JP5724413B2 - Near-infrared reflective film, method for producing the same, and near-infrared reflector - Google Patents

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Description

本発明は、近赤外反射性、可視光透過性及び耐久性に優れた近赤外反射フィルム、その製造方法及び近赤外反射体に関する。   The present invention relates to a near-infrared reflective film excellent in near-infrared reflectivity, visible light transmittance and durability, a method for producing the same, and a near-infrared reflector.

近年、省エネルギー対策への関心の高まりから、冷房設備にかかる負荷を減らす観点から、建物や車両の窓ガラスに装着させて、太陽光の熱線の透過を遮断する近赤外反射フィルムの要望が高まってきている。   In recent years, with increasing interest in energy saving measures, from the viewpoint of reducing the load on cooling equipment, there is an increasing demand for near-infrared reflective films that can be attached to window glass of buildings and vehicles to block the transmission of solar heat rays. It is coming.

近赤外反射フィルムの形成方法としては、主には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成からなる積層膜を、蒸着法、スパッタ法等のドライ製膜法を用いて形成する方法が提案されている。しかし、ドライ製膜法は、形成に用いる真空装置等が大型になり、製造コストが高く、大面積化が困難であり、しかも、基材として耐熱性素材に限定される等の課題を抱えている。   As a method for forming a near-infrared reflective film, a dry film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method is mainly used for a laminated film having a structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated. There has been proposed a method of forming them. However, the dry film forming method has problems such as a large vacuum apparatus used for forming, high manufacturing cost, difficult to enlarge, and limited to a heat-resistant material as a base material. Yes.

上記のような課題を有しているドライ製膜法に代えて、湿式塗布法を用いて近赤外反射フィルムを形成する方法が知られている。   A method of forming a near-infrared reflective film using a wet coating method instead of the dry film forming method having the above-described problems is known.

例えば、金属酸化物や金属化合物微粒子を含む熱硬化型シリコーン樹脂や紫外線硬化型アクリル樹脂を有機溶媒中に分散させた屈折率層塗布液を、バーコーターを用いた湿式塗布方式により基材上に塗布して透明積層体を形成する方法(例えば、特許文献1参照)や、ルチル型の酸化チタン、複素環系窒素化合物(例えば、ピリジン)、熱硬化型バインダー及び有機溶剤から構成される屈折率塗膜形成用組成物を、バーコーターを用いた湿式塗布方式により基材上に塗布して透明積層体を形成する方法(例えば、特許文献2参照)が開示されている。   For example, a refractive index layer coating solution in which a thermosetting silicone resin or ultraviolet curable acrylic resin containing metal oxide or metal compound fine particles is dispersed in an organic solvent is applied onto a substrate by a wet coating method using a bar coater. Refractive index composed of a method of coating to form a transparent laminate (for example, see Patent Document 1), a rutile type titanium oxide, a heterocyclic nitrogen compound (for example, pyridine), a thermosetting binder, and an organic solvent. A method of forming a transparent laminate by applying a coating film forming composition onto a substrate by a wet coating method using a bar coater (for example, see Patent Document 2) is disclosed.

しかしながら、有機溶剤系で粘度が低く、さらに積層塗布する際に濡れ広がって乾くために目的の膜厚が均一に得られないという問題があった。   However, there is a problem that the target film thickness cannot be obtained uniformly because the viscosity is low in an organic solvent system, and further, the film spreads and dries when laminated.

さらに酸化チタン微粒子と有機ケイ素化合物と多官能アクリル化合物を主成分とする組成物で光照射等により膜を形成する方法(例えば、特許文献3参照)が提案されている。上記構成では、UV照射等により固い膜が作製されるため、さらに積層塗布する場合には表面処理等が必要になり界面が乱れてしまうという問題があった。   Furthermore, a method of forming a film by light irradiation or the like with a composition containing titanium oxide fine particles, an organic silicon compound and a polyfunctional acrylic compound as main components has been proposed (for example, see Patent Document 3). In the above configuration, since a hard film is produced by UV irradiation or the like, there is a problem that a surface treatment or the like is required when further laminating and coating, and the interface is disturbed.

特開平8−110401号公報JP-A-8-110401 特開2004−123766号公報JP 2004-123766 A 特開2001−164117号公報JP 2001-164117 A

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、近赤外反射率及び可視光透過率が高く、膜厚均一性、ヘイズに優れた近赤外反射フィルム及び該近赤外反射フィルムを有する近赤外反射体を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object the near infrared reflective film having high near infrared reflectance and visible light transmittance, excellent film thickness uniformity and haze, and the near infrared. It is providing the near-infrared reflector which has a reflecting film.

本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

基材上に、高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットを少なくとも1つ有し、該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が0.1以上である近赤外反射フィルムにおいて、該高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1層が、表面を低分子ゼラチンで被覆した金属酸化物粒子、及び下記一般式(I)で表される構造単位を含む水溶性ポリマーAを含有することを特徴とする近赤外反射フィルム。 Near-red having at least one unit composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer on a substrate, and having a refractive index difference of 0.1 or more between the high refractive index layer and the low refractive index layer In the external reflection film, at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains a metal oxide particle whose surface is coated with low molecular gelatin , and a water solution containing a structural unit represented by the following general formula (I) A near-infrared reflective film comprising a functional polymer A.

(式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、Qは−C(=O)O−、または−C(=O)NRa−を表す。Raは水素原子またはアルキル基を表し、Aは置換もしくは無置換アルキレン基、または−(CHCHRbO)x−CHCHRb−を表す。Rbは水素原子またはアルキル基を表し、xは平均繰り返しユニット数を表す。 (In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, Q represents —C (═O) O—, or —C (═O) NRa—, Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, and A represents a substituted group). or unsubstituted alkylene group or, - (CH 2 CHRbO) .Rb representing the x-CH 2 CHRb- represents a hydrogen atom or an alkyl group, x represents the average number of repeating units).

.さらに、反応性官能基を有するポリマー、無機ポリマー、増粘多糖類及びゼラチンから選ばれる水溶性ポリマーBを含有することを特徴とする前記に記載の近赤外反射フィルム。 2 . 2. The near-infrared reflective film as described in 1 above, further comprising a water-soluble polymer B selected from a polymer having a reactive functional group, an inorganic polymer, a thickening polysaccharide and gelatin.

.さらに、カチオン系界面活性剤を含有することを特徴とする前記1または2に記載の近赤外反射フィルム。 3 . The near-infrared reflective film as described in 1 or 2 above, further comprising a cationic surfactant.

.前記1〜のいずれか1項に記載の近赤外反射フィルムの製造方法であって、少なくとも2つの層を同時重層塗布することを特徴とする近赤外反射フィルムの製造方法。 4 . 4. The method for producing a near-infrared reflective film according to any one of 1 to 3 , wherein at least two layers are coated simultaneously.

.基体の少なくとも一方の面側に、前記1〜のいずれか1項に記載の近赤外反射フ
ィルムまたは前記に記載の近赤外反射フィルムの製造方法で得られた近赤外反射フィル
ムを有することを特徴とする近赤外反射体。
5 . The near-infrared reflective film obtained by the manufacturing method of the near-infrared reflective film of any one of said 1-3 or the said near-infrared reflective film of said 4 is provided in the at least one surface side of a base | substrate. A near-infrared reflector, comprising:

本発明により、近赤外反射率及び可視光透過率が高く、膜厚均一性、ヘイズに優れた近赤外反射フィルム及び該近赤外反射フィルムを有する近赤外反射体を提供することができた。   According to the present invention, a near-infrared reflective film having high near-infrared reflectance and visible light transmittance, excellent film thickness uniformity and haze, and a near-infrared reflector having the near-infrared reflective film are provided. did it.

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、基材上に、高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットを少なくとも1つ有し、該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が0.1以上である近赤外反射フィルムにおいて、該高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1層が、表面を被覆した金属酸化物粒子、及び前記一般式(I)で表される構造単位を含む水溶性ポリマーAを含有する近赤外反射フィルムにより、近赤外反射率及び可視光透過率が高く、膜厚均一性、ヘイズに優れた近赤外反射フィルム及び該近赤外反射フィルムを有する近赤外反射体を実現できることを見出し、本発明に至った次第である。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor has at least one unit composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer on a substrate, and the high refractive index layer and the low refractive index In the near-infrared reflective film having a refractive index difference of 0.1 or more with respect to the refractive index layer, at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer is coated with metal oxide particles, and the general formula The near-infrared reflective film containing the water-soluble polymer A containing the structural unit represented by (I) has a high near-infrared reflectance and visible light transmittance, and a near-infrared excellent in film thickness uniformity and haze. It has been found that a reflection film and a near-infrared reflector having the near-infrared reflection film can be realized, and the present invention has been achieved.

すなわち、前記一般式(I)で表される構造単位を含む水溶性ポリマーAを、表面を被覆した金属酸化物粒子に添加することで、塗布液の状態では微粒子等は凝集せず、温度を変化させたり、水が揮発していく段階で反応し、ゲル状態へ変化することにより塗布膜厚が均一化できることが分かった。   That is, by adding the water-soluble polymer A containing the structural unit represented by the general formula (I) to the metal oxide particles coated on the surface, the fine particles and the like do not aggregate in the state of the coating solution, and the temperature is increased. It was found that the coating film thickness can be made uniform by reacting and changing to a gel state when water is volatilized.

以下、本発明の近赤外反射フィルムの構成要素、及び本発明を実施するための形態等について詳細な説明をする。   Hereinafter, the component of the near-infrared reflective film of this invention, the form for implementing this invention, etc. are demonstrated in detail.

《近赤外反射フィルム》
本発明の近赤外反射フィルムは、基材上に、高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットを少なくとも1つ有し、該高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1層が、表面を被覆した金属酸化物粒子、及び前記一般式(I)で表される構造単位を含む水溶性ポリマーAを含有することを特徴とする近赤外反射フィルムであるが、近赤外反射フィルムの基本光学特性としては、該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が0.1以上であることを特徴とする。
《Near-infrared reflective film》
The near-infrared reflective film of the present invention has at least one unit composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer on a substrate, and at least one layer of the high refractive index layer and the low refractive index layer. Is a near-infrared reflective film characterized in that it contains a metal oxide particle coated with a surface and a water-soluble polymer A containing the structural unit represented by the general formula (I). The basic optical characteristics of the reflective film are characterized in that the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is 0.1 or more.

また、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率としては、50%以上で、かつ、波長900〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。   Moreover, as a transmittance | permeability of visible light region shown by JISR3106-1998, it is preferable to have the area | region which exceeds 50% in the area | region of a wavelength 900-1400nm 50% or more.

一般に、近赤外反射フィルムにおいては、高屈折率層と低屈折率層の屈折率の差は大きいほど、少ない層数で赤外反射率を高くすることができる観点で好ましいが、本発明では、高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットの少なくとも1つが、隣接する該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が0.1以上であることを特徴とし、好ましくは0.3以上であり、特に好ましくは0.4以上である。   In general, in the near-infrared reflective film, the larger the difference in refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer, the better from the viewpoint that the infrared reflectance can be increased with a small number of layers. Preferably, at least one of the units composed of the high refractive index layer and the low refractive index layer has a difference in refractive index between the adjacent high refractive index layer and low refractive index layer of 0.1 or more, preferably Is 0.3 or more, particularly preferably 0.4 or more.

特定波長領域の反射率は、隣接する2層の屈折率差と積層数で決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率90%以上を得るためには、屈折率差が0.1より小さいと、100層を越える層数が必要となり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、また故障なく製造することも非常に困難になる。反射率の向上と層数を少なくする観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には1.40程度が限界である。   The reflectance in the specific wavelength region is determined by the difference in refractive index between two adjacent layers and the number of stacked layers, and the larger the difference in refractive index, the same reflectance can be obtained with a smaller number of layers. The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. For example, in order to obtain an infrared reflectance of 90% or more, if the refractive index difference is smaller than 0.1, the number of layers exceeding 100 layers is required, which not only decreases productivity but also scattering at the laminated interface. Becomes larger, the transparency is lowered, and it becomes very difficult to manufacture without failure. From the viewpoint of improving reflectivity and reducing the number of layers, there is no upper limit to the difference in refractive index, but the limit is substantially about 1.40.

《近赤外反射フィルムの構成》
次いで、本発明の近赤外反射フィルムにおける高屈折率層と低屈折率層の基本的な構成について説明する。
<< Configuration of near-infrared reflective film >>
Next, the basic configuration of the high refractive index layer and the low refractive index layer in the near-infrared reflective film of the present invention will be described.

本発明の近赤外反射フィルムにおいては、基材上に、高屈折率層と低屈折率層から構成され、該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が0.1以上であるユニットを少なくとも1つ積層した構成であればよいが、好ましい高屈折率層と低屈折率層の層数としては、上記の観点から、総層数の範囲としては、100層以下、すなわち50ユニット以下であり、より好ましくは40層(20ユニット)以下であり、さらに好ましくは20層(10ユニット)以下である。   In the near-infrared reflective film of the present invention, the substrate is composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer, and the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is 0.1 or more. A configuration in which at least one unit is laminated may be used. However, the preferred number of layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer is, from the above viewpoint, the range of the total number of layers is 100 layers or less, that is, 50 No more than units, more preferably no more than 40 layers (20 units) and even more preferably no more than 20 layers (10 units).

