JP5742500B2 - Method for producing biaryl compound - Google Patents

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Description

本発明は、ビアリール化合物の製造方法等に関する。   The present invention relates to a method for producing a biaryl compound and the like.

ビアリール化合物、特にスルホ基などの電子求引性基を有するビアリール化合物は、医薬、農薬、液晶材料、有機エレクトロルミネッセンス(Organic Electro-Luminescence)材料およびこれらの合成中間体として有用な化合物である。かかる化合物の製造方法としては、例えば、2,2’−ベンジジンジスルホン酸に亜硝酸ナトリウムを反応させた後、得られる反応物に、塩化銅を含む塩酸を反応させて水酸化ナトリウムで中和することにより、4,4’−ジクロロ−2,2’−ビフェニルジスルホン酸ジナトリウムを製造する方法が特許文献1に記載されている。   Biaryl compounds, particularly biaryl compounds having an electron-attracting group such as a sulfo group, are useful compounds as pharmaceuticals, agricultural chemicals, liquid crystal materials, organic electro-luminescence materials, and synthetic intermediates thereof. As a method for producing such a compound, for example, after reacting 2,2′-benzidinedisulfonic acid with sodium nitrite, the resulting reaction product is reacted with hydrochloric acid containing copper chloride and neutralized with sodium hydroxide. Thus, Patent Document 1 discloses a method for producing disodium 4,4′-dichloro-2,2′-biphenyldisulfonate.

特開2009−161493号公報([0046][製造例1])JP 2009-161493 A ([0046] [Production Example 1])

特許文献1の製造方法では、原料である2,2’−ベンジジンジスルホン酸の入手が必ずしも容易ではないという問題があった。   The production method of Patent Document 1 has a problem that it is not always easy to obtain 2,2'-benzidinedisulfonic acid as a raw material.

本発明者らは、2,2’−ベンジジンジスルホン酸とは異なる原料によるビアリール化合物の製造方法について鋭意検討した結果、以下の本発明に至った。
<1> 分子内に少なくとも2つの三級アミノ基を含むアミン化合物、金属銅及び銅塩の存在下、式(1)
Ar−Cl (1)
(式(1)中、Arは置換基を有していてもよい芳香族基を表す。)
で示されるアリールクロライド化合物をカップリングさせる工程を含むことを特徴とする式(2)
Ar−Ar (2)
(式(2)中、Arは前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物の製造方法。
As a result of intensive studies on a method for producing a biaryl compound using a raw material different from 2,2′-benzidinedisulfonic acid, the present inventors have reached the present invention described below.
<1> Formula (1) in the presence of an amine compound containing at least two tertiary amino groups in the molecule, metallic copper and a copper salt.
Ar-Cl (1)
(In formula (1), Ar represents an aromatic group which may have a substituent.)
Comprising the step of coupling an aryl chloride compound represented by formula (2):
Ar-Ar (2)
(In the formula (2), Ar has the same meaning as described above.)
The manufacturing method of biaryl compound shown by these.

<2> アミン化合物に含まれる三級アミン基を構成する窒素原子が、3つの炭素原子と結合している窒素原子であることを特徴とする<1>記載の製造方法。
<3> 銅塩が、10以下の酸解離定数(pKa)を示すブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基と銅カチオンとからなる塩であることを特徴とする<1>又は<2>記載の製造方法。
<4> ブレンステッド酸が、ハロゲン化水素、硫酸、チオシアン酸、リン酸、炭酸、硝酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、アセチルアセトン、フェノール、ペンタフルオロフェノールおよびチオフェノールからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする<2>又は<3>記載の製造方法。
<5> 銅塩が、ハロゲン化銅、硫酸銅、銅チオシアネート、リン酸銅、炭酸銅、硝酸銅、メタンスルホン酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I)−ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I)−トルエン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)、ベンゼンスルホン酸銅、酢酸銅、トリフルオロ酢酸銅、ペンタフルオロプロピオン酸銅、銅(II)アセチルアセトナート、銅フェノレート、銅ペンタフルオロフェノレートおよび銅チオフェノレートからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする<1>又は<2>記載の製造方法。
<6> 銅塩が、ハロゲン化銅であることを特徴とする<1>又は<2>記載の製造方法。
<7> 銅塩の使用量が、アミン化合物1モルに対し、0.01モル〜10モルの範囲であることを特徴とする<1>〜<6>のいずれか記載の製造方法。
<2> The method according to <1>, wherein the nitrogen atom constituting the tertiary amine group contained in the amine compound is a nitrogen atom bonded to three carbon atoms.
<3> The copper salt is a salt composed of a Bronsted base obtained by removing hydrogen ions from a Bronsted acid having an acid dissociation constant (pKa) of 10 or less and a copper cation <1> or <2 > The production method described.
<4> Bronsted acid is hydrogen halide, sulfuric acid, thiocyanic acid, phosphoric acid, carbonic acid, nitric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, pentafluoropropionic acid, acetylacetone, <2> or <3>, wherein the production method is at least one selected from the group consisting of phenol, pentafluorophenol and thiophenol.
<5> Copper salt is copper halide, copper sulfate, copper thiocyanate, copper phosphate, copper carbonate, copper nitrate, copper methanesulfonate, copper trifluoromethanesulfonate (I) -benzene complex, copper trifluoromethanesulfonate ( I) -toluene complex, copper (II) trifluoromethanesulfonate, copper benzenesulfonate, copper acetate, copper trifluoroacetate, copper pentafluoropropionate, copper (II) acetylacetonate, copper phenolate, copper pentafluorophenol <1> or <2>, wherein the production method is at least one selected from the group consisting of a rate and copper thiophenolate.
<6> The method according to <1> or <2>, wherein the copper salt is copper halide.
<7> The method according to any one of <1> to <6>, wherein the amount of copper salt used is in the range of 0.01 mol to 10 mol with respect to 1 mol of the amine compound.

<8> アミン化合物が、2,2’-ビピリジル、1,10−フェナントロリン、1,4,7−トリメチル−1,4,7−トリアザシクロノナン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン及びN,N,N’,N’−テトラエチルエチレンジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1つのアミン化合物であることを特徴とする<1>〜<7>のいずれか記載の製造方法。
<9> アミン化合物の使用量が、アリールクロライド化合物1モルに対し、0.0001モル〜0.5モルの範囲であることを特徴とする<1>〜<8>のいずれか記載の製造方法。
<8> The amine compound is 2,2′-bipyridyl, 1,10-phenanthroline, 1,4,7-trimethyl-1,4,7-triazacyclononane, N, N, N ′, N′-tetra The production method according to any one of <1> to <7>, which is at least one amine compound selected from the group consisting of methylethylenediamine and N, N, N ′, N′-tetraethylethylenediamine.
<9> The production method according to any one of <1> to <8>, wherein the amount of the amine compound used is in the range of 0.0001 mol to 0.5 mol with respect to 1 mol of the aryl chloride compound. .

<10> Arが、電子求引性基を少なくとも一つ有する芳香族基であることを特徴とする<1>〜<9>のいずれか記載の製造方法。
<11> アリールクロライド化合物が、式(3)

Figure 0005742500
(式(3)中、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表し、
は、水素原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表す。なお、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している、R及びRの組み合わせ、R及びRの組み合わせ、並びに、R及びRの組み合わせは、各々が結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。Eは電子求引性基を表す。)
で示されるアリールクロライド化合物であり、
ビアリール化合物が、式(4)
Figure 0005742500
(式(4)中、R、R、R、R及びEは前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物であることを特徴とする<1>〜<10>のいずれか記載の製造方法。
〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数6〜12のアリールオキシ基 <10> Ar is an aromatic group having at least one electron-withdrawing group, The production method according to any one of <1> to <9>.
<11> The aryl chloride compound is represented by the formula (3)
Figure 0005742500
(In Formula (3), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following group G; From an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, from the following G group An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a selected group, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, and a group selected from the following G group An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have an amino group having a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following group G;
R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, or a group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group. An alkoxy group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, Aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, Aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group as a substituent, or The amino group which has a C1-C20 hydrocarbon group which may have the group chosen from the following G group is represented. The combination of R 1 and R 2 , the combination of R 2 and R 3 , and the combination of R 3 and R 4 that are bonded to adjacent carbon atoms are the same as the carbon atom to which each is bonded. To form a ring. E represents an electron withdrawing group. )
An aryl chloride compound represented by:
The biaryl compound is of the formula (4)
Figure 0005742500
(In the formula (4), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and E are as defined above.)
The production method according to any one of <1> to <10>, which is a biaryl compound represented by the formula:
[Group G]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms

<12> 電子求引性基が、式(5)

Figure 0005742500
(式(5)中、Yは、水素原子、アルカリ金属イオン、式(6)
Figure 0005742500
(式(6)中、Y、Y、Y及びYは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を表す。)
で示されるアンモニウムイオン、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、または、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数6〜12のアリールオキシ基)
で示される基であることを特徴とする<10>又は<11>記載の製造方法。 <12> The electron withdrawing group is represented by the formula (5)
Figure 0005742500
(In Formula (5), Y is a hydrogen atom, an alkali metal ion, Formula (6)
Figure 0005742500
(In formula (6), Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
Or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, or 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group. Represents an aryl group.
[Group G]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms)
<10> or <11>, wherein the method is a group represented by the formula:

<13> アリールクロライド化合物が、式(10)

Figure 0005742500
(式(10)中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、式(6)
Figure 0005742500
(式(6)中、Y、Y、Y及びYは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を表す。)
で示されるアンモニウムイオン、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、または、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R10は、それぞれ独立に、フッ素原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数2〜20のアシル基又はシアノ基を表わす。kは0〜3の整数を表わす。また、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している2つのR10同士は結合し、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。
〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数1〜12のアリールオキシ基)
で示されるアリールクロライド化合物であり、ビアリール化合物が式(11)
Figure 0005742500
(式中、R10、Y及びkは前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物であることを特徴とする<1>〜<9>のいずれか記載の製造方法。 <13> The aryl chloride compound has the formula (10)
Figure 0005742500
(In Formula (10), Y is a hydrogen ion, an alkali metal ion, Formula (6)
Figure 0005742500
(In formula (6), Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
Or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, or 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group. Represents an aryl group. R 10 is independently a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the following G group, or a carbon number that may have a group selected from the following G group. An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following group G, and a 6 to 20 carbon atom which may have a group selected from the following group G An aryloxy group, an acyl group having 2 to 20 carbon atoms and a cyano group which may have a group selected from Group G below. k represents an integer of 0 to 3. Further, two R 10 bonded to adjacent carbon atoms may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded.
[G group]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms)
And the biaryl compound is represented by the formula (11):
Figure 0005742500
(Wherein R 10 , Y and k are as defined above.)
The production method according to any one of <1> to <9>, which is a biaryl compound represented by the formula:

<14> Yが、アルカリ金属イオンであることを特徴とする<12>又は<13>記載の製造方法。
<15> 電子求引性基が、ニトロ基(-NO)であることを特徴とする<10>又は<11>記載の製造方法。
<14> The method according to <12> or <13>, wherein Y is an alkali metal ion.
<15> The method according to <10> or <11>, wherein the electron withdrawing group is a nitro group (—NO 2 ).

<16> Arが、芳香族性を有する複素環基(但し、当該複素環基は置換基を有していてもよい)であることを特徴とする<1>〜<10>のいずれか記載の製造方法。
<17> Arが、Arに含まれるヘテロ原子とArのClに結合している炭素原子とが直接結合している複素環基であることを特徴とする<16>記載の製造方法。
<18> アリールクロライド化合物が、式(7)

Figure 0005742500
(式中、R11及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表し、
14は、水素原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表す。なお、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している、R11及びR12の組み合わせ、並びに、R12及びR14の組み合わせは、各々が結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。Aは、酸素原子または硫黄原子を表す。
〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数1〜12のアリールオキシ基)
で示される化合物であり、
ビアリール化合物が式(8)
Figure 0005742500
(式中、A、R11、R12およびR14は前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物であることを特徴とする<1>〜<10>のいずれか記載の製造方法。
<19> カップリングさせる工程が、非プロトン性極性溶媒の存在下で行う工程であることを特徴とする<1>〜<18>のいずれか記載の製造方法。 <16> Ar is a heterocyclic group having aromaticity (however, the heterocyclic group may have a substituent). Any one of <1> to <10> Manufacturing method.
<17> The production method according to <16>, wherein Ar is a heterocyclic group in which a hetero atom contained in Ar and a carbon atom bonded to Cl of Ar are directly bonded.
<18> The aryl chloride compound has the formula (7)
Figure 0005742500
Wherein R 11 and R 12 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, and the following G group. An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, and a group selected from the following G group An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may be present, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, and a group selected from the following G group. Represents an amino group having a C1-C20 hydrocarbon group which may have a good C7-20 aralkyloxy group or a group selected from the following G group;
R 14 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the following G group, or a C 1 to 20 carbon group that may have a group selected from the following G group. An alkoxy group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, Aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, Aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group as a substituent, or The amino group which has a C1-C20 hydrocarbon group which may have the group chosen from the following G group is represented. The combination of R 11 and R 12 and the combination of R 12 and R 14 that are bonded to adjacent carbon atoms, respectively, form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. May be. A represents an oxygen atom or a sulfur atom.
[G group]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms)
A compound represented by
Biaryl compounds are represented by formula (8)
Figure 0005742500
(In the formula, A, R 11 , R 12 and R 14 are as defined above.)
The production method according to any one of <1> to <10>, which is a biaryl compound represented by the formula:
<19> The method according to any one of <1> to <18>, wherein the coupling step is a step performed in the presence of an aprotic polar solvent.

本発明によれば、入手容易なアリールクロライド化合物からビアリール化合物が製造可能である。   According to the present invention, a biaryl compound can be produced from an easily available aryl chloride compound.

本発明の式(2)で示されるビアリール化合物(以下、化合物(2)と記すことがある)の製造方法は、分子内に少なくとも2つの三級アミノ基を含むアミン化合物、金属銅及び銅塩の存在下、式(1)で示されるアリールクロライド化合物(以下、アリールクロライド化合物(1)と記すことがある)をカップリングさせる工程を含むことを特徴とする。以下の説明において、かかる工程を単に、「カップリング反応」と記すことがある。   The method for producing a biaryl compound represented by formula (2) of the present invention (hereinafter sometimes referred to as compound (2)) comprises an amine compound containing at least two tertiary amino groups in the molecule, metallic copper and a copper salt. In the presence of, an aryl chloride compound represented by formula (1) (hereinafter sometimes referred to as aryl chloride compound (1)) is coupled. In the following description, this process may be simply referred to as “coupling reaction”.

以下、本発明の製造方法を詳細に説明する。
まず、カップリング反応に用いられる金属銅及び銅塩について説明する。
金属銅の使用量は、用いるアリールクロライド化合物(1)の物質量1モルに対して、例えば、0.5モル〜20モルの範囲であり、好ましくは、例えば、1モル〜5モルの範囲である。金属銅の使用量が0.5モル以上であると、得られる化合物(2)の収率が向上する傾向があることから好ましく、また、金属銅の使用量が20モル以下であると、化合物(2)を反応系中から取り出すための後処理において、操作が簡便になる傾向があることから好ましい。金属銅の形状としては、例えば、粉体状、ワイヤ状、箔状、削り状又は粒子状等が挙げられ、当該金属銅の操作性の点からは、粉体状であること好ましい。このような金属銅は、市場から容易に入手可能である。かかる市販の金属銅は、その表面の一部が、環境中の酸素により酸化され酸化銅になっていることもある。このようにごく微量の酸化銅を含む金属銅はそのままカップリング反応に供することもできるし、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム、モノエタノールアミン、エチレンジアミン4酢酸、ヒドロキシエタンジホスホン酸、カテコール、ガーリック酸、シュウ酸、クエン酸、ヒドロキシルアミン、2−メルカプトエタノール、チオグリセロールなどの洗浄剤でかかるごく微量の酸化銅を除去してからカップリング反応に供することもできる。
Hereinafter, the production method of the present invention will be described in detail.
First, metal copper and copper salt used for the coupling reaction will be described.
The amount of metallic copper used is, for example, in the range of 0.5 to 20 moles, preferably in the range of 1 to 5 moles with respect to 1 mole of the substance amount of the aryl chloride compound (1) used. is there. If the amount of metallic copper used is 0.5 mol or more, the yield of the resulting compound (2) tends to improve, and if the amount of metallic copper used is 20 mol or less, the compound The post-treatment for removing (2) from the reaction system is preferable because the operation tends to be simple. Examples of the shape of the metallic copper include a powder shape, a wire shape, a foil shape, a shaving shape, a particle shape, and the like. From the viewpoint of operability of the metallic copper, a powder shape is preferable. Such copper metal is readily available from the market. A part of the surface of such commercially available metallic copper may be oxidized by oxygen in the environment to become copper oxide. Thus, metallic copper containing a very small amount of copper oxide can be used for the coupling reaction as it is, for example, tetramethylammonium hydroxide, monoethanolamine, ethylenediaminetetraacetic acid, hydroxyethanediphosphonic acid, catechol, garlic acid. In addition, a very small amount of copper oxide can be removed with a cleaning agent such as oxalic acid, citric acid, hydroxylamine, 2-mercaptoethanol, thioglycerol, etc., and then subjected to a coupling reaction.

