JP5731417B2 - Semiconductor device inspection equipment - Google Patents
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Description
本発明は、半導デバイスの検査装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device inspection apparatus.
従来から半導体デバイスの製造工程では、半導体ウエハの状態及びパッケージングされた状態の半導体デバイスの状態を検査する半導体デバイスの検査装置(テスタ)が用いられている。このような半導体デバイスの検査装置では、所定の検査信号を被検査半導体デバイスに出力し、被検査半導体デバイスの出力信号を測定して被検査半導体デバイスから所定の信号が出力されているかを検査する(例えば、特許文献1参照。)。 2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor device manufacturing process, a semiconductor device inspection apparatus (tester) for inspecting the state of a semiconductor wafer and the state of a packaged semiconductor device has been used. In such a semiconductor device inspection apparatus, a predetermined inspection signal is output to the semiconductor device to be inspected, and an output signal of the semiconductor device to be inspected is measured to inspect whether the predetermined signal is output from the semiconductor device to be inspected. (For example, refer to Patent Document 1).
半導体デバイスの検査装置では、検査する半導体デバイスの種類によって、夫々異なる検査用の電子回路を必要とする。従来このような検査用の電子回路は、プリント配線基板等の上に形成された大型のものであった。しかしながら、このような大型の検査用の電子回路は、検査する半導体デバイスの近傍に設置することが難しく、ある程度離れた位置に設置することになる。このため、検査用の電子回路と検査する半導体デバイスとの間の伝送線路が長くなり、高速な検査を行うことが困難になるという問題がある。 A semiconductor device inspection apparatus requires different electronic circuits for inspection depending on the type of semiconductor device to be inspected. Conventionally, such an inspection electronic circuit has been a large one formed on a printed wiring board or the like. However, it is difficult to install such a large inspection electronic circuit in the vicinity of the semiconductor device to be inspected, and the electronic circuit for inspection is to be installed at a certain distance. For this reason, there is a problem that the transmission line between the electronic circuit for inspection and the semiconductor device to be inspected becomes long, making it difficult to perform high-speed inspection.
半導体デバイスの検査装置の電子回路をワンチップ化して小型化することで、次のような効果を期待することができる。
1:ドライバ回路をチップ内に集積することで、本来基板上に広い面積を要して構成していたリレーやスイッチが必要なくなり、部品点数を集約化して減らすことができる。
2:チップ内にドライバ回路を集積することで、検査装置が自己の発熱に伴う温度の上昇や、半導体デバイスの機能を電気的にテストするプロセスによってチップ内の温度分布やプロセスを実行する回路の動作のばらつきが一様となり、コントロールしやすくなる。
The following effects can be expected by downsizing the electronic circuit of the semiconductor device inspection apparatus into a single chip.
1: By integrating the driver circuit in the chip, relays and switches that originally required a large area on the substrate are not necessary, and the number of components can be reduced by integrating them.
2: By integrating the driver circuit in the chip, the temperature distribution in the chip and the process of executing the process by the process in which the inspection device electrically tests the function of the semiconductor device due to its own heat generation The variation in operation becomes uniform and it becomes easier to control.
なお、基板上に広い面積に亘って構成する従来の方法では、それぞれの部分のばらつきは相互に関係しないため、プロセスの内容を修正する為に特定の部品を交換することでプロセス内容を変更していく管理を実行することが難しい。 It should be noted that in the conventional method configured over a large area on the substrate, the variation of each part is not related to each other. Therefore, the process contents are changed by exchanging specific parts to correct the process contents. It is difficult to carry out management.
以上のような半導体デバイスの検査装置の電子回路のワンチップ化は、優れた効果を期待できるが、逆に、小型化するためには、電子回路を狭い面積の中に形成して、占有面積を減少させて初めて達成できる技術である為、各電子回路部が占める面積を削減して小型化を図る必要がある。 The above-mentioned one-chip electronic circuit of a semiconductor device inspection apparatus can be expected to have an excellent effect, but conversely, in order to reduce the size, an electronic circuit is formed in a small area, and the occupied area is Therefore, it is necessary to reduce the area occupied by each electronic circuit unit to reduce the size.
