JP5732789B2 - Nozzle printing device - Google Patents
Nozzle printing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5732789B2 JP5732789B2 JP2010205219A JP2010205219A JP5732789B2 JP 5732789 B2 JP5732789 B2 JP 5732789B2 JP 2010205219 A JP2010205219 A JP 2010205219A JP 2010205219 A JP2010205219 A JP 2010205219A JP 5732789 B2 JP5732789 B2 JP 5732789B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- nozzle
- tip
- derivatives
- flow rate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 15
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 13
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 5
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000292 Polyquinoline Polymers 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000011365 complex material Substances 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 3
- VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 2
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical class N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 150000001893 coumarin derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 2
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M rubidium fluoride Chemical compound [F-].[Rb+] AHLATJUETSFVIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGQSLSMAEVWNPU-YTEMWHBBSA-N 1,2-bis[(e)-2-phenylethenyl]benzene Chemical class C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 NGQSLSMAEVWNPU-YTEMWHBBSA-N 0.000 description 1
- SHXCHSNZIGEBFL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole;zinc Chemical compound [Zn].C1=CC=C2SC=NC2=C1 SHXCHSNZIGEBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylbut-2-enedinitrile Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C#N)=C(C#N)C1=CC=CC=C1 VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical class C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJWRRBADQOOFSF-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2OC([Zn])=NC2=C1 Chemical compound C1=CC=C2OC([Zn])=NC2=C1 AJWRRBADQOOFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXYHZIYEDDINQH-UHFFFAOYSA-N C1=CNC2=C3C=NN=C3C=CC2=C1 Chemical class C1=CNC2=C3C=NN=C3C=CC2=C1 UXYHZIYEDDINQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000284156 Clerodendrum quadriloculare Species 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- XZCJVWCMJYNSQO-UHFFFAOYSA-N butyl pbd Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC=CC=2)O1 XZCJVWCMJYNSQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N caesium oxide Chemical compound [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001942 caesium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- HFXKQSZZZPGLKQ-UHFFFAOYSA-N cyclopentamine Chemical class CNC(C)CC1CCCC1 HFXKQSZZZPGLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUIWZLHUNCCYBL-UHFFFAOYSA-N decacyclene Chemical compound C12=C([C]34)C=CC=C4C=CC=C3C2=C2C(=C34)C=C[CH]C4=CC=CC3=C2C2=C1C1=CC=CC3=CC=CC2=C31 CUIWZLHUNCCYBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N gamma-Phenylpyridine Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=NC=C1 JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940083761 high-ceiling diuretics pyrazolone derivative Drugs 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenyl-4-[4-(n-phenylanilino)phenyl]aniline Chemical class C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 DCZNSJVFOQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N p-quinodimethane Chemical compound C=C1C=CC(=C)C=C1 NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical class C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIZIRKROSLGMPL-UHFFFAOYSA-N phenoxazin-1-one Chemical compound C1=CC=C2N=C3C(=O)C=CC=C3OC2=C1 FIZIRKROSLGMPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOMHBFAJZRZNQD-UHFFFAOYSA-N phenoxazone Natural products C1=CC=C2OC3=CC(=O)C=CC3=NC2=C1 UOMHBFAJZRZNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 150000004033 porphyrin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical class O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001952 rubidium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CWBWCLMMHLCMAM-UHFFFAOYSA-M rubidium(1+);hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+].[Rb+] CWBWCLMMHLCMAM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical class C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L strontium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Sr+2] FVRNDBHWWSPNOM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001637 strontium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000247 superabsorbent polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003518 tetracenes Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 150000001651 triphenylamine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/165—Prevention or detection of nozzle clogging, e.g. cleaning, capping or moistening for nozzles
- B41J2/16517—Cleaning of print head nozzles
- B41J2/16535—Cleaning of print head nozzles using wiping constructions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/32—Stacked devices having two or more layers, each emitting at different wavelengths
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
本発明はノズルプリンティング装置およびそのメンテナンス方法に関する。 The present invention relates to a nozzle printing apparatus and a maintenance method thereof.