銅塩は、銅カチオンとアニオンとからなる。1価の銅カチオンとアニオンとからなる銅塩でもよいし、2価の銅カチオンとアニオンとからなる銅塩でもよい。
アニオンとしては、10以下の酸解離定数(pKa)を示すブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基が好ましい。酸解離定数(pKa)は、25℃、水中における数値であり、化学便覧基礎編改訂5版II−331〜II−343(日本化学会編、丸善株式会社発行)に記載された方法によって算出することができる。ブレンステッド酸が多価塩基酸の場合、第1段階の酸解離定数(pKa)が10以下であることが好ましい。
アニオンとして、酸解離定数(pKa)が6以下であるブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基がより好ましく、3以下であるブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基が特に好ましい。また、アニオンとして、酸解離定数(pKa)が−10以上であるブレンステッド酸から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基が好ましい。
好ましいアニオンをブレンステッド酸として具体的に例示すると、ハロゲン化水素(pKa:−4〜2.7)、硫酸(pKa:2以下)、チオシアン酸(pKa:−0.9)、リン酸(pKa:1.8)、炭酸(pKa:6.1)、硝酸(pKa:−1.8)、メタンスルホン酸(pKa:−1.2)、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸(pKa:−2.5)、酢酸(pKa:4.7)、トリフルオロ酢酸(pKa:0.2)、ペンタフルオロプロピオン酸、アセチルアセトン(pKa:8.8)、フェノール(pKa:9.9)、ペンタフルオロフェノール、チオフェノール(pKa:6.4)等を挙げることができる。
A copper salt consists of a copper cation and an anion. The copper salt which consists of a monovalent copper cation and an anion may be sufficient, and the copper salt which consists of a bivalent copper cation and an anion may be sufficient.
As the anion, a Bronsted base obtained by removing a hydrogen ion from a Bronsted acid having an acid dissociation constant (pKa) of 10 or less is preferable. The acid dissociation constant (pKa) is a value in water at 25 ° C., and is calculated by the method described in Chemical Handbook Basic Revised Edition II-331 to II-343 (edited by the Chemical Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd.). be able to. When the Bronsted acid is a polybasic acid, the acid dissociation constant (pKa 1 ) in the first stage is preferably 10 or less.
As an anion, a Bronsted base obtained by removing hydrogen ions from a Bronsted acid having an acid dissociation constant (pKa) of 6 or less is more preferred, and a Bronsted base obtained by removing hydrogen ions from a Bronsted acid having 3 or less is particularly preferred. Moreover, as an anion, the Bronsted base which removed the hydrogen ion from the Bronsted acid whose acid dissociation constant (pKa) is -10 or more is preferable.
Specific examples of preferred anions as Bronsted acids include hydrogen halide (pKa: -4 to 2.7), sulfuric acid (pKa: 2 or less), thiocyanic acid (pKa: -0.9), phosphoric acid (pKa) : 1.8), carbonic acid (pKa: 6.1), nitric acid (pKa: -1.8), methanesulfonic acid (pKa: -1.2), trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid (pKa: -2) .5), acetic acid (pKa: 4.7), trifluoroacetic acid (pKa: 0.2), pentafluoropropionic acid, acetylacetone (pKa: 8.8), phenol (pKa: 9.9), pentafluorophenol And thiophenol (pKa: 6.4).

銅塩としては、例えば、ハロゲン化銅、硫酸銅、銅チオシアネート、リン酸銅、炭酸銅、硝酸銅、メタンスルホン酸銅、p−トルエンスルホン酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I)−ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I)−トルエン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)、ベンゼンスルホン酸銅、酢酸銅、トリフルオロ酢酸銅、ペンタフルオロプロピオン酸銅、銅(II)アセチルアセトナート、銅フェノレート、銅ペンタフルオロフェノレート、銅チオフェノレート等を挙げることができる。ハロゲン化銅としては、例えば、フッ化銅、塩化銅、臭化銅及びヨウ化銅が挙げられ、これらから選ばれる2種以上を混合してもよい。かかる銅塩は水和物であってもよいが、無水物が好ましい。   As a copper salt, for example, copper halide, copper sulfate, copper thiocyanate, copper phosphate, copper carbonate, copper nitrate, copper methanesulfonate, copper p-toluenesulfonate, copper trifluoromethanesulfonate (I) -benzene complex , Copper (I) trifluoromethanesulfonate-toluene complex, copper (II) trifluoromethanesulfonate, copper benzenesulfonate, copper acetate, copper trifluoroacetate, copper pentafluoropropionate, copper (II) acetylacetonate, copper Examples include phenolate, copper pentafluorophenolate, and copper thiophenolate. Examples of the copper halide include copper fluoride, copper chloride, copper bromide, and copper iodide, and two or more selected from these may be mixed. Such copper salts may be hydrates, but anhydrides are preferred.

銅塩は、市販されているものをそのまま使用してもよいし、1価又は2価の銅化合物と、酸とを混合することにより調製したものを使用してもよい。1価又は2価の銅化合物としては、通常、酸化銅、水酸化銅等が好ましく使用され、酸としては前記のブレンステッド酸が使用される。   A commercially available copper salt may be used as it is, or a copper salt prepared by mixing a monovalent or divalent copper compound and an acid may be used. As the monovalent or divalent copper compound, usually, copper oxide, copper hydroxide, or the like is preferably used, and the above-mentioned Bronsted acid is used as the acid.

好ましい銅塩としては、例えば、ハロゲン化銅、硫酸銅、銅チオシアネート、硝酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I)−ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I)−トルエン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)、銅(II)アセチルアセトナート、銅チオフェノレート等を挙げることができ、より好ましくは、例えば、ハロゲン化銅、硫酸銅、硝酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I)−ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)、銅(II)アセチルアセトナート等が挙げられる。
銅塩の使用量は、用いるアミン化合物1モルに対して、例えば、0.01モル〜10モルの範囲であり、好ましくは、例えば、0.02モル〜1モルの範囲であり、より好ましくは、例えば、1/3モル〜1/30モルの範囲である。
また、銅塩の使用量の下限値は、用いるアリールクロライド化合物(1)1モルに対し、例えば、0.00001モルであり、好ましくは、例えば、0.0001モルであり、より好ましくは、例えば、0.001モルである。一方、銅塩の使用量の上限値は、用いるアリールクロライド化合物(1)1モルに対して、例えば、0.5モルであり、好ましくは、例えば、0.3モルであり、より好ましくは、例えば、0.1モルである。よって、銅塩の使用量は、用いるアリールクロライド化合物(1)の物質量(即ち、100モル%として)に対して、例えば、0.001モル%〜50モル%の範囲であり、好ましくは、例えば、0.01モル%〜50モル%の範囲であり、より好ましくは、例えば、0.1モル%〜50モル%の範囲であり、目的とする化合物(2)の収率および反応終了後の銅塩の除去の操作性の点で0.1モル%〜30モル%の範囲であり、好ましくは、例えば、0.5モル%〜10モル%の範囲である。
Preferred copper salts include, for example, copper halide, copper sulfate, copper thiocyanate, copper nitrate, copper (I) trifluoromethanesulfonate-benzene complex, copper (I) trifluoromethanesulfonate-toluene complex, copper trifluoromethanesulfonate (II), copper (II) acetylacetonate, copper thiophenolate, etc. can be mentioned, More preferably, for example, copper halide, copper sulfate, copper nitrate, copper trifluoromethanesulfonate (I) -benzene complex , Copper (II) trifluoromethanesulfonate, copper (II) acetylacetonate and the like.
The amount of copper salt used is, for example, in the range of 0.01 mol to 10 mol, preferably in the range of 0.02 mol to 1 mol, and more preferably, with respect to 1 mol of the amine compound used. For example, it is the range of 1/3 mol-1/30 mol.
Moreover, the lower limit of the usage-amount of copper salt is 0.00001 mol with respect to 1 mol of aryl chloride compounds (1) to be used, for example, Preferably, it is 0.0001 mol, More preferably, for example, 0.001 mol. On the other hand, the upper limit of the amount of copper salt used is, for example, 0.5 mol, preferably, for example, 0.3 mol, more preferably, with respect to 1 mol of the aryl chloride compound (1) to be used. For example, 0.1 mol. Therefore, the amount of copper salt used is, for example, in the range of 0.001 mol% to 50 mol% with respect to the substance amount of the aryl chloride compound (1) to be used (that is, as 100 mol%), preferably For example, it is in the range of 0.01 mol% to 50 mol%, more preferably in the range of 0.1 mol% to 50 mol%, for example, the yield of the desired compound (2) and after completion of the reaction From the viewpoint of the operability of removing the copper salt, it is in the range of 0.1 mol% to 30 mol%, preferably 0.5 mol% to 10 mol%, for example.

次に、分子内に少なくとも2つの三級アミノ基を含むアミン化合物(以下、アミン化合物と記すことがある)について説明する。
アミン化合物に含まれる三級アミノ基とは、3つの炭素原子と結合している窒素原子からなる置換基を意味し、アミン化合物に含まれる三級アミン基を構成する窒素原子が、3つの炭素原子と結合している窒素原子であることを意味する。該炭素原子は、芳香族性を有していてもよい。
アミン化合物に含まれる2つの三級アミノ基は、炭素原子2個を介して結合していることが好ましい。
アミン化合物としては、例えば、2,2’-ビピリジル、1,10−フェナントロリン、1,4,7−トリメチル−1,4,7−トリアザシクロノナン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン及びN,N,N’,N’−テトラエチルエチレンジアミン等を挙げることができる。
アミン化合物の使用量としては、用いる銅塩1モルに対して、例えば、0.1モル〜100モルの範囲であり、好ましくは、例えば、1モル〜50モルの範囲であり、より好ましくは、例えば、3モル〜30モルの範囲である。アミン化合物の使用量が銅塩1モルに対して0.1モル以上であると化合物(2)の収率が向上する傾向があり、また、100モル以下であると、反応速度が向上する傾向があることから好ましい。
また、アミン化合物の使用量の上限値としては、用いるアリールクロライド化合物(1)1モルに対して、例えば、50モルであり、好ましくは、例えば、20モルであり、より好ましくは、例えば、5モルであり、特に好ましくは、例えば、0.5モルである。一方、アミン化合物の使用量の下限値としては、用いるアリールクロライド化合物(1)1モルに対して、例えば、0.00001モルであり、好ましくは、例えば、0.0001モルである。よって、アミン化合物の使用量は、用いるアリールクロライド化合物(1)1モルに対して、例えば、0.00001モル〜50モルの範囲であり、好ましくは、例えば、0.0001モル〜20モルの範囲であり、より好ましくは、例えば、0.0001モル〜5モルの範囲であり、特に好ましくは、例えば、0.0001モル〜0.5モルの範囲である。
また更にアミン化合物の使用量のより好ましい下限値としては、用いるアリールクロライド化合物(1)1モルに対して、例えば、0.001モルであり、特に好ましくは、例えば、0.01モルである。よって、アミン化合物の使用量は、用いるアリールクロライド化合物(1)1モルに対して、例えば、0.001モル〜20モルの範囲であり、好ましくは、例えば、0.01モル〜5モルの範囲である。
Next, an amine compound containing at least two tertiary amino groups in the molecule (hereinafter sometimes referred to as an amine compound) will be described.
The tertiary amino group contained in the amine compound means a substituent consisting of a nitrogen atom bonded to three carbon atoms, and the nitrogen atom constituting the tertiary amine group contained in the amine compound has three carbon atoms. It means a nitrogen atom bonded to an atom. The carbon atom may have aromaticity.
The two tertiary amino groups contained in the amine compound are preferably bonded via two carbon atoms.
Examples of the amine compound include 2,2′-bipyridyl, 1,10-phenanthroline, 1,4,7-trimethyl-1,4,7-triazacyclononane, N, N, N ′, N′-tetra. Mention may be made of methylethylenediamine and N, N, N ′, N′-tetraethylethylenediamine.
As the usage-amount of an amine compound, it is the range of 0.1 mol-100 mol with respect to 1 mol of copper salts to be used, Preferably, it is the range of 1 mol-50 mol, More preferably, For example, it is in the range of 3 mol to 30 mol. When the amount of the amine compound used is 0.1 mol or more with respect to 1 mol of the copper salt, the yield of the compound (2) tends to be improved, and when it is 100 mol or less, the reaction rate tends to be improved. This is preferable.
Moreover, as an upper limit of the usage-amount of an amine compound, it is 50 mol with respect to 1 mol of aryl chloride compounds (1) to be used, for example, Preferably, it is 20 mol, More preferably, for example, it is 5 Mol, particularly preferably, for example, 0.5 mol. On the other hand, the lower limit of the amount of the amine compound used is, for example, 0.00001 mol, preferably, for example, 0.0001 mol with respect to 1 mol of the aryl chloride compound (1) used. Therefore, the usage-amount of an amine compound is the range of 0.00001 mol-50 mol with respect to 1 mol of aryl chloride compounds (1) to be used, Preferably, it is the range of 0.0001 mol-20 mol, for example. More preferably, it is the range of 0.0001 mol-5 mol, for example, Most preferably, it is the range of 0.0001 mol-0.5 mol, for example.
Further, a more preferable lower limit of the amount of the amine compound used is, for example, 0.001 mol, particularly preferably, for example, 0.01 mol with respect to 1 mol of the aryl chloride compound (1) to be used. Therefore, the usage-amount of an amine compound is the range of 0.001 mol-20 mol with respect to 1 mol of aryl chloride compounds (1) to be used, Preferably, it is the range of 0.01 mol-5 mol, for example. It is.

カップリング反応は、溶媒の存在下に行われることが好ましい。当該溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等のエステル溶媒などが挙げられる。かかる溶媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。なかでも、N−メチル−2−ピロリドン、トルエン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、及び酢酸エチルがより好ましい。溶媒の使用量は、用いるアリールクロライド化合物(1)1重量部に対して、例えば、0.5重量部〜20重量部の範囲を挙げることができ、好ましくは、例えば、1重量部〜10重量部の範囲である。   The coupling reaction is preferably performed in the presence of a solvent. Examples of the solvent include aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and hexamethylphosphoric triamide, such as hexane, Aliphatic hydrocarbon solvents such as heptane and octane, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, for example, ether solvents such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and diethylene glycol dimethyl ether, such as ethyl acetate, butyl acetate and carbonic acid Examples thereof include ester solvents such as dimethyl and diethyl carbonate. Such a solvent may be used independently and may be used in mixture of 2 or more types. Of these, N-methyl-2-pyrrolidone, toluene, diethylene glycol dimethyl ether, and ethyl acetate are more preferable. The amount of the solvent used may be, for example, in the range of 0.5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, with respect to 1 part by weight of the aryl chloride compound (1) to be used. Part range.

