JP5686718B2 - Film capacitor film - Google Patents

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本発明は、フィルムキャパシタ用フィルムに関する。より具体的には、耐電圧性に優れた軽量フィルムキャパシタ用に好適なフィルムキャパシタ用フィルムに関する。   The present invention relates to a film for a film capacitor. More specifically, the present invention relates to a film for a film capacitor suitable for a lightweight film capacitor having excellent voltage resistance.

現在、ポリプロピレン樹脂(PP樹脂)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET樹脂)、ポリフェニレンサルファイド樹脂(PPS樹脂)及びポリエチレンナフタレート樹脂(PEN樹脂)の4種類の樹脂のいずれかから得られるフィルムを誘電層として、この誘電層の表面に金属蒸着層を電極として形成することで、フィルムキャパシタ用フィルムが実用化されている。   Currently, a dielectric layer is a film obtained from one of four types of resins, polypropylene resin (PP resin), polyethylene terephthalate resin (PET resin), polyphenylene sulfide resin (PPS resin), and polyethylene naphthalate resin (PEN resin). A film for a film capacitor has been put into practical use by forming a metal vapor deposition layer as an electrode on the surface of the dielectric layer.

しかしながら、PP樹脂製及びPET樹脂製のフィルムキャパシタ用フィルムは、PP樹脂の使用温度が105℃以下であり、PET樹脂の使用温度が125℃以下なので耐熱性に劣る。これに対し、ハイブリッド車の普及により、インバータ用として使用されるキャパシタには150℃以上の耐熱性が必要とされる。このため、PP樹脂製又はPET樹脂製のフィルムキャパシタ用フィルムをハイブリッド車のキャパシタに適用するには、(1)軽量化の要請を無視して大型の冷却装置を設置する方法、(2)スペース効率を無視して熱源のエンジンルームから遠く離れた運転席側等にキャパシタを設置する方法を採用せざるを得ず、軽量化やコストの点が解決すべき問題となっている。   However, PP resin and PET resin film capacitor films are inferior in heat resistance because the use temperature of PP resin is 105 ° C. or less and the use temperature of PET resin is 125 ° C. or less. On the other hand, with the spread of hybrid vehicles, heat resistance of 150 ° C. or higher is required for capacitors used for inverters. For this reason, in order to apply a film capacitor film made of PP resin or PET resin to a hybrid vehicle capacitor, (1) a method of installing a large cooling device ignoring the demand for weight reduction, (2) space A method of ignoring efficiency and installing a capacitor on the driver's seat or the like far away from the engine room of the heat source has to be adopted, and the weight reduction and cost are problems to be solved.

PPS樹脂製のフィルムキャパシタ用フィルムは、使用温度が160℃以下で良好な耐熱性が得られるものの、絶縁破壊強さが低く、耐電圧性に劣るため、使用範囲が限定される。又、PEN樹脂製のフィルムキャパシタ用フィルムは、使用温度が160℃以下で良好な耐熱性が得られるものの、誘電損失が大きく、誘電正接の温度依存性が大きいので、使用範囲が限定される。   A film for a film capacitor made of PPS resin has good heat resistance at a use temperature of 160 ° C. or lower, but has a low dielectric breakdown strength and inferior voltage resistance, so that the use range is limited. In addition, the film for film capacitors made of PEN resin has good heat resistance at a use temperature of 160 ° C. or less, but has a large dielectric loss and a large temperature dependence of dielectric loss tangent, so the use range is limited.

これに対し、ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)製のフィルムがフィルムキャパシタ用フィルムとして注目されている(例えば、特許文献1、2参照)。ポリエーテルイミド樹脂製のフィルムキャパシタ用フィルムは、ガラス転移点Tgが200℃以上で耐熱性に優れ、絶縁破壊強さが高く耐電圧性に優れ、誘電正接の周波数依存性と温度依存性が小さいためフィルムキャパシタ用フィルムとして好適である。   On the other hand, a film made of polyetherimide resin (PEI resin) has attracted attention as a film for a film capacitor (see, for example, Patent Documents 1 and 2). Films for film capacitors made of polyetherimide resin are excellent in heat resistance at a glass transition point Tg of 200 ° C. or higher, high in dielectric breakdown strength, excellent in voltage resistance, and low in frequency dependence and temperature dependence of dielectric loss tangent. Therefore, it is suitable as a film for a film capacitor.

特開2007−300126号公報JP 2007-300126 A 特開2011−108714号公報JP 2011-108714 A

しかしながら、上記のような熱可塑性樹脂からなるフィルムキャパシタ用フィルムには、フィルムの厚みが増加するにつれて、単位厚みあたりの絶縁耐圧が低くなっていくという現象がある。このために、絶縁耐圧の大きなキャパシタ用フィルムが要求される場合、単に比例的にフィルムキャパシタ用フィルムの厚みを増加させるだけでは所望の絶縁耐圧を達成できないので、単位厚みあたりの絶縁耐圧の低下量を見込んだ厚みの大きなフィルムを用いる必要があり、軽量キャパシタの設計、製造上大きな問題となっている。   However, the film for a film capacitor made of the thermoplastic resin as described above has a phenomenon that the withstand voltage per unit thickness decreases as the thickness of the film increases. For this reason, when a capacitor film with a high withstand voltage is required, the desired withstand voltage cannot be achieved simply by increasing the thickness of the film capacitor film proportionally. Therefore, it is necessary to use a film having a large thickness in anticipation of this, which is a serious problem in designing and manufacturing a lightweight capacitor.

そこで、本発明は上記問題点に鑑みなされたものであって、高い耐電圧生を有する、コンパクトで軽量なフィルムキャパシタを構成するのに好適なフィルムキャパシタ用フィルムを提供することを目的とする。   Then, this invention is made | formed in view of the said problem, Comprising: It aims at providing the film for film capacitors suitable for comprising the compact and lightweight film capacitor which has a high withstand voltage production.