基板などの被塗布体の所定の位置にインキを塗布する装置のひとつとして、ノズルプリンティング装置がある。ノズルプリンティング装置は、液柱状のインキを吐出するノズルを備え、このノズルからインキを吐出しつつ、ノズルの下方に配置される被塗布体とノズルとを相対移動することによって、所定のパターンで被塗布体上にインキを塗布することができる。このようなノズルプリンティング装置を用いることによって、たとえば表示装置の画素として機能する多数の有機EL(Electro Luminescence)素子を、基板上の所定の位置に微細に作り込むことができる。 There is a nozzle printing apparatus as one of apparatuses that apply ink to a predetermined position of a substrate such as a substrate. The nozzle printing apparatus includes a nozzle that ejects liquid columnar ink. While ejecting ink from the nozzle, the object to be coated and the nozzle disposed below the nozzle are moved relative to each other, thereby covering the object in a predetermined pattern. Ink can be applied on the coated body. By using such a nozzle printing device, for example, a large number of organic EL (Electro Luminescence) elements that function as pixels of a display device can be finely formed at predetermined positions on the substrate.
ノズルプリンティング装置は、被塗布体にインキを塗布するさい、液柱状のインキを吐出し続けるが、他方、被塗布体にインキを塗布しないときにまでインキを吐出し続ける必要はない。たとえば被塗布体へのインキの塗布を完了した後、被塗布体の入れ換えを行う間、インキの吐出を停止することがある。そして、被塗布体の入れ換えが完了すると再度インキの吐出を開始し、被塗布体にインキを塗布する。 The nozzle printing apparatus continues to eject liquid columnar ink when applying ink to the object to be coated, but does not need to continue to eject ink until no ink is applied to the object to be coated. For example, after completing the application of the ink to the coated body, the ink ejection may be stopped while the coated body is replaced. Then, when the replacement of the coated body is completed, the ink discharge is started again, and the ink is coated on the coated body.
図2はノズルから液柱状のインキを吐出している状態から、インキの吐出を停止し、さらにインキの吐出を再開したときのノズルおよびインキの状態を模式的に示す図である。図2(1)に示すように、インキが正常に吐出されている状態では、液柱状のインキが吐出されている。インキの吐出を停止すると、図2(2)に示すようにノズルの先端にインキが付着する。ノズルの先端に付着したインキは、時間経過とともに乾燥し、その濃度および粘度が高くなる。とくにインキの吐出の停止から再開までの時間が長くなると、インキの濃度および粘度の上昇が顕著になる。その結果として、インキの吐出を再開したとしても、図2(3)に示すように液柱状のインキがノズルから吐出されないことがある。図2(3)に示すような状態でインキが吐出されると、意図したとおりにインキを塗布することができないという問題がある。 FIG. 2 is a diagram schematically showing the state of the nozzle and the ink when the ink discharge is stopped and the ink discharge is restarted from the state where the liquid columnar ink is discharged from the nozzle. As shown in FIG. 2A, in the state where ink is normally ejected, liquid columnar ink is ejected. When the ink discharge is stopped, the ink adheres to the tip of the nozzle as shown in FIG. The ink adhering to the tip of the nozzle dries with time, and its concentration and viscosity increase. In particular, when the time from the stop of ink discharge to the restart thereof becomes longer, the increase in ink density and viscosity becomes remarkable. As a result, even if the ink ejection is resumed, the liquid columnar ink may not be ejected from the nozzle as shown in FIG. When ink is ejected in the state shown in FIG. 2 (3), there is a problem that the ink cannot be applied as intended.
このような問題を解決するために、特許文献1に記載のノズルプリンティング装置では、インキの塗布を行わない間、加熱されたインキ保管液にノズルの先端部を接液した状態でノズルを保管している。このようにノズルの先端部をインキ保管液に接液することにより、保管時のインキの濃度および粘度の上昇を防止している。 In order to solve such a problem, the nozzle printing apparatus described in Patent Document 1 stores the nozzle in a state where the tip of the nozzle is in contact with the heated ink storage liquid while the ink is not applied. ing. In this way, the tip of the nozzle is in contact with the ink storage liquid, thereby preventing the ink concentration and viscosity from increasing during storage.
上述のようにインキ保管液にノズルを接液する方法では、インキ保管液がノズル内のインキに混入することによって、ノズル内のインキが汚染されるおそれがある。とくに従来の技術ではインキを加熱するため、インキの加熱によってインキの劣化が促進されることがあり、ノズル内のインキがより汚染されることがある。 As described above, in the method in which the nozzle is in contact with the ink storage liquid, the ink in the nozzle may be contaminated by mixing the ink storage liquid into the ink in the nozzle. In particular, since the ink is heated in the conventional technique, the ink deterioration may be accelerated by the heating of the ink, and the ink in the nozzle may be further contaminated.