カップリング反応は、窒素ガス又はアルゴンガス等の不活性ガスの雰囲気下に行われることが好ましい。
カップリング反応の反応温度は、例えば、0℃〜300℃の範囲であり、用いるアリールクロライド化合物(1)の種類及びその量、金属銅及びハロゲン化銅の使用量等により適宜調節できる。好ましくは、例えば、50℃〜250℃の範囲であり、より好ましくは、100℃〜200℃の範囲であり、特に好ましくは、140℃〜180℃の範囲である。反応温度が0℃以上であると、化合物(2)が生成する速度が向上し反応時間が短縮される傾向があることから好ましく、反応温度が300℃以下であると生成した化合物(2)が分解するといった副反応の発生が抑制される傾向があることから好ましい。
カップリング反応の反応時間は、例えば、1時間〜48時間の範囲であり、適宜調節できる。また、反応系中の反応混合物を所定時間おきにサンプリングし、サンプリングした反応溶液を、例えば、液体クロマトグラフィー分析やガスクロマトグラフィー分析等の分析手段により、アリールクロライド化合物(1)の消失の度合い、又は、化合物(2)の生成の度合いを求めて、反応時間を調節することもできる。
The coupling reaction is preferably performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas.
The reaction temperature of the coupling reaction is, for example, in the range of 0 ° C. to 300 ° C., and can be appropriately adjusted depending on the type and amount of the aryl chloride compound (1) used, the amount of metal copper and copper halide used, and the like. Preferably, it is the range of 50 to 250 degreeC, for example, More preferably, it is the range of 100 to 200 degreeC, Most preferably, it is the range of 140 to 180 degreeC. When the reaction temperature is 0 ° C. or higher, the rate at which the compound (2) is generated is improved and the reaction time tends to be shortened. When the reaction temperature is 300 ° C. or lower, the generated compound (2) is It is preferable because side reactions such as decomposition tend to be suppressed.
The reaction time of the coupling reaction is, for example, in the range of 1 hour to 48 hours, and can be adjusted as appropriate. In addition, the reaction mixture in the reaction system is sampled every predetermined time, and the sampled reaction solution is analyzed for the degree of disappearance of the aryl chloride compound (1) by an analysis means such as liquid chromatography analysis or gas chromatography analysis, Alternatively, the reaction time can be adjusted by obtaining the degree of formation of the compound (2).

本発明の製造方法によれば、出発原料として入手容易なアリールクロライド化合物(1)を用いて、対応する化合物(2)を製造することが可能である。
また、アリールクロライド化合物(1)は、一般に、カップリング反応の反応性が低い傾向があるが、本発明の製造方法によれば、出発原料として反応性の低いアリールクロライド化合物(1)を用いても、対応する化合物(2)を製造することが可能である。
アリールクロライド化合物(1)は複数種のアリールクロライド化合物(1)を用いてもよく、例えば、Ar-ClとAr-Clとの2種類のアリールクロライド化合物(1)を用いた場合、Ar-Ar、Ar-Ar、Ar-Arの3種類の化合物(2)を製造することができる。
好ましくは、本発明の製造方法は、1種類のアリールクロライド化合物(1)を用いる。
According to the production method of the present invention, it is possible to produce the corresponding compound (2) using the aryl chloride compound (1) which is easily available as a starting material.
The aryl chloride compound (1) generally tends to have low reactivity of the coupling reaction. However, according to the production method of the present invention, the aryl chloride compound (1) having low reactivity is used as a starting material. It is also possible to produce the corresponding compound (2).
As the aryl chloride compound (1), a plurality of types of aryl chloride compounds (1) may be used. For example, when two types of aryl chloride compounds (1) of Ar 1 -Cl and Ar 2 -Cl are used, Ar Three types of compounds (2) of 1- Ar 1 , Ar 1 -Ar 2 , and Ar 2 -Ar 2 can be produced.
Preferably, the production method of the present invention uses one kind of aryl chloride compound (1).

アリールクロライド化合物(1)のArは置換基を有していてもよい芳香族基である。「置換基を有していてもよい芳香族基」とは、置換基を有していてもよい芳香族化合物の芳香環に結合している水素原子を1個取り去って得られる基を意味する。
置換基を有しない芳香族化合物としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ピレン、ビフェニル、フルオレン、9、9’−ビフルオレン、フェナントレン、ペリレン、クリセン、ナフタセン、ペンタセン、トリプチセンなどの芳香族性を有する環状炭化水素基を与える化合物、例えば、ピリジン、フラン、チオフェン、ベンゾチアジアゾール、ピロール、キノリン、キノキサリン、ピリミジン及びピラジンなどの芳香族性を有する複素環基を与える化合物、例えば、フェロセン等を挙げることができる。
Ar in the aryl chloride compound (1) is an aromatic group which may have a substituent. “Aromatic group optionally having substituent (s)” means a group obtained by removing one hydrogen atom bonded to the aromatic ring of an aromatic compound optionally having substituent (s). .
Examples of the aromatic compound having no substituent include aromaticity such as benzene, naphthalene, anthracene, pyrene, biphenyl, fluorene, 9, 9′-bifluorene, phenanthrene, perylene, chrysene, naphthacene, pentacene, and triptycene. Compounds that give cyclic hydrocarbon groups, such as pyridine, furan, thiophene, benzothiadiazole, pyrrole, quinoline, quinoxaline, pyrimidine and pyrazine compounds that give aromatic heterocyclic groups, such as ferrocene it can.

置換基としては、例えば、電子求引性基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基等を挙げることができる。   Examples of the substituent include an electron withdrawing group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the following G group, and a group selected from the following G group. An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the following group G, and a carbon number 6 to 6 that may have a group selected from the following group G 20 aryloxy groups, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, and an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group The amino group etc. which have a C1-C20 hydrocarbon group which may have an oxy group or the group chosen from the following G group etc. can be mentioned.

〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数6〜12のアリールオキシ基
[Group G]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms

前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基における「炭素数1〜20のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2,2−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、2−メチルペンチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基及びn−イコシル基等の直鎖状、分枝鎖状もしくは環状のアルキル基が挙げられる。前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよいアルキル基とは、ここに例示するアルキル基にある水素原子の一部又は全部が、前記G群より選ばれる基に置き換わった基を意味し、置換基を有する場合、当該置換基にある炭素原子の数も合わせて、その炭素数の合計が1〜20の範囲である。これらの中でも、置換基を有さないアルキル基が好ましく、炭素数1〜10の範囲のアルキル基がさらに好ましい。   Examples of the “alkyl group having 1 to 20 carbon atoms” in the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the group G include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2,2-dimethylpropyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, 2-methyl Pentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n- Linear, branched or cyclic alkyl groups such as hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group and n-icosyl group are listed. It is. The alkyl group optionally having a group selected from the G group as a substituent is a group in which part or all of the hydrogen atoms in the alkyl group exemplified herein are replaced with a group selected from the G group In the case of having a substituent, the total number of carbon atoms in the substituent is in the range of 1-20. Among these, an alkyl group having no substituent is preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable.

前記G群より選ばれる基を有していてもよいアルコキシ基の「炭素数1〜20のアルコキシ基」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、2,2−ジメチルプロポキシ基、シクロペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、2−メチルペンチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキシ基、n−オクタデシルオキシ基、n−ノナデシルオキシ基、n−イコシルオキシ基等の直鎖状、分枝鎖状もしくは環状の炭素数1〜20のアルコキシ基等が挙げられる。前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよいアルコキシ基とは、ここに例示するアルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、前記G群より選ばれる基に置き換わった基を意味し、置換基を有する場合、当該置換基にある炭素原子の数も合わせて、その炭素数の合計が1〜20の範囲である。これらの中でも、置換基を有さないアルコキシ基が好ましく、炭素数1〜10の範囲のアルコキシ基がさらに好ましい。   Examples of the “alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms” of the alkoxy group which may have a group selected from the group G include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, and n-butoxy. Group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentyloxy group, 2,2-dimethylpropoxy group, cyclopentyloxy group, n-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptyloxy group, 2 -Methylpentyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group, n-tridecyloxy group, n- Tetradecyloxy group, n-pentadecyloxy group, n-hexadecyloxy group, n-heptadecyl group Shi group, n- octadecyl group, n- nonadecyloxy group, n- icosyloxy group of straight, such branched or cyclic alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms can be mentioned. The alkoxy group optionally having a group selected from the G group as a substituent is a group in which part or all of the hydrogen atoms in the alkoxy group exemplified herein are replaced with a group selected from the G group In the case of having a substituent, the total number of carbon atoms in the substituent is in the range of 1-20. Among these, an alkoxy group having no substituent is preferable, and an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable.

前記G群より選ばれる基を有していてもよいアリール基の「炭素数6〜20のアリール基」としては、例えば、フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基等が挙げられる。前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよいアリール基とは、ここに例示するアリール基にある水素原子の一部又は全部が、前記G群より選ばれる基に置き換わった基を意味し、置換基を有する場合、当該置換基にある炭素原子の数も合わせて、その炭素数の合計が6〜20の範囲である。これらの中でも、置換基を有さないアリール基が好ましく、炭素数6〜10の範囲のアリール基がさらに好ましく、フェニル基が特に好ましい。
前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、n−ブチルフェニルオキシ基、2−ナフチルオキシ基及び2−アントリルオキシ基等の前記に例示したアリール基と酸素原子とから構成されるもの等が挙げられる。
Examples of the “aryl group having 6 to 20 carbon atoms” of the aryl group which may have a group selected from the group G include, for example, a phenyl group, a 2-tolyl group, a 3-tolyl group, a 4-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,4-xylyl group, 2,5-xylyl group, 2,6-xylyl group, 3,4-xylyl group, 3,5-xylyl group, 2,3,4-trimethylphenyl Group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 2,3,4,5- Tetramethylphenyl group, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, 2,3,5,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group, ethylphenyl group, n-propylphenyl group, isopropylphenyl group, n-Butyl Nyl group, sec-butylphenyl group, tert-butylphenyl group, n-pentylphenyl group, neopentylphenyl group, n-hexylphenyl group, n-octylphenyl group, n-decylphenyl group, n-dodecylphenyl group, An n-tetradecylphenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, etc. are mentioned. The aryl group optionally having a group selected from the G group as a substituent is a group in which part or all of the hydrogen atoms in the aryl group exemplified herein are replaced with a group selected from the G group And having a substituent, the total number of carbon atoms is in the range of 6 to 20, including the number of carbon atoms in the substituent. Among these, an aryl group having no substituent is preferable, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is more preferable, and a phenyl group is particularly preferable.
Examples of the aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from Group G as a substituent include, for example, phenoxy group, n-butylphenyloxy group, 2-naphthyloxy group and 2-an Examples include those composed of the aryl group exemplified above and an oxygen atom such as a tolyloxy group.

前記G群より選ばれる基を有していてもよい「炭素数7〜20のアラルキル基」としては、例えば、ベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(4,6−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基及びアントラセニルメチル基等が挙げられる。前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよいアラルキル基とは、ここに例示するアラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、前記G群より選ばれる基に置き換わった基を意味し、置換基を有する場合、当該置換基にある炭素原子の数も合わせて、その炭素数の合計が7〜20の範囲である。これらの中でも、置換基を有さないアラルキル基が好ましく、炭素数7〜10の範囲のアリール基がさらに好ましく、ベンジル基が特に好ましい。   Examples of the “aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms” which may have a group selected from Group G include, for example, benzyl group, (2-methylphenyl) methyl group, (3-methylphenyl) methyl group, (4-methylphenyl) methyl group, (2,3-dimethylphenyl) methyl group, (2,4-dimethylphenyl) methyl group, (2,5-dimethylphenyl) methyl group, (2,6-dimethylphenyl) Methyl group, (3,4-dimethylphenyl) methyl group, (4,6-dimethylphenyl) methyl group, (2,3,4-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,5-trimethylphenyl) methyl group , (2,3,6-trimethylphenyl) methyl group, (3,4,5-trimethylphenyl) methyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methyl group, (2,3,4,5-te Lamethylphenyl) methyl group, (2,3,4,6-tetramethylphenyl) methyl group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methyl group, (pentamethylphenyl) methyl group, (ethylphenyl) ) Methyl group, (n-propylphenyl) methyl group, (isopropylphenyl) methyl group, (n-butylphenyl) methyl group, (sec-butylphenyl) methyl group, (tert-butylphenyl) methyl group, (n- Pentylphenyl) methyl group, (neopentylphenyl) methyl group, (n-hexylphenyl) methyl group, (n-octylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, (n-decylphenyl) methyl group, A naphthylmethyl group, an anthracenylmethyl group, etc. are mentioned. The aralkyl group optionally having a group selected from the G group as a substituent is a group in which part or all of the hydrogen atoms in the aralkyl group exemplified herein are replaced with a group selected from the G group. And having a substituent, the total number of carbon atoms is in the range of 7 to 20, including the number of carbon atoms in the substituent. Among these, an aralkyl group having no substituent is preferable, an aryl group having 7 to 10 carbon atoms is more preferable, and a benzyl group is particularly preferable.

前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基の「炭素数7〜20のアラルキルオキシ基」としては、例えば、ベンジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)メトキシ基、(2,3−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,6−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基及びアントラセニルメトキシ基等の前記に例示したアラルキル基と酸素原子とから構成されるもの等が挙げられる。   Examples of the “aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms” of the C7 to C20 aralkyloxy group which may have a group selected from the group G include, for example, a benzyloxy group and (2-methylphenyl) Methoxy group, (3-methylphenyl) methoxy group, (4-methylphenyl) methoxy group, (2,3-dimethylphenyl) methoxy group, (2,4-dimethylphenyl) methoxy group, (2,5-dimethylphenyl) ) Methoxy group, (2,6-dimethylphenyl) methoxy group, (3,4-dimethylphenyl) methoxy group, (3,5-dimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,6-trimethylphenyl) methoxy group, (2,4,5-trimethylphenyl) me Xyl group, (2,4,6-trimethylphenyl) methoxy group, (3,4,5-trimethylphenyl) methoxy group, (2,3,4,5-tetramethylphenyl) methoxy group, (2,3, 4,6-tetramethylphenyl) methoxy group, (2,3,5,6-tetramethylphenyl) methoxy group, (pentamethylphenyl) methoxy group, (ethylphenyl) methoxy group, (n-propylphenyl) methoxy group , (Isopropylphenyl) methoxy group, (n-butylphenyl) methoxy group, (sec-butylphenyl) methoxy group, (tert-butylphenyl) methoxy group, (n-hexylphenyl) methoxy group, (n-octylphenyl) Before methoxy group, (n-decylphenyl) methoxy group, naphthylmethoxy group, anthracenylmethoxy group, etc. And the like composed of the exemplified aralkyl group and an oxygen atom.

前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基で置換されたアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−sec−ブチルアミノ基、ジ−tert−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、tert−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−n−ヘキシルアミノ基、ジ−n−オクチルアミノ基、ジ−n−デシルアミノ基及びジフェニルアミノ基等が挙げられ、これらの中でも、ジメチルアミノ基及びジエチルアミノ基が好ましい。   Examples of the amino group substituted with a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the group G include, for example, dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropyl Amino group, di-n-butylamino group, di-sec-butylamino group, di-tert-butylamino group, di-isobutylamino group, tert-butylisopropylamino group, di-n-hexylamino group, di- Examples thereof include an n-octylamino group, a di-n-decylamino group, and a diphenylamino group, and among these, a dimethylamino group and a diethylamino group are preferable.

また、アリールクロライド化合物(1)に含まれるArに電子求引性基が置換されている場合、該電子求引性基が結合している炭素原子と塩素原子が結合している炭素原子とが直接結合している(すなわち、当該電子求引性基が塩素原子のオルト位にある)と、カップリング反応における反応性が著しく高くなる傾向があることから好ましい。
そのため、アリールクロライド化合物(1)として、式(3)で示されるアリールクロライド化合物(以下、アリールクロライド化合物(3)と記すことがある)のように、塩素原子のオルト位に電子求引性基を有しているものが好ましい。このように、塩素原子のオルト位に電子求引性基を有しているアリールクロライド化合物(3)は、より温和な製造条件、具体的には、より低温の反応温度により、カップリング反応が進行し、対応するビアリール化合物である式(4)で示される化合物(以下、ビアリール化合物(4)と記すことがある。)が生成する傾向にある。
When an electron withdrawing group is substituted for Ar contained in the aryl chloride compound (1), the carbon atom to which the electron withdrawing group is bonded and the carbon atom to which the chlorine atom is bonded are Direct bonding (that is, the electron-withdrawing group is in the ortho position of the chlorine atom) is preferable because the reactivity in the coupling reaction tends to be extremely high.
Therefore, as the aryl chloride compound (1), as in the aryl chloride compound represented by the formula (3) (hereinafter sometimes referred to as the aryl chloride compound (3)), an electron withdrawing group is located at the ortho position of the chlorine atom. The thing which has is preferable. Thus, the aryl chloride compound (3) having an electron-attracting group at the ortho position of the chlorine atom has a coupling reaction caused by milder production conditions, specifically, a lower reaction temperature. There is a tendency to produce a compound represented by the formula (4) which is a corresponding biaryl compound (hereinafter sometimes referred to as a biaryl compound (4)).

