EL装置の第1変形例を示す図であって、図5(a)に対応する断面図である。FIG. 11 is a diagram illustrating a first modification of the organic EL device according to the second embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG. 図12は、第2実施形態の有機EL装置の第2変形例を示す図であって、図5(a)に対応する断面図である。FIG. 12 is a diagram illustrating a second modification of the organic EL device according to the second embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG. 図13は、第2実施形態の有機EL装置の第3変形例(トップ・エミッション型)を示す図であって、図5(a)に対応する断面図である。FIG. 13 is a view showing a third modification (top emission type) of the organic EL device of the second embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG.

以下では、本発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る有機EL装置の模式的な平面図である。図2(a)(b)(c)は、図1の有機EL装置の断面図であり、図2(a)は切断線IIa−IIaでの切断面、図2(b)は切断線IIb−IIbでの切断面、図2(c)は切断線IIc−IIcでの切断面をそれぞれ示す。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a schematic plan view of an organic EL device according to the first embodiment of the present invention. 2A, 2B, and 2C are cross-sectional views of the organic EL device of FIG. 1, in which FIG. 2A is a cut surface taken along a cutting line IIa-IIa, and FIG. 2B is a cutting line IIb. FIG. 2C shows a cut surface taken along the cutting line IIc-IIc.

有機EL装置1は、たとえば、照明デバイス、ディスプレイ用バックライトなどに用いられる。この有機EL装置1は、第1基板2を備えている。第1基板2は、この実施形態では平面視長方形状に形成されており、1対の短辺および1対の長辺を有している。
以下では、便宜的に、第1基板2の短辺に平行な方向(幅方向)をX方向とし、第1基板2の長辺に平行な方向(長さ方向)をY方向とし、第1基板2の厚さ方向に平行な方向をZ方向として本実施形態を説明する。また、Z方向については、第1基板2が下側に配置される有機EL装置1の基本姿勢を基準として、上下方向ということがある。
The organic EL device 1 is used for, for example, an illumination device, a display backlight, and the like. The organic EL device 1 includes a first substrate 2. In this embodiment, the first substrate 2 is formed in a rectangular shape in plan view, and has a pair of short sides and a pair of long sides.
Hereinafter, for convenience, a direction (width direction) parallel to the short side of the first substrate 2 is defined as an X direction, and a direction parallel to the long side of the first substrate 2 (length direction) is defined as a Y direction. This embodiment will be described with the direction parallel to the thickness direction of the substrate 2 as the Z direction. Further, the Z direction may be referred to as the vertical direction with reference to the basic posture of the organic EL device 1 on which the first substrate 2 is disposed on the lower side.

第1基板2としては、たとえば、ガラス基板、プラスチック基板、SUS基板を適用できる。第1基板2としてガラス基板やプラスチック基板などの透明基板が適用される場合、有機EL装置1は、第1基板2の側(下側)へ光を取り出すボトム・エミッション型として構成される。一方、第1基板2としてSUS基板などの不透明基板が適用される場合、有機EL装置1は、第1基板2とは反対側(上側)へ光を取り出すトップ・エミッション型として構成される。また、第1基板2の厚さは、たとえば、第1基板2がフレキシブル性を有する程度の値であり、具体的には、0.01〜1mmである。以下では、有機EL装置1がボトム・エミッション型であるとして、本実施形態を説明する。   For example, a glass substrate, a plastic substrate, or a SUS substrate can be applied as the first substrate 2. When a transparent substrate such as a glass substrate or a plastic substrate is applied as the first substrate 2, the organic EL device 1 is configured as a bottom emission type that extracts light to the first substrate 2 side (lower side). On the other hand, when an opaque substrate such as a SUS substrate is applied as the first substrate 2, the organic EL device 1 is configured as a top emission type that extracts light to the opposite side (upper side) of the first substrate 2. Moreover, the thickness of the 1st board | substrate 2 is a value of the grade which the 1st board | substrate 2 has flexibility, for example, and is 0.01-1 mm specifically ,. Hereinafter, the present embodiment will be described on the assumption that the organic EL device 1 is a bottom emission type.

第1基板2上には、第1基板2の一短辺に沿ってアノード端子3およびカソード端子4が設けられている。また、第1基板2上には、Y方向において端子が配置される側(端子側)とは反対側に有機EL素子5が設けられている。
そして、有機EL装置1は、各端子3,4および有機EL素子5を封止するための導電封止層6と、導電封止層6を支持するための第2基板7とを有している。なお、図1は、第2基板7を取り外した状態の有機EL装置1を示している。
On the first substrate 2, an anode terminal 3 and a cathode terminal 4 are provided along one short side of the first substrate 2. An organic EL element 5 is provided on the first substrate 2 on the side opposite to the side where the terminals are arranged (terminal side) in the Y direction.
The organic EL device 1 includes a conductive sealing layer 6 for sealing the terminals 3 and 4 and the organic EL element 5, and a second substrate 7 for supporting the conductive sealing layer 6. Yes. FIG. 1 shows the organic EL device 1 with the second substrate 7 removed.

有機EL素子5は、第1基板2の上面8(一方面)に形成された第1電極としてのアノード電極9と、アノード電極9に対向配置された第2電極としてのカソード電極10と、アノード電極9とカソード電極10との間に介在された有機化合物層11とを有している。
アノード電極9としては、たとえば、ITO(酸化インジウムと酸化錫との固溶体)、IZO(酸化インジウム亜鉛)、ZnO(酸化亜鉛)などの透明電極材料からなる電極膜を適用できる。アノード電極9の膜厚は、たとえば、0.1〜1μmである。そのような透明電極膜の抵抗は、たとえば、シート抵抗が3Ω/□程度である。また、アノード電極9は、この実施形態では平面視長方形状に形成されている。
The organic EL element 5 includes an anode electrode 9 as a first electrode formed on the upper surface 8 (one surface) of the first substrate 2, a cathode electrode 10 as a second electrode disposed opposite to the anode electrode 9, and an anode An organic compound layer 11 interposed between the electrode 9 and the cathode electrode 10 is included.
As the anode electrode 9, for example, an electrode film made of a transparent electrode material such as ITO (solid solution of indium oxide and tin oxide), IZO (indium zinc oxide), ZnO (zinc oxide) can be applied. The film thickness of the anode electrode 9 is, for example, 0.1 to 1 μm. The resistance of such a transparent electrode film is, for example, a sheet resistance of about 3Ω / □. In addition, the anode electrode 9 is formed in a rectangular shape in plan view in this embodiment.

有機化合物層11は、アノード電極9の上面に沿ってY方向端子側に延び、アノード電極9の長さ方向一側面に回りこむ断面視L字状に形成されている。また、有機化合物層11の平面形状は、この実施形態ではアノード電極9よりも長さおよび幅のいずれも小さい長方形である。有機化合物層11の外周とアノード電極9の外周との間には、Y方向端子側が開放された平面視コ字状の第1ギャップ12が設けられている。この第1ギャップ12には、アノード電極9の周縁部13が平面視コ字状に露出している。   The organic compound layer 11 extends in the Y direction terminal side along the upper surface of the anode electrode 9, and is formed in an L shape in cross section that wraps around one side surface in the length direction of the anode electrode 9. The planar shape of the organic compound layer 11 is a rectangle that is smaller in length and width than the anode electrode 9 in this embodiment. Between the outer periphery of the organic compound layer 11 and the outer periphery of the anode electrode 9, a first gap 12 having a U-shape in a plan view with the Y-direction terminal side opened is provided. In the first gap 12, the peripheral edge portion 13 of the anode electrode 9 is exposed in a U shape in a plan view.

また、有機化合物層11は、たとえば、Z方向においてアノード電極9の側から順に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層が積層された構造を有している。
正孔注入層の材料としては、たとえば、アリールアミン類、フタロシアニン類(たとえば、銅フタロシアニンなど)など、正孔注入層の材料として通常用いられるものが挙げられる。
The organic compound layer 11 has a structure in which, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are stacked in this order from the anode electrode 9 side in the Z direction. .
Examples of the material for the hole injection layer include those usually used as the material for the hole injection layer, such as arylamines and phthalocyanines (for example, copper phthalocyanine).