したがって本発明の目的は、インキの汚染を防いで、ノズルの先端に付着するインキを除去することが可能なノズルプリンティング装置を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a nozzle printing apparatus capable of preventing ink contamination and removing ink adhering to the tip of the nozzle.
本発明は、有機EL素子作製用ノズルプリンティング装置であって、
所定の流量の液柱状のインキを吐出するノズルと、
インキを吸収する吸収部材をノズルの先端に近接させることにより、前記ノズルの先端に付着するインキを除去する除去手段とを有し、
前記ノズルは、前記除去手段が前記ノズルの先端に付着するインキを除去するさいに、前記除去手段が前記ノズルの先端に付着するインキを除去した後に被塗布体に供給するインキの流量よりも多い流量のインキを吐出するノズルプリンティング装置に関する。
The present invention is a nozzle printing apparatus for producing an organic EL element,
A nozzle that ejects liquid columnar ink at a predetermined flow rate;
By approaching absorbing member for absorbing the ink at the tip of the nozzle, possess a removing means for removing ink adhering to the tip of the nozzle,
The nozzle has a flow rate greater than the flow rate of ink supplied to the coated object after the removing means removes the ink adhering to the tip of the nozzle when the removing means removes the ink adhering to the tip of the nozzle. The present invention relates to a nozzle printing apparatus that discharges ink at a flow rate .
また本発明は、被塗布体に供給するインキの流量を数値「1」とすると、前記被塗布体に供給するインキの流量よりも多い前記流量は、1〜3である、前記ノズルプリンティング装置に関する。
Further, the present invention relates to the nozzle printing apparatus , wherein the flow rate greater than the flow rate of the ink supplied to the coated body is 1 to 3, where the flow rate of the ink supplied to the coated body is a numerical value “1”. .
また本発明は、前記除去手段は、前記ノズルの先端に付着するインキを除去するさいに、前記ノズルの先端と前記吸収部材とに所定の間隙をあけて、前記吸収部材をノズルの先端に近接させる、前記ノズルプリンティング装置に関する。
In the invention, it is preferable that the removing means removes the ink adhering to the tip of the nozzle, leaving a predetermined gap between the tip of the nozzle and the absorbing member, and bringing the absorbing member close to the tip of the nozzle. The present invention relates to the nozzle printing apparatus.
また本発明は、前記除去手段は、前記ノズルの先端に付着するインキを除去するさいに、前記ノズルからインキが吐出される状態において、吸収部材をノズルの先端に近接させる、前記ノズルプリンティング装置に関する。
The present invention also relates to the nozzle printing apparatus, wherein the removing means moves the absorbing member close to the tip of the nozzle when ink is ejected from the nozzle when removing the ink adhering to the tip of the nozzle. .
本発明によれば、インキの汚染を防いで、ノズルの先端に付着するインキを除去することが可能なノズルプリンティング装置を実現することができる。 According to the present invention, it is possible to realize a nozzle printing apparatus capable of preventing ink contamination and removing ink adhering to the tip of the nozzle.
本発明のノズルプリンティング装置は、所定の流量の液柱状のインキを吐出するノズルと、インキを吸収する吸収部材をノズルの先端に近接させることにより、前記ノズルの先端に付着するインキを除去する除去手段とを有する。 The nozzle printing apparatus of the present invention removes ink adhering to the nozzle tip by bringing a nozzle that ejects liquid columnar ink at a predetermined flow rate and an absorbing member that absorbs ink close to the nozzle tip. Means.
