JP5664128B2 - Pyrimidine compound, material for organic electroluminescence device, composition for organic electroluminescence device, organic electroluminescence device, lighting device and display device - Google Patents

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Description

本発明は、ピリミジン化合物、当該化合物からなる有機電界発光素子用材料、当該化合物及び溶剤を含有する有機電界発光素子用組成物、発光効率が高く、駆動電圧が低い有機電界発光素子、並びに当該有機電界発光素子を有する照明装置及び表示装置に関する。   The present invention relates to a pyrimidine compound, a material for an organic electroluminescent device comprising the compound, a composition for an organic electroluminescent device containing the compound and a solvent, an organic electroluminescent device having a high luminous efficiency and a low driving voltage, and the organic The present invention relates to a lighting device and a display device having an electroluminescent element.

近年、有機薄膜を用いた電界発光素子(有機電界発光(EL)素子)の開発が行われている。有機電界発光素子における有機薄膜の形成方法としては、真空蒸着法と湿式成膜法が挙げられる。このうち、湿式成膜法は真空プロセスが要らず、大面積化が容易で、1つの層を形成するための塗布液(有機電界発光素子用組成物)に様々な機能をもった複数の材料を混合して入れることが容易である等の利点がある。   In recent years, electroluminescence devices using organic thin films (organic electroluminescence (EL) devices) have been developed. Examples of the method for forming the organic thin film in the organic electroluminescence device include a vacuum deposition method and a wet film formation method. Among these, the wet film-forming method does not require a vacuum process, is easy to increase in area, and a plurality of materials having various functions in a coating liquid (composition for an organic electroluminescent element) for forming one layer. There are advantages such as easy mixing and mixing.

湿式成膜法によって形成された発光層の材料としては、ポリ(p−フェニレンビニレン)誘導体やポリフルオレン誘導体等の高分子材料が主に用いられているが、高分子材料には以下のような問題がある。
・高分子材料は重合度や分子量分布を制御することが困難である。
・連続駆動時に末端残基による劣化が起こる。
Polymer materials such as poly (p-phenylene vinylene) derivatives and polyfluorene derivatives are mainly used as the material for the light emitting layer formed by the wet film formation method. There's a problem.
・ It is difficult to control the degree of polymerization and molecular weight distribution of polymer materials.
・ Deterioration due to terminal residues occurs during continuous driving.

・材料自体の高純度化が困難で、不純物を含む。
上記問題のために、湿式成膜法による素子は、真空蒸着法による素子に比べて駆動安定性に劣り、一部を除いて実用レベルに至っていないのが現状である。
以上の様な問題を解決する試みとして、特許文献1には高分子化合物ではなく、複数の低分子材料(電荷輸送材料、発光材料)を混合して湿式成膜法により形成した有機薄膜を用いた有機電界発光素子が記載されている。しかしながら、特許文献1に記載されている有機電界発光素子は蛍光発光を利用しているため、素子の発光効率及び最大発光輝度が低く、実用特性を満たしていない。
・ High purity of the material itself is difficult and contains impurities.
Due to the above-described problems, an element using a wet film formation method is inferior in driving stability as compared with an element using a vacuum deposition method, and has not reached a practical level except for a part.
As an attempt to solve the above problems, Patent Document 1 uses an organic thin film formed by a wet film-forming method by mixing a plurality of low-molecular materials (charge transporting materials, light-emitting materials) instead of a polymer compound. Organic electroluminescent devices are described. However, since the organic electroluminescent element described in Patent Document 1 uses fluorescent light emission, the light emission efficiency and the maximum light emission luminance of the element are low, and the practical characteristics are not satisfied.

湿式成膜法により形成された複数の低分子材料からなる有機薄膜を用いた有機電界発光素子において、非特許文献1では、素子の発光効率を高めるために、燐光発光を利用した素子が記載されている。非特許文献1に記載の有機電界発光素子の電荷輸送材料は、以下に示すビフェニル誘導体を用いている。   In an organic electroluminescent device using an organic thin film made of a plurality of low-molecular materials formed by a wet film formation method, Non-Patent Document 1 describes a device using phosphorescence emission in order to increase the luminous efficiency of the device. ing. The charge transport material of the organic electroluminescence device described in Non-Patent Document 1 uses the following biphenyl derivative.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

しかしながら、上記ビフェニル誘導体は、非常に結晶化しやすく、湿式成膜法では均一な非晶質膜を得ることが困難であった。更に、上記ビフェニル誘導体は、溶媒に対する溶解性が低い。このため、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒を塗布溶媒に用いる必要があるが、ハロゲン系溶媒は環境負荷が大きく実用上問題がある。又、ハロゲン系溶媒中に含まれる不純物により材料が劣化する可能性が大きいため、ハロゲン系溶媒を用いた湿式成膜法による素子は駆動安定性が十分でないことが考えられる。   However, the biphenyl derivative is very easy to crystallize, and it has been difficult to obtain a uniform amorphous film by the wet film formation method. Furthermore, the biphenyl derivative has low solubility in a solvent. For this reason, it is necessary to use a halogen-based solvent such as chloroform or 1,2-dichloroethane as a coating solvent, but the halogen-based solvent has a large environmental load and has a practical problem. In addition, since there is a high possibility that the material is deteriorated by impurities contained in the halogen-based solvent, it is conceivable that an element formed by a wet film formation method using a halogen-based solvent does not have sufficient driving stability.

又、特許文献2には、下記の様なキノリン環とカルバゾール環を分子内に含む電荷輸送材料が記載されている。しかしながら、当該電荷輸送材料を用いた有機電界発光素子は駆動安定性が十分ではなかった。   Patent Document 2 describes a charge transport material containing a quinoline ring and a carbazole ring in the molecule as described below. However, the organic electroluminescence device using the charge transport material has not been sufficiently driven.

Figure 0005664128
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特開平11−273859号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-238359 特開2006−199677号公報JP 2006-199677 A

Japanese Journal of Applied Physics Vol.44,No.1B, 2005, pp.626-629Japanese Journal of Applied Physics Vol.44, No.1B, 2005, pp.626-629

本発明は上記従来の実状に鑑みてなされたものであり、種々の有機溶媒に対する溶解性に優れ、且つ電子輸送性にも優れる有機電界発光素子用材料を提供すること、更には駆動安定性に優れ、低い電圧で駆動可能な有機電界発光素子を形成するための組成物、並びにそれを用いた有機電界発光素子、当該有機電界発光素子を有する照明装置及び表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described conventional situation, and provides an organic electroluminescent element material that is excellent in solubility in various organic solvents and excellent in electron transport properties, and further in driving stability. An object of the present invention is to provide an excellent composition for forming an organic electroluminescent element that can be driven at a low voltage, an organic electroluminescent element using the composition, an illuminating device having the organic electroluminescent element, and a display device. .

本発明者らが鋭意検討した結果、特定構造のピリミジン化合物が、種々の溶媒に対する溶解性が優れ、非晶質性を有するため、湿式成膜法による薄膜形成が可能であり、しかも、優れた電荷輸送性を有するため、有機電界発光素子に用いると高い駆動安定性を示し、かつ低い駆動電圧で駆動可能であることを見出し、本発明に到達した。
即ち、本発明の要旨は、下記(1)〜()に存する。(1)下記一般式()で表されることを特徴とするピリミジン化合物。
As a result of intensive studies by the present inventors, a pyrimidine compound having a specific structure is excellent in solubility in various solvents and has an amorphous property, so that a thin film can be formed by a wet film formation method and is excellent. It has been found that when it is used in an organic electroluminescence device, it has high charge stability and can be driven with a low drive voltage because of its charge transport property, and the present invention has been achieved.
That is, the gist of the present invention resides in the following (1) to ( 8 ). (1) A pyrimidine compound represented by the following general formula ( 3 ).

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(一般式()中、X及びZはそれぞれ独立に1−ナフチル基、2−ナフチル基及び9−フェナントリル基のいずれかである。
及びL単結合である。)
(2)前記(1)に記載のピリミジン化合物及び溶剤を含有することを特徴とする有機電
界発光素子用組成物。
(3)基板上に、陽極、陰極、及び該陽極と該陰極の間に有機層を有する有機電界発光素子において、該有機層が、有機電界発光素子用材料として前記(1)に記載の化合物を含む層を有することを特徴とする有機電界発光素子。
(4)基板上に、陽極、陰極、及び該陽極と該陰極の間に有機層を有する有機電界発光素子において、該有機層が、湿式成膜法にて前記(2)に記載の有機電界発光素子用組成物を用いて形成された層を有することを特徴とする有機電界発光素子。
(5)前記有機電界発光素子用材料を含む層が発光層であることを特徴とする(3)に記載の有機電界発光素子。
(6)前記有機電界発光素子用組成物を用いて形成された層が発光層であることを特徴とする前記(4)に記載の有機電界発光素子。
(7)前記(3)〜(6)のいずれか1項に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする表示装置。
(8)前記(3)〜(6)のいずれか1項に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする照明装置。
(In general formula ( 3 ), X and Z are each independently any one of 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, and 9-phenanthryl group.
L 1 and L 2 are single bonds . )
(2) An organic battery comprising the pyrimidine compound described in (1) above and a solvent.
Composition for field light emitting device.
(3) An organic electroluminescence device having an anode, a cathode, and an organic layer between the anode and the cathode on a substrate, wherein the organic layer is a compound as described in (1) above as an organic electroluminescence device material An organic electroluminescent element comprising a layer containing
(4) In an organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and an organic layer between the anode and the cathode on a substrate, the organic layer is an organic electric field according to (2) described above by a wet film formation method. An organic electroluminescent device comprising a layer formed using a composition for a light emitting device.
(5) The organic electroluminescent element according to (3), wherein the layer containing the material for an organic electroluminescent element is a light emitting layer.
(6) The organic electroluminescent device as described in (4) above, wherein the layer formed using the composition for organic electroluminescent device is a luminescent layer.
(7) A display device comprising the organic electroluminescent element according to any one of (3) to (6).
(8) An illuminating device comprising the organic electroluminescent element according to any one of (3) to (6).

本発明のピリミジン化合物は、種々の溶媒に対する溶解性に優れると共に、非晶質性を有するため、湿式成膜法による薄膜形成が可能であり、しかも優れた電荷輸送性を有する。
このため、本発明のピリミジン化合物を用いて、駆動安定性に優れ、かつ低い駆動電圧で駆動可能な有機電界発光素子を容易に提供することができる。
Since the pyrimidine compound of the present invention is excellent in solubility in various solvents and has an amorphous property, it can be formed into a thin film by a wet film formation method and has excellent charge transport properties.
For this reason, using the pyrimidine compound of the present invention, it is possible to easily provide an organic electroluminescence device that is excellent in driving stability and can be driven with a low driving voltage.

本発明の有機電界発光素子の一例を示した模式的断面図である。It is typical sectional drawing which showed an example of the organic electroluminescent element of this invention.

以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変形して実施することができる。
<ピリミジン化合物>
本発明のピリミジン化合物は、下記一般式(I)で表わされることを特徴とする。
Embodiments of the present invention will be described in detail below. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention.
<Pyrimidine compound>
The pyrimidine compound of the present invention is represented by the following general formula (I).

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(一般式(1)中、X及びZはそれぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数30以
下の芳香族環基である。
及びLはそれぞれ独立に単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数30以下の芳香族環基である。)
[1]構造上の特徴
上記一般式(1)で表される本発明のピリミジン化合物は、ピリミジン環の4位もしくは6位の少なくとも一方がp―ビフェニル基によって置換されていることが必須である。ピリミジン環の4位もしくは6位の少なくとも一方がp−ビフェニル基により置換されていることにより、電子輸送性に優れると考えられる。
又、ピリミジン環の2位、及び6位(ピリミジン環の4位がp―ビフェニル基によって置換されている場合)もしくは4位(ピリミジン環の6位がp―ビフェニル基によって置換されている場合)に置換基を有するフェニル基によって置換されていることにより、ピリミジン環の活性部位を保護し、化学的且つ電気的安定性を高めることができると考えられる。
(In General Formula (1), X and Z are each independently an aromatic ring group having 30 or less carbon atoms which may have a substituent.
L 1 and L 2 are each independently a single bond or an aromatic ring group having 30 or less carbon atoms which may have a substituent. )
[1] Structural features In the pyrimidine compound of the present invention represented by the general formula (1), it is essential that at least one of the 4-position and the 6-position of the pyrimidine ring is substituted with a p-biphenyl group. . It is considered that the electron transport property is excellent because at least one of the 4-position and the 6-position of the pyrimidine ring is substituted with a p-biphenyl group.
In addition, the 2-position and 6-position of the pyrimidine ring (when the 4-position of the pyrimidine ring is substituted with a p-biphenyl group) or the 4-position (when the 6-position of the pyrimidine ring is substituted with a p-biphenyl group) It is considered that the active site of the pyrimidine ring can be protected and the chemical and electrical stability can be enhanced by being substituted with a phenyl group having a substituent.

[2]一般式(1)における各構成要素
以下に上記一般式(1)における各構成要素について詳細に説明する。
<X及びZについて>
一般式(1)中のX及びZは、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数30以下の芳香族環基である。尚、本発明でいう「芳香族環基」とは、芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基である。
[2] Each component in General formula (1) Each component in the said General formula (1) is demonstrated in detail below.
<About X and Z>
X and Z in the general formula (1) are each independently an aromatic ring group having 30 or less carbon atoms which may have a substituent. In the present invention, the “aromatic ring group” means an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group.

X及びZの芳香族環基としては、炭素数3以上25以下のものが好ましく、より具体的には、
フェニル基;
1−ナフチル基、2−ナフチル基等のナフチル基;
9−フェナンチル基、3−フェナンチル基等のフェナンチル基;
1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基等のアントリル基;
1−ナフタセニル基、2−ナフタセニル基等のナフタセニル基;
1−クリセニル基、2−クリセニル基、3−クリセニル基、4−クリセニル基、5−クリセニル基、6−クリセニル基等のクリセニル基;
1−ピレニル基等のピレニル基;
1−トリフェニレニル基等のトリフェニレニル基;
1−コロネニル基等のコロネニル基;
2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基等のピリジル基;
2−チエニル基等のチエニル基;
3−ベンゾチエニル基等のベンゾチエニル基;
2−ジベンゾフラニル基、4−ジベンゾフラニル基等のベンゾフラニル基
2−キノリニル基等のキノリニル基等が挙げられ、
中でもフェニル基、ナフチル基、フェナンチル基、アントラニル基等の芳香族炭化水素環基がより好ましい。
As the aromatic ring group for X and Z, those having 3 to 25 carbon atoms are preferred, and more specifically,
A phenyl group;
A naphthyl group such as a 1-naphthyl group and a 2-naphthyl group;
A phenanthryl group such as a 9-phenanthyl group and a 3-phenanthyl group;
Anthryl groups such as 1-anthryl group, 2-anthryl group, 9-anthryl group;
A naphthacenyl group such as a 1-naphthacenyl group and a 2-naphthacenyl group;
A chrycenyl group such as a 1-chrysenyl group, a 2-chrysenyl group, a 3-chrysenyl group, a 4-chrysenyl group, a 5-chrycenyl group, a 6-chrenyl group;
A pyrenyl group such as a 1-pyrenyl group;
A triphenylenyl group such as a 1-triphenylenyl group;
A coronenyl group such as a 1-coronenyl group;
Pyridyl groups such as 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group;
A thienyl group such as a 2-thienyl group;
A benzothienyl group such as a 3-benzothienyl group;
Benzofuranyl group such as 2-dibenzofuranyl group, 4-dibenzofuranyl group, quinolinyl group such as 2-quinolinyl group, etc.
Among them, aromatic hydrocarbon ring groups such as a phenyl group, a naphthyl group, a phenanthyl group, and an anthranyl group are more preferable.

又、化合物の安定性の面から、X及びZとしてはフェニル基、2−ナフチル基、1−ナフチル基、9−フェナントリル基、9−アントラニル基等が更に好ましく、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−フェナントリル基等が化合物の精製しやすさから特に好ましく、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−フェナントリル基が最も好ましい。   From the viewpoint of the stability of the compound, X and Z are more preferably a phenyl group, a 2-naphthyl group, a 1-naphthyl group, a 9-phenanthryl group, a 9-anthranyl group, and the like, and a phenyl group, a 1-naphthyl group, A 2-naphthyl group, a 9-phenanthryl group, and the like are particularly preferable from the viewpoint of easy purification of the compound, and a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, and a 9-phenanthryl group are most preferable.

尚、X及びZは置換基を有していてもよく、その置換基の具体例としては、
炭素数1〜20のアルキル基;
炭素数6〜25の芳香族炭化水素環基;
炭素数3〜20の芳香族複素環基;
炭素数1〜20のアルキルオキシ基;
炭素数3〜20の(ヘテロ)アリールオキシ基;
炭素数1〜20のアルキルチオ基;
炭素数3〜20の(ヘテロ)アリールチオ基;
シアノ基等が挙げられる。
X and Z may have a substituent. Specific examples of the substituent include
An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms;
An aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 25 carbon atoms;
An aromatic heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms;
An alkyloxy group having 1 to 20 carbon atoms;
A (hetero) aryloxy group having 3 to 20 carbon atoms;
An alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms;
A (hetero) arylthio group having 3 to 20 carbon atoms;
A cyano group etc. are mentioned.

これらの基は更に置換基を有していてもよく、その具体例としては、X及びZの置換基として例示したものと同様である。
X及びZが有する置換基としては炭素数1〜20のアルキル基及び炭素数6〜25の芳香族炭化水素環基が、化合物の安定性の面から好ましく、炭素数6〜25の芳香族炭化水素環基が特に好ましい。
These groups may further have a substituent, and specific examples thereof are the same as those exemplified as the substituents for X and Z.
As the substituent which X and Z have, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 25 carbon atoms are preferable in terms of stability of the compound, and aromatic carbonization having 6 to 25 carbon atoms. A hydrogen ring group is particularly preferred.

X及びZが有していてもよい置換基としての炭素数1〜20のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロヘキシル基、デシル基、オクタデシル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基等である。中でも、メチル基、エチル基等が原料の入手しやすさや、安価さなどから好ましく、又、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等も、非極性溶媒に高い溶解性を持つため好ましい。   Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms as the substituent that X and Z may have include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an iso-butyl group, and a sec-butyl group. Group, tert-butyl group, hexyl group, octyl group, cyclohexyl group, decyl group, octadecyl group and the like are preferable, and methyl group, ethyl group, isopropyl group and the like are preferable. Among them, a methyl group, an ethyl group, and the like are preferable from the viewpoint of availability of raw materials and low cost, and an iso-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and the like have high solubility in nonpolar solvents. Therefore, it is preferable.

