JP5718176B2 - Method for preparing lithographic printing plate and treatment liquid composition - Google Patents

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本発明は平版印刷版の作製方法、及び、該作製方法に使用される処理液組成物、特に、水洗工程を必要としない簡易処理が可能な平版印刷版の作製方法及び処理液組成物に関する。   The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate, and a treatment liquid composition used in the production method, and more particularly to a method for producing a lithographic printing plate and a treatment liquid composition capable of simple processing that do not require a water washing step.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷版は、水と印刷インキが互いに反発する性質を利用して、親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(単に、記録層とも称する)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. The lithographic printing plate utilizes the property that water and printing ink repel each other, so that the oleophilic image area is used as the ink receiving area and the hydrophilic non-image area is used as the water receiving area (ink non-receiving area). In this method, a difference in ink adhesion is caused on the surface of the printing plate, and the ink is applied only to the image area, and then the ink is transferred to a printing medium such as paper for printing.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (also simply referred to as a recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Yes. Normally, after exposing a lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the portion to be an image portion of the recording layer is left, and other unnecessary recording layers are removed with an alkaline developer or an organic solvent. The lithographic printing plate is obtained by dissolving and removing, and making a non-image part by exposing the surface of the hydrophilic support to form a non-image part.

近年、画像情報をコンピュータで電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザ光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が注目されてきている。従って、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。   In recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer have become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization techniques have come into practical use. It is coming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with the light, and directly through the lithographic printing plate Computer-to-plate (CTP) technology has been attracting attention. Accordingly, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.

また、従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な記録層を現像液などによって溶解除去する工程が必要であるが、環境及び安全上、より中性域に近い現像液での処理や少ない廃液が課題として挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっており、上記課題解決の要請は一層強くなってきている。   Further, in the plate making process of a conventional lithographic printing plate precursor, after exposure, a process of dissolving and removing unnecessary recording layers with a developer or the like is necessary. However, in terms of environment and safety, the developer is closer to the neutral range. Treatment and low waste liquid are cited as issues. In particular, in recent years, the disposal of waste liquid discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

上述のように、現像液の低アルカリ化、処理工程の簡素化は、地球環境への配慮と省スペース、低ランニングコストへの適合化との両面から、従来にも増して強く望まれるようになってきている。しかしながら、従来の現像処理工程は、pH11を超える強アルカリ水溶液で現像する工程、水洗浴にてアルカリ現像液を除去する水洗工程、その後、親水性樹脂を主成分とするガム液で処理する工程(ガム引き工程とも称する)という3つの工程からなっており、そのため自動現像機自体も大きくスペースを取ってしまい、さらに現像廃液、水洗廃液、ガム廃液処理の問題等、環境及びランニングコスト面での課題を残している。   As mentioned above, the low alkali level of the developer and the simplification of the processing process are more strongly desired than ever in terms of consideration for the global environment, space saving, and low running cost. It has become to. However, the conventional development processing step is a step of developing with a strong alkaline aqueous solution exceeding pH 11, a water washing step of removing the alkaline developer in a water washing bath, and then a step of processing with a gum solution containing a hydrophilic resin as a main component ( The automatic development machine itself takes up a lot of space and is also a problem in terms of environment and running costs, such as development waste, washing waste, and gum waste treatment. Is leaving.

これに対して、例えば、アルカリ金属の炭酸塩及び炭酸水素塩を有するpH8.5〜11.5、導電率3〜30mS/cmの現像液で処理する現像方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。この方法では高アルカリ剤による問題点は軽減されるものの、現像後の水洗工程及びガム液処理工程は必要とされることから、廃液処理量の低減といった環境及びランニングコスト面における課題解決には至っていない。
この問題を解決すべく、現像後の水洗処理を不要とする、現像とガム引きとを1浴で処理する試みが種々なされおり、例えば、アミノ基と酸基とを有する親水性ポリマーを使用した処理液組成物を使用すて1浴処理を行って、露光部記録層の現像と露出した支持体の親水化処理とを行う平版印刷版の処理方法が提案されている(例えば、特許文献2参照。)
On the other hand, for example, a developing method has been proposed in which processing is performed with a developer having an alkali metal carbonate and hydrogen carbonate having a pH of 8.5 to 11.5 and an electrical conductivity of 3 to 30 mS / cm (for example, patents). Reference 1). Although this method alleviates the problems caused by the high alkali agent, the water washing step and the gum solution treatment step after development are required, which leads to the solution of environmental and running cost issues such as a reduction in the amount of waste solution treatment. Not in.
In order to solve this problem, various attempts have been made to process development and gumming in one bath without the need for water washing after development. For example, a hydrophilic polymer having an amino group and an acid group was used. A processing method for a lithographic printing plate has been proposed in which a treatment solution composition is used to perform a one-bath treatment to develop the exposed portion recording layer and to hydrophilize the exposed support (for example, Patent Document 2). reference.)

特開平7−65126号公報JP-A-7-65126 特表2010−521423公報Special table 2010-521423

しかしながら、前記特許文献2に記載の処理方法では、非画像部のアルミニウム支持体表面に施した親水化処理の耐久性に劣るため、印刷を継続するに従い、非画像部の汚れが発生しやすくなるという問題があった。
上記問題点を考慮してなされた本発明の目的は、水洗工程を必要としない1浴現像処理工程による簡易な処理が可能であり、印刷を継続した場合でも、画像部の耐刷性が良好であり、非画像部の汚れ発生が防止された平版印刷版が作製される平版印刷版の作製方法及び該作製方法に好適に使用される処理液組成物を提供することにある。
However, in the processing method described in Patent Document 2, the durability of the hydrophilization treatment applied to the surface of the aluminum support in the non-image area is inferior, and therefore the non-image area is likely to become dirty as printing continues. There was a problem.
The object of the present invention, which has been made in consideration of the above problems, is that simple processing by a one-bath development processing step that does not require a water washing step is possible, and even when printing is continued, the printing durability of the image area is good. Another object of the present invention is to provide a method for preparing a lithographic printing plate in which a lithographic printing plate in which the occurrence of stains in the non-image area is prevented and a treatment liquid composition suitably used for the method.

本発明者らは検討の結果、現像処理液組成物中にアルミニウム支持体との密着性に優れた部分構造を有する高分子化合物を用いることで課題を解決しうることを見出し、本発明を完成した。即ち、本発明の構成は以下に示すとおりである。
<1> アルミニウム支持体上に、赤外線感受性ポジ型記録層を有するポジ型感光性平版印刷版を、赤外線レーザにより画像様に露光する露光工程と、
露光後の前記平版印刷版原版を、pHが5〜10.7であり、側鎖にベタイン構造を有する構造単位と側鎖に前記アルミニウム支持体表面と相互作用する官能基であって、リンの酸素酸基、及び、オニウム基から選ばれる1種以上の官能基を有する構造単位とを構成成分として含む水溶性高分子化合物を含有する水溶液と接触させて、前記記録層の露光部領域の除去と、前記記録層が除去されて露出した前記アルミニウム支持体表面の親水化処理とを行う現像工程とを、この順に有する平版印刷版の作製方法。
As a result of investigations, the present inventors have found that the problem can be solved by using a polymer compound having a partial structure excellent in adhesion to the aluminum support in the developing solution composition, and the present invention has been completed. did. That is, the configuration of the present invention is as follows.
<1> An exposure step of exposing a positive photosensitive lithographic printing plate having an infrared sensitive positive recording layer on an aluminum support imagewise with an infrared laser;
The lithographic printing plate precursor after exposure, pH is from 5 to 10.7, a structural unit having a betaine structure in a side chain, a functional group capable of interacting with the aluminum support surface in a side chain, phosphorus An exposed portion region of the recording layer by contacting with an aqueous solution containing a water-soluble polymer compound comprising , as a constituent , a structural unit having one or more functional groups selected from an oxygen acid group and an onium group and removal of, a developing step of performing the hydrophilic treatment of the recording layer is exposed by removing the aluminum support surface, a method of preparing a lithographic printing plate having in this order.

<2> 前記リンの酸素酸基が、リン酸エステル基又はホスホン酸基である<>に記載の平版印刷版の作製方法。
> 前記水溶液が、さらに、炭酸イオン及び炭酸水素イオンを含有する<1>又は2>に記載の平版印刷版の作製方法。
> 前記水溶液が、さらに、界面活性剤を0.01質量%〜20質量%含有する<1>〜<>のいずれか1つに記載の平版印刷版の作製方法。
> 前記現像工程の後に水洗工程を有さない<1>〜<>のいずれか1つに記載の平版印刷版の作製方法。
> 前記記録層が、(A)赤外線吸収剤及び(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する<1>〜<>のいずれか1つ記載の平版印刷版の作製方法。
<2 > The method for producing a lithographic printing plate according to < 1 >, wherein the phosphorus oxygen acid group is a phosphate ester group or a phosphonic acid group.
< 3 > The method for producing a lithographic printing plate according to <1> or < 2>, wherein the aqueous solution further contains carbonate ions and hydrogencarbonate ions.
< 4 > The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of <1> to < 3 >, wherein the aqueous solution further contains 0.01% by mass to 20% by mass of a surfactant.
< 5 > The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of <1> to < 4 >, wherein the development step is not followed by a water washing step.
< 6 > The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of <1> to < 5 >, wherein the recording layer contains (A) an infrared absorber and (B) a water-insoluble and alkali-soluble resin.

> 前記記録層が、(C)アルカリ可溶性樹脂を含有する下層と、(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、からなる重層構造の記録層であり、前記上層及び前記下層の少なくとも1層に(A)赤外線吸収剤を含有する<1>〜<>のいずれか1つに記載の平版印刷版の作製方法。
> 側鎖にベタイン構造を有する構造単位と側鎖にアルミニウム支持体表面と相互作用する官能基であって、リンの酸素酸基、及び、オニウム基から選ばれる1種以上の官能基を有する構造単位とを構成成分として含む水溶性高分子化合物、及び、水を含有し、pHが5〜10.7であり、アルミニウム支持体上に赤外線感受性ポジ型記録層を有するポジ型感光性平版印刷版原版の製版に使用される処理液組成物。
< 7 > The recording layer is a recording layer having a multilayer structure composed of (C) a lower layer containing an alkali-soluble resin and (B) an upper layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin, and the upper layer and the lower layer The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of <1> to < 6 >, wherein (A) an infrared absorber is contained in at least one layer of the above.
< 8 > One or more functional groups selected from a structural unit having a betaine structure in the side chain and a functional group that interacts with the aluminum support surface on the side chain , and an oxygen acid group and an onium group of phosphorus. And a water-soluble polymer compound containing water as a constituent component and water, and has a pH of 5 to 10.7 and has an infrared-sensitive positive recording layer on an aluminum support. The processing liquid composition used for the platemaking of a characteristic lithographic printing plate precursor.

本発明によれば、水洗工程を必要としない1浴現像処理工程による簡易な処理が可能であり、印刷を継続した場合でも、画像部の耐刷性が良好であり、非画像部の汚れ発生が防止された平版印刷版が作製される平版印刷版の作製方法及び該作製方法に好適に使用される処理液組成物が提供される。   According to the present invention, simple processing by a one-bath development processing step that does not require a water washing step is possible, and even when printing is continued, the printing durability of the image portion is good, and contamination of the non-image portion is generated. A lithographic printing plate production method for producing a lithographic printing plate in which the above-mentioned is prevented and a treatment liquid composition suitably used for the production method are provided.

本発明の平版印刷版の作製方法に用いうる自動現像処理機の構造の一態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the one aspect | mode of the structure of the automatic processor which can be used for the preparation method of the lithographic printing plate of this invention.

<平版印刷版の作製方法>
本発明に係る平版印刷版の作製方法は、アルミニウム支持体上に、赤外線感受性ポジ型記録層を有するポジ型感光性平版印刷版を、赤外線レーザにより画像様に露光する露光工程と、露光後の前記平版印刷版原版を、pHが5〜10.7であり、側鎖にベタイン構造を有する構造単位と側鎖にアルミニウム支持体表面と相互作用する官能基を有する構造単位とを構成成分として含む水溶性高分子化合物を含有する水溶液と接触させて、前記記録層の露光部領域の除去と、記録層が除去されて露出したアルミニウム支持体表面の親水化処理とを行う現像工程とを、この順に有することを特徴とする。但し、アルミニウム支持体表面と相互作用する官能基とは、リンの酸素酸基、及び、オニウム基から選ばれる1種以上の官能基である。
<Preparation method of lithographic printing plate>
The method for producing a lithographic printing plate according to the present invention comprises an exposure step of imagewise exposing a positive photosensitive lithographic printing plate having an infrared sensitive positive recording layer on an aluminum support with an infrared laser; The lithographic printing plate precursor includes a structural unit having a pH of 5 to 10.7 and having a betaine structure in the side chain and a structural unit having a functional group that interacts with the aluminum support surface in the side chain. A development step of contacting the aqueous solution containing the water-soluble polymer compound to remove the exposed area of the recording layer and to hydrophilize the surface of the aluminum support exposed by removing the recording layer. It is characterized by having in order. However, the functional group that interacts with the surface of the aluminum support is one or more functional groups selected from an oxygen acid group of phosphorus and an onium group.

本発明の作製方法は、ポジ型の記録層を有する平版印刷版原版を処理して平版印刷版を得る作製方法であって、水洗工程を必要とせず、1浴の処理液組成物を用いた処理により、ポジ型記録層における露光領域の現像、除去処理と、露光領域において記録層が除去されて露出したアルミニウム支持体表面の親水化処理とを1工程で簡易に行いうるとともに、得られた平版印刷版は画像部の耐刷性が良好であり、また、支持体表面の親水化処理の耐久性が良好であるため、多数枚を印刷した後も汚れの発生が効果的に抑制され、優れた画質の印刷物を多数枚得ることができる。
さらに、通常は、現像工程、水洗工程、及びガム引き工程の3工程を経ることを要するところ、本発明の製造方法によれば、1浴1工程で現像処理が行われ、使用される処理液組成物も比較的pHが低く、処理が簡易に行われるとともに、処理を必要とする廃液量も従来の作製方法に比較して著しく低減される。
The production method of the present invention is a production method for obtaining a lithographic printing plate by treating a lithographic printing plate precursor having a positive type recording layer, which does not require a water washing step, and uses a one bath treatment liquid composition. By the treatment, the development and removal treatment of the exposed area in the positive recording layer and the hydrophilic treatment of the surface of the aluminum support exposed by removing the recording layer in the exposure area can be easily performed in one step and obtained. The lithographic printing plate has good printing durability in the image area, and because the durability of the hydrophilic treatment of the support surface is good, the occurrence of stains is effectively suppressed even after printing many sheets, A large number of prints with excellent image quality can be obtained.
Further, usually, it is necessary to go through three steps of a development step, a water washing step, and a gumming step. According to the production method of the present invention, the development treatment is performed in one step for one bath and used. The composition also has a relatively low pH and can be easily treated, and the amount of waste liquid that requires treatment is significantly reduced compared to conventional production methods.