以下、図1を参照して本発明のノズルプリンティング装置およびその動作について説明する。図1はノズル11、およびノズル11から吐出されるインキ12の状態を模式的に示す図である。
Hereinafter, the nozzle printing apparatus of the present invention and its operation will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram schematically showing the state of the
まず図1(1)に示すように、インキ12が正常にノズル11から吐出されている状態では、液柱状のインキ12がノズル11から吐出される。この状態を維持したまま、ノズル11と、ノズルの下方に配置される被塗布体とを相対移動することによって、被塗布体の所定の位置にインキを塗布する。
First, as shown in FIG. 1A, in a state where the
たとえば被塗布体へのインキの塗布が完了すると、インキの塗布が完了した被塗布体を新たな被塗布体と入れ換えるが、この入れ換えのさいにノズル11からのインキ12の吐出を停止する。インキ12の吐出を停止すると、図1(2)に示すようにノズル11の先端にインキ12が付着する。
For example, when the application of the ink to the coated body is completed, the coated body on which the ink application has been completed is replaced with a new coated body, and the ejection of the
ノズル11の先端に付着したインキ12は時間経過とともに乾燥し、その濃度および粘度が高くなる。
The
被塗布体の入れ換えが完了すると、ノズル11からのインキ12の吐出を再開するが、本実施形態ではインキ12の吐出を再開する前に、前記除去手段が、ノズルの先端に付着するインキを除去する。除去手段は、図1(3)に示すようにインキを吸収する吸収部材13をノズルの先端に近接させることにより、前記ノズル11の先端に付着するインキ12を除去する。
When the replacement of the object to be coated is completed, the ejection of the
吸収部材13は、少なくともインキを吸収する部材であればよく、たとえば不織布、不織紙、多孔質材料および高吸水性高分子などによって実現され、これらのなかでも、不織布および不織紙が好ましい。
The absorbing
除去手段は、たとえば吸収部材13を移動可能に保持する保持手段を備える。この保持手段は、たとえばマニピュレータ、ロボットハンドなどによって実現される。また吸収部材13をノズルの退避位置の直下に配置し、吸収部材を必要に応じてノズルに向けて上昇させてもよく、逆にノズルを吸収部材に向けて降下してもよい。なお吸収部材13が台座などに設けられる場合には、保持手段は吸収部材が設けられた台座を保持し、この台座を移動することによって吸収部材13を移動する。
The removing unit includes a holding unit that holds the absorbing
除去手段は、吸収部材13をノズル11の先端に当接してもよいが、前記ノズル11の先端に付着するインキ12を除去するさいに、前記ノズル11の先端と前記吸収部材13とに所定の間隙をあけて、前記吸収部材13をノズル11の先端に近接させることが好ましい。吸収部材13とノズル11の先端とが最も近接するときの両者の間隔は、少なくとも吸収部材13とインキ12とが接触する間隔以下である必要があるが、2000ミクロン以下であり、好ましくは1000ミクロン以下である。なお吸収部材13とノズル11の先端とが最も近接するときの両者の間隔の下限はとくに設定されないが、位置精度や操作性の観点からは200ミクロン以上が好ましい。
The removing means may bring the absorbing
吸収部材13がたとえ柔軟な部材によって構成されたとしても、ノズル11の先端と吸収部材13との接触が多数回繰り返されると、ノズル11の先端が損傷を受けるおそれもあるが、インキの除去を行うさいにノズル11の先端と吸収部材13とに所定の間隙をあけることによって、インキを除去するさいにノズルが損傷を受けることを防ぐことができる。
Even if the absorbing
またノズル11の先端に付着するインキ12を除去するさいには、前記ノズル11からインキ12が吐出される状態において、吸収部材13をノズル11の先端に近接させることが好ましい。
Further, when removing the
インキ12の吐出が停止された状態から、インキ12が吐出される状態に移行するタイミングは、とくに限定されない。たとえば(1)インキの吐出が停止された状態において、吸収部材13をノズル11の先端に近接し、ノズル11の先端に付着するインキ12と吸収部材13とを当接させた後に、前記ノズル11からインキ12が吐出される状態に移行してもよく、また(2)ノズル11の先端に付着するインキ12と吸収部材13とを当接させる前に、予めインキ12が吐出される状態とし、その後、インキ12と吸収部材13とを当接させてもよい。
There is no particular limitation on the timing of the transition from the state where the ejection of the
インキ12の吐出を停止してから所定の時間が経過すると、ノズル11の先端に付着するインキ12の濃度および粘度が高くなるため、このようなインキ12に吸収部材13を当接したとしても、ノズル11の先端に付着するインキ12を円滑に除去することができないおそれがある。他方、ノズル11からインキ12が吐出される状態にすると、新たなインキ12が、ノズル11の先端に付着するインキと混ざり、ノズルの先端に付着するインキの濃度および粘度が低下する。上述の実施形態ではこのような状態でインキを除去することにより、インキの除去を円滑に行うことができる。
When a predetermined time elapses after the discharge of the
