JP5669841B2 - 検出装置及び方法、並びにリソグラフィシステム - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2009年7月31日に出願された米国仮出願第61/230,189号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
Claims (14)
- 第1入口および測定ノズルを有し、前記測定ノズルが加工面に近接する測定チャンバと、
第2入口および基準ノズルを有し、前記基準ノズルが基準面に近接する基準チャンバと、
印加された差圧に対して応答し、前記測定チャンバと前記基準チャンバとの間のインターフェイスを形成するダイアフラムと、
前記加工面が測定されているときに前記測定ノズルおよび前記基準ノズルを実質的に取り囲むシュラウドと、
前記シュラウドに連結された部分真空供給部と、を備える、
検出装置。 - 第1入口および測定ノズルを有し、前記測定ノズルが加工面に近接する測定チャンバと、
第2入口および基準ノズルを有し、前記基準ノズルが基準面に近接する基準チャンバと、
印加された差圧に対して応答し、前記測定チャンバと前記基準チャンバとの間のインターフェイスを形成するダイアフラムと、
前記加工面が測定されているときに前記測定ノズルおよび前記基準ノズルを実質的に取り囲むシュラウドと、
前記シュラウドに連結された部分流体供給部と、を備える、
検出装置。 - 前記第1入口を介して前記測定ノズルに流体を放出するとともに、前記第2入口を介して前記基準ノズルに流体を放出するように構成され、
前記流体は、空気、窒素、および水素のうちの1つを含む、請求項1又は2に記載の装置。 - 前記第1入口を介して前記測定ノズルに流体を放出するとともに、前記第2入口を介して前記基準ノズルに流体を放出するように構成され、
前記流体は、非反応性圧縮ガスを含む、請求項1又は2に記載の装置。 - 前記第1入口および前記第2入口は、第1リストリクタおよび第2リストリクタをそれぞれ含む、請求項1から4の何れか一項に記載の装置。
- 前記ダイアフラムの動きに対して応答する信号を出力する位置センサをさらに含む、請求項1から5の何れか一項に記載の装置。
- 第1入口を介して測定ノズルに流体を放出することであって、前記測定ノズルは加工面に近接することと、
第2入口を介して基準ノズルに流体を放出することであって、前記基準ノズルは基準面に近接することと、
印加された差圧に対して応答するダイアフラムの動きを検知することであって、前記ダイアフラムは測定チャンバおよび基準チャンバとの間のインターフェイスを形成することと、
シュラウドを用いて前記測定ノズル、前記基準ノズル、および前記基準面を実質的に取り囲むことと、
前記シュラウドを部分真空供給部に連結することと、を含む、方法。 - 第1入口を介して測定ノズルに流体を放出することであって、前記測定ノズルは加工面に近接することと、
第2入口を介して基準ノズルに流体を放出することであって、前記基準ノズルは基準面に近接することと、
印加された差圧に対して応答するダイアフラムの動きを検知することであって、前記ダイアフラムは測定チャンバおよび基準チャンバとの間のインターフェイスを形成することと、
シュラウドを用いて前記測定ノズル、前記基準ノズル、および前記基準面を実質的に取り囲むことと、
前記シュラウドを部分流体供給部に連結することと、を含む、方法。 - 前記第1入口を介して流体を放出することおよび前記第2入口を介して流体を放出することは、前記第1入口および前記第2入口を介して空気、窒素、および水素のうちの1つを放出することを含む、請求項7又は8に記載の方法。
- 前記第1入口を介して流体を放出することおよび前記第2入口を介して流体を放出することは、前記第1入口および前記第2入口を介して非反応性圧縮ガスを放出することを含む、請求項7又は8に記載の方法。
- 前記第1入口を介して流体を放出することおよび前記第2入口を介して流体を放出することは、前記第1入口および前記第2入口内の第1リストリクタおよび第2リストリクタをそれぞれ使用することを含む、請求項7から10の何れか一項に記載の方法。
- 前記ダイアフラムの動きに基づいた信号を出力することをさらに含む、請求項7から11の何れか一項に記載の方法。
- 放射ビームにパターンを形成可能なパターニングデバイスを支持するサポートデバイスと、前記パターン形成されたビームを基板上に投影する投影システムと、前記基板からの近接度を測定する近接センサと、を備えるリソグラフィシステムであって、
前記近接センサは、
第1供給入口および測定ノズルを有し、前記測定ノズルが加工面に近接する測定チャンバと、
第2供給入口および基準ノズルを有し、前記基準ノズルが基準面に近接する基準チャンバと、
印加された差圧に対して応答し、前記測定チャンバと前記基準チャンバとの間のインターフェイスを形成するダイアフラムと、
前記加工面が測定されているときに前記測定ノズルおよび前記基準ノズルを実質的に取り囲むシュラウドと、
前記シュラウドに連結された部分真空供給部と、を有する、
リソグラフィシステム。 - 放射ビームにパターンを形成可能なパターニングデバイスを支持するサポートデバイスと、前記パターン形成されたビームを基板上に投影する投影システムと、前記基板からの近接度を測定する近接センサと、を備えるリソグラフィシステムであって、
前記近接センサは、
第1供給入口および測定ノズルを有し、前記測定ノズルが加工面に近接する測定チャンバと、
第2供給入口および基準ノズルを有し、前記基準ノズルが基準面に近接する基準チャンバと、
印加された差圧に対して応答し、前記測定チャンバと前記基準チャンバとの間のインターフェイスを形成するダイアフラムと、
前記加工面が測定されているときに前記測定ノズルおよび前記基準ノズルを実質的に取り囲むシュラウドと、
前記シュラウドに連結された部分流体供給部と、を有する、
リソグラフィシステム。
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