JP5672911B2 - Suspension substrate, suspension substrate with outer frame, method for manufacturing suspension substrate, method for manufacturing suspension substrate with outer frame, suspension, suspension with element, and hard disk drive - Google Patents

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Description

本発明は、静電気による素子への悪影響を防止できるサスペンション用基板に関する。   The present invention relates to a suspension substrate capable of preventing adverse effects on elements due to static electricity.

HDD(ハードディスクドライブ)に用いられる回路基板として、磁気ヘッドスライダ等の素子を実装するサスペンション用基板が知られている。サスペンション用基板は、通常、金属支持基板(例えばSUS)、絶縁層(例えばポリイミド樹脂)、配線(例えばCu)がこの順に積層された基本構造を有し、通常は、一方の先端に素子を実装する素子実装領域を備え、他方の先端に、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域を備える。   2. Description of the Related Art A suspension board on which elements such as a magnetic head slider are mounted is known as a circuit board used for an HDD (Hard Disk Drive). The suspension substrate usually has a basic structure in which a metal support substrate (for example, SUS), an insulating layer (for example, polyimide resin), and a wiring (for example, Cu) are laminated in this order, and the element is usually mounted on one end. And an external circuit board connection area having a connection terminal for connection to the external circuit board at the other end.

サスペンション用基板の接続端子の表面には、外部回路基板の接続端子との間で、金−金接合(超音波接合、USB)を行うため、金めっきを設けることが知られている。このようなめっき部を形成するために、通常、サスペンション用基板の作製時にめっき線を利用する必要がある。ここで、図23(a)は、製造段階のサスペンション用基板を例示する概略平面図であり、多面付けされたサスペンション用基板110は、外枠部120から切り離される前の状態にある。また、図23(b)は、図23(a)の領域Sの拡大図であり、めっき線101は外枠部120の導体層(例えばCu)と接続されている。めっき線101を用いて接続端子にめっき部を形成した後に、図23(b)におけるCut Lineに沿って、サスペンション用基板110を外枠部120から切り離し、個片のサスペンション用基板110を得る。   It is known that gold plating is provided on the surface of the connection terminal of the suspension substrate in order to perform gold-gold bonding (ultrasonic bonding, USB) with the connection terminal of the external circuit board. In order to form such a plated portion, it is usually necessary to use a plated wire when manufacturing a suspension substrate. Here, FIG. 23A is a schematic plan view illustrating the suspension substrate in the manufacturing stage, and the multi-sided suspension substrate 110 is in a state before being separated from the outer frame portion 120. FIG. 23B is an enlarged view of the region S in FIG. 23A, and the plating wire 101 is connected to a conductor layer (for example, Cu) of the outer frame portion 120. After the plating portion is formed on the connection terminal using the plating wire 101, the suspension substrate 110 is separated from the outer frame portion 120 along the Cut Line in FIG. 23B to obtain a piece of the suspension substrate 110.

一方、サスペンション用基板の素子は、静電気による悪影響を受けやすいことが知られており、最悪の場合、静電気により素子が破壊される場合がある。そのため、静電気による素子への悪影響を防止する技術が知られている。例えば、特許文献1においては、サスペンション基板と、制御回路基板とを中継するためのフレキシブル配線板であって、各配線を短絡する短絡部を形成するための、短絡形成部が形成されているフレキシブルプリント基板が開示されている。この技術は、サスペンション用基板ではなく、中継基板に関するものであるが、振動等による摩擦によって発生する静電気が配線間に蓄積され、その蓄積された静電気が、磁気ヘッド等の素子に悪影響を与えることを防止することを目的としたものである。また、特許文献2においては、化学エッチングにより、めっき線を除去する方法が開示されている。   On the other hand, it is known that the elements of the suspension substrate are easily affected by static electricity. In the worst case, the elements may be destroyed by static electricity. Therefore, a technique for preventing an adverse effect on elements due to static electricity is known. For example, in patent document 1, it is a flexible wiring board for relaying a suspension board and a control circuit board, Comprising: The flexible short circuit formation part for forming the short circuit part which short-circuits each wiring is formed A printed circuit board is disclosed. This technology is related to relay boards, not suspension boards. However, static electricity generated by friction due to vibrations, etc. is accumulated between wirings, and the accumulated static electricity adversely affects elements such as magnetic heads. This is intended to prevent the above. Patent Document 2 discloses a method for removing a plating wire by chemical etching.

特許第3091185号Japanese Patent No. 3091185 特開2009−272549号公報JP 2009-272549 A

上述した図23(b)に示すように、サスペンション用基板110は、めっき線101を用いて接続端子にめっき部を形成した後に、Cut Lineに沿って外枠部120から切り離されるが、その切断面は、めっき線101が露出した状態となる。そのため、サスペンション用基板に素子を実装すると、上記の切断面から素子までが電気的に接続された状態となる。このような場合に、上記の切断面に、例えば静電気を帯びた治具が接触すると、静電気による影響が、めっき線および配線を通じて素子まで到達してしまう。その結果、最悪の場合、静電気により素子が破壊される場合がある。   As shown in FIG. 23B described above, the suspension substrate 110 is separated from the outer frame portion 120 along the Cut Line after the plating portion is formed on the connection terminal using the plating wire 101. The surface is in a state where the plated wire 101 is exposed. Therefore, when an element is mounted on the suspension substrate, the above cut surface to the element are electrically connected. In such a case, for example, when an electrostatic jig comes into contact with the cut surface, the influence of static electricity reaches the element through the plated wire and the wiring. As a result, in the worst case, the element may be destroyed by static electricity.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、静電気による素子への悪影響を防止できるサスペンション用基板を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and a main object of the present invention is to provide a suspension substrate that can prevent an adverse effect on elements due to static electricity.

上記課題を解決するために、本発明においては、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、上記素子実装領域および上記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、上記テール部の端部を一端とし、上記接続端子と電気的に接続するためのめっき線と、を有するサスペンション用基板であって、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線と、上記めっき線を覆うカバー層とを有し、上記めっき線は、開口部で断線しており、上記開口部における上記カバー層の端部、および上記開口部における上記絶縁層の端部が、上記断線しためっき線の端部よりも突出していることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   In order to solve the above-described problem, in the present invention, an external circuit formed on the head portion side and having an element mounting area for mounting elements and a connection terminal formed on the tail portion side and connected to an external circuit board. A substrate connection region, a wiring for electrically connecting the element mounting region and the external circuit board connection region, and a plating wire for electrically connecting to the connection terminal with one end of the tail portion as one end A suspension support board, comprising: a metal support board; an insulating layer formed on the metal support board; the wiring formed on the insulating layer; and a connection terminal constituting the connection terminal It has a wiring part, the said plated wire, and the cover layer which covers the said plated wire, The said plated wire is disconnected at the opening part, The edge part of the said cover layer in the said opening part, and the said opening part Serial end portion of the insulating layer, to provide a substrate for suspension, characterized in that protrudes from an end portion of the plated wire described above disconnected.

本発明によれば、めっき線を開口部において断線させることにより、静電気による素子への悪影響を防止することができる。また、めっき線の露出面(切断面)が、張り出したカバー層および絶縁層により保護されることにより、静電気による素子への悪影響を防止することができる。さらに、カバー層および絶縁層が張り出すことにより、めっき線の腐食を効果的に抑制できる。   According to the present invention, it is possible to prevent an adverse effect on the element due to static electricity by disconnecting the plated wire at the opening. Further, since the exposed surface (cut surface) of the plated wire is protected by the overhanging cover layer and insulating layer, it is possible to prevent an adverse effect on the element due to static electricity. Further, the corrosion of the plated wire can be effectively suppressed by the overhang of the cover layer and the insulating layer.

また、本発明においては、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、上記素子実装領域および上記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、上記接続端子と電気的に接続するためのめっき線と、を有するサスペンション用基板であって、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線と、上記めっき線を覆うカバー層とを有し、上記テール部の上記めっき線の端部における上記カバー層の端部および上記絶縁層の端部が、上記めっき線の端部よりも突出していることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   In the present invention, an element mounting region formed on the head portion side for mounting an element, an external circuit board connection region formed on the tail portion side and having a connection terminal for connection to an external circuit substrate, A suspension substrate having wiring for electrically connecting between an element mounting region and the external circuit board connection region, and a plating wire for electrical connection with the connection terminal, a metal support substrate, An insulating layer formed on the metal support substrate, the wiring formed on the insulating layer, a wiring portion for connecting terminals constituting the connecting terminal, the plated wire, and a cover layer covering the plated wire And the end of the cover layer and the end of the insulating layer at the end of the plating wire of the tail portion protrude from the end of the plating wire. Providing a substrate.

本発明によれば、めっき線の露出面(切断面)が、張り出したカバー層および絶縁層により保護されることにより、静電気による素子への悪影響を防止することができる。さらに、カバー層および絶縁層が張り出すことにより、めっき線の腐食を効果的に抑制できる。   According to the present invention, the exposed surface (cut surface) of the plated wire is protected by the overhanging cover layer and insulating layer, thereby preventing adverse effects on the element due to static electricity. Further, the corrosion of the plated wire can be effectively suppressed by the overhang of the cover layer and the insulating layer.

上記発明において、上記サスペンション用基板は、上記接続端子と上記テール部の端部との間に、上記素子を実装した後における上記素子の性能を確認するためのテスト用端子を有することが好ましい。テスト用端子を設けることで、製品の良否判定が可能となるからである。なお、製品の良否テストは、外部回路基板接続用端子で行われても良い。   In the above invention, the suspension board preferably has a test terminal for confirming the performance of the element after the element is mounted between the connection terminal and the end of the tail portion. This is because the quality of the product can be determined by providing the test terminal. The product quality test may be performed at an external circuit board connection terminal.

上記発明においては、二以上の上記テスト用端子が共有用配線部によって共有され、上記共有用配線部が、短絡防止用開口部で断線していることが好ましい。共有用配線部を設けることにより、めっき線の数を減らすことができ、その結果、上記開口部を小さくすることができるからである。   In the above invention, it is preferable that two or more test terminals are shared by the shared wiring portion, and the shared wiring portion is disconnected at the opening for short-circuit prevention. This is because the number of plating wires can be reduced by providing the shared wiring portion, and as a result, the opening can be made smaller.

上記発明において、上記絶縁層の端部が、上記カバー層の端部よりも突出していることが好ましい。上記絶縁層の開口部を形成する際に、カバー層の劣化や剥離が生じることを防止できるからである。   In the said invention, it is preferable that the edge part of the said insulating layer protrudes rather than the edge part of the said cover layer. This is because when the opening of the insulating layer is formed, the cover layer can be prevented from being deteriorated or peeled off.

また、本発明においては、サスペンション用基板と、上記サスペンション用基板のテール部側で一体化した外枠部とを有する外枠付サスペンション用基板であって、上記サスペンション用基板は、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、上記テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、上記素子実装領域および上記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、上記外枠部および上記接続端子を電気的に接続するためのめっき線とを有し、さらに、上記サスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線と、上記めっき線を覆うカバー層と有し、上記めっき線は、開口部で断線しており、上記開口部における上記カバー層の端部、および上記開口部における上記絶縁層の端部が、上記断線しためっき線の端部よりも突出していることを特徴とする外枠付サスペンション用基板を提供する。   According to the present invention, there is provided a suspension substrate with an outer frame having a suspension substrate and an outer frame portion integrated on the tail portion side of the suspension substrate, wherein the suspension substrate is disposed on the head portion side. An element mounting area for mounting an element, an external circuit board connection area formed on the tail side and having a connection terminal for connection to an external circuit board, the element mounting area, and the external circuit board connection area A wiring for electrically connecting between the outer frame portion and a plating wire for electrically connecting the connection terminal, and the suspension substrate includes a metal support substrate and the metal support An insulating layer formed on the substrate, the wiring formed on the insulating layer, a wiring portion for connecting terminal constituting the connecting terminal, the plated wire, and the plating And the plating wire is disconnected at the opening, and the end of the cover layer in the opening and the end of the insulating layer in the opening are disconnected. A suspension substrate with an outer frame is provided that protrudes beyond the end of the outer frame.

本発明によれば、開口部において、めっき線の露出面(切断面)が、張り出したカバー層および絶縁層により保護されることにより、静電気による素子への悪影響を防止することができる。さらに、カバー層および絶縁層が張り出すことにより、めっき線の腐食を効果的に抑制できる。   According to the present invention, the exposed surface (cut surface) of the plated wire is protected in the opening by the overhanging cover layer and insulating layer, thereby preventing adverse effects on the element due to static electricity. Further, the corrosion of the plated wire can be effectively suppressed by the overhang of the cover layer and the insulating layer.

上記発明においては、上記開口部よりも上記外枠部側で、上記外枠付サスペンション用基板から上記サスペンション用基板が切り離されることが好ましい。   In the above invention, it is preferable that the suspension substrate is separated from the suspension substrate with an outer frame on the outer frame side of the opening.

上記発明においては、上記開口部で、上記外枠付サスペンション用基板から上記サスペンション用基板が切り離されることが好ましい。   In the above invention, the suspension substrate is preferably separated from the suspension substrate with an outer frame at the opening.

また、本発明においては、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、上記素子実装領域および上記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、上記テール部の端部を一端とし、上記接続端子と電気的に接続するためのめっき線と、を有するサスペンション用基板の製造方法であって、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された導体層とを有する積層部材を用意し、エッチングにより、上記導体層から、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線を形成し、かつ、開口部を形成する位置にある上記金属支持基板を除去する第一金属エッチング工程と、上記開口部を形成する位置にある上記めっき線を覆わないようにして、上記めっき線上にカバー層を形成するカバー層形成工程と、上記カバー層形成工程の後に、エッチングにより、上記開口部を形成する位置にある上記絶縁層を除去する絶縁層エッチング工程と、上記絶縁層エッチング工程の後に、上記開口部を形成する位置にある上記めっき線をめっきから保護する保護層を形成し、上記保護層が形成されていない上記接続端子用配線部の表面上に、めっき部を形成するめっき部形成工程と、上記めっき部形成工程の後に、上記保護層を剥離する保護層剥離工程と、上記保護層剥離工程の後に、エッチングにより、上記開口部を形成する位置にある上記めっき線を除去し、上記開口部を形成する第二金属エッチング工程と、を有し、上記第二金属エッチング工程において、上記開口部における上記カバー層の端部、および上記開口部における上記絶縁層の端部が、上記開口部における上記めっき線の端部よりも突出するように、上記めっき線をエッチングすることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。   In the present invention, an element mounting region formed on the head portion side for mounting an element, an external circuit board connection region formed on the tail portion side and having a connection terminal for connection to an external circuit substrate, For a suspension having wiring that electrically connects between an element mounting region and the external circuit board connection region, and a plating wire that is electrically connected to the connection terminal with one end of the tail portion as one end A method for manufacturing a substrate, comprising: preparing a laminated member having a metal supporting substrate, an insulating layer formed on the metal supporting substrate, and a conductor layer formed on the insulating layer; A first metal etchant that forms the wiring, the connection terminal wiring portion that constitutes the connection terminal, and the plating wire from the layer, and removes the metal support substrate at the position where the opening is to be formed A cover layer forming step of forming a cover layer on the plating wire so as not to cover the plating wire at a position where the opening is to be formed, and etching after the cover layer forming step. An insulating layer etching step for removing the insulating layer at a position for forming a portion, and after the insulating layer etching step, forming a protective layer for protecting the plated wire at a position for forming the opening from plating, On the surface of the connection terminal wiring part on which the protective layer is not formed, a plating part forming process for forming a plating part, and a protective layer peeling process for peeling the protective layer after the plating part forming process, After the protective layer peeling step, a second metal etching step for removing the plating wire at the position where the opening is to be formed by etching and forming the opening, and In the second metal etching step, an end portion of the cover layer in the opening portion and an end portion of the insulating layer in the opening portion protrude from an end portion of the plating wire in the opening portion. A method of manufacturing a suspension substrate is provided, wherein the plating wire is etched.

