JP5741903B2

JP5741903B2 - Insulation article

Info

Publication number: JP5741903B2
Application number: JP2011011085A
Authority: JP
Inventors: 柳　陽介; 陽介柳; 崇志原; 和揮水谷; 洋史小池
Original assignee: Aisin Seiki Co Ltd; Aisin Corp
Current assignee: Aisin Corp
Priority date: 2011-01-21
Filing date: 2011-01-21
Publication date: 2015-07-01
Anticipated expiration: 2031-01-21
Also published as: JP2012153910A

Description

本発明は絶縁物品に関する。絶縁物品としては、例えば、マーク等の装飾部品、ドアハンドル等のハンドル、ラジエータグリル等のグリルが挙げられる。 The present invention relates to the insulation product. Examples of the insulating article include decorative parts such as marks, handles such as door handles, and grills such as radiator grills.

特許文献１は装飾クロムめっき製品およびその製造方法を開示する。このものによれば、樹脂製の基部、下地銅めっき膜、ニッケルめっき膜、電気めっき等で形成されたクロムめっき膜、不導態膜の順に積層されてクロムめっき製品が形成されている。このものによれば、製造後において、クロムめっき膜にマイクロクラックが自然発生し、耐食性を低下させることに着目している。電気めっきで形成されたクロムめっき膜は、高い電着応力を残留させていたためマイクロクラックを自然発生させるおそれがある。そしてこのものでは、製造段階で、マイクロクラックを予めクロムめっき膜に形成しておき、その後、クロムめっき膜を不導態化処理させることによりクロムめっき膜の上に不導態膜を形成させることにしている。不導態膜はマイクロクラックの底まで形成されているため、高い耐食性を示すことができる。これにより装飾クロムめっき製品の耐食性を改善させている。 Patent Document 1 discloses a decorative chrome plated product and a manufacturing method thereof. According to this, a chromium plating product is formed by laminating a resin base, a base copper plating film, a nickel plating film, a chromium plating film formed by electroplating, and a non-conductive film in this order. According to this product, attention is paid to the fact that microcracks spontaneously occur in the chromium plating film after the production, thereby reducing the corrosion resistance. Since the chromium plating film formed by electroplating has left a high electrodeposition stress, there is a possibility that microcracks may occur naturally. And in this thing, a micro crack is previously formed in a chromium plating film at the manufacturing stage, and then a non-conductive film is formed on the chromium plated film by subjecting the chromium plated film to a non-conductive process. I have to. Since the non-conductive film is formed up to the bottom of the microcrack, it can exhibit high corrosion resistance. This improves the corrosion resistance of decorative chrome-plated products.

特許文献２は、アンテナ部を搭載したドアハンドルへ被着させる被膜として、金属微粒子を堆積させた金属膜を用いるドアハンドル装置を開示する。このものによれば、金属膜により金属光沢を発揮させて意匠性を高めている。このものによれば、金属微粒子で成膜された金属膜は微視的には不連続部分を有するため、アンテナ部のアンテナ出力の損失を抑えることができる。 Patent Document 2 discloses a door handle device using a metal film on which metal fine particles are deposited as a film to be attached to a door handle on which an antenna unit is mounted. According to this, the metallic luster is exhibited by the metal film to enhance the design. According to this, since the metal film formed with the metal fine particles has a discontinuous portion microscopically, loss of antenna output of the antenna portion can be suppressed.

特許文献３は、アンテナ部を内蔵するドアハンドルにスパッタリングにより金属薄膜を形成するアンテナ内蔵装置を開示する。スパッタリングにより形成された金属薄膜は、厚みが薄いため、アンテナ部のアンテナ出力の損失を抑えることができる。 Patent Document 3 discloses an antenna built-in device in which a metal thin film is formed by sputtering on a door handle incorporating an antenna unit. Since the metal thin film formed by sputtering is thin, loss of antenna output of the antenna portion can be suppressed.

特開２００８−５０６５６号公報JP 2008-50656 A 特開２００５−１１３４７５号公報JP 2005-113475 A 特開２００７−１４２７８４号公報JP 2007-142784 A

特許文献１に係る技術は、装飾クロムめっき製品を対象とするものであるため、電気絶縁性および導電性を問うものではない。しかしながらクロムめっき膜の下地としてニッケルめっき膜がこれの表面延設方向に沿って広く延設されているため、ニッケルめっき膜は二次元的に広く延設されており、ニッケルめっき膜はこれの二次元方向（膜延設方向）における良好な導電性を示してしまう。結果として、特許文献１に係る技術は、電気絶縁性を必要とする分野には適用することはできない。 Since the technology according to Patent Document 1 is intended for decorative chrome-plated products, it does not ask for electrical insulation and conductivity. However, since the nickel plating film is widely extended along the surface extending direction as a base of the chromium plating film, the nickel plating film is extended widely two-dimensionally. Good conductivity in the dimensional direction (film extending direction) is exhibited. As a result, the technique according to Patent Document 1 cannot be applied to a field that requires electrical insulation.

特許文献２に係る技術は、金属微粒子で成膜された金属塗装膜は微視的には金属の不連続部分を有するが、膜延設方向の電気絶縁性は必ずしも満足できるものではない。特許文献３に係る技術は、一般的なスパッタリングにより形成された膜であるため膜延設方向には連続膜であり、膜延設方向の電気絶縁性は得られない。結果として、特許文献２，３に係る技術は、膜延設方向の電気絶縁性を必要とする分野には適用するには限界がある。 In the technique according to Patent Document 2, a metal coating film formed with metal fine particles has a discontinuous portion of the metal microscopically, but the electrical insulation in the film extending direction is not always satisfactory. Since the technique according to Patent Document 3 is a film formed by general sputtering, it is a continuous film in the film extending direction, and electrical insulation in the film extending direction cannot be obtained. As a result, the techniques according to Patent Documents 2 and 3 are limited in application to fields that require electrical insulation in the film extending direction.

本発明は上記した実情に鑑みてなされたものであり、金属光沢性を示すと共に表面延設方向における良好な電気絶縁性を示す絶縁物品を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an insulator products having good electrical insulation properties at the surface extending direction with showing a metallic luster.

（１）様相１の本発明に係る絶縁物品は、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部と、基部の表面に積層されクロムを母材とすると共に網目状クラックが形成され且つ網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜とを具備し、クロム膜で覆われた基部に対し、網目状クラックが形成される面の反対側に静電容量型タッチセンサ部が搭載されている。 (1) An insulating article according to the present invention of aspect 1 includes a base portion made of an electrically insulating material, a laminated base layer on the surface of the base portion, chromium as a base material, and a mesh-like crack formed and a mesh-like crack. The capacitive touch sensor unit is mounted on the opposite side of the surface where the mesh cracks are formed with respect to the base part covered with the chromium film. ing.

基部は、絶縁物品のベースとなる部位である。基部は、基部本体と、基部本体に積層された中間膜とを有する構成にできるが、中間膜を積層していない場合も含む。クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。クラック溝を形成する網目状クラックがクロム膜に形成されている。網目状クラックのクラック溝は、網目状クラックで包囲され互いに隣設する島状部同士の導電性を遮断させるため、クロム膜の膜延設方向の電気絶縁性を高めることができる。このため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。膜延設方向とは、クロム膜の厚みを無視するとき、クロム膜の膜表面が延設されている方向を意味する。ここで、絶縁物品として、マーク等の装飾部品、ドアハンドル等のハンドル、ラジエータグリル等のグリルが挙げられる。ハンドルとしてはドアハンドルが例示される。ドアハンドルとしては、自動車、トラック等の車両等に代表される可動物体用、建築物用等が挙げられる。 The base is a part that becomes a base of the insulating article. The base can be configured to have a base main body and an intermediate film laminated on the base main body, but includes a case where no intermediate film is laminated. The chromium film uses chromium as a base material and has a metallic luster. A network-like crack that forms a crack groove is formed in the chromium film. Since the crack groove of the mesh crack blocks the electrical conductivity between the island portions surrounded by the mesh crack and adjacent to each other, the electrical insulation in the direction of extending the chromium film can be enhanced. For this reason, the electrical insulation in the film extending direction of the chromium film is enhanced. Therefore, the insulating component ensures electrical insulation in the film extending direction while exhibiting a metallic luster by the chromium film. The film extending direction means the direction in which the film surface of the chromium film is extended when the thickness of the chromium film is ignored. Here, examples of the insulating article include decorative parts such as marks, handles such as door handles, and grills such as radiator grills. An example of the handle is a door handle. Examples of the door handle include a movable object represented by a vehicle such as an automobile and a truck, and a building.

また、本発明に係る絶縁物品によれば、クロム膜で覆われた静電容量型タッチセンサ部を有する。保護膜と反対側に位置しつつクロム膜で覆われた静電容量型タッチセンサ部を有することもできる。このセンサ部は、保護膜と反対側に位置しつつ、膜延設方向に電気絶縁性を示すクロム膜で覆われているため、タッチセンサ部の付近の電気絶縁性が確保され、静電容量型タッチセンサ部のセンサ機能を良好に発揮できる。 Further, according to the insulating article according to the present invention, having a capacitance-type touch sensor unit covered with chromium film. Rukoto that having a capacitance-type touch sensor unit covered with a chromium film while positioned on the opposite side of the coercive Mamorumaku also. Since this sensor part is located on the opposite side of the protective film and is covered with a chromium film that exhibits electrical insulation in the film extending direction, the electrical insulation in the vicinity of the touch sensor part is ensured, and the capacitance The sensor function of the mold touch sensor can be satisfactorily exhibited.

（２）様相２の本発明に係る絶縁物品によれば、上記様相において、クロム膜の厚みを示す断面において、基部は、クロム膜の外方から伝搬される電波を受信すると共に、クロム膜で覆われたアンテナ部を有する。一般に、クロム膜等の金属膜はこれの厚み方向の電波を遮蔽する作用がある。しかしクロム膜に網目状クラックが形成されており、網目状クラックの部分はクロム成分（金属成分）ではないため、クロム膜は厚み方向において電波透過性を示すことができる。従って、クロム膜の裏側にアンテナ部が設けられているときであっても、クロム膜の外方から伝搬される電波をクロム膜の網目状クラックに透過させ、その電波をアンテナ部に受信させることができる。 (2) According to the insulating article according to the present invention of aspect 2, in the aspect described above, in the cross section indicating the thickness of the chromium film, the base receives the radio wave propagated from the outside of the chromium film and It has a covered antenna part. In general, a metal film such as a chromium film has an action of shielding radio waves in the thickness direction thereof. However, since a mesh-like crack is formed in the chromium film, and the portion of the mesh-like crack is not a chromium component (metal component), the chromium film can exhibit radio wave transmission in the thickness direction. Therefore, even when the antenna part is provided on the back side of the chrome film, radio waves propagated from the outside of the chrome film are transmitted through the mesh cracks of the chrome film, and the radio wave is received by the antenna part. Can do.

（３）様相３の本発明に係る絶縁物品は、上記様相において、基部はドアハンドル本体である。クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。従って絶縁物品はドアハンドルである。ここで、網目状クラックがクロム膜に形成されており、網目状クラックのクラック溝はクロム膜の膜延設方向における導電性を遮断させるため、クロム膜においてこれの膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。一般にクロム膜等の金属膜は厚み方向の電波透過性を示さない。しかし網目状クラックにより、クロム膜は電波透過性を示すこともできる。 (3) The insulating article according to the present invention of aspect 3 is the door handle body in the above aspect. The chromium film uses chromium as a base material and has a metallic luster. Thus, the insulating article is a door handle. Here, the mesh crack is formed in the chromium film, and the crack groove of the mesh crack blocks the conductivity in the film extending direction of the chromium film. Has been increased. Therefore, the insulating component ensures electrical insulation in the film extending direction while exhibiting a metallic luster by the chromium film. In general, a metal film such as a chromium film does not exhibit radio wave transmission in the thickness direction. However, the chromium film can also exhibit radio wave transmission due to the network cracks.