また、本発明の近赤外反射フィルムにおいては、高屈折率層の好ましい屈折率としては1.80〜2.50であり、より好ましくは1.90〜2.20である。また、低屈折率層の好ましい屈折率としては1.10〜1.60であり、より好ましくは1.30〜1.50である。   Moreover, in the near-infrared reflective film of this invention, as a preferable refractive index of a high refractive index layer, it is 1.80-2.50, More preferably, it is 1.90-2.20. Moreover, as a preferable refractive index of a low-refractive-index layer, it is 1.10-1.60, More preferably, it is 1.30-1.50.

本発明の近赤外反射フィルムにおいては、基材に隣接する層が、酸化珪素を含む低屈折率層で、最表層も酸化珪素を含む低屈折率層である層構成が好ましい。   In the near-infrared reflective film of the present invention, a layer configuration in which the layer adjacent to the substrate is a low refractive index layer containing silicon oxide and the outermost layer is also a low refractive index layer containing silicon oxide is preferable.

本発明において、高屈折率層、低屈折率層の屈折率は、下記の方法に従って求めることができる。   In the present invention, the refractive indexes of the high refractive index layer and the low refractive index layer can be determined according to the following method.

基材上に屈折率を測定する各屈折率層を単層で塗設したサンプルを作製し、このサンプルを10cm×10cmに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。   A sample in which each refractive index layer for measuring a refractive index is coated as a single layer on a substrate is prepared, and the sample is cut into 10 cm × 10 cm, and then the refractive index is obtained according to the following method.

分光光度計として、U−4000型(日立製作所社製)を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400〜700nm)の反射率を25点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。   Using a U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.) as a spectrophotometer, the back side on the measurement side of each sample is roughened, and then light absorption is performed with a black spray to reflect light on the back side. In this case, the reflectance of the visible light region (400 to 700 nm) is measured at 25 points under the condition of regular reflection at 5 degrees to obtain an average value, and the average refractive index is obtained from the measurement result.

《近赤外反射フィルムの構成要素》
以下、本発明の近赤外反射フィルムの各構成要素の詳細に付いて説明する。
《NIR reflection film components》
Hereinafter, details of each component of the near-infrared reflective film of the present invention will be described.

〔基材〕
本発明の近赤外反射フィルムに適用する基材としては、フィルム支持体であることが好ましく、フィルム支持体は、透明であっても不透明であってもよく、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。
〔Base material〕
The substrate applied to the near-infrared reflective film of the present invention is preferably a film support, and the film support may be transparent or opaque, and various resin films may be used. Polyolefin films (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester films (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, cellulose acetate, etc. can be used, and polyester films are preferred.

ポリエステルフィルム(以降ポリエステルと称す)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。   Although it does not specifically limit as a polyester film (henceforth polyester), It is preferable that it is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components.

主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸等を挙げることができる。   The main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples include cyclohexane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl thioether dicarboxylic acid, diphenyl ketone dicarboxylic acid, and phenylindane dicarboxylic acid.

また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオール等を挙げることができる。   Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-Hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol fluorene hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like.

これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性等の点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや1,4−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、及びこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。   Among the polyesters having these as main components, from the viewpoints of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., as dicarboxylic acid components, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diol components as ethylene glycol and 1 Polyester having 1,4-cyclohexanedimethanol as the main constituent is preferred. Among these, polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.

本発明に係るフィルム支持体の厚みは、10〜300μmであることが好ましく、より好ましくは20〜150μmである。また、本発明のフィルム支持体は、2枚を重ねたものであっても良く、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。   The thickness of the film support according to the present invention is preferably 10 to 300 μm, more preferably 20 to 150 μm. The film support of the present invention may be a laminate of two sheets, and in this case, the type may be the same or different.

〔金属酸化物粒子〕
本発明に係る高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1層は、表面を被覆した金属酸化物粒子を含有することを特徴とするが、好ましくは、高屈折率層及び低屈折率層が表面を被覆した金属酸化物粒子を含有することが好ましい態様である。
[Metal oxide particles]
At least one of the high-refractive index layer and the low-refractive index layer according to the present invention is characterized by containing metal oxide particles coated on the surface. Preferably, the high-refractive index layer and the low-refractive index layer include It is a preferred embodiment that the surface contains metal oxide particles coated.

本発明に係る金属酸化物としては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズを挙げることができる。   Examples of the metal oxide according to the present invention include titanium dioxide, zirconium oxide, zinc oxide, synthetic amorphous silica, colloidal silica, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide. And ferric oxide, iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, and tin oxide.

高屈折率層及び低屈折率層中の金属酸化物の含有量は、50〜95質量%が好ましく、60〜90質量%がより好ましい。金属酸化物の含有量を50質量%以上とすることにより、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差を大きくすることが容易となり、金属酸化物の含有量を95質量%以下とすることにより、膜の柔軟性が得られ、近赤外反射フィルムを形成することが容易となる。   50-95 mass% is preferable and, as for content of the metal oxide in a high refractive index layer and a low refractive index layer, 60-90 mass% is more preferable. By setting the content of the metal oxide to 50% by mass or more, it becomes easy to increase the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer, and the content of the metal oxide is set to 95% by mass or less. Thereby, the flexibility of the film is obtained, and it becomes easy to form a near-infrared reflective film.

また、各屈折率層において、金属酸化物粒子と各層を構成するバインダーの一つである一般式(I)で表される構造単位を含む水溶性ポリマーAとの質量比としては、0.1〜20の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.5〜10である。   In each refractive index layer, the mass ratio between the metal oxide particles and the water-soluble polymer A containing the structural unit represented by the general formula (I), which is one of the binders constituting each layer, is 0.1. It is preferable that it is the range of -20, More preferably, it is 0.5-10.

本発明に係る高屈折率層の形成に用いる金属酸化物粒子の金属酸化物としては、TiO、ZnO、ZrOが好ましく、金属酸化物粒子含有組成物の安定性の観点ではTiOがより好ましい。また、TiOの中でもルチル型が、触媒活性が低いために高屈折率層や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高いことから好ましい。 As the metal oxide of the metal oxide particles used for forming the high refractive index layer according to the present invention, TiO 2 , ZnO, and ZrO 2 are preferable, and TiO 2 is more preferable from the viewpoint of the stability of the metal oxide particle-containing composition. preferable. Of TiO 2, the rutile type is preferable because the catalyst activity is low and the weather resistance of the high refractive index layer and the adjacent layer is high, and the refractive index is high.

本発明では高屈折率層を形成する塗布液の調製に二酸化チタンゾルを用いることが望ましいが、その二酸化チタンゾルの調製法方法としては、例えば、特開昭63−17221号公報、特開平7−819号公報、同9−165218号公報、同11−43327号公報等参照にすることができる。   In the present invention, it is desirable to use a titanium dioxide sol for the preparation of a coating solution for forming a high refractive index layer. Examples of methods for preparing the titanium dioxide sol include JP-A-63-17221 and JP-A-7-819. Nos. 9, 9-165218, 11-43327, etc. can be referred to.

また、その他の二酸化チタンゾルの調製方法としては、例えば、特開昭63−17221号公報、特開平7−819号公報、同9−165218号公報、同11−43327号公報等参照にすることができる。   As other methods for preparing titanium dioxide sol, for example, refer to JP-A-63-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218, and JP-A-11-43327. it can.

二酸化チタン微粒子の好ましい一次粒子径は、4〜50nmであり、より好ましくは4〜30nmである。   The preferable primary particle diameter of the titanium dioxide fine particles is 4 to 50 nm, and more preferably 4 to 30 nm.

本発明に係る低屈折率層においては、金属酸化物粒子としては、二酸化ケイ素粒子を用いることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることが特に好ましい。   In the low refractive index layer according to the present invention, as the metal oxide particles, silicon dioxide particles are preferably used, and acidic colloidal silica sol is particularly preferably used.

本発明に係る二酸化ケイ素粒子は、その平均粒径が100nm以下であることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径(塗設前の分散液状態での粒径)は、20nm以下のものが好ましく、より好ましくは10nm以下である。また二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   The silicon dioxide particles according to the present invention preferably have an average particle size of 100 nm or less. The average particle diameter of primary particles of silicon dioxide dispersed in a primary particle state (particle diameter in a dispersion state before coating) is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less. In addition, the average particle size of the secondary particles is preferably 30 nm or less from the viewpoint of low haze and excellent visible light transmittance.

本発明に係る酸化チタン粒子の体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれd1、d2・・・di・・・dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2・・・ni・・・nk個存在する酸化チタン粒子の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径である。   The volume average particle diameter of the titanium oxide particles according to the present invention is a method of observing the particles themselves using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope, or appears on the cross section or surface of the refractive index layer. The particle diameter of 1,000 arbitrary particles is measured by a method of observing the particle image with an electron microscope, and particles having particle diameters of d1, d2,. ··························· In a group of nk titanium oxide particles, where the volume per particle is vi, the volume average particle diameter mv = {Σ (vi · di)} / {Σ (vi) } The average particle size weighted by the volume represented by

本発明においては、金属酸化物微粒子は表面を被覆することを特徴とする。   In the present invention, the metal oxide fine particles cover the surface.

金属酸化物微粒子の表面を被覆する化合物としては、例えば電荷を調整する場合にはポリ塩化アルミニウム、ジルコニウム塩等の多価金属化合物でもよいし、アミノカルボン酸類、アミノポリカルボン酸、ピリジン誘導体及びコラーゲンペプチド、低分子ゼラチン等も好ましい。   The compound that coats the surface of the metal oxide fine particles may be, for example, a polyvalent metal compound such as polyaluminum chloride or zirconium salt in the case of adjusting the charge, aminocarboxylic acids, aminopolycarboxylic acids, pyridine derivatives and collagen. Peptides, low molecular gelatin and the like are also preferable.

本発明においては、重量平均分子量が3万以下である低分子量ゼラチンまたはコラーゲンペプチドが最も好ましいが、低分子量ゼラチン等を添加する際のショックを軽減するために、あらかじめ金属酸化物微粒子の表面をポリ塩化アルミニウム等で被覆するというように2種以上の化合物で被覆することも可能である。   In the present invention, low molecular weight gelatin or collagen peptide having a weight average molecular weight of 30,000 or less is most preferable. However, in order to reduce shock when low molecular weight gelatin or the like is added, the surface of the metal oxide fine particles is preliminarily coated. It is also possible to coat with two or more compounds such as coating with aluminum chloride or the like.

〈低分子量ゼラチン、コラーゲンペプチド〉
本発明に係る低分子量ゼラチンまたはコラーゲンペプチドは、重量平均分子量が3万以下であることが好ましい。
<Low molecular weight gelatin, collagen peptide>
The low molecular weight gelatin or collagen peptide according to the present invention preferably has a weight average molecular weight of 30,000 or less.

本発明でいうコラーゲンペプチドとは、ゼラチンに低分子化処理を施して、ゾルゲル変化を発現させなくしたタンパク質であると定義する。   The collagen peptide as used in the present invention is defined as a protein obtained by subjecting gelatin to low molecular weight treatment so that sol-gel change is not expressed.

本発明に係る低分子量ゼラチンやコラーゲンペプチドは、重量平均分子量が3万以下のものであるが、より好ましくは2,000〜30,000であり、特に好ましくは5,000〜25,000である。   The low molecular weight gelatin or collagen peptide according to the present invention has a weight average molecular weight of 30,000 or less, more preferably 2,000 to 30,000, and particularly preferably 5,000 to 25,000. .

低分子量ゼラチンやコラーゲンペプチドの重量平均分子量は、ゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンあるいはコラーゲンペプチドは、通常用いられる重量平均分子量10万程度の高分子ゼラチンの水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解したり、酸またはアルカリを加えて加熱し加水分解したり、大気圧下または加圧下での加熱により熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方法を併用したりして得ることができる。   The weight average molecular weight of low molecular weight gelatin or collagen peptide can be measured by gel filtration chromatography. Low molecular weight gelatin or collagen peptides are hydrolyzed by adding gelatin-degrading enzyme to a commonly used polymer gelatin aqueous solution having a weight average molecular weight of about 100,000, hydrolyzing by adding acid or alkali, and atmospheric pressure. It can be obtained by thermal decomposition by heating under or under pressure, decomposition by ultrasonic irradiation, or a combination of these methods.

より具体的には、本発明に係る低分子量ゼラチンやコラーゲンペプチドは、次のようにして調製することができる。   More specifically, the low molecular weight gelatin and collagen peptide according to the present invention can be prepared as follows.