本発明によれば、めっき線を開口部において断線させることにより、静電気による素子への悪影響を防止したサスペンション用基板を得ることができる。特に、めっき部を形成する際に、開口部を形成する位置にあるめっき線をめっきから保護する保護層を形成することで、めっき線の除去が容易になるという利点を有する。さらに、開口部におけるカバー層の端部、および開口部における絶縁層の端部が、断線しためっき線の端部よりも突出するように、めっき線をエッチングすることにより、静電気による素子への悪影響を防止したサスペンション用基板を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a suspension substrate in which an adverse effect on elements due to static electricity is prevented by disconnecting a plated wire at an opening. In particular, when forming the plating portion, by forming a protective layer that protects the plating wire at the position where the opening is to be formed from plating, there is an advantage that the removal of the plating wire is facilitated. In addition, by etching the plating wire so that the edge of the cover layer in the opening and the edge of the insulating layer in the opening protrude beyond the edge of the broken plating wire, adverse effects on the element due to static electricity It is possible to obtain a suspension substrate that prevents the above.

また、本発明においては、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、上記素子実装領域および上記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、上記接続端子と電気的に接続するためのめっき線と、を有するサスペンション用基板の製造方法であって、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された導体層とを有する積層部材を用意し、エッチングにより、上記導体層から、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線を形成し、かつ、上記テール部を形成する位置にある上記金属支持基板を除去する第一金属エッチング工程と、上記テール部を形成する位置にある上記めっき線を覆わないようにして、上記めっき線上にカバー層を形成するカバー層形成工程と、上記カバー層形成工程の後に、エッチングにより、上記テール部を形成する位置にある上記絶縁層を除去する絶縁層エッチング工程と、上記絶縁層エッチング工程の後に、上記テール部を形成する位置にある上記めっき線をめっきから保護する保護層を形成し、上記保護層が形成されていない上記接続端子用配線部の表面上に、めっき部を形成するめっき部形成工程と、上記めっき部形成工程の後に、上記保護層を剥離する保護層剥離工程と、上記保護層剥離工程の後に、エッチングにより、上記テール部を形成する位置にある上記めっき線を除去し、上記開口部を形成する第二金属エッチング工程と、を有し、上記第二金属エッチング工程において、上記テール部の上記めっき線の端部における上記カバー層の端部および上記絶縁層の端部が、上記めっき線の端部よりも突出するように、上記めっき線をエッチングすることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。   In the present invention, an element mounting region formed on the head portion side for mounting an element, an external circuit board connection region formed on the tail portion side and having a connection terminal for connection to an external circuit substrate, A method for manufacturing a suspension substrate, comprising: a wiring for electrically connecting between an element mounting region and the external circuit board connection region; and a plating wire for electrical connection with the connection terminal. A laminated member having a substrate, an insulating layer formed on the metal supporting substrate, and a conductor layer formed on the insulating layer is prepared, and the wiring and the connection terminals are connected from the conductor layer by etching. A first metal etching step for forming the connecting terminal wiring portion and the plated wire, and removing the metal support substrate at a position where the tail portion is formed, and the tail portion. A cover layer forming step for forming a cover layer on the plated wire so as not to cover the plated wire at a position to be formed, and a position for forming the tail portion by etching after the cover layer forming step. After the insulating layer etching step for removing the insulating layer, and after the insulating layer etching step, a protective layer for protecting the plated wire at the position where the tail portion is formed from plating is formed, and the protective layer is formed. After the plating part forming step for forming the plating part on the surface of the wiring part for the connecting terminal not present, the protective layer peeling step for peeling the protective layer after the plating part forming step, and after the protective layer peeling step A second metal etching step of removing the plated wire at a position where the tail portion is formed by etching and forming the opening, and the second metal In the etching step, the plating wire is etched so that the end of the cover layer and the end of the insulating layer at the end of the plating wire of the tail portion protrude from the end of the plating wire. A method for manufacturing a suspension substrate is provided.

本発明によれば、テール部のめっき線の端部におけるカバー層の端部および絶縁層の端部が、めっき線の端部よりも突出するように、めっき線をエッチングすることにより、静電気による素子への悪影響を防止したサスペンション用基板を得ることができる。   According to the present invention, by etching the plating wire so that the end portion of the cover layer and the end portion of the insulating layer at the end portion of the plating wire of the tail portion protrude from the end portion of the plating wire, A suspension substrate that prevents adverse effects on the element can be obtained.

上記発明においては、上記保護層を、ドライフィルムレジストを用いて形成することが好ましい。任意の場所に開口部を設けることができるからである。   In the said invention, it is preferable to form the said protective layer using a dry film resist. This is because the opening can be provided at an arbitrary place.

上記発明においては、上記保護層を、上記積層部材の外枠部をめっきから保護するマスクを用いて形成することが好ましい。ドライフィルムレジストを用いた保護層と比べて、工程数が増加しないという利点を有するからである。   In the said invention, it is preferable to form the said protective layer using the mask which protects the outer frame part of the said laminated member from plating. This is because there is an advantage that the number of steps does not increase as compared with a protective layer using a dry film resist.

上記発明においては、上記絶縁層エッチング工程において、上記開口部を形成する位置にある上記絶縁層の端部が、上記開口部を形成する位置にある上記カバー層の端部よりも突出するように、上記絶縁層をエッチングすることが好ましい。上記絶縁層の開口部を形成する際に、カバー層の劣化や剥離が生じることを防止できるからである。   In the above invention, in the insulating layer etching step, an end of the insulating layer at a position where the opening is formed protrudes from an end of the cover layer at a position where the opening is formed. The insulating layer is preferably etched. This is because when the opening of the insulating layer is formed, the cover layer can be prevented from being deteriorated or peeled off.

また、本発明においては、サスペンション用基板と、上記サスペンション用基板のテール部側で一体化した外枠部とを有する外枠付サスペンション用基板の製造方法であって、上記サスペンション用基板は、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、上記テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、上記素子実装領域および上記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、上記外枠部および上記接続端子を電気的に接続するためのめっき線と、を有し、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された導体層とを有する積層部材を用意し、エッチングにより、上記導体層から、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線を形成し、かつ、開口部を形成する位置にある上記金属支持基板を除去する第一金属エッチング工程と、上記開口部を形成する位置にある上記めっき線を覆わないようにして、上記めっき線上にカバー層を形成するカバー層形成工程と、上記カバー層形成工程の後に、エッチングにより、上記開口部を形成する位置にある上記絶縁層を除去する絶縁層エッチング工程と、上記絶縁層エッチング工程の後に、上記開口部を形成する位置にある上記めっき線をめっきから保護する保護層を形成し、上記保護層が形成されていない上記接続端子用配線部の表面上に、めっき部を形成するめっき部形成工程と、上記めっき部形成工程の後に、上記保護層を剥離する保護層剥離工程と、上記保護層剥離工程の後に、エッチングにより、上記開口部を形成する位置にある上記めっき線を除去し、上記開口部を形成する第二金属エッチング工程と、を有し、上記第二金属エッチング工程において、上記開口部における上記カバー層の端部、および上記開口部における上記絶縁層の端部が、上記開口部における上記めっき線の端部よりも突出するように、上記めっき線をエッチングすることを特徴とする外枠付サスペンション用基板の製造方法を提供する。   Further, in the present invention, there is provided a method of manufacturing a suspension substrate with an outer frame having a suspension substrate and an outer frame portion integrated on the tail portion side of the suspension substrate, wherein the suspension substrate is a head An element mounting area for mounting an element, an external circuit board connection area formed on the tail side and having a connection terminal for connection to an external circuit board, the element mounting area, and the external circuit A wiring for electrically connecting between the substrate connection regions, and a plating wire for electrically connecting the outer frame portion and the connection terminal, and formed on the metal support substrate and the metal support substrate A laminated member having an insulating layer formed on the insulating layer and a conductor layer formed on the insulating layer, and a connecting terminal constituting the wiring and the connecting terminal from the conductor layer by etching. A first metal etching step for forming the wiring portion and the plated wire and removing the metal support substrate at a position where the opening is to be formed; and not covering the plated wire at the position where the opening is to be formed Thus, a cover layer forming step for forming a cover layer on the plated wire, and an insulating layer etching step for removing the insulating layer at a position where the opening is formed by etching after the cover layer forming step, After the insulating layer etching step, a protective layer for protecting the plated wire at the position where the opening is to be formed is formed from plating, and on the surface of the connection terminal wiring portion where the protective layer is not formed. Etching after the plating layer forming step for forming the plating portion, the protective layer peeling step for peeling the protective layer after the plating portion forming step, and the protective layer peeling step. Removing the plating wire at the position where the opening is to be formed and forming the opening, and in the second metal etching step, the cover in the opening A suspension with an outer frame, wherein the plating wire is etched so that an end portion of the layer and an end portion of the insulating layer in the opening portion protrude from an end portion of the plating wire in the opening portion. Provided is a method for manufacturing an industrial substrate.

本発明によれば、開口部におけるカバー層の端部、および開口部における絶縁層の端部が、断線しためっき線の端部よりも突出するように、めっき線をエッチングすることにより、静電気による素子への悪影響を防止した外枠付サスペンション用基板を得ることができる。   According to the present invention, by etching the plating wire so that the end portion of the cover layer in the opening portion and the end portion of the insulating layer in the opening portion protrude from the end portion of the broken plating wire, A suspension substrate with an outer frame that prevents adverse effects on the element can be obtained.

また、本発明においては、上述したサスペンション用基板を含むことを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention also provides a suspension including the above-described suspension substrate.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、静電気による素子への悪影響を防止したサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension substrate, it is possible to provide a suspension in which adverse effects on elements due to static electricity are prevented.

また、本発明においては、上述したサスペンションと、上記サスペンションの上記素子実装領域に実装された素子と、を有することを特徴とする素子付サスペンションを提供する。   The present invention also provides an element-equipped suspension comprising the above-described suspension and an element mounted on the element mounting region of the suspension.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、静電気による素子への悪影響を防止した素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension described above, it is possible to provide a suspension with an element that prevents adverse effects on the element due to static electricity.

また、本発明においては、上述した素子付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention also provides a hard disk drive including the above-described suspension with an element.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with higher functionality can be obtained by using the above-described suspension with an element.

本発明においては、静電気による素子への悪影響を防止できるという効果を奏する。   In this invention, there exists an effect that the bad influence to the element by static electricity can be prevented.

本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the board | substrate for suspensions of this invention. 図1のテール部Tの周辺を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the periphery of the tail part T of FIG. 図2のA−A断面図およびB−B断面図である。It is AA sectional drawing and BB sectional drawing of FIG. 本発明のサスペンション用基板のテール部を例示する模式図である。It is a schematic diagram which illustrates the tail part of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明における開口部を例示する模式図である。It is a schematic diagram which illustrates the opening part in this invention. 本発明のサスペンション用基板のテール部を例示する概略平面図である。It is a schematic plan view which illustrates the tail part of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板を説明する概略平面図である。It is a schematic plan view explaining the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明におけるテール部を例示する模式図である。It is a schematic diagram which illustrates the tail part in this invention. 本発明の外枠付サスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the board | substrate for suspension with an outer frame of this invention. 本発明により得られるサスペンション用基板のテール部の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the tail part of the board | substrate for suspension obtained by this invention. 本発明のサスペンション用基板の製造方法を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の製造方法を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の製造方法を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の製造方法を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention. 製造段階のサスペンション用基板を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the board | substrate for suspensions of a manufacture stage. 本発明における開口部を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the opening part in this invention. 本発明における開口部を例示する模式図である。It is a schematic diagram which illustrates the opening part in this invention. 本発明における開口部を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the opening part in this invention. 本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension of this invention. 本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension with an element of this invention. 本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the hard disk drive of this invention. 製造段階のサスペンション用基板を例示する概略平面図である。It is a schematic plan view which illustrates the board | substrate for suspensions of a manufacture stage.

以下、本発明のサスペンション用基板、外枠付サスペンション用基板、サスペンション用基板の製造方法、外枠付サスペンション用基板の製造方法、素子付サスペンションおよびハードディスクドライブについて詳細に説明する。   Hereinafter, a suspension substrate, a suspension substrate with an outer frame, a method for manufacturing a suspension substrate, a method for manufacturing a suspension substrate with an outer frame, a suspension with an element, and a hard disk drive according to the present invention will be described in detail.

A.サスペンション用基板
本発明のサスペンション用基板は、2つの実施態様に大別することができる。本発明のサスペンション用基板について、第一実施態様および第二実施態様に分けて説明する。
A. Suspension substrate The suspension substrate of the present invention can be roughly divided into two embodiments. The suspension substrate of the present invention will be described by dividing it into a first embodiment and a second embodiment.

1.第一実施態様
まず、第一実施態様のサスペンション用基板について説明する。第一実施態様のサスペンション用基板は、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、上記素子実装領域および上記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、上記テール部の端部を一端とし、上記接続端子と電気的に接続するためのめっき線と、を有するサスペンション用基板であって、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線とを有し、上記めっき線は、開口部で断線していることを特徴とするものである。
1. First Embodiment First, the suspension substrate of the first embodiment will be described. The suspension substrate according to the first embodiment is formed on the head portion side, and an external circuit board connection region formed on the tail portion side and having a connection terminal formed on the tail portion side and connected to the external circuit board. Wiring for electrically connecting the element mounting region and the external circuit board connection region, and a plating wire for electrically connecting to the connection terminal, with the end of the tail portion as one end. A suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, the wiring formed on the insulating layer, and a connection terminal wiring portion constituting the connection terminal, And the plating wire, wherein the plating wire is disconnected at the opening.

図1は、第一実施態様のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。なお、便宜上、絶縁層およびカバー層の記載は省略しており、これは、後述する図2、図4(a)、図6、図7(a)、図11においても同様である。図1に示されるサスペンション用基板20は、ヘッド部H側に形成され、素子を実装する素子実装領域Xと、テール部T側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子12を有する外部回路基板接続領域Yと、素子実装領域Xおよび外部回路基板接続領域Yの間を電気的に接続する配線13(13a〜13d)と、テール部Tの端部を一端とし、接続端子12と電気的に接続するためのめっき線14と、を有するものである。なお、配線13aおよび13b、並びに、配線13cおよび13dはそれぞれ配線対を形成し、一方が記録用であり、他方が再生用である。第一実施態様のサスペンション用基板は、めっき線14が開口部16で断線していることを大きな特徴とする。また、図1においては、接続端子12とテール部Tの端部との間に、素子を実装した後における素子の性能を確認するためのテスト用端子15を有するテスト用端子領域Zが形成されている。   FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of a suspension substrate according to the first embodiment. For the sake of convenience, the description of the insulating layer and the cover layer is omitted, and this also applies to FIG. 2, FIG. 4 (a), FIG. 6, FIG. A suspension substrate 20 shown in FIG. 1 is formed on the head portion H side, and has an element mounting region X for mounting elements, and a connection terminal 12 formed on the tail portion T side for connecting to an external circuit board. The external circuit board connection area Y, the wiring 13 (13a to 13d) for electrically connecting the element mounting area X and the external circuit board connection area Y, the end of the tail portion T as one end, And a plated wire 14 for electrical connection. The wirings 13a and 13b and the wirings 13c and 13d form a wiring pair, one for recording and the other for reproduction. The suspension substrate of the first embodiment is characterized in that the plating wire 14 is disconnected at the opening 16. Further, in FIG. 1, a test terminal region Z having a test terminal 15 for confirming the performance of the element after the element is mounted is formed between the connection terminal 12 and the end of the tail part T. ing.