本発明に係る絶縁物品の製造方法は、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施すことにより、網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性をもつクロム膜を形成するクロム膜形成工程を備えている。成膜工程では、電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施す。これにより、網目状クラックが形成されたまたは網目状クラックが形成され得る金属光沢をもつクロム膜を、基部に積層させる。成膜処理としては、物理的成膜処理、化学的成膜処理が挙げられる。物理的成膜処理としては、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等が例示される。化学的成膜処理としてＣＶＤ法が例示される。成膜処理によれば、成膜速度等の成膜条件によっては、網目状クラックをもつクロム膜が形成されることがある。 The method for manufacturing an insulating article according to the present invention uses a base portion made of an electrically insulating material and performs a film forming process on the surface of the base portion, thereby providing electrical insulation in the film extending direction due to a mesh crack. A chromium film forming step for forming a chromium film. In the film forming process, a base portion made of an electrically insulating material is used, and a film forming process is performed on the surface of the base portion. As a result, a chromium film having a metallic luster in which a mesh crack is formed or a mesh crack can be formed is laminated on the base. Examples of the film forming process include a physical film forming process and a chemical film forming process. Examples of the physical film forming process include sputtering, ion plating, and vacuum deposition. A CVD method is exemplified as the chemical film formation process. According to the film forming process, a chromium film having a network crack may be formed depending on the film forming conditions such as the film forming speed.

また、本発明に係る絶縁物品の製造方法によれば、クロム膜形成工程は、網目状クラックが形成されたまたは網目状クラックが形成され得るクロムを母材とするクロム膜を基部の表面に積層させる成膜工程と、少なくともクロム膜を加熱処理することにより、クロム膜において網目状クラックを形成するか、または、成膜時に形成されている形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げ、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する。 Further , according to the method for manufacturing an insulating article according to the present invention, the chromium film forming step includes laminating a chromium film having a mesh-like crack or a chromium-based material on which the mesh-like crack can be formed on the surface of the base. A film forming step, and heat treatment of at least the chromium film, thereby forming a network crack in the chromium film, or widening the crack groove width of the formed network crack formed during the film formation, A heating step for improving electrical insulation in the direction of extending the chromium film is sequentially performed.

成膜工程後において、少なくともクロム膜を加熱処理する。これにより、成膜時に網目状クラックが形成されていないクロム膜において網目状クラックを形成するか、または、成膜時に形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げる。これによりクロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高めることができる。加熱温度としては６０℃以上、８０℃以上とすることができ、温度範囲としては５０〜２００℃の範囲内、６０〜１５０℃の範囲内が例示される。 After the film forming step, at least the chromium film is heat-treated. Thereby, a network crack is formed in the chromium film in which no network crack is formed during film formation, or the crack groove width of the network crack formed during film formation is increased. Thereby, the electrical insulation in the film extending direction of the chromium film can be enhanced. As heating temperature, it can be set as 60 degreeC or more and 80 degreeC or more, As a temperature range, the range of 50-200 degreeC and the range of 60-150 degreeC are illustrated.

好ましくは、加熱処理後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜をクロム膜に積層させることができる。これにより網目状クラックを備えるクロム膜を保護させることができる。保護膜は透明または半透明であるため、クロム膜の光沢を保護膜の外方に発揮させることができる。ここで、クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。網目状クラックがクロム膜に形成されているため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。クロム膜付近にセンサ部が設けられている場合であっても、センサ部付近の環境の電気絶縁性が確保され、センサ部のセンサ機能が確保される。また一般に、網目状クラックを備えていないクロム膜等の金属膜は、厚み方向に電波遮蔽性（電波減衰性）がある。しかし網目状クラックを持つクロム膜は、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。 Preferably, after the heat treatment, a transparent or semi-transparent protective film having an electrical insulating property can be laminated on the chromium film. Thereby, the chromium film provided with the mesh crack can be protected. Since the protective film is transparent or translucent, the gloss of the chromium film can be exhibited outside the protective film. Here, the chromium film uses chromium as a base material and has a metallic luster. Since the mesh-like crack is formed in the chromium film, the electrical insulation in the extending direction of the chromium film is enhanced. Therefore, the insulating component ensures electrical insulation in the film extending direction while exhibiting a metallic luster by the chromium film. Even when the sensor part is provided in the vicinity of the chromium film, the electrical insulation of the environment in the vicinity of the sensor part is ensured, and the sensor function of the sensor part is ensured. In general, a metal film such as a chromium film that does not have a mesh crack has radio wave shielding (radio wave attenuation) in the thickness direction. However, a chromium film having a mesh-like crack has an extremely low radio wave shielding property and is advantageous for the operation of an antenna or the like.

また、本発明に係る絶縁物品の製造方法によれば、基部をハンドル本体とすることができる。クロム膜はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。従って絶縁物品はドアハンドルである。ここで、網目状クラックがクロム膜に形成されており、網目状クラックのクラック溝はクロム膜の膜延設方向における導電性を遮断させるため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品はクロム膜により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における電気絶縁性を確保している。クロム膜付近にセンサ部が設けられている場合であっても、センサ部付近の環境の電気絶縁性が確保され、センサ部のセンサ機能が確保される。一般にクロム膜等の金属膜は厚み方向の電波透過性を示さない。しかし網目状クラックにより、クロム膜は電波透過性を示すこともできる。 Moreover, according to the manufacturing method of the insulated article which concerns on this invention, a base can be used as a handle body. The chromium film uses chromium as a base material and has a metallic luster. Thus, the insulating article is a door handle. Here, the mesh crack is formed in the chromium film, and the crack groove of the mesh crack blocks the conductivity in the film extending direction of the chromium film, so that the electrical insulation in the film extending direction of the chromium film is improved. It has been. Therefore, the insulating component ensures electrical insulation in the film extending direction while exhibiting a metallic luster by the chromium film. Even when the sensor part is provided in the vicinity of the chromium film, the electrical insulation of the environment in the vicinity of the sensor part is ensured, and the sensor function of the sensor part is ensured. In general, a metal film such as a chromium film does not exhibit radio wave transmission in the thickness direction. However, the chromium film can also exhibit radio wave transmission due to the network cracks.

本発明に係る絶縁物品によれば、クロム膜により金属光沢を発揮させつつも、絶縁物品の表面延設方向における良好な電気絶縁性を確保している。また、静電容量型タッチセンサ部はこのクロム膜で覆われている。従って、タッチセンサ部の付近の電気絶縁性が確保され、静電容量型タッチセンサ部のセンサ機能を良好に発揮できる。 The insulating article according to the present invention ensures good electrical insulation in the surface extending direction of the insulating article while exhibiting a metallic luster by the chromium film . The capacitive touch sensor unit is covered with this chromium film. Therefore, electrical insulation in the vicinity of the touch sensor unit is ensured, and the sensor function of the capacitive touch sensor unit can be satisfactorily exhibited.

実施形態１に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an insulating article according to Embodiment 1. FIG. （ａ）（ｂ）は実施形態２に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。(A) (b) is related to Embodiment 2, and is sectional drawing which shows the cross section of an insulated article typically. 実施形態３に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an insulating article according to Embodiment 3. 実施形態４に係り、絶縁物品の断面を模式的に示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an insulating article according to a fourth embodiment. 実施形態５に係り、ドアハンドルを模式的に示す断面図（図６のＶ−Ｖ線に沿った断面図）である。FIG. 10 is a cross-sectional view (cross-sectional view taken along line VV in FIG. 6) schematically showing the door handle according to the fifth embodiment. 実施形態５に係り、ドアハンドルを模式的に示す正面図である。FIG. 10 is a front view schematically showing a door handle according to the fifth embodiment. 実施形態５に係り、ドアハンドルを模式的に示す断面図（図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った断面図）である。FIG. 7 is a cross-sectional view (cross-sectional view taken along line VII-VII in FIG. 5) schematically showing the door handle according to the fifth embodiment. 網目状クラック無し（加熱処理なし）と網目状クラック有り（加熱処理有り）について、平板状試験片に形成されたクロム膜（成膜速度：０．６ナノメートル／ｓｅｃ，厚み：５０ナノメートル）を光学顕微鏡で撮影した顕微鏡写真を示す図である。Chromium film formed on flat test piece with no mesh crack (no heat treatment) and with mesh crack (heat treatment) (deposition rate: 0.6 nm / sec, thickness: 50 nm) It is a figure which shows the microscope picture image | photographed with the optical microscope. 加熱処理前と加熱処理後について、平板状試験片に形成されたクロム膜（成膜速度：２ナノメートル／ｓｅｃ，厚み：５０ナノメートル）を光学顕微鏡で撮影した顕微鏡写真を示す図である。It is a figure which shows the microscope picture which image | photographed the chromium film | membrane (film-forming speed | rate: 2 nanometer / sec, thickness: 50 nanometer) formed in the flat test piece before and after heat processing with the optical microscope. 試験例３に係り、試験結果を示す図である。It is a figure which concerns on the test example 3 and shows a test result.

基部は、少なくとも表面が電気絶縁性を有する。好ましくは、基部は、基部本体と、基部本体に積層された電気絶縁性を持つ材料で形成された中間膜とを有する構成にできる。あるいは、基部全体を、電気絶縁性をもつ材料で形成しても良い。クロム膜は質量比でクロムを６０％以上含有する膜をいう。クロム膜は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。他の成分としては、バナジウム、ニッケル、モリブデン、鉄のうちの少なくとも１種が挙げられ、クロム膜の全体を１００％とするとき、質量比で、２０％以下、１０％以下、５％以下で含有されていても良い。クロム膜の厚みとしては特に限定されるものではないが、１０〜５００ナノメ−トル、１０〜３００ナノメ−トル、１０〜２００ナノメ−トルが例示される。クロム膜の厚みが厚くなりすぎると、コスト高となり、更に電波透過性が低下する恐れがある。クロム膜は物理的成膜方法または化学的成膜方法で成膜できる。場合によっては電気めっきでも良い。物理的成膜処理としてはドライプロセスが好ましい。具体的には、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等が例示される。化学的成膜処理としてＣＶＤ法が例示される。場合によっては電気めっき等のウェットプロセスでも良い。クロム膜には網目状クラックが形成されている。クロム膜の全域に網目状クラックが形成されていることが好ましい。場合によっては、クロム膜のうち電気絶縁性を要請される一部のみに、網目状クラックが形成されていても良い。網目状クラックで包囲された島状部については、隣設する島状部が互いに接触しなければ、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性が確保される。電気絶縁性を考慮すると、網目状クラックのクラック溝幅は大きい方が好ましい。すなわち、網目状クラックを横断する方向のクラック溝幅が大きいと、網目状クラックで区画される島状部が互いに接触しにくくなるため、クロム膜の電気絶縁性を効果的に高くできるが、網目状クラックを横断する方向のクラック溝幅が小さいと、網目状クラックで区画される島状部が接触する確率がある。一方、網目状クラックのクラック溝幅が大きくなりすぎると、クラックが目視でわかるようになるなど金属光沢性が低下するおそれがある。かかる点を考慮し、網目状クラックを横断する方向のクラック溝幅としては、網目状クラックのサイズ、クロム膜の厚み等にもよるが、１〜５００ナノメートルの範囲、５〜４００ナノメートルの範囲、１０〜３００ナノメートルの範囲、５〜２００ナノメートルの範囲にできる。５０〜１０００ナノメートルの範囲にできる。 At least the surface of the base has electrical insulation. Preferably, the base can be configured to include a base main body and an intermediate film formed of an electrically insulating material laminated on the base main body. Or you may form the whole base part with the material which has electrical insulation. The chromium film refers to a film containing 60% or more of chromium by mass ratio. The chromium film may be pure chromium or a chromium-based alloy containing other components (for example, vanadium, nickel, iron, molybdenum, etc.). Other components include at least one of vanadium, nickel, molybdenum, and iron. When the entire chromium film is 100%, the mass ratio is 20% or less, 10% or less, and 5% or less. It may be contained. Although it does not specifically limit as thickness of a chromium film | membrane, 10-500 nanometer, 10-300 nanometer, and 10-200 nanometer are illustrated. If the thickness of the chromium film becomes too thick, the cost becomes high and the radio wave permeability may be further reduced. The chromium film can be formed by a physical film forming method or a chemical film forming method. In some cases, electroplating may be used. As the physical film formation process, a dry process is preferable. Specific examples include sputtering, ion plating, and vacuum deposition. A CVD method is exemplified as the chemical film formation process. In some cases, a wet process such as electroplating may be used. A mesh-like crack is formed in the chromium film. It is preferable that a network crack is formed in the entire area of the chromium film. In some cases, a mesh-like crack may be formed in only a part of the chromium film that is required to have electrical insulation. As for the island-shaped portions surrounded by the mesh cracks, if the adjacent island-shaped portions are not in contact with each other, electrical insulation in the direction in which the chromium film extends is ensured. In consideration of electrical insulation, it is preferable that the crack groove width of the mesh crack is larger. That is, if the crack groove width in the direction crossing the mesh crack is large, the island-shaped portions partitioned by the mesh crack are difficult to contact each other, and thus the electrical insulation of the chromium film can be effectively increased. If the crack groove width in the direction crossing the crack is small, there is a probability that the island-like portion defined by the mesh crack will come into contact. On the other hand, if the crack groove width of the net-like crack becomes too large, there is a risk that the metallic luster will be lowered, such as the crack becoming visible. In consideration of this point, the crack groove width in the direction crossing the mesh crack depends on the size of the mesh crack, the thickness of the chromium film, etc., but in the range of 1 to 500 nanometers, 5 to 400 nanometers. The range can be in the range of 10-300 nanometers, in the range of 5-200 nanometers. It can be in the range of 50-1000 nanometers.