X及びZが有していてもよい置換基としての炭素数6〜25の芳香族炭化水素環基の例としては、
フェニル基;
1−ナフチル基、2−ナフチル基等のナフチル基;
9−フェナンチル基、3−フェナンチル基等のフェナンチル基;
1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基等のアントリル基;
1−ナフタセニル基、2−ナフタセニル基等のナフタセニル基;
1−クリセニル基、2−クリセニル基、3−クリセニル基、4−クリセニル基、5−クリセニル基、6−クリセニル基等のクリセニル基;
1−ピレニル基等のピレニル基;
1−トリフェニレニル基等のトリフェニレニル基;
1−コロネニル基等のコロネニル基;
4−ビフェニル基、3−ビフェニル基等のビフェニル基;
オルト−ターフェニル基、メタ−ターフェニル基、パラ−ターフェニル基等のターフェニル基等が挙げられる。中でも、化合物の安定性の面からフェニル基、2−ナフチル基、1−アントラニル基、9−フェナントリル基、9−アントラニル基、4−ビフェニル基、
3−ビフェニル基等が好ましく、化合物の精製しやすさからフェニル基、2−ナフチル基、3−ビフェニル基等が特に好ましい。
As an example of an aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 25 carbon atoms as a substituent that X and Z may have,
A phenyl group;
A naphthyl group such as a 1-naphthyl group and a 2-naphthyl group;
A phenanthryl group such as a 9-phenanthyl group and a 3-phenanthyl group;
Anthryl groups such as 1-anthryl group, 2-anthryl group, 9-anthryl group;
A naphthacenyl group such as a 1-naphthacenyl group and a 2-naphthacenyl group;
A chrycenyl group such as a 1-chrysenyl group, a 2-chrysenyl group, a 3-chrysenyl group, a 4-chrysenyl group, a 5-chrycenyl group, a 6-chrenyl group;
A pyrenyl group such as a 1-pyrenyl group;
A triphenylenyl group such as a 1-triphenylenyl group;
A coronenyl group such as a 1-coronenyl group;
A biphenyl group such as a 4-biphenyl group or a 3-biphenyl group;
Examples thereof include terphenyl groups such as ortho-terphenyl group, meta-terphenyl group and para-terphenyl group. Among them, in terms of stability of the compound, phenyl group, 2-naphthyl group, 1-anthranyl group, 9-phenanthryl group, 9-anthranyl group, 4-biphenyl group,
A 3-biphenyl group and the like are preferable, and a phenyl group, a 2-naphthyl group, a 3-biphenyl group, and the like are particularly preferable from the viewpoint of easy purification of the compound.

X及びZが有していてもよい置換基としての炭素数3〜20の芳香族複素環基の例としては、
2−チエニル基等のチエニル基;
2−フリル基等のフリル基;
2−イミダゾリル基等のイミダゾリル基;
2−ピリジル基等のピリジル基;
2−ジベンゾフラニル基、4−ジベンゾフラニル基等のベンゾフラニル基
1,3,5−トリアジン−2−イル基等のトリアジン−イル基等が挙げられる。
As an example of an aromatic heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms as a substituent that X and Z may have,
A thienyl group such as a 2-thienyl group;
A furyl group such as a 2-furyl group;
An imidazolyl group such as a 2-imidazolyl group;
A pyridyl group such as a 2-pyridyl group;
Examples thereof include benzofuranyl groups such as 2-dibenzofuranyl group and 4-dibenzofuranyl group, and triazine-yl groups such as 1,3,5-triazin-2-yl group.

化合物の安定性の点からジベンゾフラニル基が好ましい
X及びZが有していてもよい置換基としての炭素数1〜20のアルキルオキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、オクタデシルオキシ基等が挙げられ、化合物を分離・精製しやすい点から、メトキシ基、エトキシ基等が好ましい。
A dibenzofuranyl group is preferable from the viewpoint of the stability of the compound. Examples of the alkyloxy group having 1 to 20 carbon atoms as a substituent that X and Z may have include a methoxy group, an ethoxy group, and an isopropyloxy group. , A cyclohexyloxy group, an octadecyloxy group, and the like, and a methoxy group, an ethoxy group, and the like are preferable from the viewpoint of easy separation and purification of the compound.

X及びZが有していてもよい置換基としての炭素数3〜20の(ヘテロ)アリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、9−アントラニルオキシ基、2−チエニルオキシ基等が挙げられ、溶解性の点から、フェノキシ基等が好ましい。
X及びZが有していてもよい置換基としての炭素数1〜20のアルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基、シクロヘキシルチオ基等が挙げられ、化合物を分離・精製しやすい点から、メチルチオ基等が好ましい。
Examples of the (hetero) aryloxy group having 3 to 20 carbon atoms as the substituent that X and Z may have include a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 9-anthranyloxy group, and 2-thienyloxy. A phenoxy group and the like are preferable from the viewpoint of solubility.
Examples of the alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms as the substituent that X and Z may have include a methylthio group, an ethylthio group, an isopropylthio group, a cyclohexylthio group, etc. From the point of being easy to do, a methylthio group etc. are preferable.

X及びZが有していてもよい置換基としての炭素数3〜20の(ヘテロ)アリールチオ基の例としては、フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、9−アントラニルチオ基、2−チエニルチオ基等が挙げられ、溶解性の点から、フェニルチオ基等が好ましい。
尚、本発明において、化合物の安定性の点から、少なくともXが炭素数6〜25の芳香族炭化水素環基であることが好ましく、X及びZはそれぞれ炭素数6〜25の芳香族炭化水素環基及び炭素数3〜20の芳香族複素環基であることがより好ましい。
Examples of the (hetero) arylthio group having 3 to 20 carbon atoms as a substituent that X and Z may have include a phenylthio group, a 1-naphthylthio group, a 9-anthranylthio group, and a 2-thienylthio group. From the viewpoint of solubility, a phenylthio group and the like are preferable.
In the present invention, from the viewpoint of stability of the compound, at least X is preferably an aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 25 carbon atoms, and X and Z are aromatic hydrocarbon groups having 6 to 25 carbon atoms, respectively. It is more preferable that they are a cyclic group and a C3-C20 aromatic heterocyclic group.

<L及びLについて>
一般式(1)中のLは、ピリミジン環の2位に結合するフェニル基と結合する置換基であり、Lはピリジン環の4位(ピリミジン環の6位がp―ビフェニル基によって置換されている場合)もしくは6位(ピリミジン環の4位がp―ビフェニル基によって置換されている場合)に結合するフェニル基と結合する置換基である。L及びLはそれぞれ単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数30以下の芳香族環基である。
<For L 1 and L 2>
L 1 in the general formula (1) is a substituent bonded to the phenyl group bonded to the 2-position of the pyrimidine ring, and L 2 is substituted to the 4-position of the pyridine ring (the 6-position of the pyrimidine ring is substituted with a p-biphenyl group). Or a phenyl group that binds to the 6-position (when the 4-position of the pyrimidine ring is substituted with a p-biphenyl group). L 1 and L 2 are each a single bond or an aromatic ring group having 30 or less carbon atoms which may have a substituent.

及びLの芳香族環基としては、炭素数3以上25以下のものが好ましく、より具体的には、フェニレン基、ナフチレン基、フェナントリレン基、アントリレン基、ナフタセニレン基、クリセニレン基、ピレニレン基、トリフェニレニレン基、コロネニレン基、ピリジレン基、チエニレン基、ベンゾチエニレン基、又はキノリニレン基等が挙げられる。化合物の安定性の面から、L及びLとしてはフェニレン基、ナフチレン基、フェナントリレン基、アントリレン基等がより好ましい。又、フェニレン基、ナフチレン基等が化合物の精製しやすさから特に好ましく、更に溶解性や、共役を狭くし高い3重項励起エネルギーを輸送できる点からm−フェニレン基が最も好ましい。 The aromatic ring groups of L 1 and L 2 are preferably those having 3 to 25 carbon atoms, and more specifically, a phenylene group, naphthylene group, phenanthrylene group, anthrylene group, naphthacenylene group, chrysenylene group, pyrenylene group. , Triphenylenylene group, coronenylene group, pyridylene group, thienylene group, benzothienylene group, quinolinylene group, and the like. From the viewpoint of the stability of the compound, L 1 and L 2 are more preferably a phenylene group, a naphthylene group, a phenanthrylene group, an anthrylene group, or the like. Further, a phenylene group, a naphthylene group, and the like are particularly preferable from the viewpoint of ease of purification of the compound, and an m-phenylene group is most preferable from the viewpoints of solubility and narrow conjugation and transport of high triplet excitation energy.

尚、L及びLは置換基を有していてもよく、その置換基の具体例及び好ましい態様については、前記X及びZが有する置換基と同様である。
本発明のL及びLは、化合物安定性の点から、それぞれ単結合及びフェニレン基であることが好ましい。又、化合物合成の簡便さからLが単結合であることがより好ましく、前述の通り、Lが溶解性や、共役を狭くし高い3重項励起エネルギーを輸送できる点からm―フェニレン基であることも好ましい。
L 1 and L 2 may have a substituent, and specific examples and preferred embodiments of the substituent are the same as the substituents of X and Z.
L 1 and L 2 of the present invention are preferably a single bond and a phenylene group, respectively, from the viewpoint of compound stability. In addition, L 1 is more preferably a single bond from the standpoint of compound synthesis. As described above, L 1 is a m-phenylene group from the viewpoint of solubility and transport of high triplet excitation energy by narrowing conjugation. It is also preferable.

本発明のピリミジン化合物は、有機溶剤に対する溶解性の点から、下記一般式(3)で表わされる化合物であることが好ましい。
又、電子輸送性に優れる点からは、下記一般式(4)で表わされる化合物も好ましい。
The pyrimidine compound of the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (3) from the viewpoint of solubility in an organic solvent.
Moreover, the compound represented by following General formula (4) is also preferable from the point which is excellent in electron transport property.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

<その他の置換基について>
本発明では、下記一般式(2)で表わされる部分構造を本発明のピリミジン化合物の主骨格という。
<About other substituents>
In the present invention, the partial structure represented by the following general formula (2) is referred to as the main skeleton of the pyrimidine compound of the present invention.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

本発明のピリミジン化合物は、本発明の効果を損なわない限り、当該主骨格において、
前述した−L−X及び−L−Z以外に、更に任意の置換基を有していてもよいが、化合物安定性の点から、当該置換基は、フェニル基又はアルキル基であることが好ましい。
主骨格が更に有していてもよい置換基がフェニル基である場合、当該フェニル基が更に置換基を有していてもよい。尚、当該フェニル基が更に有していてもよい置換基の具体例及び好ましい態様について、前記X及びZが有する置換基として挙げたものと同様である。
主骨格が更に有していてもよい置換基がアルキル基である場合、当該アルキル基が更に置換基を有していてもよい。尚、当該アルキル基が更に有していてもよい置換基の具体例としては、
前記炭素数6〜25の芳香族炭化水素環基;
前記炭素数3〜20の芳香族複素環基;
前記炭素数1〜20のアルキルオキシ基;
前記炭素数3〜20の(ヘテロ)アリールオキシ基;
前記炭素数1〜20のアルキルチオ基;
前記炭素数3〜20の(ヘテロ)アリールチオ基;
前記シアノ基等が挙げられる。
As long as the pyrimidine compound of the present invention does not impair the effects of the present invention, in the main skeleton,
In addition to the aforementioned -L 1 -X and -L 2 -Z, an optional substituent may be present, but from the viewpoint of compound stability, the substituent is a phenyl group or an alkyl group. Is preferred.
When the substituent that the main skeleton may further have is a phenyl group, the phenyl group may further have a substituent. In addition, about the specific example and preferable aspect of the substituent which the said phenyl group may have further, it is the same as that of what was mentioned as a substituent which said X and Z have.
When the substituent that the main skeleton may further have is an alkyl group, the alkyl group may further have a substituent. In addition, as a specific example of the substituent that the alkyl group may further have,
The C6-C25 aromatic hydrocarbon ring group;
The aromatic heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms;
The alkyloxy group having 1 to 20 carbon atoms;
The C3-20 (hetero) aryloxy group;
The alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms;
The C3-20 (hetero) arylthio group;
Examples include the cyano group.

これらの基は更に置換基を有していてもよく、その具体例としては、X及びZの置換基として例示したものと同様である。
本発明のピリミジン化合物は、分離・精製のしやすさから、主骨格において前述した−L−X及び−L−Z以外に更に置換基を有さないものが好ましい。又、化合物の安定性等の点から主骨格において前述した−L−X及び−L−Z以外に更にフェニル基、ナフチル基、又はフェナントリル基等を置換基として有するものも好ましい。
These groups may further have a substituent, and specific examples thereof are the same as those exemplified as the substituents for X and Z.
In view of ease of separation and purification, the pyrimidine compound of the present invention preferably has no substituent other than -L 1 -X and -L 2 -Z described above in the main skeleton. From the viewpoint of stability of the compound, those having a phenyl group, naphthyl group, phenanthryl group or the like as a substituent in addition to the aforementioned -L 1 -X and -L 2 -Z in the main skeleton are also preferred.

[3]分子量について
本発明のピリミジン化合物の分子量の上限は、通常5000以下であり、化合物の精製の容易さを考えた場合、好ましくは3000以下であり、溶媒に対する溶解性を考慮した場合特に好ましくは2000以下、昇華精製による高純度化を考慮した場合、最も好ましくは1000以下である。
[3] Molecular Weight The upper limit of the molecular weight of the pyrimidine compound of the present invention is usually 5000 or less, preferably 3000 or less when considering the ease of purification of the compound, and particularly preferred when considering solubility in a solvent. Is 2000 or less, and most preferably 1000 or less when considering high purification by sublimation purification.

又、本発明のピリミジン化合物の分子量の下限は、通常400以上であり、化合物の熱的安定性を考慮した場合、好ましくは500以上である。
[4]ガラス転移温度
本発明のピリミジン化合物は、通常90℃以上のガラス転移温度を有するが、耐熱性の観点から100℃以上であることが好ましい。
Further, the lower limit of the molecular weight of the pyrimidine compound of the present invention is usually 400 or more, and preferably 500 or more in consideration of the thermal stability of the compound.
[4] Glass Transition Temperature The pyrimidine compound of the present invention usually has a glass transition temperature of 90 ° C. or higher, but is preferably 100 ° C. or higher from the viewpoint of heat resistance.

[5]例示化合物
本発明のピリミジン化合物の具体例を以下に挙げるが、本発明のピリミジン化合物は以下の例示化合物に限定されるものではない。
[5] Illustrative compounds Specific examples of the pyrimidine compounds of the present invention are listed below, but the pyrimidine compounds of the present invention are not limited to the following exemplary compounds.

Figure 0005664128
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Figure 0005664128
Figure 0005664128

Figure 0005664128
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[6]合成方法
本発明のピリミジン化合物は、2,4,6−トリクロロピリミジンを出発原料として、金属触媒を用いたカップリング反応を行うことにより合成することができる。
一般式(1)で表される本発明のピリミジン化合物は、例えば、下記方法Aにより合成
できる。
[6] Synthesis Method The pyrimidine compound of the present invention can be synthesized by performing a coupling reaction using a metal catalyst using 2,4,6-trichloropyrimidine as a starting material.
The pyrimidine compound of the present invention represented by the general formula (1) can be synthesized by, for example, the following method A.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

又、一般式(1)で表わされる本発明のピリミジン化合物は、L=L=単結合、X=Zの場合は、下記方法B又はCによっても合成可能である。 Further, the pyrimidine compound of the present invention represented by the general formula (1) can also be synthesized by the following method B or C when L 1 = L 2 = single bond and X = Z.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(上記反応式中、Xは一般式(1)におけるXと同義である。Qは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又はトリフルオロメタンスルホン酸エステル基を表す。)
以下に上記スキーム中に示した素反応について更に説明する。
<ピリミジン環形成反応>
ベンゾニトリル誘導体2モルとアセチルビフェニル誘導体1モルをトリフルオロメタンスルホン酸無水物に不活性な溶媒に溶解または懸濁させ、トリフルオロメタンスルホン酸
無水物1〜5モル緩やかに滴下し、攪拌しながら−10〜60℃の温度を加えることにより、ピリミジン環を含んだ混合物を得る。この混合物からの基質の精製は、蒸留、濾過、抽出、再結晶、再沈殿、懸濁洗浄、クロマトグラフィーの操作を組み合わせることにより行うことができる。
(In said reaction formula, X is synonymous with X in General formula (1). Q represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a trifluoromethanesulfonic acid ester group.)
The elementary reactions shown in the above scheme will be further described below.
<Pyrimidine ring formation reaction>
2 mol of a benzonitrile derivative and 1 mol of an acetylbiphenyl derivative are dissolved or suspended in an inert solvent in trifluoromethanesulfonic acid anhydride, and 1 to 5 mol of trifluoromethanesulfonic acid anhydride is slowly added dropwise, while stirring. By adding a temperature of ˜60 ° C., a mixture containing a pyrimidine ring is obtained. Purification of the substrate from this mixture can be performed by a combination of distillation, filtration, extraction, recrystallization, reprecipitation, suspension washing, and chromatographic operations.

溶媒としては、トリフルオロメタンスルホン酸無水物と反応しないものであれば特に制限はないが、ヘキサン、シクロヘキサン等の非ベンゼン系無極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩基性溶媒を用いて反応を行うことが好ましく、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒が特に好ましい。
<カップリング反応>
芳香族硼素試薬1モルとピリミジン基質を有するハロゲン化物またはトリフルオロメタンスルホン酸エステル試薬0.75〜5モルを、遷移金属元素触媒を用いて、塩基の存在下で無極性または極性溶媒中で反応させることにより、基質がカップリングした混合物を得ることができる。この混合物からの目的物の精製は、蒸留、濾過、抽出、再結晶、再沈殿、懸濁洗浄、クロマトグラフィーの操作を組み合わせることにより行うことができる。
The solvent is not particularly limited as long as it does not react with trifluoromethanesulfonic anhydride, but the reaction should be performed using a non-benzene nonpolar solvent such as hexane or cyclohexane, or a basic solvent such as dichloromethane or chloroform. Are preferred, and halogen solvents such as dichloromethane are particularly preferred.
<Coupling reaction>
1 mol of an aromatic boron reagent and 0.75 to 5 mol of a halide or trifluoromethanesulfonate ester reagent having a pyrimidine substrate are reacted in a nonpolar or polar solvent in the presence of a base using a transition metal element catalyst. Thus, a substrate-coupled mixture can be obtained. Purification of the target product from this mixture can be performed by a combination of operations of distillation, filtration, extraction, recrystallization, reprecipitation, suspension washing, and chromatography.

