JP5656535B2 - ベンチュリスクラバ - Google Patents

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本発明は、排ガス中のガス成分や煤塵などを吸収液によって除去するベンチュリスクラバに関する。
例えば産業廃棄物焼却炉で発生する排ガス中には、HCl、SOxを始めとする酸性ガスが高濃度で含有されている。排ガス中の酸性ガスの含有量は焼却物によって変動はあるものの、高い場合には5000ppmもの濃度となる。また、排ガス中には、20g/Nm程度の煤塵も含まれている。
そのような排ガスをそのまま大気中に排出すると環境汚染を引き起こす。そのため、排ガスを洗浄する排ガス洗浄装置が用いられている。かかる排ガス洗浄装置として、排ガスを通過させるベンチュリ部に吸収液を供給し、ベンチュリ部で高速になった排ガスによって吸収液を微細化させて、気液接触により排ガス中の酸性ガスや煤塵を捕集させるベンチュリスクラバが知られている(例えば特許文献1、2)。
特開2009−240908号公報 特開2003−10622号公報
一般にベンチュリスクラバでは、ベンチュリ部での排ガスの流速を所定の大きさに設定する必要がある。そのため、ベンチュリ部に可動式の邪魔板を配置し、排ガスの流量の増減に応じて邪魔板の大きさや角度を変えることにより、ベンチュリ部の横断面積を調整している。しかしながら、邪魔板の大きさや角度を変える構造は複雑であり、制御も困難である。そのため従来は、ベンチュリスクラバの建設費や維持コストが高価であった。
本発明の目的は、簡単な構造でベンチュリ部の横断面積を調整できるベンチュリスクラバを提供することにある。
前記の目的を達成するため、本発明によれば、排ガスを洗浄するベンチュリスクラバであって、排ガスを通過させるベンチュリ部の内部の横断面積を縮小可能な邪魔部材を有し、前記ベンチュリ部の壁面に、前記邪魔部材を挿入させる開口部が、前後方向に対をなして設けられ、前記邪魔部材は、前記ベンチュリ部の外部から前記ベンチュリ部の内部に挿入及び抜き取り自在であり、前記邪魔部材は、一対の前記開口部の両方に挿入されて前記ベンチュリ部の内部を貫通することを特徴とする、ベンチュリスクラバが提供される。
前記邪魔部材は例えばパイプである。また、排ガスの流れの方向に沿って、前記邪魔部材が複数配置されても良い。また、排ガスの流れと交差する方向に沿って、前記邪魔部材が複数配置されても良い。
本発明によれば、簡単な構造でありながらベンチュリ部の横断面積を容易に調整できるベンチュリスクラバを提供できる。本発明のベンチュリスクラバは、制御が簡単で、設置費用も安価である。
排ガス処理設備の全体図である。 本発明の実施の形態にかかるベンチュリスクラバの正面図である。 本発明の実施の形態にかかるベンチュリスクラバの側面図である。 図3中のA−A部分における拡大断面図である。 図2中のB−B部分における拡大断面図であり、ベンチュリ部の内部に邪魔部材を配置した状態を示している。 図2中のB−B部分における拡大断面図であり、ベンチュリ部の内部から邪魔部材を抜き取った状態を示している。 液ガス比と圧力損失および酸性排ガス除去率の関係を示すグラフである。
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
図1は、排ガス処理設備1の全体図である。この排ガス処理設備1は、産業廃棄物などの原料を燃焼させるロータリーキルン10の出口側(図1では右側)に二つの二次燃焼炉(SCC)11、12、ベンチュリスクラバ13、エリミネーター14、誘引排風機15、再加熱炉16、煙突17を順に接続した構成である。ロータリーキルン10の入口側(図1では左側)では、原料フィーダー18により産業廃棄物などの原料がロータリーキルン10の内部にチャージされ、原料がロータリーキルン10の内部において燃焼される。この燃焼で発生した排ガスは、二つの二次燃焼炉11、12に導入されて、アフターバーナーにより完全燃焼させられる。また、ロータリーキルン10の内部の燃焼で発生した残渣は、二次燃焼炉11の下部から系外に排出される。
二次燃焼炉11、12で完全燃焼された排ガスは、ベンチュリスクラバ13で急速冷却と洗浄が行われた後、ベンチュリスクラバ13の出口に設置してあるエリミネーター14で排ガス中の水滴が除去される。その後、排ガスは誘引排風機15引き込まれ、再加熱炉16で過熱されて白煙(水蒸気)の防止が施された後、煙突17から大気中に放出される。
図2、3に示すように、本発明の実施の形態にかかるベンチュリスクラバ13は、ベンチュリ部20の内部に複数の邪魔部材21を挿入した構成を有している。ベンチュリ部20は中空であり、ベンチュリ部20の上端に二次燃焼炉12の下端が連通して接続されている。また、ベンチュリ部20の下端はエリミネーター14に連通して接続されている。二次燃焼炉12からベンチュリ部20の上端に流入した排ガスは、ベンチュリ部20の内部を上から下に通過した後、ベンチュリ部20の下端からエリミネーター14に流出する。
ベンチュリ部20の内部は、下に行くほど狭くなる角錐形状もしくは円錐形状になっており、ベンチュリ部20は、角錐形状もしくは円錐形状の底面を上に向け、頂点を下に向けた姿勢である。したがって、ベンチュリ部20の底面に二次燃焼炉12の下端が接続され、ベンチュリ部20の頂点がエリミネーター14に接続されている。
邪魔部材21は、汎用の円管パイプを適当な長さに切断したものである。適当な長さの円管パイプからなる構成の複数本の邪魔部材21が、水平にされ、かつ、互いに平行に隙間を空けた状態にされて、ベンチュリ部20の内部にそれぞれ挿入されている。なお、邪魔部材は、ベンチュリ内部の横断面積を変更できるものであればよく、パイプの他には、鋼管、銅管などの棒材、板材を使用できる。
ベンチュリ部20の壁面には、邪魔部材21をベンチュリ部20の外部からベンチュリ部20の内部に挿入させる開口部22が複数個所に設けられている。開口部22は、ベンチュリ部20の前後の壁面に対をなして設けられている。邪魔部材21は、ベンチュリ部20の前後の壁面に設けられた一対の開口部22の両方に挿入されて、ベンチュリ部20の内部を前後方向に水平に貫通した状態で、ベンチュリ部20の内部に配置される。邪魔部材21は、ベンチュリ部20の内部を前後方向に水平に貫通するのに十分な長さを有する。このようにベンチュリ部20の内部に邪魔部材21が挿入されることにより、排ガスを上下方向に通過させるベンチュリ部20の内部の横断面積が狭められる。
排ガスの流れの方向に沿って(即ち、この実施の形態では上下方向に沿って)、ベンチュリ部20の壁面に複数の開口部22が配置されている。また、いずれの開口部22も、ベンチュリ部20の前後の壁面に対をなして設けられている。このため、各開口部22に邪魔部材21を挿入させて、ベンチュリ部20の内部を前後方向に水平に貫通させるように邪魔部材21を配置することにより、ベンチュリ部20の複数の高さ位置において、ベンチュリ部20の内部の横断面積を縮小することが可能である。
また、ベンチュリ部20の高さ位置によっては、排ガスの流れと交差する方向に沿って(即ち、この実施の形態では水平方向に沿って)、ベンチュリ部20の壁面に複数の開口部22が配置されている。なお同様に、いずれの開口部22もベンチュリ部20の前後の壁面に対をなして設けられている。このため、各開口部22に邪魔部材21を挿入させて、ベンチュリ部20の内部を前後方向に水平に貫通させるように邪魔部材21を配置することにより、ベンチュリ部20の高さ位置によっては、同じ高さに複数の邪魔部材21を配置することができ、それら複数の邪魔部材21によってベンチュリ部20の内部の横断面積を縮小することが可能である。
図4に示すようにベンチュリ部20の高さ位置を上から順に高さa、b、c、dと4段階に定義すると、この実施の形態では、4段階の各高さa、b、c、dの位置の全部に、邪魔部材21が配置させることができる。また、もっとも上の高さaと上から3番目の高さcには、それぞれ2つの邪魔部材21を配置させることができる。一方、上から2番目の高さbと最も下の高さdには、それぞれ1つの邪魔部材21を配置させることができる。