このような課題を解決するために、本発明のフィルムキャパシタ用フィルムの特徴は、フィルムキャパシタ用フィルムであって、熱可塑性樹脂組成物を含む複数のフィルムを積層して形成されたフィルム積層体を備え、単層の前記フィルムが1〜5μmの範囲の厚みを有し、フィルム積層体が、所望の絶縁破壊電圧単層のフィルムが有する絶縁破壊強さのうち最小値で除すことによって規定される全厚みを有して、単層の熱可塑性樹脂組成物のフィルムで構成するより薄化されたフィルムキャパシタ用フィルムの提供を可能にすることを要旨とする。 In order to solve such a problem, the film capacitor film of the present invention is characterized by a film capacitor film comprising a film laminate formed by laminating a plurality of films containing a thermoplastic resin composition. The single layer film has a thickness in the range of 1-5 μm, and the film laminate is defined by dividing the desired breakdown voltage by the minimum value of the breakdown strength of the single layer film. The gist of the present invention is to make it possible to provide a thinner film for a film capacitor that has a total thickness and is made of a single-layer thermoplastic resin composition film.

熱可塑性樹脂組成物からなるフィルムの単位厚みあたりの絶縁破壊強さは、平均値、最小値ともに、フィルムの厚みの増加とともに低下する。従って、例えば、厚み5μmのフィルムの1μmあたりの絶縁破壊強さは、厚み10μmのフィルムの1μmあたりの絶縁破壊強さより大きいので、厚み5μmのフィルムを2層積層した積層フィルムの方が、厚み10μmの単層フィルムよりも、全厚みに対する絶縁破壊強さは大きくなる。   The dielectric breakdown strength per unit thickness of the film made of the thermoplastic resin composition decreases with an increase in the thickness of the film, both of the average value and the minimum value. Therefore, for example, the dielectric breakdown strength per 1 μm of a film having a thickness of 5 μm is larger than the dielectric breakdown strength per 1 μm of a film having a thickness of 10 μm. Therefore, a laminated film obtained by laminating two layers having a thickness of 5 μm has a thickness of 10 μm. The dielectric breakdown strength with respect to the entire thickness is larger than that of the single layer film.

フィルムキャパシタ用フィルムの厚みは、要求される耐電圧(絶縁破壊電圧)の値に応じてフィルムの有する最小の絶縁破壊強さを勘案して決められる。従って、要求耐電圧値に対応するフィルムしては、薄いフィルムを複数層積層したほうが、単層のフィルムを用いるよりも、全体厚みを薄くすることができる。   The thickness of the film for a film capacitor is determined in consideration of the minimum dielectric breakdown strength of the film according to the required withstand voltage (dielectric breakdown voltage) value. Accordingly, as a film corresponding to the required withstand voltage value, the overall thickness can be reduced by laminating a plurality of thin films rather than using a single layer film.

さらに、薄いフィルムを複数層積層した積層フィルムの単位厚みあたりの絶縁破壊強さは、その積層フィルムを構成する各フィルムの単位厚みあたりの絶縁破壊強さに比較して、平均値は同等であるが、最小値は大きくなる。従って、薄いフィルムを複数層積層した積層フィルムにおける、この薄いフィルムを複数層積層した積層フィルムの最小値の増加分を勘案すれば、要求耐電圧値に対するフィルムキャパシタフィルムの厚みはさらに薄くすることができる。   Furthermore, the dielectric breakdown strength per unit thickness of a laminated film obtained by laminating a plurality of thin films is equal to the average value of the dielectric breakdown strength per unit thickness of each film constituting the laminated film. However, the minimum value increases. Therefore, the thickness of the film capacitor film with respect to the required withstand voltage value can be further reduced by taking into account the increase in the minimum value of the laminated film obtained by laminating a plurality of thin films. it can.

積層フィルムのフィルム積層数を2層にすると、製造装置及び製造工程において、コストアップの要因を抑制することができる。   When the number of laminated films in the laminated film is two layers, the cost increase factor can be suppressed in the production apparatus and the production process.

熱可塑性樹脂組成物をポリプロピレン樹脂(PP樹脂)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET樹脂)、ポリフェニレンサルファイド樹脂(PPS樹脂)及びポリエチレンナフタレート樹脂(PEN樹脂)等の結晶性樹脂組成物から形成すると、2軸延伸フィルムを使用することができる。   When a thermoplastic resin composition is formed from a crystalline resin composition such as polypropylene resin (PP resin), polyethylene terephthalate resin (PET resin), polyphenylene sulfide resin (PPS resin), and polyethylene naphthalate resin (PEN resin), biaxial A stretched film can be used.

熱可塑性樹脂組成物を非結晶性樹脂組成物で形成すると、結晶質熱可塑性樹脂のようにTダイスから押し出された溶融樹脂をキャスティング装置で冷却固化させた後に2軸延伸してフィルムを製造することができず、溶融樹脂をTダイスで押出して冷却ロールで冷却して最終厚みとなる。   When a thermoplastic resin composition is formed from an amorphous resin composition, a molten resin extruded from a T-die, such as a crystalline thermoplastic resin, is cooled and solidified with a casting device, and then biaxially stretched to produce a film. The molten resin is extruded with a T-die and cooled with a cooling roll to obtain the final thickness.

非結晶性の熱可塑性樹脂組成物の中でも、ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)ベースの樹脂組成物を用いると、優れた耐熱性及び耐電圧性を有するフィルムキャパシタ用フィルムを得ることができる。   Among the amorphous thermoplastic resin compositions, when a polyetherimide resin (PEI resin) -based resin composition is used, a film for a film capacitor having excellent heat resistance and voltage resistance can be obtained.

表面にエンボスを形成する等の手段を適用して粗表面化した冷却ロールを用いて製造した摺動性改質PEI樹脂組成物フィルムでは、耐電圧性はさらに向上する。   In the slidability modified PEI resin composition film manufactured using a cooling roll roughened by applying means such as embossing on the surface, the voltage resistance is further improved.

本発明によれば、高い耐電圧生を有する、コンパクトで軽量なフィルムキャパシタを構成するのに好適なフィルムキャパシタ用フィルムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the film for film capacitors suitable for comprising the compact and lightweight film capacitor which has a high withstand voltage production can be provided.

本発明の実施形態に係る熱可塑性樹脂組成物の単層フィルムの製造装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the manufacturing apparatus of the single layer film of the thermoplastic resin composition which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る熱可塑性樹脂組成物の2層積層フィルムの製造装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the manufacturing apparatus of the two-layer laminated film of the thermoplastic resin composition which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態の比較例1〜4、実施例1に係るフィルムの、絶縁破壊強さ及び内面表面粗さと、呼称フィルム厚みの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship of the dielectric breakdown strength and inner surface roughness, and a nominal film thickness of the film which concerns on Comparative Examples 1-4 of Example of this invention and Example 1. FIG. 本発明の実施形態の比較例5〜8、実施例2に係るフィルムの、絶縁破壊強さ及び内面表面粗さと、呼称フィルム厚みの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the dielectric breakdown strength of the film which concerns on Comparative Examples 5-8 of embodiment of this invention, and Example 2, an inner surface roughness, and a nominal film thickness.

