JP5700189B2 - 三次元シースフロー形成構造及び微粒子集束方法 - Google Patents
三次元シースフロー形成構造及び微粒子集束方法 Download PDFInfo
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Description
[態様1]
少なくとも第一集束領域又は第二集束領域を有する、試料溶液流を流路中央方向に集束させるシースフロー形成構造であって:
(1)該第一集束領域又は第二集束領域の少なくともいずれか一つの領域において、試料溶液(サンプル)流を含む流路の第一の面と共通する面を有し且段差(深さ)が異なるシ−ス液(キャリア)導入流路を該試料溶液流を含む流路の両側方から合流させ、シース液流によって該試料溶液流を流路の中央方向へ集束させる第一の構造;
(2)第一の構造を有していない該第一集束領域又は第二集束領域において、試料溶液流を含む流路の第一の面以外の3つの面からシ−ス液を合流させ、シース液流によって第一の面と対向する第二の面及び第一の面に対する側面の3方向から該試料溶液流を流路の中央方向へ集束させる第二の構造、を有することを特徴とする前記シースフロー形成構造。
[態様2]
態様1のシースフロー形成構造を有するマイクロシステム。
[態様3]
段差構造が設けられた基板及び平面基板を接合することを含む、態様1のシースフロー形成構造又は態様2のマイクロシステムの作製方法。
[態様4]
態様1のシースフロー形成構造又は態様2のマイクロシステムを用いる、粒子の集束方法。
キャリア溶液流量:試料溶液流量 = 20 μL/min : 1 μL/min。
尚、「シースフロー無し」は、同一のシステムにおいて、シース液流を止め、その代わりに合流後の最終流量が同一になるように試料溶液の流量を増やして実施した。
キャリア流路の高さ: 2.5, 5.0, 10, 15, 20, 25, 30, 及び50μm
合流形状:90度(45度でも最終的な分布に目立った差異は見られない)
流量:キャリア : サンプル: キャリア(以下の3通り)
(1)1.0μl/min : 1.0μl/min : 1.0μl/min = 1:1:1
(2)0.5μl/min : 1.0μl/min : 0.5μl/min = 0.5:1:0.5
(3) 0.25μl/min : 1.0μl/min : 0.25μl/min = 0.25:1:0.25
Claims (10)
- 第一集束領域及び第二集束領域を有する、試料溶液流を流路中央方向に集束させるシースフロー形成構造であって:
(1)該第一集束領域又は第二集束領域の少なくともいずれか一つの領域において、試料溶液流を含む流路の第一の面と共通する面を有し且段差が異なるシ−ス液導入流路を該試料溶液流を含む流路の両側方から合流させ、シース液流によって該試料溶液流を流路の中央方向へ集束させる第一の構造;
(2)第一の構造を有していない該第一集束領域又は第二集束領域において、試料溶液流を含む流路の第一の面以外の3つの面からシ−ス液を合流させ、シース液流によって第一の面と対向する第二の面及び第一の面に対する側面の3方向から該試料溶液流を流路の中央方向へ集束させる第二の構造、を有することを特徴とする前記シースフロー形成構造、を有するマイクロチップ。 - 第一の構造において、試料溶液流を含む流路の第一の面と共通する面を有し且段差が異なるシ−ス液導入流路が該試料溶液流を含む流路と該流路方向に対して直交方向から合流することを特徴とする、請求項1記載のマイクロチップ。
- 第一の面が試料溶液流を含む流路の上面又は下面に相当することを特徴とする、請求項1又は2に記載のマイクロチップ。
- 第一の構造において、試料溶液流を含む流路の段差がシ−ス液導入流路の段差の5倍以上であることを特徴とする、請求項1ないし3いずれか一項に記載のマイクロチップ。
- 第一の構造が第二集束領域に、及び、第二の構造が第一集束領域に設けられていることを特徴とする、請求項1ないし4いずれか一項に記載のマイクロチップ。
- シース液が上流で分岐した後に第一集束領域及び第二集束領域で試料溶液流を含む流路に合流する、請求項1ないし5いずれか一項に記載のマイクロチップ。
- 更に、第二集束領域において形成されたシースフローが流れる流路の段差を小さくし、シースフローのより中央部に試料溶液流が流れるようにする第三の構造を有する第三集束領域を含むことを特徴とする、請求項1ないし6いずれか一項に記載のマイクロチップ。
- 第一の構造が第一集束領域又は第二集束領域のいずれか一つの領域のみに設けられた、請求項1ないし7いずれか一項に記載のマイクロチップの作製方法であって、段差構造が設けられた基板及び平面基板を接合することによって第一の構造における段差を形成することを含む、前記方法。
- 段差構造が設けられた基板がフォトリソグラフィを用いて作製した鋳型から転写された樹脂から成り、平面基板がガラス基板である、請求項8記載の作製方法。
- 樹脂がポリジメチルシロキサンである、請求項9記載の作製方法。
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