図2は、図1のテール部Tの周辺を示す拡大図である。図2においては、ヘッド部(図示せず)側から、配線13(13a〜13d)、接続端子12(12a〜12d)、テスト用端子15(15a〜15d)およびめっき線14(14a〜14d)がこの順に配置されており、めっき線14a〜14dは、テール部Tの端部の手前で、開口部16で断線している。なお、テスト用端子15は、素子実装後における素子の性能を確認した後は不要になるため、通常は、図1における外部回路基板接続領域Yおよびテスト用端子領域Zの間で切断し(図2におけるCut Lineに沿って切断し)、テスト用端子を除去する。   FIG. 2 is an enlarged view showing the periphery of the tail portion T of FIG. In FIG. 2, from the head part (not shown) side, wiring 13 (13a-13d), connection terminal 12 (12a-12d), test terminal 15 (15a-15d), and plating wire 14 (14a-14d) Are arranged in this order, and the plating wires 14a to 14d are disconnected at the opening 16 before the end of the tail portion T. Since the test terminal 15 is not required after the performance of the element after the element mounting is confirmed, the test terminal 15 is usually cut between the external circuit board connection region Y and the test terminal region Z in FIG. 2) and the test terminal is removed.

また、図3(a)は図2のA−A断面図であり、図3(b)は図2のB−B断面図である。図3(a)、(b)に示されるサスペンション用基板は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された、配線13a、接続端子12aを構成する接続端子用配線部3a、テスト用端子15aを構成するテスト用端子の配線部3a´、およびめっき線14aとを有する。さらに、図3(a)、(b)に示されるサスペンション用基板は、配線13aおよびめっき線14aを覆うカバー層4を有し、接続端子用配線部3aと、テスト用端子の配線部3a´との表面に、それぞれめっき部17、18を有する。なお、接続端子用配線部3aは、例えば、接続端子用配線部3aの両面が露出したフライングリード状であることが好ましく、テスト用端子の配線部3a´は、例えば、テスト用端子の配線部3a´の両面が露出したフライングリード状であっても良く、テスト用端子の配線部3a´のカバー層4側の表面のみが露出したパット状であっても良い。   3A is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. The suspension substrate shown in FIGS. 3A and 3B includes a metal support substrate 1, an insulating layer 2 formed on the metal support substrate 1, a wiring 13a formed on the insulating layer 2, and a connection. It has a connection terminal wiring part 3a constituting the terminal 12a, a test terminal wiring part 3a 'constituting the test terminal 15a, and a plating wire 14a. Further, the suspension substrate shown in FIGS. 3A and 3B has a cover layer 4 covering the wiring 13a and the plating wire 14a, and includes a connection terminal wiring portion 3a and a test terminal wiring portion 3a ′. And plating parts 17 and 18 respectively on the surface. The connection terminal wiring portion 3a is preferably, for example, a flying lead shape in which both surfaces of the connection terminal wiring portion 3a are exposed, and the test terminal wiring portion 3a ′ is, for example, a test terminal wiring portion. It may be a flying lead shape in which both surfaces of 3a ′ are exposed, or may be a pad shape in which only the surface on the cover layer 4 side of the wiring portion 3a ′ of the test terminal is exposed.

また、上述した図1〜図3においては、テスト用端子15(15a〜15d)を有するサスペンション用基板を示したが、第一実施態様のサスペンション用基板は、図4(a)、(b)に示されるように、テスト用端子15を有しないサスペンション用基板であっても良い。なお、図4(b)は図4(a)のA−A断面図であり、図示された符号は図1〜図3における符号と同様である。   1 to 3 described above show the suspension board having the test terminals 15 (15a to 15d), the suspension board of the first embodiment is shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b). As shown in FIG. 4, a suspension board that does not have the test terminals 15 may be used. 4B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 4A, and the reference numerals shown are the same as those in FIGS.

このように、第一実施態様によれば、めっき線を開口部において断線させることにより、静電気による素子への悪影響を防止することができる。上述した図23に示すように、サスペンション用基板を外枠部から切り離すと、その切断面(テール部の端部)はめっき線が露出した状態となる。そのため、素子実装後に、静電気を帯びた治具が上記切断面に接触すると、最悪の場合、静電気により素子が破壊される場合がある。これに対して、第一実施態様のサスペンション用基板は、めっき線を断線していることから、静電気を帯びた治具が上記切断面に接触した場合であっても、静電気による素子への悪影響を防止することができる。なお、本発明者等の知見によると、サスペンション用基板に、静電破壊防止用の開口部を設けなかった場合、静電気による素子の破壊が0.1%〜1.0%程度の割合で発生する。
以下、第一実施態様のサスペンション用基板について、サスペンション用基板の部材と、サスペンション用基板の構成とに分けて説明する。
Thus, according to the first embodiment, it is possible to prevent an adverse effect on the element due to static electricity by disconnecting the plating wire at the opening. As shown in FIG. 23 described above, when the suspension substrate is separated from the outer frame portion, the cut surface (end portion of the tail portion) is in a state where the plating wire is exposed. For this reason, when a statically charged jig comes into contact with the cut surface after mounting the element, in the worst case, the element may be destroyed by static electricity. On the other hand, since the suspension substrate of the first embodiment has the plated wire disconnected, even if a statically charged jig comes into contact with the cut surface, the element is adversely affected by the static electricity. Can be prevented. According to the knowledge of the present inventors, when the suspension substrate is not provided with an opening for preventing electrostatic breakdown, the element is broken by static electricity at a rate of about 0.1% to 1.0%. To do.
Hereinafter, the suspension substrate of the first embodiment will be described separately for the suspension substrate member and the configuration of the suspension substrate.

(1)サスペンション用基板の部材
まず、第一実施態様のサスペンション用基板の部材について説明する。第一実施態様のサスペンション用基板は、少なくとも金属支持基板、絶縁層、配線、接続端子用配線部、めっき線を有するものである。
(1) Suspension Board Member First, the suspension board member of the first embodiment will be described. The suspension substrate according to the first embodiment includes at least a metal support substrate, an insulating layer, wiring, a connection terminal wiring portion, and a plating wire.

第一実施態様における金属支持基板は、通常、サスペンション用基板の支持基板として用いられるものである。金属支持基板の材料は、特に限定されるものではないが、ばね性を有する金属であることが好ましい。金属支持基板の材料としては、例えばSUS等を挙げることができる。また、金属支持基板の厚さは、その材料の種類により異なるものであるが、例えば10μm〜20μmの範囲内である。   The metal support substrate in the first embodiment is usually used as a support substrate for a suspension substrate. The material of the metal support substrate is not particularly limited, but is preferably a metal having a spring property. Examples of the material for the metal support substrate include SUS. Moreover, although the thickness of a metal support substrate changes with kinds of the material, it exists in the range of 10 micrometers-20 micrometers, for example.

第一実施態様における絶縁層は、金属支持基板上に形成される層である。絶縁層の材料としては、例えばポリイミド樹脂(PI)等を挙げることができる。また、絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。また、絶縁層の厚さは、例えば5μm〜10μmの範囲内である。   The insulating layer in the first embodiment is a layer formed on the metal support substrate. Examples of the material for the insulating layer include polyimide resin (PI). In addition, the material of the insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. Moreover, the thickness of an insulating layer exists in the range of 5 micrometers-10 micrometers, for example.

第一実施態様における配線、接続端子用配線部およびめっき線は、絶縁層上に形成されるものである。また、第一実施態様のサスペンション用基板は、テスト用端子の配線部(図3(a)参照)、接続端子とテスト用端子とを電気的に接続する配線部、および後述する共有用配線部をさらに有していても良い。また、これらを導電部と総称した場合、導電部は同一の導体層から形成されたものであることが好ましい。導電部の材料としては、例えば銅(Cu)等を挙げることができる。また、導電部の厚さとしては、例えば5μm〜18μmの範囲内であり、中でも9μm〜12μmの範囲内であることが好ましい。また、第一実施態様においては、通常、接続端子用配線部、およびテスト用端子の配線部の表面に、めっき線を用いてめっき部が形成される。めっき部の一例としては、金めっき部を挙げることができる。また、金めっき部の下地としてニッケルめっき部が形成されていても良い。めっき部の厚さは、例えば0.1μm〜4.0μmの範囲内である。   The wiring in the first embodiment, the connection terminal wiring portion and the plating wire are formed on the insulating layer. The suspension substrate of the first embodiment includes a test terminal wiring part (see FIG. 3A), a wiring part for electrically connecting the connection terminal and the test terminal, and a later-described common wiring part. May be further included. Moreover, when these are named generically as a conductive part, it is preferable that a conductive part is formed from the same conductor layer. Examples of the material for the conductive portion include copper (Cu). In addition, the thickness of the conductive portion is, for example, in the range of 5 μm to 18 μm, and preferably in the range of 9 μm to 12 μm. In the first embodiment, the plating portion is usually formed on the surface of the wiring portion for the connection terminal and the wiring portion of the test terminal using a plating wire. An example of the plating part is a gold plating part. Moreover, the nickel plating part may be formed as a foundation | substrate of a gold plating part. The thickness of the plating portion is, for example, in the range of 0.1 μm to 4.0 μm.

また、第一実施態様のサスペンション用基板は、導体部を覆うカバー層を有していることが好ましい。カバー層の材料としては、例えばポリイミド樹脂(PI)等を挙げることができる。また、カバー層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。カバー層の厚さは、特に限定されるものではないが、絶縁層よりも薄いことが好ましい。カバー層の厚さは、例えば2μm〜30μmの範囲内であり、中でも2μm〜10μmの範囲内であることが好ましい。   The suspension substrate of the first embodiment preferably has a cover layer that covers the conductor. Examples of the material for the cover layer include polyimide resin (PI). The material of the cover layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the cover layer is not particularly limited, but is preferably thinner than the insulating layer. The thickness of the cover layer is, for example, in the range of 2 μm to 30 μm, and preferably in the range of 2 μm to 10 μm.

(2)サスペンション用基板の構成
次に、第一実施態様のサスペンション用基板の構成について説明する。第一実施態様のサスペンション用基板は、めっき線が開口部で断線していることを大きな特徴とする。図5(a)は、第一実施態様における開口部の一例を示す概略平面図であり、図5(b)は図5(a)のA−A断面図である。図5(a)において、断線しためっき線14の距離(開口部16におけるめっき線14の開口サイズ)をLとした場合、Lの値は、20μm以上であることが好ましく、40μm以上であることがより好ましく、50μm以上であることがさらに好ましい。Lの値が小さすぎると、絶縁層およびカバー層を開口できない可能性があるからである。一方、Lの値は、1000μm以下であることが好ましく、500μm以下であることがより好ましく、300μm以下であることがさらに好ましい。Lの値が大きすぎると、静電気を遮断する効果は変わらず、逆に、開口部で露出しためっき線が静電気の影響を受ける可能性があるからである。
(2) Configuration of Suspension Substrate Next, the configuration of the suspension substrate of the first embodiment will be described. The suspension substrate of the first embodiment is characterized in that the plating wire is disconnected at the opening. Fig.5 (a) is a schematic plan view which shows an example of the opening part in a 1st embodiment, FIG.5 (b) is AA sectional drawing of Fig.5 (a). In FIG. 5 (a), if the distance plated wire 14 disconnected (the opening size of the plated wire 14 at the opening 16) and the L 1, the value of L 1 is preferably 20μm or more, in 40μm or more More preferably, it is more preferably 50 μm or more. When the value of L 1 is too small, there is a possibility which can not be opened insulation layer and the cover layer. On the other hand, the value of L 1 is preferably 1000 μm or less, more preferably 500 μm or less, and even more preferably 300 μm or less. When the value of L 1 is too large, the effect of blocking static electricity unchanged, conversely, because plated wire exposed at the opening may be subject to static electricity.

また、図5(b)において、開口部16におけるカバー層4の開口サイズ(めっき線14の長さ方向における開口サイズ)をLとし、開口部16における絶縁層2の開口サイズ(めっき線14の長さ方向における開口サイズ)をLとした場合、LおよびLの値は、特に限定されるものではないが、それぞれ、30μm〜300μmの範囲内であることが好ましく、50μm〜280μmの範囲内であることがより好ましい。また、第一実施態様においては、絶縁層2の開口サイズLが、カバー層4の開口サイズLよりも小さいことが好ましい。特に、後述する図17に示すように、第一実施態様においては、開口部16における絶縁層2の端部が、開口部16におけるカバー層4の端部よりも突出していることが好ましい。すなわち、開口部16において、絶縁層2が、カバー層4よりも張り出していることが好ましい。上記絶縁層の開口部を形成する際に、カバー層の劣化や剥離が生じることを防止できるからである。なお、この効果については、後述する図17、図18を用いて詳細に説明する。また、この場合、開口サイズの差(L−L)は、特に限定されるものではないが、10μm〜100μmの範囲内であることが好ましく、20μm〜50μmの範囲内であることがより好ましい。 Further, in FIG. 5 (b), the aperture size of the cover layer 4 in the opening portion 16 (opening size in the lengthwise direction of the plated wire 14) and L 2, the aperture size of the insulating layer 2 at the opening 16 (plated wire 14 If the aperture size) in the length direction is L 3, the values of L 2 and L 3 is not particularly limited, respectively, preferably in the range of 30μm~300μm, 50μm~280μm It is more preferable to be within the range. In the first embodiment, the opening size L 3 of the insulating layer 2 is preferably smaller than the opening size L 2 of the cover layer 4. In particular, as shown in FIG. 17 to be described later, in the first embodiment, it is preferable that the end of the insulating layer 2 in the opening 16 protrudes beyond the end of the cover layer 4 in the opening 16. That is, it is preferable that the insulating layer 2 protrudes beyond the cover layer 4 in the opening 16. This is because when the opening of the insulating layer is formed, the cover layer can be prevented from being deteriorated or peeled off. This effect will be described in detail with reference to FIGS. 17 and 18 described later. In this case, the difference in opening size (L 2 -L 3 ) is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 μm to 100 μm, and more preferably in the range of 20 μm to 50 μm. preferable.

また、第一実施態様においては、図5に示すように、めっき線14の開口サイズLが、カバー層4の開口サイズLおよび絶縁層2の開口サイズLよりも大きいことが好ましい。特に、図5(b)に示すように、第一実施態様においては、開口部16におけるカバー層4の端部、および開口部16における絶縁層2の端部が、断線しためっき線14の端部よりも突出していることが好ましい。すなわち、開口部16において、絶縁層2およびカバー層4が、めっき線14よりも張り出していることが好ましい。めっき線の露出面(切断面)が、張り出したカバー層および絶縁層により保護され、めっき線の腐食をより効果的に抑制できるからである。LとLとの差(L−L)は、特に限定されるものではないが、10μm〜200μmの範囲内であることが好ましく、30μm〜100μmの範囲内であることがより好ましい。同様に、LとLとの差(L−L)は、特に限定されるものではないが、10μm〜200μmの範囲内であることが好ましく、30μm〜100μmの範囲内であることがより好ましい。 Further, in the first embodiment, as shown in FIG. 5, the aperture size L 1 of the plated wire 14, it is preferably larger than the aperture size L 3 of the aperture size L 2 and the insulating layer 2 of the cover layer 4. In particular, as shown in FIG. 5B, in the first embodiment, the end of the cover layer 4 in the opening 16 and the end of the insulating layer 2 in the opening 16 are the ends of the plated wire 14 that is broken. It is preferable to protrude from the portion. That is, it is preferable that the insulating layer 2 and the cover layer 4 protrude beyond the plating wire 14 in the opening 16. This is because the exposed surface (cut surface) of the plated wire is protected by the overhanging cover layer and insulating layer, and corrosion of the plated wire can be more effectively suppressed. The difference between L 1 and L 2 (L 1 -L 2 ) is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 μm to 200 μm, and more preferably in the range of 30 μm to 100 μm. . Similarly, the difference between L 1 and L 3 (L 1 −L 3 ) is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 μm to 200 μm, and is in the range of 30 μm to 100 μm. Is more preferable.