一方、広い入力電圧範囲をカバーするためには、高電圧系(例えば20V系)の信号を処理する機能が必要とされる。しかし、この場合、低電圧系(例えば1.8V系)に比べてトランジスタ素子等のサイズが大きくなり、高速(例えば、1ナノ秒等)な動作を行うことが困難になるとともに、トランジスタ素子等の占める面積が増大し、小型化を図ることが難しいという問題がある。更に、上記高電圧系の信号処理として、例えば20V系の信号を処理するコンパレータを例として従来技術の問題点を説明すると、コンパレータの中の前段として高電圧系差動アンプを用いた場合、高いゲインを得ることができない。また、このようなコンパレータにおける比較精度は、前段のアンプのゲインが高いほど良くなるので、高電圧系のアンプで高精度のコンパレータを構成することが難しいという問題があった。 On the other hand, in order to cover a wide input voltage range, a function of processing a high voltage system (for example, 20 V system) signal is required. However, in this case, the size of the transistor element or the like becomes larger than that of the low voltage system (for example, 1.8 V system), and it becomes difficult to perform a high-speed (for example, 1 nanosecond) operation. There is a problem that the area occupied by this increases and it is difficult to reduce the size. Furthermore, as a high voltage signal processing, for example, a problem of the prior art will be described by taking a comparator that processes a 20V signal as an example. When a high voltage differential amplifier is used as a preceding stage in the comparator, the high voltage system signal processing is high. I can't get gain. Further, since the comparison accuracy in such a comparator is improved as the gain of the amplifier in the previous stage is higher, there is a problem that it is difficult to configure a high-accuracy comparator with a high-voltage amplifier.
本発明は、上記従来の事情に対処してなされたもので、広い入力電圧範囲をカバーすることができるとともに、検査用の電子回路を小型化してワンチップ化することができ、かつ高速な処理を行うことのできる半導体デバイスの検査装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in response to the above-described conventional circumstances, and can cover a wide input voltage range, and can downsize an electronic circuit for inspection into a single chip, and can perform high-speed processing. An object of the present invention is to provide a semiconductor device inspection apparatus capable of performing the above.
本発明の半導体デバイスの検査装置の一態様は、被測定半導体デバイスの電気的な検査を行う半導体デバイスの検査装置であって、1つの半導体チップ内に少なくとも、デジタル・アナログ変換器と、タイミングジェネレータと、前記タイミングジェネレータのテストタイミングに基づき前記被測定半導体デバイスに検査信号を供給するための検査信号供給回路と、前記被測定半導体デバイスからの出力信号と基準値とを比較して前記被測定半導体デバイスの状態を検査するための比較回路と、前記被測定半導体デバイスにDC電圧又はDC電流を印加するDC回路と、前記被測定半導体デバイスに電源を供給する電源回路と、を形成した半導体チップを有し、前記比較回路が、前記被測定半導体デバイスからの第1の電圧系の出力信号を受ける第1差動アンプと、当該第1差動アンプからの出力信号を、前記第1の電圧系より低い第2の電圧系の電圧レベルに低下させるレベルシフターと、前記レベルシフターからの出力を受ける前記第2の電圧系の第2差動アンプと、を具備したことを特徴とする。 One aspect of a semiconductor device inspection apparatus according to the present invention is a semiconductor device inspection apparatus that performs electrical inspection of a semiconductor device to be measured. At least a digital / analog converter and a timing generator are provided in one semiconductor chip. A test signal supply circuit for supplying a test signal to the semiconductor device under test based on a test timing of the timing generator, and comparing the output signal from the semiconductor device under test with a reference value A semiconductor chip on which a comparison circuit for inspecting the state of a device, a DC circuit for applying a DC voltage or a DC current to the semiconductor device to be measured, and a power circuit for supplying power to the semiconductor device to be measured are formed. a, the comparator circuit, receiving the output signal of the first voltage system from the measured semiconductor devices A first differential amplifier, a level shifter for reducing an output signal from the first differential amplifier to a voltage level of a second voltage system lower than the first voltage system, and an output from the level shifter And a second differential amplifier for receiving the second voltage system.
本発明によれば、広い入力電圧範囲をカバーすることができるとともに、検査用の電子回路を小型化してワンチップ化することができ、かつ高速な処理を行うことのできる半導体デバイスの検査装置を提供することができる。 According to the present invention, there is provided a semiconductor device inspection apparatus capable of covering a wide input voltage range, reducing the size of an inspection electronic circuit to one chip, and performing high-speed processing. Can be provided.