以下、本発明を実施するための形態(以下、実施形態という。)について詳細に説明する。   Hereinafter, modes for carrying out the present invention (hereinafter referred to as embodiments) will be described in detail.

まず、本発明に係るフィルムキャパシタ用フィルムは、熱可塑性樹脂組成物からなる、厚み1〜5μmのフィルムを複数層積層した積層フィルムからなる。   First, the film for a film capacitor according to the present invention is composed of a laminated film obtained by laminating a plurality of films having a thickness of 1 to 5 μm, which is made of a thermoplastic resin composition.

熱可塑性樹脂組成物は、ポリエチレン樹脂(PE樹脂)、ポリプロピレン樹脂(PP樹脂)、ポリアミド樹脂(PA樹脂)、ポリアセタール樹脂(POM樹脂)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET樹脂)、超高分子量ポリエチレン樹脂(UHPE樹脂)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(PBT樹脂)、ポリメチルペンテン樹脂(TPX樹脂)、ポリフェニレンサルファイド樹脂(PPS樹脂)、ポリエーテルエーテルケトン樹脂(PEEK樹脂)、液晶ポリマー樹脂(LCP樹脂)、ポリテトラフロロエチレン樹脂(PTFE樹脂)及びシンジオタックチックポリスチレン樹脂等を含む群から選択される1つ又は複数の結晶質熱可塑性樹脂組成物を用いることができる。   The thermoplastic resin composition includes polyethylene resin (PE resin), polypropylene resin (PP resin), polyamide resin (PA resin), polyacetal resin (POM resin), polyethylene terephthalate resin (PET resin), ultrahigh molecular weight polyethylene resin (UHPE). Resin), polybutylene terephthalate resin (PBT resin), polymethylpentene resin (TPX resin), polyphenylene sulfide resin (PPS resin), polyether ether ketone resin (PEEK resin), liquid crystal polymer resin (LCP resin), polytetrafluorocarbon One or more crystalline thermoplastic resin compositions selected from the group comprising ethylene resin (PTFE resin) and syndiotactic polystyrene resin can be used.

上記の結晶質熱可塑性樹脂組成物は、一般にTダイスで押し出し後、二軸延伸法を用いて最終フィルム厚みに仕上げられるが、二軸延伸法を適用せずに、Tダイスで押し出し後、圧着ロールと冷却ロールとで挟んで最終フィルム厚みに仕上げこともできる。   The above-mentioned crystalline thermoplastic resin composition is generally finished to the final film thickness using a biaxial stretching method after being extruded with a T-die, but without being applied with the biaxial stretching method, it is extruded after being extruded with a T-die. It can also be finished between the roll and the cooling roll to the final film thickness.

熱可塑性樹脂組成物はまた、ポリスチレン樹脂(PS樹脂)、アクリロニトリル/スチレン樹脂(AS樹脂)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン樹脂(ABS樹脂)、メタクリル樹脂(PMMA樹脂)、塩化ビニル樹脂(PVC樹脂)、ポリカーボネイト樹脂(PC樹脂)、シクロオレフィンポリマー樹脂(COP樹脂)、ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)、ポリアレレート樹脂(PAR樹脂)、ポリサルフォン樹脂(PSF樹脂)、ポリエーテルサルホン樹脂(PES樹脂)、ポリアミドイミド樹脂(PAI樹脂)等を含む群から選択される1つ又は複数の非結晶質熱可塑性樹脂組成物を用いることができる。   The thermoplastic resin composition also includes polystyrene resin (PS resin), acrylonitrile / styrene resin (AS resin), acrylonitrile / butadiene / styrene resin (ABS resin), methacrylic resin (PMMA resin), vinyl chloride resin (PVC resin), Polycarbonate resin (PC resin), cycloolefin polymer resin (COP resin), polyetherimide resin (PEI resin), polyallelate resin (PAR resin), polysulfone resin (PSF resin), polyethersulfone resin (PES resin) One or a plurality of amorphous thermoplastic resin compositions selected from the group including polyamideimide resin (PAI resin) and the like can be used.

上記非結晶質熱可塑性樹脂組成物は延性に乏しいため、二軸延伸法を適用せず、Tダイスで押し出し後、圧着ロールと冷却ロールとで挟んで最終フィルム厚みに仕上げられる。   Since the amorphous thermoplastic resin composition has poor ductility, the biaxial stretching method is not applied, and after extrusion with a T die, the film is sandwiched between a crimping roll and a cooling roll to be finished to a final film thickness.

ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)製のフィルムキャパシタ用フィルムは、ガラス転移点Tgが200℃以上で耐熱性に優れ、絶縁破壊強さが高く耐電圧性に優れ、誘電正接の周波数依存性と温度依存性が小さいためフィルムキャパシタ用フィルムとして好適である。   Films for film capacitors made of polyetherimide resin (PEI resin) have a glass transition point Tg of 200 ° C. or higher, excellent heat resistance, high dielectric breakdown strength, excellent voltage resistance, frequency dependence of dielectric loss tangent and temperature Since the dependency is small, it is suitable as a film for a film capacitor.

ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)の具体例としては、Tgが211℃のUltem 1000−1000(SABIC イノベーティブプラスチックスジャパン社製、商品名)、Tgが223℃のUltem 1010−1000の(SABIC イノベーティブプラスチックスジャパン社製、商品名)、Tgが235℃のUltem CRS5001−1000の(SABIC イノベーティブプラスチックスジャパン社製、商品名)等が挙げられる。   Specific examples of the polyetherimide resin (PEI resin) include Ultem 1000-1000 (trade name, manufactured by SABIC Innovative Plastics Japan) having a Tg of 211 ° C., and ULTEM 1010-1000 (SABIC Innovative Plastic having a Tg of 223 ° C. And a product name of ULTEM CRS5001-1000 having a Tg of 235 ° C. (trade name, manufactured by SABIC Innovative Plastics Japan).

