JP5724641B2 - IC tag and method of manufacturing IC tag - Google Patents

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本発明は、ICタグおよびこのようなICタグの製造方法に関する。   The present invention relates to an IC tag and a method for manufacturing such an IC tag.

近年、非接触で情報の読み出しおよび書き込みが可能なICタグを製品に付して、市場で必要な様々な情報の管理を可能にすることが行われている。このようなICタグは、例えば、書籍、運送、流通、荷物の取り扱い等の分野で数多く利用されており、様々な種類のICタグが知られている。   In recent years, IC tags capable of reading and writing information in a non-contact manner are attached to products to enable management of various information required in the market. Such IC tags are used in many fields such as books, transportation, distribution, and handling of luggage, and various types of IC tags are known.

例えば、特許文献1には、ICタグに加わる曲げ応力を緩和するとともに、アンテナの断線を防止するため、外装本体とインレットとの間にゲル状の物質を充填したものが記載されている。   For example, Patent Document 1 describes a material in which a gel substance is filled between an exterior body and an inlet in order to relieve bending stress applied to an IC tag and prevent disconnection of an antenna.

また、特許文献2には、外部からの機械的衝撃等から内部部品の破壊を防止することのできるICタグパッケージが記載されており、このICタグパッケージにおいて、樹脂製フィルムとゲル樹脂とを封入して加熱および加圧することにより緩衝層を形成している。   Patent Document 2 describes an IC tag package that can prevent internal components from being damaged due to external mechanical shocks, etc. In this IC tag package, a resin film and a gel resin are enclosed. Thus, the buffer layer is formed by heating and pressurizing.

また、特許文献3には、基材シート16と自己粘着性樹脂又は可洗粘着材17とを積層した再粘着シート15と、インレイ粘着材14と、インレイ13と、表面基材11とを順次積層して貼り合せたRFIDラベルが開示されている。   In Patent Document 3, a re-adhesive sheet 15 in which a base sheet 16 and a self-adhesive resin or a washable adhesive material 17 are laminated, an inlay adhesive material 14, an inlay 13, and a surface base material 11 are sequentially provided. An RFID label laminated and bonded is disclosed.

特開2010−250504号公報JP 2010-250504 A 特開平11−102424号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-102424 実用新案登録第3120052号公報Utility Model Registration No. 3120052

しかしながら、特許文献1および2記載のICタグは、外部からの衝撃に対する緩衝性はもつが、その全体が外装フィルムで覆われているため、自己粘着性や再粘着性は有していない。この場合、ICタグを被着体に貼付するためには、別途、粘着材が必要となる。   However, although the IC tags described in Patent Documents 1 and 2 have a shock-absorbing property against external impacts, they are entirely covered with an exterior film, and thus do not have self-adhesiveness or re-adhesiveness. In this case, in order to attach the IC tag to the adherend, an adhesive material is separately required.

一方、特許文献3のICタグは、自己粘着性や再粘着性を有するが、単にインレットの片面に再貼付シートを設けた構成であるため、とりわけ側面からの緩衝性や耐衝撃性に欠けると考えられる。   On the other hand, the IC tag of Patent Document 3 has self-adhesiveness and re-adhesiveness, but simply has a structure in which a re-adhesion sheet is provided on one side of the inlet, so that it particularly lacks cushioning and impact resistance from the side. Conceivable.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、自己粘着性を有し、再貼付可能であるとともに、緩衝性や耐衝撃性が高められたICタグおよびICタグの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and has an IC tag and a method of manufacturing the IC tag that have self-adhesiveness, can be reapplied, and have improved buffering and impact resistance. The purpose is to provide.

本発明は、ICタグにおいて、インレット基材と、インレット基材上に設けられたアンテナと、アンテナに接合されたICチップとを含むインレットと、インレットを載置する底面と、底面から延びる側面とを有し、一側が開口する支持基材と、支持基材内に充填され、一部が支持基材の一側開口から露出するとともに自己粘着性を有する緩衝材とを備え、緩衝材は、ゲル材からなり、支持基材は、硬化性ゲル材からなることを特徴とするICタグである。 The present invention relates to an IC tag, an inlet including an inlet base, an antenna provided on the inlet base, an IC chip bonded to the antenna, a bottom surface on which the inlet is placed, and a side surface extending from the bottom surface. A support base that is open on one side, and a cushioning material that is filled in the support base and is partially exposed from the one side opening of the support base and has self-adhesiveness. Ri Do from the gel material, the supporting substrate is an IC tag comprising the cured gel material.

本発明は、ゲル材は、ウレタン系樹脂またはアクリル系樹脂からなることを特徴とするICタグである。   The present invention is the IC tag, wherein the gel material is made of urethane resin or acrylic resin.

本発明は、ゲル材の水分量は、0.01重量%〜1.0重量%であることを特徴とするICタグである。   The present invention is the IC tag, wherein the moisture content of the gel material is 0.01% by weight to 1.0% by weight.

本発明は、平面から見て、支持基材の一側の全体が開口していることを特徴とするICタグである。   The present invention is the IC tag characterized in that the entire one side of the support base material is open as viewed from the plane.

本発明は、平面から見て、支持基材の一側の一部が開口していることを特徴とするICタグである。   The present invention is an IC tag characterized in that a part of one side of a supporting substrate is opened when viewed from a plane.

本発明は、緩衝材のうち一側開口から露出する部分の表面に、剥離シートが貼り付けられていることを特徴とするICタグである。   The present invention is an IC tag characterized in that a release sheet is attached to the surface of a portion exposed from one side opening of the cushioning material.