通常用いられる重量平均分子量が10万以上の高分子ゼラチンを水に溶かし、ゼラチン分解酵素を加えて、ゼラチン分子を酵素分解する。この方法については、R.J.Cox.Photographic Gelatin II,Academic Press,London,1976年、P233〜251、P335〜P346の記載を参考にすることができる。この場合、酵素が分解する結合位置は決まっているため、比較的分子量分布の狭い低分子量ゼラチンが得られ、好ましい。この場合、酵素分解時間を長くする程、より低分子量化する。その他、低pH(pH1〜3)もしくは高pH(pH10〜12)雰囲気下で加熱し、加水分解する方法もある。重量平均分子量が3万以下で、本発明の効果が大きくなる。重量平均分子量2000以上のゼラチンやコラーゲンペプチドが製造しやすい。   Generally used high molecular gelatin having a weight average molecular weight of 100,000 or more is dissolved in water, and gelatinolytic enzyme is added to enzymatically decompose gelatin molecules. For this method, see R.A. J. et al. Cox. Reference can be made to the description of Photographic Gelatin II, Academic Press, London, 1976, P233-251, P335-P346. In this case, since the binding position where the enzyme decomposes is determined, low molecular weight gelatin having a relatively narrow molecular weight distribution can be obtained, which is preferable. In this case, the longer the enzymatic decomposition time, the lower the molecular weight. In addition, there is a method of heating in a low pH (pH 1 to 3) or high pH (pH 10 to 12) atmosphere for hydrolysis. When the weight average molecular weight is 30,000 or less, the effect of the present invention is enhanced. Gelatin and collagen peptides having a weight average molecular weight of 2000 or more are easy to produce.

本発明に係る低分子ゼラチンやコラーゲンペプチドにおいては、上記低分子ゼラチンやコラーゲンペプチドの調製工程において、原料として用いる重量平均分子量が10万以上の高分子ゼラチンの分解を十分に行い、その含有量が1.0質量%以下となるように高分子ゼラチン分子の酵素分解を最適に行うため、ゼラチン分解酵素の種類、添加量や、酵素分解時の温度や時間等の条件を適宜設定することが好ましい。   In the low molecular gelatin or collagen peptide according to the present invention, in the preparation step of the low molecular gelatin or collagen peptide, the high molecular gelatin having a weight average molecular weight of 100,000 or more used as a raw material is sufficiently decomposed, and its content is In order to optimally perform enzymatic degradation of high molecular gelatin molecules so as to be 1.0% by mass or less, it is preferable to appropriately set conditions such as the type and amount of gelatinolytic enzyme, temperature and time during enzymatic degradation. .

〈金属酸化物微粒子の表面被覆方法〉
金属酸化物微粒子の表面被覆方法としては、金属酸化物微粒子の分散液に、表面被覆材料を添加し、必要に応じて加温したり、酸またはアルカリを加えたりして調製する方法が挙げられる。具体的には、例えば酸化チタン粒子ゾル(金属酸化物微粒子)を攪拌しながら50℃まで昇温した後、低分子ゼラチン(表面被覆材料)を添加して30分間攪拌し、酸化チタン粒子表面を低分子ゼラチンで被覆する。
<Surface coating method of metal oxide fine particles>
Examples of the method for coating the surface of the metal oxide fine particles include a method in which a surface coating material is added to the dispersion of the metal oxide fine particles and heated as necessary, or an acid or alkali is added. . Specifically, for example, the temperature of the titanium oxide particle sol (metal oxide fine particles) is raised to 50 ° C. while stirring, and then low molecular gelatin (surface coating material) is added and stirred for 30 minutes. Cover with low molecular gelatin.

[一般式(I)で表される構造単位を含む水溶性ポリマーA]
本発明は、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1層が、前記一般式(I)で表される構造単位を含む水溶性ポリマーAを含有することを特徴とする。
[Water-soluble polymer A containing a structural unit represented by formula (I)]
The present invention is characterized in that at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains the water-soluble polymer A containing the structural unit represented by the general formula (I).

本発明において水溶性ポリマーAとは、水溶性で、かつ、25℃の水100gに0.001g以上溶解するポリマーを意味する。前記溶解は、ヘイズメーターや濁度計で測定することができる。   In the present invention, the water-soluble polymer A means a polymer that is water-soluble and dissolves 0.001 g or more in 100 g of water at 25 ° C. The dissolution can be measured with a haze meter or a turbidimeter.

本発明に係る水溶性ポリマーAは、前記一般式(I)で表される構造単位を含む構造を有し、前記一般式(I)で表されるホモポリマーであってもよいし、他の成分が共重合されていてもよい。他の成分を共重合する場合は、前記一般式(I)で表される構造単位を10モル%以上含有することが好ましく、30モル%以上含有することがより好ましく、50モル%以上含有することがさらに好ましい。   The water-soluble polymer A according to the present invention has a structure including the structural unit represented by the general formula (I), and may be a homopolymer represented by the general formula (I). The components may be copolymerized. When copolymerizing other components, the structural unit represented by the general formula (I) is preferably contained in an amount of 10 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, and more preferably 50 mol% or more. More preferably.

また、水溶性ポリマーAは、層中に40〜80質量%含まれていることが好ましく、50〜70質量%であることがさらに好ましい。   Moreover, it is preferable that 40-80 mass% of water-soluble polymers A are contained in a layer, and it is more preferable that it is 50-70 mass%.

一般式(I)において、Rは水素原子またはメチル基を表し、Qは−C(=O)O−、または−C(=O)NRa−を表す。Raは水素原子またはアルキル基を表し、Aは置換もしくは無置換アルキレン基、または−(CHCHRbO)x−CHCHRb−を表す。Rbは水素原子またはアルキル基を表し、xは平均繰り返しユニット数を表す。 In the general formula (I), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and Q represents —C (═O) O— or —C (═O) NRa—. Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, or — (CH 2 CHRbO) x —CH 2 CHRb—. Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group, and x represents the average number of repeating units.

Raで表されるアルキル基としては、例えば炭素原子数1〜5の直鎖、あるいは分岐アルキル基が好ましく、より好ましくはメチル基である。また、これらのアルキル基は置換基で置換されていてもよい。これら置換基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルカルボンアミド基、アリールカルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基等が挙げられる。これらのうち好ましくは、水酸基、アルキルオキシ基である。   As the alkyl group represented by Ra, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable. Moreover, these alkyl groups may be substituted with a substituent. Examples of these substituents include alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, heterocycloalkyl groups, heteroaryl groups, hydroxyl groups, halogen atoms, alkoxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, cycloalkoxy groups, aryloxy groups, acyls. Group, alkylcarbonamide group, arylcarbonamide group, alkylsulfonamide group, arylsulfonamide group, ureido group, aralkyl group, nitro group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, alkylcarbamoyl group, aryl Rucarbamoyl group, alkylsulfamoyl group, arylsulfamoyl group, acyloxy group, alkenyl group, alkynyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkyloxysulfonyl group, Lumpur oxysulfonyl group, an alkylsulfonyloxy group, an aryl sulfonyloxy group. Of these, a hydroxyl group and an alkyloxy group are preferable.

前記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

前記アルキル基は分岐を有していてもよく、炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜8であることがさらに好ましい。アルキル基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられる。   The alkyl group may have a branch, and the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, and still more preferably 1 to 8. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, hexyl group, octyl group and the like.

前記シクロアルキル基の炭素原子数は3〜20であることが好ましく、3〜12であることがより好ましく、3〜8であることがさらに好ましい。シクロアルキル基の例には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。   The cycloalkyl group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 12, and still more preferably 3 to 8. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.

前記アルコキシ基は、分岐を有していてもよく、炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜6であることがさらに好ましく、1〜4であることが最も好ましい。アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−メトキシ−2−エトキシエトキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基及びオクチルオキシ基が挙げられ、好ましくはエトキシ基である。   The alkoxy group may have a branch, and the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, still more preferably 1 to 6, and further preferably 1 to 4. Most preferably. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a 2-methoxyethoxy group, a 2-methoxy-2-ethoxyethoxy group, a butyloxy group, a hexyloxy group, and an octyloxy group, and preferably an ethoxy group.

前記アルキルチオ基の炭素数は、分岐を有していてもよく、炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜6であることがさらに好ましく、1〜4であることが最も好ましい。アルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基等が挙げられる。   The number of carbon atoms of the alkylthio group may be branched, and the number of carbon atoms is preferably 1-20, more preferably 1-12, even more preferably 1-6, Most preferably, it is 1-4. Examples of the alkylthio group include a methylthio group and an ethylthio group.

前記アリールチオ基の炭素数は、6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールチオ基の例にはフェニルチオ基及びナフチルチオ基等が挙げられる。   The arylthio group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the arylthio group include a phenylthio group and a naphthylthio group.

前記シクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜12であることが好ましく、より好ましくは3〜8である。シクロアルコキシ基の例には、シクロプロポキシ基、シクロブチロキシ基、シクロペンチロキシ基及びシクロヘキシロキシ基が挙げられる。   The cycloalkoxy group preferably has 3 to 12 carbon atoms, and more preferably 3 to 8 carbon atoms. Examples of the cycloalkoxy group include a cyclopropoxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, and a cyclohexyloxy group.

前記アリール基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリール基の例にはフェニル基及びナフチル基が挙げられる。   The aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

前記アリールオキシ基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールオキシ基の例にはフェノキシ基及びナフトキシ基が挙げられる。   The aryloxy group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryloxy group include a phenoxy group and a naphthoxy group.

前記ヘテロシクロアルキル基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましく、3〜5であることがさらに好ましい。ヘテロシクロアルキル基の例にはピペリジノ基、ジオキサニル基及び2−モルホリニル基が挙げられる。   The heterocycloalkyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, and more preferably 3 to 5 carbon atoms. Examples of heterocycloalkyl groups include piperidino groups, dioxanyl groups and 2-morpholinyl groups.

前記ヘテロアリール基の炭素原子数は、3〜20であることが好ましく、3〜10であることがさらに好ましい。ヘテロアリール基の例にはチエニル基、ピリジル基が挙げられる。   The heteroaryl group preferably has 3 to 20 carbon atoms, and more preferably 3 to 10 carbon atoms. Examples of the heteroaryl group include a thienyl group and a pyridyl group.

前記アシル基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アシル基の例にはホルミル基、アセチル基及びベンゾイル基が挙げられる。   The acyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of acyl groups include formyl, acetyl and benzoyl groups.

前記アルキルカルボンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アルキルカルボンアミド基の例にはアセトアミド基等が挙げられる。   The alkylcarbonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylcarbonamide group include an acetamide group.

前記アリールカルボンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アリールカルボンアミド基の例にはベンズアミド基等が挙げられる。   The arylcarbonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the arylcarbonamide group include a benzamide group.

前記アルキルスルホンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。スルホンアミド基の例にはメタンスルホンアミド基等が挙げられる。   The alkylsulfonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the sulfonamido group include a methanesulfonamido group.

前記アリールスルホンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アリールスルホンアミド基の例には、ベンゼンスルホンアミド基及びp−トルエンスルホンアミドが基含まれる。   The arylsulfonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the arylsulfonamide group include a benzenesulfonamide group and p-toluenesulfonamide group.

前記アラルキル基の炭素原子数は7〜20であることが好ましく、7〜12であることがさらに好ましい。アラルキル基の例にはベンジル基、フェネチル基及びナフチルメチル基が挙げられる。   The aralkyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms, and more preferably 7 to 12 carbon atoms. Examples of aralkyl groups include benzyl, phenethyl and naphthylmethyl groups.

前記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、2〜12であることがさらに好ましい。アルコキシカルボニル基の例にはメトキシカルボニル基が挙げられる。   The alkoxycarbonyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group.

前記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は7〜20であることが好ましく、7〜12であることがさらに好ましい。アリールオキシカルボニル基の例にはフェノキシカルボニル基が挙げられる。   The aryloxycarbonyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms, and more preferably 7 to 12 carbon atoms. Examples of the aryloxycarbonyl group include a phenoxycarbonyl group.

前記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は8〜20であることが好ましく、8〜12であることがさらに好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例にはベンジルオキシカルボニル基が挙げられる。   The number of carbon atoms in the aralkyloxycarbonyl group is preferably 8-20, and more preferably 8-12. Examples of the aralkyloxycarbonyl group include a benzyloxycarbonyl group.

前記アシルオキシ基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、2〜12であることがさらに好ましい。アシルオキシ基の例にはアセトキシ基及びベンゾイルオキシ基が挙げられる。   The acyloxy group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the acyloxy group include an acetoxy group and a benzoyloxy group.

前記アルケニル基の炭素原子数は2〜20であることが好ましく、2〜12であることがさらに好ましい。アルケニル基の例に、ビニル基、アリル基及びイソプロペニル基が挙げられる。   The alkenyl group has preferably 2 to 20 carbon atoms, and more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of alkenyl groups include vinyl, allyl and isopropenyl groups.

前記アルキニル基の炭素原子数は2〜20であることが好ましく、2〜12であることがさらに好ましい。アルキニル基の例にはエチニル基が挙げられる。   The alkynyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, and more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of alkynyl groups include ethynyl groups.

前記アルキルスルホニル基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アルキルスルホニル基の例に、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基が挙げられる。   The alkylsulfonyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyl group include a methylsulfonyl group and an ethylsulfonyl group.

前記アリールスルホニル基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールスルホニル基の例に、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基が挙げられる。   The arylsulfonyl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the arylsulfonyl group include a phenylsulfonyl group and a naphthylsulfonyl group.

前記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は1〜20あることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アルキルオキシスルホニル基の例に、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基が挙げられる。   The alkyloxysulfonyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyloxysulfonyl group include a methoxysulfonyl group and an ethoxysulfonyl group.

前記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールオキシスルホニル基の例に、フェノキシスルホニル基、ナフトキシスルホニル基が挙げられる。   The aryloxysulfonyl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryloxysulfonyl group include a phenoxysulfonyl group and a naphthoxysulfonyl group.

前記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アルキルスルホニルオキシ基の例に、メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基が挙げられる。   The alkylsulfonyloxy group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyloxy group include a methylsulfonyloxy group and an ethylsulfonyloxy group.

前記アリールスルホニルオキシ基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールスルホニルオキシ基の例に、フェニルスルホニルオキシ基、ナフチルスルホニルオキシ基が挙げられる。置換基は同一でも異なっていても良く、これら置換基がさらに置換されてもよい。   The arylsulfonyloxy group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the arylsulfonyloxy group include a phenylsulfonyloxy group and a naphthylsulfonyloxy group. The substituents may be the same or different, and these substituents may be further substituted.

一般式(I)において、Aは置換もしくは無置換アルキレン基、または−(CHCHRbO)x−CHCHRb−を表す。Rbは水素原子またはアルキル基を表し、xは平均繰り返しユニット数を表す。 In general formula (I), A is a substituted or unsubstituted alkylene group, or - represents CHRb- a (CH 2 CHRbO) x-CH 2. Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group, and x represents the average number of repeating units.

アルキレン基としては、例えば炭素原子数1〜5が好ましく、より好ましくはエチレン基、プロピレン基である。これらのアルキレン基は前述した置換基で置換されていてもよい。   As an alkylene group, C1-C5 is preferable, for example, More preferably, they are an ethylene group and a propylene group. These alkylene groups may be substituted with the substituent described above.

また、Rbは水素原子、アルキル基を表し、アルキル基としては、例えば炭素原子数1〜5の直鎖、あるいは分岐アルキル基が好ましく、より好ましくはメチル基である。また、これらのアルキル基は前述の置換基で置換されていてもよい。さらに、xは平均繰り返しユニット数を表し、0〜100が好ましく、より好ましくは0〜10である。繰り返しユニット数は分布を有しており、表記は平均値を示し、小数点以下1桁で表記してもよい。   Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group, and the alkyl group is preferably, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a methyl group. Moreover, these alkyl groups may be substituted with the above-mentioned substituent. Furthermore, x represents the average number of repeating units, preferably 0 to 100, more preferably 0 to 10. The number of repeating units has a distribution, and the notation indicates an average value and may be expressed with one decimal place.

以下に、一般式(I)で表される構造単位の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   In the following, typical specific examples of the structural unit represented by formula (I) are shown, but the present invention is not limited thereto.

〔水溶性ポリマーB〕
本発明においては、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1層が、表面を被覆した金属酸化物粒子、前記一般式(I)で表される構造単位を含む水溶性ポリマーAの他に、さらに、反応性官能基を有するポリマー、無機ポリマー、増粘多糖類及びゼラチンから選ばれる水溶性ポリマーBを含有することが好ましい。水溶性ポリマーBとしては、ゼラチンであることが特に好ましい。
[Water-soluble polymer B]
In the present invention, in addition to the water-soluble polymer A in which at least one of the high-refractive index layer and the low-refractive index layer includes a metal oxide particle covering the surface and the structural unit represented by the general formula (I). Furthermore, it is preferable to contain a water-soluble polymer B selected from a polymer having a reactive functional group, an inorganic polymer, a thickening polysaccharide and gelatin. The water-soluble polymer B is particularly preferably gelatin.

本発明に係る水溶性ポリマーBとは、水媒体に対し25℃で1質量%以上溶解する高分子化合物をいい、好ましくは3質量%以上溶解する高分子化合物である。その重量平均分子量は1,000〜200,000が好ましい。さらには、3,000〜40,000がより好ましい。   The water-soluble polymer B according to the present invention refers to a polymer compound that dissolves in an aqueous medium at 25 ° C. at 1% by mass or more, and preferably a polymer compound that dissolves in 3% by mass or more. The weight average molecular weight is preferably 1,000 to 200,000. Furthermore, 3,000-40,000 is more preferable.

本発明に係る高屈折率層形成用塗布液及び低屈折率層形成用塗布液における水溶性高分子Bの濃度としては、0.3〜3.0質量%であることが好ましく、0.35〜2.0質量%の範囲であることがより好ましい。   The concentration of the water-soluble polymer B in the coating solution for forming a high refractive index layer and the coating solution for forming a low refractive index layer according to the present invention is preferably 0.3 to 3.0% by mass, More preferably, it is in the range of -2.0% by mass.

以下、各水溶性ポリマーBの詳細について説明する。   Hereinafter, the details of each water-soluble polymer B will be described.

(反応性官能基を有するポリマー)
本発明に適用可能な反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、若しくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のアクリル系樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、若しくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の酢酸ビニル系共重合体及びそれらの塩が挙げられる。これらの中で、特に好ましい例としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン類及びそれを含有する共重合体が挙げられる。
(Polymer having reactive functional group)
Examples of the polymer having a reactive functional group applicable to the present invention include polyvinyl alcohols, polyvinylpyrrolidones, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymer, potassium acrylate-acrylonitrile copolymer, acetic acid. Acrylic resin such as vinyl-acrylic acid ester copolymer or acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymer Polymer, styrene-α-methylstyrene-acrylic acid copolymer, or styrene-acrylic acid resin such as styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-sodium styrenesulfonate copolymer, Styrene-maleic acid copolymer, steel Lene-maleic anhydride copolymer, vinyl naphthalene-acrylic acid copolymer, vinyl naphthalene-maleic acid copolymer, vinyl acetate-maleic acid ester copolymer, vinyl acetate-crotonic acid copolymer, vinyl acetate-acrylic Examples thereof include vinyl acetate copolymers such as acid copolymers and salts thereof. Among these, particularly preferable examples include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidones, and copolymers containing the same.

本発明で好ましく用いられるポリビニルアルコールには、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。   The polyvinyl alcohol preferably used in the present invention includes, in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate, modified polyvinyl alcohol such as polyvinyl alcohol having a cation-modified terminal and anion-modified polyvinyl alcohol having an anionic group. Alcohol is also included.

酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が1,000以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が1,500〜5,000のものが好ましく用いられる。また、ケン化度は70〜100%のものが好ましく、80〜99.5%のものが特に好ましい。   The polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing vinyl acetate preferably has an average degree of polymerization of 1,000 or more, and particularly preferably has an average degree of polymerization of 1,500 to 5,000. The saponification degree is preferably 70 to 100%, particularly preferably 80 to 99.5%.

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号に記載されているような、第1〜3級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups in the main chain or side chain of the polyvinyl alcohol as described in JP-A-61-110483. Polyvinyl alcohol, which is obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%、好ましくは0.2〜5モル%である。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxylethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer of the cation-modified polyvinyl alcohol is 0.1 to 10 mol%, preferably 0.2 to 5 mol%, relative to vinyl acetate.

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号及び同63−307979号に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体及び特開平7−285265号に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   Anion-modified polyvinyl alcohol is, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-2060888, as described in JP-A-61-237681 and JP-A-63-330779, Examples thereof include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違い等二種類以上を併用することもできる。   Nonionic modified polyvinyl alcohol is, for example, a polyvinyl alcohol derivative obtained by adding a polyalkylene oxide group to a part of vinyl alcohol as described in JP-A-7-9758, and described in JP-A-8-25595. And a block copolymer of a vinyl compound having a hydrophobic group and vinyl alcohol. Polyvinyl alcohol can be used in combination of two or more, such as the degree of polymerization and the type of modification.

本発明においては、反応性官能基を有するポリマーを使用する場合には、硬化剤を使用してもよい。反応性官能基を有するポリマーがポリビニルアルコールの場合には、後述するホウ酸及びその塩やエポキシ系硬化剤が好ましい。   In the present invention, a curing agent may be used when a polymer having a reactive functional group is used. When the polymer having a reactive functional group is polyvinyl alcohol, boric acid and a salt thereof described later and an epoxy curing agent are preferable.

(無機ポリマー)
本発明に係る水溶性ポリマーBの1つとして、無機ポリマーを用いることが好ましい。中でもジルコニウム原子含有化合物あるいはアルミニウム原子含有化合物等の無機ポリマーを用いることが好ましい。
(Inorganic polymer)
As one of the water-soluble polymers B according to the present invention, an inorganic polymer is preferably used. Among them, it is preferable to use an inorganic polymer such as a zirconium atom-containing compound or an aluminum atom-containing compound.

本発明に適用可能なジルコニウム原子含有化合物としては、酸化ジルコニウムを除くものであるが、その具体例としては、二フッ化ジルコニウム、三フッ化ジルコニウム、四フッ化ジルコニウム、ヘキサフルオロジルコニウム酸塩(例えば、カリウム塩)、ヘプタフルオロジルコニウム酸塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩やアンモニウム塩)、オクタフルオロジルコニウム酸塩(例えば、リチウム塩)、フッ化酸化ジルコニウム、二塩化ジルコニウム、三塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム、ヘキサクロロジルコニウム酸塩(例えば、ナトリウム塩やカリウム塩)、酸塩化ジルコニウム(塩化ジルコニル)、二臭化ジルコニウム、三臭化ジルコニウム、四臭化ジルコニウム、臭化酸化ジルコニウム、三ヨウ化ジルコニウム、四ヨウ化ジルコニウム、過酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、硫化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、p−トルエンスルホン酸ジルコニウム、硫酸ジルコニル、硫酸ジルコニルナトリウム、酸性硫酸ジルコニル三水和物、硫酸ジルコニウムカリウム、セレン酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、リン酸ジルコニウム、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニウム、酢酸ジルコニル、酢酸ジルコニルアンモニウム、乳酸ジルコニル、クエン酸ジルコニル、ステアリン酸ジルコニル、リン酸ジルコニル、シュウ酸ジルコニウム、ジルコニウムイソプロピレート、ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセチルアセトネート、アセチルアセトンジルコニウムブチレート、ステアリン酸ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセテート、ビス(アセチルアセトナト)ジクロロジルコニウム、トリス(アセチルアセトナト)クロロジルコニウム等が挙げられる。   Zirconium atom-containing compounds applicable to the present invention are those excluding zirconium oxide. Specific examples thereof include zirconium difluoride, zirconium trifluoride, zirconium tetrafluoride, hexafluorozirconium salt (for example, Potassium salt), heptafluorozirconate (for example, sodium salt, potassium salt or ammonium salt), octafluorozirconate (for example, lithium salt), fluorinated zirconium oxide, zirconium dichloride, zirconium trichloride, tetrachloride Zirconium, hexachlorozirconium salt (for example, sodium salt and potassium salt), zirconium oxychloride (zirconyl chloride), zirconium dibromide, zirconium tribromide, zirconium tetrabromide, zirconium bromide oxide, zirconium triiodide, four You Zirconium, zirconium peroxide, zirconium hydroxide, zirconium sulfide, zirconium sulfate, zirconium p-toluenesulfonate, zirconyl sulfate, sodium zirconyl sulfate, acidic zirconyl sulfate trihydrate, potassium zirconium sulfate, zirconium selenate, zirconium nitrate, nitric acid Zirconyl, zirconium phosphate, zirconyl carbonate, zirconyl ammonium carbonate, zirconium acetate, zirconyl acetate, zirconyl ammonium acetate, zirconyl lactate, zirconyl citrate, zirconyl stearate, zirconyl phosphate, zirconium oxalate, zirconium isopropylate, zirconium butyrate, Zirconium acetylacetonate, acetylacetone zirconium butyrate, zirconium stearate butyrate , Zirconium acetate, bis (acetylacetonato) dichloro zirconium and tris (acetylacetonato) chloro zirconium, and the like.