本発明の製造方法においては、処理液組成物として、比較的低pHのアルカリ水溶液に、側鎖にアルミニウム支持体表面と相互作用する官能基を有する構成成分と側鎖にベタイン構造を有する構成成分との共重合体(以下、適宜、特定水溶性高分子化合物と称する)を含有する水溶液を用いることが特徴の1つである。
本発明に係る特定水溶性高分子化合物は、アルミニウム支持体表面と相互作用(吸着)する官能基とベタイン構造とを分子内に有するため、現像処理により未露光部記録層が除去され、露出した非画像部のアルミニウム支持体表面が処理液組成物に接触することで該支持体表面に、当該特定水溶性高分子化合物が吸着し、非画像部の親水性が向上する。また、吸着した高分子化合物は、支持体表面と強固に密着するため、印刷中も非画像部の支持体表面から脱離することなく、非画像部における親水性が長期間維持される。
In the production method of the present invention, as a treatment liquid composition, a component having a functional group that interacts with the aluminum support surface on the side chain and a component having a betaine structure on the side chain in a relatively low pH alkaline aqueous solution It is one of the characteristics to use an aqueous solution containing a copolymer (hereinafter appropriately referred to as a specific water-soluble polymer compound).
Since the specific water-soluble polymer compound according to the present invention has a functional group that interacts (adsorbs) with the aluminum support surface and a betaine structure in the molecule, the unexposed portion recording layer is removed and exposed by development processing. When the surface of the aluminum support in the non-image area comes into contact with the treatment liquid composition, the specific water-soluble polymer compound is adsorbed on the surface of the support, and the hydrophilicity of the non-image area is improved. Further, since the adsorbed polymer compound is firmly adhered to the support surface, the hydrophilicity in the non-image area is maintained for a long time without being detached from the support surface of the non-image area even during printing.

<処理液組成物>
始めに、本発明の平版印刷版の作製方法において用いられる水溶液(以下、処理液組成物とも言う)について説明する。本発明の処理液組成物は、側鎖にベタイン構造を有する構造単位と側鎖にアルミニウム支持体表面と相互作用する官能基を有する構造単位とを構成成分として含む水溶性高分子化合物(特定水溶性高分子化合物)、及び、水を含有し、pHが5〜10.7の水溶液である。
上記pHの範囲において、露光部の記録層の除去性と画像部の耐刷性のいずれもが良好となる。
処理液組成物には、さらに、界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系、両性イオン系等)を含有することが好ましい。
<Treatment liquid composition>
First, an aqueous solution (hereinafter also referred to as a treatment liquid composition) used in the method for preparing a lithographic printing plate according to the present invention will be described. The treatment liquid composition of the present invention comprises a water-soluble polymer compound (specific water-soluble compound) comprising as structural components a structural unit having a betaine structure in the side chain and a structural unit having a functional group that interacts with the aluminum support surface in the side chain. A high molecular compound) and water, and an aqueous solution having a pH of 5 to 10.7.
Within the above pH range, both the removability of the recording layer in the exposed area and the printing durability of the image area are good.
The treatment liquid composition preferably further contains a surfactant (anionic, nonionic, cationic, zwitterionic, etc.).

(特定水溶性高分子化合物)
本発明の処理液組成物に含まれる特定水溶性高分子化合物について説明する。
特定水溶性高分子化合物は、側鎖にベタイン構造を有する構造単位と側鎖にアルミニウム支持体表面と相互作用する官能基を有する構造単位とを構成成分として含む共重合体であり、水溶性の高分子化合である。
なお、本発明における「水溶性」とは、25℃の水に0.5質量%以上溶解することを意味し、1質量%以上溶解することが好ましい。
(Specific water-soluble polymer compounds)
The specific water-soluble polymer compound contained in the treatment liquid composition of the present invention will be described.
The specific water-soluble polymer compound is a copolymer containing a structural unit having a betaine structure in the side chain and a structural unit having a functional group that interacts with the aluminum support surface in the side chain as a constituent component. It is a polymer compound.
In the present invention, “water-soluble” means that 0.5% by mass or more is dissolved in 25 ° C. water, and preferably 1% by mass or more is dissolved.

本発明に係る特定水溶性高分子化合物が有する「アルミニウム支持体表面と相互作用する官能基」としては、アルミニウム支持体上に存在する金属、金属酸化物、水酸基などと共有結合、イオン結合、水素結合、極性相互作用などの結合又は相互作用を形成可能な官能基が挙げられる。これらのなかでも、アルミニウム支持体表面と吸着する官能基(以下、吸着性基とも称する)が好ましい。分子内に所定量の吸着性基を有することで、当該高分子化合物は支持体表面への吸着性を有することになる。   The “functional group that interacts with the surface of the aluminum support” possessed by the specific water-soluble polymer compound according to the present invention includes a metal, metal oxide, hydroxyl group, etc. present on the aluminum support, a covalent bond, an ionic bond, hydrogen Examples thereof include functional groups capable of forming bonds or interactions such as bonds and polar interactions. Among these, a functional group that adsorbs to the surface of the aluminum support (hereinafter also referred to as an adsorptive group) is preferable. By having a predetermined amount of adsorptive groups in the molecule, the polymer compound has adsorptivity to the support surface.

特定水溶性高分子化合物の支持体表面への吸着性の有無に関しては、例えば以下のような方法で判断できる。
評価対象である水溶性高分子化合物(以下、試験化合物とも称する)を易溶性の溶媒に溶解させた塗布液を作製し、その塗布液を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように支持体上に塗布、乾燥させる。試験化合物を塗布した支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。試験化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定で実施できる。
本発明において支持体吸着性がある化合物とは、上記のような評価を行った場合、洗浄処理後に0.1mg/m2以上残存する化合物を指すものとする。
Whether or not the specific water-soluble polymer compound is adsorbed on the support surface can be determined by the following method, for example.
A coating solution is prepared by dissolving a water-soluble polymer compound to be evaluated (hereinafter also referred to as a test compound) in a readily soluble solvent, and the coating amount after drying the coating solution is 30 mg / m 2. It is coated on a support and dried. The substrate coated with the test compound is sufficiently washed with a readily soluble solvent, and then the residual amount of the test compound that has not been removed by washing is measured to calculate the amount of adsorption of the substrate. Here, the measurement of the remaining amount may be performed by directly quantifying the amount of the remaining compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. The test compound can be quantified by, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, or liquid chromatography measurement.
In the present invention, the compound having support adsorptivity refers to a compound that remains at 0.1 mg / m 2 or more after the washing treatment when the above evaluation is performed.

特定構造の水溶性高分子化合物におけるアルミニウム支持体表面への吸着性基は、アルミニウム支持体表面に存在する物質、例えば、アルミニウム金属、アルミニウム金属酸化物等、アルミニウム支持体表面に存在する官能基、例えば、水酸基等から選ばれるものと化学結合、或いは、強い相互作用を形成しうる官能基を指し、具体的には、リンの酸素酸基、及び、オニウム基から選ばれる1種以上の官能基が挙げられ、好ましくは、リンの酸素酸基である。
リンの酸素酸基の例としては、リン酸エステル基及びホスホン酸基、ホスフィン酸基等が挙げられる。なかでも、リン酸エステル基、及びホスホン酸基が特に好ましい。これらは塩を形成していてもよく、塩としては、カリウム塩などの金属塩、アンモニウム塩などのオニウム塩が挙げられる。
オニウム基の例としては、アンモニウム基(ピリジニウム基等の環状アンモニウム基を含む)、ホスホニウム基、スルホニウム基、等が挙げられる。なかでも、アンモニウム基が特に好ましい。
The adsorptive group on the surface of the aluminum support in the water-soluble polymer compound having a specific structure is a substance present on the surface of the aluminum support, for example, a functional group present on the surface of the aluminum support such as aluminum metal or aluminum metal oxide, For example, it refers to a functional group capable of forming a chemical bond or strong interaction with one selected from a hydroxyl group and the like, specifically, one or more functional groups selected from an oxygen acid group of phosphorus and an onium group Preferably, it is an oxygen acid group of phosphorus.
Examples of the oxygen acid group of phosphorus include a phosphate ester group, a phosphonic acid group, and a phosphinic acid group. Of these, a phosphate group and a phosphonic acid group are particularly preferable. These may form a salt, and examples of the salt include metal salts such as potassium salt and onium salts such as ammonium salt.
Examples of onium groups include ammonium groups (including cyclic ammonium groups such as pyridinium groups), phosphonium groups, sulfonium groups, and the like. Of these, an ammonium group is particularly preferable.

上記吸着性基としては、リン酸エステル基、ホスホン酸基、オニウム基が好ましく、最も好ましくは、リン酸エステル基、及びホスホン酸基である。   As the adsorptive group, a phosphate ester group, a phosphonic acid group, and an onium group are preferable, and a phosphate ester group and a phosphonic acid group are most preferable.

以下に、本発明に係る特定水溶性高分子化合物の作製に有用な、アルミニウム支持体表面と相互作用する官能基を有するモノマーの好適な具体例を示すが、本発明はこれらに制限されない。なお、下記構造中、Meはメチル基を、Etはエチル基をそれぞれ表す。   Hereinafter, preferred specific examples of the monomer having a functional group that interacts with the surface of the aluminum support, which is useful for producing the specific water-soluble polymer compound according to the present invention, are shown, but the present invention is not limited thereto. In the following structures, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.

特定水溶性高分子化合物は、前記例示されたモノマー等に由来する、アルミニウム支持体表面と相互作用する官能基を有する構造単位を2種以上有していてもよい。
特定水溶性高分子化合物中のアルミニウム支持体表面と相互作用する官能基を有する構造単位の含有比率は、特定水溶性高分子化合物が含む全構造単位に対し、2モル%〜80モル%が好ましく、2モル%〜70モル%がより好ましく、5モル%〜50モル%がさらに好ましく、10モル%〜50モル%が特に好ましい。
The specific water-soluble polymer compound may have two or more types of structural units derived from the exemplified monomers and the like and having a functional group that interacts with the aluminum support surface.
The content ratio of the structural unit having a functional group that interacts with the surface of the aluminum support in the specific water-soluble polymer compound is preferably 2 mol% to 80 mol% with respect to all the structural units contained in the specific water-soluble polymer compound. 2 mol%-70 mol% are more preferable, 5 mol%-50 mol% are further more preferable, and 10 mol%-50 mol% are especially preferable.

本発明に係る特定水溶性高分子化合物は側鎖にベタイン構造を有する構造単位を構成成分として有する。当該高分子化合物においてベタイン構造は親水性基として機能する。
本発明におけるベタイン構造とは、1つの基にカチオン構造とアニオン構造の両方を有し、電荷が中和されている構造を指す。ベタイン構造におけるカチオン構造としては、特に制限はないが、第四級窒素カチオンが好ましい。
ベタイン構造におけるアニオン構造としては、特に制限はないが、−COO、−SO 、−PO 2−及び−POから選択される構造であることが好ましく、−COO又は−SO であることがより好ましい。
ベタイン構造としては、例えば、下記式(B1)又は式(B2)で表される構造が挙げられる。
The specific water-soluble polymer compound according to the present invention has a structural unit having a betaine structure in the side chain as a constituent component. In the polymer compound, the betaine structure functions as a hydrophilic group.
The betaine structure in the present invention refers to a structure having both a cation structure and an anion structure in one group, and the charge is neutralized. The cation structure in the betaine structure is not particularly limited, but a quaternary nitrogen cation is preferable.
The anionic structure in the betaine structure is not particularly limited, -COO -, -SO 3 - is preferably a structure selected from, -COO - -, -PO 3 2-and -PO 3 H or - More preferably, it is SO 3 .
Examples of the betaine structure include structures represented by the following formula (B1) or formula (B2).

式(B1)及び式(B2)中、R11 12 14及びR15はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐のアルキル基を表す。R13及びR16はそれぞれ独立に、二価の有機基を表し、2課の有機基としては、例えば、二価の脂肪族基、二価の芳香族基若しくはそれらが2以上結合してなる二価の連結基などが挙げられる。 In formula (B1) and formula (B2), R 11 , R 12 , R 14 and R 15 each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 13 and R 16 each independently represent a divalent organic group, and examples of the second section organic group include a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination of two or more thereof. A bivalent coupling group etc. are mentioned.

本発明に係る特定水溶性高分子化合物が含みうるベタイン構造を有する構造単位の具体的を以下に示す。   Specific examples of the structural unit having a betaine structure that can be included in the specific water-soluble polymer compound according to the present invention are shown below.

特定構造の水溶性高分子化合物は、側鎖にベタイン構造を有する構成成分を1種のみ有していても、2種以上有していてもよい。
特定構造の水溶性高分子化合物中の側鎖にベタイン構造を有する構成成分の含有比率は、特定構造の水溶性高分子化合物が有する全構成成分に対し、30モル%〜98モル%が好ましく、40モル%〜90モル%がより好ましく、50モル%〜90モル%がさらに好ましい。
The water-soluble polymer compound having a specific structure may have only one type of component having a betaine structure in the side chain, or may have two or more types.
The content ratio of the component having a betaine structure in the side chain in the water-soluble polymer compound having a specific structure is preferably 30 mol% to 98 mol% with respect to all components having the water-soluble polymer compound having the specific structure, 40 mol%-90 mol% are more preferable, and 50 mol%-90 mol% are still more preferable.

本発明に係る特定水溶性高分子化合物は、前記アルミニウム支持体表面と相互作用する官能基が、現像時に非画像部における露出したアルミニウム支持体表面に吸着し、一方、前記ベタイン構造は、吸着した特定水溶性高分子化合物に高い親水性を付与するため、非画像部の汚れ性防止及びその耐久性に寄与するものと考えられる。
本発明の処理液組成物に用いられる特定水溶性高分子化合物は、前記アルミニウム支持体表面と相互作用する官能基を有する構造単位及びベタイン構造を有する構造単位以外の構造単位(以下、他の構造単位と称する)を、目的に応じて、本発明の性能を損なわない限りにおいて含んでいてもよい。
他の構造単位には特に制限はなく、公知のモノマー由来の構造単位であればよい。他の構造単位としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル類や(メタ)アクリル酸アミド類等に由来する構造単位が挙げられる。
特定水溶性高分子化合物が、他の構造単位を含む場合、他の構造単位の含有比率は、特定水溶性高分子化合物が有する構造単位に対し、40モル%以下が好ましく、30モル%がより好ましく、20モル%以下がさらに好ましい。
In the specific water-soluble polymer compound according to the present invention, the functional group that interacts with the aluminum support surface is adsorbed on the exposed aluminum support surface in the non-image area during development, while the betaine structure is adsorbed. In order to impart high hydrophilicity to the specific water-soluble polymer compound, it is considered that it contributes to the prevention of soiling of non-image areas and its durability.
The specific water-soluble polymer compound used in the treatment liquid composition of the present invention is a structural unit other than the structural unit having a functional group that interacts with the surface of the aluminum support and the structural unit having a betaine structure (hereinafter referred to as another structure). May be included depending on the purpose as long as the performance of the present invention is not impaired.
There is no restriction | limiting in particular in another structural unit, What is necessary is just a structural unit derived from a well-known monomer. Examples of other structural units include structural units derived from (meth) acrylic acid esters and (meth) acrylic acid amides.
When the specific water-soluble polymer compound contains other structural units, the content ratio of the other structural units is preferably 40 mol% or less, more preferably 30 mol% with respect to the structural units of the specific water-soluble polymer compound. Preferably, 20 mol% or less is more preferable.