正孔輸送層の材料としては、たとえば、アリールアミン類など、正孔輸送層の材料として通常用いられるものが挙げられる。
発光層は、たとえば、Alqなどの蛍光を示す金属錯体系材料に蛍光色素をドープして構成されている。たとえば、赤色発光層の材料としては、AlqにDCMがドープされたもの、たとえば、緑色発光層の材料としては、AlqにCoumaline(クマリン)がドープされたもの、たとえば、青色発光層の材料としては、AlqにPerylene(ペリレン)がドープされたものなどが挙げられる。
Examples of the material for the hole transport layer include those usually used as the material for the hole transport layer, such as arylamines.
The light emitting layer is configured by, for example, doping a metal complex material showing fluorescence such as Alq 3 with a fluorescent dye. For example, as a material of the red light emitting layer, Alq 3 is doped with DCM, for example, as a material of the green light emitting layer, Alq 3 is doped with Coumarin, for example, a material of the blue light emitting layer. For example, Alq 3 doped with Perylene (perylene) may be used.

電子輸送層の材料としては、たとえば、アルミ錯体、オキサジアゾール類、トリアゾール類、フェナントロリン類など、電子輸送層の材料として通常用いられるものが挙げられる。
電子注入層の材料としては、たとえば、リチウムなどのアルカリ金属、フッ化リチウム、酸化リチウム、リチウム錯体など、電子注入層の材料として通常用いられるものが挙げられる。
Examples of the material for the electron transport layer include those usually used as the material for the electron transport layer, such as aluminum complexes, oxadiazoles, triazoles, and phenanthrolines.
Examples of the material for the electron injection layer include those commonly used as materials for the electron injection layer, such as alkali metals such as lithium, lithium fluoride, lithium oxide, and lithium complexes.

なお、正孔注入層および電子注入層は、省略されてもよい。
カソード電極10としては、たとえば、Al(アルミニウム)、Ca(カルシウム)、Mg−Al(マグネシウム−アルミニウム合金)、Al−Li(アルミニウム−リチウム)合金などの金属材料からなる電極膜を適用できる。カソード電極10の膜厚は、たとえば、0.01〜0.5μmである。そのような金属電極膜の抵抗は、一般に、前述の透明電極膜よりも低く、たとえば、シート抵抗が1Ω/□程度である。
Note that the hole injection layer and the electron injection layer may be omitted.
As the cathode electrode 10, for example, an electrode film made of a metal material such as Al (aluminum), Ca (calcium), Mg—Al (magnesium-aluminum alloy), Al—Li (aluminum-lithium) alloy can be applied. The film thickness of the cathode electrode 10 is, for example, 0.01 to 0.5 μm. The resistance of such a metal electrode film is generally lower than that of the transparent electrode film described above. For example, the sheet resistance is about 1 Ω / □.

カソード電極10は、有機化合物層11の上面に沿ってY方向端子側に延び、有機化合物層11の長さ方向一側面に回りこむ断面視L字状に形成されている。また、カソード電極10の平面形状は、この実施形態では有機化合物層11よりも幅の小さい長方形である。そして、このカソード電極10における有機化合物層11に回りこむ部分には、カソード端子4が一体的に接続されている。   The cathode electrode 10 extends in the Y direction terminal side along the upper surface of the organic compound layer 11, and is formed in an L shape in sectional view that wraps around one side surface in the length direction of the organic compound layer 11. The planar shape of the cathode electrode 10 is a rectangle having a width smaller than that of the organic compound layer 11 in this embodiment. A cathode terminal 4 is integrally connected to a portion of the cathode electrode 10 that wraps around the organic compound layer 11.

また、カソード電極10の外周と有機化合物層11の外周との間には、Y方向端子側が開放された平面視コ字状の第2ギャップ14が設けられている。この第2ギャップ14には、有機化合物層11の周縁部15が平面視コ字状に露出している。
アノード端子3は、たとえば、カソード電極10と同一の材料からなる。このアノード端子3は、この実施形態では、アノード電極9とは分離して、平面視正方形状に形成されている。アノード端子3は、Y方向端子側が開放された平面視コ字状の周縁部13の1対の延長線上のそれぞれに配置されている。したがって、第1基板2の上面8には、1対のアノード端子3およびカソード端子4が、互いに間隔を空けてX方向に直線上に配列されている。
In addition, a second gap 14 having a U-shape in plan view with the Y-direction terminal opened is provided between the outer periphery of the cathode electrode 10 and the outer periphery of the organic compound layer 11. In the second gap 14, the peripheral edge 15 of the organic compound layer 11 is exposed in a U shape in plan view.
The anode terminal 3 is made of the same material as the cathode electrode 10, for example. In this embodiment, the anode terminal 3 is separated from the anode electrode 9 and is formed in a square shape in plan view. The anode terminal 3 is disposed on each of a pair of extension lines of a peripheral portion 13 having a U-shape in plan view with the Y-direction terminal side open. Therefore, a pair of anode terminals 3 and cathode terminals 4 are arranged on the upper surface 8 of the first substrate 2 in a straight line in the X direction at a distance from each other.

このような構造の有機EL素子5では、平面視においてアノード電極9、有機化合物層11およびカソード電極10が重なる一点鎖線で囲まれる領域が、電子と正孔との再結合により発光する領域(発光領域16)とされる。
第2基板7としては、たとえば、ポリイミド基板、ガラス基板、プラスチック基板などの絶縁性基板を適用できる。また、第2基板7の厚さは、たとえば、第2基板7がフレキシブル性を有する程度の値であり、具体的には、0.01〜1mmである。
In the organic EL element 5 having such a structure, a region surrounded by an alternate long and short dash line in which the anode electrode 9, the organic compound layer 11 and the cathode electrode 10 overlap in a plan view emits light by recombination of electrons and holes (light emission). Region 16).
As the second substrate 7, for example, an insulating substrate such as a polyimide substrate, a glass substrate, or a plastic substrate can be applied. Moreover, the thickness of the 2nd board | substrate 7 is a value of the grade which the 2nd board | substrate 7 has flexibility, for example, and is 0.01-1 mm specifically ,.

導電封止層6は、Z方向に間隔を空けて有機EL素子5に対向配置されたキャップ部17と、キャップ部17と第1基板2との間に有機EL素子5を封じるためのシール部18とを一体的に有している。導電封止層6は、たとえば、銅(Cu)、アルミニウム(Al)などの金属材料からなる。
キャップ部17は、第2基板7の内側面19(第1基板2との対向面)のほぼ全域に薄膜状に形成されており、アノード端子3およびカソード端子4の端部を露出させるように、有機EL素子5の全域、アノード端子3およびカソード端子4に対向している。また、キャップ部17の厚さは、たとえば、0.1〜50μmである。
The conductive sealing layer 6 includes a cap portion 17 disposed opposite to the organic EL element 5 with a gap in the Z direction, and a seal portion for sealing the organic EL element 5 between the cap portion 17 and the first substrate 2. 18 integrally. The conductive sealing layer 6 is made of, for example, a metal material such as copper (Cu) or aluminum (Al).
The cap portion 17 is formed in a thin film shape over almost the entire inner surface 19 (the surface facing the first substrate 2) of the second substrate 7 so that the ends of the anode terminal 3 and the cathode terminal 4 are exposed. The whole area of the organic EL element 5 is opposed to the anode terminal 3 and the cathode terminal 4. Moreover, the thickness of the cap part 17 is 0.1-50 micrometers, for example.

シール部18は、有機EL素子5の周囲を取り囲む平面視略四角環状に形成されており、第1ギャップ12から露出するコ字状の周縁部13に対して線状に接触するとともに、第1ギャップ12の延長線上に配置された1対のアノード端子3および1対のアノード端子3間に配置されたカソード端子4に接触している。シール部18の厚さは、たとえば、1〜200μmである。   The seal portion 18 is formed in a substantially square annular shape in a plan view surrounding the periphery of the organic EL element 5, contacts the U-shaped peripheral portion 13 exposed from the first gap 12 linearly, and A pair of anode terminals 3 disposed on an extension of the gap 12 and a cathode terminal 4 disposed between the pair of anode terminals 3 are in contact with each other. The thickness of the seal portion 18 is, for example, 1 to 200 μm.

上記のような導電封止層6には、カソード端子4の近傍に、その一部が除去された除去領域27が形成されている。これにより、導電封止層6は、アノード電極9の周縁部13およびアノード端子3に電気的に接続された第1領域としてのアノード領域20と、カソード端子4に電気的に接続された第2領域としてのカソード領域21とに絶縁分離されている。キャップ部17およびシール部18のそれぞれは、アノード領域20側の第1キャップ部22および線状接続部としての第1シール部23、カソード領域21側の第2キャップ部24および第2シール部25とに分離される。   In the conductive sealing layer 6 as described above, a removed region 27 from which a part thereof is removed is formed in the vicinity of the cathode terminal 4. As a result, the conductive sealing layer 6 has the anode region 20 as the first region electrically connected to the peripheral portion 13 of the anode electrode 9 and the anode terminal 3, and the second electrically connected to the cathode terminal 4. It is insulated and separated from the cathode region 21 as a region. Each of the cap part 17 and the seal part 18 includes a first cap part 22 on the anode region 20 side and a first seal part 23 as a linear connection part, and a second cap part 24 and a second seal part 25 on the cathode region 21 side. And separated.