また前記除去手段が前記ノズル11の先端に付着するインキ12を除去するさいには、前記除去手段が前記ノズル11の先端に付着するインキ12を除去した後に被塗布体に供給するインキの流量よりも多い流量のインキを吐出することが好ましい。ここで、インキ12を除去した後に被塗布体に供給するインキの流量とは、通常、基板などの被塗布体にインキを実際に塗布するさいのインキの流量を意味する。
Further, when the removing means removes the
このように実際に塗布するさいのインキ12の流量よりも多い流量のインキ12を吐出しつつ、ノズル11の先端に付着するインキ12を除去する場合、インキ12に高い圧力が加わることによって、ノズル11の先端に付着するインキ12が吸収部材13に移動することを促進するとともに、上述したようにノズルの先端に付着するインキの濃度および粘度が低下するため、インキの除去をより円滑に行うことができる。
In this way, when the
基板などにインキ12を実際に塗布するさいのインキ12の流量を数値「1」とすると、除去手段が前記ノズル11の先端に付着するインキ12を除去するさいにノズル11から吐出されるインキ12の流量は数値1〜3であり、好ましくは数値1.2〜2である。
Assuming that the flow rate of the
インキ12と吸収部材13とを当接させている時間は、ノズル11の先端に付着したインキ12を除去できる時間であればよく、たとえば0.5秒〜20秒であり、好ましくは1秒〜5秒である。
The time for which the
インキ12の除去が終り、たとえば基板の位置合わせが終わると、インキ12の吐出を再開する。インキ12の除去が終わってから、インキ12の吐出を再開するまでの時間は短い方が好ましく、たとえば10秒以下であり、好ましくは1秒以下である。
When the removal of the
なおノズル11からインキ12が吐出される状態において、インキ12の除去をする形態では、インキ12の除去が終わった後も、そのままインキ12の吐出を続けることがある。
In the state in which the
ノズル11の先端に付着したインキ12を除去した上で、ノズル11からインキ12を吐出することによって、図1(4)に示すように、意図したとおりに液柱状のインキ12を吐出することができる。これによって意図したとおりの塗布を行うことができる。
By removing the
被塗布体へのインキ12の塗布は、ノズル11からインキ12を吐出しつつ、被塗布体とノズル11とを相対移動することにより、所定のパターンで被塗布体上にインキ12を塗布することができる。被塗布体はたとえば定盤に固着され、この定盤を所定の速度で移動させることにより、被塗布体とノズル11とを相対移動することができる。
The application of the
たとえば有機EL表示装置用の駆動基板上に、有機EL素子を構成する層となる材料を含むインキをパターン塗布することによって、ノズルプリンティング装置を使用して、複数の有機EL素子を形成することができる。 For example, a plurality of organic EL elements can be formed by using a nozzle printing device by pattern-applying an ink containing a material constituting a layer constituting an organic EL element on a driving substrate for an organic EL display device. it can.
ノズルの内径は、使用するインキや形成する薄膜の種類などによって決まる。有機EL素子の所定の層を形成するためのインキを吐出するノズル11の内径は、たとえば5ミクロン〜50ミクロンであり、好ましくは9ミクロン〜15ミクロンである。
The inner diameter of the nozzle is determined by the type of ink used and the type of thin film to be formed. The inner diameter of the
ノズルから吐出されるインキの吐出量は、形成する薄膜の膜厚、インキの濃度およびノズルと被塗布体との相対速度などによって決まる。有機EL素子の所定の層を形成するためのインキを吐出するさいには、その吐出量は、たとえば10μL/min〜200μL/minであり、好ましくは30μL/min〜100μL/minである。 The amount of ink ejected from the nozzle is determined by the film thickness of the thin film to be formed, the ink concentration, the relative speed between the nozzle and the substrate, and the like. In discharging ink for forming a predetermined layer of the organic EL element, the discharge amount is, for example, 10 μL / min to 200 μL / min, and preferably 30 μL / min to 100 μL / min.
インキの粘度は、形成する薄膜のパターニングの精度やノズルの内径などによってその最適値が設定される。有機EL素子の所定の層を形成するためのインキを吐出するさいには、インキの粘度は、たとえば1cP(0.001Pa・s)〜50cP(0.05Pa・s)であり、好ましくは3cP(0.003Pa・s)〜20cP(0.02Pa・s)である。 The optimum viscosity of the ink is set depending on the patterning accuracy of the thin film to be formed and the inner diameter of the nozzle. When ink for forming a predetermined layer of the organic EL element is ejected, the viscosity of the ink is, for example, 1 cP (0.001 Pa · s) to 50 cP (0.05 Pa · s), preferably 3 cP ( 0.003 Pa · s) to 20 cP (0.02 Pa · s).