本発明は、ICタグを製造するICタグの製造方法において、金型内で硬化性ゲル材を硬化させることにより支持基材を作製する工程と、支持基材の底面にインレットを載置する工程と、支持基材内に自己粘着性を有する緩衝材を充填する工程とを備えたことを特徴とするICタグの製造方法である。   The present invention relates to an IC tag manufacturing method for manufacturing an IC tag, a step of producing a support base material by curing a curable gel material in a mold, and a step of placing an inlet on the bottom surface of the support base material And a step of filling a self-adhesive cushioning material in the support base material.

本発明によれば、支持基材は、インレットを載置する底面と、底面から延びる側面とを有し、かつその一側が開口しており、緩衝材は、支持基材内に充填され、一部が支持基材の一側開口から露出するとともに自己粘着性を有している。これにより、ICタグを再貼付することと、緩衝性や耐衝撃性を高めることの両方を実現することができる。   According to the present invention, the support substrate has a bottom surface on which the inlet is placed and a side surface extending from the bottom surface, and one side thereof is open, and the cushioning material is filled in the support substrate. The part is exposed from one side opening of the supporting base material and has self-adhesiveness. As a result, it is possible to realize both reattachment of the IC tag and enhancement of cushioning and impact resistance.

図1は、本発明の第1の実施の形態によるICタグを示す断面図(図2のI−I線断面図)。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an IC tag according to a first embodiment of the present invention (a cross-sectional view taken along the line II in FIG. 2). 図2は、本発明の第1の実施の形態によるICタグを示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing the IC tag according to the first embodiment of the present invention. 図3は、剥離シートが貼り付けられた、本発明の第1の実施の形態によるICタグを示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view showing the IC tag according to the first embodiment of the present invention, to which a release sheet is attached. 図4は、本発明の第1の実施の形態によるICタグの製造方法を示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a method of manufacturing an IC tag according to the first embodiment of the present invention. 図5は、本発明の第1の実施の形態によるICタグを被着体に貼着した状態を示す断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state where the IC tag according to the first embodiment of the present invention is attached to an adherend. 図6は、本発明の第1の実施の形態によるICタグを被着体に貼着した状態を示す断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state where the IC tag according to the first embodiment of the present invention is attached to an adherend. 図7は、本発明の第1の実施の形態によるICタグを被着体に貼着した状態を示す断面図。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state where the IC tag according to the first embodiment of the present invention is attached to an adherend. 図8は、本発明の第2の実施の形態によるICタグを示す断面図(図9のVIII−VIII線断面図)。FIG. 8 is a sectional view showing an IC tag according to the second embodiment of the present invention (sectional view taken along line VIII-VIII in FIG. 9). 図9は、本発明の第2の実施の形態によるICタグを示す平面図。FIG. 9 is a plan view showing an IC tag according to a second embodiment of the present invention. 図10は、剥離シートが貼り付けられた、本発明の第2の実施の形態によるICタグを示す断面図。FIG. 10 is a cross-sectional view showing an IC tag according to a second embodiment of the present invention, to which a release sheet is attached. 図11は、本発明の第3の実施の形態によるICタグを示す断面図(図9のXI−XI線断面図)。11 is a cross-sectional view showing an IC tag according to a third embodiment of the present invention (cross-sectional view taken along line XI-XI in FIG. 9). 図12は、本発明の第3の実施の形態によるICタグを示す平面図。FIG. 12 is a plan view showing an IC tag according to a third embodiment of the present invention. 図13は、剥離シートが貼り付けられた、本発明の第3の実施の形態によるICタグを示す断面図。FIG. 13 is a cross-sectional view showing an IC tag according to a third embodiment of the present invention, to which a release sheet is attached. 図14は、本発明の第3の実施の形態によるICタグの製造方法を示す断面図。FIG. 14 is a cross-sectional view showing a method of manufacturing an IC tag according to the third embodiment of the present invention. 図15は、比較例によるICタグを被着体に貼着した状態を示す断面図。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state where an IC tag according to a comparative example is attached to an adherend.

第1の実施の形態
以下、本発明の第1の実施の形態について、図1乃至図7を参照して説明する。図1乃至図7は本発明の第1の実施の形態を示す図である。
First Embodiment Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7 are views showing a first embodiment of the present invention.

まず、図1乃至図3により本実施の形態によるICタグの概要について説明する。   First, the outline of the IC tag according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

図1乃至図3に示すように、本実施の形態によるICタグ10は、インレット20と、インレット20を支持する支持基材30と、支持基材30内に充填された緩衝材40とを備えている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the IC tag 10 according to the present embodiment includes an inlet 20, a support base 30 that supports the inlet 20, and a buffer material 40 filled in the support base 30. ing.

このうちインレット20は、細長い平板状のインレット基材21と、インレット基材21上に設けられたアンテナ22と、アンテナ22に接合されたICチップ23とを含んでいる。   Among these, the inlet 20 includes an elongated flat plate-like inlet base material 21, an antenna 22 provided on the inlet base material 21, and an IC chip 23 bonded to the antenna 22.

インレット基材21は、プラスチックフィルムや紙類であればよく、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、PET−G(テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体)、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポリスチレン系、ABS、ポリアクリル酸エステル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリウレタン、樹脂含浸紙、コート紙等の各種の材料を使用できる。なお、インレット基材21の厚みは、例えば20μm〜100μmとすることができ、典型的には50μmとすることができる。   The inlet substrate 21 may be a plastic film or paper, such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), PET-G (terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer), polyvinyl chloride. , Various materials such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polycarbonate, polyamide, polyimide, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polystyrene, ABS, polyacrylic ester, polypropylene, polyethylene, polyurethane, resin impregnated paper, coated paper, etc. Can be used. In addition, the thickness of the inlet base material 21 can be 20 micrometers-100 micrometers, for example, and can typically be 50 micrometers.