本発明に係る絶縁物品の製造方法の一態様としては、次を採用できる。すなわち、（ｉ）電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施すことにより、金属光沢をもち且つクロムを母材とするクロム膜を基部の表面に積層させる成膜工程と、（ｉｉ）少なくともクロム膜を加熱処理することにより、クロム膜に網目状クラックを形成し、膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する。好ましくは、その後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜をクロム膜に積層させる工程を実施する。 The following can be adopted as one aspect of the method for manufacturing an insulating article according to the present invention. That is, (i) by using a base formed of a material having an electrical insulating property and performing a film forming process on the surface of the base, a chromium film having a metallic luster and using chromium as a base material is laminated on the surface of the base. A film forming step to be performed, and (ii) a heating step in which at least the chromium film is heat-treated to form a mesh-like crack in the chromium film and to increase electrical insulation in the film extending direction, are sequentially performed. Preferably, after that, a step of laminating a transparent or semi-transparent protective film having electrical insulation on the chromium film is performed.

更に、他の態様として、（ｉ）少なくとも表面が電気絶縁性をもつ材料で形成された基部を用い、基部の表面に成膜処理を施すことにより、網目状クラックが形成された金属光沢をもち且つクロムを母材とするクロム膜を基部の表面に積層させる成膜工程と、（ｉｉ）少なくともクロム膜を加熱処理することにより、成膜時に形成されている形成されている網目状クラックのクラック溝幅を拡げ、膜延設方向における電気絶縁性を高める加熱工程とを順に実施する。好ましくは、その後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ保護膜をクロム膜に積層させる工程を順に実施する。加熱工程において網目状クラックを形成したり、クラック溝幅を増加したりできるため、クロム膜の膜延設方向における電気絶縁性を高めることができる。加熱後にクロム膜が常温に戻っても、クラック溝幅は増加したままであることが確認されている。クロム膜の厚みを示す断面において、島状部の周縁が基部から離間するように反っているためと考えられる。加熱工程は、電気炉による加熱に限定されず、ビーム径を拡大させて単位面積あたりのエネルギ密度を低下させたレーザビームによる加熱、マイクロ波による加熱、クロム膜の内部に高周波の誘導電流を通電させる誘導加熱等を採用しても良い。 Furthermore, as another embodiment, (i) a base having at least a surface formed of an electrically insulating material is used, and the surface of the base is subjected to a film forming process, thereby having a metallic luster in which a network crack is formed. And a film forming step of laminating a chromium film containing chromium as a base material on the surface of the base, and (ii) a crack of a network crack formed at the time of film formation by heat-treating at least the chromium film. A heating step for increasing the groove width and increasing the electrical insulation in the film extending direction is sequentially performed. Preferably, thereafter, a step of laminating a protective film having a transparent or translucent electrical insulation property on the chromium film is sequentially performed. Since a mesh-like crack can be formed in the heating step or the crack groove width can be increased, the electrical insulation in the direction in which the chromium film extends can be enhanced. It has been confirmed that the crack groove width remains increased even when the chromium film returns to room temperature after heating. In the cross section showing the thickness of the chromium film, it is considered that the periphery of the island-shaped portion is warped so as to be separated from the base portion. The heating process is not limited to heating by an electric furnace. Heating by a laser beam with a reduced beam energy density and energy density per unit area, heating by microwaves, and energization of high-frequency induced current inside the chromium film Induction heating or the like may be employed.

（実施形態１）
図１は実施形態１の概念を示す。図１はクロム膜３の厚みを示す断面を示す。図１に示すように、絶縁物品は、（ｉ）基部２と、（ｉｉ）クロムを母材とすると共に網目状クラック３ｃが形成された金属光沢をもち且つ網目状クラック３ｃにより膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められた金属膜として機能するクロム膜３と、（ｉｉｉ）透明または半透明の電気絶縁性をもつ樹脂で形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。 (Embodiment 1)
FIG. 1 shows the concept of the first embodiment. FIG. 1 shows a cross section showing the thickness of the chromium film 3. As shown in FIG. 1, the insulating article has (i) a base portion 2 and (ii) a metallic luster in which chromium is used as a base material and a mesh-like crack 3c is formed, and the film extending direction is caused by the mesh-like crack 3c. A chromium film 3 functioning as a metal film with improved electrical insulation (in the direction of arrow A1), and (iii) a protective film 4 formed of a resin having a transparent or translucent electrical insulation are arranged in this order. Is formed.

基部２は、電気絶縁性をもつ樹脂を基材とする基部本体２ａと、基部本体２ａの表面２ｓに積層された電気絶縁性をもつ材料である樹脂を塗装等で積層して形成された中間膜２ｃ（例えば下塗り塗装膜）とを有する。基部本体２ａを形成する樹脂としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれでも良く、ナイロン、ポリアセタール、ポリカーボネイト（ＰＣ）、ＡＢＳ（ポリプロピレン・アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合合成）樹脂、変成ＰＰＥ樹脂、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）樹脂、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）樹脂、ＰＥＫ（ポリエーテルケトン）樹脂、ＰＥＫＫ（ポリエーテルケトンケトン）樹脂、ＰＫＳ（ポリフェニレンサルファイド）樹脂等の１種または２種以上が例示される。よってアロイ樹脂としても良い。例えば、ＰＣ／ＰＢＴ樹脂、ＰＣ／ＡＢＳ樹脂としても良い。中間膜２ｃは平滑性を得るのに有効であり、塗装膜で形成できる。 The base 2 is an intermediate formed by laminating a base body 2a based on an electrically insulating resin and a resin, which is an electrically insulating material laminated on the surface 2s of the base body 2a, by coating or the like. And a film 2c (for example, an undercoating film). The resin for forming the base body 2a may be either a thermosetting resin or a thermoplastic resin, such as nylon, polyacetal, polycarbonate (PC), ABS (polypropylene / acrylonitrile / butadiene / styrene copolymerization) resin, or modified PPE resin. , PBT (polybutylene terephthalate) resin, PET (polyethylene terephthalate) resin, PPS (polyphenylene sulfide) resin, PEK (polyether ketone) resin, PEKK (polyether ketone ketone) resin, PKS (polyphenylene sulfide) resin, etc. Or 2 or more types are illustrated. Therefore, an alloy resin may be used. For example, PC / PBT resin or PC / ABS resin may be used. The intermediate film 2c is effective for obtaining smoothness and can be formed of a coating film.

一般に、樹脂成型品の表面は相当の表面粗さがあり、５００nm以下の薄い金属膜を成膜した場合、金属膜表面も樹脂の表面粗さを反映した凹凸が残る。この場合、乱反射により、金属調ではあるが、鏡面のような光沢は得られ難い。そのため、中間膜２ｃにより平滑性を確保することで、鏡面状の金属光沢が実現できる。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂が例示される。保護膜４を形成する樹脂としては、スプレー等でクリア上塗り塗装膜にでき、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキド樹脂等が例示される。但しこれらに限定されるものではない。熱乾燥により保護膜４を硬化させ得る。中間膜２ｃの厚みｔｍは例えば５〜１００マイクロメートル、特に１０〜４０マイクロメートルにできる。クロム膜３の厚みｔｃｒは金属光沢性絶縁物品の種類によって相違するものの、例えば、１０〜１０００ナノメートル、１０〜５００ナノメートル、２０〜５００ナノメートル、２０〜３００ナノメートルにできる。クロム膜３の厚みが厚くなり過ぎると電波透過性が低下する恐れがあるため、膜厚は５００ナノメートル以下が望ましい。また、クロム膜３の厚みが１０ナノメートル以下になると基材が透けて見える恐れがあるため、１０ナノメートル以上が好ましい。保護膜４の厚みｔｐは例えば２〜２００マイクロメートル、特に１０〜５０マイクロメートルにできる。保護膜４は、５００ナノメートル以下の薄いクロム膜３に傷やはがれが生じることを保護する効果を持つ。平滑性のある中間膜２ｃの上に成膜したクロム膜３はクロムを母材とすると共に、鏡面状の金属光沢をもつ。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。クロム膜３は、スパッタリング等の成膜手段によりその膜の面内方向に引っ張り方向の内部応力が残留し得るような条件で成膜され、成膜中あるいはその後の熱処理により、網目状クラック３ｃが生成している。このため、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められている。従って、絶縁部品は、クロム膜３により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向（矢印Ａ１方向）における良好な電気絶縁性を確保している。クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を高めるためには、網目状クラック３ｃの底側は中間膜２ｃに到達していることが好ましい。更に、クロム膜３の厚み方向（矢印Ｔ方向）においても、クロム膜３の下地に形成されている中間膜２ｃは樹脂で形成されており、電気絶縁性を示すため、絶縁部品は厚み方向（矢印Ｔ方向）においても電気絶縁性を確保している。一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜は、厚み方向に電波遮蔽性がある。しかし網目状クラック３ｃを持つクロム膜３は、網目状クラック３ｃにより、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における連続性が遮断されるため、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。 In general, the surface of a resin molded product has a considerable surface roughness, and when a thin metal film having a thickness of 500 nm or less is formed, the metal film surface also has irregularities reflecting the surface roughness of the resin. In this case, glossiness like a mirror surface is difficult to obtain due to irregular reflection, although it is metallic. Therefore, a mirror-like metallic luster can be realized by ensuring smoothness by the intermediate film 2c. Examples of the resin forming the intermediate film 2c include urethane resin, acrylic resin, acrylic urethane resin, and epoxy resin. As the resin for forming the protective film 4, a clear overcoating film can be formed by spraying or the like, and examples thereof include urethane resin, acrylic resin, acrylic urethane resin, epoxy resin, and aminoalkyd resin. However, it is not limited to these. The protective film 4 can be cured by heat drying. The thickness tm of the intermediate film 2c can be, for example, 5 to 100 micrometers, particularly 10 to 40 micrometers. Although the thickness tcr of the chromium film 3 varies depending on the type of the metallic glossy insulating article, it can be, for example, 10 to 1000 nanometers, 10 to 500 nanometers, 20 to 500 nanometers, or 20 to 300 nanometers. If the thickness of the chromium film 3 becomes too thick, the radio wave permeability may be lowered. Therefore, the film thickness is desirably 500 nanometers or less. Moreover, since there exists a possibility that a base material may show through when the thickness of the chromium film | membrane 3 becomes 10 nanometers or less, 10 nanometers or more are preferable. The thickness tp of the protective film 4 can be, for example, 2 to 200 micrometers, particularly 10 to 50 micrometers. The protective film 4 has an effect of protecting the thin chromium film 3 having a thickness of 500 nanometers or less from being scratched or peeled. The chromium film 3 formed on the smooth intermediate film 2c has a mirror-like metallic luster while using chromium as a base material. The chromium film 3 may be pure chromium or a chromium-based alloy containing other components (for example, vanadium, nickel, iron, molybdenum, etc.). The chromium film 3 is formed by a film forming means such as sputtering under conditions that allow internal stress in the tensile direction to remain in the in-plane direction of the film. Is generated. For this reason, the electrical insulation in the film extending direction (arrow A1 direction) of the chromium film 3 is enhanced. Therefore, the insulating component ensures good electrical insulation in the film extending direction (arrow A1 direction) while exhibiting metallic luster by the chromium film 3. In order to increase the electrical insulation in the direction in which the chromium film 3 extends (arrow A1 direction), it is preferable that the bottom side of the mesh crack 3c reaches the intermediate film 2c. Further, also in the thickness direction of the chromium film 3 (arrow T direction), the intermediate film 2c formed on the base of the chromium film 3 is formed of a resin and exhibits electrical insulation. Electrical insulation is also secured in the direction of arrow T). In general, a metal film such as the chromium film 3 that does not have the mesh crack 3c has radio wave shielding in the thickness direction. However, the chromium film 3 having the mesh crack 3c has a significantly low radio wave shielding property because the mesh crack 3c blocks the continuity of the chromium film 3 in the direction in which the chromium film 3 extends (direction of arrow A1). This is also advantageous for the operation.

