JP5731893B2 - Imprint mold - Google Patents

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Description

本発明は、配線板の作製において、樹脂に所定のパターンを転写するインプリントモールドに関する。   The present invention relates to an imprint mold for transferring a predetermined pattern to a resin in the production of a wiring board.

ナノインプリント技術においては、製造装置の基台上に配置された樹脂に、所定のパターンを転写可能な凸部が基材の主面表面に形成されたインプリントモールドを押し付けることで、樹脂表面に所定のパターンが転写される。その後、樹脂を硬化させて樹脂層を形成し、樹脂層の凹部に金属を堆積させることで、主面表面に金属配線が設けられた配線板が製造される。   In nanoimprint technology, a resin placed on the base of a manufacturing apparatus is pressed against a resin surface by pressing an imprint mold in which a convex portion capable of transferring a predetermined pattern is formed on the main surface of the substrate. The pattern is transferred. Thereafter, the resin is cured to form a resin layer, and a metal is deposited in the concave portion of the resin layer, whereby a wiring board provided with metal wiring on the main surface is manufactured.

特開2008−287805号公報JP 2008-287805 A

近年の電子機器の小型化に伴い、リジット基板の代替として多層のフレキシブルプリント配線板が用いられることを踏まえ、配線板と配線板の主面表面に形成される金属配線の密着性のさらなる向上が求められている。
また製造装置の基台上に配置された樹脂にインプリントモールドの凸部を貫通させてビア用の凹部を形成する際に、ビア用の凹部の底部に樹脂残渣が生ずることがあった。樹脂残渣が生じたまま樹脂を硬化させて樹脂層を形成し、ビア用の凹部に金属を堆積させると、ビア層の端部に薄い樹脂層が存在することになる。その後、外部基板の金属層とビア層を接続すると、薄い樹脂層が金属層とビア層の間に介在するため、金属層とビア層の導通が悪くなるおそれがあった。そのため、ビア用の凹部底部の樹脂残渣をアッシング等により取り除く必要があった。
With the recent miniaturization of electronic equipment, multilayer printed wiring boards are used as an alternative to rigid boards, and the adhesion of metal wiring formed on the main surface of the wiring board and the wiring board is further improved. It has been demanded.
In addition, when forming a via recess by penetrating the convex portion of the imprint mold through the resin disposed on the base of the manufacturing apparatus, a resin residue may be generated at the bottom of the via recess. When a resin layer is formed by curing the resin while the resin residue is generated and a metal is deposited in the via recess, a thin resin layer exists at the end of the via layer. After that, when the metal layer and the via layer of the external substrate are connected, the thin resin layer is interposed between the metal layer and the via layer, so that the conduction between the metal layer and the via layer may be deteriorated. Therefore, it is necessary to remove the resin residue at the bottom of the recess for via by ashing or the like.

樹脂残渣を低減もしくはアッシング工程を簡略化する方法としては、インプリントモールドの凸部の頂部の表面に微小突起を設けて頂部表面を粗くするという技術が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1に開示された技術によれば、微小突起の形状が樹脂の表面に伝播して樹脂の表面が粗くなる。その結果、アッシング工程において樹脂がプラズマに曝される表面積が大きくなるため、樹脂残渣の除去が容易になるという作用効果が得られる。
しかしながら、インプリントの際に、微小突起と樹脂または外部基板が点で接触することになるため、圧力が微小突起に集中し、インプリントモールドが壊れやすくなるという問題があった。
以上より、本発明の第1の目的は、配線板と配線板に形成される金属配線の密着性の向上を図ることができるインプリントモールドを提供することにある。また、本発明の第2の目的は、インプリントによりビアを形成する際に転写パターンの樹脂残渣を低減でき、耐久性があるインプリントモールドを提供することにある。
As a method for reducing the resin residue or simplifying the ashing process, a technique has been proposed in which a fine protrusion is provided on the top surface of the convex portion of the imprint mold to roughen the top surface (see, for example, Patent Document 1). .) According to the technique disclosed in Patent Document 1, the shape of the minute protrusions propagates to the surface of the resin, and the surface of the resin becomes rough. As a result, since the surface area where the resin is exposed to the plasma in the ashing process is increased, an effect of facilitating removal of the resin residue can be obtained.
However, since the fine protrusions and the resin or the external substrate come into contact with each other at the time of imprinting, there is a problem that the pressure is concentrated on the fine protrusions and the imprint mold is easily broken.
As described above, a first object of the present invention is to provide an imprint mold capable of improving the adhesion between a wiring board and a metal wiring formed on the wiring board. A second object of the present invention is to provide a durable imprint mold that can reduce the resin residue of the transfer pattern when forming vias by imprinting.

本発明の第1の態様は、基材と、所定のパターンを転写可能とする前記基材の主面表面に形成されたパターン用凸部と、を備え、前記パターン用凸部の頂部に突起が設けられており、前記突起は、前記頂部の周縁部を一周するように形成されているインプリントモールドを要旨とする。
本発明の第2の態様は、基材と、所定のパターンを転写可能とする前記基材の主面表面に形成されたパターン用凸部と、を備え、前記パターン用凸部の頂部の周縁部の少なくとも一部に突起が設けられており、前記突起は、互いに平行に複数本形成されているインプリントモールドを要旨とする。
本発明の第3の態様は、基材と、前記基材上に形成されたパターン用凸部と、前記パターン用凸部上に形成されたビア用凸部と、を備え、前記ビア用凸部の頂部の面積がパターン用凸部の頂部よりも狭く、前記パターン用凸部の頂部及びビア用凸部の頂部に突起が形成され、前記突起は、前記頂部の周縁部を一周するように形成されているインプリントモールドを要旨とする。
本発明の第4の態様は、基材と、前記基材上に形成されたパターン用凸部と、前記パターン用凸部上に形成されたビア用凸部と、を備え、前記ビア用凸部の頂部の面積がパターン用凸部の頂部よりも狭く、前記パターン用凸部の頂部及びビア用凸部の頂部のそれぞれの周縁部の少なくとも一部に突起が形成され、前記突起は、互いに平行に複数本形成されているインプリントモールドを要旨とする。
本発明の第5の態様は、突起の長手方向に直交する断面における突起の高さ/幅が0.1以上5以下で形成されているインプリントモールドを要旨とする。
A first aspect of the present invention comprises a substrate, and a pattern projection formed on the main surface a surface of the substrate to allow transferring a predetermined pattern, on top of the pattern projection unit A protrusion is provided, and the protrusion is an imprint mold formed so as to go around the peripheral edge of the top.
A second aspect of the present invention includes a base material, and a pattern convex portion formed on the main surface of the base material capable of transferring a predetermined pattern, and a peripheral edge of a top portion of the pattern convex portion Protrusions are provided on at least a part of the part, and the protrusions are summarized as an imprint mold in which a plurality of protrusions are formed in parallel to each other.
A third aspect of the present invention includes a base material, a pattern convex portion formed on the base material, and a via convex portion formed on the pattern convex portion. The area of the top of the part is smaller than the top of the pattern convex part, and a protrusion is formed on the top part of the pattern convex part and the top part of the via convex part, and the protrusion makes a round around the peripheral part of the top part. The gist of the imprint mold is as follows.
A fourth aspect of the present invention includes a base material, a pattern convex portion formed on the base material, and a via convex portion formed on the pattern convex portion. The area of the top of the part is narrower than the top of the pattern convex part, and a protrusion is formed on at least a part of the peripheral part of each of the top part of the pattern convex part and the top part of the via convex part. The gist is an imprint mold in which a plurality of parallel prints are formed.
The fifth aspect of the present invention is summarized as an imprint mold in which the height / width of the protrusion in the cross section perpendicular to the longitudinal direction of the protrusion is 0.1 or more and 5 or less.

本発明によれば、インプリントモールドの凸部の頂部周縁部に突起を設けたことで、インプリントの際に突起の形状が樹脂の表面に伝播して樹脂の表面積が広がることで、アンカー効果により配線板と配線板に形成される金属配線の密着性が向上する。
本発明によれば、インプリントモールドの凸部の頂部周縁部に突起を設けたことで、突起により押し付けられた樹脂の厚さが薄くなり、その後の工程で容易に樹脂残渣を除去できるため、外部基板の金属層との導通を確保することができる。
本発明によれば、凸部の頂部の表面全体に亘って微小突起を設けることなく、頂部の周縁部にのみ突起を設けて頂部を平坦にしたことで、インプリントする際、凸部の頂部に加わる圧力が頂部の全体に均一に分散される。その結果、インプリントモールドが壊れにくくなるという作用効果が得られる。
According to the present invention, by providing a protrusion on the top peripheral edge of the convex portion of the imprint mold, the shape of the protrusion is propagated to the surface of the resin during imprinting, and the surface area of the resin is widened. This improves the adhesion between the wiring board and the metal wiring formed on the wiring board.
According to the present invention, by providing a protrusion on the top peripheral edge of the convex portion of the imprint mold, the thickness of the resin pressed by the protrusion is reduced, and the resin residue can be easily removed in the subsequent process. Conductivity with the metal layer of the external substrate can be ensured.
According to the present invention, when the imprint is performed, the top portion of the convex portion is flattened by providing the protrusion only on the peripheral portion of the top portion without providing the micro projections over the entire surface of the top portion of the convex portion. Is uniformly distributed throughout the top. As a result, the effect that the imprint mold is hardly broken can be obtained.