PEI樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で他の共重合可能な単量体とのブロック共重合体、ランダム共重合体あるいは変性体も使用可能である。例えば、ポリエーテルイミドサルフォン共重合体であるTgが252℃のUltem XH6050−1000(SABIC イノベーティブプラスチックスジャパン社、商品名)を使用することができる。また、PEI樹脂は、1種類を単独または2種類以上をアロイ化あるいはブレンドして使用しても構わない。   As the PEI resin, a block copolymer, a random copolymer, or a modified body with another copolymerizable monomer can be used as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, Ultem XH6050-1000 (SABIC Innovative Plastics Japan, trade name) having a Tg of 252 ° C., which is a polyetherimide sulfone copolymer, can be used. One PEI resin may be used alone, or two or more PEI resins may be alloyed or blended.

PEI樹脂組成物としては、本発明の特性を損なわない範囲で、ポリイミド樹脂(PI樹脂)あるいはポリアミドイミド樹脂(PAI樹脂)等の熱可塑性ポリイミド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂(PEEK樹脂)あるいはポリエーテルケトン樹脂(PK樹脂)等のポリアリーレンケトン系樹脂、ポリサルホン樹脂(PSU樹脂)、ポリエーテルサルホン樹脂(PES樹脂)あるいはポリフェニレンサルホン樹脂(PPSU樹脂)等の芳香族ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリフェニレンサルフィド樹脂(PPS樹脂)、ポリフェニレンスルフィドスルホン樹脂、ポリフェニレンスルフィドケトン樹脂等のポリアリーレンサルフィド系樹脂、液晶ポリマー樹脂(LCP樹脂)等の公知の熱可塑性樹脂を添加することができる。液晶ポリマーはI型、II型あるはIII型のいずれ液晶ポリマーも使用可能である。   As the PEI resin composition, a thermoplastic polyimide resin such as polyimide resin (PI resin) or polyamideimide resin (PAI resin), polyether ether ketone resin (PEEK resin) or Aromatic polyether sulfone resin such as polyarylene ketone resin such as ether ketone resin (PK resin), polysulfone resin (PSU resin), polyether sulfone resin (PES resin) or polyphenylene sulfone resin (PPSU resin) Polyphenylene sulfide resin (PPS resin), polyphenylene sulfide sulfone resin, polyarylene sulfide resin such as polyphenylene sulfide ketone resin, and known thermoplastic resins such as liquid crystal polymer resin (LCP resin) can be added. As the liquid crystal polymer, any of liquid crystal polymers of type I, type II or type III can be used.

PEI樹脂組成物は、PEI樹脂単独の樹脂組成物であるか、又はPEI樹脂100質量部にフッ素樹脂を1.0〜30.0質量部添加した樹脂組成物を用いることができる。   The PEI resin composition may be a resin composition of a PEI resin alone or a resin composition in which 1.0 to 30.0 parts by mass of a fluororesin is added to 100 parts by mass of the PEI resin.

フッ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン樹脂(PTFE樹脂)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体樹脂(PFA樹脂)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピル共重合体樹脂(FEP樹脂)、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体樹脂(ETFE樹脂)、ポリビニリデンフルオライド樹脂(PVDF樹脂)及びポリクロロトリフルオロエチレン樹脂(PCTFE樹脂)等を含む群から選択される1つ又は複数の樹脂を用いることができる。   The fluororesin is polytetrafluoroethylene resin (PTFE resin), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer resin (PFA resin), tetrafluoroethylene-hexafluoropropyl copolymer resin (FEP resin), tetrafluoroethylene. -One or more resins selected from the group including ethylene copolymer resin (ETFE resin), polyvinylidene fluoride resin (PVDF resin), and polychlorotrifluoroethylene resin (PCTFE resin) can be used. .

本発明の実施形態で用いる、上記の熱可塑性樹脂フィルムの単層の厚みは、1〜5μmであることが好ましい。1μm未満であると、フィルムの引張強度が低下してフィルムを複数層積層する工程で問題が生じるおそれがある。5μmを超えると、フィルムの単位厚みあたりの絶縁破壊強さが低下するため、フィルムを積層しても絶縁破壊電圧向上の効果が薄くなる。   It is preferable that the thickness of the single layer of said thermoplastic resin film used by embodiment of this invention is 1-5 micrometers. If it is less than 1 μm, the tensile strength of the film is lowered, and there is a possibility that a problem may occur in the step of laminating a plurality of films. When the thickness exceeds 5 μm, the dielectric breakdown strength per unit thickness of the film is reduced, so that the effect of improving the dielectric breakdown voltage is reduced even if the films are laminated.

本発明の実施形態においては、表1に示したように、比較例1〜4として厚み5〜9μmの単層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)フィルム、比較例5〜8として厚み5〜9μmの摺動性改質単層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)フィルムを作製し、絶縁破壊強さと冷却ロールに接触する側の表面(内面)の表面粗さを測定した。次いで、実施例1として、厚み5μmの単層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)フィルムを2層積層した積層フィルム、実施例2として厚み5μmの摺動性改質単層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)フィルムを2層積層した積層フィルムを作製して、絶縁破壊強さを測定した。   In the embodiment of the present invention, as shown in Table 1, as Comparative Examples 1 to 4, a single-layer polyetherimide resin (PEI resin) film having a thickness of 5 to 9 μm, and as Comparative Examples 5 to 8 having a thickness of 5 to 9 μm A slidable modified single-layer polyetherimide resin (PEI resin) film was produced, and the dielectric breakdown strength and the surface roughness of the surface in contact with the cooling roll (inner surface) were measured. Next, as Example 1, a laminated film obtained by laminating two single-layer polyetherimide resin (PEI resin) films having a thickness of 5 μm, and as Example 2, a slidable modified single-layer polyetherimide resin (PEI resin having a thickness of 5 μm). ) A laminated film in which two layers of films were laminated was produced, and the dielectric breakdown strength was measured.

本発明におけるフィルムキャパシタ用フィルムは、Tダイスを用いた溶融押出成形法により製造する。熱可塑性樹脂組成物からなる成形材料を、二軸押出混練機を使用して混練調製後、単軸押出機の先端に配置されたTダイス先端のリップ部からフィルムキャパシタ用フィルムを溶融押出しし、このフィルムキャパシタ用フィルムを引取機内の圧着ロールと冷却ロールとの間に挟んで冷却し、次いで巻取機で巻取管に順次巻取り、フィルムキャパシタ用フィルムをとして提供する。   The film for a film capacitor in the present invention is produced by a melt extrusion method using a T die. After kneading and preparing a molding material composed of a thermoplastic resin composition using a twin-screw extruder kneader, a film capacitor film is melt-extruded from a lip portion at the tip of a T die placed at the tip of a single-screw extruder, The film for a film capacitor is cooled by being sandwiched between a pressure-bonding roll and a cooling roll in the take-up machine, and then wound around a take-up tube with a winder to provide a film for a film capacitor.