なお、クロム膜３、保護層４のシート抵抗については、１×１０³Ω／□以上が好ましく、特に、１×１０⁴Ω／□以上、１×１０⁵Ω／□以上が好ましい。但しこれに限定されるものではない。また、基部２の体積抵抗としては、１×１０⁵Ω・cm以上が好ましく、１×１０⁶Ω・cm以上、１×１０⁷Ω・cm以上が好ましい。但しこれに限定されるものではない。 The sheet resistance of the chromium film 3 and the protective layer 4 is preferably 1 × 10 ³ Ω / □ or more, particularly preferably 1 × 10 ⁴ Ω / □ or more, and 1 × 10 ⁵ Ω / □ or more. However, it is not limited to this. Further, the volume resistance of the base 2 is preferably 1 × 10 ⁵ Ω · cm or more, and more preferably 1 × 10 ⁶ Ω · cm or more, and 1 × 10 ⁷ Ω · cm or more. However, it is not limited to this.

上記した絶縁物品の製造方法は次のようである。まず、電気絶縁性をもつ樹脂材料を母材として形成された中間膜２ｃが積層された基部本体２ａを用いる。次に、基部本体２ａの中間膜２ｃに成膜処理を施すことにより、クロム膜３を中間膜２ｃに積層させる成膜工程を実行させる。成膜処理としては、スパッタリングを採用できる。クロム膜３は、金属光沢をもち且つクロムを母材とする。クロム膜３の純度としては高くできる。 The manufacturing method of the above-described insulating article is as follows. First, a base body 2a on which an intermediate film 2c formed using a resin material having electrical insulation as a base material is used. Next, a film forming process for laminating the chromium film 3 on the intermediate film 2c is performed by performing a film forming process on the intermediate film 2c of the base body 2a. Sputtering can be employed as the film forming process. The chromium film 3 has a metallic luster and uses chromium as a base material. The purity of the chromium film 3 can be increased.

成膜速度等の成膜条件によっては、クロム膜３に網目状クラック３ｃが成膜中に形成されたり、形成されなかったりする。成膜時の引張応力が影響しているものと推察される。本発明者が行った試験によれば、クロム膜３の成膜速度が速い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラック３ｃが形成され易い。また、クロム膜３の厚みが厚い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラック３ｃが形成され易い。その理由としては、成膜速度が速い程、または、クロム膜３の厚みが厚い程、クロム膜３における内部歪みが大きくなるためと推察される。 Depending on the film formation conditions such as the film formation speed, the network crack 3c may or may not be formed in the chromium film 3 during the film formation. It is assumed that the tensile stress at the time of film formation has an influence. According to the test conducted by the present inventors, the higher the film formation speed of the chromium film 3, the easier it is for the network crack 3 c to be formed in the formed chromium film 3. Further, the thicker the chromium film 3 is, the easier it is for the network crack 3c to be formed in the formed chromium film 3. This is presumably because the internal strain in the chromium film 3 increases as the film forming speed increases or the thickness of the chromium film 3 increases.

次に、中間膜２ｃを介して積層されているクロム膜３をもつ基部本体２ａを、所定温度に保持した電気炉の炉室に装入し、クロム膜３を基部２と共に所定温度（６０〜１５０℃の範囲の任意値）に所定時間（１〜６０分間の範囲内の任意値）に加熱させ、その後、クロム膜３を基部本体２ａと共に冷却させる加熱処理を実行させる。所定温度および所定時間は、絶縁物品の種類、クロム膜３の厚み、クロム膜３の純度等によって適宜選択される。冷却は自然冷却とすることができる。場合によっては、水、ミスト、気体等の冷媒によって、クロム膜３を強制的に冷却させても良い。上記した加熱処理により、基部本体２ａに積層されているクロム膜３（成膜時に網目状クラックが形成されなかったクロム膜３）において網目状クラック３ｃを形成するか、または、成膜時に形成されている網目状クラック３ｃのクラック溝幅を拡げ、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を高める。クロム膜３は薄膜であるため、網目状クラックはクロム膜３の厚み方向の全体に形成されているものと考えられる。 Next, the base body 2a having the chromium film 3 laminated via the intermediate film 2c is inserted into the furnace chamber of the electric furnace held at a predetermined temperature, and the chromium film 3 is put together with the base 2 at a predetermined temperature (60 to 60). An arbitrary value in the range of 150 ° C. is heated for a predetermined time (an arbitrary value in the range of 1 to 60 minutes), and then a heat treatment for cooling the chromium film 3 together with the base body 2a is performed. The predetermined temperature and the predetermined time are appropriately selected according to the type of insulating article, the thickness of the chromium film 3, the purity of the chromium film 3, and the like. The cooling can be natural cooling. In some cases, the chromium film 3 may be forcibly cooled by a coolant such as water, mist, or gas. By the heat treatment described above, the mesh crack 3c is formed in the chromium film 3 (the chromium film 3 in which the mesh crack was not formed at the time of film formation) laminated on the base body 2a, or is formed at the time of film formation. The width of the cracks of the mesh-like crack 3c is widened, and the electrical insulation in the film extending direction (arrow A1 direction) of the chromium film 3 is enhanced. Since the chromium film 3 is a thin film, it is considered that the network cracks are formed in the entire thickness direction of the chromium film 3.

このように成膜処理後においてクロム膜３を基部本体２ａと共に加熱処理することにより、クロム膜３において網目状クラック３ｃを形成するか、または、形成されている網目状クラック３ｃのクラック溝幅を拡げる。これによりクロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を高めることができる。その後、透明または半透明の電気絶縁性をもつ樹脂を母材とする保護膜４をクロム膜３の上面に塗装等で積層させる。これによりクロム膜３を保護膜４で保護させる。保護膜４は透明または半透明であるため、クロム膜３の光沢を保護膜４の外方に視認させることができる。場合によってはクロム膜３の耐久性が確保される場合には、保護膜４を廃止することもできる。 Thus, after the film forming process, the chromium film 3 is heated together with the base body 2a to form the mesh crack 3c in the chromium film 3, or the crack groove width of the formed mesh crack 3c is increased. spread. Thereby, the electrical insulation in the film extending direction (arrow A1 direction) of the chromium film 3 can be enhanced. Thereafter, a protective film 4 made of a transparent or translucent resin having an electrically insulating property as a base material is laminated on the upper surface of the chromium film 3 by painting or the like. Thereby, the chromium film 3 is protected by the protective film 4. Since the protective film 4 is transparent or translucent, the gloss of the chromium film 3 can be visually recognized outside the protective film 4. In some cases, when the durability of the chromium film 3 is ensured, the protective film 4 can be eliminated.

本実施形態によれば、クロム膜３はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。網目状クラック３ｃがクロム膜３に形成されているため、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められている。網目状クラック３ｃのクラック溝幅が広いと、網目状クラック３ｃで区画される島状部が互いに離間し、クラック溝の溝幅が広がり、クロム膜３の電気絶縁性を高くできる。かかる点を考慮し、網目状クラック３ｃのクラック溝幅としては、５０〜１０００ナノメートルの範囲、１０〜５００ナノメートルの範囲、２０〜４００ナノメートルの範囲、３０〜３００ナノメートルの範囲、４０〜２００ナノメートルの範囲にできる。但しこれらに限定されない。従って、絶縁部品はクロム膜３により金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を確保している。更に、クロム膜３の下地となる中間膜２ｃについても、高い絶縁性をもつ樹脂を母材として形成されているため、膜延設方向（矢印Ａ１方向）においても、厚み方向（矢印Ｔ方向）においても電気絶縁性を更に高めることができる。 According to this embodiment, the chromium film 3 has a metallic luster while using chromium as a base material. Since the mesh-like crack 3c is formed in the chromium film 3, the electrical insulation in the film extending direction (arrow A1 direction) of the chromium film 3 is enhanced. When the crack groove width of the mesh crack 3c is wide, the island portions defined by the mesh crack 3c are separated from each other, the groove width of the crack groove is widened, and the electrical insulation of the chromium film 3 can be enhanced. Considering this point, the crack groove width of the mesh crack 3c is in the range of 50 to 1000 nanometers, in the range of 10 to 500 nanometers, in the range of 20 to 400 nanometers, in the range of 30 to 300 nanometers, 40 Can be in the range of ~ 200 nanometers. However, it is not limited to these. Therefore, the insulating component ensures electrical insulation in the film extending direction (arrow A1 direction) while exhibiting metallic luster by the chromium film 3. Furthermore, since the intermediate film 2c which is the base of the chromium film 3 is also formed using a resin having high insulating properties as a base material, the thickness direction (arrow T direction) also in the film extending direction (arrow A1 direction). In this case, the electrical insulation can be further improved.

以上説明したように本実施形態に係る絶縁物品によれば、クロム膜３により金属光沢を発揮させつつも、基部２の表面延設方向（クロム膜３の膜延設方向）における電気絶縁性を確保している。クロム膜３のクロムは不働態化するため、腐食の進行が抑制される。一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜では、厚み方向に電波遮蔽性がある。しかし網目状クラック３ｃを持つクロム膜３では、網目状クラック３ｃにより、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における連続性が遮断されるため、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。 As described above, according to the insulating article according to the present embodiment, while the metallic luster is exhibited by the chromium film 3, the electrical insulation in the surface extending direction of the base 2 (the film extending direction of the chromium film 3) is achieved. Secured. Since chromium in the chromium film 3 is passivated, the progress of corrosion is suppressed. In general, a metal film such as the chromium film 3 that does not have the mesh crack 3c has radio wave shielding in the thickness direction. However, in the chromium film 3 having the mesh crack 3c, the continuity in the film extending direction (arrow A1 direction) of the chromium film 3 is blocked by the mesh crack 3c. This is also advantageous for the operation.

なお、特許文献１（特開２００８−５０６５６号公報）では、クロム膜３の下地となる中間膜はニッケル膜であるため、ニッケルとクロムとの電位差に起因する腐食が発生するおそれがある。この点本実施形態によれば、クロム膜３の下地となる中間膜２ｃは樹脂を母材とするため、腐食の不具合が抑制されている。クロム膜３は、樹脂を母材する中間膜２ｃおよび保護膜４で挟持されているため、電位差に起因する腐食が抑制されている。上記したニッケル膜は導電性を有すること、電波透過性が悪いこと、静電容量型タッチセンサの誤動作につながるおそれがある。 In Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-50656), since the intermediate film serving as the base of the chromium film 3 is a nickel film, corrosion due to a potential difference between nickel and chromium may occur. In this regard, according to the present embodiment, since the intermediate film 2c serving as the base of the chromium film 3 uses the resin as a base material, corrosion problems are suppressed. Since the chromium film 3 is sandwiched between the intermediate film 2c and the protective film 4 which are made of a resin, the corrosion caused by the potential difference is suppressed. The nickel film described above may have conductivity, poor radio wave transmission, and malfunction of the capacitive touch sensor.