上述のようにベンチュリ部20の内部は、下に行くほど狭くなる角錐形状もしくは円錐形状になっているので、ベンチュリ部20の内部を上から下に通過していく過程で排ガスの流速は徐々に高くなっていく。加えて、ベンチュリ部20の各高さa、b、c、dには1つ或いは2つの邪魔部材21が配置されているので、各高さa、b、c、dにおいて、邪魔部材21によってベンチュリ部20の内部の横断面積が狭められることにより、ベンチュリ部20の各高さa、b、c、dでは、排ガスの流速は更に高められることになる。
この実施の形態では、図4に示すようにベンチュリ部20のもっとも上の高さaと上から3番目の高さcに2つの邪魔部材21が配置され、上から2番目の高さbと最も下の高さdに1つの邪魔部材21が配置された状態では(即ち、ベンチュリ部20の壁面に形成された複数の開口部22の全部に邪魔部材21を挿入した状態では)、ベンチュリ部20のもっとも上の高さaと上から2番目の高さの位置(1stステージ)では排ガスの流速が10m/s程度となり、上から3番目の高さcの位置(2ndステージ)では排ガスの流速が20m/s程度となり、最も下の高さdの位置(3rdステージ)では排ガスの流速が40m/s程度となるように、ベンチュリ部20の内部形状と、各邪魔部材21の配置、太さ等が設定されている。
図5に示すように、ベンチュリ部20の壁面に形成された各開口部22には、邪魔部材21を受け入れるためのリング部材(フランジ)23が取り付けてある。各開口部22に取り付けられたリング部材23に邪魔部材21の両端を受容させた状態で、ベンチュリ部20の内部に邪魔部材21が水平に配置される。
また、図6に示すように、邪魔部材21は、各開口部22に取り付けられたリング部材23から抜き取ることも可能である。そのように邪魔部材21を開口部22に取り付けられたリング部材23から抜き取った場合は、リング部材23の外側にブラインドフランジ(フランジ蓋)25が取り付けられる。これにより、各開口部22はブラインドフランジ25で塞がれて、ベンチュリ部20の内部を通過する排ガスが、ベンチュリ部20の外部に漏れ出ないようにシールされる。
図2に示すように、ベンチュリ部20の上方には、ベンチュリ部20の内部に吸収液を噴霧する複数のノズル26が設けられている。これら複数のノズル26により、ベンチュリ部20の内部の壁面全体および各高さa、b、c、dに配置された邪魔部材21に吸収液が供給される。なお、吸収液としては、例えば濃度3wt%程度の苛性ソーダ溶液等のアルカリ水溶液が主に使われる。
かくして、この実施の形態にかかるベンチュリスクラバ13にあっては、二次燃焼炉12からベンチュリ部20の上端に約800℃程度の排ガスが流入させられ、ベンチュリ部20の内部を上から下に通過した後、ベンチュリ部20の下端からエリミネーター14に排ガスが流出させられる。ここで、ベンチュリ部20の内部では、複数のノズル26から吸収液が供給され、吸収液は排ガスと接触することで蒸発させられて、排ガスと一緒にベンチュリ部20の内部を上から下に通過していく。
そして、ベンチュリ部20の内部を通過中に、完全に蒸発せずに液滴となっていた吸収液は、ベンチュリ部20のもっとも上の高さaと上から2番目の高さの位置(1stステージ)を通過する際に、流速が10m/s程度の排ガスと一緒に流動して、霧化分散される。そして、ベンチュリ部20のもっとも上の高さaと上から2番目の高さの位置(1stステージ)に配置された邪魔部材21による激しい撹乱作用を受けて更なる霧化分散と気液接触が行われ、排ガス中の酸性ガスと吸収液との中和反応が進行していく。更に、ベンチュリ部20の上から3番目の高さcの位置(2ndステージ)と、最も下の高さdの位置(3rdステージ)でも、邪魔部材21によって更なる激しい撹乱作用を受けて霧化分散と気液接触が進行し、排ガス中の酸性ガスと吸収液との中和反応が進行していく。こうして、最終的にベンチュリ部20の下端からエリミネーター14に流出させられる際には、排ガス中の酸性ガス成分を酸性ガス濃度5,000ppm程度に於いて例えば99.5%以上の除去率で洗浄できるようになる。