インキの濃度は、形成する薄膜の膜厚、インキの吐出量、およびノズルと被塗布体との相対速度等によって決まる。有機EL素子の所定の層を形成するためのインキを吐出するさいには、そのインキの濃度は、たとえば1mg/mL〜50mg/mLであり、好ましくは5mg/mL〜20mg/mLである。 The density of the ink is determined by the thickness of the thin film to be formed, the amount of ink discharged, the relative speed between the nozzle and the coated body, and the like. When ink for forming a predetermined layer of the organic EL element is ejected, the concentration of the ink is, for example, 1 mg / mL to 50 mg / mL, preferably 5 mg / mL to 20 mg / mL.
ノズルから吐出されるインキの材料は、形成される薄膜の種類に応じて適宜選択される。有機EL素子の所定の層を形成するためのインキは、所定の層となる材料を所定の溶媒に溶解した液体からなる。 The material of the ink ejected from the nozzle is appropriately selected according to the type of thin film to be formed. The ink for forming the predetermined layer of the organic EL element is composed of a liquid obtained by dissolving a material to be the predetermined layer in a predetermined solvent.
有機EL素子を構成する所定の層には、たとえば陽極、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、発光層、正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層および陰極などがあげられる。以下、各層の材料について例示するが、これらの中から、ノズルプリンティング法に使用可能な材料を適宜選択して、インキを調製し、上述のノズルプリンティング装置によってインキをパターン塗布することにより、各層を形成することができる。なお有機EL素子が複数の所定の層から構成されている場合であっても、全ての層をノズルプリンティング装置を使用して形成する必要はない。
<正孔注入材料>
正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、および酸化アルミニウムなどの酸化物や、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、アモルファスカーボン、ポリアニリン、およびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。
Examples of the predetermined layer constituting the organic EL element include an anode, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron block layer, a light emitting layer, a hole block layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode. . Hereinafter, materials of each layer will be exemplified, but from these materials, materials that can be used for the nozzle printing method are appropriately selected, ink is prepared, and each layer is formed by applying the ink pattern with the above-described nozzle printing apparatus. Can be formed. Even when the organic EL element is composed of a plurality of predetermined layers, it is not necessary to form all the layers using a nozzle printing apparatus.
<Hole injection material>
As the hole injection material constituting the hole injection layer, oxides such as vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, and aluminum oxide, phenylamine type, starburst type amine type, phthalocyanine type, amorphous carbon, polyaniline, And polythiophene derivatives.
<正孔輸送層材料>
正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体などを挙げることができる。
<Hole transport layer material>
As the hole transport material constituting the hole transport layer, polyvinylcarbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine in a side chain or a main chain, a pyrazoline derivative, an arylamine derivative, a stilbene derivative, Triphenyldiamine derivative, polyaniline or derivative thereof, polythiophene or derivative thereof, polyarylamine or derivative thereof, polypyrrole or derivative thereof, poly (p-phenylene vinylene) or derivative thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or Examples thereof include derivatives thereof.
<発光材料>
発光層は、通常、主として蛍光及び/又はりん光を発光する有機物、または該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。なお発光層に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。高分子化合物としてポリスチレン換算の数平均分子量が103〜108の化合物を含むことが好ましい。発光層を構成する発光材料としては、例えば以下の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料を挙げることができる。
<Light emitting material>
The light emitting layer is usually formed of an organic substance that mainly emits fluorescence and / or phosphorescence, or an organic substance and a dopant that assists the organic substance. The dopant is added, for example, in order to improve the luminous efficiency and change the emission wavelength. The organic substance contained in the light emitting layer may be a low molecular compound or a high molecular compound. The polymer compound preferably contains a compound having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 10 3 to 10 8 . Examples of the light emitting material constituting the light emitting layer include the following dye materials, metal complex materials, polymer materials, and dopant materials.
(色素系材料)
色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などを挙げることができる。
(Dye material)
Examples of dye-based materials include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivative compounds, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, pyrrole derivatives, thiophene ring compounds. Pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, oxadiazole dimers, pyrazoline dimers, quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and the like.