（実施形態２）
図２（ａ）（ｂ）は実施形態２の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図２（ａ）（ｂ）はクロム膜３の厚みを示す断面を示す。図２（ａ）では、クロム膜３と基部２の表面との間に、中間膜は形成されていない。樹脂を母材とする基部２の表面にクロム膜３が直接積層されており、クロム膜３は網目状クラックを備えている。網目状クラック３ｃの底側は基部２に到達していることが好ましい。この場合、基部２の母材はクロム膜３との密着性が良いものとされている。基部２は電気絶縁体である。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。 (Embodiment 2)
2A and 2B show the concept of the second embodiment. The present embodiment has basically the same configuration and effect as the first embodiment. Hereinafter, the description will focus on the different parts. 2A and 2B show cross sections showing the thickness of the chromium film 3. In FIG. 2A, no intermediate film is formed between the chromium film 3 and the surface of the base 2. A chromium film 3 is directly laminated on the surface of the base 2 using a resin as a base material, and the chromium film 3 is provided with a mesh-like crack. It is preferable that the bottom side of the mesh crack 3 c reaches the base 2. In this case, the base material of the base 2 has good adhesion to the chromium film 3. The base 2 is an electrical insulator. The chromium film 3 may be pure chromium or a chromium-based alloy containing other components (for example, vanadium, nickel, iron, molybdenum, etc.).

図２（ｂ）では、クロム膜３と樹脂製の基部本体２ａとの間に、中間膜２ｃは塗装膜等で形成されている。クロム膜３と基部本体２ａとの接合性を高める等の理由により、中間膜２ｃは複膜であり、樹脂を母材とする第１中間膜２ｃａと、第１中間膜２ｃａと異なる樹脂を母材とする第２中間膜２ｃｂとで形成されている。第１中間膜２ｃａおよび第２中間膜２ｃｂにより、クロム膜３と基部本体２ａとの間における熱膨張係数の差を調整することができる。基部２は電気絶縁体である。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。 In FIG. 2B, the intermediate film 2c is formed of a coating film or the like between the chromium film 3 and the resin base body 2a. The intermediate film 2c is a double film for reasons such as improving the bondability between the chromium film 3 and the base body 2a, and a first intermediate film 2ca having a resin as a base material and a resin different from the first intermediate film 2ca as a base material. The second intermediate film 2cb is used as a material. The difference in thermal expansion coefficient between the chromium film 3 and the base body 2a can be adjusted by the first intermediate film 2ca and the second intermediate film 2cb. The base 2 is an electrical insulator. The chromium film 3 may be pure chromium or a chromium-based alloy containing other components (for example, vanadium, nickel, iron, molybdenum, etc.).

（実施形態３）
図３は実施形態３の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図３に示すように、基部本体２ａには、クロム膜３の裏側にセンサ部５が搭載されている。センサ部５は保護膜４と反対側に位置するようにクロム膜３で覆われている。従って図３に示すように、保護膜４，クロム膜３，中間膜２ｃ，基部本体２ａ、センサ部５がこの順に配置されている。センサ部５としては、静電容量センサ、渦電流センサ等が例示される。上記したようにセンサ部５は、クロム膜３の表面に沿って延設されている膜延設方向（矢印Ａ１方向）において電気絶縁性を示すクロム膜３で覆われている。このためクロム膜３は良好な金属光沢性を示しつつも、センサ部５を配置する環境の電気絶縁性が良好に確保され、センサ部５はセンサ機能を良好に発揮できる。このように金属光沢性をもつクロム膜３がセンサ部５を包囲しているものの、センサ部５のセンシング性能に影響を与えない。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。 (Embodiment 3)
FIG. 3 shows the concept of the third embodiment. The present embodiment has basically the same configuration and effect as the first embodiment. Hereinafter, the description will focus on the different parts. As shown in FIG. 3, the sensor unit 5 is mounted on the base body 2 a on the back side of the chromium film 3. The sensor unit 5 is covered with the chromium film 3 so as to be located on the side opposite to the protective film 4. Therefore, as shown in FIG. 3, the protective film 4, the chromium film 3, the intermediate film 2c, the base body 2a, and the sensor part 5 are arranged in this order. Examples of the sensor unit 5 include a capacitance sensor and an eddy current sensor. As described above, the sensor unit 5 is covered with the chromium film 3 exhibiting electrical insulation in the film extending direction (arrow A1 direction) extending along the surface of the chromium film 3. For this reason, while the chromium film 3 exhibits good metallic luster, the electrical insulation of the environment in which the sensor unit 5 is disposed is ensured well, and the sensor unit 5 can exhibit the sensor function well. Although the chromium film 3 having metallic luster surrounds the sensor unit 5 in this way, the sensing performance of the sensor unit 5 is not affected. The chromium film 3 may be pure chromium or a chromium-based alloy containing other components (for example, vanadium, nickel, iron, molybdenum, etc.).

（実施形態４）
図４は実施形態４の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図４に示すように、基部本体２ａには、保護膜４の外方から伝搬される電波を受信すると共にクロム膜３の裏側に位置するようにアンテナ部５７が搭載されている。アンテナ部５７の全域は、クロム膜３の裏側においてつまり保護膜４と反対側に位置するようにクロム膜３で覆われている。図４に示すように、保護膜４，クロム膜３，中間膜２ｃ，基部本体２ａ、アンテナ部５７がこの順に配置されている。 (Embodiment 4)
FIG. 4 shows the concept of the fourth embodiment. The present embodiment has basically the same configuration and effect as the first embodiment. Hereinafter, the description will focus on the different parts. As shown in FIG. 4, an antenna portion 57 is mounted on the base body 2 a so as to receive a radio wave propagated from the outside of the protective film 4 and to be positioned on the back side of the chromium film 3. The entire area of the antenna portion 57 is covered with the chromium film 3 so as to be located on the back side of the chromium film 3, that is, on the side opposite to the protective film 4. As shown in FIG. 4, the protective film 4, the chromium film 3, the intermediate film 2c, the base body 2a, and the antenna part 57 are arranged in this order.

一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜は、厚み方向の電波透過性を示さない。しかしクロム膜３の全域には網目状クラック３ｃが形成されている。網目状クラック３ｃの部分はクロム成分ではなく隙間であるため、クロム膜３はこれの厚み方向において電波透過性を高めることができる。従って、保護膜４およびクロム膜３の裏側にアンテナ部５７が設けられているときであっても、保護膜４の外方から伝搬される電波をクロム膜３の網目状クラック３ｃに透過させ、その電波をアンテナ部５７に受信させることができる。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。 In general, a metal film such as the chromium film 3 that does not have the mesh crack 3c does not exhibit radio wave permeability in the thickness direction. However, network cracks 3 c are formed in the entire area of the chromium film 3. Since the portion of the mesh crack 3c is not a chromium component but a gap, the chromium film 3 can improve radio wave permeability in the thickness direction thereof. Therefore, even when the antenna portion 57 is provided on the back side of the protective film 4 and the chromium film 3, radio waves propagated from the outside of the protective film 4 are transmitted through the mesh cracks 3 c of the chromium film 3. The radio wave can be received by the antenna unit 57. The chromium film 3 may be pure chromium or a chromium-based alloy containing other components (for example, vanadium, nickel, iron, molybdenum, etc.).

（実施形態５）
図５〜図７は本発明を車両または建築物のドアハンドル６に適用した実施形態５の概念を示す。本実施形態は実施形態１と基本的には同様の構成、作用効果を有する。以下、相違する部分を中心として説明する。図５は、ドア６００のドアパネル６１０に取り付けられているドアハンドル６の断面を示す。ドアハンドル６は、ユーザが携帯するスマートキーの接近または離間に基づいてドアロックの施錠および解錠を行うスマートキーシステムに使用される。図５に示すように、ドアハンドル６は、（ｉ）樹脂を母材とする基部としてのドアハンドル本体７と、（ｉｉ）電気絶縁性をもつ材料である樹脂を母材とするように塗装された中間膜２ｃと、（ｉｉｉ）クロムを母材とすると共に網目状クラック３ｃが形成された金属光沢をもち且つ網目状クラック３ｃにより膜延設方向における電気絶縁性が高められたクロム膜３と、（ｉｖ）透明または半透明の電気絶縁性をもつ樹脂を塗装等して形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。 (Embodiment 5)
5 to 7 show the concept of Embodiment 5 in which the present invention is applied to a door handle 6 of a vehicle or a building. The present embodiment has basically the same configuration and effect as the first embodiment. Hereinafter, the description will focus on the different parts. FIG. 5 shows a section of the door handle 6 attached to the door panel 610 of the door 600. The door handle 6 is used in a smart key system that locks and unlocks a door lock based on the approach or separation of a smart key carried by a user. As shown in FIG. 5, the door handle 6 is coated so that (i) the door handle body 7 as a base portion made of resin is used as the base material, and (ii) resin that is a material having electrical insulation properties. The intermediate film 2c, and (iii) a chromium film 3 having a metallic luster having a mesh-like crack 3c formed of chromium as a base material and having improved electrical insulation in the film extending direction by the mesh-like crack 3c. And (iv) a protective film 4 formed by coating a transparent or semi-transparent resin having electrical insulation, etc., is arranged in this order.

図５に示すように、ドアハンドル本体７は、第１突起７１を有する一端部７２と、第２突起７３を有する他端部７４と、一端部７２および他端部７４を繋ぐ掴み用の連設部７５ともつ。ドアハンドル本体７は、ドアパネル６１０の凹状の壁６１０ｃとの間に、指挿入用の空間６２０を形成する。図５に示すように、連設部７５を含むドアハンドル本体７の表面の成膜面には、中間膜２ｃ、クロム膜３および保護膜４がこの順に積層されている。ドアハンドル本体７を形成する樹脂としてはＰＣおよびＰＢＴの混合樹脂が例示される。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはアクリルウレタン系樹脂が例示される。保護膜４を形成する樹脂としてアクリルウレタン系樹脂が例示される。但しこれらに限定されるものではない。 As shown in FIG. 5, the door handle main body 7 has one end 72 having a first protrusion 71, the other end 74 having a second protrusion 73, and a gripping connection connecting the one end 72 and the other end 74. It has with the installation part 75. The door handle body 7 forms a finger insertion space 620 between the door panel 610 and the concave wall 610 c of the door panel 610. As shown in FIG. 5, the intermediate film 2 c, the chromium film 3, and the protective film 4 are laminated in this order on the film forming surface of the surface of the door handle body 7 including the connecting portion 75. Examples of the resin forming the door handle body 7 include a mixed resin of PC and PBT. An example of the resin forming the intermediate film 2c is an acrylic urethane resin. An acrylic urethane resin is exemplified as the resin for forming the protective film 4. However, it is not limited to these.

クロム膜３はクロムを母材とすると共に、金属光沢をもつ。クロム膜３は純クロムでも良いし、他の成分（例えばバナジウム、ニッケル、鉄、モリブデン等）を含有するクロム系合金でも良い。網目状クラック３ｃがクロム膜３のほぼ全域に形成されているため、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ４方向）における電気絶縁性が高められている。従って、クロム膜３は、金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向（矢印Ａ４方向）における電気絶縁性を確保している。一般に、網目状クラック３ｃを備えていないクロム膜３等の金属膜では、厚み方向に電波遮蔽性がある。しかし網目状クラック３ｃを持つクロム膜３では、網目状クラック３ｃにより、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における連続性が遮断されるため、電波遮蔽性が大幅に低く、アンテナ等の動作にも有利である。従って、発信器を搭載するキーなどの部材を保持するユーザが接近するとき、発信器が発生させる電波をアンテナ部５７が受信し、図略の制御部は、ドアのロックを解除させる信号をドアロック装置に出力させ、ドアを自動解錠させることができる。 The chromium film 3 uses chromium as a base material and has a metallic luster. The chromium film 3 may be pure chromium or a chromium-based alloy containing other components (for example, vanadium, nickel, iron, molybdenum, etc.). Since the mesh crack 3c is formed in almost the entire region of the chromium film 3, the electrical insulation in the film extending direction (arrow A4 direction) of the chromium film 3 is enhanced. Therefore, the chromium film 3 ensures electrical insulation in the film extending direction (arrow A4 direction) while exhibiting metallic luster. In general, a metal film such as the chromium film 3 that does not have the mesh crack 3c has radio wave shielding in the thickness direction. However, in the chromium film 3 having the mesh crack 3c, the continuity in the film extending direction (arrow A1 direction) of the chromium film 3 is blocked by the mesh crack 3c. This is also advantageous for the operation. Therefore, when a user holding a member such as a key on which the transmitter is mounted approaches, the antenna unit 57 receives a radio wave generated by the transmitter, and a control unit (not shown) outputs a signal for unlocking the door. The door can be automatically unlocked by outputting to the lock device.

