JP6677073B2 - Laser sheet light source device - Google Patents
Laser sheet light source device Download PDFInfo
- Publication number
- JP6677073B2 JP6677073B2 JP2016098042A JP2016098042A JP6677073B2 JP 6677073 B2 JP6677073 B2 JP 6677073B2 JP 2016098042 A JP2016098042 A JP 2016098042A JP 2016098042 A JP2016098042 A JP 2016098042A JP 6677073 B2 JP6677073 B2 JP 6677073B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- light
- cylindrical lens
- plano
- semiconductor laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
本発明は、レーザシート光源装置に関する。 The present invention relates to a laser sheet light source device.
従来、流体の流れや速度を計測する方法として、PIV(Particle Image Velocimetry)と呼ばれる技術が知られている。PIVとは、流体にトレーサ粒子と呼ばれる微小粒子を混入し、当該トレーサ粒子にシート状のレーザ光(以下、レーザシート)を照射して得られる散乱光を撮影することで、流体の流動を二次元的に計測する技術である。 Conventionally, a technique called PIV (Particle Image Velocimetry) has been known as a method of measuring the flow or velocity of a fluid. PIV is a technique in which the flow of a fluid is reduced by mixing fine particles called tracer particles into a fluid and photographing scattered light obtained by irradiating the tracer particles with a sheet-like laser beam (hereinafter, laser sheet). This is a technology that measures in two dimensions.
上記のPIVにおいて、従来、光源として高出力を得られる固体レーザやガスレーザが用いられていた。例えば特許文献1には、PIVの光源にNd:YAGレーザを使用することが記載されている。また特許文献2には、PIVの光源にアルゴンレーザを使用することが記載されている。
In the above-described PIV, a solid-state laser or a gas laser capable of obtaining a high output has been used as a light source. For example,
近年、固体光源技術の進歩に伴い、PIVの光源として固体レーザやガスレーザに代わり半導体レーザを利用することが検討されてきている。特に、高出力を実現する観点から、CANパッケージに取り付けられた半導体レーザ素子(即ち、CANタイプの半導体レーザ素子)を複数並べて利用することが検討されてきている。 In recent years, with the progress of solid-state light source technology, the use of semiconductor lasers instead of solid-state lasers and gas lasers as PIV light sources has been studied. In particular, from the viewpoint of realizing a high output, it has been studied to use a plurality of semiconductor laser elements (that is, CAN type semiconductor laser elements) mounted on a CAN package in a row.
ところで、本発明者の鋭意研究によれば、PIVの光源として、CANタイプの半導体レーザ素子を複数並べて利用すると、レーザシートの幅が十分に拡がらず、多数のトレーサ粒子を照射することができないことが分かった。 By the way, according to the earnest study of the present inventors, when a plurality of CAN type semiconductor laser elements are used side by side as a light source of PIV, the width of the laser sheet is not sufficiently widened, so that a large number of tracer particles cannot be irradiated. I understood that.
そのため、本発明者は、各半導体レーザ素子からのレーザ光を拡大可能なレンズを用いて、レーザシートの幅を拡げることを検討した。すると、レーザシートの強度が均一とならず、バラつきが生じることが分かった。 Therefore, the present inventor has studied to increase the width of the laser sheet using a lens capable of expanding the laser light from each semiconductor laser element. Then, it turned out that the intensity | strength of a laser sheet did not become uniform and variation occurred.
レーザシートの強度にバラつきが生じると、各トレーサ粒子が、異なる強度のレーザ光によって照射される虞がある。即ち、比較的高い強度のレーザ光によって照射されるトレーサ粒子や、比較的低い強度のレーザ光によって照射されるトレーサ粒子が混在する。その結果、トレーサ粒子からの散乱光の強度が変動し、計測結果の精度が低下するという問題があった。そのため、レーザシートの強度を不均一にすることなく、当該レーザシートの幅を拡大可能な技術が求められる。 When the intensity of the laser sheet varies, each tracer particle may be irradiated with laser light of different intensity. That is, tracer particles irradiated by laser light of relatively high intensity and tracer particles irradiated by laser light of relatively low intensity are mixed. As a result, there is a problem that the intensity of the scattered light from the tracer particles fluctuates, and the accuracy of the measurement result decreases. Therefore, there is a need for a technique capable of increasing the width of the laser sheet without making the strength of the laser sheet non-uniform.
上記の要望は、PIVに限らず、CANタイプの半導体レーザ素子を複数並べた光源を使用してレーザシートを形成する場合に共通する。例えば、レーザシートを照射する照明装置や、レーザシートを利用して物体の形状等を計測する計測装置においても同様に求められる。 The above demand is not limited to the PIV, but is common when a laser sheet is formed using a light source in which a plurality of CAN type semiconductor laser elements are arranged. For example, an illumination device that irradiates a laser sheet or a measurement device that measures the shape of an object using a laser sheet is similarly obtained.
本発明は、CANタイプの半導体レーザ素子を複数並べた光源を使用してレーザシートを形成する場合において、レーザシートの強度が不均一となることを抑制しつつ、当該レーザシートの幅を拡大可能な技術を提供することを目的とする。 According to the present invention, when a laser sheet is formed using a light source in which a plurality of CAN type semiconductor laser elements are arranged, it is possible to increase the width of the laser sheet while suppressing the intensity of the laser sheet from becoming uneven. The purpose is to provide simple technology.
本発明のレーザシート光源装置は、
CANタイプの複数の半導体レーザ素子と、
複数の前記半導体レーザ素子から射出された各レーザ光を、少なくとも第一の方向に一定の幅を有する平行光に変換する第一光学系と、
前記平行光が入射される入射面を含み、前記平行光の、前記第一の方向に直交する第二の方向における幅を拡大する第二光学系と、を有し、
前記平行光は、前記第二の方向に関して互いに異なる位置から前記第二光学系の前記入射面に向かって進行し、
前記第二の方向に隣り合う前記平行光は、前記第二光学系の前記入射面で重なり合うことを特徴とする。
The laser sheet light source device of the present invention,
A plurality of CAN laser diodes;
A first optical system that converts each laser light emitted from the plurality of semiconductor laser elements into parallel light having a certain width in at least a first direction,
A second optical system that includes an incident surface on which the parallel light is incident, and expands the width of the parallel light in a second direction orthogonal to the first direction,
The parallel light travels from different positions with respect to the second direction toward the incident surface of the second optical system,
The parallel light beams adjacent in the second direction overlap with each other on the incident surface of the second optical system.
上記構成によれば、各半導体レーザ素子から射出されたレーザ光は、少なくとも第一の方向に一定の幅を有する平行光に変換される。また、平行光の、第一の方向に直交する第二の方向における幅が、第二光学系によって拡大される。これにより、レーザシートの第二の方向における幅を拡大できる。 According to the above configuration, the laser light emitted from each semiconductor laser element is converted into parallel light having a certain width at least in the first direction. Further, the width of the parallel light in the second direction orthogonal to the first direction is enlarged by the second optical system. Thereby, the width of the laser sheet in the second direction can be increased.
また、上記構成によれば、第二の方向に隣り合う平行光は、互いに重なり合って第二光学系の入射面に入射する。これにより、第二光学系に入射する光の強度のバラつきを抑制できるため、第二光学系から射出される光の強度のバラつきも抑制できる。 Further, according to the above configuration, the parallel lights adjacent in the second direction overlap each other and enter the incident surface of the second optical system. Thus, the variation in the intensity of the light incident on the second optical system can be suppressed, so that the variation in the intensity of the light emitted from the second optical system can also be suppressed.
以上のように、上記構成によれば、レーザシートの幅を拡大可能であるとともに、レーザシートの強度が不均一になることを抑制できる。 As described above, according to the above configuration, the width of the laser sheet can be increased, and the strength of the laser sheet can be prevented from becoming uneven.
上記構成において、
前記第二の方向に隣り合う前記平行光において、前記第二光学系の前記入射面に向かうほど前記平行光の各主光線が近付くように、一方の前記平行光の主光線が他方の前記平行光の主光線に対して傾斜しているものとしても構わない。
In the above configuration,
In the parallel light adjacent in the second direction, the principal ray of one of the parallel lights is closer to the incident surface of the second optical system so that the principal ray of one of the parallel lights is closer to the other of the parallel lights. The light may be inclined with respect to the principal ray of light.
上記構成によれば、第二の方向に隣り合う平行光の各主光線が近付くように、一方の平行光の主光線を、他方の平行光の主光線に対して傾斜させることにより、隣り合う二つの平行光を第二光学系の入射面で重ねることが可能となる。 According to the above configuration, the principal rays of one of the parallel lights are inclined with respect to the principal ray of the other parallel light so that the principal rays of the parallel lights adjacent to each other in the second direction approach each other. Two parallel lights can be superimposed on the incident surface of the second optical system.