(金属錯体系材料)
金属錯体系材料としては、例えばTb、Eu、Dyなどの希土類金属、またはAl、Zn、Be、Ir、Ptなどを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体を挙げることができ、例えばイリジウム錯体、白金錯体などの三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体などを挙げることができる。
(Metal complex materials)
Examples of metal complex materials include rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy, or Al, Zn, Be, Ir, Pt, etc. as a central metal, and oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline. Examples include metal complexes having a structure as a ligand, for example, iridium complexes, platinum complexes and other metal complexes having light emission from a triplet excited state, aluminum quinolinol complexes, benzoquinolinol beryllium complexes, benzoxazolyl zinc A complex, a benzothiazole zinc complex, an azomethylzinc complex, a porphyrin zinc complex, a phenanthroline europium complex, and the like can be given.
(高分子系材料)
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素系材料や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどを挙げることができる。
(ドーパント材料)
ドーパント材料としては、例えばペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約2nm〜200nmである。
(Polymer material)
As polymer materials, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, the above dye materials and metal complex light emitting materials are polymerized. The thing etc. can be mentioned.
(Dopant material)
Examples of the dopant material include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazolone derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like. In addition, the thickness of such a light emitting layer is usually about 2 nm-200 nm.
<電子輸送層材料>
電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、公知のものを使用でき、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などを挙げることができる。
<Electron transport layer material>
As the electron transport material constituting the electron transport layer, known materials can be used, such as oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or derivatives thereof, benzoquinone or derivatives thereof, naphthoquinone or derivatives thereof, anthraquinones or derivatives thereof, tetracyanoanthra Quinodimethane or derivatives thereof, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene or derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof, polyfluorene or derivatives thereof, etc. Can be mentioned.
これらのうち、電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体が好ましく、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス(8−キノリノール)アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。 Among these, as an electron transport material, an oxadiazole derivative, benzoquinone or a derivative thereof, anthraquinone or a derivative thereof, a metal complex of 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof, a polyquinoline or a derivative thereof, a polyquinoxaline or a derivative thereof, a polyfluorene Or a derivative thereof is preferable, and 2- (4-biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, benzoquinone, anthraquinone, tris (8-quinolinol) aluminum, and polyquinoline are further included. preferable.
<電子注入層>
電子注入層を構成する材料としては、発光層の種類に応じて最適な材料が適宜選択され、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のうちの1種類以上を含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、またはこれらの物質の混合物などを挙げることができる。アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、ハロゲン化物、および炭酸塩の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどを挙げることができる。
<Electron injection layer>
As a material constituting the electron injection layer, an optimal material is appropriately selected according to the type of the light emitting layer, and an alloy containing one or more of alkali metals, alkaline earth metals, alkali metals and alkaline earth metals, Alkali metal or alkaline earth metal oxides, halides, carbonates, mixtures of these substances, and the like can be given. Examples of alkali metals, alkali metal oxides, halides, and carbonates include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, lithium oxide, lithium fluoride, sodium oxide, sodium fluoride, potassium oxide, potassium fluoride , Rubidium oxide, rubidium fluoride, cesium oxide, cesium fluoride, lithium carbonate, and the like. Examples of alkaline earth metals, alkaline earth metal oxides, halides and carbonates include magnesium, calcium, barium, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, calcium oxide, calcium fluoride, barium oxide, Examples thereof include barium fluoride, strontium oxide, strontium fluoride, and magnesium carbonate.
インキの溶媒としては、溶質を溶解させるものであればとくに限定されず、たとえばクロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒、および水などを挙げることができる。 The solvent of the ink is not particularly limited as long as it dissolves the solute. For example, a chlorine-based solvent such as chloroform, methylene chloride, and dichloroethane, an ether-based solvent such as tetrahydrofuran, and an aromatic hydrocarbon-based solvent such as toluene and xylene. And ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and ethyl cellosolve acetate, and water.
11 ノズル
12 インキ
13 吸収部材
11
Claims (4)
所定の流量の液柱状のインキを吐出するノズルと、
インキを吸収する吸収部材をノズルの先端に近接させることにより、前記ノズルの先端に付着するインキを除去する除去手段とを有し、
前記ノズルは、前記除去手段が前記ノズルの先端に付着するインキを除去するさいに、前記除去手段が前記ノズルの先端に付着するインキを除去した後に被塗布体に供給するインキの流量よりも多い流量のインキを吐出するノズルプリンティング装置。 A nozzle printing apparatus for producing an organic EL element,
A nozzle that ejects liquid columnar ink at a predetermined flow rate;
By approaching absorbing member for absorbing the ink at the tip of the nozzle, possess a removing means for removing ink adhering to the tip of the nozzle,
The nozzle has a flow rate greater than the flow rate of ink supplied to the coated object after the removing means removes the ink adhering to the tip of the nozzle when the removing means removes the ink adhering to the tip of the nozzle. A nozzle printing device that discharges ink at a flow rate .