図５に示すように、基部本体７ａの空洞部１ｘには、クロム膜３の裏側に位置するように、センサ部として機能する第１タッチセンサ部５１（ロックセンサ）および第２タッチセンサ部５２（アンロックセンサ）、アンテナ部５７、検出回路をもつ回路基板５９が内蔵されている。外方からドアハンドル６の内部を連設部５３の仮想的な法線Ｗ１に沿って矢印Ｗ２方向（図７参照）に投影するとき、第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２はクロム膜３で覆われている。第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２はそれぞれ静電容量型のタッチセンサで形成されている。静電容量型のタッチセンサは、ユーザの指先等の接触または接近を対向電極間の静電量変化量として検出するセンサである。第１タッチセンサ部５１はユーザの施錠（ロック）の意思を確認するセンサであり、ユーザの指先が触れたり接近したりすると、その信号を制御部に入力させ、制御部によりドアをロックさせるためのロックセンサを形成する。第２タッチセンサ部５２はユーザの解錠（アンロック）の意思を確認するセンサであり、ユーザの指先が触れたり接近したりすると、その信号を制御に入力させ、制御部によりドアをアンロックさせるためのロックセンサを形成する。第１タッチセンサ部５１と第２タッチセンサ部５２とは互いに電気的に導通しないように構成されている。この構成で各センサが正しく機能するためにはクロム膜３は膜延設方向（矢印Ａ４方向）において電気絶縁性をもつことが必要である。 As shown in FIG. 5, in the hollow portion 1x of the base body 7a , a first touch sensor portion 51 (lock sensor) and a second touch sensor portion 52 that function as sensor portions are positioned on the back side of the chromium film 3. (Unlock sensor), antenna portion 57, and circuit board 59 having a detection circuit are incorporated. When projecting the inside of the door handle 6 from the outside in the direction of the arrow W2 (see FIG. 7) along the virtual normal line W1 of the continuous portion 53, the first touch sensor unit 51 and the second touch sensor unit 52 are Covered with a chromium film 3. The first touch sensor unit 51 and the second touch sensor unit 52 are each formed of a capacitive touch sensor. The capacitive touch sensor is a sensor that detects contact or approach of a user's fingertip or the like as an amount of change in electrostatic amount between opposing electrodes. The first touch sensor unit 51 is a sensor for confirming the user's intention to lock, and when the user's fingertip touches or approaches, the signal is input to the control unit, and the control unit locks the door. The lock sensor is formed. The second touch sensor unit 52 is a sensor for confirming the intention of the user to unlock (unlock). When the user's fingertip touches or approaches, the second touch sensor unit 52 inputs the signal to the control, and the control unit unlocks the door. Forming a lock sensor. The first touch sensor unit 51 and the second touch sensor unit 52 are configured not to be electrically connected to each other. In order for each sensor to function correctly in this configuration, the chromium film 3 needs to have electrical insulation in the film extending direction (arrow A4 direction).

仮に、クロム膜等の金属膜が網目状クラックを有せず、膜延設方向において連続しており導電性を示す場合には、ロックするためにユーザが指を第１タッチセンサ部５１に近くドアハンドル本体７表面を触れたとき、導電性のある金属膜を介して第２タッチセンサ部５２の静電容量が変化するおそれがある。逆にアンロックするためにユーザが指を第２タッチセンサ部５２に近くドアハンドル本体７表面を触れたとき、導電性のある金属膜を介して第１タッチセンサ部５１の静電容量が変化するおそれがある。すなわち、金属膜とタッチセンサ部５１，５２との容量結合が起こり易いため、施錠用、解錠用のいずれのセンサも、ユーザの指先等が施錠・動作すべきところでない場所に近づいた際に、動作してしまう可能性が発生し、タッチセンサ部５１，５２の誤動作の原因となり得る。 If a metal film such as a chromium film does not have a mesh-like crack and is continuous in the extending direction of the film and exhibits conductivity, the user closes the finger close to the first touch sensor unit 51 to lock it. When the surface of the door handle body 7 is touched, the electrostatic capacity of the second touch sensor unit 52 may change via the conductive metal film. On the contrary, when the user touches the surface of the door handle body 7 close to the second touch sensor unit 52 to unlock, the capacitance of the first touch sensor unit 51 changes via the conductive metal film. There is a risk. That is, since capacitive coupling between the metal film and the touch sensor units 51 and 52 is likely to occur, both the locking sensor and the unlocking sensor come close to a place where the user's fingertip or the like is not locked or operated. , There is a possibility that the touch sensor units 51 and 52 may malfunction.

そこで本実施形態によれば、クロム膜３が延びている膜延設方向（矢印Ａ４方向等）における電気絶縁性が確保されている。ここで、第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２は、金属光沢を示すクロム膜３で覆われているものの、クロム膜３は網目状クラック３ｃを備えているため、これの膜延設方向（矢印Ａ４方向等）において高い電気絶縁性を示す。このため、金属光沢性を発揮させるものの網目状クラック３ｃにより膜延設方向において良好な電気絶縁性を示すクロム膜３により、ユーザの意思と異なるタッチセンサ部の静電容量変化を抑制できる。金属層であるクロム膜３とタッチセンサ部５１，５２との容量結合が起こることが抑制される。従って、第１タッチセンサ部５１および第２タッチセンサ部５２はセンシング機能を良好に発揮でき、誤作動が抑えられる。図６において矢印Ｕ方向は上方を示し、矢印Ｄ方向は下方を示す。 Therefore, according to the present embodiment, electrical insulation is ensured in the film extending direction (the arrow A4 direction and the like) in which the chromium film 3 extends. Here, although the 1st touch sensor part 51 and the 2nd touch sensor part 52 are covered with the chromium film 3 which shows metal luster, since the chromium film 3 is provided with the mesh-shaped crack 3c, this film extension High electrical insulation is exhibited in the installation direction (arrow A4 direction, etc.). For this reason, the chromium film 3 exhibiting good electrical insulation in the film extending direction due to the mesh-like crack 3c that exhibits the metallic luster can suppress a change in capacitance of the touch sensor unit that is different from the user's intention. Capacitive coupling between the chromium film 3 that is a metal layer and the touch sensor units 51 and 52 is suppressed. Therefore, the 1st touch sensor part 51 and the 2nd touch sensor part 52 can exhibit a sensing function satisfactorily, and a malfunction is suppressed. In FIG. 6, the arrow U direction indicates the upper side, and the arrow D direction indicates the lower side.

（試験例１）
本試験例では平板試験片で行った。製造された平板試験片を模式的に示す断面は、図１に相当する。平板試験片は平板状（５０ミリメートル×５０ミリメートル）をなしており、図１に示すように、（ｉ）樹脂を母材とする基部本体２ａと、（ｉｉ）樹脂で形成された中間膜２ｃと、（ｉｉｉ）クロムを母材とする網目状クラックにより膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性が高められたクロム膜３と、（ｉｖ）透明の電気絶縁性をもつ樹脂で形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。平板試験片のシート抵抗値を測定するときには、保護膜４は積層しなかった。ここで、基部本体２ａを形成する樹脂としてはＰＣ/ＰＢＴ（ポリカーボネート／ポリブチレンテレフタレート）樹脂とした。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはアクリル樹脂とした。更に、中間膜２ｃの厚みｔｍは３０マイクロメートルとした。クロム膜３の厚みｔｃｒは５０ナノメートルとした。 (Test Example 1)
In this test example, the test was performed using a flat plate test piece. A cross section schematically showing the manufactured flat plate test piece corresponds to FIG. The flat plate test piece has a flat plate shape (50 mm × 50 mm), and as shown in FIG. 1, (i) a base body 2a using a resin as a base material, and (ii) an intermediate film 2c formed of resin. And (iii) a chromium film 3 whose electrical insulation in the film extending direction (arrow A1 direction) is enhanced by a mesh-like crack having chromium as a base material, and (iv) a resin having a transparent electrical insulation. The protective film 4 is arranged and formed in this order. When the sheet resistance value of the flat test piece was measured, the protective film 4 was not laminated. Here, the resin forming the base body 2a is a PC / PBT (polycarbonate / polybutylene terephthalate) resin. The resin for forming the intermediate film 2c was an acrylic resin. Furthermore, the thickness tm of the intermediate film 2c was 30 micrometers. The chromium film 3 had a thickness tcr of 50 nanometers.

上記した平板試験片の製造方法は次のようにした。まず、基部本体２aにＵＶ硬化型のアクリル樹脂をスプレー塗布し、ＵＶ硬化炉で硬化させることによって基部本体２ａに中間膜２ｃを積層させた。その後、マグネトロンスパッタリング装置を用い、スパッタリング方法により、クロムを母材とするクロム膜３を基部本体２ａの中間膜２ｃの上に積層させた。成膜ガスとしてアルゴンガスを導入し、０．３Ｐａとなるようにした後、所定のプラズマ電力を投入させ、ターゲット付近にプラズマを発生させた。これによりアルゴンガスをターゲットに衝突させ、叩き出されたクロム成分を中間膜２ｃに堆積させてクロム膜３を積層させた。ここで、上記したプラズマ電力は成膜速度および膜厚に影響を与え、ひいては網目状クラックの性状に影響を与える。成膜速度や成膜厚み等の条件によっては、クロム膜３に網目状クラックが形成されたり、あるいは、クロム膜３に網目状クラックが形成されなかったりすることがある。本発明者が行った試験によれば、一般的には、プラズマ電力が大きいほど、クロム膜３の成膜速度が速かった。また、クロム膜３の成膜速度が速い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラックが細かく形成され易かった。また、クロム膜３の厚みが厚い程、成膜されたクロム膜３に網目状クラックが細かく形成され易かった。クロム膜３の成膜速度が速い程、または、クロム膜３の厚みが厚い程、クロム膜３における内部歪み（残留引張応力等）が大きくなり、網目状クラックが形成され易くなるためと推察される。なお、成膜時の成膜ガス圧力は０．３Ｐａとしたが、これに限定されない。好ましくは、成膜ガス圧力は０．２〜０．７Ｐａがよい。 The manufacturing method of the flat plate test piece described above was as follows. First, the base body 2a was spray-coated with a UV curable acrylic resin and cured in a UV curing furnace, thereby laminating the intermediate film 2c on the base body 2a. Thereafter, a chromium film 3 containing chromium as a base material was laminated on the intermediate film 2c of the base body 2a by a sputtering method using a magnetron sputtering apparatus. Argon gas was introduced as a film forming gas to reach 0.3 Pa, and then a predetermined plasma power was applied to generate plasma near the target. As a result, the argon gas was made to collide with the target, and the chrome component struck out was deposited on the intermediate film 2c to laminate the chromium film 3. Here, the above-described plasma power affects the film forming speed and the film thickness, and consequently the properties of the network cracks. Depending on conditions such as the film forming speed and the film forming thickness, a net-like crack may be formed in the chromium film 3, or a net-like crack may not be formed in the chromium film 3. According to the test conducted by the present inventor, in general, the higher the plasma power, the faster the deposition rate of the chromium film 3. Further, the faster the film formation rate of the chromium film 3, the more easily the mesh cracks were formed in the formed chromium film 3. Further, the thicker the chromium film 3, the easier it is to form fine mesh cracks in the formed chromium film 3. It is presumed that the faster the deposition rate of the chromium film 3 is, or the thicker the chromium film 3 is, the greater the internal strain (residual tensile stress, etc.) in the chromium film 3 and the easier it is to form network cracks. The In addition, although the film-forming gas pressure at the time of film-forming was 0.3 Pa, it is not limited to this. Preferably, the film forming gas pressure is 0.2 to 0.7 Pa.