本発明の処理液組成物に用いる特定水溶性高分子化合物はビニル共重合体である。即ち、前記特定水溶性高分子化合物に構成成分として含まれる構造単位は、例えば、アクリレート類、メタクリレート類、スチレン類、芳香族ビニル化合物、脂肪族ビニル化合物、アリル化合物、アクリル酸、メタクリル酸などのようなエチレン性不飽和結合を有する単量体に由来する構造単位である。   The specific water-soluble polymer compound used in the treatment liquid composition of the present invention is a vinyl copolymer. That is, the structural unit contained as a constituent component in the specific water-soluble polymer compound includes, for example, acrylates, methacrylates, styrenes, aromatic vinyl compounds, aliphatic vinyl compounds, allyl compounds, acrylic acid, methacrylic acid, and the like. It is a structural unit derived from a monomer having such an ethylenically unsaturated bond.

特定水溶性高分子化合物の重量平均分子量は、5,000以上が好ましく、10,000以上がより好ましく、また、1,000,000以下が好ましく、500,000以下がより好ましい。
特定水溶性高分子化合物の数平均分子量は、1,000以上が好ましく、2,000以上がより好ましく、また、500,000以下が好ましく、300,000以下がより好ましい。
この分子量の範囲とすることで、非画像部の親水性とその耐久性がより向上する。
The weight average molecular weight of the specific water-soluble polymer compound is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more, more preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
The number average molecular weight of the specific water-soluble polymer compound is preferably 1,000 or more, more preferably 2,000 or more, preferably 500,000 or less, and more preferably 300,000 or less.
By setting the molecular weight within this range, the hydrophilicity and durability of the non-image area are further improved.

本発明に好適に使用しうる特定水溶性高分子化合物の具体例を以下に例示するが、本発明はこれらに制限されない。   Specific examples of the specific water-soluble polymer compound that can be suitably used in the present invention are illustrated below, but the present invention is not limited thereto.

本発明の処理液組成物は、前記特定水溶性高分子化合物を2種以上含有していてもよい。
本発明の処理液組成物における特定水溶性高分子化合物の含有量は、0.1質量%〜20質量%が好ましく、0.5質量%〜10質量%がより好ましく、2質量%〜10質量%がさらに好ましい。上記範囲で、良好な非画像部の汚れ防止効果が得られる。
The treatment liquid composition of the present invention may contain two or more of the specific water-soluble polymer compounds.
The content of the specific water-soluble polymer compound in the treatment liquid composition of the present invention is preferably 0.1% by mass to 20% by mass, more preferably 0.5% by mass to 10% by mass, and 2% by mass to 10% by mass. % Is more preferable. Within the above range, a good non-image area stain prevention effect can be obtained.

(処理液組成物のpH)
本発明の処理液組成物は、pHは5〜10.7であることを要するが、好ましくは6〜10.5の範囲であり、特に好ましくは6.8〜9.9の範囲である。
本発明の処理液組成物のpHを5〜10.7の範囲に調製する方法は任意であるが、一般的には、アルカリ剤を添加するか、或いは、pH緩衝剤を用いることで、pHを上記範囲に調製すればよい。
(PH of treatment liquid composition)
The treatment liquid composition of the present invention requires a pH of 5 to 10.7, but is preferably in the range of 6 to 10.5, particularly preferably in the range of 6.8 to 9.9.
Although the method of adjusting the pH of the treatment liquid composition of the present invention to the range of 5 to 10.7 is arbitrary, in general, by adding an alkali agent or using a pH buffer, May be adjusted within the above range.

(アルカリ剤)
処理液組成物のpHを調整するために用いられるアルカリ剤として、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウムが挙げられ、これらは2種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、pH調製のため、アルカリ剤とともに使用される酸としては、無機酸、例えば塩酸、硫酸、硝酸などを用いることができる。
pHの調整は、好ましくは、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び炭酸ナトリウムから選択される1種以上のアルカリ剤、あるいは、それらアルカリ剤と塩酸との組み合わせにより行なわれる。
(Alkaline agent)
Examples of the alkali agent used to adjust the pH of the treatment liquid composition include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, and hydrogen carbonate. Ammonium is mentioned, and these may be used in combination of two or more. In addition, as acid used with an alkali agent for pH adjustment, inorganic acids, for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, etc. can be used.
The pH adjustment is preferably performed by one or more alkali agents selected from, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and sodium carbonate, or a combination of these alkali agents and hydrochloric acid.

(pH緩衝剤)
本発明において処理液組成物のpH調製に使用されるpH緩衝剤としては、pH5〜10.7の範囲に緩衝作用を発揮する緩衝剤であれば特に限定なく用いることができる。
本発明においては弱アルカリ性の緩衝剤が好ましく用いられ、例えば(a)炭酸イオン及び炭酸水素イオン、(b)ホウ酸イオン、(c)水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオン、及びそれらの併用などが挙げられる。すなわち、例えば(a)炭酸イオン−炭酸水素イオンの組み合わせ、(b)ホウ酸イオン、又は(c)水溶性のアミン化合物−そのアミン化合物のイオンの組み合わせなどが好ましく用いられる。
pH緩衝剤は、処理液組成物においてpH緩衝作用を発揮し、処理液組成物を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、pHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。本発明においては、炭酸イオンと炭酸水素イオンの組合せが特に好ましい。
(PH buffer)
In the present invention, the pH buffer used for adjusting the pH of the treatment liquid composition can be used without particular limitation as long as it is a buffer that exhibits a buffering action in the range of pH 5 to 10.7.
In the present invention, weakly alkaline buffering agents are preferably used. For example, (a) carbonate ions and hydrogen carbonate ions, (b) borate ions, (c) water-soluble amine compounds and ions of the amine compounds, and their Combination use etc. are mentioned. That is, for example, a combination of (a) carbonate ion-bicarbonate ion, (b) borate ion, or (c) water-soluble amine compound-amine compound ion is preferably used.
The pH buffering agent exhibits a pH buffering effect in the processing liquid composition, and can suppress fluctuations in pH even when the processing liquid composition is used for a long period of time, and can suppress deterioration in developability due to fluctuations in pH, generation of development residue, etc. . In the present invention, a combination of carbonate ion and hydrogen carbonate ion is particularly preferable.

(a)炭酸イオン及び炭酸水素イオン
炭酸イオン、炭酸水素イオンを処理液組成物中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩を処理液組成物に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。アルカリ金属は二種以上を組み合わせて用いてもよい。
(A) Carbonate ion and hydrogen carbonate ion In order to make carbonate ion and hydrogen carbonate ion exist in the treatment liquid composition, carbonate and hydrogen carbonate may be added to the treatment liquid composition, or carbonate or hydrogen carbonate. Carbonate ions and bicarbonate ions may be generated by adjusting the pH after adding the salt. The carbonate and bicarbonate are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. Two or more alkali metals may be used in combination.

炭酸イオン及び炭酸水素イオンの総量は、処理液組成物に対して0.05mol/L〜5mol/Lが好ましく、0.07mol/L〜2mol/Lがより好ましく、0.1mol/L〜1mol/Lが特に好ましい。   The total amount of carbonate ions and bicarbonate ions is preferably 0.05 mol / L to 5 mol / L, more preferably 0.07 mol / L to 2 mol / L, and more preferably 0.1 mol / L to 1 mol / L with respect to the treatment liquid composition. L is particularly preferred.

(b)ホウ酸イオン
ホウ酸イオンを処理液組成物中に存在させる方法としては、ホウ酸あるいはホウ酸塩を処理液組成物に加えた後にpHを調整することで、適量のホウ酸イオンを発生させる方法が挙げられる。ここで用いるホウ酸あるいはホウ酸塩は、特に限定されないが、ホウ酸としてオルトホウ酸、メタホウ酸、及び四ホウ酸などが挙げられ、なかでもオルトホウ酸及び四ホウ酸が好ましい。また、ホウ酸塩としてアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩が挙げられ、オルトホウ酸塩、二ホウ酸塩、メタホウ酸塩、四ホウ酸塩、五ホウ酸塩、及び八ホウ酸塩などが挙げられ、なかでもオルトホウ酸塩、四ホウ酸塩が好ましく、特にアルカリ金属の四ホウ酸塩が好ましい。好ましい四ホウ酸塩として、四ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸カリウム及び四ホウ酸リチウムなどが挙げられ、なかでも四ホウ酸ナトリウムが好ましい。
本発明で使用されるホウ酸あるいはホウ酸塩として、特に好ましいものは、オルトホウ酸、四ホウ酸あるいは四ホウ酸ナトリウムである。
処理液組成物に含まれるホウ酸又はホウ酸塩はそれぞれ2種以上併用してもよく、また、ホウ酸とホウ酸塩とを併用してもよい。
現像液におけるホウ酸塩の総量は、現像液の全質量に対して、0.5〜20質量%が好ましく、1〜15質量%がより好ましく、1〜12質量%が特に好ましい。
(B) Boric acid ions As a method of making boric acid ions exist in the treatment liquid composition, an appropriate amount of boric acid ions can be obtained by adjusting pH after adding boric acid or borate to the treatment liquid composition. The method of generating is mentioned. The boric acid or borate used here is not particularly limited, and examples of boric acid include orthoboric acid, metaboric acid, and tetraboric acid. Among them, orthoboric acid and tetraboric acid are preferable. Examples of borates include alkali metal salts or alkaline earth metal salts, such as orthoborate, diborate, metaborate, tetraborate, pentaborate, and octaborate. Of these, orthoborate and tetraborate are preferable, and alkali metal tetraborate is particularly preferable. Preferred examples of the tetraborate include sodium tetraborate, potassium tetraborate, and lithium tetraborate. Among them, sodium tetraborate is preferable.
As the boric acid or borate used in the present invention, orthoboric acid, tetraboric acid or sodium tetraborate is particularly preferable.
Two or more types of boric acid or borate contained in the treatment liquid composition may be used in combination, or boric acid and borate may be used in combination.
The total amount of borate in the developer is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and particularly preferably 1 to 12% by mass with respect to the total mass of the developer.

(c)水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオン
本発明においては、水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオンの組合せも好ましく用いることができる。
水溶性のアミン化合物は、特に限定されないが、水溶性を促進する基を有する水溶性のアミンが好ましい。水溶性を促進する基としてカルボン酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基、ホスホン酸基、水酸基などが挙げられる。なかでも、水酸基を有するアミン化合物が特に好ましい。
(C) Water-soluble amine compound and ion of the amine compound In the present invention, a combination of a water-soluble amine compound and an ion of the amine compound can also be preferably used.
The water-soluble amine compound is not particularly limited, but a water-soluble amine having a group that promotes water solubility is preferable. Examples of groups that promote water solubility include carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, sulfinic acid groups, phosphonic acid groups, and hydroxyl groups. Of these, amine compounds having a hydroxyl group are particularly preferred.

水酸基を持つ水溶性のアミン化合物としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−ヒドロキシエチルモルフォリンが好ましい。   As the water-soluble amine compound having a hydroxyl group, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, and N-hydroxyethylmorpholine are preferable.

水溶性のアミン化合物及びアミン化合物の塩の総量は、処理液組成物の質量に対して、0.5質量%〜20質量%が好ましく、1質量%〜15質量%がより好ましく、1質量%〜12質量%が特に好ましい。   The total amount of the water-soluble amine compound and the salt of the amine compound is preferably 0.5% by mass to 20% by mass, more preferably 1% by mass to 15% by mass, and more preferably 1% by mass with respect to the mass of the treatment liquid composition. ˜12% by weight is particularly preferred.

(その他の成分)
本発明の処理液組成物は、前記特定水溶性高分子化合物及び水を含むpH5〜10.7の水溶液であるが、上記成分に加え、目的に応じて、本発明の効果を損なわない範囲において、公知の現像液、補充液に使用される公知の添加剤を含有してもよい。
(界面活性剤)
本発明の処理液組成物は、前記特定水溶性高分子化合物以外に界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性イオン系界面活性剤いずれも好ましく用いうる。
アニオン系界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
カチオン系界面活性剤としては、例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、アルキルイミダゾリニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するものが好ましく、アルキル置換又は無置換のフェノールエチレンオキサイド付加物又はアルキル置換又は無置換のナフトールエチレンオキサイド付加物がより好ましい。
両性イオン系界面活性剤としては、アルキルジメチルアミンオキシドなどのアミンオキシド系、アルキルベタインなどのベタイン系、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウムなどのアミノ酸系が挙げられる。
特に、アルキルジメチルアミンオキシド、アルキルカルボキシベタイン、アルキルスルホベタインが好ましく用いられる。
(Other ingredients)
The treatment liquid composition of the present invention is an aqueous solution having a pH of 5 to 10.7 containing the specific water-soluble polymer compound and water. However, depending on the purpose, in addition to the above components, the effect of the present invention is not impaired. Further, it may contain a known additive used for a known developer and replenisher.
(Surfactant)
The treatment liquid composition of the present invention preferably contains a surfactant in addition to the specific water-soluble polymer compound. As the surfactant, any of an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and an amphoteric surfactant can be preferably used.
As the anionic surfactant, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, and alkyl diphenyl ether (di) sulfonates are particularly preferably used.
Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, alkylimidazolinium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, polyethylene polyamine derivatives, and the like. As the nonionic surfactant, those having an aromatic ring and an ethylene oxide chain are preferable, and an alkyl-substituted or unsubstituted phenol ethylene oxide adduct or an alkyl-substituted or unsubstituted naphthol ethylene oxide adduct is more preferable.
Examples of zwitterionic surfactants include amine oxides such as alkyldimethylamine oxide, betaines such as alkylbetaines, and amino acid systems such as sodium alkylamino fatty acids.
In particular, alkyldimethylamine oxide, alkylcarboxybetaine, and alkylsulfobetaine are preferably used.

処理液組成物が界面活性剤を含む場合の界面活性剤の含有量は、0.01質量%〜20質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。界面活性剤は2種以上用いてもよい。   In the case where the treatment liquid composition contains a surfactant, the content of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 20% by mass, and more preferably 0.1 to 10% by mass. Two or more surfactants may be used.

