JP5690603B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施例に係るがプラズマ処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。本実施例において、プラズマ処理装置は大きく3つの部位に分けられ、上方からプラズマ形成部,真空容器,排気部を含んで構成されている。
102 自動整合機
103 導波管
104 空洞共振部
105 ソレノイドコイル
110 プラズマ処理室
111 誘電体窓
112 シャワープレート
113 ガス導入リング
114 放電ブロック壁
115 電極外周リング
116 下部チャンバ壁
118 試料台
120 下部電極
121 RF電源
122 整合器
130 ガス源
131 ガス供給装置
132 ガスバルブ
140,150,402 排気口
151 可動弁
152 TMP
160 ウエハ
170 エアヒータ
171 コントローラ
172 ガスライン
173 放射温度計
201 冷却ユニット
301 ガス供給口
302 排気装置
401 ガス供給口
403 冷却管路
501,502 排気口開口
Claims (5)
- 真空容器内部に配置され内側でプラズマが形成される円筒形の処理室と、この処理室の下部に配置され試料がその上面に配置される試料台と、前記真空容器の上部に配置され前記処理室の上方を覆ってこの処理室内部を気密に区画する誘電体製の円板部材と、この円板部材の下方ですき間を開けて配置されたものであって前記試料台の上面上方でこれに対向して配置され前記処理室の上面を構成し当該処理室内に処理用ガスが導入される複数の貫通孔を備えたシャワープレートと、前記円板部材の上方に配置されこの円板部材を透過して前記処理室内に供給される電界が導入される円筒形の空洞と、前記空洞の中央部の上方に延在してこれにその一方の端部が連結された導波管であって内部を前記電界が伝播する導波管と、この導波管の他端側の箇所に配置された前記電界を形成する手段と、前記空洞と前記導波管との連結部の外周側に配置され前記空洞内部にその外周から中央に向けて前記円板部材の温度を調節するため所定の温度に調節されたガスを供給する第一の供給口と、前記導波管に配置され前記所定の温度より低い温度のガスが供給される第二の供給口と、前記導波管の前記電界を形成する手段と前記一方の端部との間に配置され前記第一及び第二の供給口から供給され混合されて前記所定の温度より低い温度にされた前記ガスが当該導波管内を流れて排出される排出口とを備えたプラズマ処理装置。
- 請求項1に記載のプラズマ処理装置であって、前記第二の供給口が前記導波管と前記空洞の中央部との連結部及び前記排出口の中間に配置され、前記排出されるガスの温度が前記空洞内部での温度より低くされるプラズマ処理装置。
- 請求項1に記載のプラズマ処理装置であって、前記排出口が前記導波管と前記空洞の中央部との連結部及び前記第二の供給口との間に配置されたプラズマ処理装置。
- 請求項1乃至3の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、前記導波管が、前記空洞の中央部の上方に延在する円筒形導波管とその一端部がこの円筒形導波管に連結されて水平方向に延在し他端部に前記電界を生成する手段が配置された矩形導波管とを備え、前記排出口が前記円形導波管と前記矩形導波管との連結部に配置されたプラズマ処理装置。
- 請求項1乃至4の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、前記円板部材の温度を検出する検出器からの出力に基づいて前記第一の供給口から供給されるガスの温度または量或いは前記第二の供給口から供給される前記ガスの温度または量のいずれかを調節する制御器を備えたプラズマ処理装置。
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