また、アンテナ22は、中央部22aと、中央部22a両側に設けられたジグザグ状の端部22bとを有している。このうち中央部22aの一箇所に、ICチップ23が実装されている。   The antenna 22 includes a central portion 22a and zigzag end portions 22b provided on both sides of the central portion 22a. Of these, the IC chip 23 is mounted at one location of the central portion 22a.

なお、アンテナ22の材料としては、アルミニウム、銅、銅合金、リン青銅、SUS、銀等の金属または合金を挙げることができる。また、アンテナ22は各種の平面形状とすることができ、上述したジグザグ状のほか、ループ状、渦巻きコイル状、パッチ状、その他の形状であってもよい。なお、アンテナ22の厚みは、例えば10μm〜50μmとすることができ、典型的には25μmとすることができる。   In addition, as a material of the antenna 22, metals or alloys, such as aluminum, copper, a copper alloy, phosphor bronze, SUS, silver, can be mentioned. Further, the antenna 22 can have various planar shapes, and may be a loop shape, a spiral coil shape, a patch shape, or other shapes in addition to the zigzag shape described above. The thickness of the antenna 22 can be set to, for example, 10 μm to 50 μm, and typically 25 μm.

ICチップ23は、データの記憶領域(メモリ)を有し、入出力機能、制御機能、信号変調、復調、制御機能を備える通常のものを用いることができる。このICチップ23は、アンテナ22から得られた電力および信号を受け、メモリの書き込みおよび読み出しを行うものである。ICチップ23としては、単一部品からなるICチップを実装してもよく、インターポーザにしたものを実装してもよい。なお、ICチップ23の厚みは、例えば150μm〜250μmとすることができる。   The IC chip 23 has a data storage area (memory), and an ordinary chip having an input / output function, a control function, signal modulation, demodulation, and a control function can be used. The IC chip 23 receives power and signals obtained from the antenna 22 and performs writing and reading of the memory. As the IC chip 23, an IC chip made of a single component may be mounted, or an interposer may be mounted. The thickness of the IC chip 23 can be set to, for example, 150 μm to 250 μm.

一方、インレット20を支持する支持基材30は、その断面(図1および図3参照)がコ字状ないしは凹形状からなっており、インレット20を載置する底面31と、底面31の側部から上方に向けて延びる側面32とを有している。このうち底面31は、平面から見て矩形状からなっている。側面32は、底面31の外周全体にわたって設けられており、平面から見て長方形形状からなっている。また支持基材30は、その一側(図1の上側)が全体にわたって開口しており、開口33が形成されている。なお、本明細書において、支持基材30の全体が開口するとは、側面32の内側に位置する領域が全て開口していることをいう。   On the other hand, the support base material 30 that supports the inlet 20 has a U-shaped or concave cross-section (see FIGS. 1 and 3), a bottom surface 31 on which the inlet 20 is placed, and side portions of the bottom surface 31. And a side surface 32 extending upward. Of these, the bottom surface 31 has a rectangular shape as viewed from above. The side surface 32 is provided over the entire outer periphery of the bottom surface 31 and has a rectangular shape when viewed from the plane. In addition, the support base 30 is open on one side (the upper side in FIG. 1), and an opening 33 is formed. In the present specification, that the entire support base 30 is open means that the entire region located inside the side surface 32 is open.

なお、本実施の形態において、支持基材30の底面31は、平面から見て矩形状からなっているが、これに限られるものではなく、例えば円形状、楕円形状、または三角形等の多角形状からなっていても良い。   In the present embodiment, the bottom surface 31 of the support base material 30 has a rectangular shape as viewed from above, but is not limited to this, and is, for example, a circular shape, an elliptical shape, or a polygonal shape such as a triangle. It may consist of

支持基材30の材料としては、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ABS樹脂等を用いることができる。なお、支持基材30のうち底面31の厚みは、例えば0.5mm〜5.0mmとすることができ、側面32の厚みは、例えば0.5mm〜5.0mmとすることができる。   As a material of the support substrate 30, polypropylene (PP), polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), ABS resin, or the like can be used. In addition, the thickness of the bottom face 31 among the support base materials 30 can be 0.5 mm-5.0 mm, for example, and the thickness of the side surface 32 can be 0.5 mm-5.0 mm, for example.

さらに、緩衝材40は、支持基材30内においてインレット20を覆うように充填されており、その一部が支持基材30の一側(図1の上側)の開口33から露出している。この場合、緩衝材40は、側面32の内側全体に充填されている。なお、図1において、緩衝材40が開口33から盛り上がるように示しているが、緩衝材40は側面32の上端32aと面一に設けられていても良い。   Further, the buffer material 40 is filled so as to cover the inlet 20 in the support base material 30, and a part thereof is exposed from the opening 33 on one side of the support base material 30 (upper side in FIG. 1). In this case, the buffer material 40 is filled in the entire inside of the side surface 32. In FIG. 1, the buffer material 40 is shown to rise from the opening 33, but the buffer material 40 may be provided flush with the upper end 32 a of the side surface 32.

緩衝材40は、自己粘着性を有するゲル材からなっている(以下、単にゲル材40ともいう)。なお、自己粘着性とは、接着剤や粘着剤を使用することなく、それ自体の粘着力により被着体に容易に貼着できる性質をいう。また、一旦貼着したゲル材40は、被着体に密着しており、水平方向の力が掛かったり、他の物体で擦られたりした場合でも容易には剥離しないが、端部から指等で捲くり剥がせば容易に剥離する性質をもっている。さらに、ゲル材40は、剥がした後再貼付することも可能である(再粘着性を有する)。   The buffer material 40 is made of a self-adhesive gel material (hereinafter also simply referred to as a gel material 40). In addition, self-adhesive means the property which can be easily affixed to a to-be-adhered body with the adhesive force of itself, without using an adhesive agent or an adhesive. Further, the gel material 40 once adhered is in close contact with the adherend and does not easily peel off even when a horizontal force is applied or is rubbed by another object, but the finger or the like from the end. When peeled off, it has the property of easily peeling off. Furthermore, the gel material 40 can be reapplied after being peeled off (has re-adhesiveness).

このような緩衝材40を構成するゲル材は、ポリウレタンゲル等のウレタン系樹脂またはアクリル系樹脂からなることが好ましい。とりわけ、水分をあまり含んでおらず、例えばその水分量が0.01重量%〜1.0重量%のゲル材からなることが好ましい。その理由は、ゲル材40が水分を多く含むと、ゲル材40によってICチップ23の通信距離が短くなってしまい、好ましくないためである。   It is preferable that the gel material which comprises such a buffer material 40 consists of urethane type resin, such as a polyurethane gel, or acrylic resin. In particular, it does not contain much water, and is preferably made of a gel material having a water content of 0.01% by weight to 1.0% by weight, for example. The reason is that if the gel material 40 contains a lot of water, the gel material 40 shortens the communication distance of the IC chip 23, which is not preferable.

ゲル材40の粘着力としては、傾斜式ボールタック試験(JIS Z 0237準拠の試験)でボールNo.1以上の粘着力を有していることが好ましく、ボールNo.4以上の粘着力を有していれば更に好ましい。粘着力の上限は特に限定されないが、再粘着時の実用性を考慮するとボールNo.20程度となることが好ましい。   As the adhesive strength of the gel material 40, the ball No. in the inclined ball tack test (test based on JIS Z 0237) was used. It preferably has an adhesive strength of 1 or more. More preferably, it has an adhesive strength of 4 or more. The upper limit of the adhesive strength is not particularly limited, but considering practicality at the time of re-adhesion, the ball No. It is preferable to be about 20.

なお、図3に示すように、緩衝材40のうち一側の開口33から露出する部分の表面に、剥離シート50が貼り付けられていても良い。この場合、剥離シート50を剥離することにより緩衝材40が開口33から露出し、ICタグ10を被着体60(図5参照)に貼着することができるようになる。   In addition, as shown in FIG. 3, the peeling sheet 50 may be affixed on the surface of the part exposed from the opening 33 of one side among the buffer materials 40. FIG. In this case, by peeling the release sheet 50, the buffer material 40 is exposed from the opening 33, and the IC tag 10 can be attached to the adherend 60 (see FIG. 5).

この剥離シート50は、紙基材に低接触角の薬剤(通常、シリコーン)を塗布した材料を使用することができる。紙基材には、上質紙やクラフト紙、グラシン紙、パーチメント紙、スーパーカレンダード紙、等が使用され、これらに直接シリコーンコートするか、ポリエチレンコート、クレー・バインダーコートした後、シリコーンコートして使用されても良い。PETやOPP(2軸延伸ポリプロピレン)、PEもそのまま、あるいはシリコーンコートして離型紙基材として使用することができる。   The release sheet 50 can be made of a paper base material coated with a low contact angle drug (usually silicone). Fine paper, kraft paper, glassine paper, parchment paper, supercalendered paper, etc. are used as the paper base material. These can be directly coated with silicone, or coated with polyethylene or clay / binder, and then coated with silicone. May be used. PET, OPP (biaxially oriented polypropylene), and PE can be used as they are, or coated with silicone and used as a release paper substrate.

次に、このようなICタグ10の製造方法について、図4(a)−(e)を参照して説明する。   Next, a method for manufacturing such an IC tag 10 will be described with reference to FIGS.

まず、インレット20を載置する底面31と、底面31の側部から上方に延びる側面32とを有する支持基材30を作製する(図4(a))。この場合、例えばポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ABS樹脂等を用いて、例えば射出成形法により支持基材30を作製することができる。   First, the support base material 30 which has the bottom face 31 which mounts the inlet 20, and the side surface 32 extended upwards from the side part of the bottom face 31 is produced (FIG. 4A). In this case, the support base material 30 can be produced by, for example, injection molding using polypropylene (PP), polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), ABS resin, or the like.

次に、予めインレット基材21と、アンテナ22と、ICチップ23とを含むインレット20を準備しておき、このインレット20を、支持基材30の底面31に載置する(図4(b))。この場合、インレット基材21の裏面に接着剤を塗布することにより、インレット20を底面31に固定しても良い。   Next, an inlet 20 including an inlet base material 21, an antenna 22, and an IC chip 23 is prepared in advance, and this inlet 20 is placed on the bottom surface 31 of the support base material 30 (FIG. 4B). ). In this case, the inlet 20 may be fixed to the bottom surface 31 by applying an adhesive to the back surface of the inlet base material 21.

続いて、支持基材30内に自己粘着性を有する緩衝材40を充填する(図4(c))。この場合、充填用のノズル45を用いて、開口33から液体状態の緩衝材40を注入する。   Subsequently, the support material 30 is filled with a buffer material 40 having self-adhesiveness (FIG. 4C). In this case, the buffer material 40 in the liquid state is injected from the opening 33 using the nozzle 45 for filling.

所定量の緩衝材40を充填した後、支持基材30内で緩衝材40を硬化させる(図4(d))。緩衝材40がポリウレタンゲルからなる場合、例えば緩衝材40を25℃〜85℃の温度に加熱することにより、緩衝材40を硬化させることができる。   After filling a predetermined amount of the buffer material 40, the buffer material 40 is cured in the support base material 30 (FIG. 4D). When the buffer material 40 consists of polyurethane gel, the buffer material 40 can be hardened by heating the buffer material 40 to the temperature of 25 to 85 degreeC, for example.

このようにして、インレット20と、インレット20を支持する支持基材30と、支持基材30内に充填された緩衝材40とを備えたICタグ10が得られる。   In this manner, the IC tag 10 including the inlet 20, the support base material 30 that supports the inlet 20, and the buffer material 40 filled in the support base material 30 is obtained.

次いで、緩衝材40のうち一側開口33から露出する部分の表面に、剥離シート50を貼り付ける(図4(e))。   Next, the release sheet 50 is affixed to the surface of the portion exposed from the one-side opening 33 in the buffer material 40 (FIG. 4E).

なお、上記では緩衝材40を硬化させた後(図4(d))、緩衝材40に剥離シート50を貼り付けているが(図4(e))、これに限らず、緩衝材40に剥離シート50を貼り付けた後、緩衝材40を硬化させても良い。   In the above, after the cushioning material 40 is cured (FIG. 4D), the release sheet 50 is attached to the cushioning material 40 (FIG. 4E). The buffer material 40 may be cured after the release sheet 50 is attached.

次に、このような構成からなるICタグ10の作用について、図5乃至図7を参照して述べる。   Next, the operation of the IC tag 10 having such a configuration will be described with reference to FIGS.

図5に示すように、ICタグ10は、剥離シート50を剥離し、緩衝材40を被着体60側に向けた状態で被着体60に貼着される。この際、緩衝材40が被着体60に接着され、支持基材30の底面31が被着体60の反対側(図5の上方)を向く。   As shown in FIG. 5, the IC tag 10 is attached to the adherend 60 with the release sheet 50 peeled off and the cushioning material 40 facing the adherend 60 side. At this time, the buffer material 40 is bonded to the adherend 60, and the bottom surface 31 of the support base 30 faces the opposite side of the adherend 60 (upward in FIG. 5).

この場合、緩衝材40は被着体60に貼付可能な自己粘着性を有している。したがって、ICタグ10を被着体60に貼着する際、別途粘着材や接着剤を用いることなく、剥離シート50を剥離するだけでICタグ10を被着体60に容易に貼付することができる。また、ICタグ10を被着体60から剥がしたのち、被着体60に再貼付することもできる(再粘着性を有する)。   In this case, the buffer material 40 has self-adhesiveness that can be attached to the adherend 60. Therefore, when the IC tag 10 is attached to the adherend 60, the IC tag 10 can be easily attached to the adherend 60 simply by peeling off the release sheet 50 without using a separate adhesive or adhesive. it can. Moreover, after peeling off the IC tag 10 from the adherend 60, it can be re-applied to the adherend 60 (having re-adhesiveness).

ここで、ICタグ10の底面31や側面32に衝撃が加わることが考えられる。この場合、ICタグ10の内部に生じる応力は、緩衝材40の柔軟性により分散ないし吸収され、これにより、ICチップ23へ加わる衝撃を緩和することができる(緩衝性が高められている)。   Here, it is considered that an impact is applied to the bottom surface 31 and the side surface 32 of the IC tag 10. In this case, the stress generated inside the IC tag 10 is dispersed or absorbed by the flexibility of the buffer material 40, thereby reducing the impact applied to the IC chip 23 (the buffering property is enhanced).

具体的には、図6に示すように、底面31に衝撃が加わった場合、この衝撃は支持基材30内に充填された緩衝材40によって分散ないし吸収される(図6の矢印参照)。すなわち、衝撃による応力は特定の箇所に集中しない。このことにより、ICチップ23に加わる応力を緩和することができる。   Specifically, as shown in FIG. 6, when an impact is applied to the bottom surface 31, this impact is dispersed or absorbed by the cushioning material 40 filled in the support base 30 (see the arrow in FIG. 6). That is, the stress due to impact does not concentrate on a specific location. As a result, the stress applied to the IC chip 23 can be relaxed.

また、本実施の形態において、緩衝材40は支持基材30内部で底面31および側面32に接着されている。このことにより、図7に示すように、側面32に衝撃が加わった場合、この衝撃による応力は、緩衝材40により分散ないし吸収され、応力が特定の箇所に集中することがない。これにより、ICタグ10が被着体60から剥離することが防止される(耐衝撃剥離性が高められている)(図7の矢印参照)。   In the present embodiment, the buffer material 40 is bonded to the bottom surface 31 and the side surface 32 inside the support base material 30. Accordingly, as shown in FIG. 7, when an impact is applied to the side surface 32, the stress due to the impact is dispersed or absorbed by the buffer material 40, and the stress is not concentrated at a specific location. This prevents the IC tag 10 from being peeled from the adherend 60 (impact peel resistance is improved) (see arrow in FIG. 7).

さらに、本実施の形態において、支持基材30内に緩衝材40が充填されているので、緩衝材40と被着体60との接着面積よりも、緩衝材40と支持基材30(底面31および側面32)との接着面積の方が広くなっている。このことにより、ICタグ10を被着体60から剥離する場合、被着体60から緩衝材40を確実に剥離させることができ、緩衝材40が被着体60に付着したまま支持基材30のみが剥離してしまうおそれがない。   Further, in the present embodiment, since the buffer material 40 is filled in the support base material 30, the buffer material 40 and the support base material 30 (the bottom surface 31) are larger than the bonding area between the buffer material 40 and the adherend 60. Further, the adhesion area with the side surface 32) is wider. Thus, when the IC tag 10 is peeled from the adherend 60, the buffer material 40 can be reliably peeled from the adherend 60, and the support base material 30 remains attached to the adherend 60. There is no risk that only will peel off.