本明細書において、”電子求引性基”とは、化学便覧基礎編改訂5版II−379〜II−380(日本化学会編、丸善株式会社発行)において定義される置換基定数σ 値が正である基である。電子求引性基としては、置換基定数σ 値が0.3〜1の範囲である基が好ましく、0.5〜1の範囲である基がより好ましく、0.7〜1の範囲である基が特に好ましい。
具体的には、ニトロ基(−NO)、ホルミル基(−CHO)、カルボキシル基(−COOH)、式(5)

Figure 0005742500
(式(5)中、Yは、水素原子、アルカリ金属イオン、式(6)
Figure 0005742500
(式(6)中、Y、Y、Y及びYはそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を表す。)
で示されるアンモニウムイオン、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、または、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R10はそれぞれ独立に、フッ素原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数2〜20のアシル基又はシアノ基を表わす。kは0〜3の整数を表わす。また、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している2つのR10同士は結合し、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。)で示される基、
−CO−Y
(式中、Yは前記Yと同一の意味を表わす。)
で示される基およびトリフルオロメチル基が挙げられ、
好ましくは、式(5)で示される基およびニトロ基である。 In this specification, “electron-withdrawing group” means a substituent constant σ p 0 defined in Chemical Handbook Basic Edition, Rev. 5 II-379 to II-380 (edited by the Chemical Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd.). A group whose value is positive. The electron withdrawing group is preferably a group having a substituent constant σ p 0 value in the range of 0.3 to 1, more preferably a group in the range of 0.5 to 1, and a range of 0.7 to 1. Is particularly preferred.
Specifically, nitro group (—NO 2 ), formyl group (—CHO), carboxyl group (—COOH), formula (5)
Figure 0005742500
(In Formula (5), Y is a hydrogen atom, an alkali metal ion, Formula (6)
Figure 0005742500
(In formula (6), Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
Or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, or 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group. Represents an aryl group. R 10 each independently has a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the following group G, or a carbon number 1 that may have a group selected from the following group G. An alkoxy group having 20 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following group G, and an aryl having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following group G An oxy group, an acyl group having 2 to 20 carbon atoms or a cyano group which may have a group selected from the following group G is represented. k represents an integer of 0 to 3. Further, two R 10 bonded to adjacent carbon atoms may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. Group represented by
-CO 2 -Y
(In the formula, Y represents the same meaning as Y.)
And a group represented by trifluoromethyl group,
A group represented by formula (5) and a nitro group are preferable.

〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数1〜12のアリールオキシ基
[Group G]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms

ここで、アルカリ金属イオンとしては、例えば、リチウムイオン(Li)、ナトリウムイオン(Na)、カリウムイオン(K)およびセシウムイオン(Cs)が挙げられ、ナトリウムイオンが好ましい。
式(6)において、Y、Y、Y及びYの炭素数1〜10の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基等の炭素数1〜10のアルキル基およびフェニル基等の炭素数6〜10のアリール基等が挙げられる。式(6)で示されるアンモニウムイオンとしては、例えば、アンモニウムイオン(NH )、メチルアンモニウムイオン(N(CH)H )、ジエチルアンモニウムイオン(N(C) )、ジプロピルアンモニウムイオン(N(C) )、トリプロピルアンモニウムイオン(N(C))、テトラブチルアンモニウムイオン(N(C) )、ジイソプロピルジエチルアンモニウムイオン(N(CH(CH)(C) )、テトラオクチルアンモニウムイオン(N(C17) )、テトラデシルアンモニウムイオン(N(C1021) )およびトリフェニルアンモニウムイオン(N(C))等が挙げられる。
Here, examples of the alkali metal ion include lithium ion (Li + ), sodium ion (Na + ), potassium ion (K + ), and cesium ion (Cs + ), and sodium ion is preferable.
In the formula (6), examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms of Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 include carbon numbers such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and an octyl group. C6-C10 aryl groups, such as a 1-10 alkyl group and a phenyl group, etc. are mentioned. Examples of the ammonium ion represented by the formula (6) include ammonium ion (NH 4 + ), methyl ammonium ion (N (CH 3 ) H 3 + ), and diethyl ammonium ion (N (C 2 H 5 ) 2 H 2. + ), Dipropylammonium ion (N (C 3 H 7 ) 2 H 2 + ), tripropylammonium ion (N (C 3 H 7 ) 3 H + ), tetrabutylammonium ion (N (C 4 H 9 ) 4 + ), diisopropyldiethylammonium ion (N (CH (CH 3 ) 2 ) 2 (C 2 H 5 ) 2 + ), tetraoctyl ammonium ion (N (C 8 H 17 ) 4 + ), tetradecyl ammonium ion ( N (C 10 H 21 ) 4 + ) and triphenylammonium ion (N (C 6 H 5 ) 3 H + ) and the like.

アリールクロライド化合物(1)としては、例えば、2−クロロ−1−ニトロベンゼン、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸メチル、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸エチル、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロベンゼン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロベンゼン−1−カルボン酸、2−クロロベンゼン−1−カルボン酸メチル、2−クロロベンゼン−1−カルボン酸エチル、2−クロロ−1−ホルミルベンゼン、2−クロロ−1−アセチルベンゼン、2−クロロ−1−ベンゾイルベンゼン、2,5−ジクロロ−1−ベンゾイルベンゼン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルベンゼン、
2−クロロ−1−安息香酸、2−クロロ−1−安息香酸メチル、2−クロロ−1−安息香酸エチル、
2−クロロ−1−ニトロナフタレン、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸メチル、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸エチル、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロナフタレン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロ−1−ナフトエ酸、2−クロロ−1−ナフトエ酸メチル、2−クロロ−1−ナフトエ酸エチル、2−クロロ−1−ホルミルナフタレン、2−クロロ−1−アセチルナフタレン、2−クロロ−1−ベンゾイルナフタレン、2,5−ジクロロ−1−ベンゾイルナフタレン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルナフタレン、
Examples of the aryl chloride compound (1) include 2-chloro-1-nitrobenzene, 2-chlorobenzene-1-sulfonic acid, lithium 2-chlorobenzene-1-sulfonate, sodium 2-chlorobenzene-1-sulfonate, 2- Potassium chlorobenzene-1-sulfonate, methyl 2-chlorobenzene-1-sulfonate, ethyl 2-chlorobenzene-1-sulfonate, propyl 2-chlorobenzene-1-sulfonate, isobutyl 2-chlorobenzene-1-sulfonate, 2- Chlorobenzene-1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), cyclohexyl 2-chlorobenzene-1-sulfonate, 2-chlorobenzene-1-carboxylic acid, methyl 2-chlorobenzene-1-carboxylate, 2-chlorobenzene-1- Ethyl carboxylate, 2-chloro 1-formyl benzene, 2-chloro-1-acetyl benzene, 2-chloro-1-benzoyl, 2,5-dichloro-1-benzoyl benzene, 2-chloro-1-trifluoromethylbenzene,
2-chloro-1-benzoic acid, methyl 2-chloro-1-benzoate, ethyl 2-chloro-1-benzoate,
2-chloro-1-nitronaphthalene, 2-chloronaphthalene-1-sulfonic acid, lithium 2-chloronaphthalene-1-sulfonate, sodium 2-chloronaphthalene-1-sulfonate, 2-chloronaphthalene-1-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chloronaphthalene-1-sulfonate, ethyl 2-chloronaphthalene-1-sulfonate, propyl 2-chloronaphthalene-1-sulfonate, isobutyl 2-chloronaphthalene-1-sulfonate, 2-chloronaphthalene -1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), cyclohexyl 2-chloronaphthalene-1-sulfonate, 2-chloro-1-naphthoic acid, methyl 2-chloro-1-naphthoate, 2-chloro-1- Ethyl naphthoate, 2-chloro-1-formylnaphthalene, 2-chloro-1-acetyl Naphthalene, 2-chloro-1-benzoyl naphthalene, 2,5-dichloro-1-benzoyl naphthalene, 2-chloro-1-trifluoromethyl-naphthalene,

2−クロロ−1−ニトロアントラセン、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸メチル、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸エチル、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロアントラセン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロアントラセン−1−カルボン酸、2−クロロアントラセン−1−カルボン酸メチル、2−クロロアントラセン−1−カルボン酸エチル、2−クロロ−1−ホルミルアントラセン、2−クロロ−1−アセチルアントラセン、2−クロロ−1−ベンゾイルアントラセン、2,5−ジクロロ−1−ベンゾイルアントラセン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルアントラセン、
2−クロロ−1−ニトロピレン、2−クロロピレン−1−スルホン酸、2−クロロピレン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロピレン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロピレン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロピレン−1−スルホン酸メチル、2−クロロピレンン−1−スルホン酸エチル、2−クロロピレン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロピレン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロピレン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロピレン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロピレン−1−カルボン酸、2−クロロ−1−ピレンカルボン酸メチル、2−クロロ−1−ピレンカルボン酸エチル、2−クロロ−1−ホルミルピレン、2−クロロ−1−アセチルピレン、2−クロロ−1−ベンゾイルピレン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルピレン、
2-chloro-1-nitroanthracene, 2-chloroanthracene-1-sulfonic acid, lithium 2-chloroanthracene-1-sulfonate, sodium 2-chloroanthracene-1-sulfonate, 2-chloroanthracene-1-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chloroanthracene-1-sulfonate, ethyl 2-chloroanthracene-1-sulfonate, propyl 2-chloroanthracene-1-propyl sulfonate, isobutyl 2-chloroanthracene-1-sulfonate, 2-chloroanthracene -1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), cyclohexyl 2-chloroanthracene-1-sulfonate, 2-chloroanthracene-1-carboxylic acid, methyl 2-chloroanthracene-1-carboxylate, 2-chloroanthracene -1-ethyl carboxylate, - chloro-1-formyl-anthracene, 2-chloro-1-acetyl-anthracene, 2-chloro-1-benzoyl-anthracene, 2,5-dichloro-1-benzoyl-anthracene, 2-chloro-1-trifluoromethyl anthracene,
2-chloro-1-nitropyrene, 2-chloropyrene-1-sulfonic acid, lithium 2-chloropyrene-1-sulfonate, sodium 2-chloropyrene-1-sulfonate, potassium 2-chloropyrene-1-sulfonate, 2-chloropyrene Methyl-1-sulfonate, ethyl 2-chloropyrene-1-sulfonate, propyl 2-chloropyrene-1-sulfonate, isobutyl 2-chloropyrene-1-sulfonate, 2-chloropyrene-1-sulfonate (2,2- Dimethylpropyl), cyclohexyl 2-chloropyrene-1-sulfonate, 2-chloropyrene-1-carboxylic acid, methyl 2-chloro-1-pyrenecarboxylate, ethyl 2-chloro-1-pyrenecarboxylate, 2-chloro-1 -Formylpyrene, 2-chloro-1-acetylpyrene, 2-chloro-1-be Zoirupiren, 2-chloro-1-trifluoromethyl pyrene,

2−クロロ−1−ニトロフルオレン、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸メチル、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸エチル、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロフルオレン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロフルオレン−1−カルボン酸、2−クロロフルオレン−1−カルボン酸メチル、2−クロロフルオレン−1−カルボン酸エチル、2−クロロ−1−ホルミルフルオレン、2−クロロ−1−アセチルフルオレン、2−クロロ−1−ベンゾイルフルオレン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルフルオレン、
2−クロロ−1−ニトロ−9,9’−ビフルオレン、2−クロロ−1−スルホ−9,9’−ビフルオレン、2−クロロ−9,9’−ビフルオレン−スルホン酸リチウム、2−クロロ−9,9’−ビフルオレン−スルホン酸ナトリウム、2−クロロ−9,9’−ビフルオレン−スルホン酸カリウム、2−クロロ−9,9’−ビフルオレン−スルホン酸メチル、2−クロロ−9,9’−ビフルオレン−スルホン酸エチル、2−クロロ−9,9’−ビフルオレン−スルホン酸プロピル、2−クロロ−9,9’−ビフルオレン−スルホン酸イソブチル、2−クロロ−9,9’−ビフルオレン−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロ−9,9’−ビフルオレン−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロ−1−カルボキシ−9,9’−ビフルオレン、2−クロロ−1−ホルミル−9,9’−ビフルオレン、2−クロロ−1−アセチル−9,9’−ビフルオレン、2−クロロ−1−ベンゾイル−9,9’−ビフルオレン、2−クロロ−1−トリフルオロメチル−9,9’−ビフルオレン、
2-chloro-1-nitrofluorene, 2-chlorofluorene-1-sulfonic acid, lithium 2-chlorofluorene-1-sulfonate, sodium 2-chlorofluorene-1-sulfonate, 2-chlorofluorene-1-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chlorofluorene-1-sulfonate, ethyl 2-chlorofluorene-1-sulfonate, propyl 2-chlorofluorene-1-sulfonate, isobutyl 2-chlorofluorene-1-sulfonate, 2-chlorofluorene -1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chlorofluorene-1-sulfonic acid cyclohexyl, 2-chlorofluorene-1-carboxylic acid, methyl 2-chlorofluorene-1-carboxylate, 2-chlorofluorene -1-ethyl carboxylate, 2-chloro-1-formylfur Ren, 2-chloro-1-acetyl fluorene, 2-chloro-1-benzoyl-fluorene, 2-chloro-1-trifluoromethyl fluorene,
2-chloro-1-nitro-9,9′-bifluorene, 2-chloro-1-sulfo-9,9′-bifluorene, 2-chloro-9,9′-bifluorene-lithium sulfonate, 2-chloro-9 , 9'-bifluorene-sulfonate sodium, 2-chloro-9,9'-bifluorene-potassium sulfonate, methyl 2-chloro-9,9'-bifluorene-sulfonate, 2-chloro-9,9'-bifluorene -Ethyl sulfonate, 2-chloro-9,9'-bifluorene-propyl sulfonate, 2-chloro-9,9'-bifluorene-isobutyl sulfonate, 2-chloro-9,9'-bifluorene-sulfonic acid (2 , 2-dimethylpropyl), 2-chloro-9,9′-bifluorene-sulfonic acid cyclohexyl, 2-chloro-1-carboxy-9,9′-bifluorene, 2- Loro-1-formyl-9,9′-bifluorene, 2-chloro-1-acetyl-9,9′-bifluorene, 2-chloro-1-benzoyl-9,9′-bifluorene, 2-chloro-1-tri Fluoromethyl-9,9′-bifluorene,