上記構成において、
前記平行光のうち少なくとも一部の前記平行光の主光線は、前記第二光学系の前記入射面に向かうほど前記第二光学系の光軸に近付くように、前記光軸に対して傾斜し、
前記平行光が前記第二の方向に関して前記光軸から離れるほど、前記平行光の主光線が前記光軸に対して傾斜する角度が大きいものとしても構わない。
In the above configuration,
The principal ray of the parallel light of at least a part of the parallel light is inclined with respect to the optical axis so as to be closer to the optical axis of the second optical system toward the incident surface of the second optical system. ,
The angle at which the principal ray of the parallel light inclines with respect to the optical axis may increase as the parallel light moves away from the optical axis in the second direction.
上記構成によれば、第二光学系の光軸から離れた平行光であっても、第二の方向に隣り合う平行光と第二光学系の入射面で重ねることが可能となる。 According to the above configuration, even parallel light separated from the optical axis of the second optical system can be superimposed on parallel light adjacent in the second direction on the incident surface of the second optical system.
上記構成において、
前記半導体レーザ素子は、前記第二の方向に関して互いに異なる位置に配置され、
前記第二の方向に隣り合う前記半導体レーザ素子において、一方の前記半導体レーザ素子の光射出面が他方の前記半導体レーザ素子の光射出面に対して傾斜しているものとしても構わない。
In the above configuration,
The semiconductor laser device is arranged at different positions with respect to the second direction,
In the semiconductor laser devices adjacent in the second direction, the light emission surface of one semiconductor laser device may be inclined with respect to the light emission surface of the other semiconductor laser device.
上記構成によれば、第二の方向に隣り合う半導体レーザ素子において、一方の半導体レーザ素子の光射出面を、他方の半導体レーザ素子の光射出面に対して傾斜させることにより、隣り合う二つの平行光を、第二光学系の入射面で重ねることが可能となる。 According to the above configuration, in the semiconductor laser devices adjacent in the second direction, the light emission surface of one semiconductor laser device is inclined with respect to the light emission surface of the other semiconductor laser device, so that two adjacent semiconductor laser devices can be formed. The parallel light can be superimposed on the incident surface of the second optical system.
上記構成において、
前記第一光学系は、
前記半導体レーザ素子から射出された前記レーザ光を、前記第一の方向に一定の幅を有するように変換する第一凸型シリンドリカルレンズと、
前記凸型シリンドリカルレンズから射出された前記レーザ光を、前記第二の方向に一定の幅を有するように変換する第二凸型シリンドリカルレンズと、を含み、
前記二凸型シリンドリカルレンズは、前記第二の方向に関して互いに異なる位置から前記レーザ光を入射され、入射された前記レーザ光を変換後、前記第二光学系の前記入射面に向かって集光するものとしても構わない。
In the above configuration,
The first optical system,
A first convex cylindrical lens that converts the laser light emitted from the semiconductor laser element to have a certain width in the first direction;
A second convex cylindrical lens that converts the laser light emitted from the convex cylindrical lens to have a certain width in the second direction,
The biconvex cylindrical lens receives the laser light from different positions with respect to the second direction, converts the incident laser light, and condenses the laser light toward the incident surface of the second optical system. It doesn't matter.
上記構成によれば、半導体レーザ素子の光射出面を傾斜させることなく、凸型シリンドリカルレンズ及び凸レンズを利用することで、隣り合う二つの平行光を、第二光学系の入射面で重ねることが可能となる。 According to the above configuration, by using the convex cylindrical lens and the convex lens without inclining the light emitting surface of the semiconductor laser element, two adjacent parallel lights can be overlapped on the incident surface of the second optical system. It becomes possible.
上記構成において、
前記第一光学系は、
前記半導体レーザ素子から射出された前記レーザ光を、前記平行光に変換するコリメータレンズと、
複数の前記半導体レーザ素子に対応して配置され、前記コリメータレンズにより変換後の前記平行光を反射して前記第二光学系の前記入射面に入射させる複数の反射ミラーと、を含み、
前記反射ミラーは前記第二の方向に関して互いに異なる位置に配置され、
前記第二の方向に隣り合う前記反射ミラーにおいて、一方の前記反射ミラーの反射面が他方の前記反射ミラーの反射面に対して傾斜しているものとしても構わない。
In the above configuration,
The first optical system,
A collimator lens that converts the laser light emitted from the semiconductor laser element into the parallel light,
A plurality of reflecting mirrors arranged corresponding to the plurality of semiconductor laser elements and reflecting the converted parallel light by the collimator lens to be incident on the incident surface of the second optical system,
The reflecting mirrors are arranged at positions different from each other with respect to the second direction,
In the reflection mirrors adjacent in the second direction, the reflection surface of one reflection mirror may be inclined with respect to the reflection surface of the other reflection mirror.
上記構成によれば、半導体レーザ素子の光射出面を傾斜させることなく、第二の方向に隣り合う反射ミラーにおいて、一方の反射ミラーの反射面を、他方の反射ミラーの反射面に対して傾斜させることで、隣り合う二つの平行光を、第二光学系の入射面で重ねることが可能となる。 According to the above configuration, in the reflection mirror adjacent in the second direction, the reflection surface of one reflection mirror is inclined with respect to the reflection surface of the other reflection mirror without tilting the light emission surface of the semiconductor laser element. By doing so, it becomes possible to overlap two adjacent parallel lights on the incident surface of the second optical system.
上記構成において、
前記第二光学系は、平凹シリンドリカルレンズ又は両凹シリンドリカルレンズであるものとしても構わない。
In the above configuration,
The second optical system may be a plano-concave cylindrical lens or a biconcave cylindrical lens.
上記構成において、
前記第一の方向は、前記半導体レーザ素子から射出される前記レーザ光の速軸方向と光学的に等価な方向であり、
前記第二の方向は、前記半導体レーザ素子から射出される前記レーザ光の遅軸方向と光学的に等価な方向であるものとしても構わない。
In the above configuration,
The first direction is a direction optically equivalent to the fast axis direction of the laser light emitted from the semiconductor laser element,
The second direction may be a direction optically equivalent to a slow axis direction of the laser light emitted from the semiconductor laser element.
本発明のレーザシート光源装置によれば、CANタイプの半導体レーザ素子を複数並べた光源を使用してレーザシートを形成する場合において、レーザシートの強度が不均一となることを抑制しつつ、当該レーザシートの幅を拡大することができる。 According to the laser sheet light source device of the present invention, in the case where a laser sheet is formed using a light source in which a plurality of CAN type semiconductor laser elements are arranged, while suppressing the intensity of the laser sheet from becoming uneven, The width of the laser sheet can be increased.
実施形態のレーザシート光源装置につき、図面を参照して説明する。なお、各図において図面の寸法比と実際の寸法比は必ずしも一致しない。また、各実施形態で図示している半導体レーザ素子や光学系の数はあくまで一例である。 A laser sheet light source device according to an embodiment will be described with reference to the drawings. In each of the drawings, the dimensional ratio in the drawings does not always match the actual dimensional ratio. Further, the numbers of semiconductor laser elements and optical systems shown in each embodiment are merely examples.