(被膜形成性水溶性高分子化合物:他の水溶性高分子化合物)
本発明の処理液組成物は、版面を保護し、版面の傷つきを抑制するため、前記特定水溶性高分子化合物とは構造の異なる皮膜形成性を有する水溶性高分子化合物(以下、適宜、他の水溶性高分子化合物と称する)をさらに含有することも好ましい。
他の水溶性高分子化合物としては、例えば、アラビアガム、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルプロピルセルロース等)及びその変性体、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、澱粉誘導体(例えば、デキストリン、マルトデキストリン、酵素分解デキストリン、ヒドロキシプロピル化澱粉、ヒドロキシプロピル化澱粉酵素分解デキストリン、カルボキジメチル化澱粉、リン酸化澱粉、サイクロデキストリン)、プルラン及びプルラン誘導体等が挙げられる。
なかでも、アラビアガム、デキストリンやヒドロキシプロピル澱粉といった澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロース、大豆多糖類などを好ましく使用することができる。
本発明の処理液組成物が他の水溶性高分子化合物を含有する場合の他の水溶性高分子化合物の含有量は、0.05質量%〜15質量%の範囲であることが好ましく、0.5質量%〜10質量%の範囲であることがより好ましい。
(Film-forming water-soluble polymer compounds: other water-soluble polymer compounds)
The treatment liquid composition of the present invention is a water-soluble polymer compound having a film-forming property having a structure different from that of the specific water-soluble polymer compound in order to protect the plate surface and suppress scratches on the plate surface (hereinafter referred to as other It is also preferable to further contain a water-soluble polymer compound).
Examples of other water-soluble polymer compounds include gum arabic, fiber derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, methylpropylcellulose, etc.) and modified products thereof, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, polyvinyl Pyrrolidone, polyacrylamide, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, starch derivatives (eg, dextrin, maltodextrin, enzymatically degraded dextrin, hydroxy Propylated starch, hydroxypropylated starch enzymatically degraded dextrin, carboxydimethylated starch, phosphorylated starch, cyclodextrin), pullulan and pullulan derivatives .
Among them, gum arabic, starch derivatives such as dextrin and hydroxypropyl starch, carboxymethyl cellulose, soybean polysaccharide and the like can be preferably used.
When the treatment liquid composition of the present invention contains another water-soluble polymer compound, the content of the other water-soluble polymer compound is preferably in the range of 0.05% by mass to 15% by mass. More preferably, it is in the range of 5% by mass to 10% by mass.

(有機溶剤)
本発明の処理液組成物は、有機溶剤を含有してもよい。含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、あるいはハロゲン化炭化水素や、極性溶剤が挙げられる。極性溶剤としては、アルコール類、ケトン類、エステル類、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、4−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等)等が挙げられる。
(Organic solvent)
The treatment liquid composition of the present invention may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained include aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, and polar solvents. Examples of polar solvents include alcohols, ketones, esters, and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, 4- ( 2-hydroxyethyl) morpholine, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.

処理液組成物に含有される有機溶剤は、2種以上を併用することもできる。有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。安全性、引火性の観点から、有機溶剤の濃度は40質量%未満が望ましく、10質量%未満が好ましく、5質量%未満がより好ましい。   Two or more organic solvents can be used in combination in the treatment liquid composition. When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. From the viewpoint of safety and flammability, the concentration of the organic solvent is preferably less than 40% by mass, preferably less than 10% by mass, and more preferably less than 5% by mass.

処理液組成物には上記成分の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有させることができる。具体的には、特開2007−206217号の段落番号〔0266〕〜〔0270〕に記載の化合物を好ましく用いることができる。   In addition to the above components, the treatment liquid composition may contain preservatives, chelate compounds, antifoaming agents, organic acids, inorganic acids, inorganic salts, and the like. Specifically, compounds described in paragraph numbers [0266] to [0270] of JP-A-2007-206217 can be preferably used.

本発明の処理液組成物は、露光されたポジ型平版印刷版原版の現像及び親水化処理に用いられるが、通常の現像液と同様に用いればよく、また、必要に応じて現像補充液として用いることもできる。
本発明の処理液組成物は、自動現像処理機に好ましく適用することができる。自動現像処理機に用いる場合には、公知の現像液と同様に用いればよい。自動現像処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよく、このとき、添加される補充液や現像液に換えて本発明の処理液組成物を用いてもよい。
The processing liquid composition of the present invention is used for developing and hydrophilizing the exposed positive planographic printing plate precursor, and may be used in the same manner as a normal developing solution, and as a development replenisher as necessary. It can also be used.
The processing liquid composition of the present invention can be preferably applied to an automatic developing processor. When used in an automatic developing processor, it may be used in the same manner as a known developer. When developing using an automatic developing processor, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so the replenishing solution or fresh developing solution may be used to restore the processing capability, and at this time, it is added The processing liquid composition of the present invention may be used in place of the replenisher or developer.

次に平版印刷版の作製方法に使用するポジ型感光性平版印刷版について記載する。
[ポジ型感光性平版印刷版原版]
本発明に係るポジ型感光性平版印刷版原版は、アルミニウム支持体上に、赤外線感応性(以下、単に感光性と称することがある)ポジ型記録層を有する。また、平版印刷版原版はポジ型記録層以外の層、例えば、保護層、下塗り層などを有するものであってもよい。
以下、本発明の平版印刷版の作製方法に使用されるポジ型感光性平版印刷版原版について説明する。
Next, a positive photosensitive lithographic printing plate used in a method for preparing a lithographic printing plate will be described.
[Positive photosensitive lithographic printing plate precursor]
The positive photosensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention has an infrared sensitive (hereinafter sometimes simply referred to as photosensitive) positive recording layer on an aluminum support. The lithographic printing plate precursor may have a layer other than the positive recording layer, for example, a protective layer, an undercoat layer and the like.
Hereinafter, the positive photosensitive lithographic printing plate precursor used in the method for preparing a lithographic printing plate according to the present invention will be described.

〔赤外線感応性ポジ型記録層〕
本発明に係る平版印刷版原版のポジ型記録層としては、公知のポジ型記録層、例えば、極性変換材料系(疎水性から親水性へ変化)、酸触媒分解系、相互作用解除系(感熱ポジ)記録層のいずれも使用できるが、安定性及び感度の観点からは、少なくとも、(A)赤外線吸収剤及び(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有し、露光領域において現像液への溶解性が向上する相互作用解除系の記録層が好ましい。
記録層は単層構造であっても、重層構造であってもよいが、現像ラチチュードなどの画像形成性を考慮すれば、重層構造の記録層が好ましい。
重層構造の記録層としては、(C)アルカリ可溶性樹脂を含有する下層と、(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、からなる重層構造であって、前記上層及び前記下層の少なくとも1層に(A)赤外線吸収剤を含有する構造が好ましく、さらに、下層に(A)赤外線吸収剤、(C−1)アルカリ可溶性アクリル樹脂、及び(C−2)フェノール樹脂を含有し、上層に、(B−1)水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂を含有する態様がさらに好ましい。ここで、(B−1)水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂としては、ポリマー主鎖にカルボキシ基を有するポリウレタン樹脂であることが好ましい。
[Infrared sensitive positive recording layer]
As the positive recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a known positive recording layer, for example, a polarity conversion material system (change from hydrophobic to hydrophilic), an acid catalyst decomposition system, an interaction release system (heat sensitive) Any of the positive) recording layers can be used, but from the viewpoint of stability and sensitivity, it contains at least (A) an infrared absorber and (B) a water-insoluble and alkali-soluble resin, and dissolves in the developer in the exposed area. An interaction release type recording layer that improves the properties is preferable.
The recording layer may have a single layer structure or a multilayer structure. However, in consideration of image forming properties such as development latitude, a recording layer having a multilayer structure is preferable.
The recording layer having a multilayer structure is a multilayer structure comprising (C) a lower layer containing an alkali-soluble resin, and (B) an upper layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin, and includes at least one of the upper layer and the lower layer. A structure containing (A) an infrared absorber in one layer is preferable, and (A) an infrared absorber, (C-1) an alkali-soluble acrylic resin, and (C-2) a phenol resin are contained in the lower layer, and an upper layer (B-1) An embodiment containing a water-insoluble and alkali-soluble polyurethane resin is more preferable. Here, (B-1) the water-insoluble and alkali-soluble polyurethane resin is preferably a polyurethane resin having a carboxy group in the polymer main chain.

以下、ポジ型記録層に含まれる各成分について説明する。
本発明に係る赤外線感応性ポジ型記録層である相互作用解除系ポジ型記録層は、以下に示す如き(A)赤外線吸収剤に代表される溶解抑制能を有する化合物と、公知の(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂とを含んで構成され、アルカリ可溶性樹脂と溶解抑制機能を有する化合物との相互作用により耐アルカリ現像性を有する記録層である。このポジ型記録層の赤外線レーザ照射領域において前記相互作用が解除されることにより、露光領域がアルカリ現像性への溶解性を発現することで画像形成される。
Hereinafter, each component contained in the positive recording layer will be described.
The interaction release positive recording layer, which is an infrared sensitive positive recording layer according to the present invention, includes a compound (A) having dissolution inhibiting ability represented by an infrared absorber as shown below and a known (B) The recording layer is composed of a water-insoluble and alkali-soluble resin, and has an alkali developability due to the interaction between the alkali-soluble resin and a compound having a dissolution inhibiting function. By releasing the interaction in the infrared laser irradiation area of the positive recording layer, the exposed area develops solubility in alkali developability to form an image.

((A)赤外線吸収剤)
平版印刷版原版のポジ型記録層が含有する赤外線吸収剤には特に制限はなく、赤外線吸収剤として知られる種々の染料或いは顔料を適宜選択して用いることができる。
ポジ型記録層は、赤外線吸収剤を含有する。記録層が重層構造をとる場合、赤外線吸収剤は上層に含まれても、下層に含まれてもよく、上層と下層の両方に含まれてもよい。
((A) infrared absorber)
There is no particular limitation on the infrared absorber contained in the positive recording layer of the lithographic printing plate precursor, and various dyes or pigments known as infrared absorbers can be appropriately selected and used.
The positive recording layer contains an infrared absorber. When the recording layer has a multi-layer structure, the infrared absorber may be included in the upper layer, the lower layer, or both the upper layer and the lower layer.

本発明に係る赤外線吸収剤としては、公知のものが利用でき、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明においては、これらの染料のうち、赤外光若しくは近赤外光を吸収するものが、赤外光若しくは近赤外光を発光するレーザで記録する際に好適に用いることができる。   As the infrared absorber according to the present invention, known ones can be used, for example, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes and the like. Dyes. In the present invention, among these dyes, those which absorb infrared light or near infrared light can be suitably used for recording with a laser emitting infrared light or near infrared light.

そのような、赤外光若しくは近赤外光を吸収する染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of such dyes that absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-. Cyanine dyes described in JP-A-78787, methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc., JP-A-58-112793 Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Examples thereof include squarylium dyes described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 58-112792, and cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、赤外線吸収剤としての染料としては、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられる。また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物等が挙げられる。また、本発明に使用しうる赤外線吸収剤の市販品としては、エポリン社製のEpolight III−178、Epolight III−130、Epolight III−125等が、特に好ましいものとして挙げられる。
また、染料として特に好ましい別の例としては、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
Moreover, as a dye as an infrared absorber, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used. Further, substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in US Pat. No. 3,881,924, trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), The pyrylium system described in JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061 Compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702. And pyrylium compounds. Moreover, as a commercial item of the infrared absorber which can be used for this invention, Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125, etc. by Eporin are mentioned as a particularly preferable thing.
Another particularly preferable example of the dye includes near infrared absorbing dyes described as the formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明における下層に使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Furthermore, the cyanine dye represented by the following general formula (a) is most preferable because it gives high polymerization activity and is excellent in stability and economy when used in the lower layer in the present invention.

一般式(a)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−NPh、X−L又は以下に示す基を表す。Xは、酸素原子又は硫黄原子を示す。Lは、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、又はヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom. L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.

上記式中、Xaは後述するZaと同様に定義され、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In the above formula, Xa - has Za described later - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

及びRは、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R及びRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、RとRとは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In view of storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar、Arは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。
、Yは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R及びRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
、R、R及びRは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。但し、一般式(a)で示されるシアニン色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合は、Za-は必要ない。好ましいZaは、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned.
Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups.
R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Furthermore, Za - represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the recording layer coating solution. Fluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.

好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638号公報の段落番号[0012]〜[0038]、特開2002−23360号公報の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。
下層が含有する赤外線吸収剤として特に好ましくは、以下に示すシアニン染料である。
Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) that can be suitably used include paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969 and paragraph numbers of JP-A No. 2002-40638. [0012] to [0038] and paragraphs [0012] to [0023] described in JP-A No. 2002-23360.
Particularly preferred as the infrared absorber contained in the lower layer is a cyanine dye shown below.

記録層が赤外線吸収剤を含有することで、高感度化する。
(A)赤外線吸収剤の添加量としては、感度、記録層の均一性及び耐久性の観点から、下層全固形分に対し0.01〜50質量%の割合で添加することができ、0.1〜30質量%の範囲であることが好ましく、特に好ましくは、1.0〜30質量%の範囲である。
The recording layer contains an infrared absorber to increase sensitivity.
(A) As the addition amount of the infrared absorber, from the viewpoint of sensitivity, recording layer uniformity and durability, it can be added at a ratio of 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content of the lower layer. It is preferable that it is the range of 1-30 mass%, Most preferably, it is the range of 1.0-30 mass%.

〔(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂〕
ポジ型の記録層に使用できる水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂(以下、適宜、アルカリ可溶性樹脂と称する)としては、高分子中の主鎖及び/又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体又はこれらの混合物を包含する。
なかでも、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。
[(B) Water-insoluble and alkali-soluble resin]
Examples of water-insoluble and alkali-soluble resins that can be used in the positive recording layer (hereinafter, appropriately referred to as alkali-soluble resins) include homopolymers containing acidic groups in the main chain and / or side chain in the polymer, Or a mixture thereof.
Among these, those having an acidic group listed in the following (1) to (6) in the main chain and / or side chain of the polymer are preferable from the viewpoint of solubility in an alkaline developer and expression of dissolution inhibiting ability.

(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SO2 NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2 NHCOR、−SO2 NHSO2R、−CONHSO2 R〕
(4)カルボン酸基(−CO2 H)
(5)スルホン酸基(−SO3 H)
(6)リン酸基(−OPO3 2
(1) Phenol group (-Ar-OH)
(2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(4) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(5) Sulfonic acid group (—SO 3 H)
(6) Phosphate group (—OPO 3 H 2 )

上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。   In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent. .

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂のなかでも、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。   Among the alkali-soluble resins having an acidic group selected from the above (1) to (6), an alkali-soluble resin having (1) a phenol group, (2) a sulfonamide group, and (3) an active imide group is preferable. (1) An alkali-soluble resin having a phenol group or (2) a sulfonamide group is most preferable from the viewpoint of sufficiently ensuring solubility in an alkaline developer, development latitude, and film strength.

本発明に好適に使用される(1)フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂(以下、フェノール樹脂とも称する)としては、例えば、アルカリ可溶性ノボラック樹脂が好適である。アルカリ可溶性ノボラック樹脂としては、例えば、フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、m−/p−の混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒドノボラック樹脂等のアルカリ可溶性のノボラック樹脂を挙げることができる。
これらのアルカリ可溶性のノボラック樹脂としては、重量平均分子量が500〜20000、数平均分子量が200〜10000のものが好ましく用いられる。
For example, an alkali-soluble novolak resin is suitable as the alkali-soluble resin having a phenol group (hereinafter also referred to as a phenol resin) preferably used in the present invention. Examples of the alkali-soluble novolak resin include phenol formaldehyde novolak resin, m-cresol formaldehyde novolak resin, p-cresol formaldehyde novolak resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde novolak resin, phenol / cresol (m-, p-, m Any of-/ p- may be used) Alkali-soluble novolak resins such as mixed formaldehyde novolak resins may be mentioned.
As these alkali-soluble novolak resins, those having a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000 are preferably used.