2−クロロ−1−ニトロフェナントレン、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸メチル、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸エチル、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロフェナントレン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロフェナントレン−1−カルボン酸、2−クロロ−1−ホルミルフェナントレン、2−クロロ−1−アセチルフェナントレン、2−クロロ−1−ベンゾイルフェナントレン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルフェナントレン、
2−クロロ−1−ニトロペリレン、2−クロロペリレン−1−スルホン酸、2−クロロペリレン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロペリレン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロペリレン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロペリレン−1−スルホン酸メチル、2−クロロペリレン−1−スルホン酸エチル、2−クロロペリレン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロペリレン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロペリレン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロペリレン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロペリレン−1−カルボン酸、2−クロロ−1−ホルミルペリレン、2−クロロ−1−アセチルペリレン、2−クロロ−1−ベンゾイルペリレン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルペリレン、
2−クロロ−1−ニトロクリセン、2−クロロクリセン−1−スルホン酸、2−クロロクリセン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロクリセン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロクリセン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロクリセン−1−スルホン酸メチル、2−クロロクリセン−1−スルホン酸エチル、2−クロロクリセン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロクリセン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロクリセン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロクリセン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロクリセン−1−カルボン酸、2−クロロクリセン−1−カルボン酸メチル、2−クロロクリセン−1−カルボン酸エチル、2−クロロ−1−ホルミルクリセン、2−クロロ−1−アセチルクリセン、2−クロロ−1−ベンゾイルクリセン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルクリセン、
2-chloro-1-nitrophenanthrene, 2-chlorophenanthrene-1-sulfonic acid, lithium 2-chlorophenanthrene-1-sulfonate, sodium 2-chlorophenanthrene-1-sulfonate, 2-chlorophenanthrene-1-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chlorophenanthrene-1-sulfonate, ethyl 2-chlorophenanthrene-1-sulfonate, propyl 2-chlorophenanthrene-1-sulfonate, isobutyl 2-chlorophenanthrene-1-sulfonate, 2-chlorophenanthrene -1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chlorophenanthrene-1-sulfonic acid cyclohexyl, 2-chlorophenanthrene-1-carboxylic acid, 2-chloro-1-formylphenanthrene, 2-chloro-1- Acetylfe Ntoren, 2-chloro-1-benzoyl-phenanthrene, 2-chloro-1-trifluoromethyl-phenanthrene,
2-chloro-1-nitroperylene, 2-chloroperylene-1-sulfonic acid, lithium 2-chloroperylene-1-sulfonate, sodium 2-chloroperylene-1-sulfonate, 2-chloroperylene-1-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chloroperylene-1-sulfonate, ethyl 2-chloroperylene-1-sulfonate, propyl 2-chloroperylene-1-sulfonate, isobutyl 2-chloroperylene-1-sulfonate, 2-chloroperylene -1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chloroperylene-1-sulfonic acid cyclohexyl, 2-chloroperylene-1-carboxylic acid, 2-chloro-1-formylperylene, 2-chloro-1- Acetylperylene, 2-chloro-1-benzoylperylene, 2-chloro-1-trifluoromethylpe Ren,
2-chloro-1-nitrochrysene, 2-chlorochrysene-1-sulfonic acid, lithium 2-chlorochrysene-1-sulfonate, sodium 2-chlorochrysene-1-sulfonate, 2-chlorochrysene-1-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chlorochrysene-1-sulfonate, ethyl 2-chlorochrysene-1-sulfonate, propyl 2-chlorochrysene-1-sulfonate, isobutyl 2-chlorochrysene-1-sulfonate, 2-chlorochrysene -1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chlorochrysene-1-sulfonic acid cyclohexyl, 2-chlorochrysene-1-carboxylic acid, methyl 2-chlorochrysene-1-carboxylate, 2-chlorochrysene -1-ethyl carboxylate, 2-chloro-1-formyl licene, 2-chloro-1-acetyl Chrysene, 2-chloro-1-benzoyl chrysene, 2-chloro-1-trifluoromethyl chrysene,

2−クロロ−1−ニトロナフタセン、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸メチル、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸エチル、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロナフタセン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロナフタセン−1−カルボン酸、2−クロロナフタセン−1−カルボン酸メチル、2−クロロナフタセン−1−カルボン酸エチル、2−クロロ−1−ホルミルナフタセン、2−クロロ−1−アセチルナフタセン、2−クロロ−1−ベンゾイルナフタセン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルナフタセン、
2−クロロ−1−ニトロペンタセン、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸メチル、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸エチル、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロペンタセン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロペンタセン−1−カルボン酸、2−クロロペンタセン−1−カルボン酸メチル、2−クロロペンタセン−1−カルボン酸エチル、2−クロロ−1−ホルミルペンタセン、2−クロロ−1−アセチルペンタセン、2−クロロ−1−ベンゾイルペンタセン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルペンタセン、
2−クロロ−1−ニトロトリプチセン、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸リチウム、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸ナトリウム、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸カリウム、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸メチル、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸エチル、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸プロピル、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸イソブチル、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロトリプチセン−1−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロトリプチセン−1−カルボン酸、2−クロロトリプチセン−1−カルボン酸メチル、2−クロロトリプチセン−1−カルボン酸エチル、2−クロロ−1−ホルミルトリプチセン、2−クロロ−1−アセチルトリプチセン、2−クロロ−1−ベンゾイルトリプチセン、2−クロロ−1−トリフルオロメチルトリプチセン、
2-chloro-1-nitronaphthacene, 2-chloronaphthacene-1-sulfonic acid, lithium 2-chloronaphthacene-1-sulfonate, sodium 2-chloronaphthacene-1-sulfonate, 2-chloronaphthacene -1-potassium sulfonate, methyl 2-chloronaphthacene-1-sulfonate, ethyl 2-chloronaphthacene-1-sulfonate, propyl 2-chloronaphthacene-1-propyl sulfonate, 2-chloronaphthacene-1 -Isobutyl sulfonate, 2-chloronaphthacene-1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), cyclohexyl 2-chloronaphthacene-1-sulfonate, 2-chloronaphthacene-1-carboxylic acid, 2-chloro Naphthacene-1-carboxylate methyl, ethyl 2-chloronaphthacene-1-carboxylate, 2-chloro-1-formylnaphth Sen, 2-chloro-1-acetyl naphthacene, 2-chloro-1-benzoyl naphthacene, 2-chloro-1-trifluoromethyl naphthacene,
2-chloro-1-nitropentacene, 2-chloropentacene-1-sulfonic acid, lithium 2-chloropentacene-1-sulfonate, sodium 2-chloropentacene-1-sulfonate, 2-chloropentacene-1-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chloropentacene-1-sulfonate, ethyl 2-chloropentacene-1-sulfonate, propyl 2-chloropentacene-1-sulfonate, isobutyl 2-chloropentacene-1-sulfonate, 2-chloropentacene -1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), cyclohexyl 2-chloropentacene-1-sulfonate, 2-chloropentacene-1-carboxylic acid, methyl 2-chloropentacene-1-carboxylate, 2-chloropentacene -1-ethyl carboxylate, 2-chloro-1-formylpen Sen, 2-chloro-1-acetyl pentacene, 2-chloro-1-benzoyl pentacene, 2-chloro-1-trifluoromethyl pentacene,
2-chloro-1-nitrotriptycene, 2-chlorotriptycene-1-sulfonic acid, lithium 2-chlorotriptycene-1-sulfonate, sodium 2-chlorotriptycene-1-sulfonate, 2 -Potassium chlorotriptycene-1-sulfonate, methyl 2-chlorotriptycene-1-sulfonate, ethyl 2-chlorotriptycene-1-sulfonate, propyl 2-chlorotriptycene-1-sulfonate 2-chlorotriptycene-1-sulfonic acid isobutyl, 2-chlorotriptycene-1-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), cyclohexyl 2-chlorotriptycene-1-sulfonic acid, 2-chloro Triptycene-1-carboxylic acid, methyl 2-chlorotriptycene-1-carboxylate, ethyl 2-chlorotriptycene-1-carboxylate, - chloro-1-formyl-tri Petit Sen, 2-chloro-1-acetyl tri Petit Sen, 2-chloro-1-benzoyl-tri Petit Sen, 2-chloro-1-trifluoromethyl-tri Petit Sen,

2−クロロ−3−ニトロピリジン、2−クロロピリジン−3−スルホン酸、2−クロロピリジン−3−スルホン酸リチウム、2−クロロピリジン−3−スルホン酸ナトリウム、2−クロロピリジン−3−スルホン酸カリウム、2−クロロピリジン−3−スルホン酸メチル、2−クロロピリジン−3−スルホン酸エチル、2−クロロピリジン−3−スルホン酸プロピル、2−クロロピリジン−3−スルホン酸イソブチル、2−クロロピリジン−3−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロピリジン−3−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロピリジン−3−カルボン酸、2−クロロピリジン−3−カルボン酸メチル、2−クロロピリジン−3−カルボン酸エチル、2−クロロ−3−ホルミルピリジン、2−クロロ−3−アセチルピリジン、2−クロロ−3−ベンゾイルピリジン、2−クロロ−3−トリフルオロメチルピリジン、
2−クロロ−3−ニトロフラン、2−クロロフラン−3−スルホン酸、2−クロロフラン−3−スルホン酸リチウム、2−クロロフラン−3−スルホン酸ナトリウム、2−クロロフラン−3−スルホン酸カリウム、2−クロロフラン−3−スルホン酸メチル、2−クロロフラン−3−スルホン酸エチル、2−クロロフラン−3−スルホン酸プロピル、2−クロロフラン−3−スルホン酸イソブチル、2−クロロフラン−3−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロフラン−3−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロフラン−3−カルボン酸、2−クロロフラン−3−カルボン酸メチル、2−クロロフラン−3−カルボン酸エチル、2−クロロ−3−ホルミルフラン、2−クロロ−3−アセチルフラン、2−クロロ−3−ベンゾイルフラン、2−クロロ−3−トリフルオロメチルフラン、
2-chloro-3-nitropyridine, 2-chloropyridine-3-sulfonic acid, lithium 2-chloropyridine-3-sulfonate, sodium 2-chloropyridine-3-sulfonate, 2-chloropyridine-3-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chloropyridine-3-sulfonate, ethyl 2-chloropyridine-3-sulfonate, propyl 2-chloropyridine-3-sulfonate, isobutyl 2-chloropyridine-3-sulfonate, 2-chloropyridine -3-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chloropyridine-3-cyclohexyl sulfonate, 2-chloropyridine-3-carboxylic acid, methyl 2-chloropyridine-3-carboxylate, 2-chloropyridine Ethyl-3-carboxylate, 2-chloro-3-formylpyridine, 2-chloro-3-acetyl Pyridine, 2-chloro-3-benzoyl pyridine, 2-chloro-3-trifluoromethylpyridine,
2-chloro-3-nitrofuran, 2-chlorofuran-3-sulfonic acid, lithium 2-chlorofuran-3-sulfonate, sodium 2-chlorofuran-3-sulfonate, 2-chlorofuran-3-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chlorofuran-3-sulfonate, ethyl 2-chlorofuran-3-sulfonate, propyl 2-chlorofuran-3-sulfonate, isobutyl 2-chlorofuran-3-sulfonate, 2-chlorofuran -3-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), cyclohexyl 2-chlorofuran-3-sulfonate, 2-chlorofuran-3-carboxylic acid, methyl 2-chlorofuran-3-carboxylate, 2-chlorofuran Ethyl 3-carboxylate, 2-chloro-3-formylfuran, 2-chloro-3-acetylfuran, 2-chloro-3-ben Irufuran, 2-chloro-3-trifluoromethyl furan,

2−クロロ−3−ニトロチオフェン、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸リチウム、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸ナトリウム、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸カリウム、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸メチル、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸エチル、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸プロピル、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸イソブチル、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロチオフェン−3−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロチオフェン−3−カルボン酸、2−クロロチオフェン−3−カルボン酸メチル、2−クロロチオフェン−3−カルボン酸エチル、2−クロロ−3−ホルミルチオフェン、2−クロロ−3−アセチルチオフェン、2−クロロ−3−ベンゾイルチオフェン、2−クロロ−3−トリフルオロメチルチオフェン、
7−クロロ−6−ニトロベンゾチアジアゾール、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸リチウム、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸ナトリウム、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸カリウム、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸メチル、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸エチル、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸プロピル、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸イソブチル、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−スルホン酸シクロヘキシル、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−カルボン酸、7−クロロベンゾチアジアゾール−6−カルボン酸メチル7−クロロベンゾチアジアゾール−6−カルボン酸エチル、7−クロロ−6−ホルミルベンゾチアジアゾール、7−クロロ−6−アセチルベンゾチアジアゾール、7−クロロ−6−ベンゾイルベンゾチアジアゾール、7−クロロ−6−トリフルオロメチルベンゾチアジアゾール、
2-chloro-3-nitrothiophene, 2-chlorothiophene-3-sulfonic acid, lithium 2-chlorothiophene-3-sulfonate, sodium 2-chlorothiophene-3-sulfonate, 2-chlorothiophene-3-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chlorothiophene-3-sulfonate, ethyl 2-chlorothiophene-3-sulfonate, propyl 2-chlorothiophene-3-sulfonate, isobutyl 2-chlorothiophene-3-sulfonate, 2-chlorothiophene -3-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chlorothiophene-3-sulfonic acid cyclohexyl, 2-chlorothiophene-3-carboxylic acid, 2-chlorothiophene-3-carboxylate methyl, 2-chlorothiophene -3-ethyl carboxylate, 2-chloro-3-formylthio E down, 2-chloro-3-acetyl thiophene, 2-chloro-3-benzoyl-thiophene, 2-chloro-3-trifluoromethyl-thiophene,
7-chloro-6-nitrobenzothiadiazole, 7-chlorobenzothiadiazole-6-sulfonic acid, 7-chlorobenzothiadiazole-6-sulfonic acid lithium, 7-chlorobenzothiadiazole-6-sulfonic acid sodium, 7-chlorobenzothiadiazole -6-sulfonic acid potassium, 7-chlorobenzothiadiazole-6-sulfonic acid methyl, 7-chlorobenzothiadiazole-6-sulfonic acid ethyl, 7-chlorobenzothiadiazole-6-sulfonic acid propyl, 7-chlorobenzothiadiazole-6 -Isobutyl sulfonate, 7-chlorobenzothiadiazole-6-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 7-chlorobenzothiadiazole-6-cyclohexyl sulfonate, 7-chlorobenzothiadiazole-6-carbon 7-chlorobenzothiadiazole-6-carboxylate methyl 7-chlorobenzothiadiazole-6-carboxylate, 7-chloro-6-formylbenzothiadiazole, 7-chloro-6-acetylbenzothiadiazole, 7-chloro-6- Benzoylbenzothiadiazole, 7-chloro-6-trifluoromethylbenzothiadiazole,