これらの化合物の中でも、塩化ジルコニル、硫酸ジルコニル、硫酸ジルコニルナトリウム、酸性硫酸ジルコニル三水和物、硝酸ジルコニル、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニル、酢酸ジルコニルアンモニウム、ステアリン酸ジルコニルが好ましく、さらに好ましくは、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニル、硝酸ジルコニル、塩化ジルコニルが好ましく、特に好ましくは、炭酸ジルコニルアンモニウム、塩化ジルコニル、酢酸ジルコニルである。上記化合物の具体的商品名としては、第一稀元素化学工業製のジルコゾールZA−20(酢酸ジルコニル)、第一稀元素化学工業製のジルコゾールZC−2(塩化ジルコニル)、第一稀元素化学工業製のジルコゾールZN(硝酸ジルコニル)等が挙げられる。   Among these compounds, zirconyl chloride, zirconyl sulfate, sodium zirconyl sulfate, acidic zirconyl sulfate trihydrate, zirconyl nitrate, zirconyl carbonate, zirconyl ammonium carbonate, zirconyl acetate, zirconyl ammonium acetate, zirconyl stearate are more preferable. Zirconyl carbonate, zirconyl ammonium carbonate, zirconyl acetate, zirconyl nitrate and zirconyl chloride are preferable, and zirconyl ammonium carbonate, zirconyl chloride and zirconyl acetate are particularly preferable. Specific product names of the above compounds include Zircozole ZA-20 (Zirconyl Acetate) manufactured by Daiichi Rare Element Chemical Industry, Zircosol ZC-2 (Zirconyl Chloride) manufactured by Daiichi Rare Element Chemical Industry, First Rare Element Chemical Industry Zircosol ZN (zirconyl nitrate) and the like manufactured by the company are listed.

上記ジルコニル原子を含む無機ポリマーの内の代表的な化合物の構造式を下記に示す。   Structural formulas of typical compounds among the inorganic polymers containing the zirconyl atom are shown below.

ただし、s、tは1以上の整数を表す。   However, s and t represent integers of 1 or more.

ジルコニル原子を含む無機ポリマーは、単独で用いてもよいし、異なる2種類以上の化合物を併用してもよい。   The inorganic polymer containing a zirconyl atom may be used alone, or two or more different compounds may be used in combination.

また、本発明で用いることのできる分子内にアルミニウム原子を含む化合物には、酸化アルミニウムは含まず、その具体例としては、フッ化アルミニウム、ヘキサフルオロアルミン酸(例えば、カリウム塩)、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム(例えば、ポリ塩化アルミニウム)、テトラクロロアルミン酸塩(例えば、ナトリウム塩)、臭化アルミニウム、テトラブロモアルミン酸塩(例えば、カリウム塩)、ヨウ化アルミニウム、アルミン酸塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩)、塩素酸アルミニウム、過塩素酸アルミニウム、チオシアン酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウムカリウム(ミョウバン)、硫酸アンモニウムアルミニウム(アンモニウムミョウバン)、硫酸ナトリウムアルミニウム、燐酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、燐酸水素アルミニウム、炭酸アルミニウム、ポリ硫酸珪酸アルミニウム、ギ酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、蓚酸アルミニウム、アルミニウムイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセトネート)等を挙げることができる。   Further, the compound containing an aluminum atom in the molecule that can be used in the present invention does not contain aluminum oxide. Specific examples thereof include aluminum fluoride, hexafluoroaluminic acid (for example, potassium salt), aluminum chloride, Basic aluminum chloride (eg, polyaluminum chloride), tetrachloroaluminate (eg, sodium salt), aluminum bromide, tetrabromoaluminate (eg, potassium salt), aluminum iodide, aluminate (eg, Sodium salt, potassium salt, calcium salt), aluminum chlorate, aluminum perchlorate, aluminum thiocyanate, aluminum sulfate, basic aluminum sulfate, potassium aluminum sulfate (alum), ammonium aluminum sulfate (ammonium alum) Sodium aluminum sulfate, aluminum phosphate, aluminum nitrate, aluminum hydrogen phosphate, aluminum carbonate, polysulfuric acid aluminum silicate, aluminum formate, aluminum acetate, aluminum lactate, aluminum oxalate, aluminum isopropylate, aluminum butyrate, ethyl acetate aluminum diisopropylate, aluminum Examples thereof include tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethylacetoacetate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetonate), and the like.

これらの中でも、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、塩基性硫酸珪酸アルミニウムが好ましく、塩基性塩化アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウムが最も好ましい。上記化合物の具体的商品名としては、多木化学製のポリ塩化アルミニウム(PAC)であるタキバイン#1500、浅田化学(株)製のポリ水酸化アルミニウム(Paho)、(株)理研グリーン製のピュラケムWTが挙げられ、各種グレードのものが入手することができる。   Among these, aluminum chloride, basic aluminum chloride, aluminum sulfate, basic aluminum sulfate, and basic aluminum sulfate silicate are preferable, and basic aluminum chloride and basic aluminum sulfate are most preferable. Specific product names of the above compounds include TAKIBAIN # 1500, which is polyaluminum chloride (PAC) manufactured by Taki Chemical, polyaluminum hydroxide (Paho) manufactured by Asada Chemical Co., and Purachem manufactured by Riken Green Co., Ltd. WT is listed, and various grades are available.

下記に、タキバイン#1500の構造式を示す。   The structural formula of Takibine # 1500 is shown below.

ただし、s、t、uは1以上の整数を表す。   However, s, t, and u represent an integer of 1 or more.

前記無機ポリマーの添加量は、金属酸化物粒子100質量部に対して1〜100質量部が好ましく、2〜50質量部がさらに好ましい。   1-100 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of metal oxide particles, and, as for the addition amount of the said inorganic polymer, 2-50 mass parts is more preferable.

(増粘多糖類)
本発明においては、水溶性ポリマーBとして、増粘多糖類を用いることが好ましい。
(Thickening polysaccharide)
In the present invention, it is preferable to use a thickening polysaccharide as the water-soluble polymer B.

本発明で用いることのできる増粘多糖類としては、特に制限はなく、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類及び合成複合多糖類を挙げることができ、これら多糖類の詳細については、「生化学事典(第2版),東京化学同人出版」、「食品工業」第31巻(1988)21頁等を参照することができる。   The thickening polysaccharide that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include generally known natural simple polysaccharides, natural complex polysaccharides, synthetic simple polysaccharides, and synthetic complex polysaccharides. The details of these polysaccharides can be referred to “Biochemical Encyclopedia (2nd edition), Tokyo Chemical Doujinshi”, “Food Industry”, Vol. 31 (1988), p.

本発明でいう増粘多糖類とは、糖類の重合体であり、低温時の粘度と高温時との粘度差を助長する特性を備えている。さらに、本発明に係る増粘多糖類を、金属酸化物微粒子を含む塗布液に添加することにより、粘度上昇を起こすものであり、その粘度上昇幅は、添加により15℃における粘度が1.0mPa・s以上の上昇を生じる多糖類であり、好ましくは5.0mPa・s以上であり、さらに好ましくは10.0mPa・s以上の粘度上昇能を備えた多糖類である。   The thickening polysaccharide referred to in the present invention is a saccharide polymer and has a characteristic that promotes a viscosity difference between a low temperature and a high temperature. Furthermore, the viscosity increase is caused by adding the thickening polysaccharide according to the present invention to the coating solution containing the metal oxide fine particles, and the viscosity increase range is such that the viscosity at 15 ° C. is 1.0 mPas. -A polysaccharide that causes an increase of s or more, preferably 5.0 mPa · s or more, and more preferably a polysaccharide having a viscosity increasing ability of 10.0 mPa · s or more.

本発明に適用可能な増粘多糖類としては、例えば、β−1−4グルカン(例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等)、ガラクタン(例えば、アガロース、アガロペクチン等)、ガラクトマンノグリカン(例えば、ローカストビーンガム、グアラン等)、キシログルカン(例えば、タマリンドガム等)、グルコマンノグリカン(例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等)、ガラクトグルコマンノグリカン(例えば、針葉樹材由来グリカン)、アラビノガラクトグリカン(例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等)、グルコラムノグリカン(例えば、ジェランガム等)、グリコサミノグリカン(例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等)、アルギン酸及びアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレラン等の紅藻類に由来する天然高分子多糖類等が挙げられ、塗布液中に共存する金属酸化微粒子の分散安定性を低下させない観点から、好ましくは、その構成単位がカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものが好ましい。そのような多糖類としては、例えば、L−アラビトース、D−リボース、2−デオキシリボース、D−キシロース等のペントース、D−グルコース、D−フルクトース、D−マンノース、D−ガラクトース等のヘキソースのみからなる多糖類であることが好ましい。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖もグルコースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガムや、主鎖がマンノースで側鎖がグルコースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガム、ローカストビーンガム、タラガムや、主鎖がガラクトースで側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを好ましく使用することができる。本発明においては、特には、タマリンド、グアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガムが好ましい。   Examples of the thickening polysaccharide applicable to the present invention include β-1-4 glucan (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, etc.), galactan (eg, agarose, agaropectin, etc.), galactomannoglycan (eg, locust). Bean gum, guaran, etc.), xyloglucan (eg, tamarind gum, etc.), glucomannoglycan (eg, salmon mannan, wood-derived glucomannan, xanthan gum, etc.), galactoglucomannoglycan (eg, softwood-derived glycan), Arabinogalactoglycans (for example, soybean-derived glycans, microbial-derived glycans, etc.), glucoraminoglycans (for example, gellan gum), glycosaminoglycans (for example, hyaluronic acid, keratan sulfate, etc.), alginic acid and alginate, agar Examples include natural polymer polysaccharides derived from red algae such as κ-carrageenan, λ-carrageenan, ι-carrageenan, and fercelerane, and are preferable from the viewpoint of not reducing the dispersion stability of the metal oxide fine particles coexisting in the coating solution. Are preferably those whose structural units do not have a carboxylic acid group or a sulfonic acid group. Examples of such polysaccharides include pentoses such as L-arabitose, D-ribose, 2-deoxyribose and D-xylose, and hexoses such as D-glucose, D-fructose, D-mannose and D-galactose only. It is preferable that it is a polysaccharide. Specifically, tamarind seed gum known as xyloglucan whose main chain is glucose and side chain is glucose, guar gum known as galactomannan whose main chain is mannose and side chain is glucose, cationized guar gum, Hydroxypropyl guar gum, locust bean gum, tara gum, and arabinogalactan whose main chain is galactose and whose side chain is arabinose can be preferably used. In the present invention, tamarind, guar gum, cationized guar gum, and hydroxypropyl guar gum are particularly preferable.

本発明においては、さらには、二種類以上の増粘多糖類を併用することが好ましい。   In the present invention, it is further preferable to use two or more types of thickening polysaccharides in combination.

増粘多糖類の含有量としては、5〜50質量%が好ましく、10〜40質量%がより好ましい。ただし、その他の水溶性高分子やエマルジョン樹脂等と併用する場合には、3質量%以上含有すればよい。増粘多糖類が少ないと塗膜乾燥時に膜面が乱れて透明性が劣化する傾向が大きくなる。一方、含有量が50質量%以下であれば、相対的な金属酸化物の含有量が適切となり、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差を大きくすることが容易になる。   As content of thickening polysaccharide, 5-50 mass% is preferable and 10-40 mass% is more preferable. However, when used in combination with other water-soluble polymers or emulsion resins, it may be contained in an amount of 3% by mass or more. When there are few thickening polysaccharides, the film surface will be disordered at the time of drying of a coating film, and the tendency for transparency to deteriorate will become large. On the other hand, if the content is 50% by mass or less, the relative content of the metal oxide becomes appropriate, and it becomes easy to increase the difference in refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer.

〈ゼラチン〉
本発明に係る各屈折率層においては、水溶性ポリマーBとして、ゼラチンを含有することが最も好ましい。
<gelatin>
Each refractive index layer according to the present invention most preferably contains gelatin as the water-soluble polymer B.

本発明に適用可能なゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができ、例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチンの他に、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチン及びゼラチン誘導体、すなわち分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を持ち、それと反応して得る基を持った試薬で処理し改質したものでもよい。ゼラチンの一般的製造法に関しては良く知られており、例えばT.H.James:The Theory of Photographic Process 4th. ed. 1977(Macmillan)55項、科学写真便覧(上)72〜75項(丸善)、写真工学の基礎−銀塩写真編119〜124(コロナ社)等の記載を参考にすることができる。また、リサーチ・ディスクロージャー誌第176巻、No.17643(1978年12月)のIX項に記載されているゼラチンを挙げることができる。   As the gelatin applicable to the present invention, various gelatins that have been widely used in the field of silver halide photographic light-sensitive materials can be applied. For example, in addition to acid-processed gelatin and alkali-processed gelatin, production of gelatin is possible. Enzyme-treated gelatin and gelatin derivatives that undergo enzyme treatment in the process, that is, modified by treatment with a reagent that has an amino group, imino group, hydroxyl group, carboxyl group as a functional group in the molecule and a group obtained by reaction with it. You may have done. The general method for producing gelatin is well known and is described, for example, in T.W. H. James: The Theory of Photographic Process 4th. ed. Reference can be made to descriptions such as 1977 (Machillan) 55, Science Photo Handbook (above) 72-75 (Maruzen), Fundamentals of Photographic Engineering-Silver Salt Photographs 119-124 (Corona). Also, Research Disclosure Magazine Vol. 176, No. And gelatin described in Section IX of 17643 (December, 1978).

本発明においては、重量平均分子量が10万以上の高分子量ゼラチンを用いることが好ましく、例えば、石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチン等を挙げることができる。   In the present invention, it is preferable to use high molecular weight gelatin having a weight average molecular weight of 100,000 or more, and examples thereof include lime-processed gelatin, acid-processed gelatin, and alkali-processed gelatin.