また、図5(b)において、開口部16におけるカバー層4の端部と、開口部16におけるめっき線14の端部との差をL21とし、開口部16における絶縁層2の端部と、開口部16におけるめっき線14の端部との差をL31とし、開口部16における絶縁層2の端部と、開口部16における金属支持基板1の端部との差をL41とする。L21の値は、特に限定されるものではないが、例えば、めっき線の厚さ以上であることが好ましい。カバー層の端部が、めっき線の端部に対して、めっき線の厚さ以上に張り出していれば、張り出したカバー層がめっき線の端部全体を保護できるからである。これにより、めっき線の腐食をより効果的に防止できる。L21の値は、具体的には、10μm以上であることが好ましく、20μm〜60μmの範囲内であることがより好ましく、30μm〜50μmの範囲内であることがさらに好ましい。また、L31の値は、特に限定されるものではないが、例えば、めっき線の厚さ以上であることが好ましい。L31の値は、具体的には、20μm以上であることが好ましく、30μm〜90μmの範囲内であることがより好ましく、40μm〜80μmの範囲内であることがさらに好ましい。同様に、L41の値も、特に限定されるものではないが、20μm以上であることが好ましい。開口部16の絶縁層2をエッチングする際に、金属支持基板1の開口部断面を十分保護することができるので、上記断面が絶縁層エッチング液により侵されることを防ぐことができるからである。また、図13(c)に示すように、接続端子用配線部3へのめっき部17の形成において、ドライフィルムレジスト等で金属支持基板の開口部断面を十分に覆うことができるために、金属支持基板と配線層とが導通している場合でも、金属支持基板の開口部断面にめっきが析出することを防ぐことができ、かつ、端子部全面をめっきにより覆うことができる。 Further, in FIG. 5 (b), an end portion of the cover layer 4 in the opening 16, the difference between the end of the plated wire 14 at the opening 16 and L 21, and the end portion of the insulating layer 2 at the opening 16 The difference between the end of the plated wire 14 in the opening 16 is L 31 , and the difference between the end of the insulating layer 2 in the opening 16 and the end of the metal supporting substrate 1 in the opening 16 is L 41 . . The value of L 21 include, but are not limited to, for example, is preferably at least the thickness of the plated wire. This is because the protruding cover layer can protect the entire end portion of the plated wire if the end portion of the cover layer extends beyond the end portion of the plated wire more than the thickness of the plated wire. Thereby, corrosion of a plating wire can be prevented more effectively. Specifically, the value of L 21 is preferably 10 μm or more, more preferably in the range of 20 μm to 60 μm, and still more preferably in the range of 30 μm to 50 μm. Further, the value of L 31 is not particularly limited, but is preferably equal to or greater than the thickness of the plated wire, for example. Specifically, the value of L 31 is preferably 20 μm or more, more preferably in the range of 30 μm to 90 μm, and still more preferably in the range of 40 μm to 80 μm. Similarly, the value of L 41 is not particularly limited, but is preferably 20 μm or more. This is because when the insulating layer 2 in the opening 16 is etched, the opening cross section of the metal support substrate 1 can be sufficiently protected, and the above cross section can be prevented from being attacked by the insulating layer etchant. Further, as shown in FIG. 13C, in forming the plating portion 17 on the connection terminal wiring portion 3, the opening cross section of the metal supporting substrate can be sufficiently covered with a dry film resist or the like. Even when the support substrate and the wiring layer are electrically connected, it is possible to prevent plating from being deposited on the cross section of the opening of the metal support substrate, and to cover the entire terminal portion by plating.

第一実施態様における開口部の平面視形状は、特に限定されるものではないが、例えば矩形、円、楕円、十字、櫛形等を挙げることができる。さらに、開口部の設置位置は、めっき線を断線できる位置であれば特に限定されるものではない。また、第一実施態様における開口部は、一のめっき線に対して設けられたもの(例えば図6)であっても良く、二以上のめっき線に対して設けられたもの(例えば図2、図4)であっても良い。第一実施態様において、テール部の端部を一端とするめっき線が複数ある場合、それらのめっき線の少なくとも一つが、開口部で断線していれば所望の効果を奏し得るが、複数のめっき線の全てが、開口部で断線していることが好ましい。テール部の端部に起因する静電気の悪影響を完全に防止することができるからである。   The planar view shape of the opening in the first embodiment is not particularly limited, and examples thereof include a rectangle, a circle, an ellipse, a cross, and a comb. Furthermore, the installation position of an opening part will not be specifically limited if it is a position which can disconnect a plating wire. Further, the opening in the first embodiment may be provided for one plated wire (for example, FIG. 6), or provided for two or more plated wires (for example, FIG. 2, 4). In the first embodiment, when there are a plurality of plating wires having one end as an end portion of the tail portion, a desired effect can be obtained as long as at least one of the plating wires is disconnected at the opening portion. It is preferable that all of the lines are disconnected at the opening. This is because the adverse effect of static electricity caused by the end of the tail portion can be completely prevented.

また、上述した図2で説明したように、第一実施態様のサスペンション用基板20は、接続端子12(12a〜12d)とテール部Tの端部との間に、素子を実装した後における素子の性能を確認するためのテスト用端子15(15a〜15d)を有し、テスト用端子15(15a〜15d)とテール部Tの端部との間で、めっき線14は開口部16で断線していることが好ましい。テスト用端子の設置位置は、特に限定されるものではないが、通常は、接続端子よりもテール部側に設置される。素子実装後の素子の性能を確認できれば、テスト用端子は不要になるからである。   In addition, as described with reference to FIG. 2 described above, the suspension substrate 20 according to the first embodiment has the element after the element is mounted between the connection terminal 12 (12a to 12d) and the end of the tail part T. Test terminals 15 (15a to 15d) for confirming the performance of the plating wire 14 between the test terminals 15 (15a to 15d) and the end of the tail portion T, and the plated wire 14 is disconnected at the opening 16 It is preferable. Although the installation position of the test terminal is not particularly limited, it is usually installed on the tail side of the connection terminal. This is because if the performance of the element after the element mounting can be confirmed, the test terminal is unnecessary.

第一実施態様においては、二以上のテスト用端子が共有用配線部によって共有され、共有用配線部が、短絡防止用開口部で断線していることが好ましい。共有用配線部を設けることにより、めっき線の数を減らすことができ、その結果、開口部を小さくすることができるからである。また、めっき線の数を減らすことで、デザイン設計が容易になるという利点もある。具体的には、図6に示すように、二以上のテスト用端子15(15a〜15d)が、共有用配線部31により共有され、共有用配線部31が、短絡防止用開口部32で断線しているものを挙げることができる。この場合、接続端子(図示せず)およびテスト用端子15にめっき部を設ける際には、短絡防止用開口部32および開口部16は形成されていないため、めっき線14は一つで足りる。また、第一実施態様においては、サスペンション用基板を製造する時に、短絡防止用開口部32および開口部16を同時に形成することが好ましい。   In the first embodiment, it is preferable that two or more test terminals are shared by the shared wiring section, and the shared wiring section is disconnected at the opening for short-circuit prevention. This is because by providing the shared wiring portion, the number of plating wires can be reduced, and as a result, the opening can be made smaller. In addition, there is an advantage that design design is facilitated by reducing the number of plated wires. Specifically, as shown in FIG. 6, two or more test terminals 15 (15 a to 15 d) are shared by the shared wiring portion 31, and the shared wiring portion 31 is disconnected at the short-circuit preventing opening 32. Can be mentioned. In this case, when the plating portion is provided on the connection terminal (not shown) and the test terminal 15, the short-circuit preventing opening 32 and the opening 16 are not formed, and therefore, only one plating wire 14 is sufficient. In the first embodiment, it is preferable that the short-circuit preventing opening 32 and the opening 16 are formed at the same time when the suspension substrate is manufactured.

上述したように、第一実施態様においては、二以上のテスト用端子が共有用配線部によって共有されていることが好ましいが、テスト用端子と同様に、二以上の接続端子(外部回路基板との接続を行う接続端子)が共有用配線部によって共有されていても良い。この場合も、共有用配線部は、短絡防止用開口部で断線していることが必要である。   As described above, in the first embodiment, it is preferable that two or more test terminals are shared by the shared wiring portion. However, like the test terminals, two or more connection terminals (external circuit board and May be shared by the shared wiring portion. Also in this case, the shared wiring portion needs to be disconnected at the opening for preventing a short circuit.

2.第二実施態様
次に、第二実施態様のサスペンション用基板について説明する。第二実施態様のサスペンション用基板は、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、上記素子実装領域および上記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、上記接続端子と電気的に接続するためのめっき線と、を有するサスペンション用基板であって、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線と、上記めっき線を覆うカバー層とを有し、上記テール部の上記めっき線の端部における上記カバー層の端部および上記絶縁層の端部が、上記めっき線の端部よりも突出していることを特徴とするものである。
2. Second Embodiment Next, the suspension substrate of the second embodiment will be described. The suspension substrate according to the second embodiment is formed on the head portion side, an element mounting region for mounting elements, and an external circuit substrate connection region formed on the tail portion side and having connection terminals for connection to the external circuit substrate. A suspension substrate having a wiring for electrically connecting the element mounting region and the external circuit board connection region, and a plating wire for electrically connecting to the connection terminal. A substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, a wiring formed on the insulating layer, a wiring portion for connecting terminals constituting the connecting terminal, the plated wire, and the plated wire And an end of the cover layer and an end of the insulating layer at the end of the plated wire of the tail portion protrude from the end of the plated wire. Than is.

図7は、第二実施態様のサスペンション用基板を説明する模式図である。図7(a)は図2と同様にテール部Tの周辺を示す拡大図であり、図7(b)は図7(a)のA−A断面図である。図7(a)においては、ヘッド部(図示せず)側から、配線13(13a〜13d)、接続端子12(12a〜12d)、テスト用端子15(15a〜15d)およびめっき線14(14a〜14d)がこの順に配置されている。さらに、第二実施態様のサスペンション用基板は、テール部Tのめっき線14aの端部におけるカバー層4の端部および絶縁層2の端部が、めっき線14aの端部よりも突出していることを大きな特徴とする。   FIG. 7 is a schematic diagram illustrating the suspension substrate according to the second embodiment. FIG. 7A is an enlarged view showing the periphery of the tail portion T as in FIG. 2, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 7A. 7A, from the head part (not shown) side, wiring 13 (13a to 13d), connection terminal 12 (12a to 12d), test terminal 15 (15a to 15d), and plating wire 14 (14a) -14d) are arranged in this order. Further, in the suspension substrate of the second embodiment, the end of the cover layer 4 and the end of the insulating layer 2 at the end of the plating wire 14a of the tail portion T protrude from the end of the plating wire 14a. Is a major feature.

また、図8に示すように、外枠部21から個片のサスペンション用基板を切り離す際に、Cut Line 1のように、開口部16でサスペンション用基板を切り離すと、第二実施態様のサスペンション用基板が得られる。これに対して、Cut Line 2のように、開口部16よりも外枠部12側でサスペンション用基板を切り離すと、上述した第一実施態様のサスペンション用基板が得られる。   Further, as shown in FIG. 8, when the individual suspension board is separated from the outer frame portion 21, if the suspension board is separated at the opening 16 as in Cut Line 1, the suspension board of the second embodiment is used. A substrate is obtained. On the other hand, when the suspension substrate is separated on the outer frame 12 side from the opening 16 as in Cut Line 2, the suspension substrate of the first embodiment described above is obtained.

このように、第二実施態様によれば、めっき線の露出面(切断面)が、張り出したカバー層および絶縁層により保護されることにより、静電気による素子への悪影響を防止することができる。さらに、カバー層および絶縁層が張り出すことにより、めっき線の腐食を効果的に抑制できる。また、図8に示すCut Line 1のように、例えば、金属支持基板およびリード線が存在しない開口部で、サスペンション用基板を切り離すことにより、切断具の磨耗を抑制できるという利点や、切断時の金属屑の発生を抑制できるという利点がある。
以下、第二実施態様のサスペンション用基板について、サスペンション用基板の部材と、サスペンション用基板の構成とに分けて説明する。
Thus, according to the second embodiment, the exposed surface (cut surface) of the plating wire is protected by the overhanging cover layer and insulating layer, thereby preventing adverse effects on the element due to static electricity. Further, the corrosion of the plated wire can be effectively suppressed by the overhang of the cover layer and the insulating layer. Further, as in Cut Line 1 shown in FIG. 8, for example, by detaching the suspension substrate at the opening where the metal support substrate and the lead wire do not exist, the wear of the cutting tool can be suppressed, and at the time of cutting There is an advantage that generation of metal waste can be suppressed.
Hereinafter, the suspension substrate according to the second embodiment will be described separately for the suspension substrate member and the suspension substrate configuration.

(1)サスペンション用基板の部材
第二実施態様のサスペンション用基板の部材については、上述した第一実施態様に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
(1) Suspension Substrate Member The suspension substrate member of the second embodiment is the same as that described in the first embodiment, and is not described here.

(2)サスペンション用基板の構成
次に、第二実施態様のサスペンション用基板の構成について説明する。第二実施態様のサスペンション用基板の構成は、開口部におけるめっき線の端部を、テール部におけるめっき線の端部に変更したこと以外は、上述した第一実施態様に記載した内容と同様である。
(2) Configuration of Suspension Substrate Next, the configuration of the suspension substrate of the second embodiment will be described. The configuration of the suspension substrate of the second embodiment is the same as that described in the first embodiment, except that the end of the plating wire in the opening is changed to the end of the plating wire in the tail. is there.

また、上述した図8に示すように、第二実施態様のサスペンション用基板は、例えば、開口部でサスペンション用基板を切り離すことにより得ることができる。図9(a)は、第二実施態様におけるテール部の一例を示す概略平面図であり、図9(b)は図9(a)のA−A断面図である。図9(a)において、断線しためっき線14の距離(開口部16におけるめっき線14の開口サイズ)をLとした場合、Lは、サスペンション用基板を切り離す際に、張り出した絶縁層およびカバー層に、切断具が接触しない程度のサイズであることが好ましい。切断具の大きさや、切断時の精度を考慮すると、Lの値は、80μm以上であることが好ましく、100μm以上であることがより好ましく、120μm以上であることがさらに好ましい。一方、Lの値は、500μm以下であることが好ましく、400μm以下であることがより好ましく、300μm以下であることがさらに好ましい。 Further, as shown in FIG. 8 described above, the suspension substrate of the second embodiment can be obtained, for example, by separating the suspension substrate at the opening. Fig.9 (a) is a schematic plan view which shows an example of the tail part in a 2nd embodiment, FIG.9 (b) is AA sectional drawing of Fig.9 (a). 9 (a), the case where the distance plated wire 14 disconnected (the opening size of the plated wire 14 at the opening 16) and the L 1, L 1, when disconnecting the suspension substrate, overhanging insulating layer and The size is preferably such that the cutting tool does not contact the cover layer. Size and the cutting tool, considering the accuracy of the time of cutting, the value of L 1 is preferably at 80μm or more, more preferably 100μm or more, and still more preferably 120μm or more. On the other hand, the value of L 1 is preferably 500 μm or less, more preferably 400 μm or less, and even more preferably 300 μm or less.

また、図9(b)において、開口部16におけるカバー層4の開口サイズ(めっき線14の長さ方向における開口サイズ)をLとし、開口部16における絶縁層2の開口サイズ(めっき線14の長さ方向における開口サイズ)をLとした場合、LおよびLの値は、特に限定されるものではないが、それぞれ、60μm〜280μmの範囲内であることが好ましく、100μm〜200μmの範囲内であることがより好ましい。 Further, in FIG. 9 (b), the aperture size of the cover layer 4 in the opening portion 16 (opening size in the lengthwise direction of the plated wire 14) and L 2, the aperture size of the insulating layer 2 at the opening 16 (plated wire 14 If the aperture size) in the length direction is L 3, the values of L 2 and L 3 is not particularly limited, respectively, preferably in the range of 60Myuemu~280myuemu, 100 m to 200 m It is more preferable to be within the range.