2−クロロ−3−ニトロピロール、2−クロロピロール−3−スルホン酸、2−クロロピロール−3−スルホン酸リチウム、2−クロロピロール−3−スルホン酸ナトリウム、2−クロロピロール−3−スルホン酸カリウム、2−クロロピロール−3−スルホン酸メチル、2−クロロピロール−3−スルホン酸エチル、2−クロロピロール−3−スルホン酸プロピル、2−クロロピロール−3−スルホン酸イソブチル、2−クロロピロール−3−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロピロール−3−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロピロール−3−カルボン酸、2−クロロピロール−3−カルボン酸メチル、2−クロロピロール−3−カルボン酸エチル、2−クロロ−3−ホルミルピロール、2−クロロ−3−アセチルピロール、2−クロロ−3−ベンゾイルピロール、2−クロロ−3−トリフルオロメチルピロール、
2−クロロ−3−ニトロキノリン、2−クロロキノリン−3−スルホン酸、2−クロロキノリン−3−スルホン酸リチウム、2−クロロキノリン−3−スルホン酸ナトリウム、2−クロロキノリン−3−スルホン酸カリウム、2−クロロキノリン−3−スルホン酸メチル、2−クロロキノリン−3−スルホン酸エチル、2−クロロキノリン−3−スルホン酸プロピル、2−クロロキノリン−3−スルホン酸イソブチル、2−クロロキノリン−3−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロキノリン−3−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロキノリン−3−カルボン酸、2−クロロキノリン−3−カルボン酸メチル、2−クロロキノリン−3−カルボン酸エチル、2−クロロ−3−ホルミルキノリン、2−クロロ−3−アセチルキノリン、2−クロロ−3−ベンゾイルキノリン、2−クロロ−3−トリフルオロメチルキノリン、
2−クロロ−3−ニトロキノキサリン、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸リチウム、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸ナトリウム、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸カリウム、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸メチル、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸エチル、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸プロピル、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸イソブチル、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロキノキサリン−3−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロキノキサリン−3−カルボン酸、2−クロロキノキサリン−3−カルボン酸メチル、2−クロロキノキサリン−3−カルボン酸エチル、2−クロロ−3−ホルミルキノキサリン、2−クロロ−3−アセチルキノキサリン、2−クロロ−3−ベンゾイルキノキサリン、2−クロロ−3−トリフルオロメチルキノキサリン、
2-chloro-3-nitropyrrole, 2-chloropyrrole-3-sulfonic acid, lithium 2-chloropyrrole-3-sulfonate, sodium 2-chloropyrrole-3-sulfonate, 2-chloropyrrole-3-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chloropyrrole-3-sulfonate, ethyl 2-chloropyrrole-3-sulfonate, propyl 2-chloropyrrole-3-sulfonate, isobutyl 2-chloropyrrole-3-sulfonate, 2-chloropyrrole -3-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chloropyrrole-3-cyclohexyl sulfonate, 2-chloropyrrole-3-carboxylic acid, methyl 2-chloropyrrole-3-carboxylate, 2-chloropyrrole Ethyl-3-carboxylate, 2-chloro-3-formylpyrrole, 2-chloro-3-acetyl Pyrrole, 2-chloro-3-benzoyl-pyrrole, 2-chloro-3-trifluoromethyl pyrrole,
2-chloro-3-nitroquinoline, 2-chloroquinoline-3-sulfonic acid, lithium 2-chloroquinoline-3-sulfonate, sodium 2-chloroquinoline-3-sulfonate, 2-chloroquinoline-3-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chloroquinoline-3-sulfonate, ethyl 2-chloroquinoline-3-sulfonate, propyl 2-chloroquinoline-3-sulfonate, isobutyl 2-chloroquinoline-3-sulfonate, 2-chloroquinoline -3-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chloroquinoline-3-cyclohexyl sulfonate, 2-chloroquinoline-3-carboxylic acid, methyl 2-chloroquinoline-3-carboxylate, 2-chloroquinoline Ethyl-3-carboxylate, 2-chloro-3-formylquinoline, 2-chloro-3-acetyl Quinoline, 2-chloro-3-benzoyl quinoline, 2-chloro-3-trifluoromethyl quinoline,
2-chloro-3-nitroquinoxaline, 2-chloroquinoxaline-3-sulfonic acid, lithium 2-chloroquinoxaline-3-sulfonate, sodium 2-chloroquinoxaline-3-sulfonate, 2-chloroquinoxaline-3-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chloroquinoxaline-3-sulfonate, ethyl 2-chloroquinoxaline-3-sulfonate, propyl 2-chloroquinoxaline-3-sulfonate, isobutyl 2-chloroquinoxaline-3-sulfonate, 2-chloroquinoxaline -3-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chloroquinoxaline-3-cyclohexyl sulfonate, 2-chloroquinoxaline-3-carboxylic acid, methyl 2-chloroquinoxaline-3-carboxylate, 2-chloroquinoxaline -3-ethyl carboxylate, - chloro-3-Hol Miruki tetrahydroquinoxaline, 2-chloro-3-acetyl-Quinoxaline, 2-chloro-3-benzoyl Lucino quinoxaline, 2-chloro-3-trifluoromethyl-quinoxaline,

4−クロロ−5−ニトロピリミジン、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸リチウム、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸ナトリウム、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸カリウム、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸メチル、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸エチル、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸プロピル、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸イソブチル、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、4−クロロピリミジン−5−スルホン酸シクロヘキシル、4−クロロピリミジン−5−カルボン酸、4−クロロピリミジン−5−カルボン酸メチル、4−クロロピリミジン−5−カルボン酸エチル、4−クロロ−5−ホルミルピリミジン、4−クロロ−5−アセチルピリミジン、4−クロロ−5−ベンゾイルピリミジン、4−クロロ−5−トリフルオロメチルピリミジン、
2−クロロ−3−ニトロピラジン、2−クロロピラジン−3−スルホン酸、2−クロロピラジン−3−スルホン酸リチウム、2−クロロピラジン−3−スルホン酸ナトリウム、2−クロロピラジン−3−スルホン酸カリウム、2−クロロピラジン−3−スルホン酸メチル、2−クロロピラジン−3−スルホン酸エチル、2−クロロピラジン−3−スルホン酸プロピル、2−クロロピラジン−3−スルホン酸イソブチル、2−クロロピラジン−3−スルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)、2−クロロピラジン−3−スルホン酸シクロヘキシル、2−クロロピラジン−3−カルボン酸、2−クロロピラジン−3−カルボン酸メチル、2−クロロピラジン−3−カルボン酸エチル、2−クロロ−3−ホルミルピラジン、2−クロロ−3−アセチルピラジン、2−クロロ−3−ベンゾイルピラジン、2−クロロ−3−トリフルオロメチルピラジン等が挙げられる。
4-chloro-5-nitropyrimidine, 4-chloropyrimidine-5-sulfonic acid, lithium 4-chloropyrimidine-5-sulfonate, sodium 4-chloropyrimidine-5-sulfonate, 4-chloropyrimidine-5-sulfonic acid Potassium, methyl 4-chloropyrimidine-5-sulfonate, ethyl 4-chloropyrimidine-5-sulfonate, propyl 4-chloropyrimidine-5-sulfonate, isobutyl 4-chloropyrimidine-5-sulfonate, 4-chloropyrimidine -5-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 4-chloropyrimidine-5-sulfonic acid cyclohexyl, 4-chloropyrimidine-5-carboxylic acid, 4-chloropyrimidine-5-carboxylate methyl, 4-chloropyrimidine Ethyl-5-carboxylate, 4-chloro-5-formylpyri Jin, 4-chloro-5-acetyl pyrimidine, 4-chloro-5-benzoyl pyrimidine, 4-chloro-5-trifluoromethyl pyrimidine,
2-chloro-3-nitropyrazine, 2-chloropyrazine-3-sulfonic acid, lithium 2-chloropyrazine-3-sulfonate, sodium 2-chloropyrazine-3-sulfonate, 2-chloropyrazine-3-sulfonic acid Potassium, methyl 2-chloropyrazine-3-sulfonate, ethyl 2-chloropyrazine-3-sulfonate, propyl 2-chloropyrazine-3-sulfonate, isobutyl 2-chloropyrazine-3-sulfonate, 2-chloropyrazine -3-sulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 2-chloropyrazine-3-sulfonic acid cyclohexyl, 2-chloropyrazine-3-carboxylic acid, methyl 2-chloropyrazine-3-carboxylate, 2-chloropyrazine Ethyl-3-carboxylate, 2-chloro-3-formylpyrazine, 2-chloro-3-acetyl Pyrazine, 2-chloro-3-benzoyl pyrazine, 2-chloro-3-trifluoromethyl pyrazine and the like.

また、ここに例示したアリールクロライド化合物(1)の中でも、式(3)

Figure 0005742500
(式(3)中、R、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表し、
は、水素原子、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表す。なお、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している、R及びRの組み合わせ、R及びRの組み合わせ、並びに、R及びRの組み合わせは、各々が結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。Eは電子求引性基を表す。)
で示されるアリールクロライド化合物(以下、アリールクロライド化合物(3)と記すことがある)に該当するものが好ましい。 Further, among the aryl chloride compounds (1) exemplified here, the formula (3)
Figure 0005742500
(In Formula (3), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from Group G, An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from group G, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from group G, and the group G An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the above, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the G group, and a group selected from the G group. Represents an amino group having an optionally substituted aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the group G;
R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the G group, or a C 1 to 20 carbon group that may have a group selected from the G group. An alkoxy group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the G group, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the G group, An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from group G, an aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from group G as a substituent, or The amino group which has a C1-C20 hydrocarbon group which may have the group chosen from the said G group is represented. The combination of R 1 and R 2 , the combination of R 2 and R 3 , and the combination of R 3 and R 4 that are bonded to adjacent carbon atoms are the same as the carbon atom to which each is bonded. To form a ring. E represents an electron withdrawing group. )
The thing corresponding to the aryl chloride compound shown below (it may be described as an aryl chloride compound (3) hereafter) is preferable.

アリールクロライド化合物(3)に含まれるEとしては、例えば、ニトロ基(−NO)、式(5)で示される基を有するものが好ましく挙げられる。具体的なアリールクロライド化合物(3)としては、例えば、2−クロロ−1−ニトロベンゼン、2−クロロ−1−ベンゼンスルホン酸またはその金属塩、2−クロロ−安息香酸またはその金属塩、2−クロロ−1−ベンゼンスルホン酸メチル、2−クロロ−安息香酸メチル等を挙げることができる。 Preferable examples of E contained in the aryl chloride compound (3) include those having a nitro group (—NO 2 ) or a group represented by the formula (5). Specific examples of the aryl chloride compound (3) include 2-chloro-1-nitrobenzene, 2-chloro-1-benzenesulfonic acid or a metal salt thereof, 2-chloro-benzoic acid or a metal salt thereof, and 2-chloro. Examples thereof include methyl -1-benzenesulfonate and methyl 2-chloro-benzoate.

本発明のカップリング反応は、すでに述べたように電子求引性基のオルト位に塩素原子を有するアリールクロライド化合物(1)を用いると、当該塩素原子は比較的低温でも、カップリング反応するという特徴がある。かかる特徴を活用すると、位置選択的に化合物(2)を製造できる。かかる効果を奏するアリールクロライド化合物(1)としては、例えば、式(10)

Figure 0005742500
(式(10)中、Yは、前記と同義を表す。R10はそれぞれ独立に、フッ素原子、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数2〜20のアシル基又はシアノ基を表わす。kは0〜3の整数を表わす。また、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している2つのR10同士は結合し、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。)
で示されるアリールクロライド化合物(以下、アリールクロライド化合物(10)と記すことがある)等を挙げることができる。 In the coupling reaction of the present invention, as described above, when the aryl chloride compound (1) having a chlorine atom at the ortho position of the electron withdrawing group is used, the chlorine atom is coupled even at a relatively low temperature. There are features. By utilizing such characteristics, the compound (2) can be produced regioselectively. Examples of the aryl chloride compound (1) exhibiting such effects include, for example, the formula (10)
Figure 0005742500
(In Formula (10), Y represents the same meaning as described above. R 10 each independently represents a fluorine atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from Group G, An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from group G, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from group G, and the group G Represents an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the above, an acyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the group G, or a cyano group, where k is 0. Represents an integer of ˜3, and two R 10 bonded to adjacent carbon atoms may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. )
And the like (hereinafter, may be referred to as an aryl chloride compound (10)).

アリールクロライド化合物(10)は電子求引性基である「−SO−Y」に対してオルト位にある塩素原子は、「−SO−Y」に対してメタ位にある塩素原子に対して、本発明のカップリング反応においてより高い反応性を有している。この反応性の違いに伴い、アリールクロライド化合物(10)を本発明のカップリング反応を行うと、式(11)

Figure 0005742500
(式中、R10、Y及びkは前記と同義を表す。)

に示されるビアリール化合物(以下、ビアリール化合物(11)と記すことがある)を得ることができる。 Aryl chlorides Compound (10) is an electron withdrawing group chlorine atom ortho to the "-SO 3 -Y" is - for the "SO 3 -Y" to chlorine atoms in the meta position Thus, it has higher reactivity in the coupling reaction of the present invention. Along with this difference in reactivity, when the aryl chloride compound (10) is subjected to the coupling reaction of the present invention, the formula (11)
Figure 0005742500
(Wherein R 10 , Y and k are as defined above.)

Can be obtained (hereinafter sometimes referred to as biaryl compound (11)).

前記アリールクロライド化合物(10)の好適例と、これら好ましいアリールクロライド化合物(10)から得られるビアリール化合物(11)を、以下の表1に示す。   Table 1 below shows suitable examples of the aryl chloride compound (10) and biaryl compounds (11) obtained from these preferable aryl chloride compounds (10).

Figure 0005742500
Figure 0005742500

また、式(12)

Figure 0005742500
(式中、R10及びkは前記と同義を表す。)
で示されるアリールクロライド化合物についてカップリング反応を行うと、式(13)
Figure 0005742500
(式中、R10及びkは前記と同義を表す。)
に示されるビアリール化合物を製造することができる。 Moreover, Formula (12)
Figure 0005742500
(In the formula, R 10 and k are as defined above.)
When the coupling reaction is performed on the aryl chloride compound represented by formula (13),
Figure 0005742500
(In the formula, R 10 and k are as defined above.)
Can be produced.

本発明によれば、アリールクロライド化合物(1)に含まれるArが、芳香族性を有する複素環基(但し、該複素環基は置換基を有していてもよい)であってもカップリング反応を行うことができる。
芳香族性を有する複素環基(但し、該複素環基は置換基を有していてもよい)をArとして含むアリールクロライド化合物(1)としては、例えば、Arに含まれるヘテロ原子とArのClに結合している炭素原子とが直接結合している複素環基を含む化合物であることが好ましい。具体的には、式(7)

Figure 0005742500
(式中、R11及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表し、
14は、水素原子、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、前記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は前記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表す。なお、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している、R11及びR12の組み合わせ、並びに、R12及びR14の組み合わせは、各々が結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。Aは酸素原子もしくは硫黄原子を表す。)
で示される化合物等を挙げることができる。 According to the present invention, even if Ar contained in the aryl chloride compound (1) is a heterocyclic group having aromaticity (however, the heterocyclic group may have a substituent) is coupled. The reaction can be performed.
As the aryl chloride compound (1) containing a heterocyclic group having aromaticity (however, the heterocyclic group may have a substituent) as Ar, for example, a hetero atom contained in Ar and Ar A compound containing a heterocyclic group in which a carbon atom bonded to Cl is directly bonded is preferable. Specifically, equation (7)
Figure 0005742500
(Wherein R 11 and R 12 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1-20 alkyl group optionally having a group selected from the G group, and the G group. An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the G group, and a group selected from the G group An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may be present, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from group G, and a group selected from group G. Represents an amino group having a C1-C20 hydrocarbon group which may have a good C7-20 aralkyloxy group or a group selected from the group G;
R 14 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the G group, or a C 1 to 20 carbon group that may have a group selected from the G group. An alkoxy group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the G group, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the G group, An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from group G, an aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from group G as a substituent, or The amino group which has a C1-C20 hydrocarbon group which may have the group chosen from the said G group is represented. The combination of R 11 and R 12 and the combination of R 12 and R 14 that are bonded to adjacent carbon atoms, respectively, form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. May be. A represents an oxygen atom or a sulfur atom. )
And the like.

式(7)で示される化合物をカップリング反応することにより、式(8)

Figure 0005742500
(式中、A、R11、R12およびR14は前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物が製造可能である。 By coupling the compound represented by the formula (7), the formula (8)
Figure 0005742500
(In the formula, A, R 11 , R 12 and R 14 are as defined above.)
The biaryl compound shown by can be manufactured.

本発明によって得られる化合物(2)はさらに精製してもよい。化合物(2)の精製方法は、前記本発明のカップリング反応を行った後、生成した化合物(2)を、金属銅、銅塩及びアリールクロライド化合物(1)の未反応物、並びに溶媒から分離精製することで得ることができる。かかる分離精製には、ろ過、抽出、濃縮、再結晶、再沈殿及びクロマトグラフィー分離といった公知の精製操作、あるいはこれらを組み合わせた精製操作から、前記未反応物の種類や、分離精製の対象となる化合物(2)の種類により適宜最適な操作を選択すればよい。   The compound (2) obtained by the present invention may be further purified. In the purification method of the compound (2), after the coupling reaction of the present invention is performed, the produced compound (2) is separated from unreacted metal copper, copper salt and aryl chloride compound (1), and a solvent. It can be obtained by purification. Such separation and purification can be performed from known purification operations such as filtration, extraction, concentration, recrystallization, reprecipitation, and chromatographic separation, or purification operations that combine these, and the types of the unreacted substances and the objects of separation and purification. What is necessary is just to select optimal operation suitably according to the kind of compound (2).

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
以下の実施例において、カップリング反応後に生成した化合物(2)を高速液体クロマトグラフィー(LC)又はガスクロマトグラフィー(GC)により分析し、得られたクロマトグラムの面積値より反応収率を計算した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
In the following examples, the compound (2) produced after the coupling reaction was analyzed by high performance liquid chromatography (LC) or gas chromatography (GC), and the reaction yield was calculated from the area value of the obtained chromatogram. .