カソード領域21は、この実施形態では平面視矩形状である。このカソード領域21を取り囲む除去領域27は、平面視コ字状に形成されており、Y方向端子側に開放されている。
そして、有機EL素子5は、第1基板2および導電封止層6により形成される中空部分26に収容されており、その全周囲がシール部18で囲まれている。中空部分26は、除去領域27のみを介して外部と流通可能とされている。
In this embodiment, the cathode region 21 has a rectangular shape in plan view. The removal region 27 surrounding the cathode region 21 is formed in a U shape in plan view, and is open to the Y direction terminal side.
The organic EL element 5 is accommodated in a hollow portion 26 formed by the first substrate 2 and the conductive sealing layer 6, and the entire periphery thereof is surrounded by the seal portion 18. The hollow portion 26 can be circulated to the outside only through the removal region 27.

この中空部分26には、絶縁体が充填されることにより絶縁層28が形成されている。絶縁層28の材料としては、たとえば、エポキシ樹脂など封止用の樹脂として通常用いられるものが挙げられる。
図3(a)〜(e)は、図1および図2に示す有機EL装置の製造方法を工程順に示す図である。
An insulating layer 28 is formed in the hollow portion 26 by being filled with an insulator. Examples of the material of the insulating layer 28 include materials usually used as a sealing resin such as an epoxy resin.
3A to 3E are views showing a method of manufacturing the organic EL device shown in FIGS. 1 and 2 in the order of steps.

上記有機EL装置1を製造するには、たとえば、図3(a)に示すように、蒸着法、スパッタ法などにより、第1基板2上に、アノード電極9、有機化合物層11、カソード電極10およびカソード端子4が、上記した形状となるように順に形成される。カソード端子4およびアノード端子3は、カソード電極10を形成する工程において、同時にパターニングすることにより形成される。   In order to manufacture the organic EL device 1, for example, as shown in FIG. 3A, the anode electrode 9, the organic compound layer 11, and the cathode electrode 10 are formed on the first substrate 2 by vapor deposition, sputtering, or the like. And the cathode terminal 4 is formed in order so that it may become an above-described shape. The cathode terminal 4 and the anode terminal 3 are formed by patterning simultaneously in the step of forming the cathode electrode 10.

一方、図3(b)に示すように、導電薄膜(たとえば、厚さがシール部18と同程度のもの)が形成された第2基板7が用意され、導電薄膜がパターニングされることにより、アノード領域20およびカソード領域21に分離される。導電薄膜のパターニング後、各領域の導電薄膜が所定パターンにエッチバックされることにより、シール部18(第1シール部23および第2シール部25)が形成される。   On the other hand, as shown in FIG. 3B, a second substrate 7 on which a conductive thin film (for example, the same thickness as the seal portion 18) is prepared, and the conductive thin film is patterned, Separated into an anode region 20 and a cathode region 21. After patterning the conductive thin film, the conductive thin film in each region is etched back into a predetermined pattern, whereby the seal portion 18 (the first seal portion 23 and the second seal portion 25) is formed.

そして、図3(c)に示すように、第1基板2と第2基板7とが位置合わせされ、第1ギャップ12から露出するアノード電極9の周縁部13、アノード端子3およびカソード端子4に対して、シール部18が接合される。これにより、図3(d)に示すように、有機EL素子5が第1基板2および導電封止層6により形成される中空部分26に封止される。   Then, as shown in FIG. 3C, the first substrate 2 and the second substrate 7 are aligned, and the peripheral portion 13 of the anode electrode 9 exposed from the first gap 12, the anode terminal 3, and the cathode terminal 4 On the other hand, the seal part 18 is joined. Thereby, as shown in FIG. 3D, the organic EL element 5 is sealed in the hollow portion 26 formed by the first substrate 2 and the conductive sealing layer 6.

その後、図3(e)に示すように、中空部分26およびシール部18の外周に封止用の樹脂が注入される。具体的には、第1シール部23と第2シール部25との間(隙間)から中空部分26に樹脂が注入され、有機EL装置1の端面からシール部18の外周に樹脂が注入される。これにより、絶縁層28が形成される。
以上の工程を経て、図1および図2に示す有機EL装置1が得られる。
Thereafter, as shown in FIG. 3 (e), a sealing resin is injected into the outer periphery of the hollow portion 26 and the seal portion 18. Specifically, resin is injected into the hollow portion 26 from between the first seal portion 23 and the second seal portion 25 (gap), and resin is injected from the end face of the organic EL device 1 to the outer periphery of the seal portion 18. . Thereby, the insulating layer 28 is formed.
Through the above steps, the organic EL device 1 shown in FIGS. 1 and 2 is obtained.

この有機EL装置1では、アノード端子3−カソード端子4間に電圧が印加されることにより、アノード電極9およびカソード電極10のそれぞれに、導電封止層6のアノード領域20およびカソード領域21のそれぞれを介して電圧が印加される。具体的には、アノード電極9には、コ字状の周縁部13に接合されたアノード領域20の第1シール部23により電圧が印加される。   In the organic EL device 1, by applying a voltage between the anode terminal 3 and the cathode terminal 4, the anode region 20 and the cathode region 21 of the conductive sealing layer 6 are respectively applied to the anode electrode 9 and the cathode electrode 10. A voltage is applied via Specifically, a voltage is applied to the anode electrode 9 by the first seal portion 23 in the anode region 20 joined to the U-shaped peripheral edge portion 13.

電圧の印加により、アノード電極9から正孔が、カソード電極10から電子が、有機化合物層11中にそれぞれ注入されることによって、電子と正孔とが有機化合物層11の発光層で再結合し、光が生成される。生成された光は、第1基板2の側へ取り出される。
この有機EL装置1によれば、アノード電極9に対して電気的なコンタクトを形成するための電極として、有機EL素子5の全域に対向するキャップ部17および有機EL素子5の周囲を取り囲むシール部18を利用することができる。そして、第1シール部23は、平面視コ字状に露出するアノード電極9の周縁部13に線状に接触している。そのため、導電封止層6を、アノード電極9に対して大きな面積で接続することができる。これにより、導電封止層6が接続されたアノード電極9において等電位部分の面積を大きくすることができ、しかも、有機EL素子5の発光領域16を、平面視コ字状の等電位面で取り囲むことができる。
By applying a voltage, holes are injected from the anode electrode 9 and electrons are injected from the cathode electrode 10 into the organic compound layer 11, whereby the electrons and holes are recombined in the light emitting layer of the organic compound layer 11. , Light is generated. The generated light is extracted to the first substrate 2 side.
According to the organic EL device 1, as an electrode for forming an electrical contact with the anode electrode 9, the cap portion 17 facing the entire area of the organic EL element 5 and the seal portion surrounding the periphery of the organic EL element 5. 18 can be used. And the 1st seal | sticker part 23 is contacting linearly with the peripheral part 13 of the anode electrode 9 exposed in planar view U-shape. Therefore, the conductive sealing layer 6 can be connected to the anode electrode 9 with a large area. Thereby, the area of the equipotential portion of the anode electrode 9 to which the conductive sealing layer 6 is connected can be increased, and the light emitting region 16 of the organic EL element 5 can be formed on the equipotential surface having a U-shape in plan view. Can be surrounded.

その結果、電圧の印加時にアノード電極9の周縁部13全体が等電位となるため、アノード電極9の発光領域16内における電位ムラを抑制することができる。したがって、アノード電極9の厚さを大きくしなくても、有機化合物層11に対する正孔の供給ムラを低減することができる。しかも、第1シール部23が、カソード電極10の抵抗よりもシート抵抗が大きいアノード電極9に接続されているため、より効果的に、有機化合物層11に対する正孔の供給ムラを低減することができる。   As a result, since the entire peripheral edge portion 13 of the anode electrode 9 becomes equipotential when a voltage is applied, potential unevenness in the light emitting region 16 of the anode electrode 9 can be suppressed. Therefore, it is possible to reduce the uneven supply of holes to the organic compound layer 11 without increasing the thickness of the anode electrode 9. In addition, since the first seal portion 23 is connected to the anode electrode 9 having a sheet resistance larger than that of the cathode electrode 10, it is possible to more effectively reduce the uneven supply of holes to the organic compound layer 11. it can.