本発明において、ゼラチンの重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフ法によって測定することができる。ゼラチンの分子量分布及び重量平均分子量についても、一般的な公知の方法であるゲルパーミエーションクロマトグラ法(GPC法)によって測定することができる。   In the present invention, the weight average molecular weight of gelatin can be measured, for example, by gel permeation chromatography. The molecular weight distribution and the weight average molecular weight of gelatin can also be measured by a gel permeation chromatograph method (GPC method) which is a generally known method.

ゼラチンの分子量については、D.Lorry and M.Vedrines,Proceedings of the 4th IAG Conference,Sept.1983,P.35、大野隆司,小林裕幸,水澤伸也,日本写真学会誌,47,237(1984)等に記載されているように、コラーゲンの構成単位であるα成分(分子量約10万)及び、その二量体、三量体であるβ成分、γ成分、単量体である高分子両性分、さらにはこれらの成分が不規則に切断された低分子量成分からなるのが一般的である。   Regarding the molecular weight of gelatin, see D.C. Lory and M.M. Vedrines, Proceedings of the 4th IAG Conference, Sept. 1983, p. 35, as described in Takashi Ohno, Hiroyuki Kobayashi, Shinya Mizusawa, Journal of the Japan Society of Photography, 47, 237 (1984), etc., the α component (molecular weight of about 100,000), which is a structural unit of collagen, and its two quantities In general, it comprises a β-component, a γ-component that is a trimer, a high-molecular amphoteric component that is a monomer, and a low-molecular-weight component in which these components are randomly cut.

本発明に係る重量平均分子量が10万以上の高分子量ゼラチンとしては、上記各成分の中でも、コラーゲンの構成単位であるα成分(分子量約10万)及び、その二量体、三量体であるβ成分、γ成分が主体のゼラチンである。   As the high molecular weight gelatin having a weight average molecular weight of 100,000 or more according to the present invention, among the above components, α component (molecular weight of about 100,000), which is a structural unit of collagen, and dimer and trimer thereof. Gelatin mainly composed of β component and γ component.

また、本発明に係る重量平均分子量が10万以上の高分子量ゼラチンの製法としては、例えば、下記の方法等が挙げられる。   Examples of the method for producing high molecular weight gelatin having a weight average molecular weight of 100,000 or more according to the present invention include the following methods.

1)ゼラチン製造中の抽出操作で、抽出後期の抽出物を使用して抽出初期のもの(低分子量成分)は排除する。   1) In the extraction operation during the production of gelatin, an extract in the early stage of extraction (low molecular weight component) is excluded by using an extract in the later stage of extraction.

2)前記製法において、抽出以後乾燥までの工程において、処理温度を40℃未満とする。   2) In the said manufacturing method, process temperature shall be less than 40 degreeC in the process from extraction to drying.

3)ゼラチンを冷水(15℃)透析する。   3) The gelatin is dialyzed in cold water (15 ° C.).

上記の方法を単独または併用して用いることにより、重量平均分子量が10万以上の高分子量ゼラチンを得ることができる。   By using the above methods alone or in combination, a high molecular weight gelatin having a weight average molecular weight of 100,000 or more can be obtained.

(硬化剤)
本発明においては、バインダーである水溶性ポリマーA及びBを硬化させるため、硬化剤を使用することが好ましい。
(Curing agent)
In the present invention, it is preferable to use a curing agent in order to cure the water-soluble polymers A and B which are binders.

本発明に適用可能なる硬化剤としては、水溶性ポリマーA及びBと硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、一般的には水溶性ポリマーと反応し得る基を有する化合物あるいは水溶性ポリマーが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、水溶性ポリマーの種類に応じて適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤(ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ジグリシジルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等)、アルデヒド系硬化剤(ホルムアルデヒド、グリオキザール等)、活性ハロゲン系硬化剤(2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−1,3,5−s−トリアジン等)、活性ビニル系化合物(1,3,5−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等)、アルミニウム明礬、カルボジイミド化合物(日清紡製カルボジライトV−02、V−02−L2、SV−02等)、オキサゾリン等が挙げられる。   The curing agent applicable to the present invention is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the water-soluble polymers A and B, but in general, a compound having a group capable of reacting with the water-soluble polymer or a water-soluble polymer. It is a compound that promotes the reaction between different groups of the polymer, and is appropriately selected according to the type of the water-soluble polymer. Specific examples of the curing agent include, for example, epoxy curing agents (diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidyl cyclohexane, N, N-diglycidyl- 4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, etc.), aldehyde curing agents (formaldehyde, glioxal, etc.), active halogen curing agents (2,4-dichloro-4-hydroxy-1,3,5) -S-triazine, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-trisacryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum, carbodiimide compounds (Nisshinbo Carbodilite V-02, -02-L2, SV-02, etc.), oxazoline, and the like.

また、ホウ酸またはその塩を用いることができる。ホウ酸またはその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸及びその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸及び八ホウ酸及びそれらの塩が挙げられる。   Further, boric acid or a salt thereof can be used. Boric acid or a salt thereof refers to an oxygen acid having a boron atom as a central atom and a salt thereof, specifically, orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid, and octaboron. Examples include acids and their salts.

硬化剤としてのホウ素原子を有するホウ酸及びその塩は、単独の水溶液でも、また、2種以上を混合して使用してもよい。特に好ましいのはホウ酸とホウ砂の混合水溶液である。   Boric acid having a boron atom as a curing agent and a salt thereof may be used as a single aqueous solution or as a mixture of two or more. Particularly preferred is a mixed aqueous solution of boric acid and borax.

上記硬化剤の総使用量は、上記水溶性ポリマーA及びB1g当たり1〜600mgが好ましい。   The total amount of the curing agent used is preferably 1 to 600 mg per 1 g of the water-soluble polymer A and B.

〔カチオン系界面活性剤〕
本発明の近赤外反射フィルムを構成する高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1層は、塗布性の観点からカチオン系界面活性剤を含有することが好ましい。カチオン系界面活性剤は少量で表面張力を下げることができ、高屈折率層及び低屈折率層の物性も向上する。特に、4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤を含有することが好ましい。
[Cationic surfactant]
At least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the near-infrared reflective film of the present invention preferably contains a cationic surfactant from the viewpoint of coatability. The cationic surfactant can lower the surface tension with a small amount, and the physical properties of the high refractive index layer and the low refractive index layer are also improved. In particular, it is preferable to contain a quaternary ammonium salt cationic surfactant.

(4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤)
本発明に適用可能な4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤としては、特に制限はないが、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラオクチルアンモニウムブロマイド(TOAB)、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジヒドロキシエチルメチルアンモニウムクロライド、オレイルビスポリオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、ラウロイルアミノプロピルジメチルエチルアンモニウムエトサルフェート、ラウロイルアミノプロピルジメチルヒドロキシエチルアンモニウムパークロレート、アルキルベンゼンジメチルアンモニウムクロライド、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド等を挙げることができる。
(Quaternary ammonium salt cationic surfactant)
The quaternary ammonium salt cationic surfactant applicable to the present invention is not particularly limited, but includes tetrabutylammonium chloride, tetraoctylammonium bromide (TOAB), lauryltrimethylammonium chloride, dilauryldimethylammonium chloride, dithiol. Stearyl ammonium chloride, distearyl dimethyl ammonium chloride, lauryl dihydroxyethyl methyl ammonium chloride, oleyl bis polyoxyethylene methyl ammonium chloride, lauroyl aminopropyl dimethyl ethyl ammonium etosulphate, lauroyl aminopropyl dimethyl hydroxyethyl ammonium perchlorate, alkylbenzene dimethyl ammonium chloride, Alkyltrimethylan Chloride and the like.

また、4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤は市販品として入手することもでき、例えば、代表例としては、花王社製のコータミン24P(C1225+(CHCl)、同コータミン86P(C1837(CHCl)、日油社製のニッサンカチオン2−ABT(C18371837(CHCl)、同ニッサンカチオン2−OLR(C18351835(CHCl)、日光ケミカルズ社製のNIKKOL CA3475V(C18371837(CHCl)等を挙げることができる。 The quaternary ammonium salt cationic surfactant can also be obtained as a commercial product. For example, as a representative example, Coatamine 24P (C 12 H 25 N + ( CH 3 ) 3 Cl ) manufactured by Kao Corporation Cotamine 86P (C 18 H 37 N + (CH 3 ) 3 Cl ), Nissan Cation 2-ABT (C 18 H 37 N + C 18 H 37 (CH 3 ) 2 Cl ) manufactured by NOF Corporation, The same Nissan cation 2-OLR (C 18 H 35 N + C 18 H 35 (CH 3 ) 2 Cl ), NIKKOL CA3475V (C 18 H 37 N + C 18 H 37 (CH 3 ) 2 Cl manufactured by Nikko Chemicals) - )).

本発明に係る高屈折率層形成用塗布液及び低屈折率層形成用塗布液における上記各界面活性剤の添加量としては、それぞれの塗布液を100質量%としたとき、固形分として0.0010〜0.10質量%の範囲であることが好ましく、さらには0.0015〜0.05質量%であることが好ましい。   The addition amount of each of the surfactants in the coating solution for forming a high refractive index layer and the coating solution for forming a low refractive index layer according to the present invention is, as a solid content, 0.1% when each coating solution is 100% by mass. The range is preferably in the range of 0010 to 0.10% by mass, and more preferably 0.0015 to 0.05% by mass.

本発明においては、上記4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤の中では、ジアルキル型の4級アンモニウム塩が好ましい。具体的な界面活性剤としては日油社製のニッサンカチオン2−ABT(C18371837(CHCl)、同ニッサンカチオン2−OLR(C18351835(CHCl)、同ニッサンカチオン2−DB−500E(C10211021(CHCl)、日光ケミカルズ社製のNIKKOL CA3475V(C18371837(CHCl)等を挙げることができるである。さらにはアルキルの炭素数はC17以下であることが少量でも効果が高く好ましい。 In the present invention, among the quaternary ammonium salt cationic surfactants, dialkyl type quaternary ammonium salts are preferable. Specific examples of surfactant manufactured by NOF Corporation Nissan cation 2-ABT (C 18 H 37 N + C 18 H 37 (CH 3) 2 Cl -), the Nissan cation 2-OLR (C 18 H 35 N + C 18 H 35 (CH 3 ) 2 Cl -), the Nissan cation 2-DB-500E (C 10 H 21 N + C 10 H 21 (CH 3) 2 Cl -), Nikko Chemicals Co., Ltd. NIKKOL CA3475V ( C 18 H 37 N + C 18 H 37 (CH 3 ) 2 Cl ) and the like. Furthermore, it is preferable that the carbon number of alkyl is C17 or less because the effect is high even in a small amount.

(その他の添加剤)
本発明に係る高屈折率層と低屈折率層に適用可能なその他の添加剤を以下に列挙する。例えば、特開昭57−74193号、同57−87988号及び同62−261476号の各公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号、同57−87989号、同60−72785号、同61−146591号、特開平1−95091号及び同3−13376号の各公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭59−42993号、同59−52689号、同62−280069号、同61−242871号及び特開平4−219266号の各公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有させることもできる。
(Other additives)
Other additives applicable to the high refractive index layer and the low refractive index layer according to the present invention are listed below. For example, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A-62-261476, JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, and JP-A-60-72785. No. 61-146591, JP-A-1-95091 and JP-A-3-13376, etc., and various surfactants of anion, cation or nonion, and JP-A-59-42993 , 59-52689, 62-280069, 61-242871, and JP-A-4-219266, etc., optical brighteners, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, citric acid, water Known pH adjusters such as sodium oxide, potassium hydroxide and potassium carbonate, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, antistatic agents, matting agents, etc. It may contain species additive.

〔近赤外反射フィルムの製造方法〕
本発明の近赤外反射フィルムは、基材上に高屈折率層と低屈折率層から構成されユニットを積層して構成されるが、具体的には水系の高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液とを交互に湿式塗布、乾燥して積層体を形成することが好ましい。
[Method for producing near-infrared reflective film]
The near-infrared reflective film of the present invention is composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer on a substrate, and is formed by laminating units. It is preferable to form a laminate by wet coating and drying alternately with the refractive index layer coating solution.

塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第2,761,419号、同第2,761,791号の各明細書に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。   As the coating method, for example, roll coating method, rod bar coating method, air knife coating method, spray coating method, curtain coating method, or each specification of US Pat. Nos. 2,761,419 and 2,761,791 The slide bead coating method using the hopper described in the book, the extrusion coating method, etc. are preferably used.

本発明では、少なくとも2つの層を同時重層塗布することが好ましい。同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液の粘度としては、スライドビード塗布方式を用いる場合には、5〜100mPa・sの範囲が好ましく、さらに好ましくは10〜50mPa・sの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、5〜1200mPa・sの範囲が好ましく、さらに好ましくは25〜500mPa・sの範囲である。   In the present invention, it is preferable to apply at least two layers simultaneously. When the slide bead coating method is used, the viscosity of the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution in simultaneous multilayer coating is preferably in the range of 5 to 100 mPa · s, more preferably 10 to 10 mPa · s. The range is 50 mPa · s. Moreover, when using a curtain application | coating system, the range of 5-1200 mPa * s is preferable, More preferably, it is the range of 25-500 mPa * s.