遷移金属元素触媒としては、有機パラジウム触媒、有機ニッケル触媒、有機銅触媒、有機白金触媒、有機ロジウム触媒、有機ルテニウム触媒、有機イリジウム触媒などが挙げられ、反応の簡便さや反応収率の高さから有機パラジウム触媒が好ましい。
塩基は、特に限定はしないが、金属水酸化物、金属塩、有機アルカリ金属試薬などが好ましい。
Examples of the transition metal element catalyst include an organic palladium catalyst, an organic nickel catalyst, an organic copper catalyst, an organic platinum catalyst, an organic rhodium catalyst, an organic ruthenium catalyst, and an organic iridium catalyst. Organic palladium catalysts are preferred.
The base is not particularly limited, but metal hydroxides, metal salts, organic alkali metal reagents and the like are preferable.

使用する溶媒としては、反応基質に対して活性である溶媒以外であれば特に限定はしないが、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の非芳香族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、水等を単一または混合して使用することができる。   The solvent to be used is not particularly limited as long as it is a solvent that is active with respect to the reaction substrate, but non-aromatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, and cyclohexane, and aromatic carbonization such as benzene, toluene, and xylene. A hydrogen solvent, an ether solvent such as dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, an alcohol solvent such as ethanol and propanol, water and the like can be used singly or in combination.

又、必要であれば反応系に界面活性剤を反応基質に対して1〜100モル%加えることもできる。
[7]ピリミジン化合物の用途
本発明のピリミジン化合物は、高い電子輸送性を有するため、電子輸送材料として電子写真感光体、有機電界発光素子、光電変換素子、有機太陽電池、有機整流素子等に好適に使用できる。例えば、本発明のピリミジン化合物は、有機電界発光素子の発光層において、ホスト材料、とりわけ燐光発光材料のホスト材料として有用である。又、本発明のピリミジン化合物は、イオン化ポテンシャルが低く、電子親和力も低いため、高い電子輸送性を有し、例えば後述する正孔阻止層に使用する材料としても非常に有用である。
Further, if necessary, a surfactant can be added to the reaction system in an amount of 1 to 100 mol% based on the reaction substrate.
[7] Use of pyrimidine compound Since the pyrimidine compound of the present invention has high electron transport properties, it is suitable as an electron transport material for an electrophotographic photosensitive member, an organic electroluminescent device, a photoelectric conversion device, an organic solar cell, an organic rectifying device, and the like. Can be used for For example, the pyrimidine compound of the present invention is useful as a host material, particularly as a host material of a phosphorescent material, in a light emitting layer of an organic electroluminescent device. Moreover, since the pyrimidine compound of the present invention has a low ionization potential and a low electron affinity, it has a high electron transport property, and is very useful as a material used for, for example, a hole blocking layer described later.

特に、本発明のピリミジン化合物は、真空蒸着法による有機電界発光素子の製造にも使用でき、又、湿式成膜法による薄膜形成も可能であることから、湿式成膜法に適用される有機電界発光素子用材料としても好適である。
従って、本発明のピリミジン化合物からなる有機電界発光素子用材料を用いて真空蒸着法による有機電界発光素子の製造もできれば、本発明のピリミジン化合物を含有する有機電界発光素子用組成物を用いて、湿式成膜法による有機電界発光素子を製造することもできる。
In particular, the pyrimidine compound of the present invention can be used in the production of an organic electroluminescence device by vacuum deposition, and can be formed into a thin film by a wet film formation method. It is also suitable as a material for a light emitting element.
Therefore, if an organic electroluminescent element can be produced by a vacuum deposition method using the organic electroluminescent element material comprising the pyrimidine compound of the present invention, the organic electroluminescent element composition containing the pyrimidine compound of the present invention can be used. An organic electroluminescent element can also be produced by a wet film formation method.

得られた有機電界発光素子は、駆動安定性に優れ、低い駆動電圧で駆動可能である。
<有機電界発光素子用材料>
本発明の有機電界発光素子用材料は、本発明のピリミジン化合物からなるものであり、好ましくは、トルエンに対して2重量%以上、より好ましくは5重量%以上溶解する。
後述する様に、有機電界発光素子用組成物に含まれる溶剤としては芳香族炭化水素が好ましい。トルエンは、芳香族炭化水素の代表例として挙げており、溶解性を示す指標としている。
The obtained organic electroluminescent element is excellent in driving stability and can be driven with a low driving voltage.
<Material for organic electroluminescence device>
The material for an organic electroluminescent element of the present invention is composed of the pyrimidine compound of the present invention, and is preferably dissolved in 2% by weight or more, more preferably 5% by weight or more in toluene.
As will be described later, an aromatic hydrocarbon is preferable as the solvent contained in the composition for organic electroluminescent elements. Toluene is listed as a representative example of aromatic hydrocarbons and is used as an indicator of solubility.

本発明の有機電界発光素子用材料のトルエンに対する溶解度が2重量%以上であることにより、湿式成膜法により有機電界発光素子を構成する層を容易に形成することができ好ましい。この溶解度の上限には特に制限はないが、通常50重量%程度である。
<有機電界発光素子用組成物>
本発明の有機電界発光素子用組成物は、本発明のピリミジン化合物を含有するものであり、通常、本発明のピリミジン化合物及び溶剤を含有し、更に発光材料を含有することが好ましい。
When the organic electroluminescent element material of the present invention has a solubility in toluene of 2% by weight or more, it is preferable that a layer constituting the organic electroluminescent element can be easily formed by a wet film forming method. The upper limit of the solubility is not particularly limited, but is usually about 50% by weight.
<Composition for organic electroluminescence device>
The composition for organic electroluminescent elements of the present invention contains the pyrimidine compound of the present invention, and usually contains the pyrimidine compound of the present invention and a solvent, and preferably further contains a light emitting material.

[1]溶剤
本発明の有機電界発光素子用組成物に含まれる溶剤としては、溶質である本発明のピリミジン化合物等が良好に溶解する溶剤であれば特に限定されない。
本発明のピリミジン化合物は溶解性が高いため、種々の溶剤が適用可能である。例えば、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル;シクロヘキサノン、シクロオクタノン等の脂環を有するケトン;メチルエチルケトン、ジブチルケトン等の脂肪族ケトン;メチルエチルケトン、シクロヘキサノール、シクロオクタノール等の脂環を有するアルコール;ブタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル等の脂肪族エステル等が利用できる。これらのうち、水の溶解度が低い点、容易には変質しない点で、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素が好ましい。
[1] Solvent The solvent contained in the composition for organic electroluminescent elements of the present invention is not particularly limited as long as the pyrimidine compound of the present invention which is a solute dissolves well.
Since the pyrimidine compound of the present invention has high solubility, various solvents can be applied. For example, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene and tetralin; halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene and trichlorobenzene; 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene and anisole , Phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, 2,4-dimethylanisole and other aromatic ethers; phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, benzoic acid Aromatic esters such as ethyl, propyl benzoate and n-butyl benzoate; ketones having an alicyclic ring such as cyclohexanone and cyclooctanone; aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone and dibutyl ketone; methyl ethyl ketone and cyclohexano Alcohol having an alicyclic ring such as ruthenium or cyclooctanol; Aliphatic alcohol such as butanol or hexanol; Aliphatic ether such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether or propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA); Ethyl acetate In addition, aliphatic esters such as n-butyl acetate, ethyl lactate, and n-butyl lactate can be used. Of these, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene, tetralin and the like are preferable in that they have low water solubility and are not easily altered.

有機電界発光素子には、陰極等の水分により著しく劣化する材料が多く使用されているため、組成物中の水分の存在は、乾燥後の膜中に水分が残留し、素子の特性を低下させる可能性が考えられ好ましくない。
組成物中の水分量を低減する方法としては、例えば、窒素ガスシール、乾燥剤の使用、溶剤を予め脱水する、水の溶解度が低い溶剤を使用する等が挙げられる。なかでも、水の溶解度が低い溶剤を使用する場合は、湿式成膜工程中に、溶液膜が大気中の水分を吸収して白化する現象を防ぐことができるため好ましい。この様な観点からは、本実施の形態が適用される有機電界発光素子用組成物は、例えば、25℃における水の溶解度が1重量%以下、好ましくは0.1重量%以下である溶剤を、組成物中10重量%以上含有することが好ましい。
Since organic electroluminescent devices use many materials such as cathodes that deteriorate significantly due to moisture, the presence of moisture in the composition causes moisture to remain in the dried film, degrading the device characteristics. The possibility is considered and it is not preferable.
Examples of the method for reducing the amount of water in the composition include nitrogen gas sealing, use of a desiccant, dehydration of the solvent in advance, use of a solvent having low water solubility, and the like. In particular, it is preferable to use a solvent having low water solubility because the solution film can prevent whitening by absorbing moisture in the atmosphere during the wet film forming process. From such a viewpoint, the composition for organic electroluminescent elements to which the present embodiment is applied includes, for example, a solvent having a water solubility at 25 ° C. of 1% by weight or less, preferably 0.1% by weight or less. It is preferable to contain 10% by weight or more in the composition.

又、湿式成膜時における組成物からの溶剤蒸発による、成膜安定性の低下を低減するためには、有機電界発光素子用組成物の溶剤として、沸点が100℃以上、好ましくは沸点が150℃以上、より好ましくは沸点が200℃以上の溶剤を用いることが効果的である。又、より均一な膜を得るためには、成膜直後の液膜から溶剤が適当な速度で蒸発することが必要であり、このためには通常沸点80℃以上、好ましくは沸点100℃以上、より好ましくは沸点120℃以上で、通常沸点270℃未満、好ましくは沸点250℃未満、より好ましくは沸点230℃未満の溶剤を用いることが効果的である。   Further, in order to reduce a decrease in film formation stability due to solvent evaporation from the composition during wet film formation, the solvent of the composition for organic electroluminescent elements has a boiling point of 100 ° C. or higher, preferably 150 ° C. It is effective to use a solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher. In order to obtain a more uniform film, it is necessary for the solvent to evaporate from the liquid film immediately after the film formation at an appropriate rate. For this purpose, the boiling point is usually 80 ° C. or higher, preferably the boiling point is 100 ° C. or higher. It is more effective to use a solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher, usually a boiling point of less than 270 ° C., preferably a boiling point of less than 250 ° C., more preferably a boiling point of less than 230 ° C.

上述の条件、即ち溶質の溶解性、蒸発速度、水の溶解度の条件を満足する溶剤を単独で用いてもよいが、2種類以上の溶剤を混合して用いることもできる。
[2]発光材料
本発明の有機電界発光素子用組成物は、更に発光材料を含有することが好ましい。発光材料とは、本発明の有機電界発光素子用組成物において、主として発光する成分を指し、有機電界発光デバイスにおけるドーパント成分に当たる。即ち、有機電界発光素子用組成物から発せられる光量(単位:cd/m)の内、通常10〜100%、好ましくは20〜100%、より好ましくは50〜100%、最も好ましくは80〜100%が、ある成分材料からの発光と同定される場合、それを発光材料と定義する。
A solvent that satisfies the above-described conditions, that is, the conditions of solute solubility, evaporation rate, and water solubility may be used alone, or two or more kinds of solvents may be mixed and used.
[2] Luminescent Material The composition for organic electroluminescent elements of the present invention preferably further contains a luminescent material. A luminescent material refers to the component which mainly light-emits in the composition for organic electroluminescent elements of this invention, and corresponds to the dopant component in an organic electroluminescent device. That is, the amount of light emitted from the composition for organic electroluminescent elements (unit: cd / m 2 ) is usually 10 to 100%, preferably 20 to 100%, more preferably 50 to 100%, most preferably 80 to 80%. If 100% is identified as luminescence from a component material, it is defined as the luminescent material.

発光材料としては、公知材料を適用可能であり、蛍光発光材料或いは燐光発光材料を単独若しくは複数を混合して使用できるが、内部量子効率の観点から、好ましくは、燐光発光材料である。
本発明の有機電界発光素子用組成物に使用する場合、この発光材料の最大発光ピーク波長は390〜490nmの範囲にあることが好ましい。
As the light-emitting material, known materials can be applied, and a fluorescent light-emitting material or a phosphorescent light-emitting material can be used alone or in combination, and a phosphorescent light-emitting material is preferable from the viewpoint of internal quantum efficiency.
When used in the composition for organic electroluminescent elements of the present invention, the maximum emission peak wavelength of the luminescent material is preferably in the range of 390 to 490 nm.

尚、溶剤への溶解性を向上させる目的で、発光材料分子の対称性や剛性を低下させたり、或いはアルキル基などの親油性置換基を導入したりすることも、重要である。
青色発光を与える蛍光色素としては、ペリレン、ピレン、アントラセン、クマリン、p−ビス(2−フェニルエテニル)ベンゼンおよびそれらの誘導体等が挙げられる。緑色蛍光色素としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体等が挙げられる。黄色蛍光色素としては、ルブレン、ペリミドン誘導体等が挙げられる。赤色蛍光色素としては、DCM系化合物、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサンテン等が挙げられる。
For the purpose of improving the solubility in a solvent, it is also important to reduce the symmetry and rigidity of the light emitting material molecule or introduce a lipophilic substituent such as an alkyl group.
Examples of fluorescent dyes that emit blue light include perylene, pyrene, anthracene, coumarin, p-bis (2-phenylethenyl) benzene, and derivatives thereof. Examples of the green fluorescent dye include quinacridone derivatives and coumarin derivatives. Examples of yellow fluorescent dyes include rubrene and perimidone derivatives. Examples of red fluorescent dyes include DCM compounds, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzothioxanthene derivatives, azabenzothioxanthene and the like.

燐光発光材料としては、例えば周期表7ないし11族から選ばれる金属を含む有機金属錯体が挙げられる。
周期表7ないし11族から選ばれる金属を含む燐光性有機金属錯体における金属として好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金等が挙げられる。これらの有機金属錯体として、好ましくは下記一般式(V)または式(VI)で表される化合物が挙げられる。
Examples of the phosphorescent material include organometallic complexes containing a metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table.
Preferred examples of the metal in the phosphorescent organometallic complex containing a metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table include ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum, and gold. Preferred examples of these organometallic complexes include compounds represented by the following general formula (V) or formula (VI).

MQ(q−j)Q’ (V)
(一般式(V)中、Mは金属を表し、qは上記金属の価数を表す。また、QおよびQ’は二座配位子を表す。jは0、1または2を表す。)
MQ (qj) Q'j (V)
(In general formula (V), M represents a metal, q represents the valence of the metal, Q and Q ′ represent a bidentate ligand, and j represents 0, 1 or 2.)

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(一般式(VI)中、Mは金属を表し、Tは炭素または窒素を表す。R92〜R95は、それぞれ独立に、置換基を表す。ただし、Tが窒素の場合は、R94およびR95はない。)
以下、まず、一般式(V)で表される化合物について説明する。
一般式(V)中、Mは任意の金属を表し、好ましいものの具体例としては、周期表7ないし11族から選ばれる金属として前述した金属が挙げられる。
又、一般式(V)中の二座配位子QおよびQ’は、それぞれ、以下の部分構造を有する配位子を示す。
(In the general formula (VI), M d represents a metal, .R 92 to R 95 T is representative of the carbon or nitrogen independently represents a substituent. However, when T is nitrogen, R 94 And there is no R 95. )
Hereinafter, the compound represented by the general formula (V) will be described first.
In the general formula (V), M represents an arbitrary metal, and specific examples of preferable ones include the metals described above as the metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table.
Moreover, the bidentate ligands Q and Q ′ in the general formula (V) each represent a ligand having the following partial structure.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

Q’として、錯体の安定性の観点から、特に好ましくは、下記のものが挙げられる。   As Q ', the following are particularly preferable from the viewpoint of the stability of the complex.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

上記Q,Q’の部分構造において、環A1は、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表し、これらは置換基を有していてもよい。また、環A2は、含窒素芳香族複素環基を表し、これらは置換基を有していてもよい。
環A1,A2が置換基を有する場合、好ましい置換基としては、フッ素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基等のアルキル基;ビニル基等のアルケニル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのアリールオキシ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基;ジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ基;カルバゾリル基;アセチル基等のアシル基;トリフルオロメチル基等のハロアルキル基;シアノ基;フェニル基、ナフチル基、フェナンチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
In the partial structures of Q and Q ′, the ring A1 represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group, and these may have a substituent. Ring A2 represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group, and these may have a substituent.
When the rings A1 and A2 have a substituent, preferred substituents include halogen atoms such as fluorine atoms; alkyl groups such as methyl groups and ethyl groups; alkenyl groups such as vinyl groups; methoxycarbonyl groups and ethoxycarbonyl groups. Alkoxycarbonyl groups; alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups; aryloxy groups such as phenoxy groups and benzyloxy groups; dialkylamino groups such as dimethylamino groups and diethylamino groups; diarylamino groups such as diphenylamino groups; carbazolyl groups; An acyl group such as an acetyl group; a haloalkyl group such as a trifluoromethyl group; a cyano group; an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group, a naphthyl group, and a phenanthyl group.

一般式(V)で表される化合物として、さらに好ましくは、下記一般式(Va)、(Vb)、(Vc)で表される化合物が挙げられる。   More preferable examples of the compound represented by the general formula (V) include compounds represented by the following general formulas (Va), (Vb), and (Vc).

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(一般式(Va)中、MはMと同様の金属を表し、wは上記金属の価数を表す。又、環A1は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表し、環A2は置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環基を表す。) (In the general formula (Va), M a represents the same metal as M, w represents the valence of the metal, and ring A1 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Ring A2 represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group which may have a substituent.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(一般式(Vb)中、MはMと同様の金属を表し、wは上記金属の価数を表す。又、環A1は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、環A2は置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環基を表す。) (In the general formula (Vb), M b represents the same metal as M, w represents the valence of the above metal, and ring A1 is an aromatic hydrocarbon group or substituted which may have a substituent. Represents an aromatic heterocyclic group which may have a group, and ring A2 represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group which may have a substituent.)

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(一般式(Vc)中、MはMと同様の金属を表し、wは上記金属の価数を表す。又、jは0、1または2を表す。さらに、環A1および環A1’は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。また、環A2および環A2’は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環基を表す。)
上記一般式(Va)、(Vb)、(Vc)において、環A1および環A1’の基としては、好ましくは、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、チエニル基、フリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフリル基、ピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、カルバゾリル基等が挙げられる。
(In general formula (Vc), M c represents the same metal as M, w represents the valence of the metal, and j represents 0, 1 or 2. Furthermore, ring A1 and ring A1 ′ are Each independently represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or an optionally substituted aromatic heterocyclic group, and ring A2 and ring A2 ′ are each independently Represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group which may have a substituent.
In the above general formulas (Va), (Vb), and (Vc), the group of ring A1 and ring A1 ′ is preferably, for example, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, anthryl group, thienyl group, furyl group, benzo Examples include thienyl group, benzofuryl group, pyridyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, carbazolyl group and the like.