さらに、フェノール樹脂としては、米国特許第4123279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂のような、炭素原子数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用してもよい。   Further, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, the phenol resin has an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent such as t-butylphenol formaldehyde novolak resin and octylphenol formaldehyde novolak resin. You may use together the condensate of the phenol and formaldehyde which have.

記録層が含有するフェノール樹脂は、レゾール樹脂であってもよい。
本発明において使用されるレゾール樹脂は、フェノール類とアルデヒド類を塩基性条件下で縮合させた樹脂である。
上記記フェノール類としては、例えば、フェノール、m−クレゾール、p−クレゾール、o−クレゾール、ビスフェノールAなどが好適に用いられる。上記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド等が挙げられる。上記フェノール類及びアルデヒド類は、単独若しくは2種以上を組み合わせて用いることができる。
さらに、先に記載したフェノール類の混合物とホルムアルデヒドから得られるレゾール樹脂であってもよい。該レゾール樹脂を得るに際しての、フェノール類とホルムアルデヒドとの縮合の程度、分子量、残存モノマーの残留率などは、目的に応じて選択すればよい。
The phenol resin contained in the recording layer may be a resole resin.
The resol resin used in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under basic conditions.
As the above-mentioned phenols, for example, phenol, m-cresol, p-cresol, o-cresol, bisphenol A and the like are preferably used. Examples of the aldehydes include formaldehyde. The said phenols and aldehydes can be used individually or in combination of 2 or more types.
Further, it may be a resol resin obtained from a mixture of phenols described above and formaldehyde. In obtaining the resol resin, the degree of condensation between the phenol and formaldehyde, the molecular weight, the residual ratio of the residual monomer, etc. may be selected according to the purpose.

(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。なかでも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物が挙げられる。   (2) As an alkali-soluble resin having a sulfonamide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having a sulfonamide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among these, low molecular weight compounds having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group, and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule are preferable. For example, the following general formula (i) to general formula The compound represented by (v) is mentioned.

〔式中、X1、X2 は、それぞれ独立に−O−又はNRを表す。R、Rは、それぞれ独立に水素原子又は−CHを表す。R、R、R、R12、及び、R16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R、R、及び、R13は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R、R17は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子又は−CHを表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y、Yは、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。〕 [Wherein, X 1 and X 2 each independently represent —O— or NR 7 . R 1 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 each independently represent a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a substituent. . R 3 , R 7 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group which may have a substituent. R 6 and R 17 each independently represents a C 1-12 alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group which may have a substituent. R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 11 and R 15 each independently represent a single bond or a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a substituent. Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO. ]

一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物のうち、本発明のポジ型平版印刷用材料では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by the general formula (i) to the general formula (v), in the positive lithographic printing material of the present invention, in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。   (3) As an alkali-soluble resin having an active imide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having an active imide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(B)アルカリ可溶性樹脂として、(B−1)水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂もまた好ましく用いられる。
((B−1)水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂)
水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂としては、ポリマー主鎖にカルボキシル基を有するものが好ましく、具体的には、下記一般式(I)で表されるジイソシアネート化合物と、下記一般式(II)又は一般式(III)で表されるカルボキシル基を有するジオール化合物との反応生成物を基本骨格とするポリウレタン樹脂が挙げられる。
As the (B) alkali-soluble resin, (B-1) a water-insoluble and alkali-soluble polyurethane resin is also preferably used.
((B-1) Water-insoluble and alkali-soluble polyurethane resin)
The water-insoluble and alkali-soluble polyurethane resin preferably has a carboxyl group in the polymer main chain. Specifically, the diisocyanate compound represented by the following general formula (I) and the following general formula (II) or general A polyurethane resin having a basic skeleton as a reaction product with a diol compound having a carboxyl group represented by the formula (III) can be mentioned.

一般式(I)中、Rは二価の炭化水素基を表し、好ましくは、炭素数2〜10のアルキレン基、炭素数6〜30のアリーレン基が挙げられる。Rは、イソシアネート基と反応しない他の官能基を有していてもよい。
一般式(II)中、Rは、水素原子又は炭化水素基を表し、好ましくは、水素原子、炭素数1〜8個の無置換のアルキル基、炭素数6〜15個の無置換のアリール基が挙げられる。
一般式(II)及び一般式(III)中、R、R及びRは、各々独立に、単結合、又は二価の連結基を表す。該二価の連結基としては、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられ、好ましくは、炭素数1〜20個の無置換のアルキレン基、炭素数6〜15個の無置換のアリーレン基が挙げられ、さらに好ましいものとしては炭素数1〜8個の無置換のアルキレン基が挙げられる。
一般式(III)中、Arは三価の芳香族炭化水素を表し、好ましくは炭素数6〜15個のアリーレン基を示す。
なお、R〜R、及びArは、ぞれぞれ、イソシアネート基と反応しない置換基を有していてもよい
In the general formula (I), R 1 represents a divalent hydrocarbon group, preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms or an arylene group having 6 to 30 carbon atoms. R 1 may have another functional group that does not react with the isocyanate group.
In general formula (II), R 2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, preferably a hydrogen atom, an unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an unsubstituted aryl group having 6 to 15 carbon atoms. Groups.
In general formula (II) and general formula (III), R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group, and preferably an unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms and an unsubstituted hydrocarbon group having 6 to 15 carbon atoms. A substituted arylene group is mentioned, More preferably, a C1-C8 unsubstituted alkylene group is mentioned.
In general formula (III), Ar represents a trivalent aromatic hydrocarbon, and preferably represents an arylene group having 6 to 15 carbon atoms.
R 1 to R 5 and Ar may each have a substituent that does not react with the isocyanate group.

一般式(I)で表されるジイソシアネート化合物の具体例としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の如き脂環族ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。
なかでも、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートのような芳香族環を有するものが耐刷性の観点より好ましい。
Specific examples of the diisocyanate compound represented by the general formula (I) include the following, but are not limited thereto.
2,4-tolylene diisocyanate, dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, metaxylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5 -Aromatic diisocyanate compounds such as naphthylene diisocyanate, 3,3'-dimethylbiphenyl-4,4'-diisocyanate; aliphatic diisocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer acid diisocyanate; Isophorone diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) diisocyanate, 1,3- (isocyanate) Nate methyl) cycloaliphatic diisocyanate compounds such as cyclohexane; and diisocyanate compounds which are a reaction product of diol and diisocyanate such as an adduct of 1 mol of 1,3-butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate.
Among these, those having an aromatic ring such as 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and tolylene diisocyanate are preferable from the viewpoint of printing durability.

また、一般式(II)又は一般式(III)で示されるカルボキシル基を有するジオール化合物の具体例としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2,2−ビス(3−ヒドロキシプロピルプロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、4,4−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸等が挙げられる。
なかでも、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシエチル)プロピオン酸がイソシアネートとの反応性の観点より好ましい。
Specific examples of the diol compound having a carboxyl group represented by the general formula (II) or the general formula (III) include the following, but are not limited thereto.
3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxyethyl) propionic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropylpropionic acid, 2,2-bis (Hydroxymethyl) acetic acid, bis- (4-hydroxyphenyl) acetic acid, 4,4-bis- (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid and the like.
Of these, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid and 2,2-bis (hydroxyethyl) propionic acid are preferred from the viewpoint of reactivity with isocyanate.

さらに、本発明に係る水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂を得るためのジオール化合物としては、記録層における現像液への溶解性及び現像液の浸透性を向上させる観点から、下記一般式(IV)で表されるジオール化合物を用いることが望ましい。   Furthermore, as the diol compound for obtaining the water-insoluble and alkali-soluble polyurethane resin according to the present invention, from the viewpoint of improving the solubility in the developer and the permeability of the developer in the recording layer, the following general formula (IV) It is desirable to use a diol compound represented by

一般式(IV)中、nは4〜12の整数を表し、好ましくは6〜10の整数である。   In general formula (IV), n represents the integer of 4-12, Preferably it is an integer of 6-10.

本発明に係るポリウレタン樹脂は、前記ジイソシアネート化合物及びジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性を有する公知の触媒を添加し、加熱することにより合成することができる。   The polyurethane resin according to the present invention can be synthesized by adding the above-mentioned diisocyanate compound and diol compound to an aprotic solvent by adding a known catalyst having activity corresponding to the reactivity and heating.

使用するジイソシアネート及びジオール化合物のモル比は、好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類等で処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
(B−1)水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂としては、ポリマー主鎖にカルボキシ基を有するポリウレタン樹脂であることが好ましい。
本発明に係る水不溶性アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂の分子量は、好ましくは重量平均で1,000以上であり、さらに好ましくは5,000〜10万の範囲である。これらのポリウレタン樹脂は2種以上を混合して用いてもよい。
The molar ratio of the diisocyanate and the diol compound to be used is preferably 0.8: 1 to 1.2: 1. When an isocyanate group remains at the polymer terminal, the final treatment is performed with an alcohol or an amine. Thus, it is synthesized in a form in which no isocyanate group remains.
(B-1) The water-insoluble and alkali-soluble polyurethane resin is preferably a polyurethane resin having a carboxy group in the polymer main chain.
The molecular weight of the water-insoluble alkali-soluble polyurethane resin according to the present invention is preferably 1,000 or more in weight average, and more preferably in the range of 5,000 to 100,000. These polyurethane resins may be used in combination of two or more.

ポジ型記録層には、(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を1種のみ含んでもよく、2種以上を含んでいてもよい。
(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂は、ポジ型記録層全固形分中、30重量%〜98重量%が好ましく、40重量%〜95重量%がより好ましい。含有量が上記範囲において、記録層の耐久性と感度、画像形成性が良好に維持される。
The positive recording layer may contain only one (B) water-insoluble and alkali-soluble resin, or may contain two or more.
(B) The water-insoluble and alkali-soluble resin is preferably 30% by weight to 98% by weight and more preferably 40% by weight to 95% by weight in the total solid content of the positive recording layer. When the content is in the above range, the durability and sensitivity of the recording layer and the image formability are maintained well.

(C)アルカリ可溶性樹脂
ポジ型記録層には、水溶性を有するアルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよい。アルカリ可溶性樹脂は、アルカリ性の水溶液に可溶であれば特に制限はなく、先に(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂として挙げた樹脂及び水溶性であり且つアルカリ可溶性の樹脂を用いることができる。
(C) Alkali-soluble resin The positive recording layer may contain an alkali-soluble resin having water solubility. The alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it is soluble in an alkaline aqueous solution, and (B) water-insoluble and alkali-soluble resins mentioned above and water-soluble and alkali-soluble resins can be used.

((C−1)アルカリ可溶性アクリル樹脂)
アルカリ可溶性樹脂として、アルカリ可溶性アクリル樹脂を用いてもよい。
好適なアルカリ可溶性アクリル樹脂としては、高分子中の主鎖又は側鎖に既述の如き酸性基を有する樹脂が挙げられる。このような樹脂は、例えば、酸性基を有するエチレン性不飽和モノマーを1種以上含むモノマー混合物を重合することによって得られる。該アルカリ可溶性樹脂を形成するのに有用な酸性基を有するエチレン性不飽和モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸の他に、下式で表されるモノマーが挙げられ、これらの酸性基を有するエチレン性不飽和モノマーは1種のみならず、2種以上の混合物として用いてもよい。
((C-1) alkali-soluble acrylic resin)
An alkali-soluble acrylic resin may be used as the alkali-soluble resin.
Suitable alkali-soluble acrylic resins include resins having an acidic group as described above in the main chain or side chain in the polymer. Such a resin is obtained, for example, by polymerizing a monomer mixture containing at least one ethylenically unsaturated monomer having an acidic group. Examples of the ethylenically unsaturated monomer having an acidic group useful for forming the alkali-soluble resin include monomers represented by the following formula in addition to acrylic acid and methacrylic acid, and ethylene having these acidic groups. The unsaturated monomer may be used as a mixture of not only one type but also two or more types.

上記各式中、Rは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。 In the above formulas, R 1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group.

アルカリ可溶性アクリル樹脂としては、上記酸性基を有するエチレン性不飽和モノマー(重合性モノマー)と、他の重合性モノマーと、を共重合させて得られる高分子化合物であることが好ましい。この場合の共重合比としては、記録層の現像性の観点から、アルカリ可溶性を付与するための酸性基を有する重合性モノマーを10モル%以上含むことが好ましく、20モル%以上80モル%以下の割合で含むものがより好ましい。   The alkali-soluble acrylic resin is preferably a polymer compound obtained by copolymerizing the ethylenically unsaturated monomer (polymerizable monomer) having the acidic group and another polymerizable monomer. The copolymerization ratio in this case is preferably 10 mol% or more, preferably 20 mol% or more and 80 mol% or less of a polymerizable monomer having an acidic group for imparting alkali solubility from the viewpoint of developability of the recording layer. More preferably, it is contained at a ratio of

(C−1)フェノール樹脂
また、(C)アルカリ可溶性樹脂としては、先に(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂の項にて説明したフェノール樹脂もまた有用である。
(C-1) Phenol Resin As the (C) alkali-soluble resin, the phenol resin described above in the section of (B) water-insoluble and alkali-soluble resin is also useful.

アルカリ可溶性樹脂は、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましい。さらに好ましいアルカリ可溶性アクリル樹脂は、重量平均分子量が5,000以上300,000以下であり、数平均分子量が800以上250,000以下であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。   The alkali-soluble resin preferably has a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more. More preferred alkali-soluble acrylic resins have a weight average molecular weight of 5,000 to 300,000, a number average molecular weight of 800 to 250,000 and a dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1. 1-10.

なお、アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトフラフィー)測定によりポリスチレン標品の分子量換算で算出した値を用いた。また、本明細書中における他の高分子化合物の重量平均分子量についても、同様に測定した値を用いた。   The weight average molecular weight of the alkali-soluble resin used was a value calculated by GPC (gel permeation chromatography) measurement in terms of the molecular weight of a polystyrene sample. Moreover, the value measured similarly was used also about the weight average molecular weight of the other high molecular compound in this specification.

記録層が重層構造をとる場合、アルカリ可溶性に優れた下層と画像形成性に優れた上層と有することが好ましく、そのような観点からは、(C)アルカリ可溶性樹脂を含有する下層と、(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、からなる重層構造であって、前記上層及び前記下層の少なくとも1層に(A)赤外線吸収剤を含有する構造が好ましく、(A)赤外線吸収剤は上層に含むことがさらに好ましい。
また、別の好ましい態様として、下層に(A)赤外線吸収剤、(C−1)アルカリ可溶性アクリル樹脂、及び(C−2)フェノール樹脂を含有し、上層に、(B−1)水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂を含有する重層構造の態様が挙げられる。
このとき、(C−1)アルカリ可溶性アクリル樹脂の含有量は、記録層の感度及び耐久性の両立の観点から、下層の全固形分中20〜98質量%が好ましく、より好ましくは30〜95質量%である。また、(C−2)フェノール樹脂の含有量は、下層の全固形分中、2〜80質量%が好ましく、より好ましくは5〜75質量%である。
フェノール樹脂としてレゾール樹脂を用いる場合であれば、その含有量は、記録層の耐久性及び保存安定性の観点から、下層の全固形分中、2〜80質量%であることが好ましく、より好ましくは5〜75質量%であり、特に好ましくは10〜70質量%である。
When the recording layer has a multi-layer structure, it is preferable to have a lower layer excellent in alkali solubility and an upper layer excellent in image forming property. From such a viewpoint, (C) a lower layer containing an alkali-soluble resin, and (B And a multilayer structure comprising an upper layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin, wherein (A) an infrared absorber is preferred in at least one of the upper layer and the lower layer, and (A) an infrared absorber. Is more preferably included in the upper layer.
In another preferred embodiment, the lower layer contains (A) an infrared absorber, (C-1) an alkali-soluble acrylic resin, and (C-2) a phenol resin, and the upper layer contains (B-1) water-insoluble and The aspect of the multilayer structure containing an alkali-soluble polyurethane resin is mentioned.
At this time, the content of the (C-1) alkali-soluble acrylic resin is preferably 20 to 98% by mass, more preferably 30 to 95%, based on the total solid content of the lower layer, from the viewpoint of both sensitivity and durability of the recording layer. % By mass. Moreover, 2-80 mass% is preferable in the total solid of a lower layer, and, as for content of (C-2) phenol resin, More preferably, it is 5-75 mass%.
If a resol resin is used as the phenolic resin, the content thereof is preferably 2 to 80% by mass in the total solid content of the lower layer, more preferably from the viewpoint of the durability and storage stability of the recording layer. Is 5 to 75% by mass, particularly preferably 10 to 70% by mass.

下層における(C−1)アルカリ可溶性アクリル樹脂と(C−2)フェノール樹脂との含有比率(C−1:C−2)としては、質量基準で、98:2〜20:80が好ましく、95:5〜25:75がより好ましく、90:10〜30:70がさらに好ましい。
さらに、上層が含有する(B−1)水不溶性且つアルカリ可溶性のポリウレタン樹脂の含有量は、上層の全固形分中、好ましくは2〜99.5質量%、さらに好ましくは5〜99質量%、特に好ましくは10〜98質量%である。
The content ratio (C-1: C-2) of (C-1) alkali-soluble acrylic resin and (C-2) phenol resin in the lower layer is preferably 98: 2 to 20:80 on a mass basis, 95 : 5 to 25:75 is more preferable, and 90:10 to 30:70 is more preferable.
Furthermore, the content of the (B-1) water-insoluble and alkali-soluble polyurethane resin contained in the upper layer is preferably 2 to 99.5% by mass, more preferably 5 to 99% by mass in the total solid content of the upper layer. Especially preferably, it is 10-98 mass%.

(その他の成分)
本発明に係る記録層が有する上層又は下層には、上記の必須成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、さらに必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。以下に挙げる添加剤は、下層のみに添加してもよいし、上層のみに添加してもよいし、両方の層に添加してもよい。
(Other ingredients)
In addition to the above essential components, various additives can be added to the upper layer or the lower layer of the recording layer according to the present invention as necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. The additives listed below may be added only to the lower layer, may be added only to the upper layer, or may be added to both layers.

<<現像促進剤>>
本発明に係る記録層が有する上層又は下層には、露光部の現像を促進し、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加してもよい。
酸無水物類としては環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては無水酢酸などが挙げられる。
<< Development accelerator >>
In the upper layer or the lower layer of the recording layer according to the present invention, acid anhydrides, phenols, and organic acids may be added for the purpose of accelerating development in the exposed area and improving sensitivity.
As the acid anhydrides, cyclic acid anhydrides are preferable. Specific examples of the cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and hexahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128. Acid, 3,6-endooxy-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. Examples of the acyclic acid anhydride include acetic anhydride.

フェノール類としては、ビスフェノールA、2,2’−ビスヒドロキシスルホン、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3”,4”−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。   Examples of phenols include bisphenol A, 2,2′-bishydroxysulfone, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4- Examples include hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 ″ -trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3 ″, 4 ″ -tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane. .

有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の下層あるいは上層の全固形分に占める割合は、0.05〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。
Examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid , P-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like.
The proportion of the acid anhydride, phenols, and organic acids in the total solid content of the lower layer or upper layer is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and particularly preferably 0.8. 1 to 10% by mass.

<<界面活性剤>>
本発明に係る記録層である上層及び下層の少なくとも1層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、特開昭62−170950号公報、特開平11−288093号公報、特開2004−12770号公報に記載のフッ素系界面活性剤等を含有させることができる。
<< Surfactant >>
At least one of the upper and lower layers as the recording layer according to the present invention is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-251740 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-251740 in order to improve the coating property and to increase the stability of processing with respect to the development conditions. Nonionic surfactants as described in JP-A-3-208514, amphoteric surfactants as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149, JP-A-62 -170950, JP-A-11-288093, JP-A-2004-12770, and the like can be incorporated.

非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両性活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。
上記界面活性剤の下層又は上層の全固形分に占める割合は、0.01〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%、さらに好ましくは0.05〜2.0質量%である。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Specific examples of amphoteric activators include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.).
The proportion of the surfactant in the total solid content of the lower layer or upper layer is preferably 0.01 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, and still more preferably 0.05 to 2.0% by mass. It is.

<<焼出し剤/着色剤>>
本発明に係る記録層が有する上層及び下層の少なくとも1層に、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
<< Bakeout agent / Colorant >>
A print-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure and a dye or pigment as an image colorant can be added to at least one of the upper layer and the lower layer of the recording layer according to the present invention.
A representative example of the printing-out agent is a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレットラクトン、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。
これらの染料は、下層又は上層の全固形分に対し、0.01質量%〜10質量%、好ましくは0.1質量%〜3質量%の割合で添加することができる。
As the image colorant, other dyes can be used in addition to the aforementioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet Lactone, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI52015), and the like. it can. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred.
These dyes can be added in a proportion of 0.01% by mass to 10% by mass, preferably 0.1% by mass to 3% by mass, based on the total solid content of the lower layer or the upper layer.

<<可塑剤>>
本発明に係る記録層である上層及び下層の少なくとも1層に、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加してもよい。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
これらの可塑剤は、下層又は上層の全固形分に対し、0.5質量%〜10質量%、好ましくは1.0質量%〜5質量%の割合で添加することができる。
<< Plasticizer >>
A plasticizer may be added to at least one of the upper layer and the lower layer, which are recording layers according to the present invention, in order to impart flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid These oligomers and polymers are used.
These plasticizers can be added in a proportion of 0.5% by mass to 10% by mass, preferably 1.0% by mass to 5% by mass, based on the total solid content of the lower layer or the upper layer.

<<WAX剤>>
本発明に係る上層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物としてWAX剤を添加してもよい。具体的には、米国特許第6,117,913号明細書、或いは、本願出願人が先に提案した特開2003-149799号公報、特開2003-302750号公報、特開2004−12770号公報に記載されているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などが挙げられる。
WAX剤の添加量としては、好ましくは、上層中に占める割合が固形分換算で、0.1質量%〜10質量%、より好ましくは0.5質量%〜5質量%である。
<< WAX agent >>
A WAX agent may be added to the upper layer according to the present invention as a compound for reducing the static friction coefficient of the surface for the purpose of imparting scratch resistance. Specifically, US Pat. No. 6,117,913 or Japanese Patent Laid-Open Nos. 2003-149799, 2003-302750, and 2004-12770 previously proposed by the applicant of the present application. And a compound having an ester of a long-chain alkylcarboxylic acid as described in 1).
The amount of the WAX agent added is preferably 0.1% by mass to 10% by mass, more preferably 0.5% by mass to 5% by mass, in terms of solid content, in the upper layer.

その他の成分としては、上記の各成分の他、例えば、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ水溶液可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質が挙げられる。前記添加剤を用いることで、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図ることができる。   As other components, in addition to the above-mentioned components, for example, an onium salt, an o-quinonediazide compound, an aromatic sulfone compound, an aromatic sulfonic acid ester compound and the like are thermally decomposable, and in an undecomposed state, an alkaline aqueous solution-soluble resin The substance which substantially reduces the solubility of is mentioned. By using the additive, it is possible to improve the dissolution inhibition property of the image portion in the developer.

−記録層の形成−
記録層の形成は、前記各成分を溶媒に溶解させたて調製した記録層塗布液を、後述する支持体上に塗布、乾燥することで形成される。上層と下層とを有する重層構造の記録層を形成する場合、それぞれの層の形成は、順次であっても、同時であってもよい。
-Formation of recording layer-
The recording layer is formed by applying and drying a recording layer coating solution prepared by dissolving each of the above components in a solvent on a support described later. When forming a multi-layered recording layer having an upper layer and a lower layer, the formation of each layer may be sequential or simultaneous.

上層、下層形成用の塗布液調整に使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等をあげることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶剤は単独あるいは混合して使用される。   Solvents used for adjusting the coating solution for forming the upper layer and lower layer include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1- Methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, etc. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination.

なお、下層及び上層は、原則的に2つの層を分離して形成することが好ましい。
2つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げられる。
以下、これらの方法について詳述するが、2つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
In principle, the lower layer and the upper layer are preferably formed by separating two layers.
As a method for forming the two layers separately, for example, a method using a difference in solvent solubility between a component contained in the lower layer and a component contained in the upper layer, or after applying the upper layer, a solvent is rapidly used. For example, a method of drying and removing.
Hereinafter, although these methods are explained in full detail, the method of isolate | separating and apply | coating two layers is not limited to these.

下層に含まれる成分と上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法としては、上層用塗布液を塗布する際に、下層に含まれる成分のいずれもが不溶な溶剤系を用いるものである。これにより、二層塗布において、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、下層成分として、上層成分であるアルカリ可溶性樹脂を溶解するメチルエチルケトンや1−メトキシ−2−プロパノール等の溶剤に不溶な成分を選択し、該下層成分を溶解する溶剤系を用いて下層を塗布・乾燥し、その後、アルカリ可溶性樹脂を主体とする上層をメチルエチルケトンや1−メトキシ−2−プロパノール等で溶解し、塗布・乾燥することにより上層と下層とを分離して形成することが可能になる。   As a method of utilizing the difference in solvent solubility between the component contained in the lower layer and the component contained in the upper layer, a solvent system in which any of the components contained in the lower layer is insoluble is used when the upper layer coating solution is applied. Is. Thereby, in two-layer coating, it becomes possible to separate each layer clearly into a coating film. For example, as the lower layer component, a component insoluble in a solvent such as methyl ethyl ketone or 1-methoxy-2-propanol that dissolves the alkali-soluble resin that is the upper layer component is selected, and the lower layer is applied using a solvent system that dissolves the lower layer component. -It is possible to form the upper layer and the lower layer separately by drying and then dissolving the upper layer mainly composed of alkali-soluble resin with methyl ethyl ketone or 1-methoxy-2-propanol, and applying and drying. .

また、上層と下層とを分離して形成する他の手段として、2層目(上層)を塗布後に、極めて速く溶剤を乾燥させる方法が挙げられる。この方法では、塗布工程において、上層塗布後、支持体(ウェブ)の走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつける工程、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール(加熱ロール)より支持体の下面から伝導熱として熱エネルギーを与える工程、あるいは、上記工程を組み合わせて行えばよい。この方法は、上層塗布後、急激に溶剤を除去することで、上層塗布溶媒による下層の溶解を抑制する方法である。   Further, as another means for forming the upper layer and the lower layer separately, there is a method of drying the solvent very quickly after applying the second layer (upper layer). In this method, in the coating step, after the upper layer coating, a step of blowing high-pressure air from a slit nozzle installed substantially perpendicular to the traveling direction of the support (web), a roll supplied with a heating medium such as steam inside What is necessary is just to carry out the process of giving thermal energy as conduction heat from the lower surface of the support from the (heating roll) or a combination of the above processes. This method is a method of suppressing dissolution of the lower layer by the upper layer coating solvent by rapidly removing the solvent after the upper layer coating.

また、新たな機能を付与するために、本発明の効果を充分に発揮する範囲において、積極的に上層及び下層の界面における部分相溶を行わせる場合もある。そのような方法としては、上記溶剤溶解性の差を利用する方法、2層目を塗布後に極めて速く溶剤を乾燥させる方法何れにおいても、その程度を調整することにより実施される。   Moreover, in order to provide a new function, in some cases, the partial compatibility at the interface between the upper layer and the lower layer is positively performed within a range where the effects of the present invention are sufficiently exhibited. Such a method is carried out by adjusting the degree of any of the above methods using the difference in solvent solubility and the method of drying the solvent very quickly after the second layer is applied.

支持体上に塗布される下層/上層用塗布液中の、溶剤を除いた前記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1質量%〜50質量%である。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
特に、上層塗布時に下層へのダメージを防ぐため、上層塗布方法は非接触式である事が望ましい。また接触型ではあるが溶剤系塗布に一般的に用いられる方法としてバーコーター塗布を用いる事も可能であるが、下層へのダメージを防止するために順転駆動で塗布する事が望ましい。
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the lower layer / upper layer coating solution coated on the support is preferably 1% by mass to 50% by mass.
Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
In particular, in order to prevent damage to the lower layer when the upper layer is applied, the upper layer application method is preferably a non-contact type. Further, although it is a contact type, it is possible to use bar coater coating as a method generally used for solvent-based coating, but it is desirable to perform coating by forward rotation in order to prevent damage to the lower layer.

本発明の平版印刷版原版の支持体上に塗布される下層の乾燥後の塗布量は、耐刷性及び画像再現性の観点から、0.5g/m〜4.0g/mの範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは0.6g/m〜2.5g/mの範囲である。
また、上層の乾燥後の塗布量は、感度、現像ラチチュード、及び耐傷性の観点から、0.05g/m〜1.5g/mの範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは0.08g/m〜1.0g/mの範囲である。
Coating amount after the underlying drying applied on the support of the lithographic printing plate precursor of the present invention, the range from the viewpoint of printing durability and image reproducibility, of 0.5g / m 2 ~4.0g / m 2 preferably in the, still more preferably from 0.6g / m 2 ~2.5g / m 2 .
The coating amount after the upper layer of drying, sensitivity, development latitude, and from the viewpoint of scratch resistance is preferably in the range of 0.05g / m 2 ~1.5g / m 2 , more preferably 0.08g / M 2 to 1.0 g / m 2 .

下層及び上層を合わせた乾燥後の塗布量或いは単層の記録層の塗布量としては、耐刷性及び画像再現性の観点から、0.6g/m〜4.0g/mの範囲にあることが好ましく、さらに好ましくは0.7g/m〜2.5g/mの範囲である。 The coating amount of the recording layer of the lower layer and the coating amount after drying of the combined upper or single layer, from the viewpoint of printing durability and image reproducibility, in the range of 0.6g / m 2 ~4.0g / m 2 preferably there, still more preferably from 0.7g / m 2 ~2.5g / m 2 .

(アルミニウム支持体)
平版印刷版原版に用いるアルミニウム支持体としては、寸度的に安定な板状物が、比較的安価であり好ましく用いられる。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板である。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は多い場合であっても10質量%以下である。アルミニウム板の厚みとしては、およそ0.1mm〜0.6mm程度が好ましく、0.15mm〜0.4mmがより好ましく、0.2mm〜0.3mmが特に好ましい。
(Aluminum support)
As an aluminum support for use in a lithographic printing plate precursor, a dimensionally stable plate is preferably used because it is relatively inexpensive. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. Even if the content of the different elements in the alloy is large, it is 10% by mass or less. The thickness of the aluminum plate is preferably about 0.1 mm to 0.6 mm, more preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

アルミニウム板は、粗面化、陽極酸化処理などの種々の表面処理を施される。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
The aluminum plate is subjected to various surface treatments such as roughening and anodizing treatment.
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to anodization treatment to enhance the surface water retention and wear resistance as desired. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

前記陽極酸化処理の条件としては、用いる電解質によって異なるため、一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1質量%〜80質量%溶液、液温が5〜70℃、電流密度が5A/dm〜60A/dm、電圧が1V〜100V、電解時間が10秒〜5分であるのが好ましい。前記陽極酸化による、陽極酸化皮膜の量は、1.0g/m以上が好ましい。前記陽極酸化皮膜の量が、1.0g/m未満の場合には、耐刷性が不十分であったり、平版印刷版として用いた場合に、非画像部に傷が付き易くなったりして、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなることがある。 The conditions for the anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, the concentration of the electrolyte is 1% by mass to 80% by mass, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density. Is 5 A / dm 2 to 60 A / dm 2 , the voltage is 1 V to 100 V, and the electrolysis time is preferably 10 seconds to 5 minutes. The amount of the anodized film by the anodization is preferably 1.0 g / m 2 or more. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or when used as a lithographic printing plate, the non-image area may be easily damaged. As a result, a so-called “scratch stain” in which ink adheres to a scratched part during printing may be likely to occur.

前記陽極酸化処理を施された後、前記アルミニウムの表面は、必要により親水化処理が施される。該親水化処理の方法としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法が挙げられる。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号の各明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが挙げられる。   After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. The hydrophilization treatment method is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. The alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method is mentioned. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272 And a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in the literature.

<平版印刷版の作製方法>
前記本発明に係るポジ型感光性平版印刷版を、赤外線レーザにより画像様に露光する露光工程と、露光後の前記平版印刷版原版を、前記本発明の処理液組成物と接触させて、記録層の露光部領域の除去と、記録層が除去されて露出したアルミニウム支持体表面の親水化処理とを行う現像工程と、を行うことで平版印刷版が作製される。
<Preparation method of lithographic printing plate>
An exposure step of exposing the positive photosensitive lithographic printing plate according to the present invention imagewise with an infrared laser, and the exposed lithographic printing plate precursor after contact with the treatment liquid composition of the present invention for recording A lithographic printing plate is produced by performing a development step of removing the exposed area of the layer and hydrophilizing the surface of the aluminum support exposed by removing the recording layer.

<露光工程>
本発明の平版印刷版の作製方法では、まず、前記ポジ型感光性平版印刷版を画像様に露光する露光工程を実施する。画像様の露光は、予め画像形成されたリスフィルム(線画像、網点画像等を有する透明原画)を介してレーザ露光してもよく、デジタルデータによりレーザの走査露光をおこなってもよい。
本発明の方法に使用される平版印刷版原版は、赤外線感応性のポジ型記録層を有することから、露光工程に用いられる光源波長は、750nm〜1400nmの範囲にあることが好ましい。750nm〜1400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザが好適である。
露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
<Exposure process>
In the method for preparing a lithographic printing plate of the present invention, first, an exposure step of exposing the positive photosensitive lithographic printing plate imagewise is performed. The image-like exposure may be performed by laser exposure through a lith film (a transparent original image having a line image, a halftone dot image, etc.) formed in advance, or laser scanning exposure may be performed by digital data.
Since the lithographic printing plate precursor used in the method of the present invention has an infrared sensitive positive recording layer, the light source wavelength used in the exposure step is preferably in the range of 750 nm to 1400 nm. As the light source of 750 nm to 1400 nm, a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays are suitable.
The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.

<現像工程>
本発明の平版印刷版の作製方法における現像工程は、前記本発明の処理液組成物、即ち、pHが5〜10.7であり、側鎖にベタイン構造を有する構造単位と側鎖にアルミニウム支持体表面と相互作用する官能基を有する構造単位とを構成成分として含む水溶性高分子化合物を含有する水溶液を用いて行うことを特徴としている。
本発明の平版印刷版の作製方法によれば、上記現像処理によって、未露光部のポジ型記録層が除去され、且つ、記録層が除去され、露出したアルミニウム支持体表面が親水化処理される。このため、通常、現像工程の後に引き続き行われる水洗工程、及びガム引き工程を行うことなく、現像処理後の平版印刷版を乾燥させた後、直ちに印刷機にセットして印刷することができる。
アルカリ現像液を用いた従来の現像処理においては、アルカリ現像後の平版印刷版は、印刷機への装着前に、水洗工程でアルカリ剤を水洗除去し、ガム液による非画像部の親水化処理を行い、乾燥工程で乾燥することが必要である。これに対して、本発明の作製方法では、処理液組成物中に特定水溶性高分子化合物を含有するため、現像及びガム液処理工程を同時に行うことができる。よって後水洗工程は特に必要とせず、一液で現像とガム液処理を行ったのち、乾燥工程を経て印刷を直ちに行うことができる。
なお、乾燥工程は、現像処理の後、スクイズローラを用いて余剰の処理液組成物を除去してから行うことが好ましい。
<Development process>
The development step in the method for preparing a lithographic printing plate of the present invention comprises the treatment liquid composition of the present invention, that is, a pH of 5 to 10.7, a structural unit having a betaine structure in the side chain, and an aluminum support in the side chain. It is characterized by using an aqueous solution containing a water-soluble polymer compound containing a structural unit having a functional group that interacts with the body surface as a constituent component.
According to the method for producing a lithographic printing plate of the present invention, the positive recording layer in the unexposed area is removed by the development treatment, the recording layer is removed, and the exposed aluminum support surface is hydrophilized. . For this reason, the lithographic printing plate after the development treatment can be dried and then immediately set in a printing machine and printed without performing the water washing step and the gumming step which are usually performed after the development step.
In the conventional development process using an alkali developer, the lithographic printing plate after alkali development is washed with water to remove the alkali agent in a water washing step before being mounted on a printing machine, and the hydrophilic treatment of the non-image area with a gum solution is performed. It is necessary to dry in the drying process. On the other hand, in the preparation method of the present invention, since the specific water-soluble polymer compound is contained in the processing liquid composition, the development and gum solution processing steps can be performed simultaneously. Therefore, the post-water washing step is not particularly required, and after performing development and gum solution treatment with one solution, printing can be immediately performed through a drying step.
In addition, it is preferable to perform a drying process, after removing an excess process liquid composition using a squeeze roller after a development process.

本発明の平版印刷版の作製方法の特徴の1つは、水洗工程を要しないことである。ここで、「水洗工程を含まないこと」とは、ポジ型感光性平版印刷版の画像露光工程以降、現像処理工程を経て平版印刷版が作製されるまでの間に、一切の水洗工程を含まないことを意味する。即ち、この態様によれば、画像露光工程と現像処理工程の間のみならず、現像処理工程後も水洗工程を行うことなく平版印刷版が作製される。作製された印刷版は、乾燥させて水分を除去した後、そのまま、印刷に供することができる。   One of the features of the method for producing a lithographic printing plate according to the present invention is that no water washing step is required. Here, “not including a water washing step” includes all water washing steps from the image exposure step of the positive photosensitive lithographic printing plate to the preparation of the lithographic printing plate through the development processing step. Means no. That is, according to this aspect, a lithographic printing plate is produced without performing a water washing step not only between the image exposure step and the development processing step but also after the development processing step. The produced printing plate can be dried and used for printing as it is after removing moisture.

現像工程は、常法に従って、0℃〜60℃、好ましくは15℃〜40℃程度の温度範囲で、例えば、画像露光した平版印刷版原版を処理液組成物に浸漬してブラシで擦る方法、スプレーにより処理液組成物を吹き付けてブラシで擦る方法等により行うことができる。   The development step is a method in which the image-exposed lithographic printing plate precursor is immersed in the treatment liquid composition and rubbed with a brush in a temperature range of about 0 ° C. to 60 ° C., preferably about 15 ° C. to 40 ° C., according to a conventional method, The treatment liquid composition can be sprayed by spraying and rubbed with a brush.

本発明における現像処理は、処理液組成物の供給手段及び擦り部材を備えた自動現像処理機により好適に実施することができる。擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動現像処理機が特に好ましい。
回転ブラシロールは2本以上が好ましい。さらに自動現像処理機は現像処理手段の後に、スクイズローラ等の余剰の処理液組成物を除去する手段や、温風装置等の乾燥手段を備えていることが好ましい。
The development processing in the present invention can be preferably carried out by an automatic development processor equipped with a processing solution composition supply means and a rubbing member. An automatic developing processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.
Two or more rotating brush rolls are preferable. Furthermore, it is preferable that the automatic developing machine is provided with a means for removing excess processing liquid composition such as a squeeze roller and a drying means such as a hot air device after the development processing means.

現像工程のあと、連続的又は不連続的に乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は熱風、赤外線、遠赤外線等によって行う。   It is preferable to provide a drying step continuously or discontinuously after the development step. Drying is performed by hot air, infrared rays, far infrared rays, or the like.

本発明の平版印刷版の作製方法において好適に用いられる自動現像処理機の構造の一例を図1に模式的に示す。図1に示す自動現像処理機は、基本的に現像部6と乾燥部10からなり、平版印刷版原版4は現像槽20で、現像とガム引きを行い、乾燥部10で乾燥される。詳細には、図1中、自動現像装置内に挿入された平版印刷版原版4は、搬送ローラ(搬入ローラ)16により現像部6へ搬送される。現像部6の現像槽20内には、搬送方向上流側から順に、搬送ローラ22、ブラシローラ24、スクイズローラ26が備えられ、これらの間の適所にバックアップローラ28が備えられている。平版印刷版原版4は搬送ローラ22により搬送されながら特定現像液中に浸漬されてブラシローラ24を回転させることにより、平版印刷版原版4の現像とガム引きが行われ現像処理される。現像処理された平版印刷版原版4はスクイズローラ(搬出ローラ)26により次の乾燥部10へ搬送される。乾燥部10は、搬送方向上流側から順に、ガイドローラ36、及び、二対の串ローラ38が2対設けられている。また、乾燥部10には図示しない温風供給手段、発熱手段等の乾燥手段が設けられており、該乾燥手段により乾燥部10に搬送された平版印刷版原版4が乾燥される。   FIG. 1 schematically shows an example of the structure of an automatic developing processor suitably used in the method for preparing a lithographic printing plate according to the present invention. The automatic development processor shown in FIG. 1 basically comprises a developing unit 6 and a drying unit 10, and the lithographic printing plate precursor 4 is developed and gummed in the developing tank 20 and dried in the drying unit 10. Specifically, in FIG. 1, the lithographic printing plate precursor 4 inserted into the automatic developing device is conveyed to the developing unit 6 by a conveying roller (loading roller) 16. In the developing tank 20 of the developing unit 6, a conveyance roller 22, a brush roller 24, and a squeeze roller 26 are sequentially provided from the upstream side in the conveyance direction, and a backup roller 28 is provided at an appropriate position therebetween. The lithographic printing plate precursor 4 is immersed in a specific developer while being conveyed by the conveyance roller 22 and the brush roller 24 is rotated, whereby the development and gumming of the lithographic printing plate precursor 4 are performed. The developed lithographic printing plate precursor 4 is conveyed to the next drying unit 10 by a squeeze roller (carry-out roller) 26. The drying unit 10 is provided with two pairs of guide rollers 36 and two pairs of skewer rollers 38 in order from the upstream side in the transport direction. The drying unit 10 is provided with drying means such as hot air supply means and heat generation means (not shown), and the planographic printing plate precursor 4 conveyed to the drying unit 10 is dried by the drying means.

以上のようにして得られた平版印刷版は印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。整面液が塗布された平版印刷版は、必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の温度で1〜20分間程度行われるのが好ましい。加熱条件は、使用される平版印刷版原版の種類により適宜選択されるが、一般に、温度が低すぎる場合、加熱時間が不充分な場合には、十分な画像強化作用が得られず、温度が高すぎる場合や加熱時間が長すぎる場合には、支持体の劣化、画像部の熱分解等の問題を生じる虞がある。
このようにして得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process. However, when it is desired to obtain a lithographic printing plate having a higher printing durability, a burning process is performed. In the case of burning a lithographic printing plate, before burning, an adjustment as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to treat with a surface liquid. The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. The heating temperature and time in this case are preferably about 1 to 20 minutes at a temperature of 180 to 300 ° C., although it depends on the type of components forming the image. The heating conditions are appropriately selected depending on the type of the lithographic printing plate precursor to be used. In general, when the temperature is too low, when the heating time is insufficient, sufficient image strengthening action cannot be obtained, and the temperature is If it is too high or if the heating time is too long, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.
The lithographic printing plate thus obtained is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

以下に実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例1〜12、比較例1〜4〕
(評価に用いるポジ型平版印刷版原版1の作製)
<ポリウレタン樹脂の合成:合成例1>
500mlの3つ口フラスコに4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート125gと2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸67gをジオキサン290mlに溶解した。N,N−ジエチルアニリンを1g入れた後ジオキサン還流下6時間攪拌した。反応後、水4L、酢酸40ccの溶液に少しずつ加えポリマーを析出させた。この固体を真空乾燥させることにより185gのポリウレタン樹脂(1)を得た。酸含有量は2.47meq/gであつた。GPCにて分子量を測定したところ重量平均(ポリスチレン標準)で28,000であった。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 4]
(Preparation of positive planographic printing plate precursor 1 used for evaluation)
<Synthesis of polyurethane resin: Synthesis example 1>
In a 500 ml three-necked flask, 125 g of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate and 67 g of 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid were dissolved in 290 ml of dioxane. After adding 1 g of N, N-diethylaniline, the mixture was stirred for 6 hours under reflux of dioxane. After the reaction, the polymer was precipitated little by little into a solution of 4 L of water and 40 cc of acetic acid. This solid was vacuum-dried to obtain 185 g of polyurethane resin (1). The acid content was 2.47 meq / g. When the molecular weight was measured by GPC, the weight average (polystyrene standard) was 28,000.

<支持体の作製>
厚さ0.24mmのアルミニウム板(Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.014質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金)に対し以下に示す表面処理を連続的に行った。
<Production of support>
0.24 mm thick aluminum plate (Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.014 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn : 0.001% by mass, Ti: 0.03% by mass, the balance being Al and an inevitable impurity aluminum alloy) was subjected to the following surface treatment continuously.

60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、温度80℃であった。水洗後、アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2溶解し、スプレーによる水洗を行った。その後、温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、スプレーによる水洗を行った。   An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 10 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions and 0.007 mass% of ammonium ions) at a temperature of 80 ° C. After washing with water, the aluminum plate was etched by spraying at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, the aluminum plate was dissolved at 0.20 g / m 2, and washed with water. Thereafter, a desmut treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and washing with water by spraying was performed.

二段給電電解処理法の陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行った。電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/mであった。
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理槽中へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗液を塗布し、80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は15mg/mであった。
Anodization was performed using an anodizing apparatus of a two-stage power supply electrolytic treatment method. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the electrolysis unit. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .
The aluminum support obtained by the anodizing treatment is immersed in a treatment tank of 1 mass% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds for alkali metal silicate treatment (silicate treatment). It was. Then, water washing by spraying was performed.
On the aluminum support after the alkali metal silicate treatment obtained as described above, an undercoat solution having the following composition was applied and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .

−下塗り液−
・β−アラニン 0.5g
・メタノール 95g
・水 5g
-Undercoat liquid-
・ Β-Alanine 0.5g
・ Methanol 95g
・ Water 5g

<ポジ型記録層の形成>
上記により得られた支持体に、下記組成の下層用塗布液1を塗布量が1.5g/mになるようバーコーターで塗布したのち、160℃で44秒間乾燥し、直ちに17〜20℃の冷風で支持体の温度が35℃になるまで冷却した。
<Formation of positive recording layer>
After applying the lower layer coating solution 1 having the following composition to the support obtained as described above with a bar coater so that the coating amount becomes 1.5 g / m 2 , it is dried at 160 ° C. for 44 seconds and immediately 17 to 20 ° C. The support was cooled to 35 ° C. with cold air.

−下層用塗布液1−
・N−フェニルマレイミド/メタクリル酸/メタクリルアミドコポリマー(組成比:59mol%/15mol%/26mol%、重量平均分子量4.5万) 3.33g
・m、p−クレゾールノボラック樹脂(m/p比=6/4、重量平均分子量4500、未反応クレゾール0.8質量%含有) 1.88g
・下記構造式で表されるシアニン染料A 0.94g
・クリスタルバイオレット(保土ヶ谷化学(株)製) 0.08g
・メガファックF−177(DIC(株)製、フッ素系界面活性剤) 0.05g
・γ−ブチルラクトン 10g
・メチルエチルケトン 61g
・1−メトキシ−2−プロパノール 14g
・水 9.34g
-Lower layer coating solution 1-
N-phenylmaleimide / methacrylic acid / methacrylamide copolymer (composition ratio: 59 mol% / 15 mol% / 26 mol%, weight average molecular weight 45,000) 3.33 g
M, p-cresol novolak resin (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4500, containing 0.8% by mass of unreacted cresol) 1.88 g
-0.94 g of cyanine dye A represented by the following structural formula
・ Crystal Violet (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.08g
・ Megafac F-177 (manufactured by DIC Corporation, fluorosurfactant) 0.05 g
・ Γ-Butyllactone 10g
・ Methyl ethyl ketone 61g
・ 14g of 1-methoxy-2-propanol
・ Water 9.34g

その後、形成された下層の表面に、下記組成の上層用塗布液1を塗布量が、0.5g/mになるようバーコーター塗布したのち、130℃で40秒間乾燥し、さらに20〜26℃の風で徐冷し、実施例1に用いる平版印刷版原版1を作製した。 Thereafter, the upper layer coating solution 1 having the following composition was applied to the surface of the formed lower layer by a bar coater so that the coating amount was 0.5 g / m 2 , and then dried at 130 ° C. for 40 seconds, and further 20 to 26 The lithographic printing plate precursor 1 used in Example 1 was prepared by gradually cooling with a wind of ° C.

−上層用塗布液1−
・合成例1で得られたポリウレタン樹脂(1) 30.0g
・エチルバイオレット 0.03g
・メガファックF−177(DIC(株)製、フッ素系界面活性剤) 0.05g
・3−ペンタノン 60g
・プロピレングリコールモノメチルエーテルー2−アセテート 8g
-Coating liquid for upper layer 1-
-30.0 g of polyurethane resin (1) obtained in Synthesis Example 1
・ Ethyl violet 0.03g
・ Megafac F-177 (manufactured by DIC Corporation, fluorosurfactant) 0.05 g
・ 3-Pentanone 60g
・ Propylene glycol monomethyl ether-2-acetate 8g

<処理液組成物の調製>
下記表1に記載の基本処方に、表2に記載の特定水溶性高分子化合物又は比較水溶性高分子化合物(表1及び表2中、特定水溶性高分子、比較水溶性高分子とそれぞれ記載)を添加して各成分をよく攪拌して水溶性高分子化合物を溶解させ、現像工程に用いる処理液組成物を調製した。なお、表1における含有量を示す数値の単位はgであり、「−」はその化合物を含有しないことを示す。
<Preparation of treatment liquid composition>
In the basic formulation shown in Table 1 below, the specific water-soluble polymer compound or the comparative water-soluble polymer compound shown in Table 2 (in Table 1 and Table 2, the specific water-soluble polymer and the comparative water-soluble polymer are described respectively. ) And the components were stirred well to dissolve the water-soluble polymer compound, thereby preparing a processing solution composition for use in the development process. In addition, the unit of the numerical value which shows content in Table 1 is g, and "-" shows that the compound is not contained.

表1に記載の特定水溶性高分子化合物及び比較例の処理液組成物の調製に用いた比較水溶性高分子化合物の構造を以下に示す。   The structures of the specific water-soluble polymer compounds shown in Table 1 and the comparative water-soluble polymer compounds used for the preparation of the treatment liquid compositions of Comparative Examples are shown below.

<平版印刷版の作製及び評価>
得られた平版印刷版原版を用い、本発明の作製方法に係る露光工程及び現像工程により製版処理を行った後、以下に示す各評価を行った。
得られた平版印刷版原版を、1030mm×800mmサイズに裁断し、Creo社製Trendsetterにて、露光エネルギー150mJ/cmでテストパターンを画像状に描き込みを行った。
(現像工程)
その後、上記組成の各処理液組成物を用い、図1に示す自動現像処理機〔現像槽25L、版搬送速度100cm/min、ポリブチレンテレフタレート繊維(毛直径200μm、毛長17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロール1本が搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)、乾燥温度80℃〕にて現像処理を実施し、平版印刷版を得た。現像浴中の処理液組成物温度は30℃であった。
<Preparation and evaluation of planographic printing plates>
The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to plate making treatment by an exposure step and a development step according to the production method of the present invention, and each evaluation shown below was performed.
The obtained lithographic printing plate precursor was cut into a size of 1030 mm × 800 mm, and a test pattern was drawn in an image with an exposure energy of 150 mJ / cm 2 using a Trend setter manufactured by Creo.
(Development process)
Thereafter, using each processing solution composition having the above composition, an automatic developing processor shown in FIG. 1 [developing tank 25L, plate conveyance speed 100 cm / min, polybutylene terephthalate fiber (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) was implanted. One brush roll having a diameter of 50 mm is developed at 200 revolutions per minute in the same direction as the conveying direction (peripheral speed of brush tip 0.52 m / sec), drying temperature 80 ° C.] to obtain a lithographic printing plate It was. The processing solution composition temperature in the developing bath was 30 ° C.

各処理液を用いた作製方法について、平版印刷版原版の、現像性、印刷初期汚れ性、印刷中断後の汚れ性及び耐刷性を以下のように評価した。結果を前記表2に併記した。
<現像性>
平版印刷版原版を上記の通り露光、現像処理を行った。得られた平版印刷版の非画像部を目視確認し、記録層の残存を評価した。評価は、以下の基準で実施した。
○:記録層の残存なく良好な現像性
△:わずかな記録層の残存あるが現像性に問題なし
×:記録層が残存し、現像性不良
<印刷初期汚れ性>
平版印刷版を上記の通り印刷を行い、1000枚目の印刷物において、非画像部の汚れ性を評価した。評価は、以下の基準で実施した。
○:非画像部にインキ汚れがない
△:非画像部にわずかなインキ汚れがある
×:非画像部にインキ汚れがある
<印刷中断後の汚れ性>
平版印刷版を上記の通り印刷を行い、5万枚印刷した時点で、一旦印刷機を停止し、3時間放置した。その後、印刷を再開し、さらに200枚印刷し、非画像部から完全にインクがなくなるまでの枚数を評価した。
枚数が少ない方が印刷再開始からの損紙が少なくて済み、印刷中断後の汚れ性が良好であるといえる。
<耐刷性>
印刷枚数を増やしていくと徐々に平版印刷版上に形成された記録層の画像が磨耗しインキ受容性が低下するため、これに伴い、印刷用紙における画像のインキ濃度が低下する。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。数値が大きいほど耐刷性に優れると評価する。
About the preparation methods using each processing liquid, the developability, initial printing stain resistance, stain resistance after printing interruption and printing durability of the planographic printing plate precursor were evaluated as follows. The results are shown in Table 2 above.
<Developability>
The lithographic printing plate precursor was exposed and developed as described above. The non-image area of the obtained lithographic printing plate was visually confirmed, and the remaining recording layer was evaluated. Evaluation was carried out according to the following criteria.
◯: Good developability without remaining recording layer Δ: Slight recording layer remaining but no problem in developability ×: Recording layer remained, poor developability <initial printing stain>
The planographic printing plate was printed as described above, and the smudge of the non-image area was evaluated on the 1000th printed material. Evaluation was carried out according to the following criteria.
○: There is no ink smudge in the non-image area. Δ: Slight ink smudge is present in the non-image area. ×: Ink smudge is present in the non-image area.
The lithographic printing plate was printed as described above, and when 50,000 sheets were printed, the printing machine was temporarily stopped and left for 3 hours. Thereafter, printing was resumed, 200 sheets were further printed, and the number of sheets until the ink completely disappeared from the non-image area was evaluated.
It can be said that the smaller the number of sheets, the smaller the amount of lost paper from the re-start of printing, and the better the stainability after printing is interrupted.
<Print durability>
As the number of printed sheets is increased, the image on the recording layer formed on the planographic printing plate is gradually worn out and the ink receptivity is lowered. Accordingly, the ink density of the image on the printing paper is lowered. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. The larger the value, the better the printing durability.

表2に示す結果から、本発明に係る特定水溶性高分子化合物を含有する処理液組成物を用いる平版印刷版の作製方法は、水洗工程を必要としない1液1工程の簡易処理においても、非画像部に記録層の残存に起因する汚れがなく、良好な現像性を示し、しかも、良好な耐刷性を有していた。また、印刷中断後の汚れ性評価の結果より、多数枚の印刷後も非画像部の汚れ防止性、即ち表面親水性に優れていることが確認され、親水化処理の耐久性が良好な平版印刷版が提供されることがわかる。   From the results shown in Table 2, the method for preparing a lithographic printing plate using the treatment liquid composition containing the specific water-soluble polymer compound according to the present invention is a simple process of one liquid and one process that does not require a water washing process. The non-image area was free from contamination due to the remaining recording layer, exhibited good developability, and had good printing durability. In addition, the results of the evaluation of stain resistance after interruption of printing confirmed that the non-image area is excellent in stain resistance, that is, surface hydrophilicity, even after printing a large number of sheets. It can be seen that a printed version is provided.

4 平版印刷版原版
6 現像部
10 乾燥部
16 搬送ローラ
20 現像槽
22 搬送ローラ
24 ブラシローラ
26 スクイズローラ
28 バックアップローラ
36 ガイドローラ
38 串ローラ
4 Planographic printing plate precursor 6 Developing unit 10 Drying unit 16 Transport roller 20 Developing tank 22 Transport roller 24 Brush roller 26 Squeeze roller 28 Backup roller 36 Guide roller 38 Skewer roller

Claims (8)

アルミニウム支持体上に、赤外線感受性ポジ型記録層を有するポジ型感光性平版印刷版を、赤外線レーザにより画像様に露光する露光工程と、
露光後の前記平版印刷版原版を、pHが5〜10.7であり、側鎖にベタイン構造を有する構造単位と側鎖に前記アルミニウム支持体表面と相互作用する官能基であって、リンの酸素酸基、及び、オニウム基から選ばれる1種以上の官能基を有する構造単位とを構成成分として含む水溶性高分子化合物を含有する水溶液と接触させて、前記記録層の露光部領域の除去と、前記記録層が除去されて露出した前記アルミニウム支持体表面の親水化処理とを行う現像工程とを、この順に有する平版印刷版の作製方法。
An exposure step of imagewise exposing a positive photosensitive lithographic printing plate having an infrared sensitive positive recording layer on an aluminum support with an infrared laser;
The lithographic printing plate precursor after exposure, pH is from 5 to 10.7, a structural unit having a betaine structure in a side chain, a functional group capable of interacting with the aluminum support surface in a side chain, phosphorus An exposed portion region of the recording layer by contacting with an aqueous solution containing a water-soluble polymer compound comprising , as a constituent , a structural unit having one or more functional groups selected from an oxygen acid group and an onium group and removal of, a developing step of performing the hydrophilic treatment of the recording layer is exposed by removing the aluminum support surface, a method of preparing a lithographic printing plate having in this order.
前記リンの酸素酸基が、リン酸エステル基若しくはホスホン酸基である請求項に記載の平版印刷版の作製方法。 The method for producing a lithographic printing plate according to claim 1 , wherein the oxygen acid group of phosphorus is a phosphate ester group or a phosphonic acid group. 前記水溶液が、さらに、炭酸イオン及び炭酸水素イオンを含有する請求項1又は請求項2に記載の平版印刷版の作製方法。 Wherein the aqueous solution further method of preparing a lithographic printing plate according to claim 1 or claim 2 containing carbonate ion and a hydrogen carbonate ion. 前記水溶液が、さらに、界面活性剤を0.01質量%〜20質量%含有する請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。 The method for producing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 3 , wherein the aqueous solution further contains 0.01% by mass to 20% by mass of a surfactant. 前記現像工程の後に水洗工程を有さない請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。 The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 4 , wherein a washing step is not provided after the developing step. 前記記録層が、(A)赤外線吸収剤及び(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。 The method for producing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 5 , wherein the recording layer comprises (A) an infrared absorber and (B) a water-insoluble and alkali-soluble resin. 前記記録層が、(C)アルカリ可溶性樹脂を含有する下層と、(B)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、からなる重層構造の記録層であり、前記上層及び前記下層の少なくとも1層に(A)赤外線吸収剤を含有する請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。 The recording layer is a recording layer having a multilayer structure comprising (C) a lower layer containing an alkali-soluble resin and (B) an upper layer containing a water-insoluble and alkali-soluble resin, and at least one of the upper layer and the lower layer The method for producing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 6 , wherein the layer contains (A) an infrared absorber. 側鎖にベタイン構造を有する構造単位と側鎖にアルミニウム支持体表面と相互作用する官能基であって、リンの酸素酸基、及び、オニウム基から選ばれる1種以上の官能基を有する構造単位とを構成成分として含む水溶性高分子化合物、及び、水を含有し、pHが5〜10.7であり、アルミニウム支持体上に赤外線感受性ポジ型記録層を有するポジ型感光性平版印刷版原版の製版に使用される処理液組成物。 A structural unit having a betaine structure in the side chain, and a functional group that interacts with the surface of the aluminum support on the side chain, the structure having at least one functional group selected from an oxygen acid group of phosphorus and an onium group A positive photosensitive lithographic printing comprising a water-soluble polymer compound containing a unit as a constituent component and water, having a pH of 5 to 10.7 and having an infrared-sensitive positive recording layer on an aluminum support A treatment liquid composition used for plate making of a plate precursor.
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