第2の実施の形態
次に、図面を参照して本発明の第2の実施の形態について説明する。図8乃至図10は本発明の第2の実施の形態を示す図である。図8乃至図10に示す第2の実施の形態は、平面から見て、支持基材30Aの一側の一部が開口している点が異なるものであり、他の構成は上述した第1の実施の形態と略同一である。図8乃至図10において、図1乃至図7に示す第1の実施の形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 8 to 10 are views showing a second embodiment of the present invention. The second embodiment shown in FIGS. 8 to 10 is different from the plan view in that a part of one side of the support base 30A is opened, and the other configuration is the first embodiment described above. This is substantially the same as the embodiment. 8 to 10, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 7 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図8乃至図10に示すように、本実施の形態によるICタグ10Aは、インレット20と、インレット20を支持する支持基材30Aと、支持基材30A内に充填された緩衝材40とを備えている。   As shown in FIGS. 8 to 10, the IC tag 10A according to the present embodiment includes an inlet 20, a support base 30A that supports the inlet 20, and a cushioning material 40 filled in the support base 30A. ing.

本実施の形態において、支持基材30Aは、インレット20を載置する底面31と、底面31の側部から上方に延びる側面32と、側面32上方に設けられ、底面31の一部を覆う天面34とを有している。   In the present embodiment, the support base 30 </ b> A is provided with a bottom surface 31 on which the inlet 20 is placed, a side surface 32 that extends upward from the side of the bottom surface 31, and a ceiling that covers a part of the bottom surface 31. Surface 34.

この場合、支持基材30Aは、その一側(図8の上側)の一部のみが開口しており、天面34の一部に開口33が形成されている。そして緩衝材40は、支持基材30Aの一側に設けられた開口33から露出している。なお、本明細書において、支持基材30Aの一部が開口するとは、側面32の内側に位置する領域の一部が開口していることをいう。   In this case, the support base material 30 </ b> A has an opening on a part of one side (the upper side in FIG. 8), and an opening 33 is formed on a part of the top surface 34. The cushioning material 40 is exposed from the opening 33 provided on one side of the support base material 30A. In the present specification, that a part of the support base 30A is opened means that a part of the region located inside the side surface 32 is opened.

支持基材30Aの材料としては、上述した第1の実施の形態における支持基材30の材料と同様、例えばポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ABS樹脂等を用いることができる。   As the material of the supporting base material 30A, for example, polypropylene (PP), polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), ABS resin, or the like is used similarly to the material of the supporting base material 30 in the first embodiment described above. Can do.

このほか、インレット20、緩衝材40および剥離シート50の構成については、第1の実施の形態と同様であり、ここでは詳細な説明は省略する。   In addition, the configurations of the inlet 20, the buffer material 40, and the release sheet 50 are the same as those in the first embodiment, and detailed description thereof is omitted here.

第3の実施の形態
次に、図面を参照して本発明の第3の実施の形態について説明する。図11乃至図14は本発明の第3の実施の形態を示す図である。図11乃至図14に示す第3の実施の形態は、支持基材30Bは硬化性ゲル材からなる点が異なるものであり、他の構成は上述した第1の実施の形態と略同一である。図11乃至図14において、図1乃至図7に示す第1の実施の形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
Third Embodiment Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 11 to 14 are views showing a third embodiment of the present invention. The third embodiment shown in FIGS. 11 to 14 is different in that the support base material 30B is made of a curable gel material, and other configurations are substantially the same as those in the first embodiment described above. . 11 to 14, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 7 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図11乃至図13に示すように、本実施の形態によるICタグ10Bは、インレット20と、インレット20を支持する支持基材30Bと、支持基材30B内に充填された緩衝材40とを備えている。   As shown in FIGS. 11 to 13, the IC tag 10B according to the present embodiment includes an inlet 20, a support base material 30B that supports the inlet 20, and a cushioning material 40 filled in the support base material 30B. ing.

本実施の形態において、支持基材30Bは、インレット20を載置する底面31と、底面31の側部から上方に延びる側面32とを有している。この場合、支持基材30Bは、その一側(図11の上側)が全体にわたって開口しており、開口33が形成されている。   In the present embodiment, the support base material 30 </ b> B has a bottom surface 31 on which the inlet 20 is placed and a side surface 32 that extends upward from a side portion of the bottom surface 31. In this case, one side (the upper side in FIG. 11) of the support base material 30 </ b> B is open over the whole, and an opening 33 is formed.

本実施の形態において、支持基材30Bは、硬化性ゲル材からなっている。支持基材30Bの材料は、具体的にはポリウレタンゲル等のウレタン系樹脂またはアクリル系樹脂を挙げることができる。この場合、支持基材30Bと緩衝材40が、同一種類のゲル材からなっていても良く、異なる種類のゲル材からなっていても良い。なお、支持基材30Bの底面31の厚みは、例えば1.0mm〜5.0mmとすることができ、側面32の上端32aにおける厚みは、例えば1.0mm〜5.0mmとすることができる。   In the present embodiment, support substrate 30B is made of a curable gel material. Specific examples of the material of the support base material 30B include urethane resins such as polyurethane gel or acrylic resins. In this case, support base material 30B and buffer material 40 may consist of the same kind of gel material, and may consist of a different kind of gel material. In addition, the thickness of the bottom face 31 of the support base material 30B can be set to 1.0 mm to 5.0 mm, for example, and the thickness at the upper end 32a of the side surface 32 can be set to 1.0 mm to 5.0 mm, for example.

さらに、緩衝材40は、その一部が支持基材30Bの一側(図11の上側)の開口33から露出している。   Further, a part of the buffer material 40 is exposed from the opening 33 on one side (the upper side in FIG. 11) of the support base material 30B.

なお図11に示すように、本実施の形態において、支持基材30Bの側面32は、その内側下端32bが湾曲した断面形状を有しているが、これに限られるものではなく、図1に示す第1の実施の形態と同様、側面32の下端が直線的な断面形状からなっていても良い。   As shown in FIG. 11, in the present embodiment, the side surface 32 of the support base material 30B has a cross-sectional shape with a curved inner lower end 32b. However, the present invention is not limited to this, and FIG. Similar to the first embodiment shown, the lower end of the side surface 32 may have a linear cross-sectional shape.

このほか、インレット20、緩衝材40および剥離シート50の構成については、第1の実施の形態と同様であり、ここでは詳細な説明は省略する。   In addition, the configurations of the inlet 20, the buffer material 40, and the release sheet 50 are the same as those in the first embodiment, and detailed description thereof is omitted here.

次に、このような構成からなるICタグ10Bの製造方法について、図14(a)−(f)を参照して説明する。   Next, a manufacturing method of the IC tag 10B having such a configuration will be described with reference to FIGS.

まず、硬化性ゲル材、例えばポリウレタンゲル等のウレタン系樹脂またはアクリル系樹脂を構成する液体成分を金型65内に注入する。この金型65は、支持基材30Bに対応する内部形状を有している。次に、この液体成分を金型65内で硬化させることにより、支持基材30Bが作製される(図14(a))。この場合、硬化性ゲル材を構成する液体成分に対して予め硬化剤を混入しておくことにより、ゲル材の硬化度を高め、ゲル材を硬化させて自己粘着性を有さないようにすることができる。   First, a liquid component constituting a curable gel material, for example, a urethane resin such as polyurethane gel or an acrylic resin is injected into the mold 65. The mold 65 has an internal shape corresponding to the support base material 30B. Next, the liquid component is cured in the mold 65, thereby producing the support base 30B (FIG. 14A). In this case, by adding a curing agent to the liquid component constituting the curable gel material in advance, the degree of cure of the gel material is increased, and the gel material is cured so as not to have self-adhesiveness. be able to.

支持基材30Bが硬化した後、支持基材30Bを金型65から取り出す(図14(b))。このようにして得られた支持基材30Bは、インレット20を載置する底面31と、底面31の側部から上方に延びる側面32とを有している。   After the support base 30B is cured, the support base 30B is taken out from the mold 65 (FIG. 14B). The support base material 30 </ b> B thus obtained has a bottom surface 31 on which the inlet 20 is placed and a side surface 32 that extends upward from a side portion of the bottom surface 31.

次に、予めインレット基材21と、アンテナ22と、ICチップ23とを含むインレット20を準備しておき、このインレット20を、支持基材30Bの底面31に載置する(図14(c))。この場合、インレット基材21の裏面に接着剤を塗布することにより、インレット20を底面31に固定しても良い。   Next, an inlet 20 including an inlet base material 21, an antenna 22, and an IC chip 23 is prepared in advance, and this inlet 20 is placed on the bottom surface 31 of the support base material 30B (FIG. 14C). ). In this case, the inlet 20 may be fixed to the bottom surface 31 by applying an adhesive to the back surface of the inlet base material 21.

続いて、支持基材30B内に自己粘着性を有する緩衝材40を充填する(図14(d))。この場合、充填用のノズル45を用いて、開口33から液体状態の緩衝材40を注入する。   Subsequently, the buffer material 40 having self-adhesiveness is filled in the support base material 30B (FIG. 14D). In this case, the buffer material 40 in the liquid state is injected from the opening 33 using the nozzle 45 for filling.

所定量の緩衝材40を充填した後、支持基材30B内で緩衝材40を硬化させる(図14(e))。緩衝材40がポリウレタンゲルからなる場合、例えば緩衝材40を25℃〜80℃の温度に加熱することにより、緩衝材40を硬化させることができる。このようにして、図11に示すICタグ10Bが得られる。   After filling a predetermined amount of the buffer material 40, the buffer material 40 is hardened in the support base material 30B (FIG. 14E). When the buffer material 40 is made of polyurethane gel, for example, the buffer material 40 can be cured by heating the buffer material 40 to a temperature of 25 ° C. to 80 ° C. In this way, the IC tag 10B shown in FIG. 11 is obtained.

次いで、緩衝材40のうち一側開口33から露出する部分の表面に、剥離シート50を貼り付ける(図14(f))。   Next, the release sheet 50 is attached to the surface of the portion exposed from the one-side opening 33 in the cushioning material 40 (FIG. 14F).

なお、上記では、緩衝材40を硬化させた後(図14(e))、緩衝材40に剥離シート50を貼り付けているが(図14(f))、これに限らず、緩衝材40に剥離シート50を貼り付けた後、緩衝材40を硬化させても良い。   In the above, after the cushioning material 40 is cured (FIG. 14 (e)), the release sheet 50 is attached to the cushioning material 40 (FIG. 14 (f)). The buffer material 40 may be cured after the release sheet 50 is attached to the substrate.

ところで、図8乃至図10に示す第2の実施の形態と、図11乃至図14に示す第3の実施の形態とを組合せることも可能である。すなわち、図11乃至図14において、支持基材30Bが天面を有し、平面から見て、支持基材30Bの一側の一部のみを開口させても良い。   By the way, it is also possible to combine the second embodiment shown in FIGS. 8 to 10 and the third embodiment shown in FIGS. That is, in FIGS. 11 to 14, the support base material 30 </ b> B may have a top surface, and only a part of one side of the support base material 30 </ b> B may be opened as viewed from the plane.

比較例
ここで比較例によるICタグの一例について説明する。図15は比較例によるICタグが被着体に貼着されている状態を示す断面図である。図15において、図1乃至図7に示す実施の形態と同一部分には同一の符号を付している。
Comparative Example Here, an example of an IC tag according to a comparative example will be described. FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state where an IC tag according to a comparative example is attached to an adherend. In FIG. 15, the same parts as those in the embodiment shown in FIGS. 1 to 7 are denoted by the same reference numerals.