(第一実施形態)
[PIVの概要]
第一実施形態におけるレーザシート光源装置1は、PIV(Particle Image Velocimetry)の光源に使用される。まず初めに図1を参照してPIVの概要について説明する。
(First embodiment)
[Overview of PIV]
The laser sheet
図1に示すように、レーザシート光源装置1は、シート状のレーザ光LSを射出する。以下、シート状のレーザ光LSを「レーザシートLS」と呼ぶ。
As shown in FIG. 1, the laser sheet
図1では、レーザシート光源装置1に含まれる複数の半導体レーザ素子(詳細は後述)が並ぶ方向をy方向とし、レーザシート光源装置1に含まれる平凹シリンドリカルレンズ(詳細は後述)の光軸と平行な方向をz方向とし、y方向及びz方向に直交する方向をx方向としている。なお、x方向が「第一の方向」に対応し、y方向が「第二の方向」に対応する。
In FIG. 1, the direction in which a plurality of semiconductor laser elements (details will be described later) included in the laser sheet
レーザシートLSは、x方向に一定の幅を有し、y方向に拡がりつつ進行する光である。なお図1では、レーザシートLSのx方向の幅の図示を省略している。一例として、レーザシートLSのx方向の幅は、1mmである。またレーザシートLSは、レーザシート光源装置1からz方向に少なくとも1〜2m離れた領域において、y方向に0.5m〜2m程度の幅を有している。すなわち、この領域においては、レーザシートLSのy方向の幅はx方向の幅と比較して極めて大きい。
The laser sheet LS is light that has a certain width in the x direction and travels while spreading in the y direction. In FIG. 1, illustration of the width of the laser sheet LS in the x direction is omitted. As an example, the width of the laser sheet LS in the x direction is 1 mm. The laser sheet LS has a width of about 0.5 m to 2 m in the y direction in a region at least 1 to 2 m away from the laser sheet
計測対象の流体には、トレーサ粒子12が混入されている。なお、図1では、流体自体は図示していないが、所定の流体内に多数のトレーサ粒子12が混入されており、この流体に対してレーザシートLSが照射された状況において、当該レーザシートLSが照射された領域内に位置しているトレーサ粒子12の一部のみが図示されている。トレーサ粒子12は、一例として、ポリスチレン等の樹脂からなる微小粒子、水及びオイルを噴霧化した微小な液滴、プラスチック製の微小粒子、煙等である。レーザシート光源装置1から射出されたレーザシートLSが、流体内のトレーサ粒子12を照射すると、散乱光が生成される。
撮影装置14は、トレーサ粒子12からの散乱光を撮影し、撮影した画像を画像処理装置16に出力する。なお、一例として撮影装置14は1秒間に1000フレームの画像を撮影する。画像処理装置16は、入力された画像を基に、流体の速度を算出する。なお、流体の速度の算出方法は既知の技術であるため(例えば上記の特許文献1及び特許文献2を参照)、本明細書では説明を省略する。
The
[構成]
続いて、レーザシート光源装置1の構成について説明する。図2は、第一実施形態のレーザシート光源装置1を−x方向にみたときの模式図である。なお図2では、レーザシート光源装置1の内部の構成を示している。
[Constitution]
Subsequently, the configuration of the laser sheet
レーザシート光源装置1は、複数の半導体レーザ素子3、複数の平凸シリンドリカルレンズ5、及び平凹シリンドリカルレンズ7を有する。
The laser sheet
半導体レーザ素子3は、CANパッケージ(一例として、金属製のパッケージ)に取り付けられた半導体レーザ素子である。即ち、半導体レーザ素子3は、CANタイプの半導体レーザ素子である。図3は、一つの半導体レーザ素子3から射出されるレーザ光Lを示す模式図である。
The
図3に示すように、半導体レーザ素子3は、x方向及びy方向の双方に拡がりつつ進行するレーザ光Lを射出する。即ち、レーザ光Lは、x方向及びy方向の双方に発散する。またレーザ光Lは、y方向に比べてx方向に大きく発散する。即ち、レーザ光Lのx方向における発散角は、y方向における発散角に比べて大きい。つまり、x方向が「速軸方向」に対応し、y方向が「遅軸方向」に対応する。なお図3では、レーザ光Lのy方向における発散角を角度θとしている。
As shown in FIG. 3, the
図2に戻って、半導体レーザ素子3について説明を続ける。半導体レーザ素子(31、32、33、34)は、y方向に関して互いに異なる位置に配置されている。半導体レーザ素子(31、32、33、34)は、光射出面(31A、32A、33A、34A)が後述の平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して傾斜するように配置されている。より具体的には、各半導体レーザ素子3は、レーザ光Lの主光線(例えばL1、L4)が後述の平凹シリンドリカルレンズ7に向かって進行するほど平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに近付くように配置されている。なお、以下では、半導体レーザ素子(31、32、33、34)を総称して「半導体レーザ素子3」と記載することがある。
Returning to FIG. 2, the description of the
なお、本明細書において、「主光線」とは、レーザ光Lのうち最も光強度の高い光線を指す。また、「半導体レーザ素子3の光射出面」とは、半導体レーザ素子3がレーザ光Lを射出する面であり、主光線に垂直な面を指す。
In this specification, the “principal ray” refers to a ray having the highest light intensity among the laser beams L. The “light emitting surface of the
また、図2では便宜的に半導体レーザ素子31から射出されたレーザ光Lの主光線L1、及び、半導体レーザ素子34から射出されたレーザ光Lの主光線L4のみを一点鎖線で示し、半導体レーザ素子(32、33)から射出されたレーザ光Lの主光線の図示を省略している。
In FIG. 2, only the principal ray L1 of the laser light L emitted from the
続いて、図2及び図4を参照して、平凸シリンドリカルレンズ5及び平凹シリンドリカルレンズ7について説明する。図4は、半導体レーザ素子31、半導体レーザ素子31に対応する平凸シリンドリカルレンズ5、及び平凹シリンドリカルレンズ7を−y方向にみたときの模式図である。
Subsequently, the plano-convex
平凸シリンドリカルレンズ5は、円柱の側面の一部を切り出した形状を有するレンズである。上述したように、レーザシート光源装置1は、複数の平凸シリンドリカルレンズ5を有し、各平凸シリンドリカルレンズ5は各半導体レーザ素子3に対応して配置されている。各平凸シリンドリカルレンズ5は、対応する半導体レーザ素子3から射出されたレーザ光Lを、平行光LPに変換する。なお、本明細書において、「平行光」とは、特定の方向(本実施形態では、x方向)に一定の幅を有して進行する光である。即ち、「平行光」とは、特定の平面(本実施形態では、yz平面)に平行に進行する光である。
The plano-convex
図4に示すように、平凸シリンドリカルレンズ5は、レーザ光Lを、x方向に一定の幅(一例として、1mm)を有するように変換する。なお、図示を省略するが、他の半導体レーザ素子(32、33、34)から射出されたレーザ光Lも、対応する平凸シリンドリカルレンズ5により、x方向に一定の幅(一例として、1mm)を有するように変換される。
As shown in FIG. 4, the plano-convex
一方、図2に示すように、平凸シリンドリカルレンズ5は、レーザ光Lのy方向における発散を保持する。即ち、平凸シリンドリカルレンズ5は、レーザ光Lのy方向における発散角θ(図2、図3参照)を保持する。
On the other hand, as shown in FIG. 2, the plano-convex
このように、平凸シリンドリカルレンズ5は、各半導体レーザ素子3から射出されるレーザ光Lを、x方向に一定の幅(一例として、1mm)を有し、y方向に拡がりつつ進行する光に変換する。なお、平凸シリンドリカルレンズ5が「第一光学系」に対応する。
As described above, the plano-convex
平凹シリンドリカルレンズ7は、図2に示すように、平凸シリンドリカルレンズ5から射出された平行光LPのy方向における幅を拡大する。即ち、平凹シリンドリカルレンズ7は、入射された平行光LPのy方向における発散角を拡大する。一方、平凹シリンドリカルレンズ7は、図4に示すように、平行光LPのx方向における幅(一例として、1mm)を保持する。即ち、平凹シリンドリカルレンズ7は、平行光LPのx方向における発散角(本実施形態では、0度)を拡大しない。
As shown in FIG. 2, the plano-concave
このように、平凹シリンドリカルレンズ7は、入射された各平行光LPに対し、x方向における幅を維持しつつ、y方向における幅を拡大する。なお、平凹シリンドリカルレンズ7が「第二光学系」に対応する。
As described above, the plano-concave
平凹シリンドリカルレンズ7は、平凸シリンドリカルレンズ5から射出された平行光LPが入射する入射面7A、変換後の平行光LPを射出する射出面7Bを含む。図2に示すように、y方向に隣り合う平行光LPは、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで重なり合っている。
The plano-concave
平行光LPは、平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bから射出された後、y方向に隣り合う平行光LPと重なり合って、レーザシートLSを形成する。レーザシートLSは、レーザシート光源装置1の外側へと射出される。
The parallel light LP is emitted from the
[半導体レーザ素子の傾斜]
続いて、図5を参照して、半導体レーザ素子(31、32、33、34)の光射出面(31A、32A、33A、34A)の傾斜について説明する。なお、説明の都合上、図5では、y方向に隣り合う平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで初めて重なり合う場合を図示している。また、図5において、各レーザ光Lの主光線を一点鎖線で示している。
[Inclination of semiconductor laser element]
Next, with reference to FIG. 5, the inclination of the light emitting surface (31A, 32A, 33A, 34A) of the semiconductor laser device (31, 32, 33, 34) will be described. For convenience of description, FIG. 5 shows a case where the parallel light LPs adjacent in the y direction overlap for the first time on the
図5に示すように、半導体レーザ素子3から平凹シリンドリカルレンズ7までの距離をD1、半導体レーザ素子3の間隔をP1とする。なお、距離D1は、半導体レーザ素子3がレーザ光Lを射出する射出点Qと、平凹シリンドリカルレンズ7の中心Oとがz方向に離間する距離を表している。このとき、半導体レーザ素子(31、32)の光射出面(31A、32A)が平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7B(即ち、平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して直交する平面)に対して傾斜する角度(α1、α2)は、以下の式(1)を満たす。
D1・tan{(θ/2)+α1}+D1・tan{(θ/2)−α2}>P1 ・・・式(1)
As shown in FIG. 5, the distance from the
D 1 · tan {(θ / 2) + α 1 } + D 1 · tan {(θ / 2) −α 2 }> P 1 Equation (1)