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は、本発明の一実施形態に係る半導体検査装置の概略構成を模式的に示すものである。半導体検査装置100は、回路基板110に、半導体チップ120を搭載して構成されており、伝送線路150を介して被検査半導体デバイス(DUT(Device Under Test))200と接続され、その検査を行うよう構成されている。
FIG. 1 schematically shows a schematic configuration of a semiconductor inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. The
半導体チップ120には、タイミングジェネレータ121、デジタル・アナログ変換器(DAC)122、複数のピンドライバ回路123、コンパレータ回路(比較回路)124、DC回路125、VC回路126、ドライババッファ回路127が配設されている。また、半導体チップ120が搭載された回路基板110には、各ピンドライバ回路123に対応して抵抗素子111が配設されている。また、図1において130,131はフォースラインであり、140、141はセンスラインである。
The
複数のピンドライバ回路123からは、タイミングジェネレータ121のテストタイミングに基づき、抵抗素子111及び伝送線150を介して被検査半導体デバイス200に所定の検査信号が印加される。すなわち、ピンドライバ回路123は、検査信号供給回路として作用する。
A plurality of
そして、ピンドライバ回路123から供給される検査信号に基づいて被検査半導体デバイス200から出力される出力信号をコンパレータ回路124で基準値と比較することによって、被検査半導体デバイス200から正常な信号が出力されているかを検査する。なお、半導体チップ120に形成されたDC回路125は、被検査半導体デバイス200にDC電圧又は電流を印加するためのものであり、VC回路126は被検査半導体デバイス200に電源を供給するものである。
Then, by comparing the output signal output from the
複数のピンドライバ回路123からは、抵抗素子111及び伝送線150を介して被検査半導体デバイス200に所定の検査信号が印加される。この際、例えば、伝送線150のインピーダンスが50Ωの場合、ピンドライバ回路123の出力インピーダンスを14Ω、抵抗素子111のインピーダンスを36Ω等とし、合計のインピーダンスが50Ωとなるようにしてインピーダンスのマッチングを行っている。
A predetermined inspection signal is applied from the plurality of
コンパレータ回路124は、図2に示すように、前段差動アンプ161と、レベルシフター162と、後段差動アンプ163と、ラッチ回路164とを具備している。前段差動アンプ161は、高電圧系(本実施形態では20V系)のものであり、スイッチS1を介してリファレンス信号(REF)が入力されるとともに、スイッチS2を介してデータ信号(DATA)が入力されるようになっている。本実施形態では、このように、コンパレータ回路124の前段差動アンプ161が20V系のもので構成されているので、広い入力電圧範囲をカバーすることができる。
As shown in FIG. 2, the
一方、後段差動アンプ163は、低電圧系(本実施形態では1.8V系)のものとされており、これによって、後段差動アンプ163を高電圧系のものとした場合に比べて高速な処理(例えば、ナノ秒オーダの処理速度)が行えるとともに、小型化を図ることができるようになっている。
On the other hand, the post-stage
また。前段差動アンプ161と後段差動アンプ163との間には、レベルシフター162が介挿されている。そして、前段差動アンプ161の出力信号は、レベルシフター162に入力され、低電圧系(本実施形態では1.8V系)の信号にレベルシフトされる。そして、このレベルシフトされた信号が、コンデンサC1、コンデンサC2を介して、低電圧系(本実施形態では1.8V系)の後段差動アンプ163に入力されるようになっている。前段差動アンプ161は高電圧系のアンプであるので高いゲインを得ることができない。コンパレータの比較精度は、アンプのゲインが高いほど良くなるので、高電圧系のアンプで高精度のコンパレータを構成するのは難しい。そこで、前段差動アンプ161では高いゲインを期待せずに、レベルシフター162後の低電圧系の差動アンプを多段とすることで、高いゲインを得ている。オフセットキャンセル回路とこの高いゲインにより、高精度のコンパレータを構成することができる。
Also. A
図3に上記構成のコンパレータ回路124動作タイミングを示す。上記構成のコンパレータ回路124では、φ1がオン(スイッチS3、スイッチS4、スイッチS5、スイッチS6がオン)で、φ2がオフ(スイッチS1、スイッチS2がオフ)の時に、前段差動アンプ161、後段差動アンプ163のオフセット電圧分が、コンデンサC1、コンデンサC2にチャージされる(図3に示すt1:オフセット、REF電圧サンプリングフェーズ)。
FIG. 3 shows the operation timing of the
そして、φ1がオフ(スイッチS3、スイッチS4、スイッチS5、スイッチS6がオフ)で、φ2がオン(スイッチS1、スイッチS2がオン)の時に、リファレンス信号(REF)とデータ信号(DATA)の電圧が比較され、得られた出力電圧に対し、φ2の立ち下がりでラッチ回路164によりラッチされるようになっている(図3に示すt3:オートゼロ及び比較フェーズ)。なお、図3に示されるt2は、同時オン禁止区間である。
When φ1 is off (switches S3, S4, S5, and S6 are off) and φ2 is on (switches S1 and S2 are on), the voltages of the reference signal (REF) and the data signal (DATA) Are compared and the obtained output voltage is latched by the
以上のとおり、本実施形態の半導体検査装置100では、タイミングジェネレータ121、デジタル・アナログ変換器(DAC)122、複数のピンドライバ回路123、コンパレータ回路124、DC回路125、VC回路126、ドライババッファ回路127等を1つの半導体チップ120内に形成した構成となっており、従来に比べて検査回路を小型化することができる。これによって、半導体検査装置100をより被検査半導体デバイス(DUT(Device Under Test))200の近くに配置することが可能となり、伝送線路150を短くすることができ、高速な検査を行うことが可能となる。
As described above, in the