加えて、この実施の形態にかかるベンチュリスクラバ13にあっては、ベンチュリ部20の各高さa、b、c、dの位置において、邪魔部材21を挿入した状態と抜き取った状態とに任意に変更でき、各高さa、b、c、dでのベンチュリ部20の内部の横断面積の狭め具合を操業を中断せずに容易に調整することができる。更に、ベンチュリ部20において吸収液によって排ガスの徐塵および急速冷却を一緒に行うことができ、急冷塔やバグフィルターなども省略、簡略化でき、建設費や維持費が軽減される。
図2、3に示す構成のベンチュリスクラバを図1に示す排ガス処理設備に用いて、液ガス比と圧力損失および酸性排ガス除去率に与える影響を調べた。具体的には、ベンチュリ部20の横断面積はa位置(最上部)、b、c、d位置(最下部)の順に0.66、0.50、0.31、0.14mであり、最上部から最下部までの長さが、0.81mであり、SUS316Lを素材としてなるベンチュリスクラバを用いた。邪魔部材21は、各開口部22に取り付けられたリング部材23は、外径168.2mmで、SUS316Lを素材としてなるものをa,cの位置に2箇所,b,dの位置に1箇所ずつ用いた。
ベンチュリスクラバにSOxを4,200ppmの濃度で含有する酸化性排ガスを、入口温度800℃で325m/分の流量にて導入し、ノズル26からは3wt%NaOH溶液を900L/分の噴射量で供給して浄化処理した。このときの圧力損失(処理静圧)ΔPは、a,b,c,dの各位置を水圧法(JIS1092高水圧法)により測定した。液ガス比は、断熱冷却後の排ガスに対するNaOH溶液の量(L/m)より求めた。除去率は、酸化性ガスの入り口濃度に対するd位置での濃度を測定することとした。
以上の試験の結果、図7に示すように、a,b,c,dの各位置に於ける酸性ガス除去率は凡そ90%→95%→100%へ推移することが確認された。また、徐塵能力においても各ステージに於いて霧化分散された液滴が煤塵を拿捕する事で、ほぼ100%に近い効率を達成した。
本発明は、産業廃棄物焼却炉で排出される排ガスをはじめとする、高濃度の酸性ガス、煤塵を含有する排ガスの処理に有用である。
1 排ガス処理設備
10 ロータリーキルン
11、12 二次燃焼炉
13 ベンチュリスクラバ
14 エリミネーター
15 誘引排風機
16 再加熱炉
17 煙突
18 原料フィーダー
20ベンチュリ部
21 邪魔部材
22 開口部
23 リング部材
25 ブラインドフランジ
26 ノズル

Claims (4)

  1. 排ガスを洗浄するベンチュリスクラバであって、
    排ガスを通過させるベンチュリ部の内部の横断面積を縮小可能な邪魔部材を有し、
    前記ベンチュリ部の壁面に、前記邪魔部材を挿入させる開口部が、前後方向に対をなして設けられ、前記邪魔部材は、前記ベンチュリ部の外部から前記ベンチュリ部の内部に挿入及び抜き取り自在であり、
    前記邪魔部材は、一対の前記開口部の両方に挿入されて前記ベンチュリ部の内部を貫通することを特徴とする、ベンチュリスクラバ。
  2. 前記邪魔部材はパイプであることを特徴とする、請求項1に記載のベンチュリスクラバ。
  3. 排ガスの流れの方向に沿って、前記邪魔部材が複数配置されることを特徴とする、請求項1または2に記載のベンチュリスクラバ。
  4. 排ガスの流れと交差する方向に沿って、前記邪魔部材が複数配置されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のベンチュリスクラバ。
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