JP5704451B2 - 基材処理装置および基材処理方法 - Google Patents
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Description
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。ここで、図1乃至図5は、本発明の第1の実施の形態における基材処理装置および基材処理方法を示す図である。
なお、上記実施の形態において、カラーフィルター用基材として、プラスチック基材2を用いた例を示したが、これに限らず、プラスチック基材2の代わりにガラス基材を用いても良い。
このようなガラス基材としては、例えば、無アルカリガラス(日本電気硝子製 OA−10G)のような材料を用いることができる。
本発明において、第1液室11内で第1液Aが供給された基材2を段差形成エリアへ送り、この段差形成エリア30内で基材2を第1液室11の第1処理位置P1より高い上昇位置P3までもってくることができ、基材2上の第1液Aを十分液切りした後、第2液室21へ送り、第2液室21内において基材2上に第2液Bを供給することができれば、上記第1の実施の形態に限られない。次に図6により本発明の第2の実施の形態について説明する。
10A 覆いカバー
11 第1液室
11A 第1液室本体
12a 第1搬送ローラ
12b 押えローラ
13 第1液供給ノズル
14 第1液供給ヘッダー
16 第1液タンク
17 ポンプ
18 送りライン
21 第2液室
21A 第2液室本体
22a 第1搬送ローラ
22b 押えローラ
23 第1液供給ノズル
24 第1液供給ヘッダー
30 段差形成エリア
31、32、33 上昇ローラ
Claims (2)
- 連続的に供給される帯状のカラーフィルター用基材に対して第1液を供給する第1液供給部を含む第1液室と、
前記第1液室内で前記第1液が供給された前記基材に対して第2液を供給する第2液供給部を含む第2液室を備え、
前記第1液室と前記第2液室は互いに水平方向に並んで配置され、前記第1液室において前記基材は第1処理位置をとり、前記第2液室において前記基材は第2処理位置をとり、
前記第1液室と前記第2液室との間に、前記第1液室からの前記基材を第1処理位置および前記第2処理位置より高い上昇位置までもってきて前記基材上の第1液を液切りした後、前記第2液室へ送る段差形成エリアを設け、
前記第1液室は前記基材を前記第1処理位置において搬送する複数の第1搬送ローラを有し、前記第2液室は前記基材を前記第2処理位置において搬送する複数の第2搬送ローラを有し、
前記第1液室内の出口側に前記第1搬送ローラより高い位置にある第1上昇ローラを設け、前記第2液室内の入口側に前記第2搬送ローラより高い位置にある第2上昇ローラを設け、前記段差形成エリアにおいて前記基材を第1上昇ローラと第2上昇ローラとの間に水平に延びる基材によって確定された同一の上昇位置までもってくることを特徴とする基材処理装置。 - 請求項1記載の基材処理装置を用いた基材処理方法において、
第1液室内に連続的に供給され第1処理位置をとる帯状のカラーフィルター用基材に対して第1液供給部から第1液を供給する工程と、
前記第1液室内で前記第1液が供給された前記基材を段差形成エリアへ送り前記第1処理位置より高い上昇位置までもってきて、前記基材上の前記第1液を液切りする工程と、 前記段差形成エリア内の基材を第2液室へ送り、前記上昇位置より低い第2処理位置まで降下させた後、第2液供給部から第2液を供給する工程と、
を備えたことを特徴とする基材処理方法。
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