また、第二実施態様においては、図9(b)示すように、通常、テール部Tのめっき線14の端部におけるカバー層4の端部および絶縁層2の端部が、めっき線14の端部よりも突出している。すなわち、テール部Tにおいて、絶縁層2およびカバー層4が、めっき線14よりも張り出している。めっき線の露出面(切断面)が、張り出したカバー層および絶縁層により保護され、めっき線の腐食を効果的に抑制できる。図9(b)において、テール部Tにおけるカバー層4の端部と、テール部Tにおけるめっき線14の端部との差をL21とし、テール部Tにおける絶縁層2の端部と、テール部Tにおけるめっき線14の端部との差をL31とし、テール部Tにおける絶縁層2の端部と、テール部Tにおける金属支持基板1の端部との差をL41とする。L21の値は、特に限定されるものではないが、例えば、めっき線の厚さ以上であることが好ましい。カバー層の端部が、めっき線の端部に対して、めっき線の厚さ以上に張り出していれば、張り出したカバー層がめっき線の端部全体を保護できるからである。これにより、めっき線の腐食をより効果的に防止できる。L21は、具体的には、10μm以上であることが好ましく、20μm〜60μmの範囲内であることがより好ましく、30μm〜50μmの範囲内であることがさらに好ましい。また、L31の値は、特に限定されるものではないが、例えば、めっき線の厚さ以上であることが好ましい。L31の値は、具体的には、20μm以上であることが好ましく、30μm〜90μmの範囲内であることがより好ましく、40μm〜80μmの範囲内であることがさらに好ましい。同様に、L41の値も、特に限定されるものではないが、20μm以上であることが好ましい。開口部16の絶縁層2をエッチングする際に、金属支持基板1の開口部断面を十分保護することができるので、上記断面が絶縁層エッチング液により侵されることを防ぐことができるからである。また、図13(c)に示すように、接続端子用配線部3へのめっき部17の形成において、ドライフィルムレジスト等で金属支持基板の開口部断面を十分に覆うことができるために、金属支持基板と配線層とが導通している場合でも、金属支持基板の開口部断面にめっきが析出することを防ぐことができ、かつ、端子部全面をめっきにより覆うことができる。 In the second embodiment, as shown in FIG. 9 (b), the end portion of the cover layer 4 and the end portion of the insulating layer 2 at the end portion of the plating wire 14 of the tail portion T are usually formed of the plating wire 14. It protrudes from the end. That is, in the tail portion T, the insulating layer 2 and the cover layer 4 protrude from the plated wire 14. The exposed surface (cut surface) of the plated wire is protected by the overhanging cover layer and insulating layer, and corrosion of the plated wire can be effectively suppressed. 9B, the difference between the end portion of the cover layer 4 in the tail portion T and the end portion of the plating wire 14 in the tail portion T is L 21, and the end portion of the insulating layer 2 in the tail portion T and the tail The difference between the end portion of the plated wire 14 in the portion T is L 31 , and the difference between the end portion of the insulating layer 2 in the tail portion T and the end portion of the metal support substrate 1 in the tail portion T is L 41 . The value of L 21 include, but are not limited to, for example, is preferably at least the thickness of the plated wire. This is because the protruding cover layer can protect the entire end portion of the plated wire if the end portion of the cover layer extends beyond the end portion of the plated wire more than the thickness of the plated wire. Thereby, corrosion of a plating wire can be prevented more effectively. Specifically, L 21 is preferably 10 μm or more, more preferably in the range of 20 μm to 60 μm, and even more preferably in the range of 30 μm to 50 μm. Further, the value of L 31 is not particularly limited, but is preferably equal to or greater than the thickness of the plated wire, for example. Specifically, the value of L 31 is preferably 20 μm or more, more preferably in the range of 30 μm to 90 μm, and still more preferably in the range of 40 μm to 80 μm. Similarly, the value of L 41 is not particularly limited, but is preferably 20 μm or more. This is because when the insulating layer 2 in the opening 16 is etched, the opening cross section of the metal support substrate 1 can be sufficiently protected, and the above cross section can be prevented from being attacked by the insulating layer etchant. Further, as shown in FIG. 13C, in forming the plating portion 17 on the connection terminal wiring portion 3, the opening cross section of the metal supporting substrate can be sufficiently covered with a dry film resist or the like. Even when the support substrate and the wiring layer are electrically connected, it is possible to prevent plating from being deposited on the cross section of the opening of the metal support substrate, and to cover the entire terminal portion by plating.

B.外枠付サスペンション用基板
次に、本発明の外枠付サスペンション用基板について説明する。本発明の外枠付サスペンション用基板は、サスペンション用基板と、上記サスペンション用基板のテール部側で一体化した外枠部とを有する外枠付サスペンション用基板であって、上記サスペンション用基板は、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、上記テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、上記素子実装領域および上記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、上記外枠部および上記接続端子を電気的に接続するためのめっき線とを有し、さらに、上記サスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線と、上記めっき線を覆うカバー層と有し、上記めっき線は、開口部で断線しており、上記開口部における上記カバー層の端部、および上記開口部における上記絶縁層の端部が、上記断線しためっき線の端部よりも突出していることを特徴とするものである。
B. Next, the suspension board with an outer frame of the present invention will be described. A suspension substrate with an outer frame of the present invention is a suspension substrate with an outer frame having a suspension substrate and an outer frame portion integrated on the tail portion side of the suspension substrate, and the suspension substrate includes: An element mounting area formed on the head portion side for mounting elements, an external circuit board connection area formed on the tail portion side and having connection terminals for connection to an external circuit board, the element mounting area, and the external A wiring for electrically connecting circuit board connection regions; and a plating wire for electrically connecting the outer frame portion and the connection terminal; and the suspension substrate includes a metal support substrate , An insulating layer formed on the metal support substrate, the wiring formed on the insulating layer, a wiring portion for connecting terminal constituting the connecting terminal, and the plated wire A cover layer covering the plated wire, the plated wire is disconnected at the opening, and the end of the cover layer in the opening and the end of the insulating layer in the opening are It protrudes from the edge part of the broken plating wire, It is characterized by the above-mentioned.

図10は、本発明の外枠付サスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。図10(a)は、本発明の外枠付サスペンション用基板の一例を示す概略平面図であり、図10(b)は図10(a)の領域Sの拡大図である。図10に示される外枠付サスペンション用基板22は、サスペンション用基板20と、サスペンション用基板20のテール部T側で一体化した外枠部21とを有するものである。サスペンション用基板20において、めっき線14は開口部16で断線している。   FIG. 10 is a schematic plan view showing an example of a suspension substrate with an outer frame according to the present invention. FIG. 10A is a schematic plan view showing an example of a suspension substrate with an outer frame according to the present invention, and FIG. 10B is an enlarged view of a region S in FIG. A suspension substrate 22 with an outer frame shown in FIG. 10 includes a suspension substrate 20 and an outer frame portion 21 integrated on the tail portion T side of the suspension substrate 20. In the suspension substrate 20, the plating wire 14 is disconnected at the opening 16.

また、上述した図8に示すように、外枠部21から個片のサスペンション用基板を切り離す際に、Cut Line 1のように、開口部16でサスペンション用基板を切り離すと、第二実施態様のサスペンション用基板が得られる。これに対して、Cut Line 2のように、開口部16よりも外枠部12側でサスペンション用基板を切り離すと、上述した第一実施態様のサスペンション用基板が得られる。   In addition, as shown in FIG. 8 described above, when the suspension substrate is separated from the outer frame portion 21 at the opening 16 as in the case of Cut Line 1, the second embodiment is separated. A suspension substrate is obtained. On the other hand, when the suspension substrate is separated on the outer frame 12 side from the opening 16 as in Cut Line 2, the suspension substrate of the first embodiment described above is obtained.

本発明によれば、開口部において、めっき線の露出面(切断面)が、張り出したカバー層および絶縁層により保護されることにより、静電気による素子への悪影響を防止することができる。さらに、カバー層および絶縁層が張り出すことにより、めっき線の腐食を効果的に抑制できる。   According to the present invention, the exposed surface (cut surface) of the plated wire is protected in the opening by the overhanging cover layer and insulating layer, thereby preventing adverse effects on the element due to static electricity. Further, the corrosion of the plated wire can be effectively suppressed by the overhang of the cover layer and the insulating layer.

なお、本発明におけるサスペンション用基板については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、本発明における外枠部は、特に限定されるものではないが、例えば、金属支持基板と、絶縁層と、導体層とがこの順に積層されたものを挙げることができる。   The suspension substrate in the present invention is the same as the content described in the above “A. Suspension substrate”, and therefore the description thereof is omitted here. Moreover, the outer frame part in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a metal support substrate, an insulating layer, and a conductor layer laminated in this order.

C.サスペンション用基板の製造方法
次に、本発明のサスペンション用基板の製造方法について説明する。本発明のサスペンション用基板の製造方法は、2つの実施態様に大別することができる。本発明のサスペンション用基板の製造方法について、第一実施態様および第二実施態様に分けて説明する。
C. Next, a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention will be described. The manufacturing method of the suspension substrate of the present invention can be roughly divided into two embodiments. The method for manufacturing the suspension substrate of the present invention will be described separately for the first embodiment and the second embodiment.

1.第一実施態様
第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法は、上述した第一実施態様のサスペンション用基板の製造法であって、第一金属エッチング工程、カバー層形成工程、絶縁層エッチング工程、めっき部形成工程、保護層剥離工程、および第二金属エッチング工程を有することを特徴とするものである。
1. First Embodiment A method for manufacturing a suspension substrate according to the first embodiment is a method for manufacturing a suspension substrate according to the first embodiment described above, and includes a first metal etching step, a cover layer forming step, an insulating layer etching step, It has a plating part formation process, a protective layer peeling process, and a 2nd metal etching process, It is characterized by the above-mentioned.

次に、第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法について、図11〜図15を用いて説明する。ここで、図11は、第一実施態様により得られるサスペンション用基板のテール部の一例を示す概略平面図である。なお、図11における配線13は、接続端子12の手前で折れ曲り部を有しているが、これは、配線13の形成時の様子を分かりやすく説明するためのものであり、実際の配線13が折れ曲がり部を有する必要はない。また、図11に示されるサスペンション用基板は、テール部Tの周辺において、配線13、接続端子12、めっき線14および開口部16を有するものである。また、図12〜図15に示される概略断面図は、いずれも図11のA−A断面に対応するものである。   Next, a method for manufacturing the suspension substrate according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 11 is a schematic plan view showing an example of the tail portion of the suspension substrate obtained by the first embodiment. Note that the wiring 13 in FIG. 11 has a bent portion in front of the connection terminal 12, but this is for easy understanding of how the wiring 13 is formed. It is not necessary to have a bent portion. Further, the suspension substrate shown in FIG. 11 has the wiring 13, the connection terminal 12, the plating wire 14, and the opening 16 around the tail portion T. Also, the schematic cross-sectional views shown in FIGS. 12 to 15 all correspond to the AA cross-section of FIG.

図12においては、まず、金属支持基板1、絶縁層2および導体層3Aを有する積層部材を準備する(図12(a))。次に、積層部材の両表面に所定のレジストパターンを作製し、ウェットエッチングにより、導体層3Aから、配線13、接続端子用配線部3およびめっき線14を形成し、開口部16および接続端子12を形成する位置にある金属支持基板1を除去する(図12(b))。次に、開口部16を形成する位置にあるめっき線14、および接続端子用配線部3を覆わないようにして、めっき線14および配線13上に、カバー層4を形成する(図12(c))。次に、カバー層4を形成した積層部材の両表面に所定のレジストパターンを作製し、ウェットエッチングにより、開口部16および接続端子12を形成する位置にある絶縁層2を除去する(図12(d))。   In FIG. 12, first, a laminated member having the metal support substrate 1, the insulating layer 2, and the conductor layer 3A is prepared (FIG. 12 (a)). Next, a predetermined resist pattern is formed on both surfaces of the laminated member, and the wiring 13, the connection terminal wiring portion 3 and the plating wire 14 are formed from the conductor layer 3A by wet etching, and the opening 16 and the connection terminal 12 are formed. The metal support substrate 1 at the position where the film is formed is removed (FIG. 12B). Next, the cover layer 4 is formed on the plating wire 14 and the wiring 13 so as not to cover the plating wire 14 and the connection terminal wiring portion 3 at the position where the opening 16 is formed (FIG. 12C). )). Next, a predetermined resist pattern is formed on both surfaces of the laminated member on which the cover layer 4 is formed, and the insulating layer 2 at a position where the opening 16 and the connection terminal 12 are formed is removed by wet etching (FIG. 12 ( d)).

その後、積層部材の両面に、保護層41としてDFR(ドライフィルムレジスト)を配置する(図13(a))。次に、DFRを露光現像することにより、開口部16を形成する位置にあるめっき線14をめっきから保護し、かつ、接続端子12を形成する位置にある接続端子用配線部3を露出する保護層41を形成する(図13(b))。次に、めっき線14を用いて、接続端子用配線部3の表面上に、金めっきからなるめっき部17を形成し(図13(c))、保護層41を剥離する(図13(d))。   Thereafter, DFR (dry film resist) is disposed as the protective layer 41 on both surfaces of the laminated member (FIG. 13A). Next, by exposing and developing the DFR, the plating wire 14 at the position where the opening 16 is formed is protected from plating, and the connection terminal wiring portion 3 at the position where the connection terminal 12 is formed is exposed. The layer 41 is formed (FIG. 13B). Next, the plating portion 17 made of gold plating is formed on the surface of the connection terminal wiring portion 3 using the plating wire 14 (FIG. 13C), and the protective layer 41 is peeled off (FIG. 13D). )).

その後、積層部材の両面に、レジスト層42としてDFRを配置する(図14(a))。次に、DFRを露光現像することにより、開口部16を形成する位置にあるめっき線14を露出するレジスト層42を形成する(図14(b))。次に、レジスト層42から露出するめっき線14を、ウェットエッチングにより除去する(図14(c))。最後に、レジスト層42を剥離し、サスペンション用基板20を得る。   Thereafter, DFR is disposed as a resist layer 42 on both surfaces of the laminated member (FIG. 14A). Next, DFR is exposed and developed to form a resist layer 42 that exposes the plating wire 14 at the position where the opening 16 is to be formed (FIG. 14B). Next, the plating wire 14 exposed from the resist layer 42 is removed by wet etching (FIG. 14C). Finally, the resist layer 42 is peeled off to obtain the suspension substrate 20.

上述した図13(a)〜(c)では、保護層41としてDFRを用いているが、第一実施態様においては、保護層41として、積層部材の外枠部をめっきから保護するマスク(例えばラバーマスク)を用いても良い。なお、上述した図23に示すように、製造段階のサスペンション用基板110は、外枠部120と一体になっている。外枠部120の導体層(例えばCu)は、接続端子にめっき部を設ける場合に保護する必要があり、通常はマスクを形成する。その際に使用するマスクを、開口部の配線上のめっき析出を防止するための保護層として用いることで、DFRを保護層として用いる場合(図13(a)〜(c))と比較して、工程を簡略化することができる。   13A to 13C described above, DFR is used as the protective layer 41. However, in the first embodiment, as the protective layer 41, a mask that protects the outer frame portion of the laminated member from plating (for example, Rubber mask) may be used. As shown in FIG. 23 described above, the suspension substrate 110 in the manufacturing stage is integrated with the outer frame portion 120. The conductor layer (for example, Cu) of the outer frame portion 120 needs to be protected when a plating portion is provided on the connection terminal, and usually a mask is formed. Compared with the case where DFR is used as a protective layer by using the mask used at that time as a protective layer for preventing plating deposition on the wiring of the opening (FIGS. 13A to 13C). The process can be simplified.

具体的には、図12〜図14に示されるサスペンション用基板の製造方法において、図13の工程の代わりに、図15の工程を行うことが好ましい。図15においては、保護層41として、積層部材の外枠部をめっきから保護するマスク(例えばラバーマスク)を配置する(図15(a))。次に、めっき線14を用いて、接続端子用配線部3の表面上に、金めっきからなるめっき部17を形成し(図15(b))、保護層41を除去する(図15(c))。なお、従来のラバーマスクは、図16に示すように、外枠部120へのめっき析出を防止するためのものであり、その端部はCut Lineよりも外枠部120側に形成されていた。これに対して、ラバーマスクを保護層として用いる場合は、その端部はCut Lineを超えて、サスペンション用基板側に形成されることになる。この場合、めっき線除去部はCut Lineよりサスペンション基板側に形成されるからである。   Specifically, in the method for manufacturing the suspension substrate shown in FIGS. 12 to 14, it is preferable to perform the step of FIG. 15 instead of the step of FIG. In FIG. 15, a mask (for example, a rubber mask) that protects the outer frame portion of the laminated member from plating is disposed as the protective layer 41 (FIG. 15A). Next, the plating portion 17 made of gold plating is formed on the surface of the connection terminal wiring portion 3 using the plating wire 14 (FIG. 15B), and the protective layer 41 is removed (FIG. 15C). )). In addition, as shown in FIG. 16, the conventional rubber mask is for preventing plating deposition on the outer frame portion 120, and its end portion is formed on the outer frame portion 120 side with respect to Cut Line. . On the other hand, when the rubber mask is used as the protective layer, the end portion thereof is formed on the suspension substrate side beyond the cut line. In this case, the plated wire removal portion is formed on the suspension substrate side from the cut line.

このように、第一実施態様によれば、めっき線を開口部において断線させることにより、静電気による素子への悪影響を防止したサスペンション用基板を得ることができる。特に、めっき部を形成する際に、開口部を形成する位置にあるめっき線をめっきから保護する保護層を形成することで、めっき線の除去が容易になるという利点を有する。
以下、第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法について、工程毎に説明する。
As described above, according to the first embodiment, it is possible to obtain a suspension substrate in which adverse effects on the element due to static electricity are prevented by disconnecting the plating wire at the opening. In particular, when forming the plating portion, by forming a protective layer that protects the plating wire at the position where the opening is to be formed from plating, there is an advantage that the removal of the plating wire is facilitated.
Hereinafter, the manufacturing method of the suspension substrate according to the first embodiment will be described step by step.

(1)第一金属エッチング工程
まず、第一実施態様における第一金属エッチング工程について説明する。本工程は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された導体層とを有する積層部材を用意し、エッチングにより、上記導体層から、上記配線、上記接続端子を構成する接続端子用配線部、および上記めっき線を形成し、かつ、開口部を形成する位置にある上記金属支持基板を除去する工程である(図12(a)、(b))。この際、上記接続端子を形成する位置にある上記金属支持基板を除去することが好ましい。なお、本工程は、導体層のエッチングと金属支持基板のエッチングとを同時に行う場合、および、両工程を別工程として行う場合の双方を含むものである。
(1) First Metal Etching Step First, the first metal etching step in the first embodiment will be described. In this step, a laminated member having a metal supporting substrate, an insulating layer formed on the metal supporting substrate, and a conductor layer formed on the insulating layer is prepared and etched from the conductor layer This is a step of forming the wiring, the connecting terminal wiring portion constituting the connecting terminal, and the plated wire, and removing the metal support substrate at the position where the opening is to be formed (FIG. 12 (a), ( b)). At this time, it is preferable to remove the metal support substrate at a position where the connection terminal is formed. In addition, this process includes both the case where the etching of the conductor layer and the etching of the metal support substrate are performed simultaneously, and the case where both processes are performed as separate processes.

第一実施態様に用いられる積層部材は、金属支持基板、絶縁層および導体層を有するものである。これらの部材については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。   The laminated member used in the first embodiment has a metal support substrate, an insulating layer, and a conductor layer. Since these members are the same as those described in “A. Suspension substrate”, description thereof is omitted here.

第一実施態様においては、エッチングにより、導体層から配線、接続端子用配線部、およびめっき線を形成する。この際、テスト用端子を有するサスペンション用基板を得る場合には、テスト用端子の配線部を同時に形成することが好ましい。また、第一実施態様においては、エッチングにより、開口部および接続端子を形成する位置にある金属支持基板を除去する。この際、サスペンション用基板の治具孔を同時に形成することが好ましい。   In the first embodiment, the wiring, the connecting terminal wiring portion, and the plated wire are formed from the conductor layer by etching. At this time, when obtaining a suspension substrate having test terminals, it is preferable to simultaneously form the wiring portions of the test terminals. In the first embodiment, the metal support substrate at the position where the opening and the connection terminal are formed is removed by etching. At this time, it is preferable to simultaneously form jig holes in the suspension substrate.

導体層および金属支持基板をエッチングする方法は特に限定されるものではないが、例えば、金属支持基板および導体層の表面に所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出する露出部をウェットエッチングする方法を挙げることができる。ウェットエッチングに用いるエッチング液の種類は、金属支持基板および導体層の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば金属支持基板の材料がSUSであり、導体層の材料がCuである場合には、塩化鉄系エッチング液等を用いることができる。   The method for etching the conductor layer and the metal support substrate is not particularly limited. For example, a predetermined resist pattern is formed on the surfaces of the metal support substrate and the conductor layer, and the exposed portion exposed from the resist pattern is wet etched. The method of doing can be mentioned. The type of etchant used for wet etching is preferably selected as appropriate according to the types of the metal support substrate and the conductor layer. For example, when the material of the metal support substrate is SUS and the material of the conductor layer is Cu, Further, an iron chloride etching solution or the like can be used.

(2)カバー層形成工程工程
次に、第一実施態様におけるカバー層形成工程について説明する。本工程は、開口部を形成する位置にある上記めっき線を覆わないようにして、上記めっき線上にカバー層を形成するカバー層を形成する工程である(図12(c))。この際、通常は、上記接続端子用配線部を覆わないようにして、上記配線上にカバー層を形成する。
(2) Cover layer forming step Next, the cover layer forming step in the first embodiment will be described. This step is a step of forming a cover layer for forming a cover layer on the plated wire so as not to cover the plated wire at the position where the opening is to be formed (FIG. 12C). At this time, normally, a cover layer is formed on the wiring so as not to cover the connection terminal wiring portion.

第一実施態様に用いられるカバー層については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、テスト用端子を有するサスペンション用基板を得る場合には、テスト用端子の配線部を覆わないようにして、カバー層を形成することが好ましい。カバー層の形成方法は、カバー層の材料に応じて適宜選択することが好ましい。例えば、カバー層の材料が感光性材料である場合は、カバー層の材料を塗布乾燥した後に、露光現像を行うことで、所望のパターンを得ることができる。一方、カバー層の材料が非感光性材料である場合は、カバー層の材料を塗布乾燥した後に、所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出する露出部をウェットエッチングすることで、所望のパターンを得ることができる。   The cover layer used in the first embodiment is the same as that described in the above “A. Suspension substrate”, and therefore the description thereof is omitted here. When obtaining a suspension substrate having test terminals, it is preferable to form a cover layer so as not to cover the wiring portion of the test terminals. The method for forming the cover layer is preferably selected as appropriate according to the material of the cover layer. For example, when the cover layer material is a photosensitive material, a desired pattern can be obtained by performing exposure and development after coating and drying the cover layer material. On the other hand, if the cover layer material is a non-photosensitive material, a desired resist pattern is formed after the cover layer material is applied and dried, and the exposed portion exposed from the resist pattern is wet-etched. Pattern can be obtained.

(3)絶縁層エッチング工程
次に、第一実施態様における絶縁層エッチング工程について説明する。本工程は、上記カバー層形成工程の後に、エッチングにより、上記開口部を形成する位置にある上記絶縁層を除去する工程である(図12(d))。この際、フライングリード状の接続端子を形成する場合には、接続端子を形成する位置にある上記絶縁層を除去することが好ましい。
(3) Insulating Layer Etching Step Next, the insulating layer etching step in the first embodiment will be described. This step is a step of removing the insulating layer at the position where the opening is to be formed by etching after the cover layer forming step (FIG. 12D). At this time, in the case where a flying lead-like connection terminal is formed, it is preferable to remove the insulating layer at a position where the connection terminal is formed.

第一実施態様においては、エッチングにより、開口部を形成する位置にある上記絶縁層を除去する。この際、テスト用端子を有するサスペンション用基板を得る場合には、テスト用端子を形成する位置にある絶縁層を同時に形成することが好ましい。また、本工程により、その他の不要な絶縁層を除去することが好ましい。   In the first embodiment, the insulating layer at the position where the opening is to be formed is removed by etching. At this time, when a suspension substrate having test terminals is obtained, it is preferable to simultaneously form an insulating layer at a position where the test terminals are formed. Further, it is preferable to remove other unnecessary insulating layers by this step.

絶縁層をエッチングする方法は特に限定されるものではないが、例えば、積層部材の表面に所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出する露出部をウェットエッチングする方法を挙げることができる。ウェットエッチングに用いるエッチング液の種類は、絶縁層の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば絶縁層の材料がポリイミド樹脂である場合には、アルカリ系エッチング液等を用いることができる。   Although the method for etching the insulating layer is not particularly limited, for example, a method may be mentioned in which a predetermined resist pattern is formed on the surface of the laminated member and the exposed portion exposed from the resist pattern is wet-etched. The type of etching solution used for wet etching is preferably selected as appropriate according to the type of insulating layer. For example, when the material of the insulating layer is a polyimide resin, an alkaline etching solution or the like can be used.

また、第一実施態様においては、図17に示すように、絶縁層2のエッチングにより、開口部16を形成する位置にある絶縁層2の端部が、開口部16を形成する位置にあるカバー層4の端部よりも突出していることが好ましい。絶縁層の開口部を形成する際に、カバー層の劣化や剥離が生じることを防止できるからである。この効果について図18を用いて説明する。図18(a)に示すように、開口部16において、カバー層4の端部が、絶縁層2の端部よりも突出している場合を考える。ここで、図18(a)の底面方向43から開口部16を観察すると、図18(b)に示すように、一部のカバー層4が露出した状態となる。そのため、絶縁層2をエッチングする際に、絶縁層2のエッチング液により、露出したカバー層4がエッチングされ、カバー層の劣化や剥離が生じる可能性がある。また、めっき線14をエッチングする際に用いられるレジスト層を剥離する場合に、そのレジスト層を剥離するための剥離液(例えばアルカリ性剥離液)により、露出したカバー層4の劣化や剥離が生じる可能性もある。これに対して、図17に示すように、絶縁層2の端部を、カバー層4の端部よりも突出させることにより、絶縁層2のエッチング液によるカバー層4のエッチングを防止することができる。なお、カバー層の劣化や剥離を防止するという観点からは、上述した図5(b)に示すように、絶縁層2の開口サイズLが、カバー層4の開口サイズLと同じであることが理想的であるが、実際には絶縁層の開口部をエッチングするときのレジスト形成のマスク位置合せズレが生じてしまう可能性がある。そのため、位置合せ精度を考慮して、絶縁層の端部が、カバー層の端部よりも突出していることが好ましい。図17において、開口部16におけるカバー層4の端部と、開口部16における絶縁層2の端部との差をL32とした場合、L32の値は、例えば、10μm以上であることが好ましく、10μm〜30μmの範囲内であることがより好ましく、15μm〜25μmの範囲内であることがさらに好ましい。 In the first embodiment, as shown in FIG. 17, the insulating layer 2 is etched so that the end of the insulating layer 2 at the position where the opening 16 is formed is located at the position where the opening 16 is formed. It is preferable to protrude from the end of the layer 4. This is because when the opening of the insulating layer is formed, the cover layer can be prevented from being deteriorated or peeled off. This effect will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 18A, consider a case where the end of the cover layer 4 protrudes beyond the end of the insulating layer 2 in the opening 16. Here, when the opening 16 is observed from the bottom surface direction 43 in FIG. 18A, a part of the cover layer 4 is exposed as shown in FIG. 18B. Therefore, when the insulating layer 2 is etched, the exposed cover layer 4 is etched by the etching solution of the insulating layer 2, and the cover layer may be deteriorated or peeled off. Moreover, when the resist layer used when etching the plating wire 14 is peeled, the exposed cover layer 4 may be deteriorated or peeled off by a stripping solution (for example, alkaline stripping solution) for stripping the resist layer. There is also sex. On the other hand, as shown in FIG. 17, the etching of the cover layer 4 by the etching solution of the insulating layer 2 can be prevented by causing the end of the insulating layer 2 to protrude beyond the end of the cover layer 4. it can. From the viewpoint of preventing deterioration and peeling of the cover layer, the opening size L 3 of the insulating layer 2 is the same as the opening size L 2 of the cover layer 4 as shown in FIG. Ideally, however, there is a possibility that a mask misalignment in resist formation may actually occur when the opening of the insulating layer is etched. Therefore, it is preferable that the end portion of the insulating layer protrudes from the end portion of the cover layer in consideration of alignment accuracy. 17, an end portion of the cover layer 4 in the opening 16, if the difference between the end portion of the insulating layer 2 at the opening 16 was set to L 32, the value of L 32 may, for example, not less 10μm or more Preferably, it is in the range of 10 μm to 30 μm, more preferably in the range of 15 μm to 25 μm.

(4)めっき部形成工程
次に、第一実施態様におけるめっき部形成工程について説明する。本工程は、上記絶縁層エッチング工程の後に、上記開口部を形成する位置にある上記めっき線をめっきから保護する保護層を形成し、上記保護層が形成されていない上記接続端子用配線部の表面上に、めっき部を形成する工程である(図13(a)〜(c)、図15(a)、(b))。
(4) Plating part forming process Next, the plating part forming process in the first embodiment will be described. In this step, after the insulating layer etching step, a protective layer that protects the plated wire at the position where the opening is formed from plating is formed, and the connection terminal wiring portion in which the protective layer is not formed is formed. This is a step of forming a plating portion on the surface (FIGS. 13A to 13C, FIGS. 15A and 15B).

第一実施態様においては、開口部を形成する位置にあるめっき線をめっきから保護する。これは、めっき線がめっきにより覆われていると、めっき線の除去が困難になるからである。なお、テスト用端子を有するサスペンション用基板を得る場合、テスト用端子の配線部は、通常、接続端子用配線部と同様に保護層が形成されていないことになる。また、第一実施態様においては、通常、電解めっき法によりめっき部を形成する。   In the first embodiment, the plating wire at the position where the opening is formed is protected from plating. This is because if the plated wire is covered with plating, it is difficult to remove the plated wire. In the case of obtaining a suspension substrate having test terminals, the protective layer is usually not formed on the wiring portion of the testing terminal as in the case of the connecting terminal wiring portion. In the first embodiment, the plated portion is usually formed by an electrolytic plating method.

第一実施態様に用いられる保護層の一例としては、ドライフィルムレジストを挙げることができる。ドライフィルムレジストを用いることにより、任意の場所に開口部を設けることができる。一方、保護層の他の例としては、積層部材の外枠部をめっきから保護するマスクを挙げることができる。このようなマスクとしては、例えば、メカニカルマスクを挙げるげることができ、その材質としては、例えばラバーを挙げることができる。このようなマスクを用いた保護層は、ドライフィルムレジストを用いた保護層と比べて、工程数が増加しないという利点を有する。   An example of the protective layer used in the first embodiment is a dry film resist. By using a dry film resist, an opening can be provided at an arbitrary location. On the other hand, the mask which protects the outer frame part of a laminated member from plating as another example of a protective layer can be mentioned. An example of such a mask is a mechanical mask, and an example of the material is rubber. A protective layer using such a mask has an advantage that the number of steps does not increase as compared with a protective layer using a dry film resist.

(5)保護層剥離工程
次に、第一実施態様における保護層剥離工程について説明する。本工程は、めっき部形成工程の後に、上記保護層を剥離する工程である(図13(d)、図15(c))。保護層を剥離する方法は特に限定されるものではないが、例えば、剥離液を用いる方法を挙げることができる。剥離液の種類は、用いられる保護層の種類に応じて適宜選択することが好ましい。
(5) Protective layer peeling process Next, the protective layer peeling process in a 1st embodiment is demonstrated. This step is a step of peeling the protective layer after the plating portion forming step (FIGS. 13D and 15C). The method for peeling off the protective layer is not particularly limited, and examples thereof include a method using a peeling solution. The type of stripping solution is preferably selected as appropriate according to the type of protective layer used.

(6)第二金属エッチング工程
次に、第一実施態様における第二金属エッチング工程について説明する。本工程は、上記保護層剥離工程の後に、エッチングにより、上記開口部を形成する位置にある上記めっき線を除去し、上記開口部を形成する工程である(図14(a)〜(d))。
(6) Second Metal Etching Step Next, the second metal etching step in the first embodiment will be described. This step is a step of removing the plating wire at the position where the opening is to be formed by etching after the protective layer peeling step to form the opening (FIGS. 14A to 14D). ).

第一実施態様においては、エッチングにより、開口部を形成する位置にあるめっき線を除去する。この際、不要な金属支持基板を同時にエッチングすることが好ましい(例えば、図14(c)における右端の金属支持基板1)。具体的には、サスペンション用基板の外形加工を、第二金属エッチング工程で行うことが好ましい。   In the first embodiment, the plating wire at the position where the opening is formed is removed by etching. At this time, it is preferable to simultaneously etch an unnecessary metal support substrate (for example, the metal support substrate 1 at the right end in FIG. 14C). Specifically, it is preferable that the outer shape processing of the suspension substrate is performed in the second metal etching step.

めっき線をエッチングする方法は特に限定されるものではないが、例えば、積層部材の表面に所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出する露出部をウェットエッチングする方法を挙げることができる。エッチング液については、上述した通りである。   Although the method for etching the plating wire is not particularly limited, for example, a method may be mentioned in which a predetermined resist pattern is formed on the surface of the laminated member, and the exposed portion exposed from the resist pattern is wet-etched. The etching solution is as described above.

また、第一実施態様においては、図14(d)に示すように、めっき線14のエッチングにより、開口部16におけるカバー層4の端部、および開口部16における絶縁層2の端部を、開口部16におけるめっき線14の端部よりも突出させることが好ましい。単にめっき線14を除去するのではなく、積極的にめっき線14のエッチングを行うことにより、めっき線の露出面(切断面)が、張り出したカバー層および絶縁層により保護され、めっき線の腐食をより効果的に抑制できるからである。なお、図14(c)、(d)では、開口部16となる位置において、カバー層4を覆うようにレジスト層42が形成され、レジスト層42の端部がめっき線14上にある。積極的にめっき線14のエッチングを行う場合には、レジスト層42の端部がめっき線14上ではなく、カバー層4上になるように、レジスト層42の開口を設けることが好ましい。また、めっき線14のエッチングと同時に、金属支持基板のエッチングを行う場合には、金属支持基板のエッチングが完了する時間よりも長い時間で、積極的にめっき線14のエッチングを行うことが好ましい。   Further, in the first embodiment, as shown in FIG. 14 (d), the end of the cover layer 4 in the opening 16 and the end of the insulating layer 2 in the opening 16 are etched by etching the plating wire 14. It is preferable that the opening 16 protrude beyond the end of the plated wire 14. Rather than simply removing the plated wire 14, the exposed surface (cut surface) of the plated wire is protected by the overhanging cover layer and insulating layer by positively etching the plated wire 14, and the plated wire is corroded. It is because it can suppress more effectively. 14C and 14D, a resist layer 42 is formed so as to cover the cover layer 4 at a position to be the opening 16, and an end portion of the resist layer 42 is on the plating wire 14. When the plating wire 14 is positively etched, it is preferable to provide an opening in the resist layer 42 so that the end of the resist layer 42 is not on the plating wire 14 but on the cover layer 4. In addition, when the metal support substrate is etched simultaneously with the etching of the plating wire 14, it is preferable to positively etch the plating wire 14 in a time longer than the time for completing the etching of the metal support substrate.

また、図19では、カバー層4側に形成されたレジスト層42、および絶縁層2側に形成されたレジスト層42の両方に開口領域が形成されているが、カバー層4の端部が、絶縁層2の端部よりも突出している場合、絶縁層2側に形成されたレジスト層42に開口領域を設けなければ、剥離液によるカバー層4の劣化は防止することができる。同様に、図17に示すように、絶縁層2の端部が、カバー層4の端部よりも突出している場合、カバー層4側に形成されるレジスト層に開口領域を設けなければ、絶縁層2の劣化は防止することができる。このような観点から、絶縁層およびカバー層の端部において、突出していない端部を有する層側のレジスト層に開口領域を設けないことが好ましい。   Moreover, in FIG. 19, although the opening area | region is formed in both the resist layer 42 formed in the cover layer 4 side, and the resist layer 42 formed in the insulating layer 2 side, the edge part of the cover layer 4 is When the insulating layer 2 protrudes beyond the end portion, the cover layer 4 can be prevented from being deteriorated by the stripping solution unless an opening region is provided in the resist layer 42 formed on the insulating layer 2 side. Similarly, as shown in FIG. 17, when the end portion of the insulating layer 2 protrudes from the end portion of the cover layer 4, insulation is provided unless an opening region is provided in the resist layer formed on the cover layer 4 side. Deterioration of the layer 2 can be prevented. From such a point of view, it is preferable not to provide an opening region in the resist layer on the layer side having the end portions that do not protrude at the end portions of the insulating layer and the cover layer.

2.第二実施態様
次に、第二実施態様のサスペンション用基板の製造方法について説明する。第二実施態様のサスペンション用基板は、上述した第二実施態様のサスペンション用基板の製造法であって、第一金属エッチング工程、カバー層形成工程、絶縁層エッチング工程、めっき部形成工程、保護層剥離工程、および第二金属エッチング工程を有することを特徴とするものである。
2. Second Embodiment Next, a method for manufacturing the suspension substrate of the second embodiment will be described. The suspension substrate according to the second embodiment is a method of manufacturing the suspension substrate according to the second embodiment described above, and includes a first metal etching step, a cover layer forming step, an insulating layer etching step, a plating portion forming step, and a protective layer. It has a peeling process and a 2nd metal etching process, It is characterized by the above-mentioned.

本発明によれば、テール部のめっき線の端部におけるカバー層の端部および絶縁層の端部が、めっき線の端部よりも突出するように、めっき線をエッチングすることにより、静電気による素子への悪影響を防止したサスペンション用基板を得ることができる。なお、第二実施態様のサスペンション用基板の製造方法は、開口部におけるめっき線の端部を、テール部におけるめっき線の端部に変更したこと以外は、上述した第一実施態様に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。   According to the present invention, by etching the plating wire so that the end portion of the cover layer and the end portion of the insulating layer at the end portion of the plating wire of the tail portion protrude from the end portion of the plating wire, A suspension substrate that prevents adverse effects on the element can be obtained. In addition, the manufacturing method of the suspension substrate of the second embodiment is the content described in the first embodiment except that the end of the plated wire in the opening is changed to the end of the plated wire in the tail. The description here is omitted.

D.外枠付サスペンション用基板の製造方法
次に、本発明の外枠付サスペンション用基板の製造方法について説明する。本発明の外枠付サスペンション用基板の製造方法は、上述した第一実施態様または第二実施態様のサスペンション用基板を得ることができる外枠付サスペンション用基板の製造方法であって、第一金属エッチング工程、カバー層形成工程、絶縁層エッチング工程、めっき部形成工程、保護層剥離工程、および第二金属エッチング工程を有すること特徴とするものである。本発明により、上述した図10のような素子付サスペンション用基板を得ることができる。
D. Next, a method for manufacturing a suspension substrate with an outer frame according to the present invention will be described. The manufacturing method of a suspension substrate with an outer frame according to the present invention is a manufacturing method of a suspension substrate with an outer frame that can obtain the suspension substrate of the first embodiment or the second embodiment described above, It has an etching process, a cover layer forming process, an insulating layer etching process, a plating part forming process, a protective layer peeling process, and a second metal etching process. According to the present invention, a suspension substrate with an element as shown in FIG. 10 described above can be obtained.

本発明によれば、開口部におけるカバー層の端部、および開口部における絶縁層の端部が、断線しためっき線の端部よりも突出するように、めっき線をエッチングすることにより、静電気による素子への悪影響を防止した外枠付サスペンション用基板を得ることができる。なお、本発明の外枠付サスペンション用基板の製造方法における各工程は、基本的には、上記「C.サスペンション用基板の製造方法 1.第一実施態様」に記載した内容と同様である。積層部材の加工時に、エッチングの対象領域を適宜調整することにより、外枠部を形成することができる。   According to the present invention, by etching the plating wire so that the end portion of the cover layer in the opening portion and the end portion of the insulating layer in the opening portion protrude from the end portion of the broken plating wire, A suspension substrate with an outer frame that prevents adverse effects on the element can be obtained. Each step in the manufacturing method of the suspension frame-equipped suspension substrate of the present invention is basically the same as the contents described in “C. Manufacturing method of suspension substrate 1. First embodiment”. The outer frame portion can be formed by appropriately adjusting the etching target region when processing the laminated member.

また、本発明においては、上述した外枠付サスペンション用基板の製造方法により得られた外枠付サスペンション用基板を用いて、サスペンション用基板の開口部で切断を行う切断工程を有することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供することもできる(図10におけるCut Line 2)。これにより、上述した第一実施態様のサスペンション用基板を得ることができる。   Further, the present invention is characterized by having a cutting step of cutting at the opening portion of the suspension substrate using the suspension substrate with outer frame obtained by the above-described method for manufacturing the suspension substrate with outer frame. A suspension substrate manufacturing method can also be provided (Cut Line 2 in FIG. 10). Thereby, the suspension substrate of the first embodiment described above can be obtained.

また、本発明においては、上述した外枠付サスペンション用基板の製造方法により得られた外枠付サスペンション用基板を用いて、サスペンション用基板の開口部よりも外枠部側で切断を行う切断工程を有することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供することもできる(図10におけるCut Line 1)。これにより、上述した第二実施態様のサスペンション用基板を得ることができる。   Further, in the present invention, the cutting step of cutting on the outer frame portion side of the opening of the suspension substrate using the suspension substrate with outer frame obtained by the method for manufacturing the suspension substrate with outer frame described above. It is also possible to provide a method of manufacturing a suspension substrate characterized by having (Cut Line 1 in FIG. 10). Thereby, the suspension substrate of the second embodiment described above can be obtained.

E.サスペンション
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用基板を含むことを特徴とするものである。
E. Suspension Next, the suspension of the present invention will be described. The suspension of the present invention includes the above-described suspension substrate.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、静電気による素子への悪影響を防止したサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension substrate, it is possible to provide a suspension in which adverse effects on elements due to static electricity are prevented.

図20は、本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。図20に示されるサスペンション60は、上述したサスペンション用基板20と、素子実装領域Xが形成されている表面とは反対側のサスペンション用基板20の表面に備え付けられたロードビーム51とを有するものである。   FIG. 20 is a schematic plan view showing an example of the suspension of the present invention. A suspension 60 shown in FIG. 20 includes the above-described suspension substrate 20 and a load beam 51 provided on the surface of the suspension substrate 20 opposite to the surface on which the element mounting region X is formed. is there.

本発明のサスペンションは、少なくともサスペンション用基板を有し、通常は、さらにロードビームを有する。サスペンション用基板については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、ロードビームは、一般的なサスペンションに用いられるロードビームと同様のものを用いることができる。   The suspension of the present invention has at least a suspension substrate, and usually further has a load beam. The suspension substrate is the same as the content described in “A. Suspension substrate”, and therefore, the description thereof is omitted here. The load beam can be the same as the load beam used for a general suspension.

F.素子付サスペンション
次に、本発明の素子付サスペンションについて説明する。本発明の素子付サスペンションは、上述したサスペンションと、上記サスペンションの素子実装領域に実装された素子と、を有することを特徴とするものである。
F. Next, the suspension with an element of the present invention will be described. A suspension with an element of the present invention includes the above-described suspension and an element mounted in an element mounting region of the suspension.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、静電気による素子への悪影響を防止した素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension described above, it is possible to provide a suspension with an element that prevents adverse effects on the element due to static electricity.

図21は、本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。図21に示される素子付サスペンション70は、上述したサスペンション60と、サスペンション60の素子実装領域Xに実装された素子61とを有するものである。   FIG. 21 is a schematic plan view showing an example of the suspension with an element of the present invention. A suspension 70 with an element shown in FIG. 21 has the above-described suspension 60 and an element 61 mounted in the element mounting region X of the suspension 60.

本発明の素子付サスペンションは、少なくともサスペンションおよび素子を有するものである。サスペンションについては、上記「E.サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、素子実装領域に実装される素子としては、例えば、磁気ヘッドスライダ、アクチュエータ、半導体等を挙げることができる。また、上記アクチュエータは、磁気ヘッドを有するものであっても良く、磁気ヘッドを有しないものであっても良い。   The suspension with an element of the present invention has at least a suspension and an element. The suspension is the same as that described in the above “E. Suspension”, and the description is omitted here. In addition, examples of elements mounted in the element mounting area include a magnetic head slider, an actuator, and a semiconductor. The actuator may have a magnetic head or may not have a magnetic head.

G.ハードディスクドライブ
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上述した素子付サスペンションを含むことを特徴とするものである。
G. Next, the hard disk drive of the present invention will be described. The hard disk drive of the present invention is characterized by including the above-described suspension with an element.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with higher functionality can be obtained by using the above-described suspension with an element.

図22は、本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。図22に示されるハードディスクドライブ80は、上述した素子付サスペンション70と、素子付サスペンション70がデータの書き込みおよび読み込みを行うディスク71と、ディスク71を回転させるスピンドルモータ72と、素子付サスペンション70の素子を移動させるアーム73およびボイスコイルモータ74と、上記の部材を密閉するケース75とを有するものである。   FIG. 22 is a schematic plan view showing an example of the hard disk drive of the present invention. A hard disk drive 80 shown in FIG. 22 includes the above-described suspension 70 with an element, a disk 71 on which data is written and read by the suspension 70 with an element, a spindle motor 72 that rotates the disk 71, and the elements of the suspension 70 with an element. Arm 73 and voice coil motor 74 for moving the above, and a case 75 for sealing the above members.

本発明のハードディスクドライブは、少なくとも素子付サスペンションを有し、通常は、さらにディスク、スピンドルモータ、アームおよびボイスコイルモータを有する。素子付サスペンションについては、上記「F.素子付サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。   The hard disk drive of the present invention has at least a suspension with an element, and usually further includes a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor. Since the suspension with an element is the same as the content described in “F. Suspension with an element”, description thereof is omitted here. As other members, the same members as those used in a general hard disk drive can be used.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

[実施例1]
まず、厚さ18μmのSUS304(金属支持部材1)、厚さ10μmのポリイミド樹脂層(絶縁層2)、厚さ9μmの電解銅層(導体層3A)を有する積層部材を準備した(図12(a))。次に、積層部材の両面に、ドライフィルムレジストを用いて、レジストパターンを形成した。その後、塩化第二鉄液を用いてエッチングし、エッチング後レジスト剥膜を行った。これにより、導体層3Aから配線13、接続端子用配線部3およびめっき線14を形成した。また、開口部16および接続端子12を形成する位置にある金属支持基板1を除去した(図12(b))。
[Example 1]
First, a laminated member having SUS304 (metal support member 1) having a thickness of 18 μm, a polyimide resin layer (insulating layer 2) having a thickness of 10 μm, and an electrolytic copper layer (conductor layer 3A) having a thickness of 9 μm was prepared (FIG. 12 ( a)). Next, a resist pattern was formed on both surfaces of the laminated member using a dry film resist. Then, it etched using the ferric chloride liquid, and resist stripping was performed after the etching. Thereby, the wiring 13, the wiring part 3 for connection terminals, and the plating wire 14 were formed from the conductor layer 3A. Further, the metal support substrate 1 at the position where the opening 16 and the connection terminal 12 are formed was removed (FIG. 12B).

その後、開口部16を形成する位置にあるめっき線14、および接続端子用配線部3を覆わないようにして、めっき線14および配線13上に、ポリイミド樹脂からなるカバー層4を形成した(図12(c))。次に、絶縁層2をパターニングするために、ドライフィルムレジストを用いて所定のレジストパターンを形成し、露出する部位のポリイミド樹脂をウェットエッチングで除去した(図12(d))。次に、めっき部17を形成するために、ドライフィルムレジストを用いて所定のレジストパターンを形成し、電解Auめっき処理により、接続端子用配線部3の表面上にめっき部17を形成した(図13(a)〜(c))。次に、レジストパターンを剥離した(図13(d))。   Thereafter, a cover layer 4 made of a polyimide resin was formed on the plating wire 14 and the wiring 13 so as not to cover the plating wire 14 and the connection terminal wiring portion 3 at the position where the opening 16 is to be formed (FIG. 12 (c)). Next, in order to pattern the insulating layer 2, a predetermined resist pattern was formed using a dry film resist, and the exposed polyimide resin was removed by wet etching (FIG. 12D). Next, in order to form the plating portion 17, a predetermined resist pattern is formed using a dry film resist, and the plating portion 17 is formed on the surface of the connection terminal wiring portion 3 by electrolytic Au plating (see FIG. 13 (a)-(c)). Next, the resist pattern was peeled off (FIG. 13D).

その後、開口部16におけるめっき線14の除去、および、金属支持基板1の外形加工を目的として、ドライフィルムレジストを用いて所定のレジストパターンを形成し、露出するめっき線16および金属支持基板1を、塩化第二鉄液を用いてエッチングした(図14(d))。この際、めっき線14を積極的にエッチングし、図5(b)におけるL21を40μmとし、L31を55μmとし、L41を30μmとした。これにより、図10に示す外枠付サスペンション用基板22を得た。最後に、得られた外枠付サスペンション用基板22を、開口部16よりも外枠部21側の位置(図8におけるCut Line 2)で切断し、個片のサスペンション用基板20を得た。 Thereafter, a predetermined resist pattern is formed using a dry film resist for the purpose of removing the plating wire 14 from the opening 16 and processing the outer shape of the metal support substrate 1, and exposing the exposed plating wire 16 and metal support substrate 1. Etching was performed using a ferric chloride solution (FIG. 14D). At this time, the plated wire 14 was positively etched to set L 21 in FIG. 5B to 40 μm, L 31 to 55 μm, and L 41 to 30 μm. As a result, the suspension frame-equipped suspension substrate 22 shown in FIG. 10 was obtained. Finally, the obtained suspension substrate 22 with the outer frame was cut at a position closer to the outer frame portion 21 than the opening 16 (Cut Line 2 in FIG. 8) to obtain an individual suspension substrate 20.

[実施例2]
得られた外枠付サスペンション用基板22を、開口部16の位置(図8におけるCut Line 1)で切断したこと以外は、実施例1と同様にして、個片のサスペンション用基板20を得た。
[Example 2]
An individual suspension substrate 20 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained suspension substrate 22 with outer frame was cut at the position of the opening 16 (Cut Line 1 in FIG. 8). .

1…金属支持基板、2…絶縁層、3A…導体層、3…接続端子用配線部、4…カバー層、12…接続端子、13…配線、14…めっき線、15…テスト用端子、16…開口部、17、18…めっき部、20…サスペンション用基板、21…外枠部、22…外枠付サスペンション用基板、31…共有用配線部、32…短絡防止用開口部、41…保護層、42…レジスト層、110…サスペンション用基板、120…外枠部、H…ヘッド部、T…テール部、X…素子実装領域、Y…外部回路基板接続領域、Z…テスト用端子領域   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal support substrate, 2 ... Insulating layer, 3A ... Conductor layer, 3 ... Connection terminal wiring part, 4 ... Cover layer, 12 ... Connection terminal, 13 ... Wiring, 14 ... Plating wire, 15 ... Test terminal, 16 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Opening part 17, 18 ... Plating part, 20 ... Suspension board | substrate, 21 ... Outer frame part, 22 ... Suspension board | substrate with outer frame, 31 ... Shared wiring part, 32 ... Opening part for short circuit prevention, 41 ... Protection Layer, 42 ... resist layer, 110 ... suspension substrate, 120 ... outer frame portion, H ... head portion, T ... tail portion, X ... element mounting region, Y ... external circuit board connection region, Z ... test terminal region

Claims (6)

ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、前記素子実装領域および前記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、前記テール部の端部を一端とし、前記接続端子と電気的に接続するためのめっき線と、を有するサスペンション用基板の製造方法であって、
金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された導体層とを有する積層部材を用意し、エッチングにより、前記導体層から、前記配線、前記接続端子を構成する接続端子用配線部、および前記めっき線を形成し、かつ、開口部を形成する位置にある前記金属支持基板を除去する第一金属エッチング工程と、
前記開口部を形成する位置にある前記めっき線を覆わないようにして、前記めっき線上にカバー層を形成するカバー層形成工程と、
前記カバー層形成工程の後に、エッチングにより、前記開口部を形成する位置にある前記絶縁層を除去する絶縁層エッチング工程と、
前記絶縁層エッチング工程の後に、前記開口部を形成する位置にある前記めっき線をめっきから保護する保護層を形成し、前記保護層が形成されていない前記接続端子用配線部の表面上に、めっき部を形成するめっき部形成工程と、
前記めっき部形成工程の後に、前記保護層を剥離する保護層剥離工程と、
前記保護層剥離工程の後に、エッチングにより、前記開口部を形成する位置にある前記めっき線を除去し、前記開口部を形成する第二金属エッチング工程と、
を有し、
前記第二金属エッチング工程では、前記開口部の前記めっき線の両面が露出するように前記積層部材の両面に第2保護層を形成した後、前記開口部における前記カバー層の端部、および前記開口部における前記絶縁層の端部が、前記開口部における前記めっき線の端部よりも突出するように、前記めっき線をエッチングすることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
An element mounting region formed on the head portion side for mounting an element, an external circuit board connection region formed on the tail portion side and having a connection terminal for connection to an external circuit substrate, the element mounting region, and the external circuit A method for manufacturing a suspension substrate, comprising: a wiring for electrically connecting between substrate connection regions; and a plated wire for electrically connecting to an end of the tail portion and electrically connecting to the connection terminal. ,
A laminated member having a metal supporting board, an insulating layer formed on the metal supporting board, and a conductor layer formed on the insulating layer is prepared, and the wiring and the connection are formed from the conductor layer by etching. A first metal etching step of forming a connection terminal wiring portion constituting a terminal, and forming the plated wire and removing the metal support substrate at a position where an opening is formed;
A cover layer forming step of forming a cover layer on the plated wire so as not to cover the plated wire at the position where the opening is formed;
After the cover layer forming step, an insulating layer etching step for removing the insulating layer at a position where the opening is formed by etching;
After the insulating layer etching step, forming a protective layer that protects the plated wire at the position where the opening is to be formed from plating, on the surface of the connection terminal wiring portion where the protective layer is not formed, A plating part forming step for forming a plating part;
After the plating part forming step, a protective layer peeling step for peeling the protective layer;
After the protective layer peeling step, the second metal etching step of removing the plating wire at the position where the opening is formed by etching and forming the opening,
Have
In the second metal etching step, after forming the second protective layer on both surfaces of the laminated member so that both surfaces of the plating wire of the opening are exposed , the end of the cover layer in the opening, and the A method for manufacturing a suspension substrate, comprising: etching the plating wire so that an end portion of the insulating layer in the opening protrudes beyond an end portion of the plating wire in the opening.
ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、前記素子実装領域および前記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、前記接続端子と電気的に接続するためのめっき線と、を有するサスペンション用基板の製造方法であって、
金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された導体層とを有する積層部材を用意し、エッチングにより、前記導体層から、前記配線、前記接続端子を構成する接続端子用配線部、および前記めっき線を形成し、かつ、前記テール部を形成する位置にある前記金属支持基板を除去する第一金属エッチング工程と、
前記テール部を形成する位置にある前記めっき線を覆わないようにして、前記めっき線上にカバー層を形成するカバー層形成工程と、
前記カバー層形成工程の後に、エッチングにより、前記テール部を形成する位置にある前記絶縁層を除去する絶縁層エッチング工程と、
前記絶縁層エッチング工程の後に、前記テール部を形成する位置にある前記めっき線をめっきから保護する保護層を形成し、前記保護層が形成されていない前記接続端子用配線部の表面上に、めっき部を形成するめっき部形成工程と、
前記めっき部形成工程の後に、前記保護層を剥離する保護層剥離工程と、
前記保護層剥離工程の後に、エッチングにより、前記テール部を形成する位置にある前記めっき線を除去し、前記テール部を形成する第二金属エッチング工程と、
を有し、
前記第二金属エッチング工程では、前記開口部の前記めっき線の両面が露出するように前記積層部材の両面に第2保護層を形成した後、前記テール部の前記めっき線の端部における前記カバー層の端部および前記絶縁層の端部が、前記めっき線の端部よりも突出するように、前記めっき線をエッチングすることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
An element mounting region formed on the head portion side for mounting an element, an external circuit board connection region formed on the tail portion side and having a connection terminal for connection to an external circuit substrate, the element mounting region, and the external circuit A method for manufacturing a suspension substrate, comprising: a wiring that electrically connects between substrate connection regions; and a plating wire that is electrically connected to the connection terminal,
A laminated member having a metal supporting board, an insulating layer formed on the metal supporting board, and a conductor layer formed on the insulating layer is prepared, and the wiring and the connection are formed from the conductor layer by etching. A first metal etching step of forming a connection terminal wiring portion constituting a terminal, and forming the plating wire and removing the metal support substrate at a position where the tail portion is formed;
A cover layer forming step of forming a cover layer on the plated wire so as not to cover the plated wire at a position where the tail portion is formed;
After the cover layer forming step, an insulating layer etching step for removing the insulating layer at a position where the tail portion is formed by etching;
After the insulating layer etching step, forming a protective layer that protects the plated wire at the position where the tail portion is formed from plating, on the surface of the connection terminal wiring portion where the protective layer is not formed, A plating part forming step for forming a plating part;
After the plating part forming step, a protective layer peeling step for peeling the protective layer;
After the protective layer peeling step, the second metal etching step for removing the plating wire at the position where the tail portion is formed by etching and forming the tail portion ;
Have
In the second metal etching step, after the second protective layer is formed on both surfaces of the laminated member so that both surfaces of the plated wire in the opening are exposed, the cover at the end of the plated wire in the tail portion is formed. A method of manufacturing a suspension substrate, comprising: etching the plating wire such that an end portion of the layer and an end portion of the insulating layer protrude from an end portion of the plating wire.
前記保護層および前記第2保護層を、ドライフィルムレジストを用いて形成することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のサスペンション用基板の製造方法。 The method for manufacturing a suspension substrate according to claim 1, wherein the protective layer and the second protective layer are formed using a dry film resist. 前記保護層を、前記積層部材の外枠部をめっきから保護するマスクを用いて形成することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のサスペンション用基板の製造方法。 The method for manufacturing a suspension substrate according to claim 1 , wherein the protective layer is formed using a mask that protects the outer frame portion of the laminated member from plating. 前記絶縁層エッチング工程において、前記開口部を形成する位置にある前記絶縁層の端部が、前記開口部を形成する位置にある前記カバー層の端部よりも突出するように、前記絶縁層をエッチングすることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板の製造方法。 In the insulating layer etching step, the insulating layer is formed so that an end of the insulating layer at a position where the opening is formed protrudes from an end of the cover layer at a position where the opening is formed. The method for manufacturing a suspension substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein etching is performed. サスペンション用基板と、前記サスペンション用基板のテール部側で一体化した外枠部とを有する外枠付サスペンション用基板の製造方法であって、
前記サスペンション用基板は、ヘッド部側に形成され、素子を実装する素子実装領域と、前記テール部側に形成され、外部回路基板との接続を行う接続端子を有する外部回路基板接続領域と、前記素子実装領域および前記外部回路基板接続領域の間を電気的に接続する配線と、前記外枠部および前記接続端子を電気的に接続するためのめっき線と、を有し、
金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された導体層とを有する積層部材を用意し、エッチングにより、前記導体層から、前記配線、前記接続端子を構成する接続端子用配線部、および前記めっき線を形成し、かつ、開口部を形成する位置にある前記金属支持基板を除去する第一金属エッチング工程と、
前記開口部を形成する位置にある前記めっき線を覆わないようにして、前記めっき線上にカバー層を形成するカバー層形成工程と、
前記カバー層形成工程の後に、エッチングにより、前記開口部を形成する位置にある前記絶縁層を除去する絶縁層エッチング工程と、
前記絶縁層エッチング工程の後に、前記開口部を形成する位置にある前記めっき線をめっきから保護する保護層を形成し、前記保護層が形成されていない前記接続端子用配線部の表面上に、めっき部を形成するめっき部形成工程と、
前記めっき部形成工程の後に、前記保護層を剥離する保護層剥離工程と、
前記保護層剥離工程の後に、エッチングにより、前記開口部を形成する位置にある前記めっき線を除去し、前記開口部を形成する第二金属エッチング工程と、
を有し、
前記第二金属エッチング工程では、前記開口部の前記めっき線の両面が露出するように前記積層部材の両面に第2保護層を形成した後、前記開口部における前記カバー層の端部、および前記開口部における前記絶縁層の端部が、前記開口部における前記めっき線の端部よりも突出するように、前記めっき線をエッチングすることを特徴とする外枠付サスペンション用基板の製造方法。
A method for manufacturing a suspension substrate with an outer frame, comprising a suspension substrate and an outer frame portion integrated on the tail portion side of the suspension substrate,
The suspension substrate is formed on the head portion side and mounts an element mounting region, and is formed on the tail portion side and has an external circuit board connection region having a connection terminal for connection to an external circuit substrate, Wiring for electrically connecting between the element mounting region and the external circuit board connection region, and a plating wire for electrically connecting the outer frame portion and the connection terminal,
A laminated member having a metal supporting board, an insulating layer formed on the metal supporting board, and a conductor layer formed on the insulating layer is prepared, and the wiring and the connection are formed from the conductor layer by etching. A first metal etching step of forming a connection terminal wiring portion constituting a terminal, and forming the plated wire and removing the metal support substrate at a position where an opening is formed;
A cover layer forming step of forming a cover layer on the plated wire so as not to cover the plated wire at the position where the opening is formed;
After the cover layer forming step, an insulating layer etching step for removing the insulating layer at a position where the opening is formed by etching;
After the insulating layer etching step, forming a protective layer that protects the plated wire at the position where the opening is to be formed from plating, on the surface of the connection terminal wiring portion where the protective layer is not formed, A plating part forming step for forming a plating part;
After the plating part forming step, a protective layer peeling step for peeling the protective layer;
After the protective layer peeling step, the second metal etching step of removing the plating wire at the position where the opening is formed by etching and forming the opening,
Have
In the second metal etching step, after forming the second protective layer on both surfaces of the laminated member so that both surfaces of the plating wire of the opening are exposed , the end of the cover layer in the opening, and the A method of manufacturing a suspension substrate with an outer frame, wherein the plating wire is etched so that an end of the insulating layer in the opening protrudes beyond an end of the plating wire in the opening.
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