次に、基部本体２ａに積層されているクロム膜３を、所定温度（１００℃）の温度に設定されている電気炉内で所定時間（３０分間）加熱させ、その後、電気炉から取り出して自然冷却させ、クロム膜３を基部本体２ａと共に冷却させる加熱処理を実行した。上記した加熱処理により次の効果が得られた。クロム膜３の成膜処理時に網目状クラックがクロム膜３に形成されていない場合には、加熱処理によりクロム膜３に網目状クラックを形成することができる。または、クロム膜３の成膜処理時に網目状クラックがクロム膜３に形成されている場合には、加熱処理により網目状クラックのクラック溝幅を拡げることができる。このように網目状クラックのクラック溝幅を拡げれば、網目状クラックで包囲される島状部の間隔を増大できるため、島状部同士の独立性を高めることができ、ひいては隣設する島状部同士の非接触性を高めることができ、従って、クロム膜３の膜延設方向（矢印Ａ１方向）における電気絶縁性を更に高めることができる。その後、熱硬化型のアクリル樹脂をスプレー塗布し、加熱炉で加熱することによって、透明の電気絶縁性をもつ樹脂を母材とする保護膜４をクロム膜３の上面に積層させた。但し保護膜４を形成する前に、クロム膜３における網目状クラックの状況を撮影したり、シート抵抗値を測定した。ここで、本試験例では、クロム膜３の成膜速度を０．６ナノメートル／ｓｅｃ、１．４ナノメートル／ｓｅｃ、２．０ナノメートル／ｓｅｃの３種類とした。本試験例によれば、上記したようにクロム膜３の成膜速度を変更させたため、クロム膜３の厚みを３０ナノメートル、５０ナノメートル、８０ナノメートルの３種類とした。 Next, the chromium film 3 laminated on the base body 2a is heated for a predetermined time (30 minutes) in an electric furnace set to a predetermined temperature (100 ° C.), and then removed from the electric furnace and naturally A heat treatment was performed for cooling and cooling the chromium film 3 together with the base body 2a. The following effects were obtained by the heat treatment described above. If no mesh crack is formed in the chromium film 3 during the chromium film 3 deposition process, the mesh crack can be formed in the chromium film 3 by heat treatment. Alternatively, when the network crack is formed in the chromium film 3 during the film forming process of the chromium film 3, the crack groove width of the network crack can be expanded by the heat treatment. In this way, if the crack groove width of the mesh crack is expanded, the interval between the island portions surrounded by the mesh crack can be increased, so that the independence of the island portions can be increased, and as a result, the adjacent islands can be increased. The non-contact property between the shape portions can be increased, and therefore the electrical insulation in the film extending direction (arrow A1 direction) of the chromium film 3 can be further enhanced. Thereafter, a thermosetting acrylic resin was applied by spraying and heated in a heating furnace, whereby a protective film 4 having a transparent electrically insulating resin as a base material was laminated on the upper surface of the chromium film 3. However, before forming the protective film 4, the situation of the mesh-like crack in the chromium film 3 was image | photographed, and the sheet resistance value was measured. Here, in this test example, the deposition rate of the chromium film 3 was set to three types of 0.6 nanometer / sec, 1.4 nanometer / sec, and 2.0 nanometer / sec. According to this test example, since the deposition rate of the chromium film 3 was changed as described above, the thickness of the chromium film 3 was set to three types of 30 nanometers, 50 nanometers, and 80 nanometers.

(平板試験片の撮影写真)
図８，図９は、保護膜４を形成する前にクロム膜３を光学顕微鏡で撮影した試験結果を示す。図８は、クロム膜３の成膜速度を０．６ナノメートル／ｓｅｃで成膜させたクロム膜３（厚み：５０ナノメートル）について、加熱処理なしの状態および加熱処理有りの状態を撮影した試験結果を示す。撮影した部位は、平板試験片の中央部とした。加熱は電気炉を用い１００℃×３０分間とした。ここで、図８から理解できるように、加熱処理前ではクロム膜にクラックはほとんど認められないのに対し、加熱処理後では亀甲状をなす網目状クラックがクロム膜に認められた。加熱処理後の島状部のサイズは最長距離で５０〜３００マイクロメール程度、網目状クラックのクラック溝幅は平均として２００〜３００ナノメートルであった。 (Photograph of flat specimen)
8 and 9 show test results obtained by photographing the chromium film 3 with an optical microscope before forming the protective film 4. FIG. 8 is a photograph of a state without heat treatment and a state with heat treatment for a chromium film 3 (thickness: 50 nanometers) formed at a film formation speed of 0.6 nanometer / sec. The test results are shown. The site | part image | photographed was made into the center part of the flat plate test piece. Heating was performed at 100 ° C. for 30 minutes using an electric furnace. Here, as can be understood from FIG. 8, almost no cracks were observed in the chromium film before the heat treatment, whereas mesh cracks having a turtle shell shape were observed in the chromium film after the heat treatment. The size of the island-shaped portion after the heat treatment was about 50 to 300 μm at the longest distance, and the crack groove width of the mesh crack was 200 to 300 nanometers on average.

図９は、クロム膜３の成膜速度を２．０ナノメートル／ｓｅｃで成膜させたクロム膜３（厚み：５０ナノメートル）について、加熱処理前の状態および加熱処理後の状態を撮影した試験結果を示す。加熱は電気炉を用い１００℃×３０分間とした。図９から理解できるように、加熱処理前であっても、写真では識別しにくいものの、クロム膜３に網目状クラックは認められた。この場合、クラックの網目形状、網目状クラックで包囲された島状部のサイズは、加熱前後において余り変化がなかった。加熱処理後の島状部のサイズは、クロム膜３の厚み３０ナノメートルの場合には最長距離で３０〜２００マイクロメール程度、クロム膜３の厚み５０ナノメートルの場合には最長距離で３０〜７０マイクロメール程度、クロム膜３の厚み８０ナノメートルの場合には最長距離で２０〜６０マイクロメール程度であった。このように成膜速度が同一であっても、クロム膜３の厚みが厚い方が、網目状クラックで包囲される島状部のサイズは小さかった。なお、図９に示す場合には、加熱処理後において、網目状クラックのクラック溝幅は平均で２００〜３００ナノメートルであった。 FIG. 9 is a photograph of the state before heat treatment and the state after heat treatment of the chromium film 3 (thickness: 50 nanometers) formed at a deposition rate of 2.0 nm / sec. The test results are shown. Heating was performed at 100 ° C. for 30 minutes using an electric furnace. As can be understood from FIG. 9, even before the heat treatment, although it is difficult to identify with a photograph, a mesh-like crack was observed in the chromium film 3. In this case, the mesh shape of the crack and the size of the island portion surrounded by the mesh crack did not change much before and after heating. The size of the island-shaped portion after the heat treatment is about 30 to 200 μm at the longest distance when the thickness of the chromium film 3 is 30 nanometers, and 30 to 30 at the longest distance when the thickness of the chromium film 3 is 50 nanometers. When the thickness of the chromium film 3 was about 80 nanometers, the longest distance was about 20 to 60 micrometers. Thus, even when the film formation rate was the same, the size of the island-shaped portion surrounded by the mesh crack was smaller when the chromium film 3 was thicker. In the case shown in FIG. 9, after the heat treatment, the average width of the cracks of the network cracks was 200 to 300 nanometers.

上記した試験結果を総合的に比較すれば、クロム膜３の成膜速度が速い方が、網目状クラックの間隔が小さくなり、網目状クラックで包囲される島状部のサイズが小さくなっていた。またクロム膜３の厚みが厚い方が、網目状クラックの間隔が小さくなり、網目状クラックで包囲される島状部のサイズが小さくなっていた。 Comparing the above test results comprehensively, the faster the film formation rate of the chromium film 3, the smaller the interval between the mesh cracks, and the smaller the size of the islands surrounded by the mesh cracks. . Further, the thicker the chromium film 3, the smaller the interval between the mesh cracks, and the smaller the size of the island portion surrounded by the mesh cracks.

(平板試験片のシート抵抗値)
上記したように製造した成膜直後の平板試験片（ＴＰ）のクロム膜３について、シート抵抗を測定した。同様に、成膜後に加熱処理した平板試験片（ＴＰ）のクロム膜３についても同じ場所のシート抵抗を測定した。シート抵抗の測定時には、保護膜４は積層されていない。測定装置はシート抵抗測定装置（１×１０^８Ω／□以上の場合は製造会社：三菱化学アナリテック製、型式:ハイレスタUP MCP−HT450、１×１０^８Ω／□より低い場合は三菱化学製ロレスタGP MCP-T600）とした。加熱処理前におけるシート抵抗の測定結果を表１に示す。加熱処理後におけるシート抵抗値の測定結果を表２に示す。 (Sheet resistance value of flat plate test piece)
Sheet resistance was measured for the chromium film 3 of the flat plate test piece (TP) immediately after film formation produced as described above. Similarly, the sheet resistance of the same place was measured also about the chromium film 3 of the flat plate test piece (TP) heat-processed after film-forming. At the time of measuring the sheet resistance, the protective film 4 is not laminated. The measuring device is a sheet resistance measuring device (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech if 1 × 10 ⁸ Ω / □ or more, model: Hiresta UP MCP-HT450, manufactured by Mitsubishi Chemical if lower than 1 × 10 ⁸ Ω / □) Loresta GP MCP-T600). Table 1 shows the measurement results of the sheet resistance before the heat treatment. Table 2 shows the measurement results of the sheet resistance value after the heat treatment.

表１に示すように、加熱処理前では、成膜速度（成膜レート）に拘わらず、クロム膜３のシート抵抗は１００〜５００Ω/□といった低いシート抵抗値であった。これに対して、表２に示すように、成膜速度に拘わらず、加熱処理によってクロム膜３のシート抵抗は１．４×１０^７〜２．４×１０^１３Ω／□といった高いシート抵抗となり、クロム膜３について高い電気絶縁性が得られたことが確認された。 As shown in Table 1, before the heat treatment, the sheet resistance of the chromium film 3 was a low sheet resistance value of 100 to 500 Ω / □ regardless of the deposition rate (deposition rate). On the other hand, as shown in Table 2, the sheet resistance of the chromium film 3 becomes a high sheet resistance of 1.4 × 10 ^{7 to} 2.4 × 10 ¹³ Ω / □ by the heat treatment regardless of the deposition rate. It was confirmed that high electrical insulation was obtained for the chromium film 3.

（試験例２）
本試験例は実機としてのドアハンドル６に適用した場合を示す。製造されたドアハンドル６は図５〜図７に相当する。図５〜図７から理解できるように、ドアハンドル６は、（ｉ）樹脂を母材とする基部としてのドアハンドル本体７と、（ｉｉ）樹脂で形成された中間膜２ｃと、（ｉｉｉ）クロムを母材とする網目状クラックにより膜延設方向における電気絶縁性が高められたクロム膜３と、（ｉｖ）透明の電気絶縁性をもつ樹脂で形成された保護膜４とがこの順に配置されて形成されている。ここで、基部本体２ａとしてのドアハンドル６を形成する樹脂としてはＰＣ／ＰＢＴ樹脂（絶縁体）とした。中間膜２ｃを形成する樹脂としてはアクリル樹脂（絶縁体）とした。更に、中間膜２ｃの厚みｔｍは３０マイクロメートルとした。クロム膜３の厚みｔｃｒは５０ナノメートルとした。成膜処理としては、試験例１と同様のスパッタリング法とした。本試験例では、クロム膜３の成膜速度を０．６ナノメートル／ｓｅｃ、１．４ナノメートル／ｓｅｃ、２．０ナノメートル／ｓｅｃの３種類とした。クロム膜３の厚みを５０ナノメートルで統一した。クロム膜３の加熱については、電気炉を用い１００℃×３０分間とし、加熱後にドアハンドル６を電気炉から取り出し、自然冷却させた。その後、前述同様にドアハンドル６のクロム膜３についてシート抵抗を測定した。測定装置はシート抵抗測定装置（製造会社：三菱化学製、型式:ロレスタGP MCP-T600）を使用した。シート抵抗の測定時には、保護膜４は積層されていない。シート抵抗の測定結果を表３に示す。 (Test Example 2)
This test example shows a case where the present invention is applied to a door handle 6 as an actual machine. The manufactured door handle 6 corresponds to FIGS. As can be understood from FIGS. 5 to 7, the door handle 6 includes (i) a door handle main body 7 as a base portion made of resin, (ii) an intermediate film 2 c formed of resin, and (iii) A chromium film 3 whose electrical insulation in the film extending direction is enhanced by a mesh-like crack made of chromium as a base material and (iv) a protective film 4 formed of a resin having a transparent electrical insulation are arranged in this order. Has been formed. Here, PC / PBT resin (insulator) was used as the resin for forming the door handle 6 as the base body 2a. The resin for forming the intermediate film 2c was an acrylic resin (insulator). Furthermore, the thickness tm of the intermediate film 2c was 30 micrometers. The chromium film 3 had a thickness tcr of 50 nanometers. The film forming process was the same sputtering method as in Test Example 1. In this test example, the chromium film 3 was formed at three deposition rates of 0.6 nanometer / sec, 1.4 nanometer / sec, and 2.0 nanometer / sec. The thickness of the chromium film 3 was unified at 50 nanometers. The chromium film 3 was heated at 100 ° C. for 30 minutes using an electric furnace. After the heating, the door handle 6 was taken out of the electric furnace and allowed to cool naturally. Thereafter, the sheet resistance of the chromium film 3 of the door handle 6 was measured as described above. The measuring device used was a sheet resistance measuring device (manufacturer: Mitsubishi Chemical, model: Loresta GP MCP-T600). At the time of measuring the sheet resistance, the protective film 4 is not laminated. Table 3 shows the sheet resistance measurement results.

表３に示すように、成膜速度（成膜レート）を０．６ナノメートル／ｓｅｃ、１．４ナノメートル／ｓｅｃ、２．０ナノメートル／ｓｅｃとした場合であっても、シート抵抗は９．９×１０^８Ω／□以上と高く、高い電気絶縁性が得られていた。従って、クロム膜３は金属光沢を発揮させつつも、膜延設方向における高い電気絶縁性をもつことが確認された。 As shown in Table 3, even when the film formation rate (film formation rate) is 0.6 nanometer / sec, 1.4 nanometer / sec, and 2.0 nanometer / sec, the sheet resistance is It was as high as 9.9 × 10 ⁸ Ω / □ or higher, and high electrical insulation was obtained. Therefore, it was confirmed that the chromium film 3 has high electrical insulation in the film extending direction while exhibiting metallic luster.

このドアハンドルのＣｒ膜の光学顕微鏡観察を実施したところ、島状部のサイズは、成膜速度が０．６ナノメートル／ｓｅｃの場合には、最長距離で５０〜３００マイクロメール程度、成膜速度が１．４ナノメートル／ｓｅｃの場合には、最長距離で３０〜７０マイクロメール程度、成膜速度が２．０ナノメートル／ｓｅｃの場合には、最長距離で２０〜５０マイクロメール程度であった。また、ドアハンドル６の外観について肉眼で評価した。網目状のクラックは目視では全くわからず、めっきクロム膜とほとんど同等の金属光沢性を示した。 When the Cr film of the door handle was observed with an optical microscope, the island-shaped portion had a maximum distance of about 50 to 300 μm when the film formation rate was 0.6 nanometer / sec. When the speed is 1.4 nanometers / sec, the longest distance is about 30 to 70 micrometers, and when the film forming speed is 2.0 nanometers / second, the longest distance is about 20 to 50 micrometers. there were. The appearance of the door handle 6 was evaluated with the naked eye. The mesh-like cracks were not visible at all, and showed a metallic luster almost equivalent to that of the plated chromium film.

（試験例３）
本試験例は実機としてのドアハンドル６に適用した場合を示す。製造されたドアハンドル６は試験例２と同様に、図５〜図７に相当する。試験結果を図１０に示す。図１０に示すように、本試験例では成膜速度は２ナノメートル／ｓとし、クロム膜の厚みを５０ナノメートルとし、加熱処理は試験例２の場合と同様に１００℃×３０分間とした。本試験例によれば、光学顕微鏡により観察したところ、網目状クラックがクロム膜のほぼ全域に形成されていた。シート抵抗は９．９×１０^７Ω/□よりも大きく、膜延設方向において高い電気絶縁性を示した。ドアハンドル性能について確認したところ、アンテナ部５７、第１タッチセンサ部５１、第２タッチセンサ部５２のいずれについても良好に機能した。上記したように金属光沢を示すクロム膜のシート抵抗が十分に高いため、第１タッチセンサ部５１と第２タッチセンサ部５２ともにセンサの感知部位以外を触れた場合であっても誤動作することはなく、また感知部位付近に触れた場合には、ロック動作、アンロック動作のいずれも正常に動作した。 (Test Example 3)
This test example shows a case where the present invention is applied to a door handle 6 as an actual machine. The manufactured door handle 6 corresponds to FIG. 5 to FIG. The test results are shown in FIG. As shown in FIG. 10, in this test example, the deposition rate was 2 nanometers / s, the thickness of the chromium film was 50 nanometers, and the heat treatment was performed at 100 ° C. for 30 minutes, as in test example 2. . According to this test example, when observed with an optical microscope, mesh-like cracks were formed almost throughout the chromium film. The sheet resistance was larger than 9.9 × 10 ⁷ Ω / □, and high electrical insulation was exhibited in the film extending direction. When the door handle performance was confirmed, all of the antenna unit 57, the first touch sensor unit 51, and the second touch sensor unit 52 worked well. As described above, since the sheet resistance of the chrome film exhibiting metallic luster is sufficiently high, even if both the first touch sensor unit 51 and the second touch sensor unit 52 touch other than the sensing part of the sensor, a malfunction may occur. In addition, when the vicinity of the sensing part was touched, both the locking operation and the unlocking operation operated normally.

これに対して、クロム膜３についての加熱処理を実施しなかった比較例では、図１０に示すように、網目状クラックがクロム膜に形成されていなかった。クロム膜３のシート抵抗は５０Ω／□であり、クロム膜は導電性を示し、電気絶縁性を示さなかった。このような比較例では、ドアハンドル性能については、アンテナ部５７について影響が認められ、第１タッチセンサ部５１と第２タッチセンサ部５２については誤作動した。 On the other hand, in the comparative example in which the heat treatment for the chromium film 3 was not performed, as shown in FIG. 10, no mesh crack was formed in the chromium film. The sheet resistance of the chromium film 3 was 50Ω / □, and the chromium film showed conductivity and did not show electrical insulation. In such a comparative example, the door handle performance was affected by the antenna unit 57, and the first touch sensor unit 51 and the second touch sensor unit 52 malfunctioned.

（試験例４）
バナジウム含有のクロム膜についても試験した。本試験例は、クロム膜に他の元素を添加した場合の効果を確認する目的で、バナジウムを添加したクロム膜を５０ｍｍ角のPC/PBTの平板テストピース上に成膜して実施したものである。バナジウムの添加は、スパッタ装置のクロムターゲット上でターゲット材料がスパッタリングにより放出される領域であるエロージョン領域の上に、面積比でバナジウム薄片が５%および２０%相当の面積となるように均等に複数個並べることにより行った。テストピース上に成膜されたクロム膜中におけるバナジウムの含有量（体積％）はほぼエロージョン領域でのクロムとバナジウムの面積比と一致していると考えられる。この２水準のバナジウム含有量の試料を、他の試験例と平板試験片と同様に、１００℃の炉内に挿入・保持し、３０分間、加熱処理した。加熱処理後の試料表面を観察したところ、純クロムの膜と全く同様の網目状クラックが形成されていた。またシート抵抗を測定したところ、どちらも1×１０⁸Ω/□以上の高いシート抵抗が得られた。 (Test Example 4)
Vanadium containing chromium films were also tested. In this test example, a chromium film added with vanadium was formed on a 50 mm square PC / PBT flat test piece for the purpose of confirming the effect of adding other elements to the chromium film. is there. The addition of vanadium is performed evenly on the erosion region where the target material is released by sputtering on the chromium target of the sputtering apparatus so that the vanadium flakes have an area equivalent to 5% and 20% by area ratio. It was done by arranging the pieces. It is considered that the content (volume%) of vanadium in the chromium film formed on the test piece almost coincides with the area ratio of chromium and vanadium in the erosion region. The two-level vanadium-containing samples were inserted and held in a 100 ° C. furnace in the same manner as in the other test examples and flat plate test pieces, and were heat-treated for 30 minutes. When the surface of the sample after the heat treatment was observed, the same network crack as that of the pure chromium film was formed. Further, when the sheet resistance was measured, a high sheet resistance of 1 × 10 ⁸ Ω / □ or more was obtained in both cases.

（試験例５）
本試験例は、スパッタ装置のターゲットと成膜するPC/PBTの樹脂平板試験片との間の距離を１５０mmおよび２００mmとしたときの評価結果である。評価結果を表４に示す。表４に示すように、これらの試料では、熱処理前はシート抵抗が１０Ω/□以下と低いものもあったが、いずれも加熱処理により１×１０⁸Ω/□以上の高いシート抵抗が得られた。なお、成膜速度が０．０６７nm/秒、クロム膜の膜厚が４０nmのときは、成膜直後の加熱処理前の時点で、網目状のクラックが発生し、１×１０⁸Ω/□以上の高いシート抵抗が得られた。このように、成膜条件によっては、加熱処理を行わなくても金属光沢性のある絶縁性のクロム膜を得ることができる。更に加熱処理すれば、加熱処理により、それらは確実に絶縁化されることが確認された。 (Test Example 5)
This test example is an evaluation result when the distance between the target of the sputtering apparatus and the PC / PBT resin flat plate test piece to be formed is 150 mm and 200 mm. The evaluation results are shown in Table 4. As shown in Table 4, some of these samples had a low sheet resistance of 10 Ω / □ or less before the heat treatment, but in any case, a high sheet resistance of 1 × 10 ⁸ Ω / □ or more was obtained by the heat treatment. It was. Note that when the film formation rate is 0.067 nm / sec and the film thickness of the chromium film is 40 nm, a network-like crack is generated immediately before the heat treatment and 1 × 10 ⁸ Ω / □ or more. A high sheet resistance was obtained. Thus, depending on the film formation conditions, an insulating chromium film having metallic luster can be obtained without performing heat treatment. Further heat treatment confirmed that they were reliably insulated by the heat treatment.

１は基部、２は中間膜、３はクロム膜、３ｃは網目状クラック、４は保護膜、５はセンサ部、５１は第１タッチセンサ部、５２は第２タッチセンサ部、５７はアンテナ部、６はドアハンドル、７はドアハンドル本体を示す。 1 is a base part, 2 is an intermediate film, 3 is a chromium film, 3c is a mesh crack, 4 is a protective film, 5 is a sensor part, 51 is a first touch sensor part, 52 is a second touch sensor part, and 57 is an antenna part. , 6 is a door handle, and 7 is a door handle body.

Claims

A base made of an electrically insulating material;
A chromium film laminated on the surface of the base and having chromium as a base material and having a mesh-like crack formed therein and having an electrical insulating property in the film extending direction by the mesh-like crack ,
An insulating article in which a capacitive touch sensor portion is mounted on the opposite side of the surface on which the mesh crack is formed with respect to the base portion covered with the chromium film .

2. The insulating article according to claim 1, wherein, in the cross section indicating the thickness of the chromium film, the base portion receives an electric wave propagated from the outside of the chromium film and has an antenna portion covered with the chromium film.

The insulating article according to claim 1 or 2 , further comprising: a transparent or semi-transparent protective film laminated on the chromium film.

The insulating article according to claim 1 or 2 , wherein the base is a door handle body.