図1に基いて、本発明の実施形態の比較例1〜4に係る単層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)フィルムの製造方法について説明する。   Based on FIG. 1, the manufacturing method of the single layer polyetherimide resin (PEI resin) film which concerns on Comparative Examples 1-4 of embodiment of this invention is demonstrated.

図1に示すように、比較例1〜4に係る単層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)フィルムの製造装置は、成形材料を投入する材料投入ホッパー2、押出機1、Tダイス7、冷却ロール10、圧着ロール9、引取機11、巻取機15を備えている。   As shown in FIG. 1, the manufacturing apparatus of the single layer polyetherimide resin (PEI resin) film which concerns on Comparative Examples 1-4 is the material input hopper 2 which inputs a molding material, the extruder 1, T dice | dies 7, and a cooling roll. 10, a crimping roll 9, a take-up machine 11, and a winder 15.

押出機1は、押出スクリュー(図示していない)でPEI樹脂組成物の成形材料を混合、撹拌しながら矢印B方向に搬送すると共に、シリンダー1内に組み込まれた電熱手段で、成形材料を加熱、溶融する。このようにして溶融されて搬送されるPEI樹脂組成物からなる成形材料は、接続管4を介してフィルター手段に送給される。そして、フィルター5によって、未溶融の成形材料を分離し、溶融された成形材料をギヤポンプ6へ送給する。ギヤポンプ6では、溶融された成形材料の圧力を高めながらTダイス7に成形材料を押し出す。Tダイス7では、所定圧力で溶融成形材料を押出し、Tダイス7のリップ部(図示していない)から所定厚み、所定幅のフィルム8を成形する。このようにして成形されたフィルム8は、引取機11の標準表面冷却ロール10aの外周面上に引き取って、圧着ロール9で押しつけることにより所定厚みに調整すると共に、冷却、固化し、搬送ロール対12、13で搬送して巻取機15に巻取って製造することができる。   The extruder 1 mixes the PEI resin composition molding material with an extrusion screw (not shown), conveys it in the direction of arrow B while stirring, and heats the molding material with electric heating means incorporated in the cylinder 1. Melt. The molding material composed of the PEI resin composition that is melted and conveyed in this manner is fed to the filter means via the connecting pipe 4. Then, the unmelted molding material is separated by the filter 5 and the molten molding material is fed to the gear pump 6. In the gear pump 6, the molding material is pushed out to the T die 7 while increasing the pressure of the molten molding material. In the T die 7, the melt molding material is extruded at a predetermined pressure, and a film 8 having a predetermined thickness and a predetermined width is formed from a lip portion (not shown) of the T die 7. The film 8 thus formed is taken up on the outer peripheral surface of the standard surface cooling roll 10a of the take-up machine 11 and adjusted to a predetermined thickness by pressing with the pressure-bonding roll 9, and is cooled and solidified. It can be manufactured by being transported by 12, 13 and wound on a winder 15.

比較例5〜8に係る単層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)フィルムの製造装置は、図1において、標準表面冷却ロール10aの代りにエンボス加工等による粗表面を有する粗表面冷却ロール10bを備えている。   The manufacturing apparatus of the single layer polyetherimide resin (PEI resin) film which concerns on Comparative Examples 5-8 is provided with the rough surface cooling roll 10b which has the rough surface by embossing etc. instead of the standard surface cooling roll 10a in FIG. ing.

比較例5〜8に係る摺動性改質単層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)フィルムは、成形されたフィルム8を、引取機11の粗表面を有する粗表面冷却ロール10bの外周面上に引き取って、圧着ロール9で押しつけることにより、粗表面冷却ロール10bの粗表面をフィルム面に転写しながら所定厚みに調整すると共に、冷却、固化し、搬送ロール対12、13で搬送して巻取機15に巻取って製造することができる。   The slidability modified single-layer polyetherimide resin (PEI resin) film according to Comparative Examples 5 to 8 is formed on the outer peripheral surface of the rough surface cooling roll 10 b having the rough surface of the take-up machine 11. Taking the sheet and pressing it with the pressure roll 9, the rough surface of the rough surface cooling roll 10 b is adjusted to a predetermined thickness while being transferred to the film surface, cooled and solidified, and transported by the pair of transport rolls 12 and 13 for winding. It can be wound around the machine 15 and manufactured.

図2に基いて、本発明の実施形態の実施例1、2に係る2層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)積層フィルム及び2層摺動性改質ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)積層フィルムの製造方法について説明する。   Based on FIG. 2, the two-layer polyetherimide resin (PEI resin) laminated film and the two-layer slidable modified polyetherimide resin (PEI resin) laminated film according to Examples 1 and 2 of the embodiment of the present invention. A manufacturing method will be described.

図2に示すように、実施例1、2に係る2層ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)積層フィルム及び2層摺動性改質ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)積層フィルムの製造装置は、送り出し機17を設けたこと以外は、図1と同様である。   As shown in FIG. 2, the apparatus for producing the two-layer polyetherimide resin (PEI resin) laminated film and the two-layer slidability modified polyetherimide resin (PEI resin) laminated film according to Examples 1 and 2 is sent out. Except for providing the machine 17, it is the same as FIG.

実施例1に係る2層PEI樹脂積層フィルムは、比較例1〜4に係る単層PEI樹脂フィルムの製造と同様に、溶融したPEI樹脂成形材料を、Tダイス7のリップ部(図示せず)から押出し、所定厚み、所定幅に成形したフィルム8を、送り出し機17から送り出した成形、冷却、固化済の単層PEI樹脂フィルムとともに、引取機11の標準表面冷却ロール10aの外周面上に引き取って積層し、圧着ロール9で押しつけることにより所定厚みに調整するとともに、冷却、固化し、搬送ロール対12、13で搬送して巻取機15に巻取って製造することができる。   The two-layer PEI resin laminated film according to Example 1 is obtained by using a molten PEI resin molding material as a lip portion (not shown) of the T dice 7 in the same manner as in the production of the single-layer PEI resin film according to Comparative Examples 1 to 4. The film 8 that has been extruded from and formed into a predetermined thickness and width is taken on the outer peripheral surface of the standard surface cooling roll 10a of the take-up machine 11 together with the molded, cooled, and solidified single-layer PEI resin film sent out from the feed-out machine 17. In addition to being adjusted to a predetermined thickness by pressing with the pressure roll 9, cooling and solidification can be performed, and the rolls can be transported by a pair of transport rolls 12 and 13 and wound around a winder 15.

実施例2に係る2層摺動性改質PEI樹脂積層フィルムは、比較例5〜8に係る単層摺動性改質PEI樹脂フィルムの製造と同様に、溶融したPEI樹脂成形材料を、Tダイス7のリップ部(図示せず)から押出し、所定厚み、所定幅に成形したフィルム8を送り出し機17から送り出した成形、冷却済の単層摺動性改質PEI樹脂フィルムとともに、引取機11のエンボス加工等による粗表面を有する粗表面冷却ロール10bの外周面上に引き取って積層し、圧着ロール9で押しつけることにより粗表面冷却ロール10bの粗表面をフィルム面に転写しながら所定厚みに調整すると共に、冷却、固化し、搬送ロール対12、13で搬送して巻取機15に巻取って製造することができる。   The two-layer slidability-modified PEI resin laminated film according to Example 2 is obtained by applying a molten PEI resin molding material to T as in the production of the single-layer slidability-modified PEI resin film according to Comparative Examples 5 to 8. Extruding from the lip portion (not shown) of the die 7 and forming the film 8 formed into a predetermined thickness and width into a predetermined thickness, and sending it out from the delivery machine 17, together with the cooled single-layer slidability modified PEI resin film, the take-up machine 11 Is taken up on the outer peripheral surface of the rough surface cooling roll 10b having a rough surface by embossing or the like, laminated and pressed by the pressure roll 9, and adjusted to a predetermined thickness while transferring the rough surface of the rough surface cooling roll 10b to the film surface At the same time, it can be cooled and solidified, transported by a pair of transporting rolls 12 and 13, and wound around a winder 15 to be manufactured.

図2に示した方法では、冷却、固化済の単層フィルムと新たにTダイスから押出した単層フィルムを積層しているが、Tダイスを2台並べてそれぞれ押出しながら積層を実施して2層積層フィルムを製造することもできるが、装置面でのコストアップ要因が大きくなる。   In the method shown in FIG. 2, a single-layer film that has been cooled and solidified and a single-layer film newly extruded from a T-die are laminated. Although a laminated film can be manufactured, the cost increase factor on the apparatus side becomes large.

積層数が3層以上の積層フィルムも、同様の方法で製造することができる。   A laminated film having three or more laminated layers can also be produced by the same method.

(測定と評価)
(フィルムの厚み)
接触式の厚み計(Mahr社製 商品名:電子マイクロメータミロトロン1240)を使用し、フィルム幅方向19点、フィルム流れ方向5箇所の95点箇所の平均厚みにより求めた。
(Measurement and evaluation)
(Film thickness)
Using a contact-type thickness meter (trade name: Electronic Micrometer Myrotron 1240, manufactured by Mahr), the thickness was determined from the average thickness of 95 points at 19 points in the film width direction and 5 points in the film flow direction.

(表面粗さ)
算術平均粗さRaと最大高さRzは、JISB0601−2001に準じて測定を行った。十点平均粗さRz94は、JISB0601−1994に準じて測定を行った。
(Surface roughness)
Arithmetic average roughness Ra and maximum height Rz were measured according to JISB0601-2001. Ten-point average roughness Rz94 was measured according to JISB0601-1994.

(フィルムの絶縁破壊強さ)
フィルムの絶縁破壊強さは、JISC2110−1994に準拠し、気中法による短時間絶縁破壊試験で測定した。この測定は、23℃の環境下で実施した。電極の形状は、円柱状(上部形状 直径:25mm、高さ:25mm、下部形状 直径:25mm、高さ:15mm)を使用した。
(Dielectric breakdown strength of film)
The dielectric breakdown strength of the film was measured by a short-time dielectric breakdown test by an air method in accordance with JIS C2110-1994. This measurement was performed in an environment of 23 ° C. The shape of the electrode was a columnar shape (upper shape diameter: 25 mm, height: 25 mm, lower shape diameter: 25 mm, height: 15 mm).

(比較例1〜4)、(実施例1)
熱可塑性樹脂組成物としてポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)を用い、標準表面冷却ロール10aを備えた図1に示した装置によって、比較例1〜4において、呼称厚みが順に、5μm、6μm、8μm、9μmの単層フィルムを作製した。PEI樹脂は、Tgが217℃で非晶質のULTEM1010(イノベーティブプラスチックスジャパン社製商品名)を使用した。実施例1においては、比較例1の呼称厚み5μmのフィルムを使用して、標準表面冷却ロール10aを備えた図2に示した装置を用いて、2層積層フィルムを作製した。
(Comparative Examples 1-4), (Example 1)
In the comparative examples 1 to 4, the nominal thicknesses are 5 μm, 6 μm, and 8 μm in order, using the apparatus shown in FIG. A single-layer film of 9 μm was produced. As the PEI resin, amorphous ULTEM 1010 (trade name, manufactured by Innovative Plastics Japan) having a Tg of 217 ° C. was used. In Example 1, a film having a nominal thickness of 5 μm of Comparative Example 1 was used to produce a two-layer laminated film using the apparatus shown in FIG. 2 equipped with the standard surface cooling roll 10a.

比較例1〜4、実施例1で作製したフィルムの絶縁破壊強さ(V/μm)、厚み(μm)、冷却ロール側の内面表面粗さ(μm)の測定結果を表1、図3に示す。比較例1〜4の結果から、PEI樹脂単層フィルムにおいては呼称厚みが5μmから増加するにつれて、厚み1μmあたりの絶縁破壊強さは平均値、最小値ともに減少しているのがわかる。一方、実施例1の呼称厚み5μm×2(=10μm)の2層積層フィルムにおいては、厚み1μmあたりの絶縁破壊強さは、平均値は比較例1の厚み5μmの単層フィルムと同等であるが、最小値は比較例1の厚み5μmの単層フィルムの196V/μmから、226V/μmへと顕著に増加している。   Tables 1 and 3 show the measurement results of dielectric breakdown strength (V / μm), thickness (μm), and inner surface roughness (μm) on the cooling roll side of the films produced in Comparative Examples 1 to 4 and Example 1. Show. From the results of Comparative Examples 1 to 4, it can be seen that, in the PEI resin single layer film, the dielectric breakdown strength per 1 μm of thickness decreases as the nominal thickness increases from 5 μm. On the other hand, in the two-layer laminated film having a nominal thickness of 5 μm × 2 (= 10 μm) in Example 1, the average dielectric breakdown strength per 1 μm thickness is equivalent to the single-layer film having a thickness of 5 μm in Comparative Example 1. However, the minimum value is remarkably increased from 196 V / μm of the single-layer film having a thickness of 5 μm in Comparative Example 1 to 226 V / μm.

(比較例5〜8)、(実施例2)
熱可塑性樹脂組成物として摺動性改質ポリエーテルイミド樹脂(PEI樹脂)を用い、粗表面冷却ロール10bを備えた図1に示した装置でよって、比較例5〜8において、呼称厚みが順に、5μm、6μm、8μm、9μmの単層フィルムを作製した。PEI樹脂は、Tgが217℃で非晶質のULTEM1010(イノベーティブプラスチックスジャパン社製商品名)を使用した。実施例2においては、比較例5の呼称厚み5μmのフィルムを使用して、粗表面冷却ロール10bを備えた図2に示した装置を用いて、2層積層フィルムを作製した。
(Comparative Examples 5 to 8), (Example 2)
In the comparative examples 5 to 8, the nominal thicknesses are in order by using the apparatus shown in FIG. Single-layer films of 5 μm, 6 μm, 8 μm, and 9 μm were prepared. As the PEI resin, amorphous ULTEM 1010 (trade name, manufactured by Innovative Plastics Japan) having a Tg of 217 ° C. was used. In Example 2, a film having a nominal thickness of 5 μm of Comparative Example 5 was used to produce a two-layer laminated film using the apparatus shown in FIG. 2 provided with the rough surface cooling roll 10b.

比較例5〜8、実施例2で作製したフィルムの絶縁破壊強さ(V/μm)、厚み(μm)、冷却ロール側の内面表面粗さ(μm)の測定結果を表1、図4に示す。比較例5〜8の結果から、PEI樹脂単層フィルムにおいては呼称厚みが5μmから増加するにつれて、厚み1μmあたりの絶縁破壊強さは平均値、最小値ともに減少しているのがわかる。一方、実施例2の呼称厚み5μm×2(=10μm)の2層積層フィルムにおいては、厚み1μmあたりの絶縁破壊強さは、平均値は比較例5の厚み5μmの単層フィルムと同等であるが、最小値は比較例5の厚み5μmの単層フィルムの213V/μmから、254V/μmへと顕著に増加している。   Tables 1 and 4 show the measurement results of dielectric breakdown strength (V / μm), thickness (μm), and inner surface roughness (μm) on the cooling roll side of the films prepared in Comparative Examples 5 to 8 and Example 2. Show. From the results of Comparative Examples 5 to 8, it can be seen that, in the PEI resin single layer film, the dielectric breakdown strength per 1 μm of thickness decreases as the nominal thickness increases from 5 μm. On the other hand, in the two-layer laminated film having a nominal thickness of 5 μm × 2 (= 10 μm) in Example 2, the average dielectric breakdown strength per 1 μm thickness is equivalent to the single-layer film having a thickness of 5 μm in Comparative Example 5. However, the minimum value is significantly increased from 213 V / μm of the single-layer film having a thickness of 5 μm in Comparative Example 5 to 254 V / μm.

図3の摺動性改質PEIフィルムに関する比較例5〜8、実施例2に関する表面粗さと、図4のPEIフィルムに関する比較例1〜4、実施例2に冠する表面粗さを比較すると、算術平均粗さRaは同等であるが、最大高さRzは、図3の摺動性改質PEIフィルムの方が明瞭に高くなっている。   When the surface roughness relating to Comparative Examples 5 to 8 and Example 2 regarding the slidability modified PEI film of FIG. 3 and Comparative Examples 1 to 4 and Example 2 regarding the PEI film of FIG. The arithmetic average roughness Ra is the same, but the maximum height Rz is clearly higher in the slidable modified PEI film of FIG.

Figure 0005686718
Figure 0005686718

以下、メタライジング前のフィルムキャパシタ用フィルムに2000V以上の絶縁耐圧が要求される場合の、摺動性改質PEIフィルムの適用について説明する。説明の便宜上、マージンについては考慮しない。   Hereinafter, application of the slidability modified PEI film in the case where a dielectric breakdown voltage of 2000 V or higher is required for the film for film capacitor before metallization will be described. For convenience of explanation, the margin is not considered.

単層の摺動性改質PEIフィルムを適用して、2000V以上の絶縁破壊電圧を有するフィルムキャパシタ用フィルムを形成する場合、表1の比較例8の厚み9μmのフィルムの絶縁破壊強さ(Min)を基準にすると、2000/137=14.7μmを超える厚みが必要となる。これに対し、2層の摺動性改質PEIフィルムを適用して2000V以上の絶縁破壊電圧を有するフィルムキャパシタ用フィルムを形成する場合、表1の比較例の厚み5μmのフィルムの絶縁破壊強さ(Min)を基準にすると、2000/213=9.4μmの厚みですむことになり、これは上記単層フィルムの厚み14.7μmの約64%の厚みとなる。   When a film for a film capacitor having a dielectric breakdown voltage of 2000 V or more is formed by applying a single-layer slidability modified PEI film, the dielectric breakdown strength (Min) of a film having a thickness of 9 μm in Comparative Example 8 in Table 1 ) As a reference, a thickness exceeding 2000/137 = 14.7 μm is required. On the other hand, when a film for a film capacitor having a dielectric breakdown voltage of 2000 V or more is formed by applying a two-layer slidable modified PEI film, the dielectric breakdown strength of a film having a thickness of 5 μm in the comparative example of Table 1 On the basis of (Min), a thickness of 2000/213 = 9.4 μm is required, which is about 64% of the thickness of the above-mentioned single layer film of 14.7 μm.

さらに、表1の実施例2からわかるように、厚み5μmの単層フィルムを2層積層した摺動性改質PEIの2層積層フィルムの絶縁破壊強さ(Min)は254V/μmと、比較例5の厚み5μmの単層フィルムの絶縁破壊強さ(Min)213V/μmに比較して顕著に高くなっている。この実施例2の絶縁破壊強さ(Min)を適用すれば、要求絶縁耐圧2000Vに対しては、2000/254=7.9μmと厚みをさらに低減することができる。この7.9μmは上記単層フィルムの厚み14.7μmの約54%の厚みとなる。厚み7.9μmを2層の単層フィルムで構成すると、単層フィルムの厚みは3.95μmとなるが、この厚みは5μmより薄いので、厚み3.95μmの単層フィルムの絶縁破壊強さ(Min)は、厚み5μmの単層フィルムの絶縁破壊電圧(Min)より高くなる。よって、厚み3.95μm×2の摺動性改質PEIの2層積層フィルムの絶縁耐圧は2000Vを十分に超えることが容易に導かれる。   Furthermore, as can be seen from Example 2 in Table 1, the dielectric breakdown strength (Min) of the two-layer laminated film of the slidable modified PEI obtained by laminating two single-layer films having a thickness of 5 μm is 254 V / μm, which is a comparison. The dielectric breakdown strength (Min) of the single-layer film having a thickness of 5 μm in Example 5 is significantly higher than that of 213 V / μm. If the dielectric breakdown strength (Min) of the second embodiment is applied, the thickness can be further reduced to 2000/254 = 7.9 μm for the required dielectric strength 2000V. This 7.9 μm is about 54% of the thickness of the monolayer film of 14.7 μm. When the thickness of 7.9 μm is composed of two single-layer films, the thickness of the single-layer film is 3.95 μm, but since this thickness is thinner than 5 μm, the dielectric breakdown strength of the single-layer film having a thickness of 3.95 μm ( Min) is higher than the dielectric breakdown voltage (Min) of a single-layer film having a thickness of 5 μm. Therefore, it is easily derived that the withstand voltage of the slidable modified PEI two-layer laminated film having a thickness of 3.95 μm × 2 sufficiently exceeds 2000V.

このように、要求絶縁耐圧が2000V以下であれば、厚み1〜5μmの摺動性改質PEI単層フィルムを2層積層した2層積層フィルムを適用することで顕著な厚み低減が達成される。また、要求絶縁耐圧が2000Vを超えても厚み1〜5μmの摺動性改質PEI単層フィルムを3層以上積層した複数層積層フィルムを適用することで顕著な厚み低減が達成される。   Thus, when the required withstand voltage is 2000 V or less, a remarkable thickness reduction is achieved by applying a two-layer laminated film obtained by laminating two layers of a slidability modified PEI single-layer film having a thickness of 1 to 5 μm. . Even if the required withstand voltage exceeds 2000 V, a significant thickness reduction is achieved by applying a multi-layer laminated film in which three or more slidable modified PEI single-layer films having a thickness of 1 to 5 μm are laminated.

積層フィルムを構成する各単層フィルムの樹脂組成物及び厚みは同一のものを用いたほうが、設計上、製造上好適である。   Use of the same resin composition and thickness for each single-layer film constituting the laminated film is preferable in terms of design and production.

以上、実施形態を用いて本発明を説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されないことは言うまでもない。上記実施形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが、当業者には明らかである。また、その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, it cannot be overemphasized that the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above embodiment. Further, it is apparent from the description of the scope of claims that embodiments with such changes or improvements can also be included in the technical scope of the present invention.

1 押出機
1a 押出スクリュー
1b シリンダー
1c 材料投入口
2 材料投入ホッパー
3 ガス供給用パイプ
4 接続管
5 フィルター
6 ギヤポンプ
7 Tダイス
7a リップ部
8 フィルム
9 圧着ロール
10a 標準表面冷却ロール
10b 粗表面冷却ロール
11 引取機
12、13 搬送ロール対
14 厚み測定器
15 巻取機
15a、15b、15c 案内ロール
16 巻取管
17 送り出し機
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Extruder 1a Extrusion screw 1b Cylinder 1c Material input port 2 Material input hopper 3 Gas supply pipe 4 Connection pipe 5 Filter 6 Gear pump 7 T die 7a Lip part 8 Film 9 Crimp roll 10a Standard surface cooling roll 10b Rough surface cooling roll 11 Take-up machine 12, 13 Conveying roll pair 14 Thickness measuring device 15 Winding machine 15a, 15b, 15c Guide roll 16 Winding tube 17 Feeder

Claims (6)

フィルムキャパシタ用フィルムであって、
熱可塑性樹脂組成物を含む複数のフィルムを積層して形成されたフィルム積層体を備え、
単層の前記フィルムが1〜5μmの範囲の厚みを有し、
前記フィルム積層体が、所望の絶縁破壊電圧単層の前記フィルムが有する絶縁破壊強さのうち最小値で除すことによって規定される全厚みを有することを特徴とするフィルムキャパシタ用フィルム。
A film for a film capacitor,
A film laminate formed by laminating a plurality of films containing a thermoplastic resin composition,
The single-layer film has a thickness in the range of 1-5 μm;
A film for a film capacitor, wherein the film laminate has a total thickness defined by dividing a desired dielectric breakdown voltage by a minimum value among dielectric breakdown strengths of the single-layer film.
前記フィルム積層体が2枚の単層の前記フィルムを積層して形成されることを特徴とする請求項に記載のフィルムキャパシタ用フィルム。 The film for a film capacitor according to claim 1 , wherein the film laminate is formed by laminating two single-layer films. 前記熱可塑性樹脂組成物が結晶性樹脂組成物を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のフィルムキャパシタ用フィルム。 Film for film capacitors according to claim 1 or 2 wherein the thermoplastic resin composition is characterized in that it comprises a crystalline resin composition. 前記熱可塑性樹脂組成物が非結晶性樹脂組成物を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のフィルムキャパシタ用フィルム。 Film for film capacitors according to claim 1 or 2, characterized in that the thermoplastic resin composition comprises a non-crystalline resin composition. 前記非結晶性樹脂組成物がポリエーテルイミド樹脂組成物であることを特徴とする請求項に記載のフィルムキャパシタ用フィルム。 The film for a film capacitor according to claim 4 , wherein the amorphous resin composition is a polyetherimide resin composition. 前記ポリエーテルイミド樹脂組成物が摺動性改質ポリエーテルイミド樹脂組成物であることを特徴とする請求項に記載のフィルムキャパシタ用フィルム。 6. The film for a film capacitor according to claim 5 , wherein the polyetherimide resin composition is a slidable modified polyetherimide resin composition.
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