(a)は第1の実施形態にかかるインプリントモールドの斜視図、(b)は断面図である。(A) is a perspective view of the imprint mold concerning 1st Embodiment, (b) is sectional drawing. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドの上面図である。It is a top view of the imprint mold concerning a 1st embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドの断面図である。It is sectional drawing of the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドの製造方法における、基板上に光感光性樹脂を塗布する工程図である。It is process drawing which apply | coats the photosensitive resin on a board | substrate in the manufacturing method of the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドの製造方法における、樹脂層を形成する工程図である。It is process drawing which forms the resin layer in the manufacturing method of the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドの製造方法における、基板に孔を形成する工程図である。It is process drawing which forms a hole in a board | substrate in the manufacturing method of the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドの製造方法における、孔を備える基板を得る工程図である。It is process drawing which obtains the board | substrate provided with the hole in the manufacturing method of the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドの製造方法における、基板上にレジストを塗布する工程図である。It is process drawing which apply | coats a resist on a board | substrate in the manufacturing method of the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドの製造方法における、基板上に電子線レジスト層を設ける工程図である。It is process drawing which provides an electron beam resist layer on a board | substrate in the manufacturing method of the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドの製造方法における、凸部の一部に突起を形成する工程図である。It is process drawing which forms protrusion in a part of convex part in the manufacturing method of the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、樹脂にインプリントモールドを押し付ける工程図である。It is process drawing which presses an imprint mold on resin in the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、樹脂を硬化させる工程図である。It is process drawing in which resin is hardened in the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning a 1st embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、基材表面に凹部が形成された配線板を得る工程図である。It is process drawing which obtains the wiring board by which the recessed part was formed in the base-material surface in the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、配線板上に金属を堆積させる工程図である。It is process drawing which deposits a metal on a wiring board in the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、余分な金属をロール研磨により除去する工程図である。It is process drawing which removes the excess metal by the roll grinding | polishing in the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、主面表面に配線が設けられた配線板の完成図である。In the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning 1st Embodiment, it is a completion figure of the wiring board by which wiring was provided in the main surface surface. (a)は第2の実施形態にかかるインプリントモールドの上面図、(b)は断面図である。(A) is a top view of the imprint mold concerning 2nd Embodiment, (b) is sectional drawing. 第2の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、基板上に塗布された樹脂にインプリントモールドを押し付ける工程図である。It is process drawing which presses an imprint mold to resin apply | coated on the board | substrate in the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning 2nd Embodiment. 第2の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、加熱により樹脂を硬化させる工程図である。It is process drawing which hardens resin by heating in the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning a 2nd embodiment. 第2の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、基材上に凹部が形成された配線板を得る工程図である。It is process drawing which obtains the wiring board by which the recessed part was formed on the base material in the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning 2nd Embodiment. 第2の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、主面表面に金属配線が設けられた配線板を得る工程図である。In the manufacturing method of the wiring board using the imprint mold concerning 2nd Embodiment, it is process drawing which obtains the wiring board by which the metal wiring was provided in the main surface surface. 第2の実施形態にかかるインプリントモールドを用いた配線板の製造方法における、複数の配線板を積層させる工程図である。It is a process figure which laminates a plurality of wiring boards in a manufacturing method of a wiring board using an imprint mold concerning a 2nd embodiment. 実施形態の変形例にかかるインプリントモールドの断面図である。It is sectional drawing of the imprint mold concerning the modification of embodiment. 実施形態の変形例にかかるインプリントモールドの断面図である。It is sectional drawing of the imprint mold concerning the modification of embodiment. 実施形態の変形例にかかるインプリントモールドの断面図である。It is sectional drawing of the imprint mold concerning the modification of embodiment. 実施形態の変形例にかかる突起の配置パターン(二重)を示すインプリントモールドの上面図である。It is a top view of the imprint mold which shows the arrangement pattern (double) of the protrusion concerning the modification of embodiment. 実施形態の変形例にかかる突起のパターン形状(略等間隔に配置された複数の突起)を示すインプリントモールドの上面図である。It is a top view of the imprint mold which shows the pattern shape (the some protrusion arrange | positioned at substantially equal intervals) of the protrusion concerning the modification of embodiment. 実施形態の変形例にかかる突起のパターン形状(互い違いに形成された複数の突起)を示すインプリントモールドの上面図である。It is a top view of the imprint mold which shows the pattern shape (plurality of protrusions formed in a staggered manner) according to the modification of the embodiment. 実施形態の変形例にかかる突起のパターン形状(ハの字状に設けられた複数の突起)を示すインプリントモールドの上面図である。It is a top view of the imprint mold which shows the pattern shape (the some protrusion provided in the C shape) of the protrusion concerning the modification of embodiment. 実施形態の変形例にかかる突起のパターン形状(波型)を示すインプリントモールドの上面図である。It is a top view of the imprint mold which shows the pattern shape (waveform) of the protrusion concerning the modification of embodiment. 実施形態の変形例にかかる突起(一側縁部の長手方向にのみ細長い突起)の配置を示すインプリントモールドの上面図である。It is a top view of the imprint mold which shows arrangement | positioning of the processus | protrusion (protrusion elongate only to the longitudinal direction of one side edge part) concerning the modification of embodiment. 実施形態の変形例にかかる突起(短手方向にのみ細長い突起)の配置を示すインプリントモールドの上面図である。It is a top view of the imprint mold which shows arrangement | positioning of the processus | protrusion (protrusion elongate only to a transversal direction) concerning the modification of embodiment.

以下に、実施形態を挙げて本発明の説明を行うが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、図中同一の機能又は類似の機能を有するものについては、同一又は類似の符号を付して説明を省略する。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to embodiments, but the present invention is not limited to the following embodiments. In addition, about the thing which has the same function or a similar function in a figure, the same or similar code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted.

[第1の実施形態]
[インプリントモールド]
図1(a)に示すように、第1の実施形態にかかるインプリントモールド1は、基材2と、所定のパターンを転写可能とする基材2の主面表面に形成された凸部4とを備える。図1(b)に示すように、インプリントモールド1は、凸部4の頂部41の周縁部42の少なくとも一部に突起45が設けられている。本実施形態では、頂部41の長手方向の両側縁近傍にそれぞれ突起45が形成されている。突起45の長手方向に直交する断面形状は、インプリントモールド1の製造が容易という観点から凸形状をしている。
[First Embodiment]
[Imprint mold]
As shown to Fig.1 (a), the imprint mold 1 concerning 1st Embodiment is the base material 2 and the convex part 4 formed in the main surface surface of the base material 2 which can transfer a predetermined pattern. With. As shown in FIG. 1B, the imprint mold 1 is provided with a protrusion 45 on at least a part of the peripheral edge 42 of the top 41 of the protrusion 4. In the present embodiment, protrusions 45 are formed in the vicinity of both side edges of the top portion 41 in the longitudinal direction. The cross-sectional shape orthogonal to the longitudinal direction of the protrusion 45 has a convex shape from the viewpoint of easy manufacture of the imprint mold 1.

インプリントモールド1の頂部41の周縁部42に突起45を設けたことで、インプリントの際、突起45の形状が樹脂の表面に伝播して樹脂の表面積が広がる。その結果、アンカー効果により樹脂層と樹脂層の主面表面に形成される金属配線の密着性が向上する。   By providing the protrusion 45 on the peripheral edge 42 of the top 41 of the imprint mold 1, the shape of the protrusion 45 propagates to the surface of the resin during imprinting, and the surface area of the resin increases. As a result, the adhesion of the metal wiring formed on the main surface of the resin layer and the resin layer is improved by the anchor effect.

具体的には、図1(a)に示すように頂部41の長手方向の周縁部42に平行に一対の突起45を備えることが好ましい。また図2に示すように、頂部41の周縁部42を一周するように、頂部41の端部43に沿って突起45が形成されていることがより好ましい。   Specifically, as shown in FIG. 1A, it is preferable to include a pair of protrusions 45 parallel to the peripheral edge portion 42 in the longitudinal direction of the top portion 41. Further, as shown in FIG. 2, it is more preferable that the protrusion 45 is formed along the end portion 43 of the top portion 41 so as to go around the peripheral portion 42 of the top portion 41.

図1(b)に示す突起45の長手方向に直交する断面における突起45の高さ(h)/幅(w)を0.1以上5以下とすることが好ましく、0.3以上1以下とすることがさらに好ましい。インプリントの際にインプリントモールド1と樹脂層との離型性が向上するからである。またアンカー効果による樹脂層と樹脂層の主面表面に形成される金属配線の密着性が向上するからである。   The height (h) / width (w) of the protrusion 45 in the cross section orthogonal to the longitudinal direction of the protrusion 45 shown in FIG. 1B is preferably 0.1 or more and 5 or less, and is 0.3 or more and 1 or less. More preferably. This is because releasability between the imprint mold 1 and the resin layer is improved during imprinting. Moreover, it is because the adhesiveness of the metal wiring formed in the main surface surface of the resin layer and resin layer by an anchor effect improves.

インプリントモールド1の材質としては、後に説明する製造工程において、マスク材とのエッチング比が維持されるものであれば特に制限されることはない。インプリントモールド1の材質としては、例えば、石英やシリコンを用いることができる。   The material of the imprint mold 1 is not particularly limited as long as the etching ratio with the mask material is maintained in the manufacturing process described later. As a material of the imprint mold 1, for example, quartz or silicon can be used.

[インプリントモールドの製造方法]
図3に示すような、基材2上に凸部4を複数備えるインプリントモールド1の製造方法について、図4〜図10を参照しつつ説明する。
[Imprint Mold Manufacturing Method]
A method for manufacturing the imprint mold 1 including a plurality of convex portions 4 on the substrate 2 as shown in FIG. 3 will be described with reference to FIGS.

(イ)例えば石英もしくはシリコンからなる基材2を用意する。そして、図4に示すように基材2上に、基材2との選択比が確保できるマスク材料、例えば光感光性樹脂103を塗布する。その後、図5に示すようにフォトリソグラフィー法を用いて光感光性樹脂103を硬化させ、基材2上に所定の開口部3a、3b、3cを備える樹脂層3を形成する。なお、マスク材料としては光感光性樹脂103の他にも、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、金属などを用いることができる。 (A) A base material 2 made of, for example, quartz or silicon is prepared. Then, as shown in FIG. 4, a mask material capable of ensuring a selection ratio with the base material 2, for example, a photosensitive resin 103, is applied on the base material 2. Thereafter, as shown in FIG. 5, the photosensitive resin 103 is cured using a photolithography method, and the resin layer 3 having predetermined openings 3 a, 3 b, and 3 c is formed on the substrate 2. As the mask material, in addition to the photosensitive resin 103, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a metal, or the like can be used.

(ロ)図6に示すように、基材2上に設けられた樹脂層3の開口部3a、3b、3cを介してフッ素含有ガスを供給して基材2をドライエッチングする。そして、孔49a、49b、49cを形成することにより、その両脇に凸部4を形成する。その後、樹脂層3を取り除いて、図7に示すような、孔49a…49cを備える基材2を得る。なお、基材にシリコンを使った場合、孔49a…49cのエッチングには、結晶異方性エッチング液、例えば水酸化カリウム(KOH)、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)、エチレンジアミン・ピロカテコール溶液(EDP)、ヒドラジン(N・HO)などを使用しても構わない。 (B) As shown in FIG. 6, the substrate 2 is dry-etched by supplying a fluorine-containing gas through the openings 3 a, 3 b, 3 c of the resin layer 3 provided on the substrate 2. And the convex part 4 is formed in the both sides by forming hole 49a, 49b, 49c. Thereafter, the resin layer 3 is removed to obtain a base material 2 having holes 49a... 49c as shown in FIG. When silicon is used for the base material, the etching of the holes 49a... 49c is performed using a crystal anisotropic etching solution such as potassium hydroxide (KOH), tetramethylammonium hydroxide (TMAH), ethylenediamine / pyrocatechol solution ( EDP), hydrazine (N 2 H 4 .H 2 O), or the like may be used.

(ハ)図8に示すように基材2及び凸部4の表面を覆うようにレジストを塗布してレジスト層5を形成する。レジストとしては、例えばポジ型レジスト(日本ゼオン株式会社製、製品名「ZEP520-22」)を用いることができる。その後、図9に示すように電子線リソグラフィー法を用いて、凸部4の突起45が形成される箇所以外のレジスト層5に開口部5a…5dを形成する。 (C) As shown in FIG. 8, a resist is applied so as to cover the surface of the substrate 2 and the convex portion 4 to form a resist layer 5. As the resist, for example, a positive resist (manufactured by Zeon Corporation, product name “ZEP520-22”) can be used. Thereafter, as shown in FIG. 9, openings 5a... 5d are formed in the resist layer 5 other than the portions where the protrusions 45 of the protrusions 4 are formed using an electron beam lithography method.

(ニ)図10に示すように、レジスト層5の開口部5a…5dを介してフッ素含有ガスを供給して凸部4の一部をドライエッチングして突起45を形成する。その後レジスト層5を除去する。以上により図3に示すインプリントモールド1が製造される。 (D) As shown in FIG. 10, a fluorine-containing gas is supplied through the openings 5a... 5d of the resist layer 5 to dry-etch a part of the protrusions 4 to form protrusions 45. Thereafter, the resist layer 5 is removed. Thus, the imprint mold 1 shown in FIG. 3 is manufactured.

[配線板の製造方法]
図3のインプリントモールド1を用いた配線板の製造方法について図11〜図16を参照しつつ説明する。
[Method of manufacturing a wiring board]
A method for manufacturing a wiring board using the imprint mold 1 of FIG. 3 will be described with reference to FIGS.

(イ)図11に示すように基台10上に塗布された樹脂108を加熱してインプリントモールド1を押し付ける。樹脂108としては熱可塑性ポリイミドを用いることができる。その後、図12に示すように樹脂108を冷却して硬化させる。そして、インプリントモールド1を取り外すことで、図13に示すような、樹脂108が硬化した基材82の表面に凹部83が形成された配線板8が得られる。凹部83の両脇に凸部84が形成され、また凹部83の底部81の一部に断面凸形状の突起85が形成されている。 (A) As shown in FIG. 11, the resin 108 applied on the base 10 is heated to press the imprint mold 1. As the resin 108, thermoplastic polyimide can be used. Thereafter, the resin 108 is cooled and cured as shown in FIG. Then, by removing the imprint mold 1, a wiring board 8 having a recess 83 formed on the surface of the base material 82 on which the resin 108 is cured as shown in FIG. 13 is obtained. Convex portions 84 are formed on both sides of the concave portion 83, and protrusions 85 having a convex cross section are formed on part of the bottom portion 81 of the concave portion 83.

(ロ)図14に示すように、配線板8上に凹部83が埋まるように金属109を堆積させる。例えば、無電解メッキにより銅(Cu)シード層を形成した後、電解メッキにより銅(Cu)を析出させる。その後、図15に示すように、凸部84の表面と金属109の表面が、同一面になるように、余分な金属109をロール研磨により除去して配線9を形成する。ロール研磨の他にも、例えば硫酸や過酸化水素を用いたエッチングによって余分な金属109を取り除いても構わない。基台10を取り外すことで、図16に示すような、主面表面に配線9が設けられた配線板8が得られる。 (B) As shown in FIG. 14, a metal 109 is deposited on the wiring board 8 so that the recess 83 is buried. For example, after forming a copper (Cu) seed layer by electroless plating, copper (Cu) is deposited by electrolytic plating. After that, as shown in FIG. 15, the excess metal 109 is removed by roll polishing so that the surface of the convex portion 84 and the surface of the metal 109 are flush with each other, thereby forming the wiring 9. In addition to roll polishing, excess metal 109 may be removed by etching using, for example, sulfuric acid or hydrogen peroxide. By removing the base 10, a wiring board 8 having a wiring 9 provided on the surface of the main surface as shown in FIG. 16 is obtained.

配線板の製造方法によれば、インプリントモールドの凸部4の頂部に突起45を設けたことで、インプリントの際に突起45の形状が樹脂108の表面に伝播して樹脂108の表面積が広がることで、アンカー効果により配線板8と配線9との接触面積が増加する。そのため、配線板8から配線9(金属)が剥離しづらくなるという作用効果が得られる。   According to the method of manufacturing a wiring board, by providing the protrusion 45 on the top of the convex portion 4 of the imprint mold, the shape of the protrusion 45 propagates to the surface of the resin 108 during imprinting, and the surface area of the resin 108 is reduced. By spreading, the contact area between the wiring board 8 and the wiring 9 increases due to the anchor effect. Therefore, the effect that the wiring 9 (metal) becomes difficult to peel from the wiring board 8 is obtained.

配線板8と配線9の底面の接触面積を広げ、配線板8と配線9の接着強度を向上することが求められる用途としては、特に制限はないが、例えば基材としてポリイミド等を用いたフレキシブル配線板が挙げられる。   There is no particular limitation on the use for which it is required to increase the contact area between the bottom surfaces of the wiring board 8 and the wiring 9 and to improve the adhesive strength between the wiring board 8 and the wiring 9, but for example, flexible using polyimide or the like as a base material A wiring board is mentioned.

[第2の実施形態]
[インプリントモールド]
第1の実施形態にかかるインプリントモールド1は、凸部4を一段としたが、段数に制限なく、上述のインプリントモールド1の製造工程を繰り返して多段式にしても構わない。第1の実施形態との相違点を中心に説明する。第2の実施形態として、例えば図17(b)に示すように、基材2Aと、基材2A上に形成されたパターン用凸部4Aと、パターン用凸部4A上に形成されたビア用凸部6とを備え、ビア用凸部6の頂部61の面積がパターン用凸部4Aの頂部41Aよりも狭いインプリントモールド1Aとしてもよい。パターン用凸部の頂部41Aの周縁部には断面Vの字状の突起45A,ビア用頂部61の周縁部には断面Vの字状の突起65がそれぞれ形成されている。
ビア用凸部6の頂部61の形状は多角形に限定されることはないので、図17(a)に示すように、ビア用凸部の頂部61を円状とし、ビア用凸部の頂部61の周縁部に円状の突起65を形成してもよい。
[Second Embodiment]
[Imprint mold]
In the imprint mold 1 according to the first embodiment, the convex portion 4 has one stage, but the number of stages is not limited, and the above-described imprint mold 1 manufacturing process may be repeated to be a multistage type. The description will focus on the differences from the first embodiment. As a second embodiment, for example, as shown in FIG. 17B, the base 2A, the pattern convex 4A formed on the base 2A, and the via formed on the pattern convex 4A It is good also as the imprint mold 1A provided with the convex part 6, and the area of the top part 61 of the convex part 6 for vias being narrower than the top part 41A of the convex part 4A for patterns. A protrusion 45A having a V-shaped cross section is formed on the peripheral portion of the top 41A of the pattern convex portion, and a protrusion 65 having a V-shaped cross section is formed on the peripheral portion of the via top 61.
Since the shape of the top portion 61 of the via convex portion 6 is not limited to a polygon, the top portion 61 of the via convex portion is circular as shown in FIG. A circular protrusion 65 may be formed on the peripheral edge of 61.

[多層配線板の製造方法]
インプリントモールド1Aによれば、以下の工程により多層配線板38が製造される。まず(イ)図18に示すように、基台10上に塗布された樹脂108を加熱してインプリントモールド1Aを押し付ける。その後、図19に示すように樹脂108を冷却して硬化させる。そして、インプリントモールド1Aを取り外す。すると図20に示すような、樹脂108が硬化した基材82Aの表面にビア用凹部86Aと配線用凹部83Aが形成された配線板8Aが得られる。インプリントモールド1Aの突起45Aの形状が伝播されるようにして、凹部83Aの底部81Aの一部に凹部85Aが形成される。なお、ビア用凹部86Aの底部に形成された台形状の樹脂残渣88Aまたはその一部を適宜アッシング等で取り除く。ビア用頂部61の周縁部を取り囲むように突起65を配置したことにより、ビア用凹部86Aの底部に樹脂残渣の薄くなった部分を形成することができる。その後、アッシング等により台形状の樹脂残渣88Aまたはその一部を基材82Aから除去することにより、後述する配線板8Aの金属層との導通を確保することができる。
(ロ)その後、図14,図15と同様の工程を行う。そして基台10を外すことで、図21に示すような、ビア用凹部86Aと配線用凹部83Aに配線9Aが形成された配線板8Aが得られる。
(ハ)得られた配線板8A、8A、8Aを複数積層させることで、図22に示すような多層配線板38が製造される。
[Manufacturing method of multilayer wiring board]
According to the imprint mold 1A, the multilayer wiring board 38 is manufactured through the following steps. First, (a) as shown in FIG. 18, the resin 108 applied on the base 10 is heated to press the imprint mold 1A. Thereafter, as shown in FIG. 19, the resin 108 is cooled and cured. Then, the imprint mold 1A is removed. Then, as shown in FIG. 20, the wiring board 8A 1 to the via recess 86A and the wiring recess 83A is formed on the surface of the substrate 82A in which the resin 108 is cured can be obtained. A recess 85A is formed in a part of the bottom 81A of the recess 83A so that the shape of the protrusion 45A of the imprint mold 1A is propagated. The trapezoidal resin residue 88A formed on the bottom of the via recess 86A or a part thereof is appropriately removed by ashing or the like. By disposing the protrusion 65 so as to surround the peripheral portion of the via top 61, a portion where the resin residue becomes thin can be formed on the bottom of the via recess 86A. Thereafter, the resin residue 88A or part of the by ashing or the like trapezoidal by removing from the substrate 82A, it is possible to secure conduction between the metal layer of the wiring board 8A 2 which will be described later.
(B) Thereafter, the same steps as in FIGS. 14 and 15 are performed. Then, by removing the base 10, as shown in FIG 21, the wiring 9A vias recess 86A and the wiring recess 83A wiring board 8A 1 formed is obtained.
(C) A multilayer wiring board 38 as shown in FIG. 22 is manufactured by laminating a plurality of obtained wiring boards 8A 1 , 8A 2 , 8A 3 .

一般にビア用凹部を形成する際、ビア用頂部が平坦であるため、樹脂残渣も平坦になる。樹脂残渣の厚さは、樹脂物性、インプリント条件による。ところが、第2の実施形態によれば、ビア用頂部61の周縁部を取り囲むように突起65を配置したことにより、ビア用頂部が平坦な場合に比べ、突起65にかかる圧力が高くなるため、突起65に対応する樹脂の厚さが薄くなる。そのため、基板8Aから容易に台形状の樹脂残渣88Aまたはその一部を除去することができる。 In general, when forming the via recess, the resin top is flat because the via top is flat. The thickness of the resin residue depends on the resin physical properties and imprint conditions. However, according to the second embodiment, since the protrusion 65 is disposed so as to surround the peripheral portion of the via top 61, the pressure applied to the protrusion 65 is higher than when the via top is flat. The resin corresponding to the protrusion 65 becomes thinner. Therefore, it is possible to remove the resin residue 88A or part of the easily trapezoidal from the substrate 8A 1.

インプリントモールド1Aのビア用頂部61に形成された突起65の形状が樹脂の表面に伝播して樹脂残渣の表面積が広がる。そのため、仮にアッシングを行った際には、樹脂残渣がプラズマに曝される表面積が広がることで樹脂残渣の除去が容易になるという作用効果が得られる。なお、樹脂残渣が十分に少なく、ビア層と積層した基板の配線との導通が確保されるのであれば、アッシング工程は必須の工程ではなく任意の工程である。   The shape of the protrusion 65 formed on the via top 61 of the imprint mold 1A propagates to the surface of the resin, and the surface area of the resin residue increases. Therefore, when ashing is performed, an effect is obtained that the resin residue can be easily removed by increasing the surface area of the resin residue exposed to plasma. Note that the ashing process is not an essential process but an optional process as long as the resin residue is sufficiently small and conduction between the via layer and the wiring of the laminated substrate is ensured.

一般にビア用頂部の表面全体に亘って微小突起を設けて頂部表面を粗くした場合、樹脂にインプリントモールドを押し付けてインプリントする際、微小突起と樹脂が点で接触する。そのため、圧力が微小突起に集中するので、微小突起が破損しやすい。ところが、ビア用頂部61の周縁部にのみ突起65を設け、その他の頂部61の部分を平坦にすることで、インプリントする際、ビア用頂部61に加わる圧力がビア用頂部61の全体に均一に分散される。その結果、インプリントモールド1Aが壊れにくくなる。   In general, when a fine protrusion is provided over the entire top surface of the via to roughen the top surface, when the imprint mold is pressed against the resin for imprinting, the fine protrusion and the resin come into contact with each other at a point. For this reason, the pressure concentrates on the minute protrusions, and the minute protrusions are easily damaged. However, by providing the protrusion 65 only at the peripheral edge of the via top 61 and flattening the other top 61, the pressure applied to the via top 61 is uniform throughout the via top 61 when imprinting. To be distributed. As a result, the imprint mold 1A is not easily broken.

(他の実施形態)
上記のように、本発明は第1、第2の実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
第1の実施形態にかかるインプリントモールド1では、凸部4の頂部41の周縁部42に突起45を設けた。その他、図23に示す実施形態の変形例にかかるインプリントモールド1Bのように、基材2Bと、所定のパターンを転写可能とする基材2Bの主面表面に形成された凸部4Bとを備えていてもよい。凸部4Bの頂部41Bの周縁部に台形状の突起45Bが形成されている。これによりモールドの破損を防ぐことができる。
(Other embodiments)
As described above, the present invention has been described according to the first and second embodiments. However, it should not be understood that the description and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.
In the imprint mold 1 according to the first embodiment, the protrusion 45 is provided on the peripheral portion 42 of the top 41 of the convex portion 4. In addition, like the imprint mold 1B according to the modified example of the embodiment shown in FIG. 23, a base 2B and a convex portion 4B formed on the main surface of the base 2B capable of transferring a predetermined pattern are provided. You may have. A trapezoidal protrusion 45B is formed on the peripheral edge of the top 41B of the protrusion 4B. Thereby, damage to the mold can be prevented.

第1の実施形態における基材2のエッチングにおいては、基材2とマスク材のエッチング選択比を高くした。しかし、基材2とマスク材のエッチング選択比を低くし、エッチング側壁に側壁保護膜(CF系ポリマー)が形成される異方性エッチング条件とすることで図23に示すようなインプリントモールド1Bが製造される。インプリントモールド1Bは、例えば、基材2Bとしてシリコンを用い、マスク材としてシリコンとのエッチング選択比が5程度のポジ型レジスト(東京応化製、製品名「OFPR-800」等)を用い、ドライエッチングガス(SF+C+O)を供給するという条件で、上述の製造方法に準じて製造することができる。 In the etching of the base material 2 in the first embodiment, the etching selectivity between the base material 2 and the mask material was increased. However, an imprint mold 1B as shown in FIG. 23 is obtained by lowering the etching selection ratio between the base material 2 and the mask material and by setting the anisotropic etching conditions in which a side wall protective film (CF polymer) is formed on the etched side wall. Is manufactured. The imprint mold 1B uses, for example, silicon as the base material 2B and a positive resist (product name “OFPR-800” manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) having an etching selection ratio of about 5 with silicon as a mask material. the condition of supplying etching gas (SF 6 + C 4 F 8 + O 2), can be produced according to the manufacturing method described above.

図1(b)の突起45の断面形状は、長方形状に限らず、他の形状としても構わない。例えば図24に示すように断面三角形状の突起45Cとしてもよい。断面三角形状とすることで、図13に示す配線板8の凹部83の底部81に形成される突起85の断面形状が三角形状となる。
また図25に示すように断面三角形状の突起45Dと、頂部41Dの境界にVの字状の切り込み48を設けてもよい。
なお、図24のインプリントモールド1C、図25インプリントモールド1Dは、図23のインプリントモールド1Bと同様の手法を用いて製造することができる。
The cross-sectional shape of the protrusion 45 in FIG. 1B is not limited to a rectangular shape, and may be other shapes. For example, as shown in FIG. 24, a protrusion 45C having a triangular cross section may be used. By setting it as the cross-sectional triangle shape, the cross-sectional shape of the protrusion 85 formed in the bottom part 81 of the recessed part 83 of the wiring board 8 shown in FIG. 13 becomes a triangular shape.
Further, as shown in FIG. 25, a V-shaped cut 48 may be provided at the boundary between the protrusion 45D having a triangular cross section and the top 41D.
Note that the imprint mold 1C in FIG. 24 and the imprint mold 1D in FIG. 25 can be manufactured using the same method as the imprint mold 1B in FIG.

配線板8と配線9の接着強度を向上する観点からは、頂部41に形成される突起45のパターン形状を以下のようにしてもよい。例えば図26に示すように、突起45の内側に、突起45と相似形の突起48を形成してもよい。また、図27に示すように凸部4の頂部41の両側縁部に、長手方向に沿って長方形状をなす複数の突起が略等間隔に配置された突起45Fを形成してもよい。その際、図28に示すように互い違いに形成された突起45Gとしてもよいし、図29に示すように「ハ」の字状の構成単位からなる突起を複数連続して配置した突起45Hとしてもよい。さらに図30に示すように凸部4の頂部41の両側縁部に長辺方向に沿って連続する波型の突起45Iを形成してもよい。図26〜図30に示すパターンを組み合わせた形状としてもよい。   From the viewpoint of improving the adhesive strength between the wiring board 8 and the wiring 9, the pattern shape of the protrusion 45 formed on the top 41 may be as follows. For example, as shown in FIG. 26, a projection 48 similar to the projection 45 may be formed inside the projection 45. In addition, as shown in FIG. 27, protrusions 45 </ b> F in which a plurality of rectangular protrusions are arranged at substantially equal intervals along the longitudinal direction may be formed on both side edges of the top 41 of the protrusion 4. At that time, as shown in FIG. 28, the protrusions 45G may be formed alternately, or as shown in FIG. 29, the protrusion 45H may be a plurality of protrusions composed of “C” -shaped structural units arranged continuously. Good. Furthermore, as shown in FIG. 30, corrugated protrusions 45 </ b> I that are continuous along the long side direction may be formed on both side edges of the top 41 of the protrusion 4. It is good also as a shape which combined the pattern shown in FIGS.

また第1の実施形態においては、頂部41の周縁部42を一周するように、突起45を備えることとした。しかし、インプリントモールド1を樹脂に押し当てた際の圧力がかかる面内傾向によっては、例えば図31に示すように頂部41の一側縁部の長手方向にのみ細長い突起45Jを設けてもよいし、また図32に示すように短手方向にのみ細長い突起45Kを設けても構わない。   In the first embodiment, the protrusion 45 is provided so as to go around the peripheral edge 42 of the top 41. However, depending on the in-plane tendency to which pressure is applied when the imprint mold 1 is pressed against the resin, for example, an elongated protrusion 45J may be provided only in the longitudinal direction of one side edge of the top 41 as shown in FIG. In addition, as shown in FIG. 32, a long and narrow protrusion 45K may be provided only in the short direction.

なお、図26から図32に示されるそれぞれの突起48、45F…45Kの断面形状は、特に制限されず、図1(b)に示すように長方形状でもよいし、図23から図25に示すような形状でも構わない。
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態等を含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
The cross-sectional shapes of the protrusions 48, 45F,... 45K shown in FIGS. 26 to 32 are not particularly limited, and may be rectangular as shown in FIG. 1 (b), or as shown in FIGS. Such a shape may be used.
As described above, the present invention naturally includes various embodiments not described herein. Therefore, the technical scope of the present invention is defined only by the invention specifying matters according to the scope of claims reasonable from the above description.

1…インプリントモールド、2…基材、4…凸部、41…頂部、42…周縁部、43…端部、45…突起、
1A…インプリントモールド、2A…基材、4A…パターン用凸部、6…ビア用凸部、41A…パターン用頂部、61…ビア用頂部、45A,65…突起、
1B…インプリントモールド、2B…基材、4B…凸部、41B…頂部、
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Imprint mold, 2 ... Base material, 4 ... Convex part, 41 ... Top part, 42 ... Peripheral part, 43 ... End part, 45 ... Protrusion,
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1A ... Imprint mold, 2A ... Base material, 4A ... Pattern convex part, 6 ... Via convex part, 41A ... Pattern top part, 61 ... Via top part, 45A, 65 ... Protrusion,
1B ... Imprint mold, 2B ... Base material, 4B ... Projection, 41B ... Top,

Claims (5)

基材と、
所定のパターンを転写可能とする前記基材の主面表面に形成されたパターン用凸部と、を備え、
前記パターン用凸部の頂部に突起が設けられており、
前記突起は、前記頂部の周縁部を一周するように形成されていることを特徴とするインプリントモールド。
A substrate;
A pattern convex portion formed on the main surface of the base material capable of transferring a predetermined pattern; and
Projections are provided on top of the pattern projection,
The imprint mold, wherein the protrusion is formed so as to go around the periphery of the top.
基材と、
所定のパターンを転写可能とする前記基材の主面表面に形成されたパターン用凸部と、を備え、
前記パターン用凸部の頂部の周縁部の少なくとも一部に突起が設けられており、
前記突起は、互いに平行に複数本形成されていることを特徴とするインプリントモールド。
A substrate;
A pattern convex portion formed on the main surface of the base material capable of transferring a predetermined pattern; and
Protrusions are provided on at least a part of the peripheral edge of the top of the convex portion for pattern,
An imprint mold, wherein a plurality of the protrusions are formed in parallel to each other.
基材と、
前記基材上に形成されたパターン用凸部と、
前記パターン用凸部上に形成されたビア用凸部と、を備え、
前記ビア用凸部の頂部の面積がパターン用凸部の頂部よりも狭く、前記パターン用凸部の頂部及びビア用凸部の頂部に突起が形成され、
前記突起は、前記頂部の周縁部を一周するように形成されていることを特徴とするインプリントモールド。
A substrate;
A pattern protrusion formed on the substrate;
A via convex portion formed on the pattern convex portion,
The area of the top of the convex part for via is smaller than the top part of the convex part for pattern, and a protrusion is formed on the top part of the convex part for pattern and the top part of the convex part for via,
The imprint mold, wherein the protrusion is formed so as to go around the periphery of the top.
基材と、
前記基材上に形成されたパターン用凸部と、
前記パターン用凸部上に形成されたビア用凸部と、を備え、
前記ビア用凸部の頂部の面積がパターン用凸部の頂部よりも狭く、前記パターン用凸部の頂部及びビア用凸部の頂部のそれぞれの周縁部の少なくとも一部に突起が形成され、
前記突起は、互いに平行に複数本形成されていることを特徴とするインプリントモールド。
A substrate;
A pattern protrusion formed on the substrate;
A via convex portion formed on the pattern convex portion,
The area of the top part of the via convex part is narrower than the top part of the pattern convex part, and a protrusion is formed on at least a part of each peripheral edge of the top part of the pattern convex part and the top part of the via convex part,
An imprint mold, wherein a plurality of the protrusions are formed in parallel to each other.
前記突起の長手方向に直交する断面における前記突起の高さ/幅が0.1以上5以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のインプリントモールド。   The imprint mold according to any one of claims 1 to 4, wherein a height / width of the protrusion in a cross section orthogonal to a longitudinal direction of the protrusion is 0.1 or more and 5 or less.
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