LC分析の分析条件は、以下の通りである。
<分析条件>
LC測定装置:LC−10AT(株式会社島津製作所製)
カラム:L−Column ODS(5μm,4.6mmφ×15cm)
カラム温度:40℃
移動相:A:0.1%n−テトラブチルアンモニウムブロミド水溶液
B:0.1%n−テトラブチルアンモニウムブロミドアセトニトリル溶液
グラジエント:0min B=30%
20min B=90%
35min B=90%
35.1min B=30%
45min STOP TOTAL分析時間 45分
流量:1.0mL/分
検出:紫外吸収(波長:254nm)
The analysis conditions for LC analysis are as follows.
<Analysis conditions>
LC measuring device: LC-10AT (manufactured by Shimadzu Corporation)
Column: L-Column ODS (5 μm, 4.6 mmφ × 15 cm)
Column temperature: 40 ° C
Mobile phase: A: 0.1% n-tetrabutylammonium bromide aqueous solution B: 0.1% n-tetrabutylammonium bromide acetonitrile solution Gradient: 0 min B = 30%
20min B = 90%
35min B = 90%
35.1min B = 30%
45 min STOP TOTAL analysis time 45 minutes Flow rate: 1.0 mL / min Detection: UV absorption (wavelength: 254 nm)

GC分析の分析条件は、以下の通りである。
<分析条件>
GC測定装置:GC−2010A(株式会社島津製作所製)
カラム:J&W DB-1701 (0.32mmφ×30m , 1.0μm)
カラム温度:50℃(0分)→(10℃/分)→150℃(0分)→(20℃/分)→280℃(8分)
TOTAL 分析時間 24.5分
注入口温度:250℃、検出器温度:250℃(FID , レンジ10
キャリアーガス:He (流速 約2.3mL/分)
注入口圧力:75.2 kPa(制御モード 圧力)
スプリット比:全流量 55.9mL/分 (スプリット比 約1/22)
注入量:1μL
The analysis conditions for GC analysis are as follows.
<Analysis conditions>
GC measuring device: GC-2010A (manufactured by Shimadzu Corporation)
Column: J & W DB-1701 (0.32mmφ × 30m, 1.0μm)
Column temperature: 50 ° C (0 min) → (10 ° C / min) → 150 ° C (0 min) → (20 ° C / min) → 280 ° C (8 min)
TOTAL analysis time 24.5 minutes Inlet temperature: 250 ° C, detector temperature: 250 ° C (FID, range 10 1 )
Carrier gas: He (flow rate approx. 2.3mL / min)
Inlet pressure: 75.2 kPa (Control mode pressure)
Split ratio: Total flow rate 55.9mL / min (split ratio approx. 1/22)
Injection volume: 1μL

[実施例1]

Figure 0005742500
2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸ナトリウム0.80g、粉末状金属銅0.41g、ヨウ化銅(I)0.031、N,N,N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン0.019g及びN−メチル−2−ピロリドン4.0gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、100℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、100℃で4時間、当該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記LC分析を行い、生成ビアリール化合物である4,4’−ジクロロ−2,2’−ビフェニルジスルホン酸ジナトリウムの収率を算出した。収率:98%。 [Example 1]
Figure 0005742500
Sodium 2,5-dichlorobenzenesulfonate 0.80 g, powdered metallic copper 0.41 g, copper (I) iodide 0.031, N, N, N ′, N ′,-tetramethylethylenediamine 0.019 g and N -4.0 g of methyl-2-pyrrolidone was mixed, and the resulting mixture was heated to 100 ° C while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 100 ° C. for 4 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture was sampled and subjected to the LC analysis, and the yield of disodium 4,4′-dichloro-2,2′-biphenyldisulfonate, which is the resulting biaryl compound, was calculated. Yield: 98%.

[実施例2]

Figure 0005742500
2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸ナトリウム0.80g、粉末状金属銅0.41g、ヨウ化銅(I)0.031g、2,2’−ビピリジン0.025g及びN−メチル−2−ピロリドン4.0gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、100℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、100℃で4時間、当該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記LC分析を行い、生成ビアリール化合物である4,4’−ジクロロ−2,2’−ビフェニルジスルホン酸ジナトリウムの収率を算出した。収率:96%。 [Example 2]
Figure 0005742500
Sodium 0.85-g, 2,5-dichlorobenzenesulfonate, 0.41 g of powdered metallic copper, 0.031 g of copper (I) iodide, 0.025 g of 2,2′-bipyridine and N-methyl-2-pyrrolidone 0 g was mixed, and the resulting mixture was heated to 100 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 100 ° C. for 4 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture was sampled and subjected to the LC analysis, and the yield of disodium 4,4′-dichloro-2,2′-biphenyldisulfonate, which is the resulting biaryl compound, was calculated. Yield: 96%.

[実施例3]

Figure 0005742500
2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸ナトリウム0.50g、粉末状金属銅0.25g、ヨウ化銅(I)0.019g、1,10−フェナントロリン0.018g及びN−メチル−2−ピロリドン2.5gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、100℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、100℃で4時間、当該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記LC分析を行い、生成ビアリール化合物である4,4’−ジクロロ−2,2’−ビフェニルジスルホン酸ジナトリウムの収率を算出した。収率:95%。 [Example 3]
Figure 0005742500
Sodium 2,5-dichlorobenzenesulfonate 0.50 g, powdered metal copper 0.25 g, copper (I) iodide 0.019 g, 1,10-phenanthroline 0.018 g and N-methyl-2-pyrrolidone 2.5 g The mixture was heated to 100 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 100 ° C. for 4 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture was sampled and subjected to the LC analysis, and the yield of disodium 4,4′-dichloro-2,2′-biphenyldisulfonate, which is the resulting biaryl compound, was calculated. Yield: 95%.

[実施例4]

Figure 0005742500
2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)0.59g、粉末状金属銅0.25g、ヨウ化銅(I)0.019g、N,N,N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン0.035g及びN−メチル−2−ピロリドン2.5gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、100℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、100℃で4時間、当該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記LC分析を行い、生成ビアリール化合物である4,4’−ジクロロビフェニル−2,2’−ジスルホン酸ジ(2,2−ジメチルプロピル)の収率を算出した。収率:56%。 [Example 4]
Figure 0005742500
2,5-dichlorobenzenesulfonic acid (2,2-dimethylpropyl) 0.59 g, powdered metal copper 0.25 g, copper iodide (I) 0.019 g, N, N, N ′, N ′,-tetra 0.035 g of methylethylenediamine and 2.5 g of N-methyl-2-pyrrolidone were mixed, and the resulting mixture was heated to 100 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 100 ° C. for 4 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture is sampled, the LC analysis is performed, and the yield of 4,4′-dichlorobiphenyl-2,2′-disulfonic acid di (2,2-dimethylpropyl), which is the resulting biaryl compound, is calculated. did. Yield: 56%.

[実施例5]

Figure 0005742500
2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)120.0g、粉末状金属銅28.2g及びトルエン300.0gを加え、混合物が290gになるまで濃縮し、水分値が21ppmであることを確認した。ここにトリフルオロメタンスルホン酸銅(II)1.46g及びN,N,N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン2.35gを加え、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、100℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、100℃で24時間、当該混合物を撹拌した。反応混合物をサンプリングして、前記LC分析を行い、生成ビアリール化合物である4,4’−ジクロロビフェニル−2,2’−ジスルホン酸ジ(2,2−ジメチルプロピル)の収率を算出した。収率:86%。
得られた反応マスにトルエン480.0gを加え、18.9%塩酸388.2gに滴下し、75℃で10分間攪拌した。75℃のまま水層を除去し、得られた油層をpH4になるまで水で洗浄し、5℃まで冷却して固体を析出させた。得られた固体を濾過し、乾燥することによって4,4’−ジクロロビフェニル−2,2’−ジスルホン酸ジ(2,2−ジメチルプロピル)72.4gを単離した(収率68%)。 [Example 5]
Figure 0005742500
Add 120.0 g of 2,5-dichlorobenzenesulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 28.2 g of powdered metallic copper and 300.0 g of toluene, concentrate until the mixture is 290 g, and have a moisture value of 21 ppm. It was confirmed. To this, 1.46 g of copper (II) trifluoromethanesulfonate and 2.35 g of N, N, N ′, N ′,-tetramethylethylenediamine were added, and the resulting mixture was maintained at 100 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The temperature rose. The mixture was stirred at 100 ° C. for 24 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. The reaction mixture was sampled and subjected to the LC analysis, and the yield of the resulting biaryl compound 4,4′-dichlorobiphenyl-2,2′-disulfonic acid di (2,2-dimethylpropyl) was calculated. Yield: 86%.
To the obtained reaction mass, 480.0 g of toluene was added, added dropwise to 388.2 g of 18.9% hydrochloric acid, and stirred at 75 ° C. for 10 minutes. The aqueous layer was removed at 75 ° C., and the resulting oil layer was washed with water until pH 4 and cooled to 5 ° C. to precipitate a solid. The obtained solid was filtered and dried to isolate 72.4 g of 4,4′-dichlorobiphenyl-2,2′-disulfonic acid di (2,2-dimethylpropyl) (yield 68%).

[実施例6]

Figure 0005742500
2−クロロチオフェン0.95g、粉末状金属銅1.02g、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)0.029g、N,N,N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン0.093g及びN−メチル−2−ピロリドン1.0gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、150℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、150℃で4時間、当該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記GC分析を行い、生成ビアリール化合物である2,2’−ビチオフェンの収率を算出した。収率:20%。 [Example 6]
Figure 0005742500
0.95 g of 2-chlorothiophene, 1.02 g of powdered metallic copper, 0.029 g of copper (II) trifluoromethanesulfonate, 0.093 g of N, N, N ′, N ′,-tetramethylethylenediamine and N-methyl- 1.0 g of 2-pyrrolidone was mixed, and the resulting mixture was heated to 150 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 150 ° C. for 4 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture was sampled and subjected to the GC analysis, and the yield of 2,2′-bithiophene, which was the resulting biaryl compound, was calculated. Yield: 20%.

[実施例7]

Figure 0005742500
2−クロロニトロベンゼン0.95g、粉末状金属銅0.77g、ヨウ化銅(I)0.057g、N,N,N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン0.035g及びN−メチル−2−ピロリドン7.5gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、150℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、150℃で4時間、当該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記GC分析を行い、生成ビアリール化合物である2,2’−ジニトロビフェニルの収率を算出した。収率:54%。 [Example 7]
Figure 0005742500
0.95 g of 2-chloronitrobenzene, 0.77 g of powdered metallic copper, 0.057 g of copper (I) iodide, 0.035 g of N, N, N ′, N ′,-tetramethylethylenediamine and N-methyl-2- 7.5 g of pyrrolidone was mixed, and the resulting mixture was heated to 150 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 150 ° C. for 4 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture was sampled and subjected to the GC analysis, and the yield of 2,2′-dinitrobiphenyl, which was the resulting biaryl compound, was calculated. Yield: 54%.

[実施例8]

Figure 0005742500
2−クロロ安息香酸メチル1.36g、粉末状金属銅1.02g、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)0.029g、N,N,N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン0.093g及びN−メチル−2−ピロリドン1.0gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、150℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、150℃で4時間、該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記GC分析を行い、生成ビアリール化合物である2,2’−ビス(メトキシカルボニル)ビフェニルの収率を算出した。収率:29%。 [Example 8]
Figure 0005742500
1.36 g of methyl 2-chlorobenzoate, 1.02 g of powdered metallic copper, 0.029 g of copper (II) trifluoromethanesulfonate, 0.093 g of N, N, N ′, N ′,-tetramethylethylenediamine and N— 1.0 g of methyl-2-pyrrolidone was mixed, and the resulting mixture was heated to 150 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 150 ° C. for 4 hours while maintaining a nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture was sampled and subjected to the GC analysis, and the yield of 2,2′-bis (methoxycarbonyl) biphenyl, which was the resulting biaryl compound, was calculated. Yield: 29%.

[実施例9]

Figure 0005742500
2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)2.38g、粉末状金属銅0.56g、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)0.029g、1,4,7−トリメチル−1,4,7−トリアザシクロノナン0.21g及びトルエン2.38gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、100℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、100℃で4時間、当該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記LC分析を行い、生成ビアリール化合物である4,4’−ジクロロビフェニル−2,2’−ジスルホン酸ジ(2,2−ジメチルプロピル)の収率を算出した。収率:82%。 [Example 9]
Figure 0005742500
2.38 g of 2,5-dichlorobenzenesulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 0.56 g of powdered metal copper, 0.029 g of copper (II) trifluoromethanesulfonate, 1,4,7-trimethyl-1, 4,7-Triazacyclononane 0.21 g and toluene 2.38 g were mixed, and the resulting mixture was heated to 100 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 100 ° C. for 4 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture is sampled, the LC analysis is performed, and the yield of 4,4′-dichlorobiphenyl-2,2′-disulfonic acid di (2,2-dimethylpropyl), which is the resulting biaryl compound, is calculated. did. Yield: 82%.

[実施例10]

Figure 0005742500
2−クロロピリジン0.91g、粉末状金属銅1.02g、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)0.029g、N,N,N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン0.093g及びN−メチル−2−ピロリドン1.0gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、150℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、150℃で4時間、当該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記GC分析を行い、生成ビアリール化合物である2,2’−ビピリジンの収率を算出した。収率:10%。 [Example 10]
Figure 0005742500
0.91 g of 2-chloropyridine, 1.02 g of powdered metallic copper, 0.029 g of copper (II) trifluoromethanesulfonate, 0.093 g of N, N, N ′, N ′,-tetramethylethylenediamine and N-methyl- 1.0 g of 2-pyrrolidone was mixed, and the resulting mixture was heated to 150 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 150 ° C. for 4 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture was sampled and subjected to the GC analysis, and the yield of 2,2′-bipyridine, which was the resulting biaryl compound, was calculated. Yield: 10%.

[実施例11]

Figure 0005742500
2,5−ジクロロベンゾフェノン2.0g、粉末状金属銅1.02g、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)0.029g、N,N,N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン0.093g及びN−メチル−2−ピロリドン1.0gを混合し、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、150℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、150℃で4時間、当該混合物を撹拌した。冷却後、反応混合物をサンプリングして、前記GC分析を行い、生成ビアリール化合物である4,4’−ジクロロ−2,2’−ビス(ベンゾイル)ビフェニルの収率を算出した。収率:21%。 [Example 11]
Figure 0005742500
2.0 g of 2,5-dichlorobenzophenone, 1.02 g of powdered metal copper, 0.029 g of copper (II) trifluoromethanesulfonate, 0.093 g of N, N, N ′, N ′,-tetramethylethylenediamine and N— 1.0 g of methyl-2-pyrrolidone was mixed, and the resulting mixture was heated to 150 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 150 ° C. for 4 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. After cooling, the reaction mixture was sampled and subjected to the GC analysis, and the yield of 4,4′-dichloro-2,2′-bis (benzoyl) biphenyl, which was the resulting biaryl compound, was calculated. Yield: 21%.

[実施例12]

Figure 0005742500
p−トルエンスルホン酸・1水和物1.15gと酢酸銅(II)0.55g及びトルエン135gを加え、110℃で1時間加熱して、トルエンを54g留去した。濃縮マス内に生成したp−トルエンスルホン酸銅を含む混合物に、2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)45.0g、粉末状金属銅10.6gを加え、100℃で20時間、当該混合物を撹拌した。反応混合物をサンプリングして、前記LC分析を行い、生成ビアリール化合物である4,4’−ジクロロビフェニル−2,2’−ジスルホン酸ジ(2,2−ジメチルプロピル)の収率を算出した。収率:77%。 [Example 12]
Figure 0005742500
1.15 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, 0.55 g of copper (II) acetate and 135 g of toluene were added, and the mixture was heated at 110 ° C. for 1 hour to distill off 54 g of toluene. To a mixture containing copper p-toluenesulfonate formed in the concentrated mass, 45.0 g of 2,5-dichlorobenzenesulfonic acid (2,2-dimethylpropyl) and 10.6 g of powdered metal copper are added, and the mixture is 100 ° C. The mixture was stirred for 20 hours. The reaction mixture was sampled and subjected to the LC analysis, and the yield of the resulting biaryl compound 4,4′-dichlorobiphenyl-2,2′-disulfonic acid di (2,2-dimethylpropyl) was calculated. Yield: 77%.