又、環A2、環A2’の基としては、好ましくは、例えばピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、ベンゾイミダゾール基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フェナントリジル基等が挙げられる。
更に、一般式(Va)、(Vb)、(Vc)で表される化合物が有していてもよい置換基としては、フッ素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基等のアルキル基;ビニル基等のアルケニル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのアリールオキシ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基;ジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ基;カルバゾリル基;アセチル基等のアシル基;トリフルオロメチル基等のハロアルキル基;シアノ基等が挙げられる。
Further, the group of ring A2 and ring A2 ′ is preferably a pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, benzothiazole group, benzoxazole group, benzimidazole group, quinolyl group, isoquinolyl group, quinoxalyl group, A phenanthridyl group and the like can be mentioned.
Furthermore, the substituents that the compounds represented by the general formulas (Va), (Vb), and (Vc) may have include halogen atoms such as fluorine atoms; alkyl groups such as methyl groups and ethyl groups; vinyls Alkenyl groups such as methoxy groups; alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl groups and ethoxycarbonyl groups; alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups; aryloxy groups such as phenoxy groups and benzyloxy groups; dialkyls such as dimethylamino groups and diethylamino groups An amino group; a diarylamino group such as a diphenylamino group; a carbazolyl group; an acyl group such as an acetyl group; a haloalkyl group such as a trifluoromethyl group; a cyano group;

上記置換基がアルキル基である場合は、その炭素数は通常1以上6以下である。さらに、置換基がアルケニル基である場合は、その炭素数は通常2以上6以下である。また、置換基がアルコキシカルボニル基である場合は、その炭素数は通常2以上6以下である。さらに、置換基がアルコキシ基である場合は、その炭素数は通常1以上6以下である。また、置換基がアリールオキシ基である場合は、その炭素数は通常6以上14以下である。さらに、置換基がジアルキルアミノ基である場合は、その炭素数は通常2以上24以下である。また、置換基がジアリールアミノ基である場合は、その炭素数は通常12以上28以下である。さらに、置換基がアシル基である場合は、その炭素数は通常1以上14以下である。また、置換基がハロアルキル基である場合は、その炭素数は通常1以上12以下である。   When the said substituent is an alkyl group, the carbon number is 1 or more and 6 or less normally. Furthermore, when the substituent is an alkenyl group, the carbon number is usually 2 or more and 6 or less. When the substituent is an alkoxycarbonyl group, the carbon number is usually 2 or more and 6 or less. Further, when the substituent is an alkoxy group, the carbon number is usually 1 or more and 6 or less. Moreover, when a substituent is an aryloxy group, the carbon number is 6 or more and 14 or less normally. Furthermore, when the substituent is a dialkylamino group, the carbon number is usually 2 or more and 24 or less. Further, when the substituent is a diarylamino group, the carbon number is usually 12 or more and 28 or less. Furthermore, when the substituent is an acyl group, the carbon number is usually 1 or more and 14 or less. Moreover, when a substituent is a haloalkyl group, the carbon number is 1 or more and 12 or less normally.

なお、これら置換基は互いに連結して環を形成してもよい。具体例としては、環A1が有する置換基と環A2が有する置換基とが結合するか、または、環A1’が有する置換基と環A2’が有する置換基とが結合するかして、一つの縮合環を形成してもよい。このような縮合環基としては、7,8−ベンゾキノリン基等が挙げられる。
中でも、環A1、環A1’、環A2および環A2’の置換基として、より好ましくはア
ルキル基、アルコキシ基、芳香族炭化水素基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ジアリールアミノ基、カルバゾリル基が挙げられる。
These substituents may be connected to each other to form a ring. As a specific example, a substituent of the ring A1 and a substituent of the ring A2 are bonded, or a substituent of the ring A1 ′ and a substituent of the ring A2 ′ are bonded. Two fused rings may be formed. Examples of such a condensed ring group include a 7,8-benzoquinoline group.
Among them, as a substituent of ring A1, ring A1 ′, ring A2 and ring A2 ′, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aromatic hydrocarbon group, a cyano group, a halogen atom, a haloalkyl group, a diarylamino group, a carbazolyl group Is mentioned.

また、一般式(Va)、(Vb)、(Vc)におけるM,M,Mとして好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金または金が挙げられる。
上記一般式(V)、(Va)、(Vb)または(Vc)で示される有機金属錯体の具体例を以下に示すが、下記の化合物に限定されるものではない(以下において、Phはフェニル基を表す。)。
In general formula (Va), (Vb), preferably as M a, M b, M c in (Vc), ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum or gold.
Specific examples of the organometallic complex represented by the general formula (V), (Va), (Vb) or (Vc) are shown below, but are not limited to the following compounds (in the following, Ph is phenyl Represents a group).

Figure 0005664128
Figure 0005664128

Figure 0005664128
Figure 0005664128

上記一般式(V)、(Va)、(Vb)、(Vc)で表される有機金属錯体の中でも、特に、配位子Qおよび/またはQ’として2−アリールピリジン系配位子、即ち、2−アリールピリジン、これに任意の置換基が結合したもの、および、これに任意の基が縮合してなるものを有する化合物が好ましい。
又、国際公開第2005/019373号パンフレットに記載の化合物も、発光材料として使用することも可能である。
Among the organometallic complexes represented by the general formulas (V), (Va), (Vb), and (Vc), in particular, as the ligand Q and / or Q ′, a 2-arylpyridine-based ligand, , 2-arylpyridine, a compound having an arbitrary substituent bonded thereto, and a compound having an arbitrary group condensed thereto are preferable.
The compounds described in International Publication No. 2005/019373 pamphlet can also be used as the light emitting material.

次に、前記一般式(VI)で表される化合物について説明する。一般式(VI)中、Mは金属を表し、具体例としては、周期表7ないし11族から選ばれる金属として前述した金属が挙げられる。中でも好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金または金が挙げられ、特に好ましくは、白金、パラジウム等の2価の金属が挙げられる。 Next, the compound represented by the general formula (VI) will be described. In the general formula (VI), M d represents a metal, and specific examples thereof include the metals described above as the metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table. Among these, ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum or gold is preferable, and divalent metals such as platinum and palladium are particularly preferable.

又、一般式(VI)において、R92およびR93は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、シアノ基、アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、ハロアルキル基、水酸基、アリールオキシ基、芳香族炭化水素環基または芳香族複素環基を表す。 In the general formula (VI), R 92 and R 93 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, a cyano group, an amino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, or a carboxyl group. Represents an alkoxy group, an alkylamino group, an aralkylamino group, a haloalkyl group, a hydroxyl group, an aryloxy group, an aromatic hydrocarbon ring group or an aromatic heterocyclic group.

さらに、Tが炭素の場合、R94およびR95は、それぞれ独立に、R92およびR93と同様の例示物で表される置換基を表す。また、前述の如く、Tが窒素の場合はR94およびR95はない。
又、R92〜R95はさらに置換基を有していてもよい。この場合のさらに有していてもよい置換基には特に制限はなく、任意の基を置換基とすることができる。
Further, when T is carbon, R 94 and R 95 each independently represent a substituent represented by the same examples as R 92 and R 93 . Further, as described above, when T is nitrogen, there are no R 94 and R 95 .
R 92 to R 95 may further have a substituent. In this case, the substituent which may further be present is not particularly limited, and any group can be used as the substituent.

さらに、R92〜R95は互いに連結して環を形成してもよく、この環が更に任意の置換基を有していてもよい。
一般式(VI)で表される有機金属錯体の具体例(T−1,T−10〜T−15)を以下に示すが、下記の例示化合物に限定されるものではない。なお、以下において、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表す。
Furthermore, R 92 to R 95 may be linked to each other to form a ring, and this ring may further have an arbitrary substituent.
Specific examples (T-1, T-10 to T-15) of the organometallic complex represented by the general formula (VI) are shown below, but are not limited to the following exemplified compounds. In the following, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

[3]その他の成分
本発明の有機電界発光素子用組成物中には、前述した溶剤および発光材料以外にも、必要に応じて、各種の他の溶剤を含んでいてもよい。このような他の溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
[3] Other components In the composition for organic electroluminescent elements of the present invention, various other solvents may be contained as necessary in addition to the solvent and the light emitting material described above. Examples of such other solvents include amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide.

又、レベリング剤や消泡剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。
更に、2層以上の層を湿式成膜法により積層する際に、これらの層が相溶することを防ぐため、成膜後に硬化させて不溶化させる目的で光硬化性樹脂や、熱硬化性樹脂を含有させておくこともできる。
[4]有機電界発光素子用組成物中の材料濃度と配合比
有機電界発光素子用組成物中の本発明のピリミジン化合物、発光材料および必要に応じて添加可能な成分(レベリング剤など)などの固形分濃度は、通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、さらに好ましくは0.5重量%以上、最も好ましくは1重量%以上であり、通常80重量%以下、好ましくは50重量%以下、より好ましくは40重量%以下、さらに好ましくは30重量%以下、最も好ましくは20重量%以下である。この濃度が下限を下回ると、薄膜を形成する場合、厚膜を形成するのが困難となり、上限を超えると、薄膜を形成するのが困難となる恐れがある。
Moreover, various additives, such as a leveling agent and an antifoamer, may be included.
Further, when two or more layers are laminated by a wet film forming method, in order to prevent these layers from being compatible with each other, a photo-curing resin or a thermosetting resin is used for the purpose of curing and insolubilizing after film formation. Can also be contained.
[4] Material concentration and blending ratio in the composition for organic electroluminescent elements such as the pyrimidine compound of the present invention in the composition for organic electroluminescent elements, the luminescent material and components (leveling agents, etc.) that can be added as required The solid content concentration is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, further preferably 0.5% by weight or more, and most preferably 1% by weight or more. It is usually 80% by weight or less, preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, further preferably 30% by weight or less, and most preferably 20% by weight or less. If this concentration is below the lower limit, it is difficult to form a thick film when forming a thin film, and if it exceeds the upper limit, it may be difficult to form a thin film.

又、本発明の有機電界発光素子用組成物において、発光材料/ピリミジン化合物の重量混合比は、通常、0.1/99.9以上であり、より好ましくは0.5/99.5以上であり、更に好ましくは1/99以上であり、最も好ましくは2/98以上で、通常、50/50以下であり、より好ましくは40/60以下であり、更に好ましくは30/70以下であり、最も好ましくは20/80以下である。この比が下限を下回ったり、上限を超えたりすると、著しく発光効率が低下する恐れがある。   In the composition for organic electroluminescent elements of the present invention, the weight mixing ratio of the light emitting material / pyrimidine compound is usually 0.1 / 99.9 or more, more preferably 0.5 / 99.5 or more. More preferably 1/99 or more, most preferably 2/98 or more, usually 50/50 or less, more preferably 40/60 or less, still more preferably 30/70 or less, Most preferably, it is 20/80 or less. If this ratio falls below the lower limit or exceeds the upper limit, the luminous efficiency may be significantly reduced.

[5]有機電界発光素子用組成物の調製方法
本発明の有機電界発光素子用組成物は、本発明のピリミジン化合物、前述した発光材料、および必要に応じて添加可能なレベリング剤や消泡剤等の各種添加剤よりなる溶質を、適当な溶剤に溶解させることにより調製される。溶解工程に要する時間を短縮するため、および組成物中の溶質濃度を均一に保つため、通常、液を撹拌しながら溶質を溶解させる。溶解工程は常温で行ってもよいが、溶解速度が遅い場合は加熱して溶解させることもできる。溶解工程終了後、必要に応じて、フィルタリング等の濾過工程を経由してもよい。
[5] Method for Preparing Composition for Organic Electroluminescent Device The composition for organic electroluminescent device of the present invention comprises the pyrimidine compound of the present invention, the light emitting material described above, and a leveling agent and antifoaming agent that can be added as necessary. It is prepared by dissolving a solute composed of various additives such as in an appropriate solvent. In order to shorten the time required for the dissolution step and to keep the solute concentration in the composition uniform, the solute is usually dissolved while stirring the liquid. The dissolution step may be performed at room temperature, but when the dissolution rate is slow, it can be heated and dissolved. After completion of the dissolution step, a filtration step such as filtering may be performed as necessary.

[6]有機電界発光素子用組成物の性状、物性等
(水分濃度)
有機電界発光素子を、本発明の有機電界発光素子用組成物を用いた湿式成膜法により層形成して製造する場合、用いる有機電界発光素子用組成物に水分が存在すると、形成された膜に水分が混入して膜の均一性が損なわれるため、本発明の有機電界発光素子用組成物中の水分含有量はできるだけ少ない方が好ましい。また一般に、有機電界発光素子は、陰極等の水分により著しく劣化する材料が多く使用されているため、有機電界発光素子用組成物中に水分が存在した場合、乾燥後の膜中に水分が残留し、素子の特性を低下させる可能性が考えられ好ましくない。
[6] Properties, physical properties, etc. of the composition for organic electroluminescent elements (moisture concentration)
When an organic electroluminescence device is produced by forming a layer by a wet film forming method using the composition for organic electroluminescence device of the present invention, a film formed when water is present in the composition for organic electroluminescence device to be used. Since moisture is mixed into the film and the uniformity of the film is impaired, the water content in the composition for organic electroluminescent elements of the present invention is preferably as low as possible. In general, since organic electroluminescent devices use many materials such as cathodes that deteriorate significantly due to moisture, when moisture is present in the composition for organic electroluminescent devices, moisture remains in the dried film. However, there is a possibility of deteriorating the characteristics of the element, which is not preferable.

具体的には、本発明の有機電界発光素子用組成物中に含まれる水分量は、通常1重量%以下、好ましくは0.1重量%以下、より好ましくは0.01重量%以下である。
有機電界発光素子用組成物中の水分濃度の測定方法としては、日本工業規格「化学製品の水分測定法」(JIS K0068:2001)に記載の方法が好ましく、例えば、カールフィッシャー試薬法(JIS K0211−1348)等により分析することができる。
Specifically, the amount of water contained in the composition for organic electroluminescent elements of the present invention is usually 1% by weight or less, preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less.
As a method for measuring the moisture concentration in the composition for organic electroluminescent elements, the method described in Japanese Industrial Standard “Method for Measuring Moisture of Chemical Products” (JIS K0068: 2001) is preferable. For example, the Karl Fischer reagent method (JIS K0211). -1348) and the like.

(均一性)
本発明の有機電界発光素子用組成物は、湿式成膜プロセスでの安定性、例えば、インクジェット成膜法におけるノズルからの吐出安定性を高めるためには、常温で均一な液状であることが好ましい。常温で均一な液状とは、組成物が均一相からなる液体であり、かつ
組成物中に粒径0.1μm以上の粒子成分を含有しないことをいう。
(Uniformity)
The composition for organic electroluminescent elements of the present invention is preferably in a uniform liquid state at room temperature in order to enhance stability in a wet film forming process, for example, ejection stability from a nozzle in an ink jet film forming method. . The uniform liquid at normal temperature means that the composition is a liquid composed of a uniform phase and does not contain a particle component having a particle size of 0.1 μm or more in the composition.

(物性)
本発明の有機電界発光素子用組成物の粘度については、極端に低粘度の場合は、例えば成膜工程における過度の液膜流動による塗面不均一、インクジェット成膜におけるノズル吐出不良等が起こりやすくなり、極端に高粘度の場合は、インクジェット成膜におけるノズル目詰まり等が起こりやすくなる。このため、本発明の組成物の25℃における粘度は、通常2mPa・s以上、好ましくは3mPa・s以上、より好ましくは5mPa・s以上であり、通常1000mPa・s以下、好ましくは100mPa・s以下、より好ましくは50mPa・s以下である。
(Physical properties)
Regarding the viscosity of the composition for organic electroluminescent elements of the present invention, when the viscosity is extremely low, for example, coating surface non-uniformity due to excessive liquid film flow in the film forming process, nozzle ejection failure in ink jet film formation, etc. are likely to occur. In the case of extremely high viscosity, nozzle clogging or the like in ink jet film formation is likely to occur. For this reason, the viscosity at 25 ° C. of the composition of the present invention is usually 2 mPa · s or more, preferably 3 mPa · s or more, more preferably 5 mPa · s or more, and usually 1000 mPa · s or less, preferably 100 mPa · s or less. More preferably, it is 50 mPa · s or less.

又、本発明の有機電界発光素子用組成物の表面張力が高い場合は、基板に対する成膜用液の濡れ性が低下する、液膜のレベリング性が悪く、乾燥時の成膜面乱れが起こりやすくなる等の問題が発生する場合があるため、本発明の組成物の20℃における表面張力は、通常50mN/m未満、好ましくは40mN/m未満である。
更に、本発明の有機電界発光素子用組成物の蒸気圧が高い場合は、溶剤の蒸発による溶質濃度の変化等の問題が起こりやすくなる場合がある。このため、本発明の組成物の25℃における蒸気圧は、通常50mmHg以下、好ましくは10mmHg以下、より好ましくは1mmHg以下である。
Further, when the surface tension of the composition for organic electroluminescence device of the present invention is high, the wettability of the film-forming liquid to the substrate is lowered, the leveling property of the liquid film is poor, and the film formation surface is disturbed during drying. Since problems such as being easy to occur may occur, the surface tension of the composition of the present invention at 20 ° C. is usually less than 50 mN / m, preferably less than 40 mN / m.
Furthermore, when the vapor pressure of the composition for organic electroluminescent elements of the present invention is high, problems such as changes in solute concentration due to evaporation of the solvent may easily occur. For this reason, the vapor pressure at 25 ° C. of the composition of the present invention is usually 50 mmHg or less, preferably 10 mmHg or less, more preferably 1 mmHg or less.

<有機電界発光素子>
本発明の有機電界発光素子は、基板上に陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた有機層を有するものであって、当該有機層が本発明のピリミジン化合物を含有することを特徴とする。当該ピリミジン化合物を含有する層は、本発明の有機電界発光素子用材料又は有機電界発光素子用組成物を用いて形成されることが好ましい。又、本発明のピリミジン化合物を含有する有機層は、発光層であることが好ましい。更に当該ピリミジン化合物を含有する層に、有機金属錯体がドープされていることが好ましい。この有機金属錯体としては、前記発光材料として例示したものを使用できる。
<Organic electroluminescent device>
The organic electroluminescent element of the present invention has an anode, a cathode, and an organic layer provided between both electrodes on a substrate, and the organic layer contains the pyrimidine compound of the present invention. . The layer containing the pyrimidine compound is preferably formed using the material for organic electroluminescent elements or the composition for organic electroluminescent elements of the present invention. The organic layer containing the pyrimidine compound of the present invention is preferably a light emitting layer. Furthermore, the layer containing the pyrimidine compound is preferably doped with an organometallic complex. As this organometallic complex, those exemplified as the light emitting material can be used.

又、本発明のピリミジン化合物は、イオン化ポテンシャル及び電子親和力が低く、高い電子輸送を有するため、正孔阻止層、電子輸送層に含まれることも好ましい。以下に、本発明の有機電界発光素子の層構成およびその一般的形成方法等について、図1を参照にして説明する。
図1は本発明に係る有機電界発光素子の構造例を示す断面の模式図である。図1において、1は基板、2は陽極、3は正孔注入層、4は正孔輸送層、5は発光層、6は正孔阻止層、7は電子輸送層、8は電子注入層、9は陰極を各々表す。
Moreover, since the pyrimidine compound of the present invention has a low ionization potential and electron affinity and high electron transport, it is also preferable that the pyrimidine compound is contained in the hole blocking layer and the electron transport layer. Below, the layer structure of the organic electroluminescent element of this invention, its general formation method, etc. are demonstrated with reference to FIG.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a structural example of an organic electroluminescent device according to the present invention. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is a hole injection layer, 4 is a hole transport layer, 5 is a light emitting layer, 6 is a hole blocking layer, 7 is an electron transport layer, 8 is an electron injection layer, 9 represents each cathode.

尚、本発明において湿式成膜法とは、例えば、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、キャピラリーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法等湿式で成膜される方法をいう。これらの成膜方法の中でも、スピンコート法、スプレーコート法、インクジェット法が好ましい。これは、有機電界発光素子に用いられる塗布用の組成物特有の液性に合うためである。   In the present invention, the wet film forming method includes, for example, spin coating method, dip coating method, die coating method, bar coating method, blade coating method, roll coating method, spray coating method, capillary coating method, ink jet method, screen printing. This method is a wet film formation method such as a method, a gravure printing method, or a flexographic printing method. Among these film forming methods, a spin coating method, a spray coating method, and an ink jet method are preferable. This is because the liquid property specific to the coating composition used in the organic electroluminescence device is matched.

[1]基板
基板1は有機電界発光素子の支持体となるものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシート等が用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホン等の透明な合成樹脂の板が好ましい。合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意する必要がある。基板のガスバリア性が小さすぎると、基板を通過した外気により有機電界発光素子が劣化することがあ
る。このため、合成樹脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つである。
[1] Substrate The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescence device, and a quartz or glass plate, a metal plate or a metal foil, a plastic film, a sheet, or the like is used. In particular, a glass plate or a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, polysulfone or the like is preferable. When using a synthetic resin substrate, it is necessary to pay attention to gas barrier properties. If the gas barrier property of the substrate is too small, the organic electroluminescent element may be deteriorated by the outside air that has passed through the substrate. For this reason, a method of providing a gas barrier property by providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate is also a preferable method.

[2]陽極
陽極2は発光層側の層への正孔注入の役割を果たすものである。
この陽極2は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウムおよび/またはスズの酸化物等の金属酸化物、ヨウ化銅等のハロゲン化金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。
[2] Anode
The anode 2 serves to inject holes into the layer on the light emitting layer side.
This anode 2 is usually a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, platinum, a metal oxide such as an oxide of indium and / or tin, a metal halide such as copper iodide, carbon black, or It is composed of a conductive polymer such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, or polyaniline.

陽極2の形成は通常、スパッタリング法、真空蒸着法等により行われることが多い。また、銀等の金属微粒子、ヨウ化銅等の微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末等を用いて陽極2を形成する場合には、適当なバインダー樹脂溶液に分散させて、基板1上に塗布することにより陽極2を形成することもできる。さらに、導電性高分子の場合は、電解重合により直接基板1上に薄膜を形成したり、基板1上に導電性高分子を塗布して陽極2を形成することもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。   In general, the anode 2 is often formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. In addition, when forming the anode 2 using fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, and conductive polymer fine powder, an appropriate binder resin solution It is also possible to form the anode 2 by dispersing it and applying it onto the substrate 1. Furthermore, in the case of a conductive polymer, a thin film can be directly formed on the substrate 1 by electrolytic polymerization, or the anode 2 can be formed by applying a conductive polymer on the substrate 1 (Appl. Phys. Lett. 60, 2711, 1992).

陽極2は通常は単層構造であるが、所望により複数の材料からなる積層構造とすることも可能である。
陽極2の厚みは、必要とする透明性により異なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率を、通常60%以上、好ましくは80%以上とすることが好ましい。この場合、陽極2の厚みは、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下程度である。不透明でよい場合は陽極2の厚みは任意であり、陽極2は基板1と同一でもよい。また、さらには、上記の陽極2の上に異なる導電材料を積層することも可能である。
The anode 2 usually has a single-layer structure, but it can also have a laminated structure made of a plurality of materials if desired.
The thickness of the anode 2 varies depending on the required transparency. When transparency is required, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode 2 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 1000 nm or less, preferably about 500 nm or less. When it may be opaque, the thickness of the anode 2 is arbitrary, and the anode 2 may be the same as the substrate 1. Furthermore, it is also possible to laminate different conductive materials on the anode 2 described above.

陽極2に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させることを目的に、陽極2表面を紫外線(UV)/オゾン処理したり、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ処理したりすることは好ましい。
[3]正孔注入層
正孔注入層3は、陽極2から発光層5へ正孔を輸送する層であり、通常、陽極2上に形成される。
For the purpose of removing impurities adhering to the anode 2 and adjusting the ionization potential to improve the hole injection property, the surface of the anode 2 is treated with ultraviolet (UV) / ozone, or with oxygen plasma or argon plasma. It is preferable to do.
[3] Hole Injection Layer The hole injection layer 3 is a layer that transports holes from the anode 2 to the light emitting layer 5 and is usually formed on the anode 2.

本発明に係る正孔注入層3の形成方法は真空蒸着法でも、湿式成膜法でもよく、特に制限はないが、ダークスポット低減の観点から正孔注入層3を湿式成膜法により形成することが好ましい。
正孔注入層3の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下の範囲である。
The method for forming the hole injection layer 3 according to the present invention may be a vacuum deposition method or a wet film formation method, and is not particularly limited, but the hole injection layer 3 is formed by a wet film formation method from the viewpoint of reducing dark spots. It is preferable.
The thickness of the hole injection layer 3 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less.

(湿式成膜法による正孔注入層の形成)
湿式成膜により正孔注入層3を形成する場合、通常は、正孔注入層3を構成する材料を適切な溶剤(正孔注入層用溶剤)と混合して成膜用の組成物(正孔注入層形成用組成物)を調製し、この正孔注入層形成用組成物を適切な手法により、正孔注入層3の下層に該当する層(通常は、陽極)上に塗布して成膜し、乾燥することにより正孔注入層3を形成する。
(Formation of hole injection layer by wet film formation method)
When forming the hole injection layer 3 by wet film formation, the material for forming the hole injection layer 3 is usually mixed with an appropriate solvent (hole injection layer solvent) to form a film-forming composition (positive A composition for forming a hole injection layer), and applying the composition for forming a hole injection layer on a layer (usually an anode) corresponding to the lower layer of the hole injection layer 3 by an appropriate technique. The hole injection layer 3 is formed by coating and drying.

(正孔輸送性化合物)
正孔注入層形成用組成物は、通常、正孔注入層の構成材料として正孔輸送性化合物および溶剤を含有する。
正孔輸送性化合物は、通常、有機電界発光素子の正孔注入層に使用される正孔輸送性を有する化合物であれば、重合体などの高分子化合物であっても、単量体などの低分子化合物であってもよいが、高分子化合物であることが好ましい。
(Hole transporting compound)
The composition for forming a hole injection layer usually contains a hole transporting compound and a solvent as a constituent material of the hole injection layer.
The hole transporting compound is a compound having a hole transporting property that is usually used in a hole injection layer of an organic electroluminescence device, and may be a polymer compound or the like, a monomer or the like. Although it may be a low molecular compound, it is preferably a high molecular compound.

正孔輸送性化合物としては、陽極2から正孔注入層3への電荷注入障壁の観点から4.5eV〜6.0eVのイオン化ポテンシャルを有する化合物が好ましい。正孔輸送性化合物の例としては、芳香族アミン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ベンジルフェニル誘導体、フルオレン基で3級アミンを連結した化合物、ヒドラゾン誘導体、シラザン誘導体、シラナミン誘導体、ホスファミン誘導体、キナクリドン誘導体、ポリアニリン誘導体、ポリピロール誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリチエニレンビニレン誘導体、ポリキノリン誘導体、ポリキノキサリン誘導体、カーボン等が挙げられる。   The hole transporting compound is preferably a compound having an ionization potential of 4.5 eV to 6.0 eV from the viewpoint of a charge injection barrier from the anode 2 to the hole injection layer 3. Examples of hole transporting compounds include aromatic amine derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, oligothiophene derivatives, polythiophene derivatives, benzylphenyl derivatives, compounds in which tertiary amines are linked by a fluorene group, hydrazone derivatives, silazane derivatives, silanamines Derivatives, phosphamine derivatives, quinacridone derivatives, polyaniline derivatives, polypyrrole derivatives, polyphenylene vinylene derivatives, polythienylene vinylene derivatives, polyquinoline derivatives, polyquinoxaline derivatives, carbon and the like.

尚、本発明において誘導体とは、例えば、芳香族アミン誘導体を例にするならば、芳香族アミンそのもの及び芳香族アミンを主骨格とする化合物を含むものであり、重合体であっても、単量体であってもよい。
正孔注入層3の材料として用いられる正孔輸送性化合物は、このような化合物のうち何れか1種を単独で含有していてもよく、2種以上を含有していてもよい。2種以上の正孔輸送性化合物を含有する場合、その組み合わせは任意であるが、芳香族三級アミン高分子化合物1種または2種以上と、その他の正孔輸送性化合物1種または2種以上とを併用することが好ましい。
In the present invention, the derivative includes, for example, an aromatic amine derivative, and includes an aromatic amine itself and a compound having an aromatic amine as a main skeleton. It may be a mer.
The hole transporting compound used as the material for the hole injection layer 3 may contain any one of these compounds alone, or may contain two or more. When two or more hole transporting compounds are contained, the combination thereof is arbitrary, but one or more aromatic tertiary amine polymer compounds and one or two other hole transporting compounds are used. It is preferable to use the above in combination.

上記例示した中でも非晶質性、可視光の透過率の点から、芳香族アミン化合物が好ましく、特に芳香族三級アミン化合物が好ましい。ここで、芳香族三級アミン化合物とは、芳香族三級アミン構造を有する化合物であって、芳香族三級アミン由来の基を有する化合物も含む。
芳香族三級アミン化合物の種類は特に制限されないが、表面平滑化効果による均一な発光の点から、重量平均分子量が1000以上、1000000以下の高分子化合物(繰り返し単位が連なる重合型化合物)がさらに好ましい。芳香族三級アミン高分子化合物の好ましい例として、下記式(I)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物が挙げられる。
Among the above examples, an aromatic amine compound is preferable from the viewpoint of amorphousness and visible light transmittance, and an aromatic tertiary amine compound is particularly preferable. Here, the aromatic tertiary amine compound is a compound having an aromatic tertiary amine structure, and includes a compound having a group derived from an aromatic tertiary amine.
The type of the aromatic tertiary amine compound is not particularly limited, but from the viewpoint of uniform light emission due to the surface smoothing effect, a polymer compound having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less (a polymerizable compound in which repeating units are linked) is further included. preferable. Preferable examples of the aromatic tertiary amine polymer compound include a polymer compound having a repeating unit represented by the following formula (I).

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(式(I)中、ArおよびArは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Ar〜Arは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。Yは、下記の連結基群の中から選ばれる連結基を表す。また、Ar〜Arのうち、同一のN原子に結合する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい。) (In Formula (I), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Ar 3 to Ar 5 each independently represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Represents a linking group selected from the group of linking groups, and two groups bonded to the same N atom among Ar 1 to Ar 5 may be bonded to each other to form a ring.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(上記各式中、Ar〜Ar16は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。R31およびR32は、それぞれ独立して、水素原子または任意の置換基を表す。)
Ar〜Ar16の芳香族炭化水素基および芳香族複素環基としては、高分子化合物の溶解性、耐熱性、正孔注入・輸送性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、チオフェン環、ピリジン環由来の基が好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環由来の基がより好ましい。
(In said each formula, Ar < 6 > -Ar < 16 > represents each independently the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or the aromatic heterocyclic group which may have a substituent. R 31 and R 32 each independently represent a hydrogen atom or an arbitrary substituent.)
As the aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic group of Ar 1 to Ar 16 , a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, a thiophene from the viewpoint of the solubility, heat resistance, hole injection / transport property of the polymer compound A group derived from a ring or a pyridine ring is preferred, and a group derived from a benzene ring or a naphthalene ring is more preferred.

Ar〜Ar16の芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の分子量としては、通常400以下、中でも250以下程度が好ましい。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基などが好ましい。
31およびR32が任意の置換基である場合、該置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シリル基、シロキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基などが挙げられる。
The aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group of Ar 1 to Ar 16 may further have a substituent. The molecular weight of the substituent is usually 400 or less, preferably about 250 or less. As the substituent, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group and the like are preferable.
When R 31 and R 32 are optional substituents, examples of the substituent include alkyl groups, alkenyl groups, alkoxy groups, silyl groups, siloxy groups, aromatic hydrocarbon groups, aromatic heterocyclic groups, and the like. .

式(I)で表される繰り返し単位を有する芳香族三級アミン高分子化合物の具体例としては、国際公開第2005/089024号パンフレットに記載のものが挙げられる。
また、正孔輸送性化合物としては、ポリチオフェンの誘導体である3,4−エチレンジオキシチオフェン(3,4-ethylenedioxythiophene)を高分子量ポリスチレンスルホン酸中で重合してなる導電性ポリマー(PEDOT/PSS)もまた好ましい。また、このポリマーの末端をメタクリレート等でキャップしたものであってもよい。
Specific examples of the aromatic tertiary amine polymer compound having a repeating unit represented by the formula (I) include those described in International Publication No. 2005/089024.
In addition, as a hole transporting compound, a conductive polymer (PEDOT / PSS) obtained by polymerizing 3,4-ethylenedioxythiophene, which is a derivative of polythiophene, in high molecular weight polystyrene sulfonic acid. Is also preferred. Moreover, the end of this polymer may be capped with methacrylate or the like.

正孔注入層形成用組成物中の、正孔輸送性化合物の濃度は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、膜厚の均一性の点で通常0.01質量%以上、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.5質量%以上であり、また、通常70質量%以下、好ましくは60質量%以下、より好ましくは50質量%以下である。この濃度が大きすぎると膜厚ムラが生じる可能性があり、また、小さすぎると成膜された正孔注入層に欠陥が生じる可能性がある。   The concentration of the hole transporting compound in the composition for forming a hole injection layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.01% by mass or more, preferably in terms of film thickness uniformity. Is 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, and is usually 70% by mass or less, preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less. If this concentration is too high, film thickness unevenness may occur, and if it is too low, defects may occur in the formed hole injection layer.

(電子受容性化合物)
正孔注入層形成用組成物は正孔注入層の構成材料として、電子受容性化合物を含有していることが好ましい。ここで、電子受容性化合物とは、酸化力を有し、上述の正孔輸送性化合物から一電子受容する能力を有する化合物が好ましく、具体的には、電子親和力が4eV以上である化合物が好ましく、5eV以上の化合物である化合物がさらに好ましい。
(Electron-accepting compound)
The composition for forming a hole injection layer preferably contains an electron accepting compound as a constituent material of the hole injection layer. Here, the electron-accepting compound is preferably a compound having an oxidizing power and the ability to accept one electron from the above-described hole-transporting compound, and specifically, a compound having an electron affinity of 4 eV or more is preferable. A compound that is a compound of 5 eV or more is more preferable.

このような電子受容性化合物としては、例えば、トリアリールホウ素化合物、ハロゲン化金属、ルイス酸、有機酸、オニウム塩、アリールアミンとハロゲン化金属との塩、アリールアミンとルイス酸との塩よりなる群から選ばれる1種または2種以上の化合物等が挙げられる。さらに具体的には、4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンダフルオロフェニル)ボラート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート等の有機基の置換したオニウム塩(国際公開2005/089024号パンフレット);塩化鉄(III)(特開平11−251067号公報)、ペルオキソ二硫酸ア
ンモニウム等の高原子価の無機化合物;テトラシアノエチレン等のシアノ化合物、トリス(ペンダフルオロフェニル)ボラン(特開2003−31365号公報)等の芳香族ホウ素化合物;フラーレン誘導体;ヨウ素;ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、ショウノウスルホン酸イオン等のスルホン酸イオン等が挙げられる。
Examples of such electron-accepting compounds include triarylboron compounds, metal halides, Lewis acids, organic acids, onium salts, salts of arylamines and metal halides, and salts of arylamines and Lewis acids. Examples thereof include one or more compounds selected from the group. More specifically, an onium salt substituted with an organic group such as 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and triphenylsulfonium tetrafluoroborate (International Publication No. WO 2005/089024); High valent inorganic compounds such as iron (III) chloride (Japanese Patent Laid-Open No. 11-251067), ammonium peroxodisulfate; cyano compounds such as tetracyanoethylene, tris (pendafluorophenyl) borane (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-31365) Aromatic boron compounds such as); fullerene derivatives; iodine; sulfonate ions such as polystyrene sulfonate ions, alkylbenzene sulfonate ions, camphor sulfonate ions, and the like.

これらの電子受容性化合物は、正孔輸送性化合物を酸化することにより正孔注入層の導電率を向上させることができる。
正孔注入層或いは正孔注入層形成用組成物中の電子受容性化合物の正孔輸送性化合物に対する含有量は、通常0.1モル%以上、好ましくは1モル%以上であり、また、通常100モル%以下、好ましくは40モル%以下である。
These electron accepting compounds can improve the conductivity of the hole injection layer by oxidizing the hole transporting compound.
The content of the electron-accepting compound in the hole-injecting layer or the composition for forming a hole-injecting layer with respect to the hole-transporting compound is usually 0.1 mol% or more, preferably 1 mol% or more, and usually It is 100 mol% or less, preferably 40 mol% or less.

(その他の構成材料)
正孔注入層の材料としては、本発明の効果を著しく損なわない限り、上述の正孔輸送性化合物や電子受容性化合物に加えて、さらに、その他の成分を含有させてもよい。その他の成分の例としては、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バインダー樹脂、塗布性改良剤などが挙げられる。なお、その他の成分は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
(Other components)
As a material for the hole injection layer, other components may be further contained in addition to the above-described hole transporting compound and electron accepting compound as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples of other components include various light emitting materials, electron transporting compounds, binder resins, and coating property improving agents. In addition, only 1 type may be used for another component and it may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

(溶剤)
湿式成膜法に用いる正孔注入層形成用組成物の溶剤のうち少なくとも1種は、上述の正孔注入層の構成材料を溶解しうる化合物であることが好ましい。また、この溶剤の沸点は通常110℃以上、好ましくは140℃以上、より好ましくは200℃以上であり、また、通常400℃以下、好ましくは300℃以下である。溶剤の沸点が低すぎると、乾燥速度が速すぎ、膜質が悪化する可能性がある。また、溶剤の沸点が高すぎると乾燥工程の温度を高くする必要があるし、他の層や基板に悪影響を与える可能性がある。
(solvent)
At least one of the solvents of the composition for forming a hole injection layer used in the wet film formation method is preferably a compound that can dissolve the constituent material of the hole injection layer. The boiling point of this solvent is usually 110 ° C. or higher, preferably 140 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher, and usually 400 ° C. or lower, preferably 300 ° C. or lower. If the boiling point of the solvent is too low, the drying speed is too high and the film quality may be deteriorated. Further, if the boiling point of the solvent is too high, it is necessary to increase the temperature of the drying process, and there is a possibility of adversely affecting other layers and the substrate.

溶剤として例えば、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、アミド系溶剤などが挙げられる。
エーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル等が挙げられる。
Examples of the solvent include ether solvents, ester solvents, aromatic hydrocarbon solvents, amide solvents, and the like.
Examples of ether solvents include aliphatic ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA); 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole , Aromatic ethers such as phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole and 2,4-dimethylanisole.

エステル系溶剤としては、例えば、酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル等が挙げられる。
芳香族炭化水素系溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、3−イロプロピルビフェニル、1,2,3,4−テトラメチルベンゼン、1,4−ジイソプロピルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、メチルナフタレン等が挙げられる。
Examples of the ester solvent include aromatic esters such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, and n-butyl benzoate.
Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include toluene, xylene, cyclohexylbenzene, 3-isopropylpropylphenyl, 1,2,3,4-tetramethylbenzene, 1,4-diisopropylbenzene, cyclohexylbenzene, and methylnaphthalene. Can be mentioned.

アミド系溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。
その他、ジメチルスルホキシド、等も用いることができる。
これらの溶剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で用いてもよい。
Examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide.
In addition, dimethyl sulfoxide and the like can also be used.
These solvent may use only 1 type and may use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

(成膜方法)
正孔注入層形成用組成物を調製後、この組成物を湿式成膜により、正孔注入層3の下層に該当する層(通常は、陽極2)上に塗布成膜し、乾燥することにより正孔注入層3を形成する。
成膜工程における温度は、組成物中に結晶が生じることによる膜の欠損を防ぐため、10℃以上が好ましく、50℃以下が好ましい。
(Film formation method)
After preparing the composition for forming the hole injection layer, the composition is applied on the layer corresponding to the lower layer of the hole injection layer 3 (usually the anode 2) by wet film formation, and dried. The hole injection layer 3 is formed.
The temperature in the film forming step is preferably 10 ° C. or higher, and preferably 50 ° C. or lower in order to prevent film loss due to the formation of crystals in the composition.

成膜工程における相対湿度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.01ppm以上、通常80%以下である。
成膜後、通常加熱等により正孔注入層形成用組成物の膜を乾燥させる。加熱工程において使用する加熱手段の例を挙げると、クリーンオーブン、ホットプレート、赤外線、ハロゲンヒーター、マイクロ波照射などが挙げられる。中でも、膜全体に均等に熱を与えるためには、クリーンオーブンおよびホットプレートが好ましい。
Although the relative humidity in a film-forming process is not limited unless the effect of this invention is impaired remarkably, it is 0.01 ppm or more normally and 80% or less normally.
After the film formation, the film of the composition for forming a hole injection layer is usually dried by heating or the like. Examples of the heating means used in the heating step include a clean oven, a hot plate, infrared rays, a halogen heater, microwave irradiation and the like. Among them, a clean oven and a hot plate are preferable in order to uniformly apply heat to the entire film.

加熱工程における加熱温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り、正孔注入層形成用組成物に用いた溶剤の沸点以上の温度で加熱することが好ましい。また、正孔注入層に用いた溶剤が2種類以上含まれている混合溶剤の場合、少なくとも1種類がその溶剤の沸点以上の温度で加熱されるのが好ましい。溶剤の沸点上昇を考慮すると、加熱工程においては、好ましくは120℃以上、好ましくは410℃以下で加熱することが好ましい。   The heating temperature in the heating step is preferably heated at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent used in the composition for forming a hole injection layer as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In the case of a mixed solvent containing two or more types of solvents used in the hole injection layer, at least one type is preferably heated at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent. In consideration of an increase in the boiling point of the solvent, the heating step is preferably performed at 120 ° C. or higher, preferably 410 ° C. or lower.

加熱工程において、加熱温度が正孔注入層形成用組成物の溶剤の沸点以上であり、かつ塗布膜の十分な不溶化が起こらなければ、加熱時間は限定されないが、好ましくは10秒以上、通常180分以下である。加熱時間が長すぎると他の層の成分が拡散する傾向があり、短すぎると正孔注入層が不均質になる傾向がある。加熱は2回に分けて行ってもよい。   In the heating step, the heating time is not limited as long as the heating temperature is not lower than the boiling point of the solvent of the composition for forming a hole injection layer and sufficient insolubilization of the coating film does not occur. Is less than a minute. If the heating time is too long, the components of the other layers tend to diffuse, and if it is too short, the hole injection layer tends to be inhomogeneous. Heating may be performed in two steps.

(真空蒸着法による正孔注入層の形成)
真空蒸着により正孔注入層3を形成する場合には、正孔注入層3の構成材料(前述の正孔輸送性化合物、電子受容性化合物等)の1種または2種以上を真空容器内に設置されたるつぼに入れ(2種以上の材料を用いる場合は各々のるつぼに入れ)、真空容器内を適当な真空ポンプで10−4Pa程度まで排気した後、るつぼを加熱して(2種以上の材料を用いる場合は各々のるつぼを加熱して)、蒸発量を制御して蒸発させ(2種以上の材料を用いる場合はそれぞれ独立に蒸発量を制御して蒸発させ)、るつぼと向き合って置かれた基板の陽極2上に正孔注入層3を形成させる。なお、2種以上の材料を用いる場合は、それらの混合物をるつぼに入れ、加熱、蒸発させて正孔注入層3を形成することもできる。
(Formation of hole injection layer by vacuum evaporation)
When the hole injection layer 3 is formed by vacuum deposition, one or more of the constituent materials of the hole injection layer 3 (the aforementioned hole transporting compound, electron accepting compound, etc.) are placed in a vacuum container. Put in crucibles installed (in case of using two or more materials, put them in each crucible), evacuate the inside of the vacuum vessel to about 10 −4 Pa with a suitable vacuum pump, and then heat the crucible (two types When using the above materials, heat each crucible) and evaporate by controlling the amount of evaporation (when using two or more materials, evaporate by independently controlling the amount of evaporation) and face the crucible Then, the hole injection layer 3 is formed on the anode 2 of the substrate placed on the substrate. In addition, when using 2 or more types of materials, the hole injection layer 3 can also be formed by putting those mixtures into a crucible, heating and evaporating.

蒸着時の真空度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.1×10−6Torr(0.13×10−4Pa)以上、通常9.0×10−6Torr(12.0×10−4Pa)以下である。蒸着速度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常0.1Å/秒以上、通常5.0Å/秒以下である。蒸着時の成膜温度は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、好ましくは10℃以上で、好ましくは50℃以下で行われる。 The degree of vacuum at the time of vapor deposition is not limited as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, but usually 0.1 × 10 −6 Torr (0.13 × 10 −4 Pa) or more, usually 9.0 × 10 −6 Torr. (12.0 × 10 −4 Pa) or less. The deposition rate is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1 Å / second or more and usually 5.0 Å / second or less. The film forming temperature at the time of vapor deposition is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is preferably 10 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or lower.

[4]正孔輸送層
本発明に係る正孔輸送層4の形成方法は真空蒸着法でも、湿式成膜法でもよく、特に制限はないが、ダークスポット低減の観点から正孔輸送層4を湿式成膜法により形成することが好ましい。
正孔輸送層4は、正孔注入層がある場合には正孔注入層3の上に、正孔注入層3が無い場合には陽極2の上に形成することができる。また、本発明の有機電界発光素子は、正孔輸送層を省いた構成であってもよい。
[4] Hole transport layer The hole transport layer 4 according to the present invention may be formed by either a vacuum deposition method or a wet film formation method, and is not particularly limited. It is preferably formed by a wet film formation method.
The hole transport layer 4 can be formed on the hole injection layer 3 when there is a hole injection layer and on the anode 2 when there is no hole injection layer 3. The organic electroluminescent device of the present invention may have a configuration in which the hole transport layer is omitted.

正孔輸送層4を形成する材料としては、正孔輸送性が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送することができる材料であることが好ましい。そのために、イオン化ポテンシャルが小さく、可視光の光に対して透明性が高く、正孔移動度が大きく、安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しにくいことが好ましい。また、多くの場合、発光層5に接するため、発光層5からの発光を消光したり、発光層5との間でエキサイプレックスを形成して効率を低下させたりしないことが好ましい。   The material for forming the hole transport layer 4 is preferably a material having high hole transportability and capable of efficiently transporting injected holes. Therefore, it is preferable that the ionization potential is small, the transparency to visible light is high, the hole mobility is large, the stability is high, and impurities that become traps are not easily generated during manufacturing or use. In many cases, it is preferable not to quench the light emitted from the light emitting layer 5 or to form an exciplex with the light emitting layer 5 to reduce the efficiency because it is in contact with the light emitting layer 5.

このような正孔輸送層4の材料としては、従来、正孔輸送層の構成材料として用いられている材料であればよく、例えば、前述の正孔注入層3に使用される正孔輸送性化合物として例示したものが挙げられる。また、アリールアミン誘導体、フルオレン誘導体、スピロ誘導体、カルバゾール誘導体、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、シロール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが挙げられる。   Such a material for the hole transport layer 4 may be any material conventionally used as a constituent material for the hole transport layer. For example, the hole transport property used for the hole injection layer 3 described above. What was illustrated as a compound is mentioned. In addition, arylamine derivatives, fluorene derivatives, spiro derivatives, carbazole derivatives, pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, silole derivatives, oligothiophene derivatives, condensed polycyclic aromatics Group derivatives, metal complexes and the like.

また、例えば、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリアリールアミン誘導体、ポリビニルトリフェニルアミン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリアリーレン誘導体、テトラフェニルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホン誘導体、ポリアリーレンビニレン誘導体、ポリシロキサン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)誘導体等が挙げられる。これらは、交互共重合体、ランダム重合体、ブロック重合体またはグラフト共重合体のいずれであってもよい。また、主鎖に枝分かれがあり末端部が3つ以上ある高分子や、所謂デンドリマーであってもよい。   In addition, for example, polyvinylcarbazole derivatives, polyarylamine derivatives, polyvinyltriphenylamine derivatives, polyfluorene derivatives, polyarylene derivatives, polyarylene ether sulfone derivatives containing tetraphenylbenzidine, polyarylene vinylene derivatives, polysiloxane derivatives, polythiophenes Derivatives, poly (p-phenylene vinylene) derivatives, and the like. These may be any of an alternating copolymer, a random polymer, a block polymer, or a graft copolymer. Further, it may be a polymer having a branched main chain and three or more terminal portions, or a so-called dendrimer.

中でも、ポリアリールアミン誘導体やポリアリーレン誘導体が好ましい。
ポリアリールアミン誘導体としては、下記式(II)で表される繰り返し単位を含む重合体であることが好ましい。特に、下記式(II)で表される繰り返し単位からなる重合体であることが好ましく、この場合、繰り返し単位それぞれにおいて、ArまたはArが異なっているものであってもよい。
Of these, polyarylamine derivatives and polyarylene derivatives are preferred.
The polyarylamine derivative is preferably a polymer containing a repeating unit represented by the following formula (II). In particular, a polymer composed of a repeating unit represented by the following formula (II) is preferable. In this case, Ar a or Ar b may be different in each repeating unit.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(式(II)中、Ar及びArは、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。)
置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの、6員環の単環または2〜5縮合環由来の基およびこれらの環が2環以上
直接結合で連結してなる基が挙げられる。
(In formula (II), Ar a and Ar b each independently represent an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent.)
Examples of the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent include, for example, a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, and acenaphthene. Examples thereof include a group derived from a 6-membered monocyclic ring or a 2-5 condensed ring, such as a ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring, and a group in which two or more rings are connected by a direct bond.

置換基を有していてもよい芳香族複素環基としては、例えばフラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの、5または6員環の単環または2〜4縮合環由来の基およびこれらの環が2環以上直接結合で連結してなる基が挙げられる。   Examples of the aromatic heterocyclic group which may have a substituent include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyrrole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxadiazole ring, an indole ring, and a carbazole ring. , Pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine Ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, benzimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring, etc. Or a group and the rings of from 2-4 fused rings include groups formed by connecting a direct bond or two or more rings.

溶解性、耐熱性の点から、ArおよびArは、各々独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、トリフェニレン環、ピレン環、チオフェン環、ピリジン環、フルオレン環からなる群より選ばれる環由来の基やベンゼン環が2環以上連結してなる基(例えば、ビフェニル基やターフェニル基)が好ましい。中でも、ベンゼン環由来の基(フェニル基)、ベンゼン環が2環連結してなる基(ビフェニル基)およびフルオレン環由来の基(フルオレニル基)が好ましい。 From the viewpoints of solubility and heat resistance, Ar a and Ar b are each independently selected from the group consisting of a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, triphenylene ring, pyrene ring, thiophene ring, pyridine ring, and fluorene ring. A group derived from a selected ring or a group formed by linking two or more benzene rings (for example, a biphenyl group or a terphenyl group) is preferable. Among these, a group derived from a benzene ring (phenyl group), a group formed by connecting two benzene rings (biphenyl group), and a group derived from a fluorene ring (fluorenyl group) are preferable.

ArおよびArにおける芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アシル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シリル基、シロキシ基、シアノ基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基などが挙げられる。 Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic group in Ar a and Ar b may have include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, and a dialkyl. Examples thereof include an amino group, a diarylamino group, an acyl group, a halogen atom, a haloalkyl group, an alkylthio group, an arylthio group, a silyl group, a siloxy group, a cyano group, an aromatic hydrocarbon ring group, and an aromatic heterocyclic group.

ポリアリーレン誘導体としては、前記式(II)におけるArやArとして例示した置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基などのアリーレン基をその繰り返し単位に有する重合体が挙げられる。
ポリアリーレン誘導体としては、下記式(III−1)および/または下記式(III−2)からなる繰り返し単位を有する重合体が好ましい。
As the polyarylene derivative, an arylene group such as an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent exemplified as Ar a or Ar b in the formula (II) is used as its repeating unit. The polymer which has is mentioned.
As the polyarylene derivative, a polymer having a repeating unit composed of the following formula (III-1) and / or the following formula (III-2) is preferable.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(式(III−1)中、R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、アルキル基、ア
ルコキシ基、フェニルアルキル基、フェニルアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基またはカルボキシ基を表す。tおよびsは、それぞれ独立に、0〜3の整数を表す。tまたはsが2以上の場合、一分子中に含まれる複数のRまたはRは同一であっても異なっていてもよく、隣接するRまたはRどうしで環を形成していてもよい。)
(In formula (III-1), R a , R b , R c and R d are each independently an alkyl group, an alkoxy group, a phenylalkyl group, a phenylalkoxy group, a phenyl group, a phenoxy group, an alkylphenyl group, Represents an alkoxyphenyl group, an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, or a carboxy group, and t and s each independently represent an integer of 0 to 3. When t or s is 2 or more, a plurality of molecules included in one molecule R a or R b may be the same or different, and adjacent R a or R b may form a ring.)

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(式(III−2)中、RおよびRは、それぞれ独立に、上記式(III−1)におけるR、R、RまたはRと同義である。rおよびuは、それぞれ独立に、0〜3の整数を表す。rまたはuが2以上の場合、一分子中に含まれる複数のRおよびRは同一であっても異なっていてもよく、隣接するRまたはRどうしで環を形成していてもよい。Xは、5員環または6員環を構成する原子または原子群を表す。)
Xの具体例としては、酸素原子、置換基を有していてもよいホウ素原子、置換基を有していてもよい窒素原子、置換基を有していてもよいケイ素原子、置換基を有していてもよいリン原子、置換基を有していてもよいイオウ原子、置換基を有していてもよい炭素原子またはこれらが結合してなる基である。
(In the formula (III-2), R e and R f are independently the same as R a , R b , R c or R d in the formula (III-1). Independently, it represents an integer of 0 to 3. When r or u is 2 or more, a plurality of R e and R f contained in one molecule may be the same or different, and adjacent R e or R f may form a ring, and X represents an atom or a group of atoms constituting a 5-membered ring or a 6-membered ring.)
Specific examples of X include an oxygen atom, a boron atom which may have a substituent, a nitrogen atom which may have a substituent, a silicon atom which may have a substituent, and a substituent. A phosphorus atom which may be substituted, a sulfur atom which may have a substituent, a carbon atom which may have a substituent, or a group formed by bonding these.

また、ポリアリーレン誘導体としては、上記式(III−1)および/または上記式(III−2)からなる繰り返し単位に加えて、さらに下記式(III−3)で表される繰り返し単
位を有することが好ましい。
Further, the polyarylene derivative has a repeating unit represented by the following formula (III-3) in addition to the repeating unit consisting of the above formula (III-1) and / or the above formula (III-2). Is preferred.

Figure 0005664128
Figure 0005664128

(式(III−3)中、Ar〜Arは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、
芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。vおよびwは、それぞれ独立に0または1を表す。)
Ar〜Arの具体例としては、前記式(II)における、Ar及びArと同様である。
(In formula (III-3), Ar c to Ar j may each independently have a substituent,
Represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group. v and w each independently represent 0 or 1. )
Specific examples of Ar c to Ar j are the same as Ar a and Ar b in the formula (II).

上記式(III−1)〜(III−3)の具体例およびポリアリーレン誘導体の具体例等は、特開2008−98619号公報に記載のものなどが挙げられる。
湿式成膜法で正孔輸送層4を形成する場合は、上記正孔注入層3の形成と同様にして、正孔輸送層形成用組成物を調製した後、湿式成膜後、加熱乾燥させる。
正孔輸送層形成用組成物には、上述の正孔輸送性化合物の他、溶剤を含有する。用いる溶剤は上記正孔注入層形成用組成物に用いたものと同様である。また、成膜条件、加熱乾燥条件等も正孔注入層3の形成の場合と同様である。
Specific examples of the above formulas (III-1) to (III-3) and specific examples of polyarylene derivatives include those described in JP-A-2008-98619.
In the case of forming the hole transport layer 4 by a wet film formation method, a composition for forming a hole transport layer is prepared in the same manner as the formation of the hole injection layer 3 and then heated and dried after the wet film formation. .
The composition for forming a hole transport layer contains a solvent in addition to the above hole transport compound. The solvent used is the same as that used for the composition for forming a hole injection layer. The film forming conditions, heat drying conditions, and the like are the same as in the case of forming the hole injection layer 3.

真空蒸着法により正孔輸送層を形成する場合もまた、その成膜条件等は上記正孔注入層3の形成の場合と同様である。
正孔輸送層4は、上記正孔輸送性化合物の他、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バ
インダー樹脂、塗布性改良剤などを含有していてもよい。
また、正孔輸送層4は、架橋性化合物を架橋して形成される層であってもよい。架橋性化合物は、架橋性基を有する化合物であって、架橋することにより網目状高分子化合物を形成する。
In the case where the hole transport layer is formed by the vacuum deposition method, the film forming conditions are the same as those in the case of forming the hole injection layer 3.
The hole transport layer 4 may contain various light emitting materials, electron transport compounds, binder resins, coating property improving agents, and the like in addition to the hole transport compound.
The hole transport layer 4 may be a layer formed by crosslinking a crosslinkable compound. The crosslinkable compound is a compound having a crosslinkable group, and forms a network polymer compound by crosslinking.

この架橋性基の例を挙げると、オキセタン、エポキシなどの環状エーテル由来の基;ビニル基、トリフルオロビニル基、スチリル基、アクリル基、メタクリロイル、シンナモイル等の不飽和二重結合由来の基;ベンゾシクロブテン由来の基などが挙げられる。
架橋性化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。架橋性化合物は1種のみを有していてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で有していてもよい。
Examples of this crosslinkable group include groups derived from cyclic ethers such as oxetane and epoxy; groups derived from unsaturated double bonds such as vinyl, trifluorovinyl, styryl, acrylic, methacryloyl and cinnamoyl; benzo Examples include groups derived from cyclobutene.
The crosslinkable compound may be any of a monomer, an oligomer, and a polymer. The crosslinkable compound may have only 1 type, and may have 2 or more types by arbitrary combinations and ratios.

架橋性化合物としては、架橋性基を有する正孔輸送性化合物を用いることが好ましい。正孔輸送性化合物としては、上記の例示したものが挙げられ、これら正孔輸送性化合物に対して、架橋性基が主鎖または側鎖に結合しているものが挙げられる。特に架橋性基は、アルキレン基等の連結基を介して、主鎖に結合していることが好ましい。また、特に正孔輸送性化合物としては、架橋性基を有する繰り返し単位を含む重合体であることが好ましく、上記式(II)や式(III−1)〜(III−3)に架橋性基が直接または連結基を介して結合した繰り返し単位を有する重合体であることが好ましい。   As the crosslinkable compound, a hole transporting compound having a crosslinkable group is preferably used. Examples of the hole transporting compound include those exemplified above, and those having a crosslinkable group bonded to the main chain or side chain with respect to these hole transporting compounds. In particular, the crosslinkable group is preferably bonded to the main chain via a linking group such as an alkylene group. In particular, the hole transporting compound is preferably a polymer containing a repeating unit having a crosslinkable group, and the above formula (II) and formulas (III-1) to (III-3) can be used as a crosslinkable group. Is preferably a polymer having a repeating unit bonded directly or via a linking group.

架橋性化合物としては、架橋性基を有する正孔輸送性化合物を用いることが好ましい。正孔輸送性化合物の例を挙げると、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、カルバゾール誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体等の含窒素芳香族化合物誘導体;トリフェニルアミン誘導体;シロール誘導体;オリゴチオフェン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが挙げられる。その中でも、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、カルバゾール誘導体等の含窒素芳香族誘導体;トリフェニルアミン誘導体、シロール誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが好ましく、特に、トリフェニルアミン誘導体がより好ましい。   As the crosslinkable compound, a hole transporting compound having a crosslinkable group is preferably used. Examples of hole transporting compounds include nitrogen-containing aromatic compound derivatives such as pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, carbazole derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives; triphenylamine derivatives Silole derivatives; oligothiophene derivatives, condensed polycyclic aromatic derivatives, metal complexes and the like. Among them, nitrogen-containing aromatic derivatives such as pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, carbazole derivatives; triphenylamine derivatives, silole derivatives, condensed polycyclic aromatic derivatives, metal complexes, etc. Particularly preferred are triphenylamine derivatives.

架橋性化合物を架橋して正孔輸送層4を形成するには、通常、架橋性化合物を溶剤に溶解または分散した正孔輸送層形成用組成物を調製して、湿式成膜により成膜して架橋させる。
正孔輸送層形成用組成物には、架橋性化合物の他、架橋反応を促進する添加物を含んでいてもよい。架橋反応を促進する添加物の例を挙げると、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシムエステル化合物、アゾ化合物、オニウム塩等の重合開始剤および重合促進剤;縮合多環炭化水素、ポルフィリン化合物、ジアリールケトン化合物等の光増感剤などが挙げられる。
In order to form the hole transport layer 4 by crosslinking the crosslinkable compound, a composition for forming a hole transport layer in which the crosslinkable compound is dissolved or dispersed in a solvent is usually prepared and deposited by wet film formation. To crosslink.
The composition for forming a hole transport layer may contain an additive for promoting a crosslinking reaction in addition to the crosslinking compound. Examples of additives that accelerate the crosslinking reaction include polymerization initiators and polymerization accelerators such as alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime ester compounds, azo compounds, onium salts; condensed polycyclic hydrocarbons, Examples thereof include photosensitizers such as porphyrin compounds and diaryl ketone compounds.

また、さらに、レベリング剤、消泡剤等の塗布性改良剤;電子受容性化合物;バインダー樹脂などを含有していてもよい。
正孔輸送層形成用組成物は、架橋性化合物を通常0.01質量%以上、好ましくは0.05質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上であり、また、通常50質量%以下、好ましくは20質量%以下、より好ましくは10質量%以下含有する。
Further, it may contain a coating property improving agent such as a leveling agent and an antifoaming agent; an electron accepting compound; a binder resin and the like.
In the composition for forming a hole transport layer, the crosslinkable compound is usually 0.01% by mass or more, preferably 0.05% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, and usually 50% by mass or less. , Preferably it is 20 mass% or less, More preferably, it contains 10 mass% or less.

このような濃度で架橋性化合物を含む正孔輸送層形成用組成物を下層(通常は正孔注入層3)上に成膜後、加熱および/または光などの電磁エネルギー照射により、架橋性化合物を架橋させて網目状高分子化合物を形成する。
成膜時の温度、湿度などの条件は、前記正孔注入層3の湿式成膜時と同様である。
成膜後の加熱の手法は特に限定されない。加熱温度条件としては、通常120℃以上、
好ましくは400℃以下である。
After forming a composition for forming a hole transport layer containing a crosslinkable compound at such a concentration on the lower layer (usually the hole injection layer 3), the composition is crosslinked by heating and / or irradiation with electromagnetic energy such as light. Are crosslinked to form a network polymer compound.
Conditions such as temperature and humidity during film formation are the same as those during the wet film formation of the hole injection layer 3.
The heating method after film formation is not particularly limited. The heating temperature condition is usually 120 ° C. or higher,
Preferably it is 400 degrees C or less.

加熱時間としては、通常1分以上、好ましくは24時間以下である。加熱手段としては特に限定されないが、成膜された層を有する積層体をホットプレート上に載せたり、オーブン内で加熱するなどの手段が用いられる。例えば、ホットプレート上で、120℃以上、1分間以上加熱する等の条件を用いることができる。
光などの電磁エネルギー照射による場合には、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、赤外ランプ等の紫外・可視・赤外光源を直接用いて照射する方法、あるいは前述の光源を内蔵するマスクアライナ、コンベア型光照射装置を用いて照射する方法などが挙げられる。光以外の電磁エネルギー照射では、例えばマグネトロンにより発生させたマイクロ波を照射する装置、いわゆる電子レンジを用いて照射する方法が挙げられる。
The heating time is usually 1 minute or longer, preferably 24 hours or shorter. The heating means is not particularly limited, and means such as placing a laminated body having a deposited layer on a hot plate or heating in an oven is used. For example, conditions such as heating on a hot plate at 120 ° C. or more for 1 minute or more can be used.
In the case of irradiation with electromagnetic energy such as light, a method of irradiating directly using an ultraviolet / visible / infrared light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, an infrared lamp, etc. Examples include a mask aligner and a method of irradiation using a conveyor type light irradiation device. In electromagnetic energy irradiation other than light, for example, there is a method of irradiation using a device that irradiates a microwave generated by a magnetron, a so-called microwave oven.

照射時間としては、膜の溶解性を低下させるために必要な条件を設定することが好ましいが、通常、0.1秒以上、好ましくは10時間以下照射される。
加熱および光などの電磁エネルギー照射は、それぞれ単独、あるいは組み合わせて行ってもよい。組み合わせる場合、実施する順序は特に限定されない。
このようにして形成される正孔輸送層4の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。
As the irradiation time, it is preferable to set conditions necessary for reducing the solubility of the film, but irradiation is usually performed for 0.1 seconds or longer, preferably 10 hours or shorter.
Heating and irradiation of electromagnetic energy such as light may be performed individually or in combination. When combined, the order of implementation is not particularly limited.
The film thickness of the hole transport layer 4 thus formed is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

[5]発光層
正孔注入層3の上、または正孔輸送層4を設けた場合には正孔輸送層4の上には発光層5が設けられる。発光層5は、電界を与えられた電極間において、陽極2から注入された正孔と、陰極9から注入された電子との再結合により励起されて、主たる発光源となる層である。
[5] Light emitting layer When the hole injection layer 3 or the hole transport layer 4 is provided, the light emitting layer 5 is provided on the hole transport layer 4. The light emitting layer 5 is a layer that is excited by recombination of holes injected from the anode 2 and electrons injected from the cathode 9 between electrodes to which an electric field is applied, and becomes a main light emitting source.

(発光層の材料)
発光層5は、その構成材料として、少なくとも、発光の性質を有する材料(発光材料)を含有するとともに、好ましくは、正孔輸送の性質を有する化合物(正孔輸送性化合物)、あるいは、電子輸送の性質を有する化合物(電子輸送性化合物)を含有する。発光材料をドーパント材料として使用し、正孔輸送性化合物や電子輸送性化合物などをホスト材料として使用してもよい。発光材料については特に限定はなく、所望の発光波長で発光し、発光効率が良好である物質を用いればよいが、本発明では前述した発光材料を用いることが好ましい。一方、ホスト材料、とりわけ電子輸送性化合物として本発明のピリミジン化合物を使用することが好ましい。
(Light emitting layer material)
The light emitting layer 5 contains at least a material having a light emitting property (light emitting material) as a constituent material, and preferably a compound having a hole transporting property (hole transporting compound) or an electron transport. A compound (electron transporting compound) having the following properties: A light emitting material may be used as a dopant material, and a hole transporting compound, an electron transporting compound, or the like may be used as a host material. There is no particular limitation on the light-emitting material, and a substance that emits light at a desired light emission wavelength and has high light emission efficiency may be used. In the present invention, the above-described light-emitting material is preferably used. On the other hand, it is preferable to use the pyrimidine compound of the present invention as a host material, particularly an electron transporting compound.

特に、本発明の有機電界発光素子は、その発光層が、本発明の有機電界発光素子用組成物を用いて湿式成膜法にて形成されることが好ましい。
更に、発光層5は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、その他の成分を含有していてもよい。なお、湿式成膜法で発光層5を形成する場合は、低分子量の材料(分子量通常10000以下、好ましくは5000以下)を使用することが好ましい。
In particular, in the organic electroluminescent element of the present invention, the light emitting layer is preferably formed by a wet film forming method using the composition for organic electroluminescent element of the present invention.
Furthermore, the light emitting layer 5 may contain other components as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In addition, when forming the light emitting layer 5 with a wet film-forming method, it is preferable to use a low molecular weight material (molecular weight is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less).

<発光層の形成>
湿式成膜法により発光層5を形成する場合は、発光層に用いる材料を適切な溶剤に溶解させて発光層形成用組成物(本発明のピリミジン化合物を含む場合は有機電界発光素子用組成物)を調製し、それを用いて成膜することにより形成する。
発光層5を湿式成膜法で形成するための発光層形成用組成物に含有させる発光層用溶剤としては、上記本発明の有機電界発光素子用組成物に含有される溶剤として説明したものと同様である。
<Formation of light emitting layer>
When the light emitting layer 5 is formed by a wet film forming method, the material used for the light emitting layer is dissolved in an appropriate solvent to form a composition for forming a light emitting layer (in the case of containing the pyrimidine compound of the present invention, a composition for an organic electroluminescent element). ) Is prepared, and a film is formed using it.
As the light-emitting layer solvent to be contained in the light-emitting layer forming composition for forming the light-emitting layer 5 by a wet film forming method, the solvent described in the above-mentioned organic electroluminescent element composition of the present invention is used. It is the same.

また、発光層形成用組成物中の発光材料、電荷輸送性化合物等の固形分濃度としては、
通常0.01質量%以上、通常70質量%以下である。この濃度が大きすぎると膜厚ムラが生じる可能性があり、また、小さすぎると膜に欠陥が生じる可能性がある。
発光層形成用組成物を湿式成膜後、得られた塗膜を乾燥し、溶剤を除去することにより、発光層が形成される。具体的には、上記正孔注入層の形成において記載した方法と同様である。湿式成膜法の方式は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されず、前述のいかなる方式も用いることができる。
Further, as the solid content concentration of the light emitting material, the charge transporting compound, etc. in the composition for forming the light emitting layer,
Usually 0.01% by mass or more and usually 70% by mass or less. If this concentration is too large, film thickness unevenness may occur, and if it is too small, defects may occur in the film.
After wet-deposition of the composition for forming a light emitting layer, the resulting coating film is dried and the solvent is removed to form a light emitting layer. Specifically, it is the same as the method described in the formation of the hole injection layer. The method of the wet film forming method is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, and any of the methods described above can be used.

発光層5の膜厚は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常3nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常200nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。発光層5の膜厚が、薄すぎると膜に欠陥が生じる可能性があり、厚すぎると駆動電圧が上昇する可能性がある。
[6]正孔阻止層
本発明の有機電界発光素子は、前記発光層5と後述の電子注入層8との間に、正孔阻止層6を設けることが好ましい。正孔阻止層6は、発光層5の上に、発光層5の陰極9側の界面に接するように積層される層である。
The thickness of the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less. If the thickness of the light emitting layer 5 is too thin, defects may occur in the film, and if it is too thick, the driving voltage may increase.
[6] Hole blocking layer In the organic electroluminescent element of the present invention, it is preferable to provide a hole blocking layer 6 between the light emitting layer 5 and an electron injection layer 8 described later. The hole blocking layer 6 is a layer laminated on the light emitting layer 5 so as to be in contact with the interface of the light emitting layer 5 on the cathode 9 side.

この正孔阻止層6は、陽極2から移動してくる正孔を陰極9に到達するのを阻止する役割と、陰極9から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送する役割とを有する。
正孔阻止層6を構成する材料に求められる物性としては、電子移動度が高く正孔移動度が低いこと、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いことが挙げられる。
The hole blocking layer 6 has a role of blocking holes moving from the anode 2 from reaching the cathode 9 and a role of efficiently transporting electrons injected from the cathode 9 toward the light emitting layer 5. Have
The physical properties required for the material constituting the hole blocking layer 6 include high electron mobility, low hole mobility, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and excited triplet level (T1). Is high.

このような条件を満たす正孔阻止層の材料としては、例えば、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(トリフェニルシラノラト)アルミニウム等の混合配位子錯体、ビス(2−メチル−8−キノラト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−8−キノリラト)アルミニウム二核金属錯体等の金属錯体、ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開平11−242996号公報)、3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7−41759号公報)、バソクプロイン等のフェナントロリン誘導体(特開平10−79297号公報)などが挙げられる。更に、本発明のピリミジン化合物、及び国際公開第2005/022962号パンフレットに記載の2,4,6位が置換されたピリジン環を少なくとも1個有する化合物も、正孔阻止層6の材料として好ましい。イオン化ポテンシャル及び電子親和力が低く、高い電子輸送性を有することから、より好ましくは、本発明のピリミジン化合物である。   Examples of the material for the hole blocking layer satisfying such conditions include bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) aluminum, and the like. Mixed metal complexes such as bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolinato) aluminum binuclear metal complexes, distyrylbiphenyl derivatives, etc. Triazole derivatives such as styryl compounds (JP-A-11-242996), 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5 (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole (JP-A-7 -41759), phenanthroline derivatives such as bathocuproine (JP-A-10-79297), and the like. That. Furthermore, the pyrimidine compound of the present invention and the compound having at least one pyridine ring substituted at the 2,4,6-position described in WO 2005/022962 are also preferable as the material for the hole blocking layer 6. The pyrimidine compound of the present invention is more preferable because of its low ionization potential and electron affinity and high electron transport properties.

なお、正孔阻止層6の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
正孔阻止層6の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、真空蒸着法や、その他の方法で形成できる。
正孔阻止層6の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.3nm以上、好ましくは0.5nm以上であり、また、通常100nm以下、好ましくは50nm以下である。
In addition, the material of the hole-blocking layer 6 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.
There is no restriction | limiting in the formation method of the hole-blocking layer 6. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film formation method, a vacuum deposition method, or other methods.
The thickness of the hole blocking layer 6 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.3 nm or more, preferably 0.5 nm or more, and usually 100 nm or less, preferably 50 nm or less. is there.

また、正孔阻止層にかえて、正孔緩和層を設けてもよい。
[7]電子輸送層
発光層5と後述の電子注入層8の間に、電子輸送層7を設けてもよい。
電子輸送層7は、素子の発光効率を更に向上させることを目的として設けられるもので、電界を与えられた電極間において陰極9から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送することができる化合物より形成される。
Further, a hole relaxation layer may be provided instead of the hole blocking layer.
[7] Electron Transport Layer An electron transport layer 7 may be provided between the light emitting layer 5 and an electron injection layer 8 described later.
The electron transport layer 7 is provided for the purpose of further improving the light emission efficiency of the device, and efficiently transports electrons injected from the cathode 9 between the electrodes to which an electric field is applied in the direction of the light emitting layer 5. Formed from a compound capable of

電子輸送層7に用いられる電子輸送性化合物としては、通常、陰極9または電子注入層8からの電子注入効率が高く、かつ、高い電子移動度を有し注入された電子を効率よく輸送することができる化合物を用いる。このような条件を満たす化合物としては、例えば、本発明のピリミジン化合物、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−ヒドロキシフラボン金属錯体、5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第5645948号明細書)、キノキサリン化合物(特開平6−207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛などが挙げられる。   As an electron transport compound used for the electron transport layer 7, usually, the electron injection efficiency from the cathode 9 or the electron injection layer 8 is high, and the injected electrons are transported efficiently with high electron mobility. The compound which can be used is used. Examples of the compound satisfying such conditions include metal complexes such as pyrimidine compounds of the present invention and aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (Japanese Patent Laid-Open No. 59-194393), metals of 10-hydroxybenzo [h] quinoline. Complex, oxadiazole derivative, distyrylbiphenyl derivative, silole derivative, 3-hydroxyflavone metal complex, 5-hydroxyflavone metal complex, benzoxazole metal complex, benzothiazole metal complex, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948) ), Quinoxaline compounds (JP-A-6-207169), phenanthroline derivatives (JP-A-5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N'-dicyanoanthraquinonediimine, n-type hydrogen Amorphous carbonized silicon Down, n-type zinc sulfide, etc. n-type zinc selenide.

なお、電子輸送層7の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
電子輸送層7の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。
電子輸送層7の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。
In addition, the material of the electron carrying layer 7 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of the electron carrying layer 7. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
The film thickness of the electron transport layer 7 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

[8]電子注入層
電子注入層8は、陰極9から注入された電子を効率良く発光層5へ注入する役割を果たす。電子注入を効率よく行なうには、電子注入層8を形成する材料は、仕事関数の低い金属が好ましい。例としては、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属等が用いられる。例えばフッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF)、酸化リチウム(LiO)、炭酸セシウム(II)(CsCO)等が挙げられる(Applied Physics Letters,1997年,70巻,152頁;特開平10−74586号公報;IEEE Transactions on Electron Devices,1997年,44巻,1245頁;SID 04 Digest,154頁等参照)。
[8] Electron Injection Layer The electron injection layer 8 plays a role of efficiently injecting electrons injected from the cathode 9 into the light emitting layer 5. In order to perform electron injection efficiently, the material for forming the electron injection layer 8 is preferably a metal having a low work function. Examples include alkali metals such as sodium and cesium, and alkaline earth metals such as barium and calcium. Examples include lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), lithium oxide (Li 2 O), cesium carbonate (II) (CsCO 3 ), and the like (Applied Physics Letters, 1997, 70, 152). JP-A-10-74586; see IEEE Transactions on Electron Devices, 1997, 44, 1245; SID 04 Digest, page 154, etc.).

その膜厚は、通常0.1nm以上、5nm以下が好ましい。
更に、バソフェナントロリン等の含窒素複素環化合物や8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体に代表される有機電子輸送化合物に、ナトリウム、カリウム、セシウム、リチウム、ルビジウム等のアルカリ金属をドープする(特開平10−270171号公報、特開2002−100478号公報、特開2002−100482号公報等参照)ことにより、電子注入・輸送性が向上し優れた膜質を両立させることが可能となるため好ましい。この場合の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常200nm以下、好ましくは100nm以下である。
The film thickness is usually preferably from 0.1 nm to 5 nm.
Furthermore, an organic electron transport compound represented by a metal complex such as a nitrogen-containing heterocyclic compound such as bathophenanthroline or an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is doped with an alkali metal such as sodium, potassium, cesium, lithium, or rubidium ( JP-A-10-270171, JP-A-2002-1000047, JP-A-2002-1000048, etc.) are preferable because it is possible to improve electron injection / transport properties and achieve excellent film quality. . The film thickness in this case is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.

なお、電子注入層8の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
電子注入層8の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。
[9]陰極
陰極9は、発光層5側の層(電子注入層8または発光層5など)に電子を注入する役割を果たすものである。
In addition, the material of the electron injection layer 8 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of the electron injection layer 8. FIG. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
[9] Cathode The cathode 9 plays a role of injecting electrons into a layer (such as the electron injection layer 8 or the light emitting layer 5) on the light emitting layer 5 side.

陰極9の材料としては、前記の陽極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効率良く電子注入を行なうには、仕事関数の低い金属が好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属またはそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。   As the material of the cathode 9, the material used for the anode 2 can be used. However, in order to perform electron injection efficiently, a metal having a low work function is preferable. For example, tin, magnesium, indium, A suitable metal such as calcium, aluminum, silver, or an alloy thereof is used. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy.

なお、陰極9の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
陰極9の膜厚は、通常、陽極2と同様である。
さらに、低仕事関数金属から成る陰極9を保護する目的で、この上に更に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層すると、素子の安定性が増すので好ましい。この目的のために、例えば、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が使われる。なお、これらの材料は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
In addition, the material of the cathode 9 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.
The film thickness of the cathode 9 is usually the same as that of the anode 2.
Further, for the purpose of protecting the cathode 9 made of a low work function metal, it is preferable to further stack a metal layer having a high work function and stable to the atmosphere because the stability of the device is increased. For this purpose, for example, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold and platinum are used. In addition, these materials may be used only by 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

[10]その他の層
本発明に係る有機電界発光素子は、その趣旨を逸脱しない範囲において、別の構成を有していてもよい。例えば、その性能を損なわない限り、陽極2と陰極9との間に、上記説明にある層の他に任意の層を有していてもよく、また、任意の層が省略されていてもよい。
[10] Other Layers The organic electroluminescent element according to the present invention may have another configuration without departing from the spirit thereof. For example, as long as the performance is not impaired, an arbitrary layer may be provided between the anode 2 and the cathode 9 in addition to the layers described above, and an arbitrary layer may be omitted. .

[11]電子阻止層
任意の層としては、例えば、電子阻止層が挙げられる。電子阻止層は、正孔注入層3または正孔輸送層4と発光層5との間に設けられ、発光層5から移動してくる電子が正孔注入層3に到達するのを阻止することで、発光層5内で正孔と電子との再結合確率を増やし、生成した励起子を発光層5内に閉じこめる役割と、正孔注入層3から注入された正孔を効率よく発光層5の方向に輸送する役割とがある。特に、発光材料として燐光材料を用いたり、青色発光材料を用いたりする場合は電子阻止層を設けることが効果的である。
[11] Electron blocking layer Examples of the optional layer include an electron blocking layer. The electron blocking layer is provided between the hole injection layer 3 or the hole transport layer 4 and the light emitting layer 5 and prevents electrons moving from the light emitting layer 5 from reaching the hole injection layer 3. Thus, the probability of recombination of holes and electrons in the light emitting layer 5 is increased, the excitons generated are confined in the light emitting layer 5, and the holes injected from the hole injection layer 3 are efficiently collected. There is a role to transport in the direction of. In particular, when a phosphorescent material or a blue light emitting material is used as the light emitting material, it is effective to provide an electron blocking layer.

電子阻止層に求められる特性としては、正孔輸送性が高く、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いこと等が挙げられる。更に、発光層5を湿式成膜法で作製する場合には、電子阻止層にも湿式成膜の適合性が求められる。このような電子阻止層に用いられる材料としては、F8−TFBに代表されるジオクチルフルオレンとトリフェニルアミンの共重合体(国際公開第2004/084260号パンフレット)等が挙げられる。   The characteristics required for the electron blocking layer include high hole transportability, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and a high excited triplet level (T1). Furthermore, when the light emitting layer 5 is produced by a wet film formation method, the electron blocking layer is also required to be compatible with the wet film formation. Examples of the material used for such an electron blocking layer include a copolymer of dioctylfluorene and triphenylamine typified by F8-TFB (International Publication No. 2004/084260).

なお、電子阻止層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。
電子阻止層の形成方法に制限はない。従って、湿式成膜法、蒸着法や、その他の方法で形成することができる。
また、以上説明した層構成において、基板以外の構成要素を逆の順に積層することも可能である。例えば、図1の層構成であれば、基板1上に他の構成要素を陰極9、電子注入層8、電子輸送層7、正孔阻止層6、発光層5、正孔輸送層4、正孔注入層3、陽極2の順に設けてもよい。
In addition, the material of an electron blocking layer may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.
There is no restriction | limiting in the formation method of an electron blocking layer. Therefore, it can be formed by a wet film forming method, a vapor deposition method, or other methods.
Moreover, in the layer structure demonstrated above, it is also possible to laminate | stack components other than a board | substrate in reverse order. For example, in the case of the layer configuration in FIG. The hole injection layer 3 and the anode 2 may be provided in this order.

更には、少なくとも一方が透明性を有する2枚の基板の間に、基板以外の構成要素を積層することにより、本発明に係る有機電界発光素子を構成することも可能である。
また、基板以外の構成要素(発光ユニット)を複数段重ねた構造(発光ユニットを複数積層させた構造)とすることも可能である。その場合には、各段間(発光ユニット間)の界面層(陽極がITO、陰極がAlの場合は、それら2層)の代わりに、例えば五酸化バ
ナジウム(V25)等からなる電荷発生層(Carrier Generation Layer:CGL)を設けると、段間の障壁が少なくなり、発光効率・駆動電圧の観点からより好ましい。
Furthermore, it is also possible to constitute the organic electroluminescent element according to the present invention by laminating components other than the substrate between two substrates, at least one of which is transparent.
In addition, a structure in which a plurality of components (light emitting units) other than the substrate are stacked in a plurality of layers (a structure in which a plurality of light emitting units are stacked) may be employed. In that case, instead of the interface layer between the steps (between the light emitting units) (when the anode is ITO and the cathode is Al, these two layers), for example, a charge made of vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) or the like. When a generation layer (Carrier Generation Layer: CGL) is provided, a barrier between steps is reduced, which is more preferable from the viewpoint of light emission efficiency and driving voltage.

更には、本発明に係る有機電界発光素子は、単一の有機電界発光素子として構成してもよく、複数の有機電界発光素子がアレイ状に配置された構成に適用してもよく、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構成に適用してもよい。
又、上述した各層には、本発明の効果を著しく損なわない限り、材料として説明した以外の成分が含まれていてもよい。
Furthermore, the organic electroluminescent device according to the present invention may be configured as a single organic electroluminescent device, or may be applied to a configuration in which a plurality of organic electroluminescent devices are arranged in an array. You may apply to the structure by which the cathode is arrange | positioned at XY matrix form.
In addition, each layer described above may contain components other than those described as materials as long as the effects of the present invention are not significantly impaired.

本発明の有機電界発光素子は、有機ELディスプレイや有機EL照明に使用される。本発明により得られる有機電界発光素子は、例えば、「有機ELディスプレイ」(オーム社,平成16年8月20日発行,時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載されているような方法で有機ELディスプレイや有機EL照明を形成することができる。   The organic electroluminescent element of the present invention is used for organic EL displays and organic EL lighting. The organic electroluminescent device obtained by the present invention is described in, for example, “Organic EL Display” (Ohm, August 20, 2004, written by Shizushi Tokito, Chiba Adachi, and Hideyuki Murata). An organic EL display and organic EL illumination can be formed by the method.

次に、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
<合成例1>
(中間体1の合成)
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to description of a following example, unless the summary is exceeded.
<Synthesis Example 1>
(Synthesis of Intermediate 1)

Figure 0005664128
Figure 0005664128

4口ナスフラスコに3-ブロモベンゾニトリル(7.57 g,41.63 mmol)を入れ、窒素置換
させたところへ塩化メチレン15 mLを加え、攪拌した。水浴で冷やし、トルフルオロメタ
ンスルホン酸無水物(6.43 g,22.79 mmol)、塩化メチレン15mLに溶解させた4-アセチルビフェニル(3.89g,19.82mmol)を添加し、3時間半攪拌した。反応混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和した後、塩化メチレンで抽出、有機層を水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/塩化メチレン=3/1)にて精製し、エタノールで懸濁洗浄することで中間体1(3.3 g
,収率31 %)を得た。
(化合物203の合成)
3-Bromobenzonitrile (7.57 g, 41.63 mmol) was placed in a four-necked eggplant flask, and 15 mL of methylene chloride was added to the place purged with nitrogen and stirred. The mixture was cooled in a water bath, trifluoromethanesulfonic anhydride (6.43 g, 22.79 mmol) and 4-acetylbiphenyl (3.89 g, 19.82 mmol) dissolved in 15 mL of methylene chloride were added, and the mixture was stirred for 3.5 hours. The reaction mixture was neutralized with aqueous sodium hydrogen carbonate solution, extracted with methylene chloride, the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / methylene chloride = 3/1) and suspended and washed with ethanol to obtain intermediate 1 (3.3 g).
Yield 31%).
(Synthesis of Compound 203)

Figure 0005664128
Figure 0005664128

窒素雰囲気下、中間体1(3.8 g,7.01 mmol)、4-ジベンゾフランボロン酸(3.41 g,16.12 mmol)、トルエン(70 ml)、エタノール(35 ml)の懸濁溶液に、室温でテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.40 g,0.35 mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液(17.5 ml)を加え、8時間還流させた。室温まで放冷後、反応混合物をろ過、濾取物を塩化メチレンに溶かし、硫酸マグネシウムにて乾燥後、白土処理を行い、ろ過をした。濾液を濃縮後、塩化メチレンにて懸濁洗浄することで化合物203(3.2 g,収率65 %)を得た。
<合成例2>
(化合物202の合成)
Under a nitrogen atmosphere, tetrakis (trimethyl chloride) was added to a suspension of Intermediate 1 (3.8 g, 7.01 mmol), 4-dibenzofuranboronic acid (3.41 g, 16.12 mmol), toluene (70 ml), ethanol (35 ml) at room temperature. Phenylphosphine) palladium (0) (0.40 g, 0.35 mmol) and 2M aqueous sodium carbonate solution (17.5 ml) were added, and the mixture was refluxed for 8 hours. After allowing to cool to room temperature, the reaction mixture was filtered, and the filtered product was dissolved in methylene chloride, dried over magnesium sulfate, treated with clay, and filtered. The filtrate was concentrated and suspended and washed with methylene chloride to obtain Compound 203 (3.2 g, yield 65%).
<Synthesis Example 2>
(Synthesis of Compound 202)

Figure 0005664128
Figure 0005664128

窒素雰囲気下、中間体1(3.3 g,6.24 mmol)、9-フェナントレンボロン酸(3.18 g,14.35 mmol)、トルエン(62.4 ml)、エタノール(31.2 ml)の懸濁溶液に、室温でテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.35 g,0.31 mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液(15.6 ml)を加え、6時間還流させた。室温まで放冷後、反応混合物をろ過、濾取物を塩化メチレンに溶かし、硫酸マグネシウムにて乾燥後、白土処理を行い、ろ過をした。濾液を減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/塩化メチレン=1/1)にて精製し、メタノールで懸濁洗浄することで化合物202(3.41 g,収率81 %)を得た。
<合成例3>
(化合物201の合成)
Under nitrogen atmosphere, a suspension of intermediate 1 (3.3 g, 6.24 mmol), 9-phenanthreneboronic acid (3.18 g, 14.35 mmol), toluene (62.4 ml), ethanol (31.2 ml) at room temperature with tetrakis (tri Phenylphosphine) palladium (0) (0.35 g, 0.31 mmol) and 2M aqueous sodium carbonate solution (15.6 ml) were added, and the mixture was refluxed for 6 hours. After allowing to cool to room temperature, the reaction mixture was filtered, and the filtered product was dissolved in methylene chloride, dried over magnesium sulfate, treated with clay, and filtered. The filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / methylene chloride = 1/1) and suspended and washed with methanol to obtain Compound 202 (3.41 g, yield 81%).
<Synthesis Example 3>
(Synthesis of Compound 201)

Figure 0005664128
Figure 0005664128

窒素雰囲気下、中間体1(2.8 g,5.16 mmol)、1-ナフタレンボロン酸(2.04 g,11.87 mmol)、トルエン(52 ml)、エタノール(26 ml)の懸濁溶液に、室温でテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.30 g,0.26 mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液(13 ml)を加え、7時間還流させた。室温まで放冷後、反応混合物を塩化メチレンで抽出、有機層を水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/塩化メチレン=2/1,ヘキサン/酢酸エチル=10/1)にて精製し、酢酸エチル/ヘキサンで再結晶することで化合物201(1.13 g,
収率35 %)を得た。
Under a nitrogen atmosphere, tetrakis (trimethyl chloride) was added to a suspension of Intermediate 1 (2.8 g, 5.16 mmol), 1-naphthaleneboronic acid (2.04 g, 11.87 mmol), toluene (52 ml), and ethanol (26 ml) at room temperature. Phenylphosphine) palladium (0) (0.30 g, 0.26 mmol) and 2M aqueous sodium carbonate solution (13 ml) were added, and the mixture was refluxed for 7 hours. After allowing to cool to room temperature, the reaction mixture was extracted with methylene chloride, the organic layer was washed with water, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane / methylene chloride = 2/1, hexane / ethyl acetate = 10/1) and recrystallized from ethyl acetate / hexane to give compound 201 (1.13 g,
Yield 35%).

1.基板
2.陽極
3.正孔注入層
4.正孔輸送層
5.発光層
6.正孔阻止層
7.電子輸送層
8.電子注入層
9.陰極

1. Substrate 2. Anode 3. Hole injection layer 4. 4. hole transport layer Light emitting layer 6. 6. Hole blocking layer Electron transport layer8. Electron injection layer 9. cathode

Claims (8)

下記一般式()で表されることを特徴とするピリミジン化合物。
Figure 0005664128
(一般式()中、X及びZはそれぞれ独立に1−ナフチル基、2−ナフチル基及び9
−フェナントリル基のいずれかである。
及びL単結合である。)
A pyrimidine compound represented by the following general formula ( 3 ).
Figure 0005664128
(In the general formula ( 3 ), X and Z are each independently 1-naphthyl group, 2-naphthyl group and 9
-Any of the phenanthryl groups.
L 1 and L 2 are single bonds . )
請求項に記載のピリミジン化合物及び溶剤を含有することを特徴とする有機電界発光素子用組成物。 The composition for organic electroluminescent elements containing the pyrimidine compound of Claim 1 , and a solvent. 基板上に、陽極、陰極、及び該陽極と該陰極の間に有機層を有する有機電界発光素子において、該有機層が、有機電界発光素子用材料として請求項1に記載の化合物を含む層を有することを特徴とする有機電界発光素子。 An organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and an organic layer between the anode and the cathode on a substrate, wherein the organic layer comprises a layer containing the compound according to claim 1 as a material for an organic electroluminescent device. An organic electroluminescent device comprising: 基板上に、陽極、陰極、及び該陽極と該陰極の間に有機層を有する有機電界発光素子において、該有機層が、湿式成膜法にて請求項に記載の有機電界発光素子用組成物を用いて形成された層を有することを特徴とする有機電界発光素子。 The composition for organic electroluminescent elements according to claim 2 , wherein the organic layer comprises an anode, a cathode, and an organic layer between the anode and the cathode on a substrate. An organic electroluminescent element comprising a layer formed using a material. 前記有機電界発光素子用材料を含む層が発光層であることを特徴とする請求項に記載の有機電界発光素子。 The organic electroluminescent element according to claim 3 , wherein the layer containing the material for an organic electroluminescent element is a light emitting layer. 前記有機電界発光素子用組成物を用いて形成された層が発光層であることを特徴とする
請求項に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent element according to claim 4 , wherein the layer formed using the composition for organic electroluminescent element is a light emitting layer.
請求項3〜6のいずれか1項に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising the organic electroluminescent element according to claim 3 . 請求項3〜6のいずれか1項に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする照明装置。 An illuminating device comprising the organic electroluminescent element according to claim 3 .
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