また、図2に示すように、コンパレータ回路124が、前段差動アンプ161と、レベルシフター162と、後段差動アンプ163と、ラッチ回路164とを具備した構成となっており、前段差動アンプ161は、高電圧系(本実施形態では20V系)、後段差動アンプ163は、低電圧系(本実施形態では1.8V系)となっている。
As shown in FIG. 2, the
このように、コンパレータ回路124の前段差動アンプ161が20V系のもので構成されているので、広い入力電圧範囲をカバーすることができる。
As described above, since the front-stage differential amplifier 161 of the
また、後段差動アンプ163は、低電圧系(本実施形態では1.8V系)のものとし、レベルシフター162によってレベルシフトして後段差動アンプ163以降の1.8V系で信号処理する構成となっている。これによって、後段差動アンプ163以降も20V系とした場合に比べて高速な処理(例えば、ナノ秒オーダの処理速度)が行えるとともに、小型化を図ることができる。
Further, the rear stage
なお、半導体チップ120上において占有する面積を比較すると、20V系の素子で構成されたアンプ2段と、1.8V系の素子で構成されたアンプ4段が、ほぼ等しい面積となっている。
When the area occupied on the
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能であることは勿論である。 In addition, this invention is not limited to the said embodiment, Of course, a various deformation | transformation is possible.
100……半導体検査装置、110……回路基板、111……抵抗素子、120……半導体チップ、121……タイミングジェネレータ、122……デジタル・アナログ変換器(DAC)、123……ピンドライバ回路、124……コンパレータ回路、125……DC回路、126……VC回路、127……ドライババッファ回路、130,131……フォースライン、140,141……センスライン、150……伝送線路、200……被検査半導体デバイス(DUT(Device Under Test))。
DESCRIPTION OF
Claims (2)
1つの半導体チップ内に少なくとも、
デジタル・アナログ変換器と、
タイミングジェネレータと、
前記タイミングジェネレータのテストタイミングに基づき前記被測定半導体デバイスに検査信号を供給するための検査信号供給回路と、
前記被測定半導体デバイスからの出力信号と基準値とを比較して前記被測定半導体デバイスの状態を検査するための比較回路と、
前記被測定半導体デバイスにDC電圧又はDC電流を印加するDC回路と、
前記被測定半導体デバイスに電源を供給する電源回路と、
を形成した半導体チップを有し、
前記比較回路が、
前記被測定半導体デバイスからの第1の電圧系の出力信号を受ける第1差動アンプと、
当該第1差動アンプからの出力信号を、前記第1の電圧系より低い第2の電圧系の電圧レベルに低下させるレベルシフターと、
前記レベルシフターからの出力を受ける前記第2の電圧系の第2差動アンプと、
を具備したことを特徴とする半導体デバイスの検査装置。 A semiconductor device inspection apparatus for performing electrical inspection of a semiconductor device to be measured,
At least in one semiconductor chip,
A digital-to-analog converter,
A timing generator;
An inspection signal supply circuit for supplying an inspection signal to the semiconductor device to be measured based on a test timing of the timing generator;
A comparison circuit for inspecting the state of the semiconductor device under test by comparing an output signal from the semiconductor device under test with a reference value;
A DC circuit for applying a DC voltage or a DC current to the semiconductor device to be measured;
A power supply circuit for supplying power to the semiconductor device to be measured;
Having a semiconductor chip formed,
The comparison circuit is
A first differential amplifier for receiving an output signal of a first voltage system from the semiconductor device to be measured;
A level shifter for reducing an output signal from the first differential amplifier to a voltage level of a second voltage system lower than the first voltage system;
A second differential amplifier of the second voltage system for receiving an output from the level shifter;
An inspection apparatus for a semiconductor device, comprising:
前記第1の電圧系が20V系であり、前記第2の電圧系が1.8V系であることを特徴とする半導体デバイスの検査装置。 A semiconductor device inspection apparatus according to claim 1,
The semiconductor device inspection apparatus, wherein the first voltage system is a 20V system and the second voltage system is a 1.8V system.
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