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010205219A JP5732789B2 (en) | 2010-09-14 | 2010-09-14 | Nozzle printing device |
KR1020137008721A KR20130108337A (en) | 2010-09-14 | 2011-09-09 | Nozzle printing device and maintenance method therefor |
PCT/JP2011/070629 WO2012036093A1 (en) | 2010-09-14 | 2011-09-09 | Nozzle printing device and maintenance method therefor |
TW100132961A TW201221367A (en) | 2010-09-14 | 2011-09-14 | Nozzle printing device and maintenance method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010205219A JP5732789B2 (en) | 2010-09-14 | 2010-09-14 | Nozzle printing device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012061377A JP2012061377A (en) | 2012-03-29 |
JP5732789B2 true JP5732789B2 (en) | 2015-06-10 |
Family
ID=45831556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010205219A Expired - Fee Related JP5732789B2 (en) | 2010-09-14 | 2010-09-14 | Nozzle printing device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5732789B2 (en) |
KR (1) | KR20130108337A (en) |
TW (1) | TW201221367A (en) |
WO (1) | WO2012036093A1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101996434B1 (en) | 2012-11-30 | 2019-07-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | Method for manufacturing organic light emitting display apparatus |
JP2015142905A (en) * | 2013-12-25 | 2015-08-06 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | Adhesive application device, cleaning method of adhesive application member, display panel manufacturing apparatus, and manufacturing method of display panel |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0948134A (en) * | 1995-08-07 | 1997-02-18 | Fuji Electric Co Ltd | Ink jet recorder |
JP2002001997A (en) * | 2000-04-19 | 2002-01-08 | Canon Inc | Waste ink absorption body, spare discharge receiving mechanism and ink-jet recording device |
JP2007230033A (en) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Fuji Xerox Co Ltd | Droplet ejection apparatus |
JP2008296113A (en) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Shibaura Mechatronics Corp | Coating apparatus |
JP2010069374A (en) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Nozzle storage device, coating device and coating method |
-
2010
- 2010-09-14 JP JP2010205219A patent/JP5732789B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-09-09 KR KR1020137008721A patent/KR20130108337A/en not_active Application Discontinuation
- 2011-09-09 WO PCT/JP2011/070629 patent/WO2012036093A1/en active Application Filing
- 2011-09-14 TW TW100132961A patent/TW201221367A/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012036093A1 (en) | 2012-03-22 |
KR20130108337A (en) | 2013-10-02 |
JP2012061377A (en) | 2012-03-29 |
TW201221367A (en) | 2012-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4775493B2 (en) | Light emitting device | |
JP4898850B2 (en) | INK JET INK FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT | |
JP6225413B2 (en) | Functional layer forming ink, ink container, ejection device, functional layer forming method, organic EL element manufacturing method | |
JP2007242272A (en) | Manufacturing method of electroluminescent element | |
JP4983890B2 (en) | Manufacturing method of organic EL element | |
JP4788828B2 (en) | Method for manufacturing light emitting device | |
JP2011176190A (en) | Light emitting device and method of manufacturing the same | |
JP5732789B2 (en) | Nozzle printing device | |
WO2011105329A1 (en) | Manufacturing method for light-emitting devices | |
JP2009238709A (en) | Method and apparatus for manufacturing organic electroluminescent element | |
JP5521930B2 (en) | Nozzle printing device | |
JP2006244828A (en) | Manufacturing method of substrate for organic thin film patterning and organic el device using the same | |
JP2001006875A (en) | Manufacture of el element | |
JP2012142365A (en) | Organic electroluminescent element and manufacturing method thereof | |
WO2020039991A1 (en) | Method for manufacturing electronic device | |
JP2011175909A (en) | Letterpress printing plate | |
JP2009266719A (en) | Manufacturing method of organic electroluminescent element, and organic electroluminescent element | |
JP5184938B2 (en) | Organic electroluminescence device and method for manufacturing the same | |
WO2011065288A1 (en) | Manufacturing method of light emitting device | |
JP4946841B2 (en) | Device manufacturing method and device | |
JP2010277700A (en) | Method of manufacturing organic electroluminescent element | |
JP2008277322A (en) | Organic el element | |
JP2011192450A (en) | Display device and method of manufacturing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130606 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140527 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150210 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150223 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150317 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150330 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |