JP5737749B2 - Photon beam scanning apparatus and photon beam scanning method - Google Patents

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本発明は、光子ビーム走査装置及び光子ビーム走査方法に関する。   The present invention relates to a photon beam scanning apparatus and a photon beam scanning method.

加速器によって発生させた高エネルギー電子ビームとレーザ光とを衝突させることにより、レーザコンプトン散乱によるγ線(光子ビーム)を発生させることができ、発生させた準単色のγ線は、例えば貨物コンテナのような大型物品の内部(収容物)の非破壊検査を行う上で有用である。
このような非破壊検査を行う場合、検査対象となる対象物全体を走査(スキャン)するためには、γ線源と対象物との位置関係を変化させつつ走査する必要がある。
By making the high-energy electron beam generated by the accelerator collide with the laser beam, γ-rays (photon beams) due to laser Compton scattering can be generated, and the generated quasi-monochromatic γ-rays are generated by, for example, cargo containers. This is useful for nondestructive inspection of the inside (containment) of such a large article.
When performing such a nondestructive inspection, in order to scan the entire object to be inspected, it is necessary to scan while changing the positional relationship between the γ-ray source and the object.

上記のような走査を行う装置として、例えば、特許文献1に記載のものがある。この走査装置は、衝突点に入射する電子ビームの入射角度を変化させるビーム入射角度制御装置と、衝突点に入射するレーザ光の入射角度を変化させるレーザ入射角度制御装置と、これら装置を制御する制御装置とを備えている。レーザコンプトン散乱では、電子ビームの衝突点への入射方向と同じ方向に光子ビームが放出されることから、前記走査装置によれば、電子ビームの衝突点への入射角度を変化させることにより、発生させる光子ビームの放射方向を変化させることができる。これにより、対象物を所定の範囲にわたって走査することが可能となる。   As an apparatus for performing the scanning as described above, for example, there is one described in Patent Document 1. This scanning device controls a beam incident angle control device that changes an incident angle of an electron beam incident on a collision point, a laser incident angle control device that changes an incident angle of a laser beam incident on a collision point, and controls these devices. And a control device. In laser Compton scattering, a photon beam is emitted in the same direction as the incident direction of the electron beam to the collision point. Therefore, according to the scanning device, it is generated by changing the incident angle of the electron beam to the collision point. The radiation direction of the photon beam to be changed can be changed. This makes it possible to scan the object over a predetermined range.

特開2009−187725号公報(図2参照)JP 2009-187725 A (see FIG. 2)

前記特許文献1に記載の走査装置によれば、電子ビームの衝突点への入射角度に応じて、レーザ光の衝突点への入射角度を制御することにより、電子ビームとレーザ光とを正面衝突させることができる。
しかし、対象物を所定の範囲にわたって走査することを目的として、電子ビームの衝突点への入射角度を変化させても、実際では、この電子ビームに対して衝突点でレーザ光を正面衝突させることは困難である。すなわち、特許文献1のように平面ミラーを用いればレーザ光の経路を変化させることは可能ではあるが、その平面ミラーで反射させたレーザ光を、例えば元の衝突点に入射させるためには、複雑な制御が必要となる。
According to the scanning device described in Patent Document 1, a frontal collision occurs between an electron beam and a laser beam by controlling the incident angle of the laser beam to the collision point according to the incident angle of the electron beam to the collision point. Can be made.
However, even if the incident angle of the electron beam to the collision point is changed for the purpose of scanning the object over a predetermined range, the laser beam is actually collided with the electron beam at the collision point. It is difficult. That is, if a plane mirror is used as in Patent Document 1, it is possible to change the path of the laser beam, but in order to make the laser beam reflected by the plane mirror enter the original collision point, for example, Complex control is required.

本発明は、電子ビームとレーザ光との衝突を簡単に実現することが可能となる光子ビーム走査装置及び光子ビーム走査方法を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide a photon beam scanning apparatus and a photon beam scanning method that can easily realize a collision between an electron beam and a laser beam.

(1)本発明の光子ビーム走査装置は、電子ビームを発生させる電子ビーム発生装置と、レーザ光を発生させるレーザ発生装置と、発生させた電子ビーム及びレーザ光の経路を制御して電子ビームとレーザ光とを衝突させるための経路制御装置とを備え、前記経路制御装置は、前記電子ビームの経路を制御して仮想的に設定された楕円の第1焦点に電子ビームを入射させると共に当該第1焦点への入射角度を変化させる電子ビーム制御部と、前記楕円の第2焦点から当該楕円の一部へと向かう前記レーザ光の進行方向を変化させるレーザ光制御部と、前記楕円の前記一部に沿った反射面を有し、前記第2焦点から当該反射面に入射したレーザ光を反射させて前記電子ビームの反対側から前記第1焦点に入射させる楕円面ミラーとを有し、前記レーザ光制御部は、前記第2焦点を焦点とする放物線の一部に沿った反射面を有し前記レーザ光が前記第2焦点を通過するように反射させる放物面ミラーを有している(1) A photon beam scanning apparatus of the present invention includes an electron beam generating apparatus that generates an electron beam, a laser generating apparatus that generates laser light, and an electron beam that controls the generated electron beam and the path of the laser light. A path control device for causing the laser beam to collide, and the path control device controls the path of the electron beam to cause the electron beam to be incident on a first focal point of an ellipse virtually set. An electron beam control unit that changes an incident angle to one focal point; a laser light control unit that changes a traveling direction of the laser beam from a second focal point of the ellipse toward a part of the ellipse; and the one of the ellipses. has a reflective surface along the section, and an ellipsoidal mirror for incident from said second focal point by reflecting laser light incident on the reflective surface to the first focal point from the opposite side of the electron beam, the The laser light control unit has a parabolic mirror that has a reflecting surface along a part of a parabola with the second focal point as a focal point and reflects the laser light so as to pass through the second focal point. Yes .

本発明によれば、電子ビーム制御部は、電子ビームの経路を制御して仮想的に設定された楕円の第1焦点に電子ビームを入射させる。また、楕円の一部に沿った反射面を有している楕円面ミラーによって、楕円の第2焦点から前記反射面に入射したレーザ光を反射させることにより、電子ビームの反対側からレーザ光を第1焦点に入射させる。これにより、レーザ光と電子ビームとが第1焦点において衝突し、光子ビームを発生させる。
そして、光子ビームの発生方向を変化させるために、電子ビーム制御部が、電子ビームの第1焦点への入射角度を変化させると、これに応じて、レーザ光制御部は、第2焦点から楕円の一部(楕円面ミラーの反射面)へと向かうレーザ光の進行方向を変化させればよい。すなわち、第2焦点から楕円面ミラーの反射面へのレーザ光の進行方向を変化させても、この楕円面ミラーで反射したレーザ光は必ず第1焦点に入射し、しかも、楕円面ミラーの反射面へのレーザ光の進行方向を変化させることにより、この楕円面ミラーで反射したレーザ光の第1焦点への入射角度を変えることができる。このため、光子ビームの発生方向を変化させる場合でも、電子ビームとレーザ光との衝突を簡単に実現することが可能となる。
According to the present invention, the electron beam control unit controls the electron beam path to cause the electron beam to enter the first elliptical focal point set virtually. In addition, the laser beam incident on the reflecting surface is reflected from the second focal point of the ellipse by the ellipsoidal mirror having the reflecting surface along a part of the ellipse, so that the laser beam is reflected from the opposite side of the electron beam. Incident to the first focal point. As a result, the laser beam and the electron beam collide at the first focal point to generate a photon beam.
Then, when the electron beam control unit changes the incident angle of the electron beam to the first focal point in order to change the generation direction of the photon beam, the laser light control unit changes the elliptical shape from the second focal point accordingly. What is necessary is just to change the advancing direction of the laser beam which goes to a part of (the reflective surface of an ellipsoidal mirror). That is, even if the traveling direction of the laser beam from the second focal point to the reflecting surface of the ellipsoidal mirror is changed, the laser beam reflected by the ellipsoidal mirror is always incident on the first focal point and is reflected by the ellipsoidal mirror. By changing the traveling direction of the laser beam to the surface, the incident angle of the laser beam reflected by the ellipsoidal mirror to the first focal point can be changed. For this reason, even when the generation direction of the photon beam is changed, the collision between the electron beam and the laser beam can be easily realized.

また、前記レーザ光制御部は、前記第2焦点を焦点とする放物線の一部に沿った反射面を有し前記レーザ光が前記第2焦点を通過するように反射させる放物面ミラーを有している。In addition, the laser light control unit has a parabolic mirror that has a reflecting surface along a part of a parabola with the second focal point as a focal point and reflects the laser light so as to pass through the second focal point. doing.
このため、発生させたレーザ光を、放物面ミラーの反射面に入射させれば、反射したレーザ光は第2焦点を通過することができる。したがって、放物面ミラーの反射面に入射させるレーザ光の入射点を変更することにより、第2焦点を通過して楕円の一部に沿った楕円面ミラーの反射面へ向かうレーザ光の進行方向を変化させることができる。この結果、この楕円面ミラーで反射したレーザ光の第1焦点への入射角度を変えることができる。For this reason, if the generated laser light is incident on the reflecting surface of the parabolic mirror, the reflected laser light can pass through the second focal point. Therefore, by changing the incident point of the laser beam incident on the reflecting surface of the parabolic mirror, the traveling direction of the laser beam that passes through the second focal point and travels toward the reflecting surface of the ellipsoidal mirror along a part of the ellipse Can be changed. As a result, the incident angle of the laser beam reflected by the ellipsoidal mirror to the first focal point can be changed.

)また、本発明は、電子ビーム及びレーザ光の経路を制御して電子ビームとレーザ光とを衝突させ、光子ビームを発生させて行う光子ビーム走査方法であって、前記電子ビームの経路を制御して仮想的に設定された楕円の第1焦点への電子ビームの入射角度を変化させる電子ビーム制御ステップと、前記楕円の第2焦点を焦点とする放物線の一部に沿った反射面を有する放物面ミラーへレーザ光を入射させ、当該放物面ミラーで反射する当該レーザ光を、当該第2焦点を通過させるとともに、当該放物面ミラーにおけるレーザ光の入射点を変更することにより、当該第2焦点から、当該楕円の一部に沿った反射面を有する楕円面ミラーへと向かう前記レーザ光の進行方向を変化させるレーザ光制御ステップとを備えていることを特徴とする。 ( 2 ) Further, the present invention is a photon beam scanning method for controlling a path of an electron beam and a laser beam to collide the electron beam and the laser beam to generate a photon beam, wherein the path of the electron beam is performed. An electron beam control step for changing the incident angle of the electron beam to the first focal point of the ellipse set by controlling the reflection point, and a reflecting surface along a part of the parabola focusing on the second focal point of the ellipse The laser beam is incident on a parabolic mirror having the above, the laser beam reflected by the parabolic mirror is allowed to pass through the second focal point, and the incident point of the laser beam on the parabolic mirror is changed. Accordingly, from the second focal point, and characterized by comprising a laser beam control step of changing the traveling direction of the laser beam towards the ellipsoidal mirror having a reflecting surface along a portion of the ellipse That.

本発明によれば、光子ビームの発生方向を変化させるためには、電子ビームの第1焦点への入射角度を変化させればよいが(電子ビーム制御ステップ)、これに応じて、第2焦点から楕円の一部に沿った反射面を有する楕円面ミラーへと向かうレーザ光の進行方向を変化させればよい(レーザ光制御ステップ)。すなわち、レーザ光制御ステップにおいて、第2焦点から楕円面ミラーの反射面へのレーザ光の進行方向を変化させても、この楕円面ミラーで反射したレーザ光は必ず第1焦点に入射し、しかも、楕円面ミラーの反射面へのレーザ光の進行方向を変化させることにより、この楕円面ミラーで反射したレーザ光の第1焦点への入射角度を変えることができる。このため、光子ビームの発生方向を変化させる場合でも、電子ビームとレーザ光との衝突を簡単に実現することが可能となる。   According to the present invention, in order to change the generation direction of the photon beam, the incident angle of the electron beam to the first focal point may be changed (electron beam control step). What is necessary is just to change the advancing direction of the laser beam which goes to the ellipsoidal mirror which has a reflective surface along a part of ellipse from (laser beam control step). That is, in the laser light control step, even if the traveling direction of the laser light from the second focal point to the reflecting surface of the elliptical mirror is changed, the laser light reflected by the elliptical mirror is always incident on the first focal point, By changing the traveling direction of the laser beam to the reflecting surface of the ellipsoidal mirror, the incident angle of the laser beam reflected by the ellipsoidal mirror to the first focal point can be changed. For this reason, even when the generation direction of the photon beam is changed, the collision between the electron beam and the laser beam can be easily realized.

本発明によれば、楕円の第1焦点への電子ビームの入射角度を変化させるのに応じて、第2焦点から楕円の一部に沿った反射面を有する楕円面ミラーへと向かうレーザ光の進行方向を変化させれば、楕円面ミラーで反射させたレーザ光を入射角度を変えて第1焦点に入射させることができる。このため、光子ビームの発生方向を変化させる場合においても、電子ビームとレーザ光との衝突を簡単に実現することが可能となる。   According to the present invention, in response to changing the incident angle of the electron beam to the first focal point of the ellipse, the laser beam traveling from the second focal point to the elliptical mirror having a reflecting surface along a part of the ellipse. If the traveling direction is changed, the laser beam reflected by the ellipsoidal mirror can be incident on the first focal point while changing the incident angle. For this reason, even when the generation direction of the photon beam is changed, the collision between the electron beam and the laser beam can be easily realized.

本発明の光子ビーム走査装置を平面的に見た概略構成図である。It is the schematic block diagram which looked at the photon beam scanning apparatus of this invention planarly. 図1の経路制御装置の機能を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the function of the route control apparatus of FIG. 図1の経路制御装置の機能を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the function of the route control apparatus of FIG. 本発明の光子ビーム走査装置の他の実施形態を平面的に見た概略構成図である。It is the schematic block diagram which looked at other embodiment of the photon beam scanning apparatus of this invention planarly. 図4の経路制御装置の機能を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the function of the route control apparatus of FIG. 図4の経路制御装置の機能を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the function of the route control apparatus of FIG.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の光子ビーム走査装置を平面的に見た概略構成図である。本実施形態では、光子ビーム走査装置(以下、走査装置という)を、例えば貨物コンテナのような大型物品(以下、走査対象物13という)の内部(収容物)の非破壊検査を行う検査装置に適用した場合を説明する。
この走査装置は、電子ビームEを発生させる電子ビーム発生装置1と、レーザ光Rを発生させるレーザ発生装置2と、発生させた電子ビームEの経路(軌道)及び発生させたレーザ光Rの経路(軌道)を制御して電子ビームEとレーザ光Rとを所定の衝突点で衝突させるための経路制御装置3とを備えている。この走査装置では、電子ビームEとレーザ光Rとを衝突させコンプトン散乱による光子ビームを発生させる。なお、本実施形態では、発生させる光子ビームをγ線として説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of the photon beam scanning apparatus according to the present invention viewed in a plan view. In the present embodiment, a photon beam scanning device (hereinafter referred to as a scanning device) is used as an inspection device that performs nondestructive inspection inside a large article (hereinafter referred to as a scanning object 13) such as a cargo container. The case where it applies is demonstrated.
This scanning apparatus includes an electron beam generator 1 that generates an electron beam E, a laser generator 2 that generates a laser beam R, a path (orbit) of the generated electron beam E, and a path of the generated laser beam R. A path control device 3 for controlling the (orbit) and causing the electron beam E and the laser beam R to collide at a predetermined collision point is provided. In this scanning device, the electron beam E and the laser beam R collide with each other to generate a photon beam by Compton scattering. In the present embodiment, a photon beam to be generated will be described as γ rays.

電子ビーム発生装置1は、電子ビームEを発生させる電子銃1aと、発生した電子ビームEを高エネルギーに加速する線形加速管1bとを有し、高エネルギーの電子ビームEを後述する真空容器20に入射させる。また、走査装置は、電子ビームダンプ31を有しており、前記真空容器20から出射した電子ビームEを補足する。   The electron beam generator 1 includes an electron gun 1a that generates an electron beam E, and a linear accelerator tube 1b that accelerates the generated electron beam E to high energy. To enter. Further, the scanning device has an electron beam dump 31 and supplements the electron beam E emitted from the vacuum vessel 20.

レーザ発生装置2は、レーザ光Rを発生させ、発生したレーザ光Rを後述する可動ミラー16へ入射させる。なお、後述する第2実施形態(図4)では、平面ミラー43へ入射させる。レーザ発生装置2及び電子ビーム発生装置1は、従来知られているものを採用することができる。   The laser generator 2 generates a laser beam R and causes the generated laser beam R to enter a movable mirror 16 described later. In a second embodiment (FIG. 4) described later, the light is incident on the plane mirror 43. As the laser generator 2 and the electron beam generator 1, those conventionally known can be adopted.

本発明の走査装置が備えている各装置及び前記衝突点の配置は、仮想的に設定された楕円10に基づく。本実施形態では、楕円10は水平面上に設定されている。楕円10は、第1焦点11と第2焦点12とからの距離の和が一定となる点の集合から作られる曲線であり、第1焦点11が衝突点となる。各装置及びその機能について、以下説明する。   Each device included in the scanning device of the present invention and the arrangement of the collision points are based on a virtually set ellipse 10. In the present embodiment, the ellipse 10 is set on a horizontal plane. The ellipse 10 is a curve formed from a set of points at which the sum of the distances from the first focus 11 and the second focus 12 is constant, and the first focus 11 is a collision point. Each device and its function will be described below.

図1において、経路制御装置3は、発生した電子ビームEの経路を制御する電子ビーム制御部7と、発生したレーザ光Eの経路を制御するレーザ光制御部8と、前記楕円10の一部に沿って設けられた反射面19を有している楕円面ミラー9とを備えている。さらに、この経路制御装置3は、電子ビーム制御部7(の機能)及びレーザ光制御部8(の機能)を制御する制御本体装置(コンピュータ)15を有している。   In FIG. 1, the path control device 3 includes an electron beam control unit 7 that controls the path of the generated electron beam E, a laser beam control unit 8 that controls the path of the generated laser beam E, and a part of the ellipse 10. And an ellipsoidal mirror 9 having a reflecting surface 19 provided along the surface. The path control device 3 further includes a control main unit (computer) 15 that controls the electron beam control unit 7 (function) and the laser light control unit 8 (function).

電子ビーム制御部7は、真空容器20と、入射偏向用の第1偏向磁石21及び第2偏向磁石22と、出射偏向用の第3偏向磁石23及び第4偏向磁石24とを有している。第1から第4の偏向磁石21〜24それぞれは、磁場により電子ビームEの経路を曲げることができる。
また、制御本体装置15は、偏向磁石21〜24それぞれの出力を制御することにより、電子ビームEの曲がりの大小を変化させ(調整し)、第1焦点11への電子ビームEの入射角度を変化させることができる。なお、入射角度を変化させても、電子ビームEは必ず第1焦点11を通過するように制御する。
The electron beam control unit 7 includes a vacuum container 20, a first deflection magnet 21 and a second deflection magnet 22 for incident deflection, and a third deflection magnet 23 and a fourth deflection magnet 24 for exit deflection. . Each of the first to fourth deflecting magnets 21 to 24 can bend the path of the electron beam E by a magnetic field.
Further, the control main body device 15 changes (adjusts) the degree of bending of the electron beam E by controlling the outputs of the deflecting magnets 21 to 24, and changes the incident angle of the electron beam E to the first focal point 11. Can be changed. Even if the incident angle is changed, the electron beam E is controlled so as to pass through the first focal point 11 without fail.

図2及び図3は、経路制御装置3の機能を説明する説明図である。図2に示すように、電子ビームEの第1焦点11への入射角度はθ1であるが、偏向磁石21〜24それぞれにおいて電子ビームEの偏向角度を小さくすることにより、図3に示すように、入射角度をθ2に変化させることができる。なお、第1焦点11における入射角度θ1,θ2は、第1焦点11と、走査対象物13の中心13aとを結んだ直線Aを基準としている。
以上のように、電子ビーム制御部7は、電子ビームEの経路を制御して、楕円10の第1焦点11に電子ビームEを入射させると共に第1焦点11への入射角度を変化させることができ、真空容器20内において、楕円10の第1焦点11を必ず通過する経路を有した電子ビームEを得ることができる。
2 and 3 are explanatory diagrams for explaining the function of the path control device 3. As shown in FIG. 2, the incident angle of the electron beam E to the first focal point 11 is θ1, but by decreasing the deflection angle of the electron beam E in each of the deflecting magnets 21 to 24, as shown in FIG. The incident angle can be changed to θ2. The incident angles θ1 and θ2 at the first focal point 11 are based on a straight line A connecting the first focal point 11 and the center 13a of the scanning target 13.
As described above, the electron beam control unit 7 controls the path of the electron beam E so that the electron beam E is incident on the first focal point 11 of the ellipse 10 and the incident angle on the first focal point 11 is changed. In the vacuum container 20, an electron beam E having a path that always passes through the first focal point 11 of the ellipse 10 can be obtained.

さらに、制御本体装置15は、第1偏向磁石21と第4偏向磁石24とを連係させて制御し、つまり、同じ駆動源から同じ特性を第1偏向磁石21と第4偏向磁石24とに与え、第1偏向磁石21と第4偏向磁石24とのそれぞれにおいて、電子ビームEを偏向させる角度を同じとするが、偏向させる方向を反対としている。これと同様に、第2偏向磁石22と第3偏向磁石23との間で、電子ビームEを偏向させる角度を同じとするが、偏向させる方向を反対としている。これにより、真空容器20における電子ビームEの入射及び出射を定点とすることが可能となる。なお、偏向させる方向は、真空容器20の入射側から出射側へと進む電子ビームEの進行方向を基準としている。   Further, the control main unit 15 controls the first deflection magnet 21 and the fourth deflection magnet 24 in association with each other, that is, gives the same characteristics to the first deflection magnet 21 and the fourth deflection magnet 24 from the same drive source. The first deflecting magnet 21 and the fourth deflecting magnet 24 have the same angle for deflecting the electron beam E, but the deflecting directions are opposite. Similarly, the angle at which the electron beam E is deflected is the same between the second deflecting magnet 22 and the third deflecting magnet 23, but the deflecting direction is opposite. Thereby, it is possible to set the incident and emission of the electron beam E in the vacuum vessel 20 as fixed points. The direction of deflection is based on the traveling direction of the electron beam E traveling from the incident side to the exit side of the vacuum vessel 20.

図1に示すように、楕円面ミラー9は、固定された反射鏡であり、その反射面19が、楕円10の一部に沿って設けられている。すなわち、反射面19は、楕円10の全周に設ける必要はなく一部のみでよく、楕円10の一部(円弧)を含む楕円面からなる。そして、レーザ発生装置2によって発生させたレーザ光Rは、楕円10の第2焦点12を経て、楕円面ミラー9に入射する。
楕円面ミラー9の反射面19は、楕円10の一部に沿って設けられていることから、第2焦点12から反射面19に入射したレーザ光Rを、当該反射面19で反射させると、電子ビームEの入射方向と反対側から、第1焦点11に入射させることができる。これは、楕円の一方の焦点から放射され当該楕円上のミラーで反射した光は、当該楕円の他方の焦点に到達するという特性を利用したものである。
そして、電子ビームEの入射方向と反対側から、レーザ光Rを第1焦点11に入射させることにより、第1焦点11をレーザ光Rと電子ビームEとの衝突点とすることができ、レーザコンプトン散乱によるγ線を発生させる。
As shown in FIG. 1, the ellipsoidal mirror 9 is a fixed reflecting mirror, and the reflecting surface 19 is provided along a part of the ellipse 10. That is, the reflection surface 19 does not need to be provided on the entire circumference of the ellipse 10, and may be only a part, and is composed of an ellipsoid including a part (arc) of the ellipse 10. The laser beam R generated by the laser generator 2 enters the ellipsoidal mirror 9 through the second focal point 12 of the ellipse 10.
Since the reflecting surface 19 of the ellipsoidal mirror 9 is provided along a part of the ellipse 10, when the laser light R incident on the reflecting surface 19 from the second focal point 12 is reflected by the reflecting surface 19, The incident light can enter the first focal point 11 from the side opposite to the incident direction of the electron beam E. This utilizes the characteristic that light emitted from one focal point of the ellipse and reflected by a mirror on the ellipse reaches the other focal point of the ellipse.
The laser beam R is incident on the first focal point 11 from the side opposite to the incident direction of the electron beam E, so that the first focal point 11 can be a collision point between the laser beam R and the electron beam E. Generates gamma rays due to Compton scattering.

レーザ光制御部8は、楕円10の第2焦点12から当該楕円10の一部へと向かうレーザ光Rの進行方向を変化させる機能を有している。具体的に説明すると、図2に示すように、第2焦点12からのレーザ光Rが向かう先である楕円10の一部には、上記のとおり、楕円面ミラー9が設置されている。そして、本実施形態のレーザ光制御部8は、可動ミラー16を有しており、可動ミラー16は、第2焦点12に入射するレーザ光Rを当該第2焦点12で反射させ、かつ、その反射方向を変更可能とする。可動ミラー16は、第2焦点12に反射点16aを有しており、第2焦点12を通過する中心線C回りに回転する回転ミラーである。中心線Cは、楕円10を含む平面に直交する線であり、本実施形態では、第2焦点12を通過する鉛直線である。前記反射点16aは可動ミラー16の反射面16b上の点であり、この可動ミラー16の反射面16bは平面であって、反射面16bに対してレーザ光Rの入射角と出射角とは同じとなる。   The laser light control unit 8 has a function of changing the traveling direction of the laser light R from the second focal point 12 of the ellipse 10 toward a part of the ellipse 10. Specifically, as shown in FIG. 2, the ellipsoidal mirror 9 is installed on a part of the ellipse 10 to which the laser beam R from the second focal point 12 is directed as described above. The laser light control unit 8 of the present embodiment has a movable mirror 16, which reflects the laser light R incident on the second focal point 12 at the second focal point 12, and The reflection direction can be changed. The movable mirror 16 has a reflection point 16 a at the second focal point 12 and is a rotating mirror that rotates around the center line C passing through the second focal point 12. The center line C is a line orthogonal to the plane including the ellipse 10 and is a vertical line passing through the second focal point 12 in this embodiment. The reflection point 16a is a point on the reflection surface 16b of the movable mirror 16. The reflection surface 16b of the movable mirror 16 is a flat surface, and the incident angle and the emission angle of the laser light R are the same with respect to the reflection surface 16b. It becomes.

レーザ光制御部8は、楕円面ミラー9を前記中心線C回りに正逆回転させる駆動部(図示せず)を有している。この駆動部は、例えば減速器付きモータを備えており、前記制御本体装置15が、モータの回転数を制御して、可動ミラー16の中心線C回りの回転位置(回転角)を調整することができる。   The laser light control unit 8 has a drive unit (not shown) that rotates the ellipsoidal mirror 9 forward and backward around the center line C. The drive unit includes, for example, a motor with a speed reducer, and the control main body device 15 controls the rotational speed of the motor to adjust the rotational position (rotation angle) around the center line C of the movable mirror 16. Can do.

図2に示すように、レーザ発生装置2によって発生させたレーザ光Rは、可動ミラー16の反射面16bに入射し、反射したレーザ光Rは楕円面ミラー9の反射面19に入射する。第2焦点12から楕円面ミラー9に入射するレーザ光Rの経路はV1である。
レーザ発生装置2によって発生させたレーザ光Rは、一定の直線経路で第2焦点12に入射することから、前記駆動部によって楕円面ミラー9を所定角度について回転させると、図3に示すように、可動ミラー16の反射点16aにおけるレーザ光Rの入射角度が、図2の場合と比べて変化し、これに応じて反射角度も変化し、第2焦点12から楕円面ミラー9へと入射するレーザ光Rの経路がV2となる。
As shown in FIG. 2, the laser beam R generated by the laser generator 2 is incident on the reflecting surface 16 b of the movable mirror 16, and the reflected laser beam R is incident on the reflecting surface 19 of the elliptical mirror 9. The path of the laser beam R incident on the ellipsoidal mirror 9 from the second focal point 12 is V1.
Since the laser beam R generated by the laser generator 2 is incident on the second focal point 12 through a constant linear path, when the ellipsoidal mirror 9 is rotated by a predetermined angle by the drive unit, as shown in FIG. The incident angle of the laser beam R at the reflection point 16a of the movable mirror 16 changes compared to the case of FIG. 2, and the reflection angle also changes accordingly, and enters the ellipsoidal mirror 9 from the second focal point 12. The path of the laser beam R is V2.

以上のように、レーザ光制御部8は、楕円10の第2焦点12から、楕円面ミラー9へと向かうレーザ光Rの進行方向を、V1とV2との間で変化させることができる。
したがって、発生させたレーザ光Rを第2焦点12に入射させれば、可動ミラー16によって反射方向を変更することにより、楕円面ミラー9へのレーザ光Rの進行方向を変化させることができ、この結果、この楕円面ミラー9で反射したレーザ光Rの第1焦点11への入射角度を、電子ビームEの入射角度に応じて(合わせて)変えることができる。
As described above, the laser light control unit 8 can change the traveling direction of the laser light R from the second focal point 12 of the ellipse 10 toward the ellipsoidal mirror 9 between V1 and V2.
Therefore, if the generated laser beam R is incident on the second focal point 12, the moving direction of the laser beam R toward the ellipsoidal mirror 9 can be changed by changing the reflection direction by the movable mirror 16. As a result, the incident angle of the laser beam R reflected by the ellipsoidal mirror 9 to the first focal point 11 can be changed according to (according to) the incident angle of the electron beam E.