また、塗布液の15℃における粘度としては、100mPa・s以上が好ましく、100〜80,000mPa・sがより好ましく、さらに好ましくは3,000〜80,000mPa・sであり、最も好ましいのは10,000〜80,000mPa・sである。   Further, the viscosity at 15 ° C. of the coating solution is preferably 100 mPa · s or more, more preferably 100 to 80,000 mPa · s, still more preferably 3,000 to 80,000 mPa · s, and most preferably 10 , 80 to 80,000 mPa · s.

塗布及び乾燥方法としては、水系の高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液を30℃以上に加温して、塗布を行った後、形成した塗膜の温度を1〜15℃に一旦冷却し、10℃以上で乾燥することが好ましく、より好ましくは、乾燥条件として、湿球温度5〜50℃、膜面温度10〜50℃の範囲の条件で行うことである。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜均一性の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。   As a coating and drying method, the water-based high-refractive index layer coating solution and the low-refractive index layer coating solution are heated to 30 ° C. or more, and after coating, the temperature of the formed coating film is 1 to 15 ° C. It is preferably cooled once and dried at 10 ° C. or higher, and more preferably, the drying conditions are a wet bulb temperature of 5 to 50 ° C. and a film surface temperature of 10 to 50 ° C. Moreover, as a cooling method immediately after application | coating, it is preferable to carry out by a horizontal set system from a viewpoint of the formed coating-film uniformity.

〔近赤外反射フィルムの応用〕
本発明の近赤外反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。
[Application of near-infrared reflective film]
The near-infrared reflective film of the present invention can be applied to a wide range of fields. For example, pasting to facilities exposed to sunlight for a long time such as outdoor windows of buildings and automobile windows, film for window pasting such as heat ray reflecting film to give heat ray reflecting effect, film for agricultural greenhouse, etc. Used mainly for the purpose of improving weather resistance.

特に、本発明に係る近赤外反射フィルムが直接もしくは接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂基材に貼合されている部材には好適である。   In particular, the near-infrared reflective film according to the present invention is suitable for a member that is bonded to glass or a glass substitute resin base material directly or via an adhesive.

接着剤は、窓ガラス等に貼り合わせたとき、近赤外反射フィルムが日光(熱線)入射面側にあるように設置する。また近赤外反射フィルムを窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の近赤外反射フィルムを屋外や車の外側(外貼り用)に設置しても環境耐久性があって好ましい。   The adhesive is installed so that the near-infrared reflective film is on the sunlight (heat ray) incident surface side when bonded to a window glass or the like. Moreover, when a near-infrared reflective film is pinched | interposed between a window glass and a base material, it can seal from surrounding gas, such as a water | moisture content, and is preferable for durability. Even if the near-infrared reflective film of the present invention is installed outdoors or outside the vehicle (for external application), it is preferable because of environmental durability.

本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。   As an adhesive applicable to the present invention, an adhesive mainly composed of a photocurable or thermosetting resin can be used.

接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。さらに粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系及びエマルジョン系の中で溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。   The adhesive preferably has durability against ultraviolet rays, and is preferably an acrylic adhesive or a silicone adhesive. Furthermore, an acrylic adhesive is preferable from the viewpoint of adhesive properties and cost. In particular, since the peel strength can be easily controlled, a solvent system is preferable among the solvent system and the emulsion system in the acrylic adhesive. When a solution polymerization polymer is used as the acrylic solvent-based pressure-sensitive adhesive, known monomers can be used as the monomer.

また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール(積水化学工業社製、三菱モンサント社製等)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン)、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体(東ソー社製、メルセンG)等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。   Moreover, you may use the polyvinyl butyral resin used as an intermediate | middle layer of a laminated glass, or ethylene-vinyl acetate copolymer type resin. Specifically, plastic polyvinyl butyral (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Mitsubishi Monsanto Co., Ltd.), ethylene-vinyl acetate copolymer (manufactured by DuPont, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., duramin), modified ethylene-vinyl acetate copolymer (Mersen G, manufactured by Tosoh Corporation). In addition, you may add and mix | blend an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a heat stabilizer, a lubricant, a filler, coloring, an adhesion adjusting agent etc. suitably in a contact bonding layer.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

実施例1
《近赤外反射フィルムの作製》
〔近赤外反射フィルム1の作製〕
(低屈折率層用塗布液1の調製)
以下の液を45℃まで昇温して以下の順番に添加し、低屈折率層用塗布液1を調製した。
Example 1
<Production of near-infrared reflective film>
[Preparation of near-infrared reflective film 1]
(Preparation of coating solution 1 for low refractive index layer)
The following liquid was heated up to 45 degreeC, and it added in the following order, and prepared the coating liquid 1 for low refractive index layers.

はじめに、コロイダルシリカを攪拌しながら45℃まで昇温した後、低分子量ゼラチン水溶液を添加して30分間攪拌して、コロイダルシリカ粒子表面を低分子量ゼラチンで被覆した。次いで、構造単位I−4のホモポリマー水溶液と純水を添加し、90分間攪拌した後、界面活性剤水溶液を添加して、低屈折率層塗布液1を調製した。   First, the temperature was raised to 45 ° C. while stirring the colloidal silica, and then a low molecular weight gelatin aqueous solution was added and stirred for 30 minutes to coat the surface of the colloidal silica particles with the low molecular weight gelatin. Subsequently, the homopolymer aqueous solution of the structural unit I-4 and pure water were added and stirred for 90 minutes, and then the surfactant aqueous solution was added to prepare the low refractive index layer coating solution 1.

コロイダルシリカ(20質量%) 100g
低分子量ゼラチン水溶液(5質量%) 200g
構造単位I−4のホモポリマー水溶液(5質量%) 150g
純水 240g
界面活性剤水溶液(CA−3475V、4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤、5.0質量%日光ケミカルズ社製) 0.64g
上記低分子量ゼラチンはアルカリ処理により加水分解を施した重量平均分子量が2万の低分子量ゼラチンである。なお、下記の方法に従って基材上に低屈折率層用塗布液1を塗布する直前に、架橋剤として、カルボジライトV−02(日清紡社製)を0.1g添加した。
Colloidal silica (20% by mass) 100 g
200g low molecular weight gelatin aqueous solution (5% by mass)
150 g of homopolymer aqueous solution of structural unit I-4 (5% by mass)
240g of pure water
Surfactant aqueous solution (CA-3475V, quaternary ammonium salt-based cationic surfactant, 5.0% by mass Nikko Chemicals) 0.64 g
The low molecular weight gelatin is a low molecular weight gelatin having a weight average molecular weight of 20,000 that has been hydrolyzed by alkali treatment. In addition, 0.1 g of Carbodilite V-02 (manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.) was added as a crosslinking agent immediately before coating the coating solution 1 for a low refractive index layer on the substrate according to the following method.

(低屈折率層1の形成)
上記低屈折率層用塗布液1を45℃に保温しながら、45℃に加温した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300:両面易接着層)上に、乾燥膜厚が170nmになるようにワイヤーバー塗布を行った。その直後、膜面が15℃以下となる条件で冷風を1分間吹き付けてセットさせた後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、基材上に低屈折率層1を形成した。
(Formation of low refractive index layer 1)
On the 50 μm thick polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300: double-sided easy-adhesion layer) heated to 45 ° C. while keeping the coating solution 1 for low refractive index layer at 45 ° C., the dry film thickness becomes 170 nm. The wire bar was applied as described above. Immediately thereafter, cold air was blown for 1 minute under conditions where the film surface was 15 ° C. or lower, and then the hot air of 80 ° C. was blown and dried to form the low refractive index layer 1 on the substrate.

(高屈折率層用塗布液1の調製)
下記の液をこの順序で添加、混合して、高屈折率層塗布液1を調製した。
(Preparation of coating solution 1 for high refractive index layer)
The following liquids were added and mixed in this order to prepare a high refractive index layer coating liquid 1.

はじめに、酸化チタン粒子ゾルを攪拌しながら50℃まで昇温した後、低分子ゼラチンを添加して30分間攪拌して、酸化チタン粒子表面を低分子ゼラチンで被覆した。次いで、高分子ゼラチンと純水を添加し、90分間攪拌した後、界面活性剤を添加して、高屈折率層塗布液1を調製した。この調製方法を、調製パターンAと称す。   First, the titanium oxide particle sol was heated to 50 ° C. while stirring, and then low molecular gelatin was added and stirred for 30 minutes to coat the surface of the titanium oxide particles with low molecular gelatin. Subsequently, polymer gelatin and pure water were added and stirred for 90 minutes, and then a surfactant was added to prepare a high refractive index layer coating solution 1. This preparation method is referred to as preparation pattern A.

酸化チタン粒子ゾル(体積平均粒径35nm、ルチル型酸化チタン粒子、20質量%) 60g
低分子量ゼラチン(GelL1)水溶液(5.0質量%) 125g
高分子量ゼラチン(GelH1)水溶液(5.0質量%) 100g
純水 150g
界面活性剤水溶液(CA−3475V、4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤、5.0質量%、日光ケミカルズ社製) 0.45g
GelL1はアルカリ処理により加水分解を施した重量平均分子量が2万の低分子量ゼラチンであり、GelH1は重量平均分子量が13万の酸処理ゼラチン(高分子量ゼラチン)である。
Titanium oxide particle sol (volume average particle size 35 nm, rutile type titanium oxide particles, 20% by mass) 60 g
125 g of low molecular weight gelatin (GelL1) aqueous solution (5.0% by mass)
High molecular weight gelatin (GelH1) aqueous solution (5.0% by mass) 100 g
150g of pure water
Surfactant aqueous solution (CA-3475V, quaternary ammonium salt cationic surfactant, 5.0% by mass, manufactured by Nikko Chemicals) 0.45 g
GelL1 is a low molecular weight gelatin having a weight average molecular weight of 20,000 hydrolyzed by alkali treatment, and GelH1 is an acid-treated gelatin (high molecular weight gelatin) having a weight average molecular weight of 130,000.

(高屈折率層1の形成)
上記高屈折率層用塗布液1を45℃に保温しながら、45℃に加温した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300:両面易接着層)に形成した低屈折率層1上に、乾燥膜厚が130nmになるようにワイヤーバー塗布を行った。その直後、膜面が15℃以下となる条件で冷風を1分間吹き付けてセットさせた後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、高屈折率層1を形成した。
(Formation of high refractive index layer 1)
On the low refractive index layer 1 formed on a polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300: double-sided easy-adhesion layer) having a thickness of 50 μm heated to 45 ° C. while keeping the coating solution 1 for the high refractive index layer at 45 ° C. The wire bar was applied so that the dry film thickness was 130 nm. Immediately after that, cold air was blown for 1 minute under the condition that the film surface was 15 ° C. or less, and then the hot refractive air of 80 ° C. was blown and dried to form the high refractive index layer 1.

(積層体の形成)
上記形成した高屈折率層1上に、同様にして低屈折率層1/高屈折率層1から構成されるユニットを交互に積層し、計10ユニット(20層)積層した後、さらに最上層として低屈折率層1を形成して、21層からなる近赤外反射フィルム1を作製した。
(Formation of laminate)
On the formed high refractive index layer 1, units composed of low refractive index layer 1 / high refractive index layer 1 are alternately laminated in a similar manner, and a total of 10 units (20 layers) are laminated. The near-infrared reflective film 1 consisting of 21 layers was produced by forming the low refractive index layer 1 as follows.

〔近赤外反射フィルム2〜4の作製〕
近赤外反射フィルム1の作製において、低屈折率層用塗布液1の構造単位I−4のホモポリマーを、構造単位I−1のホモポリマー、構造単位I−7のホモポリマー、構造単位I−16のホモポリマーに変更した以外は同様にして、それぞれ近赤外反射フィルム2〜4を作製した。
[Preparation of near-infrared reflective films 2 to 4]
In the production of the near-infrared reflective film 1, the homopolymer of the structural unit I-4 of the coating solution 1 for the low refractive index layer is replaced with the homopolymer of the structural unit I-1, the homopolymer of the structural unit I-7, and the structural unit I. Except having changed into the homopolymer of -16, it carried out similarly and produced the near-infrared reflective films 2-4, respectively.

〔近赤外反射フィルム5の作製〕
近赤外反射フィルム1の作製において、低屈折率層用塗布液1の構造単位I−4のホモポリマーを、構造単位I−1とスチレン=1:1(モル比)のコポリマーに変更した以外は同様にして、近赤外反射フィルム5を作製した。
[Preparation of near-infrared reflective film 5]
In the production of the near-infrared reflective film 1, the homopolymer of the structural unit I-4 in the coating solution 1 for the low refractive index layer was changed to a copolymer of the structural unit I-1 and styrene = 1: 1 (molar ratio). In the same manner, a near-infrared reflective film 5 was produced.