そのため、有機EL素子5のフレキシブル性などの特性の低下を抑制しつつ、有機EL素子5の面内における輝度のバラツキを抑制することができる。よって、有機EL素子5の大面積化および高輝度化を図ることができる。
また、第1シール部23がアノード電極9の周縁部13に沿って線状に接触するため、アノード電極9の周縁部13に囲まれる中央部(すなわち、発光領域16)の面積を十分確保することができる。そのため、有機EL素子5の光取出効率の低下を抑制することもできる。
Therefore, variation in luminance within the surface of the organic EL element 5 can be suppressed while suppressing a decrease in characteristics such as flexibility of the organic EL element 5. Therefore, the organic EL element 5 can be increased in area and brightness.
Further, since the first seal portion 23 is linearly contacted along the peripheral edge portion 13 of the anode electrode 9, a sufficient area of the central portion (that is, the light emitting region 16) surrounded by the peripheral edge portion 13 of the anode electrode 9 is ensured. be able to. Therefore, it is possible to suppress a decrease in light extraction efficiency of the organic EL element 5.

また、有機EL素子5が、第1基板2および導電封止層6により形成される中空部分26に収容されており、その全周囲がシール部18で囲まれているため、酸素や水分などの中空部分26への侵入を遮断することができる。その結果、有機EL素子5の劣化を抑制することができる。換言すれば、有機EL素子5(とくに有機化合物層11)への酸素または水分の侵入を抑制する導電封止層6が、アノード電極9への給電のために兼用されている。これにより、有機EL素子5の特性劣化の抑制と、輝度ムラの低減とが同時に達成される。   In addition, since the organic EL element 5 is accommodated in the hollow portion 26 formed by the first substrate 2 and the conductive sealing layer 6, and the entire periphery thereof is surrounded by the seal portion 18, oxygen, moisture, etc. Intrusion into the hollow portion 26 can be blocked. As a result, deterioration of the organic EL element 5 can be suppressed. In other words, the conductive sealing layer 6 that suppresses the intrusion of oxygen or moisture into the organic EL element 5 (particularly, the organic compound layer 11) is also used for supplying power to the anode electrode 9. Thereby, suppression of the characteristic deterioration of the organic EL element 5 and reduction of luminance unevenness are simultaneously achieved.

一方、上記のような構成の有機EL装置1において、アノード電極9の発光領域16内における電位ムラを抑制する方策として、たとえば、アノード電極9の外周に沿って補助配線を設け、当該補助配線をアノード電極9の外周縁に接触させることが考えられる。しかし、このような方策では、アノード電極9の外側に補助配線を設置するためのスペースが必要となる。そのため、有機EL素子5が複雑化・大型化するという不具合を生じる。また、補助配線の抵抗を維持したままアノード電極9の外方への補助配線のはみ出し量をできる限り低減するために、補助配線の厚さを大きくすることが考えられるかも知れない。しかし、そうすると、有機EL素子5のフレキシブル性が低下する。   On the other hand, in the organic EL device 1 configured as described above, as a measure for suppressing potential unevenness in the light emitting region 16 of the anode electrode 9, for example, an auxiliary wiring is provided along the outer periphery of the anode electrode 9. It is conceivable to contact the outer peripheral edge of the anode electrode 9. However, such a measure requires a space for installing the auxiliary wiring outside the anode electrode 9. For this reason, the organic EL element 5 becomes complicated and large. Further, it may be considered to increase the thickness of the auxiliary wiring in order to reduce the protruding amount of the auxiliary wiring to the outside of the anode electrode 9 as much as possible while maintaining the resistance of the auxiliary wiring. However, if it does so, the flexibility of the organic EL element 5 will fall.

これに対し、上記の有機EL装置1によれば、有機EL素子5を封止するための導電封止層6を利用して、アノード電極9に対する電気的なコンタクトが形成される。この場合、電気的なコンタクトを形成するためのスペースは、アノード電極9の外周に補助配線を設ける場合よりも、小さくて済む。その結果、有機EL素子5の簡素化および薄型化を図ることができる。   On the other hand, according to the organic EL device 1 described above, an electrical contact with the anode electrode 9 is formed using the conductive sealing layer 6 for sealing the organic EL element 5. In this case, the space for forming the electrical contact may be smaller than when the auxiliary wiring is provided on the outer periphery of the anode electrode 9. As a result, the organic EL element 5 can be simplified and thinned.

また、導電封止層6のアノード領域20およびカソード領域21が、絶縁性の第2基板7に支持されているので、アノード電極9およびカソード電極10に接続される2つの導電領域を、1つの第2基板7に集約することができる。そのため、有機EL素子5の構造を簡素化することができる。さらに、アノード領域20およびカソード領域21は、図3(b)に示すように、導電薄膜が形成された第2基板7を用意し、導電薄膜をパターニングすることにより、簡単に形成することができる。   In addition, since the anode region 20 and the cathode region 21 of the conductive sealing layer 6 are supported by the insulating second substrate 7, two conductive regions connected to the anode electrode 9 and the cathode electrode 10 are provided as one It can be concentrated on the second substrate 7. Therefore, the structure of the organic EL element 5 can be simplified. Further, as shown in FIG. 3B, the anode region 20 and the cathode region 21 can be easily formed by preparing the second substrate 7 on which the conductive thin film is formed and patterning the conductive thin film. .

さらに、この有機EL装置1では、第1基板2および第2基板7のいずれもがフレキシブル性を有するので、たとえば、フレキシブル性が要求される各種工業製品に好適に使用することができる。
図4は、本発明の第2実施形態に係る有機EL装置の模式的な平面図である。図5(a)(b)(c)は、図4の有機EL装置の断面図であり、図5(a)は切断線Va−Vaでの切断面、図5(b)は切断線Vb−Vbでの切断面、図5(c)は切断線Vc−Vcでの切断面をそれぞれ示す。図4および図5において、図1および図2に示す各部に対応する部分には、それらの各部と同一の参照符号を付している。また、以下では、同一の参照符号を付した部分についての詳細な説明を省略する。なお、図4は、導電基板を取り外した状態の有機EL装置を示している。
Furthermore, in this organic EL device 1, since both the first substrate 2 and the second substrate 7 have flexibility, they can be suitably used for various industrial products that require flexibility, for example.
FIG. 4 is a schematic plan view of an organic EL device according to the second embodiment of the present invention. 5A, 5B, and 5C are cross-sectional views of the organic EL device of FIG. 4, in which FIG. 5A is a cut surface taken along the cutting line Va-Va, and FIG. 5B is a cutting line Vb. FIG. 5C shows a cut surface taken along the cutting line Vc-Vc. 4 and FIG. 5, the same reference numerals are assigned to the portions corresponding to the respective portions shown in FIG. 1 and FIG. Further, in the following, detailed description of the parts denoted by the same reference numerals is omitted. FIG. 4 shows the organic EL device with the conductive substrate removed.

第1実施形態では、導電封止層6は、キャップ部17とシール部18とを一体的に有しているが、この第2実施形態の有機EL装置31では、導電封止層32は、第1基板2の厚さ方向に間隔を空けて有機EL素子5に対向配置された導電層としての導電基板33と、導電基板33と第1基板2との間に有機EL素子5を封じるための導電バンプ34とを別体的に有している。なお、図4は、導電基板33を取り外した状態の有機EL装置31を示している。   In the first embodiment, the conductive sealing layer 6 integrally includes the cap portion 17 and the seal portion 18. However, in the organic EL device 31 of the second embodiment, the conductive sealing layer 32 is: In order to seal the organic EL element 5 between the conductive substrate 33 and the first substrate 2 as a conductive layer disposed opposite to the organic EL element 5 with an interval in the thickness direction of the first substrate 2. The conductive bumps 34 are separately provided. 4 shows the organic EL device 31 with the conductive substrate 33 removed.

導電基板33は、たとえば、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、スズ(Sn)などの金属材料からなる。導電基板33は、アノード端子3およびカソード端子4の端部を露出させるように、有機EL素子5の全域、アノード端子3およびカソード端子4に対向している。また、導電基板33の厚さは、たとえば、0.01〜1mmである。
導電バンプ34は、たとえば、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、はんだなどの金属材料からなる。また、導電バンプ34は、有機EL素子5の周囲を取り囲む平面視略四角環状に形成されており、第1ギャップ12から露出するコ字状の周縁部13に対して線状に接触するとともに、第1ギャップ12の延長線上に配置された1対のアノード端子3に接触している。導電バンプ34は、導電基板33およびアノード電極9の周縁部13に対して共晶接合されており、これにより、アノード電極9とアノード端子3とを導電基板33を介して電気的に接続している。
The conductive substrate 33 is made of a metal material such as copper (Cu), aluminum (Al), tin (Sn), or the like. The conductive substrate 33 faces the entire area of the organic EL element 5, the anode terminal 3, and the cathode terminal 4 so that the ends of the anode terminal 3 and the cathode terminal 4 are exposed. Moreover, the thickness of the conductive substrate 33 is, for example, 0.01 to 1 mm.
The conductive bumps 34 are made of, for example, a metal material such as copper (Cu), aluminum (Al), gold (Au), or solder. In addition, the conductive bump 34 is formed in a substantially square annular shape in plan view surrounding the periphery of the organic EL element 5, and is in linear contact with the U-shaped peripheral edge portion 13 exposed from the first gap 12. A pair of anode terminals 3 disposed on an extension line of the first gap 12 are in contact with each other. The conductive bump 34 is eutectic bonded to the peripheral portion 13 of the conductive substrate 33 and the anode electrode 9, thereby electrically connecting the anode electrode 9 and the anode terminal 3 via the conductive substrate 33. Yes.

一方、導電バンプ34は、カソード端子4を挟む1対のアノード端子3間が一部開放されている。これにより、導電バンプ34は、カソード端子4に対して接触しておらず、導電基板33とカソード端子4とを電気的に絶縁している。また、導電バンプ34の高さは、たとえば、1〜200μmである。
そして、有機EL素子5は、第1基板2および導電基板33により形成される中空部分35に収容されており、その全周囲が導電バンプ34で囲まれている。中空部分35は、導電バンプ34が一部開放されることにより形成された開孔部36のみを介して外部と流通可能とされている。
On the other hand, the conductive bump 34 is partially opened between the pair of anode terminals 3 sandwiching the cathode terminal 4. Thereby, the conductive bump 34 is not in contact with the cathode terminal 4 and electrically insulates the conductive substrate 33 and the cathode terminal 4. Moreover, the height of the conductive bump 34 is, for example, 1 to 200 μm.
The organic EL element 5 is accommodated in a hollow portion 35 formed by the first substrate 2 and the conductive substrate 33, and the entire periphery thereof is surrounded by the conductive bumps 34. The hollow portion 35 can be circulated to the outside only through the opening 36 formed by partially opening the conductive bump 34.

その他の構成は、前述の第1実施形態の場合と同様であり、動作もまた、同様である。
図6(a)〜(e)は、図4および図5に示す有機EL装置の製造方法を工程順に示す図である。
上記有機EL装置31を製造するには、たとえば、図6(a)に示すように、蒸着法、スパッタ法などにより、第1基板2上に、アノード電極9が、上記した形状となるように形成される。
Other configurations are the same as those of the first embodiment described above, and the operations are also the same.
6A to 6E are views showing the method of manufacturing the organic EL device shown in FIGS. 4 and 5 in the order of steps.
In order to manufacture the organic EL device 31, for example, as shown in FIG. 6A, the anode electrode 9 is formed on the first substrate 2 by the vapor deposition method, the sputtering method, or the like so as to have the shape described above. It is formed.

次いで、図6(b)に示すように、たとえば、めっき法、転写法などにより、導電バンプ34が、上記した形状となるように形成される。
次いで、図6(c)に示すように、蒸着法、スパッタ法などにより、アノード電極9上に、有機化合物層11、カソード電極10およびカソード端子4が、上記した形状となるように順に形成される。カソード端子4およびアノード端子3は、カソード電極10を形成する工程において、カソード電極10のパターニングと同時にパターニングすることにより形成される。
Next, as shown in FIG. 6B, the conductive bumps 34 are formed to have the above-described shape by, for example, a plating method or a transfer method.
Next, as shown in FIG. 6C, the organic compound layer 11, the cathode electrode 10, and the cathode terminal 4 are sequentially formed on the anode electrode 9 by the vapor deposition method, the sputtering method, or the like so as to have the above-described shape. The The cathode terminal 4 and the anode terminal 3 are formed by patterning simultaneously with the patterning of the cathode electrode 10 in the step of forming the cathode electrode 10.

次いで、図6(d)に示すように、第1基板2と導電基板33とが位置合わせされ、熱および圧力が加えられることにより、導電バンプ34に導電基板33が共晶接合される。これにより、有機EL素子5が第1基板2および導電基板33により形成される中空部分35に封止される。
その後、図6(e)に示すように、開孔部36(図6では図示せず)から封止用の樹脂を注入して絶縁層28が形成される。
Next, as shown in FIG. 6D, the first substrate 2 and the conductive substrate 33 are aligned, and heat and pressure are applied, so that the conductive substrate 33 is eutectic bonded to the conductive bumps 34. As a result, the organic EL element 5 is sealed in the hollow portion 35 formed by the first substrate 2 and the conductive substrate 33.
Thereafter, as shown in FIG. 6E, a sealing resin is injected from the opening 36 (not shown in FIG. 6) to form the insulating layer 28.

以上の工程を経て、図4および図5に示す有機EL装置31が得られる。
この有機EL装置31によれば、導電封止層32が導電基板33と導電バンプ34とを有している。そして、導電封止層6をアノード電極9に電気的に接続する際には、図6(b)に示すように導電バンプ34を形成し、その後、図6(d)に示すように、第1基板2と導電基板33とを位置合わせし、熱および圧力を加えることにより、導電バンプ34に導電基板33を共晶接合すればよい。
Through the above steps, the organic EL device 31 shown in FIGS. 4 and 5 is obtained.
According to the organic EL device 31, the conductive sealing layer 32 has the conductive substrate 33 and the conductive bumps 34. Then, when electrically connecting the conductive sealing layer 6 to the anode electrode 9, conductive bumps 34 are formed as shown in FIG. 6B, and then, as shown in FIG. The conductive substrate 33 may be eutectic bonded to the conductive bumps 34 by aligning the substrate 1 and the conductive substrate 33 and applying heat and pressure.

すなわち、アノード電極9に対する導電バンプ34の形成によって、アノード電極9に対する導電封止層32のコンタクト位置が決定する。そして、導電バンプ34は、たとえば、めっき法、転写法など、従来知られているバンプ形成技術により作製することができる。したがって、アノード電極9に対する導電封止層32の電気的なコンタクトを簡単に形成することができ、さらには、コンタクト位置を精密に制御することもできる。   That is, the contact position of the conductive sealing layer 32 with respect to the anode electrode 9 is determined by the formation of the conductive bump 34 with respect to the anode electrode 9. The conductive bumps 34 can be produced by a conventionally known bump forming technique such as a plating method or a transfer method. Therefore, the electrical contact of the conductive sealing layer 32 to the anode electrode 9 can be easily formed, and further, the contact position can be precisely controlled.

その他、前述の第1実施形態と同様の作用効果については、記載を省略する。
図7は、第1実施形態の有機EL装置の第1変形例を示す図であって、図2(a)に対応する断面図である。
第1実施形態の第1変形例に係る有機EL装置41では、導電封止層6は、第2基板7に支持されておらず、Z方向に間隔を空けて有機EL素子5に対向配置され、有機EL素子5に対向する内側面43とは反対の外側面42が露出したキャップ部17と、キャップ部17と第1基板2との間に有機EL素子5を封じるためのシール部18とを一体的に有している。
In addition, description is abbreviate | omitted about the effect similar to the above-mentioned 1st Embodiment.
FIG. 7 is a diagram illustrating a first modification of the organic EL device according to the first embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG.
In the organic EL device 41 according to the first modification of the first embodiment, the conductive sealing layer 6 is not supported by the second substrate 7 and is disposed to face the organic EL element 5 with an interval in the Z direction. A cap portion 17 with an outer surface 42 opposite to the inner surface 43 facing the organic EL element 5 exposed, and a seal portion 18 for sealing the organic EL element 5 between the cap portion 17 and the first substrate 2. Are integrated.

また、絶縁層28の材料としては、たとえば、窒化シリコン、酸化シリコンなど絶縁膜として通常用いられるものが挙げられる。
そして、第1変形例に係る有機EL装置41を製造するには、たとえば、図3(a)に示した方法と同様の方法により、アノード電極9、有機化合物層11、カソード電極10、カソード端子4およびアノード端子3が形成され、その後、導電封止層6の形成に先立って、たとえば、蒸着法、スパッタ法などにより、絶縁層28が形成される。絶縁層28の形成後、たとえば、フォトリソグラフィ技術により、絶縁層28がシール部18の形状に対応するパターンにパターニングされる。そして、たとえば、蒸着法、スパッタ法などにより、導電封止層6の材料が堆積される。これにより、シール部18とキャップ部17とが同時に形成されて導電封止層6が形成される。
Moreover, as a material of the insulating layer 28, what is normally used as insulating films, such as silicon nitride and a silicon oxide, is mentioned, for example.
In order to manufacture the organic EL device 41 according to the first modification, for example, the anode electrode 9, the organic compound layer 11, the cathode electrode 10, and the cathode terminal are manufactured by the same method as that shown in FIG. 4 and the anode terminal 3 are formed, and then the insulating layer 28 is formed prior to the formation of the conductive sealing layer 6 by, for example, vapor deposition or sputtering. After the formation of the insulating layer 28, the insulating layer 28 is patterned into a pattern corresponding to the shape of the seal portion 18, for example, by photolithography. Then, the material for the conductive sealing layer 6 is deposited by, for example, vapor deposition or sputtering. Thereby, the seal part 18 and the cap part 17 are formed simultaneously, and the conductive sealing layer 6 is formed.

第1実施形態の第1変形例に係る有機EL装置41によれば、導電封止層6が第2基板7に支持されることなく、キャップ部17の外側面42が露出しているので、有機EL素子5が発熱しても、その熱をキャップ部17の外側面42から効率よく放散することができる。その結果、有機EL装置41の放熱性を向上させることができる。
図8は、第1実施形態の有機EL装置の第2変形例を示す図であって、図2(a)に対応する断面図である。
According to the organic EL device 41 according to the first modification of the first embodiment, the outer surface 42 of the cap portion 17 is exposed without the conductive sealing layer 6 being supported by the second substrate 7. Even if the organic EL element 5 generates heat, the heat can be efficiently dissipated from the outer surface 42 of the cap portion 17. As a result, the heat dissipation of the organic EL device 41 can be improved.
FIG. 8 is a view showing a second modification of the organic EL device of the first embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG.

第1実施形態の第2変形例に係る有機EL装置51は、有機EL素子5を被覆する第1バリア層52をさらに含んでいる。
第1バリア層52は、たとえば、窒化シリコンなどの無機材料膜からなる。第1バリア層52は、アノード電極9の周縁部13から有機化合物層11の周縁部15を経由してカソード電極10の全表面を覆っている。これにより、アノード電極9と有機化合物層11との界面53およびカソード電極10と有機化合物層11との界面54が、第1バリア層52によりシールされることとなる。
The organic EL device 51 according to the second modification of the first embodiment further includes a first barrier layer 52 that covers the organic EL element 5.
The first barrier layer 52 is made of an inorganic material film such as silicon nitride, for example. The first barrier layer 52 covers the entire surface of the cathode electrode 10 from the peripheral portion 13 of the anode electrode 9 through the peripheral portion 15 of the organic compound layer 11. As a result, the interface 53 between the anode electrode 9 and the organic compound layer 11 and the interface 54 between the cathode electrode 10 and the organic compound layer 11 are sealed by the first barrier layer 52.

第1バリア層52は、アノード電極9、有機化合物層11、カソード電極10、カソード端子4およびアノード端子3が図3(a)に示す方法により形成された後、たとえば、蒸着法、スパッタ法などにより無機材料を堆積させ、パターニングすることにより形成することができる。
第1実施形態の第2変形例に係る有機EL装置51によれば、アノード電極9と有機化合物層11との界面53およびカソード電極10と有機化合物層11との界面54が、第1バリア層52によりシールされるので、たとえ中空部分26内に残留水分や酸素などが存在しても、その残留水分および酸素と有機化合物層11との接触を効果的に抑制することができる。その結果、酸素や水分などによる有機EL素子5の劣化を一層抑制することができる。
The first barrier layer 52 is formed after the anode electrode 9, the organic compound layer 11, the cathode electrode 10, the cathode terminal 4, and the anode terminal 3 are formed by the method shown in FIG. Thus, it can be formed by depositing and patterning an inorganic material.
According to the organic EL device 51 according to the second modification of the first embodiment, the interface 53 between the anode electrode 9 and the organic compound layer 11 and the interface 54 between the cathode electrode 10 and the organic compound layer 11 are the first barrier layer. Thus, even if residual moisture or oxygen is present in the hollow portion 26, contact between the residual moisture and oxygen and the organic compound layer 11 can be effectively suppressed. As a result, deterioration of the organic EL element 5 due to oxygen, moisture, or the like can be further suppressed.

図9は、第1実施形態の有機EL装置の第3変形例を示す図であって、図2(a)に対応する断面図である。
第1実施形態の第3変形例に係る有機EL装置61は、導電封止層6を被覆する第2バリア層62をさらに含んでいる。
第2バリア層62は、たとえば、窒化シリコンなどの無機材料膜からなる。第2バリア層62は、キャップ部17の内側面43の全域を覆い、除去領域27を隙間なく埋め尽くしている。
FIG. 9 is a view showing a third modification of the organic EL device of the first embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG.
The organic EL device 61 according to the third modification of the first embodiment further includes a second barrier layer 62 that covers the conductive sealing layer 6.
The second barrier layer 62 is made of an inorganic material film such as silicon nitride, for example. The second barrier layer 62 covers the entire area of the inner side surface 43 of the cap portion 17 and fills the removal region 27 without any gaps.

第2バリア層62は、導電薄膜(図示せず)が図3(b)に示すようにエッチバックされてシール部18が形成された後、たとえば、蒸着法、スパッタ法などにより無機材料を導電封止層6上に堆積させ、パターニングすることにより形成することができる。
第1実施形態の第3変形例に係る有機EL装置61によれば、キャップ部17の内側面43および除去領域27が第2バリア層62によりシールされるので、特に、除去領域27から中空部分26への水分や酸素などの侵入を効果的に抑制することができる。その結果、酸素や水分などによる有機EL素子5の劣化を一層抑制することができる。
After the conductive thin film (not shown) is etched back and the seal portion 18 is formed as shown in FIG. 3B, the second barrier layer 62 conducts an inorganic material by, for example, vapor deposition or sputtering. It can be formed by depositing on the sealing layer 6 and patterning.
According to the organic EL device 61 according to the third modification of the first embodiment, since the inner side surface 43 and the removal region 27 of the cap part 17 are sealed by the second barrier layer 62, in particular, from the removal region 27 to the hollow portion. Intrusion of moisture, oxygen, and the like into H.26 can be effectively suppressed. As a result, deterioration of the organic EL element 5 due to oxygen, moisture, or the like can be further suppressed.

図10は、第1実施形態の有機EL装置の第4変形例を示す図であって、図2(a)に対応する断面図である。
第1実施形態の第4変形例に係る有機EL装置71は、導電封止層6を被覆する第3バリア層72をさらに含んでいる。
第3バリア層72は、たとえば、窒化シリコンなどの無機材料膜からなる。第3バリア層72は、第2基板7とキャップ部17との間の全域に介在されている。
FIG. 10 is a view showing a fourth modification of the organic EL device of the first embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG.
The organic EL device 71 according to the fourth modification of the first embodiment further includes a third barrier layer 72 that covers the conductive sealing layer 6.
The third barrier layer 72 is made of an inorganic material film such as silicon nitride, for example. The third barrier layer 72 is interposed in the entire area between the second substrate 7 and the cap part 17.

第3バリア層72は、たとえば、蒸着法、スパッタ法などにより、第2基板7の表面に積層し、その後、第3バリア層72上に導電薄膜(図示せず)を形成することにより、第2基板7とキャップ部17(導電薄膜)との間に介在させることができる。
第1実施形態の第4変形例に係る有機EL装置71によれば、キャップ部17および除去領域27が、第2基板7だけでなく第3バリア層72によってもシールされているので、特に、除去領域27から中空部分26への水分や酸素などの侵入を効果的に抑制することができる。その結果、酸素や水分などによる有機EL素子5の劣化を一層抑制することができる。
The third barrier layer 72 is laminated on the surface of the second substrate 7 by, for example, vapor deposition or sputtering, and then a conductive thin film (not shown) is formed on the third barrier layer 72, thereby It can be interposed between the two substrates 7 and the cap portion 17 (conductive thin film).
According to the organic EL device 71 according to the fourth modification of the first embodiment, since the cap portion 17 and the removal region 27 are sealed not only by the second substrate 7 but also by the third barrier layer 72, Intrusion of moisture, oxygen, and the like from the removal region 27 into the hollow portion 26 can be effectively suppressed. As a result, deterioration of the organic EL element 5 due to oxygen, moisture, or the like can be further suppressed.

図11は、第2実施形態の有機EL装置の第1変形例を示す図であって、図5(a)に対応する断面図である。
第2実施形態の第1変形例に係る有機EL装置81では、導電バンプ34は、樹脂製コア82と、樹脂製コア82を被覆する導電被覆膜83とからなる。
樹脂製コア82の材料としては、たとえば、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられる。また、樹脂製コア82の高さは、たとえば、1〜200μmである。
FIG. 11 is a diagram illustrating a first modification of the organic EL device according to the second embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG.
In the organic EL device 81 according to the first modification of the second embodiment, the conductive bump 34 includes a resin core 82 and a conductive coating film 83 that covers the resin core 82.
Examples of the material of the resin core 82 include an epoxy resin and a polyurethane resin. The height of the resin core 82 is, for example, 1 to 200 μm.

導電被覆膜83の材料としては、たとえば、金(Au)などの金属が挙げられる。また、導電被覆膜83の厚さは、たとえば、0.01〜1μmである。
このような導電バンプ34は、アノード電極9が図6(a)に示すように第1基板2上に形成された後、たとえば、樹脂ペーストが導電バンプ34のパターン状に形成され、その後、蒸着法、スパッタ法などにより金属材料が堆積され、パターニングされることによって形成することができる。
Examples of the material of the conductive coating film 83 include metals such as gold (Au). Moreover, the thickness of the conductive coating film 83 is, for example, 0.01 to 1 μm.
Such a conductive bump 34 is formed after the anode electrode 9 is formed on the first substrate 2 as shown in FIG. 6A, for example, a resin paste is formed in the pattern of the conductive bump 34, and then vapor deposition is performed. It can be formed by depositing and patterning a metal material by a method, a sputtering method or the like.

第2実施形態の第1変形例に係る有機EL装置81によれば、導電バンプ34の全体が金属材料ではなく、そのコアが樹脂材料であるため、金属材料の使用量を低減することができる。その結果、コストを低減することができる。また、樹脂材料が、たとえば、熱硬化性樹脂であれば、有機EL素子5が発熱しても軟化し難いので、有機EL素子5の曲げ耐性を向上させることができる。   According to the organic EL device 81 according to the first modification of the second embodiment, since the entire conductive bump 34 is not a metal material and its core is a resin material, the amount of the metal material used can be reduced. . As a result, cost can be reduced. Further, if the resin material is, for example, a thermosetting resin, it is difficult to soften even if the organic EL element 5 generates heat, so that the bending resistance of the organic EL element 5 can be improved.

さらには、樹脂製コア82の材料としてヤング率の低い樹脂を使用することにより、有機EL素子5を曲げたときに生じる応力を、効率よく分散させることができる。
図12は、第2実施形態の有機EL装置の第2変形例を示す図であって、図5(a)に対応する断面図である。
第2実施形態の第2変形例に係る有機EL装置91は、導電バンプ34とアノード電極9との間に介在された密着層92をさらに含んでいる。
Further, by using a resin having a low Young's modulus as the material of the resin core 82, the stress generated when the organic EL element 5 is bent can be efficiently dispersed.
FIG. 12 is a diagram illustrating a second modification of the organic EL device according to the second embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to FIG.
The organic EL device 91 according to the second modification of the second embodiment further includes an adhesion layer 92 interposed between the conductive bump 34 and the anode electrode 9.

密着層92は、たとえば、金(Au)などの金属材料からなる。密着層92は、たとえば、アノード電極9の周縁部13の表面からその外方へ延び、アノード電極9の全側面に回りこむ断面視L字状に形成されており、アノード電極9の外周端の全域を被覆している。
そして、導電バンプ34は、密着層92におけるアノード電極9の周縁部13上の部分に接合されている。
The adhesion layer 92 is made of a metal material such as gold (Au), for example. The adhesion layer 92 is formed in, for example, an L-shape in a cross-sectional view that extends outward from the surface of the peripheral edge 13 of the anode electrode 9 and wraps around the entire side surface of the anode electrode 9. The whole area is covered.
The conductive bump 34 is bonded to a portion on the peripheral edge portion 13 of the anode electrode 9 in the adhesion layer 92.

このような密着層92は、アノード電極9が図6(a)に示すように第1基板2上に形成された後、たとえば、蒸着法、スパッタ法などにより金属材料が堆積され、パターニングされることにより、形成することができる。そして、導電バンプ34は、図6(b)に示した方法と同様の方法により、密着層92上に所定の形状となるように形成すればよい。   Such an adhesion layer 92 is patterned by depositing a metal material by, for example, vapor deposition or sputtering after the anode electrode 9 is formed on the first substrate 2 as shown in FIG. 6A. Thus, it can be formed. Then, the conductive bumps 34 may be formed on the adhesion layer 92 so as to have a predetermined shape by a method similar to the method shown in FIG.

第2実施形態の第2変形例に係る有機EL装置91によれば、導電バンプ34とアノード電極9との間に密着層92が介在されている。そのため、アノード電極9および密着層92が、接合性の良好な組み合わせ(たとえば、アノード電極9がITOであり、密着層92がAuである組み合わせ)であれば、導電バンプ34とアノード電極9との接合性を向上させることができる。そのため、導電バンプ34によるシール性を向上させることができる。   According to the organic EL device 91 according to the second modification of the second embodiment, the adhesion layer 92 is interposed between the conductive bump 34 and the anode electrode 9. Therefore, if the anode electrode 9 and the adhesion layer 92 are a combination with good bonding properties (for example, a combination in which the anode electrode 9 is ITO and the adhesion layer 92 is Au), the conductive bump 34 and the anode electrode 9 Bondability can be improved. Therefore, the sealing performance by the conductive bumps 34 can be improved.

また、アノード電極9の外周端の全域が密着層92により被覆されているため、アノード電極9の側面と水分との接触を抑制することができる。したがって、水分を比較的透過させやすい材料をアノード電極9の材料として適用しても、アノード電極9と水分との接触が抑制されるので、アノード電極9に侵入する水分を低減することができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は他の形態で実施することもできる。
In addition, since the entire area of the outer peripheral edge of the anode electrode 9 is covered with the adhesion layer 92, contact between the side surface of the anode electrode 9 and moisture can be suppressed. Therefore, even when a material that is relatively permeable to moisture is applied as the material of the anode electrode 9, contact between the anode electrode 9 and moisture is suppressed, so that moisture entering the anode electrode 9 can be reduced.
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention can also be implemented with another form.

たとえば、第1実施形態では、導電封止層6は、アノード電極9およびカソード電極10の両方に電気的に接続されているが、いずれか一方のみに接続されていてもよい。一方、第2実施形態では、導電封止層6,32は、アノード電極9のみに電気的に接続されているが、アノード電極9およびカソード電極10の両方に接続されていてもよい。
また、本発明は、トップ・エミッション型、ボトム・エミッション型の有機EL装置のいずれにも適用することができる。
For example, in the first embodiment, the conductive sealing layer 6 is electrically connected to both the anode electrode 9 and the cathode electrode 10, but may be connected to only one of them. On the other hand, in the second embodiment, the conductive sealing layers 6 and 32 are electrically connected only to the anode electrode 9, but may be connected to both the anode electrode 9 and the cathode electrode 10.
Further, the present invention can be applied to both a top emission type and a bottom emission type organic EL device.

たとえば、図13に示す有機EL装置101が、トップ・エミッション型である。有機EL装置101は、SUS基板などの不透明な第1基板2と、第1基板2の上面8全域に形成された絶縁層102と、絶縁層102上に順に積層された、アノード電極9、有機化合物層11およびカソード電極10とを備えている。アノード電極9の材料は特に制限されず、透明電極材料、不透明電極材料のいずれであってもよい。カソード電極10の材料は、ITOなどの透明電極材料が適用される。また、絶縁層28(エポキシ樹脂など)、導電封止層6(ITOなど)、第3バリア層72(SiNなど)および第2基板2についても、透明な材料が用いられる。したがって、有機化合物層11で生成された光は、透明なカソード電極10、絶縁層28、導電封止層32、第3バリア層72を透過し、第2基板7から取り出される。   For example, the organic EL device 101 shown in FIG. 13 is a top emission type. The organic EL device 101 includes an opaque first substrate 2 such as a SUS substrate, an insulating layer 102 formed over the entire upper surface 8 of the first substrate 2, an anode electrode 9, an organic layer stacked on the insulating layer 102 in order. A compound layer 11 and a cathode electrode 10 are provided. The material of the anode electrode 9 is not particularly limited, and may be either a transparent electrode material or an opaque electrode material. The material of the cathode electrode 10 is a transparent electrode material such as ITO. Transparent materials are also used for the insulating layer 28 (such as epoxy resin), the conductive sealing layer 6 (such as ITO), the third barrier layer 72 (such as SiN), and the second substrate 2. Therefore, the light generated in the organic compound layer 11 passes through the transparent cathode electrode 10, the insulating layer 28, the conductive sealing layer 32, and the third barrier layer 72 and is extracted from the second substrate 7.