[実施例13]

Figure 0005742500
2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸(2,2−ジメチルプロピル)45.0g、粉末状金属銅10.6g、水酸化銅(II)0.30g、メタンスルホン酸0.58g及びトルエン90gを加え、反応マス内に生成したメタンスルホン酸銅を含む混合物が104gになるまで濃縮し、水分値が20ppmであることを確認した。ここにN,N,N’,N’,−テトラメチルエチレンジアミン3.5gを加え、得られた混合物を、窒素雰囲気を保持しつつ、105℃まで昇温した。窒素雰囲気を保持したまま、105℃で26時間、当該混合物を撹拌した。反応混合物をサンプリングして、前記LC分析を行い、生成ビアリール化合物である4,4’−ジクロロビフェニル−2,2’−ジスルホン酸ジ(2,2−ジメチルプロピル)の収率を算出した。収率:72%。 [Example 13]
Figure 0005742500
Add 45.0 g of 2,5-dichlorobenzenesulfonic acid (2,2-dimethylpropyl), 10.6 g of powdered metal copper, 0.30 g of copper hydroxide (II), 0.58 g of methanesulfonic acid and 90 g of toluene, It concentrated until the mixture containing the copper methanesulfonate produced | generated in the reaction mass became 104g, and confirmed that the moisture value was 20 ppm. N, N, N ′, N ′,-tetramethylethylenediamine (3.5 g) was added thereto, and the resulting mixture was heated to 105 ° C. while maintaining a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at 105 ° C. for 26 hours while maintaining the nitrogen atmosphere. The reaction mixture was sampled and subjected to the LC analysis, and the yield of the resulting biaryl compound 4,4′-dichlorobiphenyl-2,2′-disulfonic acid di (2,2-dimethylpropyl) was calculated. Yield: 72%.

本発明によれば、入手容易なアリールクロライド化合物からビアリール化合物が製造可能である。   According to the present invention, a biaryl compound can be produced from an easily available aryl chloride compound.

Claims (15)

分子内に少なくとも2つの三級アミノ基を含むアミン化合物、金属銅及び銅塩の存在下、
(該銅塩は、10以下の酸解離定数(pKa)を示すブレンステッド酸(該ブレンステッド酸は、ハロゲン化水素、硫酸、チオシアン酸、リン酸、炭酸、硝酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、アセチルアセトン、フェノール、ペンタフルオロフェノールおよびチオフェノールからなる群から選ばれる少なくとも1種である。)から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基と銅カチオンとからなる塩である。)
式(1)
Ar−Cl (1)
(式(1)中、Arは、塩素原子のオルト位に少なくとも一つの電子吸引性基(該電子吸引性基の置換基定数σ 値が0.3〜1の範囲である。)を有する芳香族基を表す。該芳香族基は、電子吸引性基以外の置換基を有していてもよい。
で示されるアリールクロライド化合物をカップリングさせる工程を含むことを特徴とする式(2)
Ar−Ar (2)
(式(2)中、Arは前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物の製造方法。
In the presence of an amine compound containing at least two tertiary amino groups in the molecule, metallic copper and a copper salt,
(The copper salt is a Bronsted acid having an acid dissociation constant (pKa) of 10 or less (the Bronsted acid is hydrogen halide, sulfuric acid, thiocyanic acid, phosphoric acid, carbonic acid, nitric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfone). A Bronsted base from which hydrogen ions are removed from acid, benzenesulfonic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, pentafluoropropionic acid, acetylacetone, phenol, pentafluorophenol and thiophenol. (Salt consisting of copper cations.)
Formula (1)
Ar-Cl (1)
(In the formula (1), Ar represents at least one electron-withdrawing group at the ortho position of the chlorine atom (the substituent constant σ p 0 value of the electron-withdrawing group is in the range of 0.3 to 1). The aromatic group may have a substituent other than the electron-withdrawing group.
Comprising the step of coupling an aryl chloride compound represented by formula (2):
Ar-Ar (2)
(In the formula (2), Ar has the same meaning as described above.)
The manufacturing method of biaryl compound shown by these.
アミン化合物に含まれる三級アミノ基を構成する窒素原子が、3つの炭素原子と結合している窒素原子であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。   2. The production method according to claim 1, wherein the nitrogen atom constituting the tertiary amino group contained in the amine compound is a nitrogen atom bonded to three carbon atoms. 銅塩が、ハロゲン化銅、硫酸銅、銅チオシアネート、リン酸銅、炭酸銅、硝酸銅、メタンスルホン酸銅、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I)−ベンゼン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I)−トルエン錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)、ベンゼンスルホン酸銅、酢酸銅、トリフルオロ酢酸銅、ペンタフルオロプロピオン酸銅、銅(II)アセチルアセトナート、銅フェノレート、銅ペンタフルオロフェノレートおよび銅チオフェノレートからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。 Copper salt is copper halide, copper sulfate, copper thiocyanate, copper phosphate, copper carbonate, copper nitrate, copper methanesulfonate, copper trifluoromethanesulfonate (I) -benzene complex, copper trifluoromethanesulfonate (I)- Toluene complex, copper (II) trifluoromethanesulfonate, copper benzenesulfonate, copper acetate, copper trifluoroacetate, copper pentafluoropropionate, copper (II) acetylacetonate, copper phenolate, copper pentafluorophenolate and copper the process according to claim 1 Symbol mounting, characterized in that at least one selected from the group consisting of thiophenolate. 銅塩が、ハロゲン化銅であることを特徴とする請求項1又は2記載の製造方法。   The method according to claim 1 or 2, wherein the copper salt is a copper halide. 銅塩の使用量が、アミン化合物1モルに対し、0.01モル〜10モルの範囲であることを特徴とする請求項1〜のいずれか記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 4 , wherein the amount of copper salt used is in the range of 0.01 mol to 10 mol with respect to 1 mol of the amine compound. アミン化合物が、2,2’-ビピリジル、1,10−フェナントロリン、1,4,7−トリメチル−1,4,7−トリアザシクロノナン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン及びN,N,N’,N’−テトラエチルエチレンジアミンからなる群から選ばれる少なくとも1つのアミン化合物であることを特徴とする請求項1〜のいずれか記載の製造方法。 The amine compound is 2,2′-bipyridyl, 1,10-phenanthroline, 1,4,7-trimethyl-1,4,7-triazacyclononane, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine and N, N, N ', the method according to any one of claims 1-5, characterized in that at least one amine compound selected from the group consisting of N'- tetraethyl ethylenediamine. アミン化合物の使用量が、アリールクロライド化合物1モルに対し、0.0001モル〜0.5モルの範囲であることを特徴とする請求項1〜のいずれか記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 6 , wherein the amount of the amine compound used is in the range of 0.0001 mol to 0.5 mol with respect to 1 mol of the aryl chloride compound. アリールクロライド化合物が、式(3)
Figure 0005742500
(式(3)中、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表し、
は、水素原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表す。なお、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している、R及びRの組み合わせ、R及びRの組み合わせ、並びに、R及びRの組み合わせは、各々が結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。Eは電子求引性基(該電子吸引性基の置換基定数σ 値が0.3〜1の範囲である。)を表す。)
で示されるアリールクロライド化合物であり、
ビアリール化合物が、式(4)
Figure 0005742500
(式(4)中、R、R、R、R及びEは前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物であることを特徴とする請求項1〜のいずれか記載の製造方法。
〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数6〜12のアリールオキシ基
The aryl chloride compound has the formula (3)
Figure 0005742500
(In Formula (3), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following group G; From an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, from the following G group An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a selected group, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, and a group selected from the following G group An aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have an amino group having a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following group G;
R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, or a group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group. An alkoxy group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, Aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, Aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group as a substituent, or The amino group which has a C1-C20 hydrocarbon group which may have the group chosen from the following G group is represented. The combination of R 1 and R 2 , the combination of R 2 and R 3 , and the combination of R 3 and R 4 that are bonded to adjacent carbon atoms are the same as the carbon atom to which each is bonded. To form a ring. E represents an electron withdrawing group (the substituent constant σ p 0 value of the electron withdrawing group is in the range of 0.3 to 1) . )
An aryl chloride compound represented by:
The biaryl compound is of the formula (4)
Figure 0005742500
(In the formula (4), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and E are as defined above.)
The method according to any one of claims 1-7, characterized in that in a biaryl compound represented.
[Group G]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms
電子求引性基が、式(5)
Figure 0005742500
(式(5)中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、式(6)
Figure 0005742500
(式(6)中、Y、Y、Y及びYは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を表す。)
で示されるアンモニウムイオン、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、または、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数6〜12のアリールオキシ基)
で示される基であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか記載の製造方法。
The electron withdrawing group has the formula (5)
Figure 0005742500
(In Formula (5), Y is a hydrogen ion, an alkali metal ion, Formula (6)
Figure 0005742500
(In formula (6), Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
Or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, or 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group. Represents an aryl group.
[Group G]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms)
The production method according to claim 1, wherein the group is a group represented by the formula :
アリールクロライド化合物が、式(10)
Figure 0005742500
(式(10)中、Yは、水素イオン、アルカリ金属イオン、式(6)
Figure 0005742500
(式(6)中、Y、Y、Y及びYは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を表す。)
で示されるアンモニウムイオン、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、または、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R10は、それぞれ独立に、フッ素原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数2〜20のアシル基又はシアノ基を表わす。kは0〜3の整数を表わす。また、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している2つのR10同士は結合し、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。
〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数1〜12のアリールオキシ基)
で示されるアリールクロライド化合物であり、ビアリール化合物が式(11)
Figure 0005742500
(式中、R10、Y及びkは前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物であることを特徴とする請求項1〜のいずれか記載の製造方法。
The aryl chloride compound has the formula (10)
Figure 0005742500
(In Formula (10), Y is a hydrogen ion, an alkali metal ion, Formula (6)
Figure 0005742500
(In formula (6), Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
Or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, or 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group. Represents an aryl group. R 10 is independently a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the following G group, or a carbon number that may have a group selected from the following G group. An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following group G, and a 6 to 20 carbon atom which may have a group selected from the following group G An aryloxy group, an acyl group having 2 to 20 carbon atoms and a cyano group which may have a group selected from Group G below. k represents an integer of 0 to 3. Further, two R 10 bonded to adjacent carbon atoms may be bonded to each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded.
[Group G]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms)
And the biaryl compound is represented by the formula (11):
Figure 0005742500
(Wherein R 10 , Y and k are as defined above.)
The method according to any one of claims 1-7, characterized in that in a biaryl compound represented.
Yが、アルカリ金属イオンであることを特徴とする請求項又は10記載の製造方法。 The method according to claim 9 or 10 , wherein Y is an alkali metal ion. 電子求引性基が、ニトロ基(-NO)であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか記載の製造方法。 Electron withdrawing group, The method according to any one of claims 1-8, characterized in that a nitro group (-NO 2). 分子内に少なくとも2つの三級アミノ基を含むアミン化合物、金属銅及び銅塩の存在下、
(該銅塩は、10以下の酸解離定数(pKa)を示すブレンステッド酸(該ブレンステッド酸は、ハロゲン化水素、硫酸、チオシアン酸、リン酸、炭酸、硝酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、アセチルアセトン、フェノール、ペンタフルオロフェノールおよびチオフェノールからなる群から選ばれる少なくとも1種である。)から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基と銅カチオンとからなる塩である。)
式(1)
Ar−Cl (1)
(式(1)中、Arは芳香族性を有する複素環基(但し、当該複素環基は置換基を有していてもよい)であり、Arに含まれる窒素原子、酸素原子または硫黄原子とArのClに結合している炭素原子とが直接結合している複素環基を表す。)
で示されるアリールクロライド化合物をカップリングさせる工程を含むことを特徴とする式(2)
Ar−Ar (2)
(式(2)中、Arは前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物の製造方法。
In the presence of an amine compound containing at least two tertiary amino groups in the molecule, metallic copper and a copper salt,
(The copper salt is a Bronsted acid having an acid dissociation constant (pKa) of 10 or less (the Bronsted acid is hydrogen halide, sulfuric acid, thiocyanic acid, phosphoric acid, carbonic acid, nitric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfone). A Bronsted base from which hydrogen ions are removed from acid, benzenesulfonic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, pentafluoropropionic acid, acetylacetone, phenol, pentafluorophenol and thiophenol. (Salt consisting of copper cations.)
Formula (1)
Ar-Cl (1)
(In formula (1), Ar is a heterocyclic group having aromaticity (however, the heterocyclic group may have a substituent), and a nitrogen atom, oxygen atom or sulfur atom contained in Ar) Represents a heterocyclic group in which the carbon atom bonded to Cl of Ar is directly bonded .)
Comprising the step of coupling an aryl chloride compound represented by formula (2):
Ar-Ar (2)
(In the formula (2), Ar has the same meaning as described above.)
The manufacturing method of biaryl compound shown by these.
分子内に少なくとも2つの三級アミノ基を含むアミン化合物、金属銅及び銅塩の存在下、
(該銅塩は、10以下の酸解離定数(pKa)を示すブレンステッド酸(該ブレンステッド酸は、ハロゲン化水素、硫酸、チオシアン酸、リン酸、炭酸、硝酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、アセチルアセトン、フェノール、ペンタフルオロフェノールおよびチオフェノールからなる群から選ばれる少なくとも1種である。)から水素イオンを取り去ったブレンステッド塩基と銅カチオンとからなる塩である。)
式(7)
Figure 0005742500
(式中、R11及びR12は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表し、
14は、水素原子、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数7〜20のアラルキル基、下記G群より選ばれる基を置換基として有していてもよい炭素数7〜20のアラルキルオキシ基又は下記G群より選ばれる基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を有するアミノ基を表す。なお、隣接する炭素原子にそれぞれ結合している、R11及びR12の組み合わせ、並びに、R12及びR14の組み合わせは、各々が結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。Aは、酸素原子または硫黄原子を表す。
〔G群〕
フッ素原子;シアノ基;炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数6〜12のアリール基;炭素数1〜12のアリールオキシ基)
で示される化合物であり、
で示されるアリールクロライド化合物をカップリングさせる工程を含むことを特徴とする式(8)
Figure 0005742500
(式中、A、R11、R12およびR14は前記と同義である。)
で示されるビアリール化合物の製造方法。
In the presence of an amine compound containing at least two tertiary amino groups in the molecule, metallic copper and a copper salt,
(The copper salt is a Bronsted acid having an acid dissociation constant (pKa) of 10 or less (the Bronsted acid is hydrogen halide, sulfuric acid, thiocyanic acid, phosphoric acid, carbonic acid, nitric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfone). A Bronsted base from which hydrogen ions are removed from acid, benzenesulfonic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, pentafluoropropionic acid, acetylacetone, phenol, pentafluorophenol and thiophenol. (Salt consisting of copper cations.)
Formula (7)
Figure 0005742500
Wherein R 11 and R 12 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, and the following G group. An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, and a group selected from the following G group May have an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, a group selected from the following G group, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a group selected from the following G group. Represents an amino group having a C1-C20 hydrocarbon group which may have a good C7-20 aralkyloxy group or a group selected from the following G group;
R 14 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a group selected from the following G group, or a C 1 to 20 carbon group that may have a group selected from the following G group. An alkoxy group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, Aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group, Aralkyloxy group having 7 to 20 carbon atoms which may have a group selected from the following G group as a substituent, or The amino group which has a C1-C20 hydrocarbon group which may have the group chosen from the following G group is represented. The combination of R 11 and R 12 and the combination of R 12 and R 14 that are bonded to adjacent carbon atoms, respectively, form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. May be. A represents an oxygen atom or a sulfur atom.
[G group]
A fluorine atom; a cyano group; an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms)
A compound represented by
Comprising the step of coupling an aryl chloride compound represented by formula (8):
Figure 0005742500
(In the formula, A, R 11 , R 12 and R 14 are as defined above.)
The manufacturing method of biaryl compound shown by these.
カップリングさせる工程が、非プロトン性極性溶媒の存在下で行う工程であることを特徴とする請求項1〜14のいずれか記載の製造方法。 The process according to any one of claims 1 to 14 , wherein the coupling step is a step performed in the presence of an aprotic polar solvent.
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