〔近赤外反射フィルム6の作製〕
近赤外反射フィルム1の作製において、低屈折率層用塗布液1の構造単位I−4のホモポリマーを30gとし、高屈折率層用塗布液1の高分子量ゼラチン(GelH1)を70gに変更した以外は同様にして近赤外反射フィルム6を作製した。
[Preparation of near-infrared reflective film 6]
In the production of the near-infrared reflective film 1, the homopolymer of the structural unit I-4 of the coating solution 1 for the low refractive index layer is changed to 30 g, and the high molecular weight gelatin (GelH1) of the coating solution 1 for the high refractive index layer is changed to 70 g. A near-infrared reflective film 6 was produced in the same manner except that.

〔近赤外反射フィルム7の作製〕
近赤外反射フィルム6の作製において、高屈折率層用塗布液1の低分子量ゼラチン(GelL1)を除いた以外は同様にして近赤外反射フィルム7を作製した。
[Preparation of near-infrared reflective film 7]
In the production of the near-infrared reflective film 6, a near-infrared reflective film 7 was produced in the same manner except that the low molecular weight gelatin (GelL1) of the coating solution 1 for the high refractive index layer was removed.

〔近赤外反射フィルム8の作製〕
近赤外反射フィルム6の作製において、高屈折率層用塗布液1の界面活性剤を除いた以外は同様にして近赤外反射フィルム8を作製した。
[Preparation of near-infrared reflective film 8]
In the production of the near-infrared reflective film 6, a near-infrared reflective film 8 was produced in the same manner except that the surfactant of the coating liquid 1 for the high refractive index layer was removed.

〔近赤外反射フィルム9の作製〕
(積層体の形成)
21層同時重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、近赤外反射フィルム1の作製で調製した低屈折率層用塗布液1及び高屈折率層用塗布液1を用い、基材に近い側を低屈折率層1(175nm狙い)、その上に高屈折率層1(135nm狙い)を交互に形成し、最上層に低屈折率層1を形成し、低屈折率層は11層、高屈折率層は10層、計21層から構成となるようにして、45℃に保温しながら、45℃に加温した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300:両面易接着層)上に、同時重層塗布を行った。その直後、膜面が15℃以下となる条件で冷風を1分間吹き付けてセットさせた後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、近赤外反射フィルム5を作製した。なお、TEMにより塗布膜の断面を観察したところ、EDX分析にて低屈折率層と高屈折率層の混合膜厚を確認したところ、50nm以下であった。
[Preparation of near-infrared reflective film 9]
(Formation of laminate)
Using a slide hopper coating apparatus capable of coating 21 layers simultaneously, using the coating solution 1 for the low refractive index layer and the coating solution 1 for the high refractive index layer prepared in the production of the near-infrared reflective film 1, the side closer to the substrate The low refractive index layer 1 (aiming at 175 nm) and the high refractive index layer 1 (aiming at 135 nm) are alternately formed thereon, and the low refractive index layer 1 is formed as the uppermost layer. The refractive index layer is composed of 10 layers, a total of 21 layers, on a polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300: double-sided easy-adhesion layer) having a thickness of 50 μm heated to 45 ° C. while being kept at 45 ° C. Simultaneous multilayer coating was performed. Immediately after that, cold air was blown for 1 minute under the condition that the film surface was 15 ° C. or less, and then the hot air of 80 ° C. was blown and dried to produce a near-infrared reflective film 5. In addition, when the cross section of the coating film was observed by TEM, when the mixed film thickness of the low refractive index layer and the high refractive index layer was confirmed by EDX analysis, it was 50 nm or less.

〔近赤外反射フィルム10の作製〕
近赤外反射フィルム1の作製において、高屈折率層用塗布液1の高分子量ゼラチン(GelH1)水溶液(5.0質量%)を70gに変更し、構造単位I−4のホモポリマー水溶液(5質量%)30gを追加した以外は同様にして近赤外反射フィルム10を作製した。
[Preparation of near-infrared reflective film 10]
In the production of the near-infrared reflective film 1, the high molecular weight gelatin (GelH1) aqueous solution (5.0% by mass) of the coating solution 1 for the high refractive index layer was changed to 70 g, and the homopolymer aqueous solution of structural unit I-4 (5 A near-infrared reflective film 10 was prepared in the same manner except that 30 g (mass%) was added.

〔近赤外反射フィルム11の作製〕
近赤外反射フィルム1の作製において、低屈折率層用塗布液1の構造単位I−4のホモポリマーを除いた以外は同様にして近赤外反射フィルム11を作製した。
[Preparation of near-infrared reflective film 11]
In producing the near-infrared reflective film 1, a near-infrared reflective film 11 was produced in the same manner except that the homopolymer of the structural unit I-4 of the coating solution 1 for the low refractive index layer was removed.

〔近赤外反射フィルム12の作製〕
近赤外反射フィルム6の作製において、低屈折率層用塗布液1の構造単位I−4のホモポリマーを除いた以外は同様にして近赤外反射フィルム12を作製した。
[Preparation of near-infrared reflective film 12]
In producing the near-infrared reflective film 6, a near-infrared reflective film 12 was produced in the same manner except that the homopolymer of the structural unit I-4 of the coating liquid 1 for the low refractive index layer was removed.

〔近赤外反射フィルム13の作製〕
近赤外反射フィルム9の作製において、低屈折率層用塗布液1の構造単位I−4のホモポリマーを除いた以外は同様にして近赤外反射フィルム13を作製した。なお、TEMにより塗布膜の断面を観察したところ、EDX分析にて低屈折率層と高屈折率層の混合膜厚を確認したところ、100nmであった。
[Preparation of near-infrared reflective film 13]
In the production of the near-infrared reflective film 9, a near-infrared reflective film 13 was produced in the same manner except that the homopolymer of the structural unit I-4 of the coating liquid 1 for the low refractive index layer was removed. In addition, when the cross section of the coating film was observed by TEM, the mixed film thickness of the low refractive index layer and the high refractive index layer was confirmed by EDX analysis, and was 100 nm.

以上の近赤外反射フィルム1〜13を構成する低屈折率層と高屈折率層の屈折率の差は0.1以上であった。   The difference in refractive index between the low refractive index layer and the high refractive index layer constituting the near-infrared reflective films 1 to 13 was 0.1 or more.

《近赤外反射フィルムの評価》
上記作製した各近赤外反射フィルムについて、下記の特性値の測定及び性能評価を行った。
<< Evaluation of near-infrared reflective film >>
About each produced said near-infrared reflective film, the following characteristic value measurement and performance evaluation were performed.

(膜厚均一性)
試料の数か所を取り、断面TEMにより膜厚を測定し、下記基準で評価した。
(Thickness uniformity)
Several portions of the sample were taken, the film thickness was measured with a cross-sectional TEM, and evaluated according to the following criteria.

◎:膜厚のばらつきが3%未満
○:膜厚のばらつきが3%以上5%未満
△:膜厚のばらつきが5%以上10%未満(実技上問題なし)
×:膜厚のばらつきが10%以上
〈ヘイズ〉
ヘイズは、ヘイズメーター(日本電色工業社製、NDH2000)により測定し、下記基準で評価した。
A: Variation in film thickness is less than 3% O: Variation in film thickness is 3% or more and less than 5% Δ: Variation in film thickness is 5% or more and less than 10% (no problem in practice)
X: Variation in film thickness is 10% or more <Haze>
The haze was measured with a haze meter (NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) and evaluated according to the following criteria.

○:ヘイズが1%以下
△:ヘイズが1%を超え〜3%以下
×:ヘイズが3%を超える
(近赤外透過率及び可視光透過率)
分光光度計(積分球使用、日立製作所社製、U−4000型)を用い、300〜2000nmの領域における透過率を測定した。近赤外透過率は1200nmにおける透過率、可視光透過率は550nmにおける透過率の値を用いた。
○: Haze is 1% or less △: Haze exceeds 1% to 3% or less ×: Haze exceeds 3% (near infrared transmittance and visible light transmittance)
Using a spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000 type), the transmittance in the region of 300 to 2000 nm was measured. The near-infrared transmittance was the transmittance at 1200 nm, and the visible light transmittance was the transmittance at 550 nm.

評価の結果を表1に示す。   The evaluation results are shown in Table 1.

表1に記載の結果より明らかなように、本発明の近赤外反射フィルムは、近赤外反射率及び可視光透過率が高く、膜厚均一性、ヘイズに優れていることが分かる。   As is clear from the results shown in Table 1, the near-infrared reflective film of the present invention has high near-infrared reflectance and visible light transmittance, and is excellent in film thickness uniformity and haze.

実施例2
〔近赤外反射体の作製〕
実施例1で作製した近赤外反射フィルム1〜10を用いて近赤外反射体1〜10を作製した。厚さ5mm、20cm×20cmの透明アクリル樹脂板上に、試料1〜10の近赤外反射フィルムをそれぞれアクリル接着剤で接着して、近赤外反射体1〜10を作製した。
Example 2
[Production of near-infrared reflector]
Near-infrared reflectors 1 to 10 were produced using the near-infrared reflective films 1 to 10 produced in Example 1. Near-infrared reflectors 1 to 10 were prepared by adhering the near-infrared reflective films of Samples 1 to 10 with an acrylic adhesive on a transparent acrylic resin plate having a thickness of 5 mm and 20 cm × 20 cm, respectively.

〔評価〕
上記作製した近赤外反射体1〜10について、分光光度計(積分球使用、日立製作所社製、U−4000型)を用い、各近赤外反射フィルムの800〜1400nmの領域における反射率を測定し、その平均値を求め、これを近赤外反射率とした。その結果、近赤外反射体1〜10は、近赤外反射体のサイズが大きいにもかかわらず、容易に利用可能であり、また、本発明の近赤外反射フィルムを利用することで、優れた近赤外反射性を確認することができた。
[Evaluation]
About the produced near-infrared reflectors 1-10, the reflectance in the 800-1400 nm area | region of each near-infrared reflective film is used using a spectrophotometer (integral sphere use, the Hitachi Ltd. make, U-4000 type). The average value was measured, and this was taken as the near infrared reflectance. As a result, the near-infrared reflectors 1 to 10 can be easily used despite the large size of the near-infrared reflector, and by using the near-infrared reflective film of the present invention, Excellent near infrared reflectivity could be confirmed.

Claims (5)

基材上に、高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットを少なくとも1つ有し、該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が0.1以上である近赤外反射フィルムにおいて、該高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1層が、表面を低分子ゼラチンで被覆した金属酸化物粒子、及び下記一般式(I)で表される構造単位を含む水溶性ポリマーAを含有することを特徴とする近赤外反射フィルム。
(式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、Qは−C(=O)O−、または−C(=O)NRa−を表す。Raは水素原子またはアルキル基を表し、Aは置換もしくは無置換アルキレン基、または−(CHCHRbO)x−CHCHRb−を表す。Rbは水素原子またはアルキル基を表し、xは平均繰り返しユニット数を表す。)
Near-red having at least one unit composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer on a substrate, and having a refractive index difference of 0.1 or more between the high refractive index layer and the low refractive index layer In the external reflection film, at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer contains a metal oxide particle whose surface is coated with low molecular gelatin , and a water solution containing a structural unit represented by the following general formula (I) A near-infrared reflective film comprising a functional polymer A.
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, Q represents —C (═O) O—, or —C (═O) NRa—, Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, and A represents a substituted group). or unsubstituted alkylene group or, - (CH 2 CHRbO) .Rb representing the x-CH 2 CHRb- represents a hydrogen atom or an alkyl group, x represents the average number of repeating units).
さらに、反応性官能基を有するポリマー、無機ポリマー、増粘多糖類及びゼラチンから選ばれる水溶性ポリマーBを含有することを特徴とする請求項に記載の近赤外反射フィルム。 The near-infrared reflective film according to claim 1 , further comprising a water-soluble polymer B selected from a polymer having a reactive functional group, an inorganic polymer, a thickening polysaccharide, and gelatin. さらに、カチオン系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の近赤外反射フィルム。 Further, near infrared reflection film according to claim 1 or 2, characterized in that it contains a cationic surfactant. 請求項1〜のいずれか1項に記載の近赤外反射フィルムの製造方法であって、少なく
とも2つの層を同時重層塗布することを特徴とする近赤外反射フィルムの製造方法。
It is a manufacturing method of the near-infrared reflective film of any one of Claims 1-3 , Comprising: At least 2 layer is coated simultaneously, The manufacturing method of the near-infrared reflective film characterized by the above-mentioned.
基体の少なくとも一方の面側に、請求項1〜のいずれか1項に記載の近赤外反射フィ
ルムまたは請求項に記載の近赤外反射フィルムの製造方法で得られた近赤外反射フィル
ムを有することを特徴とする近赤外反射体。
The near-infrared reflection obtained by the manufacturing method of the near-infrared reflective film of any one of Claims 1-3 on the at least one surface side of a base | substrate, or the near-infrared reflective film of Claim 4. A near infrared reflector comprising a film.
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