本実施形態の走査装置によって行われる光子ビーム(γ線)走査方法について説明する。この走査方法は、電子ビームE及びレーザ光Rの経路を制御して電子ビームEとレーザ光Rとを、衝突点である前記楕円10の第1焦点11で衝突させ、γ線を発生させて、前記走査対象物13についてのγ線走査を行う方法である。   A photon beam (γ ray) scanning method performed by the scanning device of this embodiment will be described. In this scanning method, the paths of the electron beam E and the laser beam R are controlled to cause the electron beam E and the laser beam R to collide with each other at the first focal point 11 of the ellipse 10 as a collision point, thereby generating γ rays. This is a method of performing γ-ray scanning on the scanning object 13.

図2に示すように、γ線の放射方向をK1とする場合、電子ビーム制御部7の機能により、楕円10の第1焦点11に電子ビームEを入射角度θ1で入射させる。そして、可動ミラー16が所定の回転位置となるように制御され、可動ミラー16によって反射させたレーザ光Rの進行方向をV1とする。
そして、このレーザ光Rを楕円面ミラー9で反射させると、レーザ光Rは第1焦点11に入射角度θ11で入射する。電子ビームEとレーザ光Rとの第1焦点11における入射角度は、対向角で同じであり(θ1=θ11)、これにより、電子ビームEとレーザ光Rとは正面衝突し、電子ビームEの入射方向の延長線上、つまり、放射方向をK1としてγ線を放射することができる。このγ線の放射先に、走査対象物13の左右方向一方側が位置する。
As shown in FIG. 2, when the γ-ray emission direction is K1, the electron beam control unit 7 causes the electron beam E to enter the first focal point 11 of the ellipse 10 at an incident angle θ1. Then, the movable mirror 16 is controlled to be at a predetermined rotational position, and the traveling direction of the laser light R reflected by the movable mirror 16 is set to V1.
When the laser beam R is reflected by the ellipsoidal mirror 9, the laser beam R enters the first focal point 11 at an incident angle θ11. The incident angles of the electron beam E and the laser beam R at the first focal point 11 are the same at the opposing angles (θ1 = θ11), whereby the electron beam E and the laser beam R collide head-on, and the electron beam E Gamma rays can be emitted on an extension line in the incident direction, that is, with the radiation direction as K1. One side of the scanning target 13 in the left-right direction is located at the destination of the γ rays.

そして、この検査対象物13の左右方向他方側に向かって走査するために、図3に示すように、電子ビーム制御部7が、電子ビームEの経路を制御して、電子ビームEの第1焦点11への入射角度をθ1からθ2へと変化させる(電子ビーム制御ステップ)。この変化に追従するようにして(この変化と同期して)、楕円10の第2焦点12から楕円面ミラー9へと向かうレーザ光Rの進行方向(経路)をV1からV2へと変化させる(レーザ光制御ステップ)。つまり、本実施形態のレーザ光制御ステップでは、第2焦点12に設けられている可動ミラー16の回転位置を変化させる。   Then, in order to scan toward the other side of the inspection target 13 in the left-right direction, the electron beam controller 7 controls the path of the electron beam E as shown in FIG. The incident angle to the focal point 11 is changed from θ1 to θ2 (electron beam control step). Following this change (in synchronization with this change), the traveling direction (path) of the laser light R from the second focal point 12 of the ellipse 10 toward the ellipsoidal mirror 9 is changed from V1 to V2 ( Laser light control step). That is, in the laser light control step of this embodiment, the rotational position of the movable mirror 16 provided at the second focal point 12 is changed.

進行方向がV2となるレーザ光Rを楕円面ミラー9で反射させると、レーザ光Rは第1焦点11に入射角度θ12で入射する。電子ビームEとレーザ光Rとの第1焦点11における入射角度は、対向角で同じであり(θ2=θ12)、これにより、電子ビームEとレーザ光Rとは正面衝突し、電子ビームEの入射方向の延長線上、つまり、放射方向をK2としてγ線を放射することができる。このγ線の放射先に、走査対象物13の左右方向他方側が位置する。   When the laser beam R whose traveling direction is V2 is reflected by the ellipsoidal mirror 9, the laser beam R enters the first focal point 11 at an incident angle θ12. The incident angles of the electron beam E and the laser beam R at the first focal point 11 are the same at the opposing angles (θ2 = θ12), whereby the electron beam E and the laser beam R collide head-on, and the electron beam E Gamma rays can be emitted on an extension line in the incident direction, that is, with the radiation direction as K2. The other side in the left-right direction of the scanning object 13 is located at the destination of the γ rays.

このようにレーザ光制御ステップにおいて、電子ビームEの第1焦点11への入射角度をθ1からθ2へと変化させても、第2焦点12から入射し楕円面ミラー9で反射したレーザ光Rは、必ず第1焦点11に入射する。しかも、入射角度がθ1からθ2へと変化した電子ビームEと正面衝突させる入射角度θ12となるように、レーザ光Rを第1焦点11に入射させることができる。これは、上記のとおり、楕円の一方の焦点から放射され当該楕円上のミラーで反射した光は、当該楕円の他方の焦点に到達するという特性楕円面ミラーの特性による。   Thus, in the laser beam control step, even if the incident angle of the electron beam E to the first focal point 11 is changed from θ1 to θ2, the laser beam R incident from the second focal point 12 and reflected by the ellipsoidal mirror 9 is , The light always enters the first focal point 11. In addition, the laser beam R can be incident on the first focal point 11 so that the incident angle θ12 is a frontal collision with the electron beam E whose incident angle has changed from θ1 to θ2. As described above, this is due to the characteristic of the characteristic ellipsoidal mirror that light emitted from one focal point of the ellipse and reflected by the mirror on the ellipse reaches the other focal point of the ellipse.

したがって、γ線の放射方向を変化させるためには、電子ビームEの第1焦点11への入射角度をθ1とθ2との間で変化させればよいが、これに応じて、上記のとおり、第2焦点12から楕円面ミラー9へと向かうレーザ光Rの進行方向をV1とV2との間で変化させればよい。このように、本実施形態の走査装置によれば、γ線の放射方向を変化させる場合であっても、電子ビームEとレーザ光Rとの正面衝突を簡単に実現することが可能となる。   Therefore, in order to change the radiation direction of γ-rays, the incident angle of the electron beam E to the first focal point 11 may be changed between θ1 and θ2, and according to this, as described above, What is necessary is just to change the advancing direction of the laser beam R which goes to the ellipsoidal mirror 9 from the 2nd focus 12 between V1 and V2. As described above, according to the scanning device of the present embodiment, it is possible to easily realize a frontal collision between the electron beam E and the laser light R even when the radiation direction of γ rays is changed.

また、本実施形態では、レーザ光制御部8は、可動ミラー16を有しており、この可動ミラー16は、第2焦点12に反射点16aを有しており、この第2焦点12を通過する中心線C回りに回転する回転ミラーとしている。このため、第2焦点12から楕円面ミラー9へのレーザ光Rの入射方向を変化させるためには、可動ミラー16を中心線C回りに回転させればよく、その構成は簡単である。   In the present embodiment, the laser light control unit 8 has a movable mirror 16, and the movable mirror 16 has a reflection point 16 a at the second focal point 12, and passes through the second focal point 12. The rotating mirror rotates around the center line C. For this reason, in order to change the incident direction of the laser beam R from the second focal point 12 to the ellipsoidal mirror 9, the movable mirror 16 may be rotated around the center line C, and the configuration is simple.

図4は、本発明の光子ビーム走査装置の他の実施形態を平面的に見た概略構成図である。図4に示す走査装置は、レーザ光制御部8の構成に関して、図1に示した走査装置と異なるが、仮想的に設定された楕円10に基づく配置等その他は同じである。このため、同じ構成についての説明はここでは省略する。   FIG. 4 is a schematic configuration diagram in plan view of another embodiment of the photon beam scanning apparatus of the present invention. The scanning device shown in FIG. 4 is different from the scanning device shown in FIG. 1 with respect to the configuration of the laser light control unit 8, but the arrangement and the like based on the virtually set ellipse 10 are the same. For this reason, the description about the same structure is abbreviate | omitted here.

図4に示すレーザ光制御部8の機能は、図1の場合と同じであり、楕円10の第2焦点12から当該楕円10の一部へと向かうレーザ光Rの進行方向を変化させる機能を有している。さらに、図1の場合と同じように、第2焦点12からのレーザ光Rが向かう先である前記楕円10の一部には、楕円面ミラー9が設置されている。   The function of the laser light control unit 8 shown in FIG. 4 is the same as that of FIG. 1 and the function of changing the traveling direction of the laser light R from the second focal point 12 of the ellipse 10 toward a part of the ellipse 10. Have. Further, as in the case of FIG. 1, an ellipsoidal mirror 9 is installed on a part of the ellipse 10 to which the laser beam R from the second focal point 12 is directed.

図4に示すレーザ光制御部8は、前記可動ミラー16(図1参照)を有していないが、第2焦点12を焦点とする仮想的に設定した放物線40の一部に沿った反射面42を有する放物面ミラー41を有している。さらに、本実施形態では、レーザ光制御部8は、レーザ発生装置2が発生させたレーザ光Rを平行移動させる光学装置(本実施形態ではペリスコープ29)を備えている。また、レーザ光制御部8は、ペリスコープ29から入射したレーザ光Rを反射させて放物面ミラー41に入射させる平面ミラー43を有している。放物面ミラー41及び平面ミラー43は、固定状態として設置されている。   The laser light control unit 8 shown in FIG. 4 does not have the movable mirror 16 (see FIG. 1), but is a reflecting surface along a part of a virtually set parabola 40 having the second focal point 12 as a focal point. A parabolic mirror 41 having 42 is provided. Furthermore, in this embodiment, the laser light control unit 8 includes an optical device (periscope 29 in this embodiment) that translates the laser light R generated by the laser generator 2. In addition, the laser light control unit 8 includes a flat mirror 43 that reflects the laser light R incident from the periscope 29 and causes the laser light R to enter the parabolic mirror 41. The parabolic mirror 41 and the flat mirror 43 are installed in a fixed state.

放物面ミラー41は、レーザ発生装置2によって発生させ平面ミラー43を介して入射させたレーザ光Rを、第2焦点12を通過させるように反射させる。なお、前記仮想的に設定した放物線40は、前記楕円10と同じ面上に設定されており、本実施形態では、水平面上に設定されている。この放物面ミラー41は、軸外し放物面鏡である。また、放物線40は(放物線40の準線44)の位置及び方向については特に制限はないが、放物線40に沿ってその一部に設けられる放物面ミラー41は、楕円面ミラー9と第2焦点12とを結ぶ直線の延長線と交差する位置に、設けられる。   The parabolic mirror 41 reflects the laser light R generated by the laser generator 2 and made incident through the plane mirror 43 so as to pass through the second focal point 12. The virtually set parabola 40 is set on the same plane as the ellipse 10, and is set on a horizontal plane in the present embodiment. The parabolic mirror 41 is an off-axis parabolic mirror. The parabola 40 is not particularly limited with respect to the position and direction of the parabola 40 (the quasi-line 44 of the parabola 40). It is provided at a position that intersects with an extension of a straight line connecting the focal point 12.

図1の走査装置では、レーザ発生装置2が発生させたレーザ光Rは常に第2焦点12へ入射させていたが、図4の走査装置では、ペリスコープ29によって、レーザ光Rを平行移動させ、平面ミラー43への入射点を変化させている。平面ミラー43の反射面は平面であって、この反射面に対してレーザ光Rの入射角と出射角とは同じとなる。   In the scanning device of FIG. 1, the laser beam R generated by the laser generator 2 is always incident on the second focal point 12, but in the scanning device of FIG. 4, the laser beam R is translated by the periscope 29, The point of incidence on the plane mirror 43 is changed. The reflection surface of the plane mirror 43 is a plane, and the incident angle and the emission angle of the laser light R are the same with respect to this reflection surface.

図5及び図6は、経路制御装置3の機能を説明する説明図である。前記実施形態と同様に、電子ビーム制御部7は、電子ビームEの経路を制御して、楕円10の第1焦点11に電子ビームEを入射させると共に第1焦点11への入射角度を変化させることができ、真空容器20内において、楕円10の第1焦点11を必ず通過する経路を有した電子ビームEを得ることができる。   5 and 6 are explanatory diagrams for explaining the function of the path control device 3. Similar to the above embodiment, the electron beam control unit 7 controls the path of the electron beam E so that the electron beam E is incident on the first focus 11 of the ellipse 10 and the incident angle on the first focus 11 is changed. In the vacuum container 20, an electron beam E having a path that always passes through the first focal point 11 of the ellipse 10 can be obtained.

図5に示すように、レーザ発生装置2によって発生させたレーザ光Rが、ペリスコープ29によって第1の経路G1で平面ミラー43に入射すると、その反射光は放物面ミラー41に入射する。放物面ミラー41で反射したレーザ光Rは第2焦点12を通過して、楕円面ミラー9の反射面19に入射する。なお、放物面ミラー41で反射したレーザ光Rが第2焦点12を通過するのは、放物線上の一部で反射した光は、当該放物線の焦点に集まるという特性によるものである。
そして、第2焦点12から楕円面ミラー9に入射するレーザ光Rの経路はV11である。楕円面ミラー9で反射したレーザ光Rは、第1焦点11に入射角θ11で入射し、入射角θ1である電子ビームEと正面衝突することができる。
As shown in FIG. 5, when the laser beam R generated by the laser generator 2 is incident on the plane mirror 43 by the periscope 29 through the first path G <b> 1, the reflected light is incident on the paraboloidal mirror 41. The laser beam R reflected by the parabolic mirror 41 passes through the second focal point 12 and enters the reflecting surface 19 of the ellipsoidal mirror 9. The reason why the laser beam R reflected by the parabolic mirror 41 passes through the second focal point 12 is that the light reflected by a part of the parabola gathers at the focal point of the parabola.
The path of the laser beam R incident on the ellipsoidal mirror 9 from the second focal point 12 is V11. The laser beam R reflected by the ellipsoidal mirror 9 is incident on the first focal point 11 at an incident angle θ11 and can collide with the electron beam E having the incident angle θ1 in a frontal collision.

図6に示すように、ペリスコープ29の機能により、レーザ光Rを平行移動させ、第2の経路G2で平面ミラー43に入射させると、その反射光は放物面ミラー41に入射する。なお、この入射点は、レーザ光Rが前記経路G1を進んだ場合と異なる位置である。そして、放物面ミラー41で反射したレーザ光Rは第2焦点12を通過して、楕円面ミラー9の反射面19に入射する。第2焦点12から楕円面ミラー9に入射するレーザ光Rの経路はV12である。
以上のように、レーザ光制御部8は、楕円10の第2焦点12から、楕円面ミラー9へと向かうレーザ光Rの進行方向を、V11とV12との間で変化させることができる。
As shown in FIG. 6, when the laser beam R is translated by the function of the periscope 29 and is incident on the plane mirror 43 through the second path G <b> 2, the reflected light is incident on the parabolic mirror 41. This incident point is a position different from the case where the laser beam R travels along the path G1. Then, the laser beam R reflected by the parabolic mirror 41 passes through the second focal point 12 and enters the reflecting surface 19 of the elliptical mirror 9. The path of the laser beam R incident on the ellipsoidal mirror 9 from the second focal point 12 is V12.
As described above, the laser light control unit 8 can change the traveling direction of the laser light R from the second focal point 12 of the ellipse 10 toward the ellipsoidal mirror 9 between V11 and V12.

したがって、発生させたレーザ光Rを、放物面ミラー41の反射面42に入射させれば、その反射したレーザ光Rは第2焦点12を通過することができる。そして、放物面ミラー41の反射面42に入射させるレーザ光Rの入射点を、ペリスコープ29によって変更することにより、第2焦点12を通過して楕円面ミラー9へ向かうレーザ光Rの進行方向を変化させることができる。この結果、この楕円面ミラー9で反射したレーザ光Rの第1焦点11への入射角度を、電子ビームEの入射角度に応じて(合わせて)変えることができる。   Therefore, if the generated laser light R is incident on the reflecting surface 42 of the parabolic mirror 41, the reflected laser light R can pass through the second focal point 12. Then, by changing the incident point of the laser light R to be incident on the reflecting surface 42 of the parabolic mirror 41 by the periscope 29, the traveling direction of the laser light R passing through the second focal point 12 toward the elliptical mirror 9 Can be changed. As a result, the incident angle of the laser beam R reflected by the ellipsoidal mirror 9 to the first focal point 11 can be changed according to (according to) the incident angle of the electron beam E.

図4に示す走査装置によって行われる走査方法は、図1に示す走査装置の場合と同様であるが、図1の場合では、電子ビームEの第1焦点11への入射角度をθ1からθ2へと変化させるのと同期させて、可動ミラー16を制御することで、第2焦点12から楕円面ミラー9へと向かうレーザ光Rの進行方向(経路)をV1からV2へと変化させていた。しかし、図4の場合では、電子ビームEの第1焦点11への入射角度をθ1からθ2へと変化させるのと同期させて、放物面ミラー41へのレーザ光Rの入射点を変更することにより、第2焦点12から楕円面ミラー9へと向かうレーザ光Rの進行方向(経路)をV11からV12へと変化させている。つまり、図4の走査装置は、光源(第2焦点12を通過させるまでのレーザ光Rの経路)を動かす実施形態である。
この図4の実施形態は、第2焦点12に図1のような可動ミラー16を(例えばレイアウトの問題により)配置できない場合に有効となる。
The scanning method performed by the scanning device shown in FIG. 4 is the same as that of the scanning device shown in FIG. 1, but in the case of FIG. 1, the incident angle of the electron beam E to the first focal point 11 is changed from θ1 to θ2. In synchronization with this change, the moving mirror 16 is controlled to change the traveling direction (path) of the laser light R from the second focal point 12 toward the ellipsoidal mirror 9 from V1 to V2. However, in the case of FIG. 4, the incident point of the laser beam R on the paraboloidal mirror 41 is changed in synchronization with changing the incident angle of the electron beam E to the first focal point 11 from θ1 to θ2. Thus, the traveling direction (path) of the laser light R from the second focal point 12 toward the ellipsoidal mirror 9 is changed from V11 to V12. That is, the scanning device of FIG. 4 is an embodiment that moves the light source (the path of the laser light R until it passes through the second focal point 12).
The embodiment of FIG. 4 is effective when the movable mirror 16 as shown in FIG. 1 cannot be disposed at the second focal point 12 (for example, due to layout problems).

また、図1及び図4の実施形態それぞれにおいて、第2焦点12からのレーザ光Rの経路を変更しても、この第2焦点12から楕円面ミラー9における反射点を経由した第1焦点11までのレーザ光Rの経路長は、一定であるため(変化しないため)、第1焦点11への入射角を変化させたとしても、平行ビームであるレーザ光Rを第1焦点11の一点に収束させることができる。つまり、光源側のフォーカスの調整は不要である。
また、各実施形態において、経路制御装置3は、電子ビームEの第1焦点11への入射角を合計10°の幅で調整することが可能となり(θ1=5°、θ2=5°)、この調整に追従するようにして、レーザ光Rの第1焦点11への入射角を合計10°の幅で調整することが可能である(θ11=5°、θ12=5°)。これにより、幅広い方向にγ線を放射することが可能となり、走査対象物13に対して広範囲(幅広)の走査が可能となる。
In each of the embodiments of FIGS. 1 and 4, even if the path of the laser light R from the second focal point 12 is changed, the first focal point 11 passes from the second focal point 12 via the reflection point on the ellipsoidal mirror 9. Since the path length of the laser beam R up to is constant (it does not change), even if the incident angle to the first focal point 11 is changed, the laser beam R that is a parallel beam is used as one point of the first focal point 11. It can be converged. That is, it is not necessary to adjust the focus on the light source side.
In each embodiment, the path control device 3 can adjust the incident angle of the electron beam E to the first focal point 11 with a total width of 10 ° (θ1 = 5 °, θ2 = 5 °), By following this adjustment, it is possible to adjust the incident angle of the laser beam R to the first focal point 11 with a total width of 10 ° (θ11 = 5 °, θ12 = 5 °). As a result, γ rays can be emitted in a wide range, and a wide range (wide) scanning can be performed on the scanning target 13.

前記各実施形態それぞれにおいて、光子ビームの放射方向に楕円面ミラー9が存在していることから、楕円面ミラー9は、光子ビーム(γ線)が透過可能な部材(透過率の高い部材)からなり、例えば、プラスチック、ガラス、又は透過率の高い金属(アルミニウム等)で構成されている。
また、発生させた光子ビーム(そのエネルギー)を部分的にカットするために、走査対象物13と第1焦点11との間に、可動コリメータ28が設けられていてもよい。
また、レーザ発生装置2が発生させるレーザ光Rのビーム直径を変化させてもよく、これにより、光子のエネルギーの広がりを変化させることが可能となる。
In each of the above embodiments, since the ellipsoidal mirror 9 exists in the radiation direction of the photon beam, the ellipsoidal mirror 9 is made of a member that can transmit the photon beam (γ-ray) (a member having a high transmittance). For example, it is made of plastic, glass, or a metal with high transmittance (such as aluminum).
Further, a movable collimator 28 may be provided between the scanning object 13 and the first focal point 11 in order to partially cut the generated photon beam (its energy).
In addition, the beam diameter of the laser beam R generated by the laser generator 2 may be changed, whereby the spread of photon energy can be changed.