図15において、ICタグ100の支持基材130は、底面131と、側面132と、天面134とを有している。このうち天面134には開口が形成されておらず、天面134によって底面131全体が覆われている。この場合、支持基材130は断面ロ字状であり、その内部には空洞135が形成されている。また、天面134の外側全域にゲル材140が貼着され、これによりICタグ100が被着体60に貼着されている。   In FIG. 15, the support base material 130 of the IC tag 100 has a bottom surface 131, a side surface 132, and a top surface 134. Of these, no opening is formed in the top surface 134, and the entire bottom surface 131 is covered by the top surface 134. In this case, the support base material 130 has a rectangular cross section, and a cavity 135 is formed inside thereof. In addition, the gel material 140 is attached to the entire outside region of the top surface 134, and thereby the IC tag 100 is attached to the adherend 60.

しかしながら、図15に示すICタグ100においては、例えば側面132から衝撃が加わった場合(図15の矢印参照)、衝撃による応力は分散されない。このため、側面132と天面134との間の領域Pに応力が集中しやすく、この結果、ICタグ100が被着体60から剥離しやすい。   However, in the IC tag 100 shown in FIG. 15, for example, when an impact is applied from the side surface 132 (see the arrow in FIG. 15), the stress due to the impact is not dispersed. For this reason, stress tends to concentrate on the region P between the side surface 132 and the top surface 134, and as a result, the IC tag 100 is easily peeled off from the adherend 60.

これに対して本発明によれば、上述のように、側面32に衝撃が加わった場合、衝撃による応力を支持基材30内の緩衝材40が分散ないし吸収するので、ICタグ10が被着体60から剥離することを防止することができる。   On the other hand, according to the present invention, when the impact is applied to the side surface 32 as described above, the shock absorbing material 40 in the support base material 30 disperses or absorbs the stress due to the impact, so that the IC tag 10 is attached. Peeling from the body 60 can be prevented.

10、10A、10B ICタグ
20 インレット
21 インレット基材
22 アンテナ
23 ICチップ
30、30A、30B 支持基材
31 底面
32 側面
33 開口
34 天面
40 緩衝材
50 剥離シート
60 被着体
10, 10A, 10B IC tag 20 Inlet 21 Inlet base material 22 Antenna 23 IC chip 30, 30A, 30B Support base material 31 Bottom surface 32 Side surface 33 Opening 34 Top surface 40 Buffer material 50 Release sheet 60 Substrate

Claims (7)

ICタグにおいて、
インレット基材と、インレット基材上に設けられたアンテナと、アンテナに接合されたICチップとを含むインレットと、
インレットを載置する底面と、底面から延びる側面とを有し、一側が開口する支持基材と、
支持基材内に充填され、一部が支持基材の一側開口から露出するとともに自己粘着性を有する緩衝材とを備え、
緩衝材は、ゲル材からなり、支持基材は、硬化性ゲル材からなることを特徴とするICタグ。
In IC tag,
An inlet including an inlet base, an antenna provided on the inlet base, and an IC chip bonded to the antenna;
A support substrate having a bottom surface on which the inlet is placed, a side surface extending from the bottom surface, and one side opening;
The support base material is filled, and a part of the support base material is exposed from one side opening of the support base material and has a self-adhesive cushioning material,
Cushioning material, Ri Do from the gel material, the supporting substrate, IC tag comprising the cured gel material.
ゲル材は、ウレタン系樹脂またはアクリル系樹脂からなることを特徴とする請求項1記載のICタグ。   2. The IC tag according to claim 1, wherein the gel material is made of urethane resin or acrylic resin. ゲル材の水分量は、0.01重量%〜1.0重量%であることを特徴とする請求項2記載のICタグ。   The IC tag according to claim 2, wherein the moisture content of the gel material is 0.01 wt% to 1.0 wt%. 平面から見て、支持基材の一側の全体が開口していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項記載のICタグ。   The IC tag according to any one of claims 1 to 3, wherein one side of the support base is open as viewed from a plane. 平面から見て、支持基材の一側の一部が開口していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項記載のICタグ。   The IC tag according to any one of claims 1 to 3, wherein a part of one side of the support base is open as viewed from a plane. 緩衝材のうち一側開口から露出する部分の表面に、剥離シートが貼り付けられていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項記載のICタグ。   The IC tag according to any one of claims 1 to 5, wherein a release sheet is attached to a surface of a portion of the cushioning material exposed from the one side opening. 請求項記載のICタグを製造するICタグの製造方法において、
金型内で硬化性ゲル材を硬化させることにより支持基材を作製する工程と、
支持基材の底面にインレットを載置する工程と、
支持基材内に自己粘着性を有する緩衝材を充填する工程とを備えたことを特徴とするICタグの製造方法。
In the manufacturing method of the IC tag which manufactures the IC tag of Claim 1 ,
A step of producing a support substrate by curing a curable gel material in a mold;
Placing the inlet on the bottom surface of the support substrate;
And a step of filling a self-adhesive cushioning material in the support substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015046105A (en) * 2013-08-29 2015-03-12 タキロン株式会社 Electronic tag
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08276459A (en) * 1995-04-06 1996-10-22 Dainippon Printing Co Ltd Non-contact ic card and manufacture thereof
JP3370898B2 (en) * 1997-04-16 2003-01-27 株式会社マースエンジニアリング Manufacturing method of non-contact data carrier
JP2004355519A (en) * 2003-05-30 2004-12-16 Oji Paper Co Ltd Ic label
JP4684729B2 (en) * 2005-04-22 2011-05-18 トッパン・フォームズ株式会社 Non-contact data transmitter / receiver
JP2009015563A (en) * 2007-07-04 2009-01-22 Oji Paper Co Ltd Ic inlet and ic mounting body
JP2010250504A (en) * 2009-04-14 2010-11-04 Fujitsu Ltd Rfid tag and method for manufacturing rfid tag

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