また、アノード電極9に対する導電封止層6,32のコンタクトは、アノード電極9の周縁部13の全周に沿って1つ形成される必要はなく、たとえば、アノード電極9の周縁部13に沿って線状に接触する線状接続部が、アノード電極9の周方向に沿って所定の間隔を空けて複数形成されていてもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
Further, it is not necessary to form one contact of the conductive sealing layers 6 and 32 with the anode electrode 9 along the entire circumference of the peripheral edge portion 13 of the anode electrode 9, for example, along the peripheral edge portion 13 of the anode electrode 9. A plurality of linear connection portions that are in linear contact with each other may be formed at predetermined intervals along the circumferential direction of the anode electrode 9.
In addition, various design changes can be made within the scope of the matters described in the claims.

1 有機EL装置
2 第1基板
5 有機EL素子
6 導電封止層
7 第2基板
9 アノード電極
10 カソード電極
11 有機化合物層
13 (アノード電極の)周縁部
20 アノード領域
21 カソード領域
23 第1シール部
31 有機EL装置
32 導電封止層
33 導電基板
34 導電バンプ
41 有機EL装置
51 有機EL装置
52 第1バリア層
61 有機EL装置
62 第2バリア層
71 有機EL装置
72 第3バリア層
81 有機EL装置
82 樹脂製コア
83 導電被覆膜
91 有機EL装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL apparatus 2 1st board | substrate 5 Organic EL element 6 Conductive sealing layer 7 2nd board | substrate 9 Anode electrode 10 Cathode electrode 11 Organic compound layer 13 Peripheral part (of anode electrode) 20 Anode area | region 21 Cathode area | region 23 1st seal | sticker part 31 Organic EL Device 32 Conductive Sealing Layer 33 Conductive Substrate 34 Conductive Bump 41 Organic EL Device 51 Organic EL Device 52 First Barrier Layer 61 Organic EL Device 62 Second Barrier Layer 71 Organic EL Device 72 Third Barrier Layer 81 Organic EL Device 82 Resin core 83 Conductive coating 91 Organic EL device

Claims (11)

第1基板と、
平面視矩形状の第1電極、前記第1電極に対向配置された平面視矩形状の第2電極、および前記第1電極と前記第2電極との間に介在された有機化合物層を有し、前記第1基板上に設けられた有機EL素子と、
前記第1基板上に設けられ、前記有機EL素子を覆うことにより前記有機EL素子を封止する導電封止層と
前記第1基板上に設けられ、前記第1電極および前記第2電極にそれぞれ接続される第1端子および第2端子とを含み、
前記第1電極は、前記第2電極の抵抗よりもシート抵抗が大きい電極膜であって、平面視で前記有機化合物層の外周の外側に露出する前記第1電極の周縁部の形状が、前記第2端子側が開放された平面視コ字状であり
前記第2電極は、前記第1電極の前記周縁部で取り囲まれていない一辺側から外側に引き出されることで、前記第2端子が形成され
前記導電封止層は、前記第1基板の厚さ方向に間隔を空けて前記有機EL素子に対向配置され、平面視で前記有機EL素子を覆う導電性のキャップ部と、前記導電性のキャップ部の前記第1基板側の面上に設けられ、前記第2端子に対応する部分を除いて前記有機EL素子の周囲を取り囲む平面視略四角環状に形成された導電性のシール部とから構成された第1領域を有し、
前記導電性のシール部は、前記第1電極の周縁部と平面視コ字状に線状に接触して電気的に接続されるとともに、前記第1端子と接触して電気的に接続され、
前記第1基板および前記導電封止層により形成され、前記有機EL素子を収容する中空部分には、絶縁体が充填されることにより絶縁層が形成されている、有機EL装置。
A first substrate;
A first electrode having a rectangular shape in plan view , a second electrode having a rectangular shape in plan view arranged opposite to the first electrode, and an organic compound layer interposed between the first electrode and the second electrode An organic EL device provided on the first substrate;
A conductive sealing layer provided on the first substrate and sealing the organic EL element by covering the organic EL element ;
A first terminal and a second terminal provided on the first substrate and connected to the first electrode and the second electrode, respectively ;
The first electrode is an electrode film having a sheet resistance larger than the resistance of the second electrode, and the shape of the peripheral portion of the first electrode exposed outside the outer periphery of the organic compound layer in a plan view is The second terminal side is an open U shape in plan view ,
The second electrode is pulled out from one side not surrounded by the peripheral edge of the first electrode , whereby the second terminal is formed ,
The conductive sealing layer is disposed to face the organic EL element with a space in the thickness direction of the first substrate, and covers the organic EL element in plan view, and the conductive cap A conductive seal portion provided on the surface of the first substrate side of the portion and formed in a substantially square annular shape in plan view surrounding the periphery of the organic EL element except for a portion corresponding to the second terminal A first region formed,
The conductive seal portion is electrically connected in contact with the peripheral edge portion of the first electrode in a line shape in a U shape in plan view, and is electrically connected in contact with the first terminal.
An organic EL device, wherein an insulating layer is formed by filling an insulating material in a hollow portion that is formed by the first substrate and the conductive sealing layer and that accommodates the organic EL element .
前記導電封止層は、前記第2端子に対応する部分に設けられ、前記第1領域から絶縁分離されるとともに前記第2電極に電気的に接続された第2領域を有している、請求項1に記載の有機EL装置。 The conductive sealing layer is provided in a portion corresponding to the second terminal, and has a second region electrically isolated from the first region and electrically connected to the second electrode. Item 2. The organic EL device according to Item 1. 前記導電封止層を支持する絶縁性の第2基板をさらに含む、請求項1または2に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, further comprising an insulating second substrate that supports the conductive sealing layer. 前記導電性のシール部は、樹脂材料からなるコアと、前記コアを被覆する導電被覆膜とからなる導電バンプである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機EL装置。 The conductive seal portion includes a core made of a resin material, a conductive bump formed of a conductive coating film covering the core, the organic EL device according to any one of claims 1 to 3. 前記導電封止層および前記有機EL素子の少なくとも一方を被覆するバリア層をさらに含む、請求項1〜のいずれか一項に記載の有機EL装置。 At least one further comprising a barrier layer covering the organic EL device according to any one of claims 1-4 of the electrically Denfu sealing layer and the organic EL element. 前記第1基板がフレキシブル性を有する、請求項1〜のいずれか一項に記載の有機EL装置。 Wherein the first substrate has flexibility, the organic EL device according to any one of claims 1-5. 前記第1端子は、前記第2端子を挟むように配置された一対の端子であり、前記一対の第1端子は、平面視コ字状の前記周縁部の互いに対向する一対の辺の延長線上に配置されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載の有機EL装置。  The first terminals are a pair of terminals arranged so as to sandwich the second terminal, and the pair of first terminals is an extension line of a pair of opposite sides of the peripheral portion in a U shape in plan view. The organic EL device according to claim 1, wherein the organic EL device is disposed on the substrate. 前記導電封止層は、前記一対の第1端子および前記第2端子の端部を露出させるように形成されている、請求項に記載の有機EL装置。 The organic EL device according to claim 7 , wherein the conductive sealing layer is formed so as to expose end portions of the pair of first terminals and the second terminals. 前記第1電極が、透明電極材料からなる電極膜からなり、
前記第2電極が、金属材料からなる電極膜からなる、請求項1〜のいずれか一項に記載の有機EL装置。
The first electrode is made of an electrode film made of a transparent electrode material,
Wherein the second electrode consists of an electrode film made of a metal material, an organic EL device according to any one of claims 1-8.
前記第1基板が、透明基板からなり、
前記第1電極が、前記第1基板の上面に形成されている、請求項に記載の有機EL装置。
The first substrate comprises a transparent substrate;
The organic EL device according to claim 9 , wherein the first electrode is formed on an upper surface of the first substrate.
前記第1電極が、アノード電極であり、
前記第2電極が、カソード電極である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の有機EL装置。
The first electrode is an anode electrode;
The second electrode is a cathode electrode, the organic EL device according to any one of claims 1-10.
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