また、図1の可動ミラー16及び図4の放物面ミラー41は、レーザ光を反射させる材質であればよい。
なお、図4の実施形態において、平面ミラー43は、レーザ発生装置2及びペリスコープ29の配置を考慮して、設けられたものであるが、省略することもできる。
また、図4の実施形態では、真空容器20及び複数の偏向磁石を有する電子ビーム制御部7が、直列配置で二つ設けられている。そして、二つの電子ビーム制御部7はそれぞれ反対の偏向動作を行う。つまり、第1(図4の右側)の電子ビーム制御部7では偏向角度を大きくする場合、第2(図4の左側)の電子ビーム制御部7では偏向角度を小さくし、光源(レーザ発生装置2)側から終端(電子ビームダンプ31)側までの経路長が一定となるようにしている。
Moreover, the movable mirror 16 in FIG. 1 and the parabolic mirror 41 in FIG. 4 may be any material that reflects laser light.
In the embodiment of FIG. 4, the plane mirror 43 is provided in consideration of the arrangement of the laser generator 2 and the periscope 29, but may be omitted.
In the embodiment of FIG. 4, two electron beam controllers 7 having a vacuum vessel 20 and a plurality of deflection magnets are provided in series. The two electron beam control units 7 perform opposite deflection operations. That is, when the deflection angle is increased in the first (right side of FIG. 4) electron beam control unit 7, the deflection angle is decreased in the second (left side of FIG. 4) electron beam (laser generator). 2) The path length from the side to the end (electron beam dump 31) side is made constant.

また、本発明の走査装置は、図示する形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。
前記各実施形態では、電子ビームとレーザ光とを第1焦点11で正面衝突させる場合を説明したが、相対的に傾斜した方向から第1焦点11に入射させ、第1焦点11で衝突させてもよい。これにより、電子によって散乱される光子のエネルギーを変化させることが可能となる。
Further, the scanning device of the present invention is not limited to the illustrated form, and may be other forms within the scope of the present invention.
In each of the above embodiments, the case where the electron beam and the laser beam collide with each other at the first focal point 11 has been described. However, the electron beam and the laser beam are incident on the first focal point 11 from the relatively inclined direction and collided with the first focal point 11. Also good. This makes it possible to change the energy of photons scattered by electrons.

また、走査装置は、非破壊検査装置以外にも画像診断装置としても適用することができる。また、走査装置によって発生させる高エネルギーな光子ビームは、γ線以外にX線であってもよい。
また、準単色の(エネルギーがほぼそろった)γ線・X線ではなく、ある程度のエネルギー幅を有したγ線・X線であってもよく、この場合、レーザ光エキスパンダにより、レーザ光の直径を変化させることで、エネルギーの広がりを制御することができる。
また、走査装置をエネルギー回収型のシステム又は電子蓄積リング型のシステムに導入することもできる。この場合、上記のとおり、本実施形態の電子ビーム制御部7によれば、真空容器20における電子ビームEの入射及び出射を定点とすることが可能であるため、例えば電子蓄積リング型の装置に走査装置を導入する際に、電子ビームの軌道に与える影響を小さくすることが可能となる。
Further, the scanning device can be applied as an image diagnostic apparatus in addition to the nondestructive inspection apparatus. Further, the high-energy photon beam generated by the scanning device may be X-rays other than γ-rays.
Further, γ-rays / X-rays having a certain energy width may be used instead of quasi-monochromatic γ-rays / X-rays (which have almost the same energy). In this case, the laser beam expander The spread of energy can be controlled by changing the diameter.
The scanning device can also be introduced into an energy recovery type system or an electron storage ring type system. In this case, as described above, according to the electron beam control unit 7 of the present embodiment, the incident and emission of the electron beam E in the vacuum vessel 20 can be set as fixed points. When the scanning device is introduced, the influence on the trajectory of the electron beam can be reduced.

1:電子ビーム発生装置、 2:レーザ発生装置、 3:経路制御装置、 7:電子ビーム制御部、 8:レーザ光制御部、 9:楕円面ミラー、 10:楕円、 11:第1焦点、 12:第2焦点、 13:走査対象物、 16:可動ミラー、 16b:反射面、 19:反射面、 40:放物線、 41:放物面ミラー、 42:反射面、 C:中心線、 E:電子ビーム、 R:レーザ光 1: electron beam generator, 2: laser generator, 3: path controller, 7: electron beam controller, 8: laser light controller, 9: ellipsoidal mirror, 10: ellipse, 11: first focus, 12 : Second focus, 13: scanning object, 16: movable mirror, 16b: reflecting surface, 19: reflecting surface, 40: parabola, 41: parabolic mirror, 42: reflecting surface, C: center line, E: electron Beam, R: Laser light

Claims (2)

電子ビームを発生させる電子ビーム発生装置と、
レーザ光を発生させるレーザ発生装置と、
発生させた電子ビーム及びレーザ光の経路を制御して電子ビームとレーザ光とを衝突させるための経路制御装置と、を備え、
前記経路制御装置は、
前記電子ビームの経路を制御して仮想的に設定された楕円の第1焦点に電子ビームを入射させると共に当該第1焦点への入射角度を変化させる電子ビーム制御部と、
前記楕円の第2焦点から当該楕円の一部へと向かう前記レーザ光の進行方向を変化させるレーザ光制御部と、
前記楕円の前記一部に沿った反射面を有し、前記第2焦点から当該反射面に入射したレーザ光を反射させて前記電子ビームの反対側から前記第1焦点に入射させる楕円面ミラーと、
を有し
前記レーザ光制御部は、前記第2焦点を焦点とする放物線の一部に沿った反射面を有し前記レーザ光が前記第2焦点を通過するように反射させる放物面ミラーを有していることを特徴とする光子ビーム走査装置。
An electron beam generator for generating an electron beam;
A laser generator for generating laser light;
A path control device for controlling the paths of the generated electron beam and laser light to collide the electron beam with the laser light, and
The route control device
An electron beam controller that controls the path of the electron beam to cause the electron beam to be incident on an elliptical first focal point that is virtually set, and to change the incident angle on the first focal point;
A laser light control unit that changes a traveling direction of the laser light from the second focal point of the ellipse toward a part of the ellipse;
An ellipsoidal mirror having a reflecting surface along the part of the ellipse and reflecting the laser light incident on the reflecting surface from the second focal point and incident on the first focal point from the opposite side of the electron beam; ,
Have,
The laser light control unit includes a parabolic mirror that has a reflecting surface along a part of a parabola with the second focal point as a focal point and reflects the laser light so as to pass through the second focal point. photon beam scanning apparatus characterized by there.
電子ビーム及びレーザ光の経路を制御して電子ビームとレーザ光とを衝突させ、光子ビームを発生させて行う光子ビーム走査方法であって、
前記電子ビームの経路を制御して仮想的に設定された楕円の第1焦点への電子ビームの入射角度を変化させる電子ビーム制御ステップと、
前記楕円の第2焦点を焦点とする放物線の一部に沿った反射面を有する放物面ミラーへレーザ光を入射させ、当該放物面ミラーで反射する当該レーザ光を、当該第2焦点を通過させるとともに、当該放物面ミラーにおけるレーザ光の入射点を変更することにより、当該第2焦点から、当該楕円の一部に沿った反射面を有する楕円面ミラーへと向かう前記レーザ光の進行方向を変化させるレーザ光制御ステップとを備えていることを特徴とする光子ビーム走査方法。
A photon beam scanning method for controlling a path of an electron beam and a laser beam to collide the electron beam and the laser beam to generate a photon beam,
An electron beam control step of controlling the electron beam path to change the incident angle of the electron beam to the first focal point of the virtually set ellipse;
Laser light is incident on a parabolic mirror having a reflecting surface along a part of a parabola with the second focal point of the ellipse as a focal point, and the laser light reflected by the parabolic mirror is reflected on the second focal point. The laser beam travels from the second focal point to an elliptical mirror having a reflecting surface along a part of the ellipse by passing the laser beam and changing the incident point of the laser beam on the parabolic mirror. A photon beam scanning method comprising: a laser beam control step of changing a direction.
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