式(1)の左辺において、第一項は、半導体レーザ素子31に対応するレーザ光L及び平行光LPがz方向に距離D1だけ進行したとき、平行光LPのうち最もy方向側(即ち、紙面下側)を進行する光と、半導体レーザ素子31とがy方向に離間する距離を表している。また、第二項は、半導体レーザ素子32に対応するレーザ光L及び平行光LPがz方向に距離D1だけ進行したとき、平行光LPのうち最も−y方向側(即ち、紙面上側)を進行する光と、半導体レーザ素子32とがy方向に離間する距離を表している。
In the left-hand side of equation (1), paragraph, when the laser beam L and the parallel light LP corresponding to the
仮に角度(α1、α2)が式(1)を満たさない場合、半導体レーザ素子(31、32)から射出されたレーザ光Lが平凹シリンドリカルレンズ5によって変換された後の平行光(LP、LP)は、半導体レーザ素子3からz方向に距離D1だけ離れた地点で初めて重なり合い、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aでは重ならない。
If the angles (α 1 , α 2 ) do not satisfy Expression (1), the parallel light (LP) after the laser light L emitted from the semiconductor laser elements (31, 32) is converted by the plano-concave
同様に、半導体レーザ素子(32、33)の光射出面(32A、33A)が平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して傾斜する角度(α2、α3)は、以下の式(2)を満たす。
D1・tan{(θ/2)+α2}+D1・tan{(θ/2)+α3}>P1 ・・・式(2)
Similarly, the angles (α 2 , α 3 ) at which the light exit surfaces (32A, 33A) of the semiconductor laser elements (32, 33) are inclined with respect to the
D 1 · tan {(θ / 2) + α 2 } + D 1 · tan {(θ / 2) + α 3 }> P 1 Equation (2)
同様に、半導体レーザ素子(33、34)の光射出面(33A、34A)が平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して傾斜する角度(α3、α4)は、以下の式(3)を満たす。
D1・tan{(θ/2)−α3}+D1・tan{(θ/2)+α4}>P1 ・・・式(3)
Similarly, angles (α 3 , α 4 ) at which the light emission surfaces (33A, 34A) of the semiconductor laser elements (33, 34) are inclined with respect to the
D 1 · tan {(θ / 2) −α 3 } + D 1 · tan {(θ / 2) + α 4 }> P 1 Equation (3)
なお、図5を参照して式(1)から(3)について説明したが、図2の場合(即ち、平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7に入射する前に、y方向に隣り合う平行光LPと重なり合う場合)においても、当該式(1)から(3)を満たす。
Although the expressions (1) to (3) have been described with reference to FIG. 5, in the case of FIG. 2 (that is, before the parallel light LP enters the plano-concave
なお、図5に示すように、半導体レーザ素子(31、32)の光射出面(31A、32A)が平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して傾斜する角度(α1、α2)を比較すると、角度α1は角度α2よりも大きい。また、半導体レーザ素子(33、34)の光射出面(33A、34A)が平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して傾斜する角度(α3、α4)を比較すると、角度α4は角度α3よりも大きい。即ち、半導体レーザ素子3が凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAからy方向または−y方向に離れるほど、光射出面は、平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して大きく傾斜する。
As shown in FIG. 5, the angles (α 1 , α 2 ) at which the light emitting surfaces (31A, 32A) of the semiconductor laser elements (31, 32) are inclined with respect to the emitting
[作用効果]
続いて、図6及び図7を参照して、本実施形態のレーザシート光源装置1による作用効果について説明する。説明の都合上、初めに参考例のレーザシート光源装置について図6を参照して説明する。
[Effects]
Subsequently, with reference to FIGS. 6 and 7, the operation and effect of the laser sheet
図6(a)は、参考例のレーザシート光源装置の構成を示す模式図である。参考例のレーザシート光源装置は、半導体レーザ素子3、及び平凹シリンドリカルレンズ7を有する。なお、図6(a)では図示を省略しているが、参考例のレーザシート光源装置は、半導体レーザ素子3と平凹シリンドリカルレンズ7との間に、半導体レーザ素子3から射出されたレーザ光Lを平行光LPに変換する平凸シリンドリカルレンズ(例えば、図2の平凸シリンドリカルレンズ5)を有する。
FIG. 6A is a schematic diagram illustrating a configuration of a laser sheet light source device of a reference example. The laser sheet light source device of the reference example includes a
図6(a)に示すように、参考例のレーザシート光源装置では、本実施形態のレーザシート光源装置1と異なり、各平行光LPは互いに重なり合うことなく平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aに入射する。即ち、各平行光LPは、他の平行光LPの影響を受けることなく平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aに入射する。そのため、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aに入射する光の強度は、y座標に応じて大きく変動する。
As shown in FIG. 6A, in the laser sheet light source device of the reference example, unlike the laser sheet
図6(b)に、図6(a)のA−A線で各平行光LPを切断したときの各平行光LPの強度を示す。なお、A−A線は、y方向に平行であり、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aを二分する線である。図6(b)に示すように、半導体レーザ素子3の個数分(図6(a)では、5個)、強度に鋭いピークが現れる。その結果、平凹シリンドリカルレンズ7から射出される平行光LPの強度も、y座標に応じて大きく変動する。
FIG. 6B shows the intensity of each parallel light LP when each parallel light LP is cut along the line AA in FIG. 6A. The AA line is a line that is parallel to the y direction and bisects the
図6(c)に、図6(a)のB−B線で各平行光LPを切断したときの各平行光LPの強度を示す。図6(c)に示すように、平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7から射出された後においても、強度の変動は大きい。
FIG. 6C shows the intensity of each parallel light LP when each parallel light LP is cut along the line BB in FIG. 6A. As shown in FIG. 6C, even after the parallel light LP is emitted from the plano-concave
以上のように、参考例のレーザシート光源装置では、y座標に応じて強度が大きく変動する平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aに入射する。その結果、平凹シリンドリカルレンズ7から射出される平行光LPの強度も、y座標に応じて大きく変動する。そのため、y座標に応じて強度にバラつきが生じたレーザシートLSが形成される。発明が解決しようとする課題の欄で説明したように、レーザシートLSの強度にバラつきが生じると、PIVの測定結果の精度が低下するという問題がある。
As described above, in the laser sheet light source device of the reference example, the parallel light LP whose intensity varies greatly according to the y coordinate is incident on the
これに対し、本実施形態のレーザシート光源装置1によれば、各平行光LPは、y方向に隣り合う平行光LPと重なり合った状態で平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aに入射する(図2参照)。そのため、本実施形態のレーザシート光源装置1では、参考例のレーザシート光源装置に比べ、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aに入射する光の強度の変動が小さい。
On the other hand, according to the laser sheet
図7(a)に、図2のC−C線で各平行光LPを切断したときの各平行光LPの強度を示す。なお、C−C線は、y方向に平行であり、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aを二分する線である。また、図7(a)では、各平行光LPが重なり合った状態の強度を実線で示し、1つの半導体レーザ素子3から射出されたレーザ光Lが平凸シリンドリカルレンズ5により変換された後の平行光LPの強度を破線で示している。
FIG. 7A shows the intensity of each parallel light LP when each parallel light LP is cut along the line CC in FIG. The CC line is a line that is parallel to the y direction and bisects the
図7(a)に示すように、強度の変動は、参考例の図6(b)に比べて小さい。即ち、本実施形態のレーザシート光源装置1によれば、強度の変動が比較的小さい状態で平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aに入射する。そのため、平凹シリンドリカルレンズ7から射出される平行光LPにおいても、強度の変動が小さくなる結果、レーザシートLSの強度のバラつきを抑制できる。
As shown in FIG. 7A, the fluctuation of the intensity is smaller than that of FIG. 6B of the reference example. That is, according to the laser sheet
図7(b)に、図2のD−D線でレーザシートLSを切断したときのレーザシートLSの強度を示す。なお図7(b)では、レーザシートLSの強度を実線で示し、1つの半導体レーザ素子3から射出されたレーザ光Lが平凸シリンドリカルレンズ5及び平凹シリンドリカルレンズ7により変換された後の平行光LPの強度を破線で示している。図7(b)に示すように、レーザシートLSの強度の変動は、参考例の図6(c)に比べて小さい。
FIG. 7B shows the strength of the laser sheet LS when the laser sheet LS is cut along the line DD in FIG. In FIG. 7B, the intensity of the laser sheet LS is indicated by a solid line, and the laser light L emitted from one
以上のように、本実施形態のレーザシート光源装置1によれば、参考例に比べて強度が均一なレーザシートLSを形成できる。
As described above, according to the laser sheet
なお、半導体レーザ素子3の配置間隔(即ち、図5のP1)を小さくすることにより、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで、y方向に隣り合うレーザ光LPを重ねることができる、とも思われる。しかし、本実施形態のレーザシート光源装置1は、CANタイプの半導体レーザ素子3を複数有する。上記のようにCANタイプの半導体レーザ素子3はCANパッケージに取り付けられていることから、当該半導体レーザ素子3を小さな間隔で配置することは物理的に困難である。
In addition, by reducing the arrangement interval of the semiconductor laser elements 3 (that is, P 1 in FIG. 5), it is possible to overlap the laser beams LP adjacent in the y direction on the
一例として、半導体レーザ素子3のy方向における幅は9mmであり、図2の場合において、半導体レーザ素子3を隙間なく並べたとしても、半導体レーザ素子3から射出されるレーザ光Lには、少なくとも9mmの間隔が生じてしまう。そのため、半導体レーザ素子3の配置間隔を可能な限り小さくしたとしても、レーザ光Lの間隔は未だ大きく、平行光LPの間隔も大きくなる結果、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで、y方向に隣り合うレーザ光LPを重なり合わせることはできない。
As an example, the width of the
これに対し、本実施形態のレーザシート光源装置1によれば、各平行光LPは、主光線が平凹シリンドリカルレンズ7に向かって進行するほど平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに近付くように傾斜する。これにより、y方向に隣り合う平行光LPの間隔を狭くすることができるため、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで隣り合う平行光LPを重ねることが可能となる。即ち、本実施形態のレーザシート光源装置1によれば、平凹シリンドリカルレンズ7を用いてレーザシートLSの幅を拡大するにあたり、レーザシートLSの強度が不均一となることを抑制できる。
On the other hand, according to the laser sheet
(第二実施形態)
[構成]
続いて、第二実施形態のレーザシート光源装置20について説明する。第二実施形態のレーザシート光源装置20は、第一実施形態のレーザシート光源装置1と比較して、平凸シリンドリカルレンズ5に代わり凸レンズを有する点で異なる。以下、第二実施形態について第一実施形態と異なる点について、図8を参照して説明する。
(Second embodiment)
[Constitution]
Subsequently, a laser sheet
図8は、第二実施形態のレーザシート光源装置20の構成を示す模式図である。レーザシート光源装置20は、半導体レーザ素子3、凸レンズ21、及び平凹シリンドリカルレンズ7を有する。図8に示すように、レーザシート光源装置20は、半導体レーザ素子3と同数の凸レンズ21を有しており、各凸レンズ21は、各半導体レーザ素子3に対応して配置されている。
FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a configuration of the laser sheet
図8に示すように、各凸レンズ21は、各半導体レーザ素子3から射出される各レーザ光Lを、y方向に一定の幅(一例として、3mm)を有して進行する光に変換する。また、図示を省略するが、半導体レーザ素子(31、32、33、34)、凸レンズ21、及び平凹シリンドリカルレンズ7を−y方向にみたとき、第一実施形態の図4と同様の状態となっている。即ち、凸レンズ21は、−y方向にみたとき、第一実施形態の平凸シリンドリカルレンズ5と同様に、z方向に突き出す曲面を有する。また、凸レンズ21は、半導体レーザ素子3から射出されるレーザ光Lを、x方向に一定の幅(一例として、1mm)を有して進行する光に変換する(第一実施形態の図4参照)。
As shown in FIG. 8, each
このように、凸レンズ21は、各レーザ光Lを、x方向及びy方向に一定の幅を有して進行する平行光LPに変換する。なお、第二実施形態において、凸レンズ21が「第一光学系」に対応し、平凹シリンドリカルレンズ7が「第二光学系」に対応する。
As described above, the
図8に示すように、第二実施形態においても、第一実施形態と同様に、半導体レーザ素子(31、32、33、34)は、光射出面(31A、32A、33A、34A)が平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して傾斜するように配置されている。また、y方向に隣り合う平行光LPは、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで重なり合っている。
As shown in FIG. 8, also in the second embodiment, similarly to the first embodiment, the semiconductor laser elements (31, 32, 33, 34) have light emitting surfaces (31A, 32A, 33A, 34A) which are flat. It is disposed so as to be inclined with respect to the
[半導体レーザ素子の傾斜]
続いて、図9を参照して、第二実施形態における半導体レーザ素子(31、32、33、34)の光射出面(31A、32A、33A、34A)の傾斜について説明する。なお、説明の都合上、図9では、y方向に隣り合う平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで初めて重なり合う場合を図示している。
[Inclination of semiconductor laser element]
Next, with reference to FIG. 9, the inclination of the light emitting surface (31A, 32A, 33A, 34A) of the semiconductor laser device (31, 32, 33, 34) in the second embodiment will be described. For convenience of explanation, FIG. 9 shows a case where the parallel light LPs adjacent in the y direction overlap for the first time on the
図9に示すように、凸レンズ21から平凹シリンドリカルレンズ7までの距離をD2、凸レンズ21の間隔をP2、凸レンズ21から射出される平行光LPのy方向における幅をSとする。このとき、半導体レーザ素子(31、32)の光射出面(31A、32A)が平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して傾斜する角度(α1、α2)は、以下の式(4)を満たす。
D2・tanα1−D2・tanα2>P2−S ・・・式(4)
As shown in FIG. 9, the distance from the
D 2 · tan α 1 -D 2 · tan α 2 > P 2 -S Equation (4)
式(4)の左辺において、第一項は、半導体レーザ素子31に対応するレーザ光LPがz方向に距離D2だけ進行したとき、当該平行光LPがy方向に進行した距離を表している。第二項は、半導体レーザ素子32に対応するレーザ光LPがz方向に距離D2だけ進行したとき、当該平行光LPがy方向に進行した距離を表している。
In the left-hand side of equation (4), paragraph, when the laser beam LP corresponding to the
仮に角度(α1、α2)が式(4)を満たさない場合、半導体レーザ素子(31、32)から射出されたレーザ光Lが凸レンズ21によって変換された後の平行光(LP、LP)は、凸レンズ21からz方向に距離D2だけ離れた地点で初めて重なり合い、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aでは重ならない。
If the angles (α 1 , α 2 ) do not satisfy Expression (4), the parallel light (LP, LP) after the laser light L emitted from the semiconductor laser elements (31, 32) is converted by the
同様に、半導体レーザ素子(32、33)の光射出面(32A、33A)が平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して傾斜する角度(α2、α3)は、以下の式(5)を満たす。
D2・tanα2+D2・tanα3>P2−S ・・・式(5)
Similarly, the angles (α 2 , α 3 ) at which the light emission surfaces (32A, 33A) of the semiconductor laser elements (32, 33) are inclined with respect to the
D 2 · tan α 2 + D 2 · tan α 3 > P 2 -S Equation (5)
同様に、半導体レーザ素子(33、34)の光射出面(33A、34A)が平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して傾斜する角度(α3、α4)は、以下の式(6)を満たす。
D2・tanα4−D2・tanα3>P2−S ・・・式(6)
Similarly, angles (α 3 , α 4 ) at which the light emission surfaces (33A, 34A) of the semiconductor laser elements (33, 34) are inclined with respect to the
D 2 · tan α 4 -D 2 · tan α 3 > P 2 -S Equation (6)
なお、図9を参照して式(4)から(6)について説明したが、図8の場合(即ち、平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7に入射する前に、y方向に隣り合う平行光LPと重なり合う場合)においても、当該式(4)から(6)を満たす。よって、第二実施形態のレーザシート光源装置20によっても、第一実施形態のレーザシート光源装置1と同様にレーザシートLSの強度のバラつきを抑制できる。
Although equations (4) to (6) have been described with reference to FIG. 9, in the case of FIG. 8 (that is, before the parallel light LP enters the plano-concave
また、第二実施形態においても、第一実施形態と同様に、角度α1は角度α2よりも大きく、また、角度α4は角度α3よりも大きい。即ち、半導体レーザ素子3が平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAからy方向または−y方向に離れるほど、半導体レーザ素子3の光射出面は、平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bに対して大きく傾斜する。
Also in the second embodiment, like the first embodiment, the angle alpha 1 is larger than the angle alpha 2, also the angle alpha 4 is greater than the angle alpha 3. That is, as the
(第三実施形態)
[構成]
続いて、第三実施形態のレーザシート光源装置30について説明する。第三実施形態のレーザシート光源装置30は、第一実施形態のレーザシート光源装置1と比較して、平凸シリンドリカルレンズ5に代わり、二つの平凸シリンドリカルレンズを有する点で異なる。以下、第三実施形態について第一実施形態と異なる点について、図10を参照して説明する。
(Third embodiment)
[Constitution]
Next, a laser sheet
図10は、第三実施形態のレーザシート光源装置30の構成を示す模式図である。レーザシート光源装置30は、半導体レーザ素子3、平凸シリンドリカルレンズ35、平凸シリンドリカルレンズ37、平凹シリンドリカルレンズ7を有する。
FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a configuration of the laser sheet
図10に示すように、半導体レーザ素子(31、32、33、34)の光射出面(31A、32A、33A、34A)は、平凹シリンドリカルレンズ7の射出面7Bと平行である。即ち、当該光射出面(31A、32A、33A、34A)は、当該射出面7Bに対して傾斜していない。
As shown in FIG. 10, the light emitting surfaces (31A, 32A, 33A, 34A) of the semiconductor laser elements (31, 32, 33, 34) are parallel to the emitting
平凸シリンドリカルレンズ35及び平凸シリンドリカルレンズ37は、第一実施形態の平凸シリンドリカルレンズ5と同様に、円柱の側面の一部を切り出した形状を有するレンズである。図10及び図11を参照して、平凸シリンドリカルレンズ35及び平凸シリンドリカルレンズ37について説明する。図11は、半導体レーザ素子3、平凸シリンドリカルレンズ35、平凸シリンドリカルレンズ37、及び平凹シリンドリカルレンズ7を、−y方向にみたときの模式図である。
Like the plano-convex
平凸シリンドリカルレンズ35は、図10に示すように、各半導体レーザ素子3から射出されるレーザ光Lのy方向における発散を保持する。また、平凸シリンドリカルレンズ35は、図11に示すように、各半導体レーザ素子3から射出されたレーザ光Lを、x方向に一定の幅(一例として、1mm)を有するように変換する。このように、平凸シリンドリカルレンズ35は、各レーザ光Lを、x方向に発散せず、かつ、y方向に発散する平行光LPに変換する。
As shown in FIG. 10, the plano-convex
平凸シリンドリカルレンズ37は、図10に示すように、平凸シリンドリカルレンズ35から射出された各平行光LPを、y方向に一定の幅(一例として、3mm)を有するように変換する。また、平凸シリンドリカルレンズ37は、変換後の各平行光LPを、平凸シリンドリカルレンズ37の焦点fに向かうように集光する。
As shown in FIG. 10, the plano-convex
なお、図10では、平凸シリンドリカルレンズ37の焦点fを説明するために、二本の破線を図示している。仮に平凹シリンドリカルレンズ7が存在しなかった場合、半導体レーザ素子(31、32)から射出されたレーザ光Lの主光線は、当該破線で示された光路上を進行する。
In FIG. 10, two broken lines are shown in order to explain the focal point f of the plano-convex
また、平凸シリンドリカルレンズ37は、図11に示すように、平行光LPのx方向における幅(一例として、1mm)を保持する。即ち、平凸シリンドリカルレンズ37は、平行光LPのx方向における発散角(本実施形態では、0度)を拡大しない。
Further, as shown in FIG. 11, the plano-convex
なお、図10に示すように、第三実施形態においても、第一実施形態及び第二実施形態と同様に、y方向に隣り合う平行光LPは、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで重なり合っている。
As shown in FIG. 10, in the third embodiment, as in the first embodiment and the second embodiment, the parallel light LPs adjacent in the y direction overlap on the
また、第三実施形態において、平凸シリンドリカルレンズ35が「第一凸型シリンドリカルレンズ」に対応し、平凸シリンドリカルレンズ37が「第二凸型シリンドリカルレンズ」に対応する。また、平凸シリンドリカルレンズ35及び平凸シリンドリカルレンズ37の双方が、「第一光学系」に対応し、平凹シリンドリカルレンズ7が「第二光学系」に対応する。
In the third embodiment, the plano-convex
[平行光LPの傾斜]
図10に示すように、平凸シリンドリカルレンズ37から射出された平行光LPは、主光線が平凹シリンドリカルレンズ7に向かって進行するほど当該平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに近付くように傾斜している。以下、図12を参照して、平行光LPの傾斜について説明する。なお、説明の都合上、図12は、y方向に隣り合う平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで初めて重なり合う場合を図示している。
[Inclination of parallel light LP]
As shown in FIG. 10, the parallel light LP emitted from the plano-convex
図12に示すように、平凸シリンドリカルレンズ37から平凹シリンドリカルレンズ7までの距離をD3、半導体レーザ素子3の間隔をP1、平凸シリンドリカルレンズ37から射出される平行光LPのy方向における幅をSとする。また、半導体レーザ素子(31、32、33、34)から射出されたレーザ光Lが平凸シリンドリカルレンズ(35、37)によって変換された後の平行光LPを、「半導体レーザ素子(31、32、33、34)に対応する平行光LP」と呼ぶ。
As shown in FIG. 12, the distance from the plano-convex
このとき、半導体レーザ素子(31、32)に対応する平行光LPが、平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して傾斜する角度(α1、α2)は、以下の式(7)を満たす。
D3・tanα1−D3・tanα2>P1−S ・・・式(7)
At this time, the angle (α 1 , α 2 ) at which the parallel light LP corresponding to the semiconductor laser element (31, 32) is inclined with respect to the optical axis OA of the plano-concave
D 3 · tan α 1 -D 3 · tan α 2 > P 1 -S Equation (7)
同様に、半導体レーザ素子(32、33)に対応する平行光LPが、平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して傾斜する角度(α2、α3)は、以下の式(8)を満たす。
D3・tanα1+D3・tanα2>P1−S ・・・式(8)
Similarly, the angle (α 2 , α 3 ) at which the parallel light LP corresponding to the semiconductor laser element (32, 33) is inclined with respect to the optical axis OA of the plano-concave
D 3 · tan α 1 + D 3 · tan α 2 > P 1 -S Equation (8)
同様に、半導体レーザ素子(33、34)に対応する平行光LPが、平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して傾斜する角度(α3、α4)は、以下の式(9)を満たす。
D3・tanα4−D3・tanα3>P1−S ・・・式(9)
Similarly, the angle (α 3 , α 4 ) at which the parallel light LP corresponding to the semiconductor laser element (33, 34) is inclined with respect to the optical axis OA of the plano-concave
D 3 · tan α 4 -D 3 · tan α 3 > P 1 -S Equation (9)
上記式(7)、(8)、(9)は、それぞれ第二実施形態の式(4)、(5)、(6)と同等である。よって、第三実施形態のレーザシート光源装置30によっても、第一実施形態のレーザシート光源装置1と同様にレーザシートLSの強度のバラつきを抑制できる。さらに、第三実施形態のレーザシート光源装置30によれば、半導体レーザ素子(31、32、33、34)を傾斜する必要がない。そのため、半導体レーザ素子(31、32、33、34)を容易に固定できるとともに、レーザシート光源装置30のパッケージを小さくすることが可能となる。なお、図12を参照して式(7)から(9)について説明したが、図10の場合(即ち、平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7に入射する前に、y方向に隣り合う平行光LPと重なり合う場合)においても、当該式(7)から(9)を満たす。
Equations (7), (8), and (9) are equivalent to equations (4), (5), and (6) of the second embodiment, respectively. Therefore, the laser sheet
また、第三実施形態においても、第一実施形態及び第二実施形態と同様に、角度α1は角度α2よりも大きく、また、角度α4は角度α3よりも大きい。即ち、半導体レーザ素子3が平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OA(図示略)からy方向または−y方向に離れるほど、当該半導体レーザ素子3に対応する平行光LPは、平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して大きく傾斜する。
Also in the third embodiment, similarly to the first embodiment and the second embodiment, the angle alpha 1 is larger than the angle alpha 2, also the angle alpha 4 is greater than the angle alpha 3. That is, as the
(第四実施形態)
[構成]
続いて、第四実施形態のレーザシート光源装置40について説明する。第四実施形態のレーザシート光源装置40は、第一実施形態のレーザシート光源装置1と比較して、平凸シリンドリカルレンズ5に代わり、凸レンズ及び反射ミラーを有する点で異なる。以下、第四実施形態について第一実施形態と異なる点について、図13を参照して説明する。なお、図13及び次の図14では、図示の都合上、反射ミラーに入射する光線と、反射ミラーから射出した光線の角度が必ずしも一致していないが、これらはあくまで模式的に図示されたものである。
(Fourth embodiment)
[Constitution]
Next, a laser sheet
図13は、第四実施形態のレーザシート光源装置40の構成を示す模式図である。レーザシート光源装置40は、半導体レーザ素子3、凸レンズ41、反射ミラー9、及び平凹シリンドリカルレンズ7を有する。レーザシート光源装置40は、半導体レーザ素子3と同数の凸レンズ41及び反射ミラー9を有しており、各凸レンズ41及び各反射ミラー9は、各半導体レーザ素子3に対応して配置されている。
FIG. 13 is a schematic diagram illustrating a configuration of a laser sheet
図13に示すように、凸レンズ41は、半導体レーザ素子3から射出されるレーザ光Lを、z方向に一定の幅(一例として、3mm)を有するように変換する。また、図示を省略するが、凸レンズ41は、各レーザ光Lを、x方向に一定の幅(一例として、1mm)を有するように変換する。このように、凸レンズ41は、各レーザ光Lを、x方向及びz方向に発散しない平行光LPに変換する。
As shown in FIG. 13, the
反射ミラー9は、凸レンズ41から射出された平行光LPを反射して平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aに入射させる。図13に示すように、反射ミラー(91、92、93、94)は、反射面(91A、92A、93A、94A)が平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して互いに異なる角度をなすように配置されている。即ち、各反射ミラー9は、反射面が互いに非平行となるように配置されている。
The reflecting
なお、図13に示すように、第四実施形態においても、第一実施形態から第三実施形態と同様に、y方向に隣り合う平行光LPは、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで重なり合っている。
Note that, as shown in FIG. 13, in the fourth embodiment, as in the first to third embodiments, the parallel light LPs adjacent in the y direction overlap on the
また、第四実施形態において、凸レンズ41が「コリメータレンズ」に対応し、凸レンズ41及び反射ミラー9の双方が、「第一光学系」に対応し、平凹シリンドリカルレンズ7が「第二光学系」に対応する。また、第四実施形態において、x方向が「第一の方向」に対応し、y方向が「第二の方向」に対応する。x方向は、半導体レーザ素子3から射出されるレーザ光Lの速軸方向と光学的に等価な方向である。y方向は、半導体レーザ素子3から射出されるレーザ光Lの遅軸方向と光学的に等価な方向である。
In the fourth embodiment, the
[平行光LPの傾斜]
図13に示すように、反射ミラー9により反射後の各平行光LPは、主光線(図示略)が平凹シリンドリカルレンズ7に向かって進行するほど当該平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに近付くように傾斜している。以下、図14を参照して、平行光LPの傾斜について説明する。なお、説明の都合上、図14では、y方向に隣り合う平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで初めて重なり合う場合を図示している。
[Inclination of parallel light LP]
As shown in FIG. 13, each parallel light LP reflected by the
図14に示すように、反射ミラー(91、92、93、94)から平凹シリンドリカルレンズ7までの距離を(D4、D5、D6、D7)、反射ミラー9のy方向における間隔をP3、平行光LPのz方向における幅をSとする。また、半導体レーザ素子(31、32、33、34)から射出されたレーザ光Lがレンズ41により変換後、反射ミラー9により反射された後の平行光LPを、「半導体レーザ素子(31、32、33、34)に対応する平行光LP」と呼ぶ。
As shown in FIG. 14, the distance from the reflecting mirror (91, 92, 93, 94) to the plano-concave
このとき、半導体レーザ素子(31、32)に対応する平行光LPが、平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して傾斜する角度(α1、α2)は、以下の式(10)を満たす。
D4・tanα1−D5・tanα2>P3−S ・・・式(10)
At this time, the angle (α 1 , α 2 ) at which the parallel light LP corresponding to the semiconductor laser element (31, 32) is inclined with respect to the optical axis OA of the plano-concave
D 4 · tan α 1 -D 5 · tan α 2 > P 3 -S Equation (10)
同様に、半導体レーザ素子(32、33)に対応する平行光LPが、平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して傾斜する角度(α2、α3)は、以下の式(11)を満たす。
D5・tanα2+D6・tanα3>P3−S ・・・式(11)
Similarly, the angle (α 2 , α 3 ) at which the parallel light LP corresponding to the semiconductor laser element (32, 33) is inclined with respect to the optical axis OA of the plano-concave
D 5 · tan α 2 + D 6 · tan α 3 > P 3 -S Equation (11)
同様に、半導体レーザ素子(33、34)に対応する平行光LPが、平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して傾斜する角度(α3、α4)は、以下の式(12)を満たす。
D7・tanα4−D6・tanα3>P3−S ・・・式(12)
Similarly, the angles (α 3 , α 4 ) at which the parallel light LP corresponding to the semiconductor laser elements (33, 34) is inclined with respect to the optical axis OA of the plano-concave
D 7 · tan α 4 -D 6 · tan α 3 > P 3 -S Equation (12)
上記式(10)、(11)、(12)は、それぞれ第二実施形態の式(4)、(5)、(6)と同等である。よって、第四実施形態のレーザシート光源装置40によっても、第一実施形態のレーザシート光源装置1と同様にレーザシートLSの強度のバラつきを抑制できる。さらに、第四実施形態のレーザシート光源装置40によれば、第三実施形態と同様に、半導体レーザ素子3を傾斜する必要がないため、半導体レーザ素子3を容易に固定できるとともに、レーザシート光源装置40のパッケージを小さくすることが可能となる。なお、図14を参照して式(10)から(12)について説明したが、図13の場合(即ち、平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7に入射する前に、y方向に隣り合う平行光LPと重なり合う場合)においても、当該式(10)から(12)を満たす。
The above equations (10), (11) and (12) are respectively equivalent to the equations (4), (5) and (6) of the second embodiment. Therefore, the laser sheet
また、第四実施形態においても、第一実施形態及から第三実施形態と同様に、角度α1は角度α2よりも大きく、また、角度α4は角度α3よりも大きい。即ち、反射ミラー9が平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAからy方向または−y方向に離れて位置するほど、当該反射ミラー9により反射された平行光LPは、平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに対して大きく傾斜する。
Also in the fourth embodiment, similarly to the third embodiment from the first embodiment及, the angle alpha 1 is larger than the angle alpha 2, also the angle alpha 4 is greater than the angle alpha 3. In other words, as the
第四実施形態のレーザシート光源装置40によれば、反射ミラー9の間隔P3を小さくすることにより、反射後の平行光LPの間隔(即ち、反射ミラー9の間隔P3)を、反射前の平行光LPの間隔(即ち、半導体レーザ素子3の間隔)に比べて小さくすることができる。これにより、反射ミラー(91、92、93、94)の反射面(91A、92A、93A、94A)が平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAとなす角(α1、α2、α3、α4)を第一実施形態から第三実施形態における(α1、α2、α3、α4)に比べて小さくすることができる。
According to the laser sheet
[別実施形態]
以下、別実施形態につき説明する。
[Another embodiment]
Hereinafter, another embodiment will be described.
〈1〉上述した各実施形態のレーザシート光源装置(1、20、30、40)では、各平行光LPは、主光線が平凹シリンドリカルレンズ7に向かって進行するほど当該平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAに近付くように傾斜している(図2、図6、図8、図11参照)。しかし、これは一例であり、一部の平行光LPにおいて、主光線が平凹シリンドリカルレンズ7に向かって進行するほど当該平凹シリンドリカルレンズ7の光軸OAから離れるように傾斜しても構わない。より一般的には、隣り合う平行光LPが平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで重なり合うように、一方の平行光LPの主光線が他方の平行光LPの主光線に対して傾斜していれば構わない。
<1> In the laser sheet light source device (1, 20, 30, 40) of each of the above-described embodiments, the parallel light LP is such that as the principal ray travels toward the plano-concave
〈2〉各実施形態のレーザシート光源装置(1、20、30、40)では、y方向に隣り合う平行光(LP、LP)が平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで重なり合うが、これに限らない。即ち、y方向に隣り合う平行光(LP、LP)のうちの一部の平行光(LP、LP)において、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで重なり合っていなくても構わない。換言すると、y方向に隣り合う平行光(LP、LP)のうち、少なくとも一部の平行光(LP、LP)において、平凹シリンドリカルレンズ7の入射面7Aで重なり合っていれば構わない。
<2> In the laser sheet light source device (1, 20, 30, 40) of each embodiment, the parallel light (LP, LP) adjacent in the y direction overlaps on the
〈3〉各実施形態のレーザシート光源装置(1、20、30、40)では、平行光LPのy方向における発散角を拡大するレンズとして、平凹シリンドリカルレンズ7を使用したが、両凹シリンドリカルレンズを使用しても構わない。また、複数の平凹シリンドリカルレンズからなる平凹シリンドリカルレンズアレイを使用しても構わない。また、z方向に平凹シリンドリカルレンズ7を複数配置しても構わない。即ち、平行光LPのy方向における発散角を拡大可能なレンズであれば、何れのレンズを使用しても構わない。
<3> In the laser sheet light source device (1, 20, 30, 40) of each embodiment, the plano-concave
〈4〉第一実施形態及び第三実施形態において、半導体レーザ素子3から射出されたレーザ光Lを平行光LPに変換するレンズとして平凸シリンドリカルレンズ(5、35)を使用したが、これに限らない。即ち、平行光LPに変換可能なレンズであれば、何れのレンズを使用しても構わない。
<4> In the first and third embodiments, a plano-convex cylindrical lens (5, 35) is used as a lens for converting the laser light L emitted from the
〈5〉各実施形態のレーザシート光源装置(1、20、30、40)は、PIVの光源に使用されると説明したが、これに限らず、例えばレーザシートLSを照射する照明装置や、レーザシートLSを利用して物体の形状等を計測する計測装置にも使用可能である。 <5> The laser sheet light source device (1, 20, 30, 40) of each embodiment has been described as being used for the light source of the PIV. However, the present invention is not limited to this. The present invention can also be used for a measuring device that measures the shape and the like of an object using the laser sheet LS.
1 : レーザシート光源装置
3(31、32、33、34):半導体レーザ素子
31A、32A、33A、34A:光射出面
5 : 平凸シリンドリカルレンズ
7 : 平凹シリンドリカルレンズ
21 : 凸レンズ
35、37 : 平凸シリンドリカルレンズ
9(91、92、93、94):反射ミラー
91A、92A、93A、94A:反射面
L : レーザ光
L1、L4 : 主光線
LP : 平行光
LS : レーザシート
1: laser sheet light source device 3 (31, 32, 33, 34):
Claims (8)
複数の前記半導体レーザ素子から射出された各レーザ光を、少なくとも第一の方向に一定の幅を有する平行光に変換する第一光学系と、
前記平行光が入射される入射面を含み、前記平行光の、前記第一の方向に直交する第二の方向における幅を拡大する第二光学系と、を有し、
前記平行光は、前記第二の方向に関して互いに異なる位置から前記第二光学系の前記入射面に向かって進行し、
前記第二の方向に隣り合う前記平行光は、前記第二光学系の前記入射面で重なり合うことを特徴とするレーザシート光源装置。 A plurality of CAN laser diodes;
A first optical system that converts each laser light emitted from the plurality of semiconductor laser elements into parallel light having a certain width in at least a first direction,
A second optical system that includes an incident surface on which the parallel light is incident, and expands the width of the parallel light in a second direction orthogonal to the first direction,
The parallel light travels from different positions with respect to the second direction toward the incident surface of the second optical system,
The parallel sheet light adjacent to the second direction is overlapped on the incident surface of the second optical system.
前記平行光が前記第二の方向に関して前記光軸から離れるほど、前記平行光の主光線が前記光軸に対して傾斜する角度が大きいことを特徴とする請求項2に記載のレーザシート光源装置。 The principal ray of the parallel light of at least a part of the parallel light is inclined with respect to the optical axis so as to be closer to the optical axis of the second optical system toward the incident surface of the second optical system. ,
3. The laser sheet light source device according to claim 2, wherein, as the parallel light is further away from the optical axis with respect to the second direction, an angle at which the principal ray of the parallel light is inclined with respect to the optical axis is larger. 4. .
前記第二の方向に隣り合う前記半導体レーザ素子において、一方の前記半導体レーザ素子の光射出面が他方の前記半導体レーザ素子の光射出面に対して傾斜していることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザシート光源装置。 The semiconductor laser device is arranged at different positions with respect to the second direction,
2. The semiconductor laser device adjacent to the second direction, wherein a light emitting surface of one of the semiconductor laser devices is inclined with respect to a light emitting surface of the other semiconductor laser device. 4. The laser sheet light source device according to any one of items 1 to 3.
前記半導体レーザ素子から射出された前記レーザ光を、前記第一の方向に一定の幅を有するように変換する第一凸型シリンドリカルレンズと、
前記凸型シリンドリカルレンズから射出された前記レーザ光を、前記第二の方向に一定の幅を有するように変換する第二凸型シリンドリカルレンズと、を含み、
前記第二凸型シリンドリカルレンズは、前記第二の方向に関して互いに異なる位置から前記レーザ光を入射され、入射された前記レーザ光を変換後、前記第二光学系の前記入射面に向かって集光することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザシート光源装置。 The first optical system,
A first convex cylindrical lens that converts the laser light emitted from the semiconductor laser element to have a certain width in the first direction;
A second convex cylindrical lens that converts the laser light emitted from the convex cylindrical lens to have a certain width in the second direction,
The second convex cylindrical lens receives the laser light from different positions with respect to the second direction, converts the incident laser light, and condenses the laser light toward the incident surface of the second optical system. The laser sheet light source device according to claim 1, wherein:
前記半導体レーザ素子から射出された前記レーザ光を、前記平行光に変換するコリメータレンズと、
複数の前記半導体レーザ素子に対応して配置され、前記コリメータレンズにより変換後の前記平行光を反射して前記第二光学系の前記入射面に入射させる複数の反射ミラーと、を含み、
前記反射ミラーは前記第二の方向に関して互いに異なる位置に配置され、
前記第二の方向に隣り合う前記反射ミラーにおいて、一方の前記反射ミラーの反射面が他方の前記反射ミラーの反射面に対して傾斜していることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザシート光源装置。 The first optical system,
A collimator lens that converts the laser light emitted from the semiconductor laser element into the parallel light,
A plurality of reflecting mirrors arranged corresponding to the plurality of semiconductor laser elements and reflecting the converted parallel light by the collimator lens to be incident on the incident surface of the second optical system,
The reflecting mirrors are arranged at positions different from each other with respect to the second direction,
The reflection mirror adjacent to the second direction, wherein the reflection surface of one reflection mirror is inclined with respect to the reflection surface of the other reflection mirror. 3. The laser sheet light source device according to claim 1.
前記第二の方向は、前記半導体レーザ素子から射出される前記レーザ光の遅軸方向と光学的に等価な方向であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のレーザシート光源装置。 The first direction is a direction optically equivalent to the fast axis direction of the laser light emitted from the semiconductor laser element,
The laser sheet light source according to any one of claims 1 to 7, wherein the second direction is a direction optically equivalent to a slow axis direction of the laser light emitted from the semiconductor laser element. apparatus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016098042A JP6677073B2 (en) | 2016-05-16 | 2016-05-16 | Laser sheet light source device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016098042A JP6677073B2 (en) | 2016-05-16 | 2016-05-16 | Laser sheet light source device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017208384A JP2017208384A (en) | 2017-11-24 |
JP6677073B2 true JP6677073B2 (en) | 2020-04-08 |
Family
ID=60416399
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016098042A Active JP6677073B2 (en) | 2016-05-16 | 2016-05-16 | Laser sheet light source device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6677073B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102064247B1 (en) | 2018-01-30 | 2020-02-11 | 엘에스산전 주식회사 | Inverter and method for controlling thereof |
KR102026983B1 (en) | 2018-03-29 | 2019-09-30 | 두산중공업 주식회사 | System and method for monitoring contaminants in a fluid passing through a pipe in a gas turbine |
CN110988390B (en) * | 2019-12-26 | 2023-12-22 | 中国航空工业集团公司沈阳空气动力研究所 | Sheet light device suitable for PIV measurement |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08285648A (en) * | 1995-04-18 | 1996-11-01 | Toshiba Corp | Flow meter |
JP2004064066A (en) * | 2002-06-07 | 2004-02-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Laser annealing device |
JP5469483B2 (en) * | 2010-03-02 | 2014-04-16 | 株式会社フォトロン | Fluid analysis apparatus and fluid analysis method |
JP2015153889A (en) * | 2014-02-14 | 2015-08-24 | 三菱電機株式会社 | laser combining optical device |
-
2016
- 2016-05-16 JP JP2016098042A patent/JP6677073B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017208384A (en) | 2017-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20190056481A1 (en) | Scanning Optical System And Radar | |
KR102004576B1 (en) | System and method of measuring geometric characteristics of object | |
JP6677073B2 (en) | Laser sheet light source device | |
JP7355171B2 (en) | Optical device, distance measuring device using the same, and moving object | |
EP2908517A1 (en) | Laser beam-combining optical invention | |
KR101247444B1 (en) | Collimating lens structures | |
CN104597700A (en) | Light output apparatus and image display system | |
JP2014240782A (en) | Measurement apparatus | |
JPWO2018147453A1 (en) | Scanning optical system and laser radar device | |
KR101329487B1 (en) | System and method for performing optical navigation using a compact optical element | |
US11047674B2 (en) | Method and apparatus for measuring the height of a surface | |
KR102631210B1 (en) | Faceted mirrors for EUV projection lithography and illumination optical units containing such faceted mirrors | |
JP2005156733A (en) | Beam condensing lens | |
JP6279907B2 (en) | Image pickup head and three-dimensional shape measuring apparatus | |
JP2012026998A (en) | Focal point three-dimensional coordinate measurement method and device using discrete divergent pencil-of-rays group | |
US9977155B2 (en) | Microscope apparatus | |
CN208921064U (en) | A kind of laser camera and its optical imaging system | |
JP2009251381A (en) | Laser irradiation device | |
JP5430510B2 (en) | Laser processing equipment | |
JP6376412B2 (en) | Laser sheet light source device | |
JP6570938B2 (en) | System and method for measuring geometric features of an object | |
JP6763180B2 (en) | Light source device | |
TWI595445B (en) | Anti-noise three dimensional scanning system | |
JP2014048192A (en) | Object detection device and information acquisition device | |
JP2017173717A (en) | Projector |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190312 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200225 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6677073 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |